JP2013108995A - Automatic analyzer - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an automatic analyzer capable of efficiently cleaning an inner wall of a reaction vessel.SOLUTION: In a first step, a cleaning unit permits aspiration from an aspiration port and then moves at least an inner-inner tube into an inner space by a moving mechanism. In a second step, the cleaning unit stops movement of at least the inner-inner tube by the moving mechanism in response to an arrival of a tip of the inner-inner tube to a first specific position in the inner space. In a third step, the cleaning unit permits aspiration from the aspiration port and supply of cleaning solution into a supply flow passage and then moves an outer tube and an inner tube in a direction inserting into or pulling out of the inner space by the moving mechanism while stopping the inner-inner tube, and in a fourth step, stops the supply of the cleaning solution in response to an arrival of tips of the outer tube and the inner tube to a second specific position and then moving the outer tube, the inner tube and the inner-inner tube in the direction pulling out of the inner space by the moving mechanism.

Description

本発明の実施形態は、反応容器における被検試料と試薬との反応の度合いを測定することによって被検試料を分析する自動分析装置に関する。   Embodiments described herein relate generally to an automatic analyzer that analyzes a test sample by measuring the degree of reaction between the test sample and a reagent in a reaction vessel.

この種の自動分析装置では、反応容器を何度も繰り返し使用する。このために、測定の終了後に反応容器を洗浄している。   In this type of automatic analyzer, the reaction vessel is used over and over again. For this purpose, the reaction vessel is washed after the measurement is completed.

従来の自動分析装置では、反応容器内に上方から洗浄液を注入するとともに、この洗浄剤を反応容器内の下方から吸引することによって反応容器を洗浄する洗浄ユニットを備えている。   A conventional automatic analyzer includes a cleaning unit that injects a cleaning solution into the reaction container from above and cleans the reaction container by sucking the cleaning agent from below in the reaction container.

特開平5−297006号公報JP-A-5-297006

ところが上記の洗浄ユニットであると、反応容器の内壁は、その壁面を伝い落ちる洗浄液あるいは反応液に溜まった洗浄液により洗浄される。このため、反応容器の内壁は、主に科学的な作用により洗浄されるのであって、洗浄すべき反応液が粘性の高いものや洗浄液との親和性の低いものである場合には、十分に洗浄し切れない恐れがあった。   However, in the above-described cleaning unit, the inner wall of the reaction vessel is cleaned with a cleaning solution that flows down the wall surface or a cleaning solution that has accumulated in the reaction solution. For this reason, the inner wall of the reaction vessel is cleaned mainly by scientific action, and if the reaction liquid to be cleaned has a high viscosity or a low affinity with the cleaning liquid, it is sufficient. There was a fear that it could not be washed out.

本発明はこのような事情を考慮してなされたものであり、その目的とするところは、反応容器の内壁を効率的に洗浄することが可能な自動分析装置を提供することにある。   The present invention has been made in view of such circumstances, and an object of the present invention is to provide an automatic analyzer capable of efficiently washing the inner wall of a reaction vessel.

本発明の一態様による自動分析装置は、被検試料と試薬との反応液を収容するための内部空間を有した反応容器と、前記反応容器における前記被検試料と前記試薬との反応の度合いを測定する測定ユニットと、前記測定ユニットによる測定が終了したのちの前記反応容器を、その内壁のうちの洗浄対象領域に対して洗浄液を直接的に噴射することによって洗浄する洗浄ユニットとを備える。洗浄ユニットはさらに、ノズル、移動機構および制御部を備える。ノズルは、第1の方向に沿って延びる第1の内部空間を有した外筒、第1の方向に沿って延びる第2の内部空間を有するとともに第1の内部空間に配置された内筒、ならびに第1の方向に沿って延びる第3の内部空間とこの第3の内部空間に連通した吸引口とを有するとともに第2の内部空間に配置された内内筒を含み、外筒と内筒との間に洗浄液の供給流路を形成し、外筒の端部と内筒の端部との間に第1の方向に交差する第2の方向に向いたスリットを形成する。移動機構は、外筒および内筒と内内筒とをそれぞ個別に第1の方向に移動させる。制御部は、第1のステップとして、吸引口から反応液および洗浄液を吸引可能な状態とした上で、少なくとも内内筒を内部空間へと挿入するように移動機構により移動させ、第2のステップとして、内内筒の先端が内部空間の第1の所定位置に到達したことに応じて移動機構による少なくとも内内筒の移動を停止させ、第3のステップとして、吸引口から反応液および洗浄液を吸引可能な状態、かつ供給流路に洗浄液を供給する状態とした上で、内内筒は静止させたままで外筒および内筒を内部空間へと挿入する方向または内部空間から引き抜く方向に移動機構により移動させ、第4のステップとして、外筒および内筒の先端が第2の所定位置に到達したことに応じて供給流路への洗浄液の供給を停止させた上で、外筒、内筒および内内筒を内部空間から引き抜く方向に移動機構により移動させる。   An automatic analyzer according to an aspect of the present invention includes a reaction container having an internal space for containing a reaction liquid between a test sample and a reagent, and a degree of reaction between the test sample and the reagent in the reaction container. And a cleaning unit for cleaning the reaction container after the measurement by the measuring unit is completed by directly spraying a cleaning liquid onto a region to be cleaned in the inner wall. The cleaning unit further includes a nozzle, a moving mechanism, and a control unit. The nozzle includes an outer cylinder having a first inner space extending along the first direction, an inner cylinder having a second inner space extending along the first direction and disposed in the first inner space, And an inner cylinder having a third inner space extending along the first direction and a suction port communicating with the third inner space and disposed in the second inner space, the outer cylinder and the inner cylinder Between the end of the outer cylinder and the end of the inner cylinder, and a slit in the second direction intersecting the first direction is formed between the end of the outer cylinder and the end of the inner cylinder. The moving mechanism moves the outer cylinder, the inner cylinder, and the inner inner cylinder individually in the first direction. As a first step, the control unit makes the reaction liquid and the cleaning liquid suckable from the suction port, and then moves them by a moving mechanism so as to insert at least the inner inner cylinder into the inner space. As a third step, at least the movement of the inner inner cylinder by the moving mechanism is stopped in response to the tip of the inner inner cylinder reaching the first predetermined position in the inner space, and as a third step, the reaction liquid and the cleaning liquid are discharged from the suction port. In a state in which suction can be performed and the cleaning liquid is supplied to the supply flow path, the moving mechanism moves in a direction in which the outer cylinder and the inner cylinder are inserted into the inner space or in a direction in which the inner cylinder is pulled out while the inner inner cylinder is stationary. As a fourth step, the supply of the cleaning liquid to the supply channel is stopped in response to the tips of the outer cylinder and the inner cylinder reaching the second predetermined position, and then the outer cylinder and the inner cylinder And the inner and inner cylinder Moved by the moving mechanism in a direction to pull out from the part space.

本発明の実施形態に係る自動分析装置の構成を示したブロック図。The block diagram which showed the structure of the automatic analyzer which concerns on embodiment of this invention. 図1中のサンプル部、試薬部および反応部の構成を示す斜視図。The perspective view which shows the structure of the sample part in FIG. 1, a reagent part, and the reaction part. 第1の実施形態における図1中の洗浄ユニットの一部の構造を示す斜視図。The perspective view which shows the structure of a part of washing | cleaning unit in FIG. 1 in 1st Embodiment. 図3中の洗浄ノズルの第1の実施形態における構造をその長手方向に沿って破断して示す図。The figure which fractures | ruptures and shows the structure in 1st Embodiment of the washing | cleaning nozzle in FIG. 3 along the longitudinal direction. 洗浄ノズルの第1の実施形態における構造を図4中のA−A位置にて水平方向に沿って破断して示す図。The figure which fractures | ruptures and shows the structure in 1st Embodiment of a washing nozzle along the horizontal direction in the AA position in FIG. 第1の実施形態における洗浄動作の一工程を示す図。The figure which shows 1 process of the washing | cleaning operation | movement in 1st Embodiment. 第1の実施形態における洗浄動作の一工程を示す図。The figure which shows 1 process of the washing | cleaning operation | movement in 1st Embodiment. 第1の実施形態における洗浄動作の一工程を示す図。The figure which shows 1 process of the washing | cleaning operation | movement in 1st Embodiment. 図3中の洗浄ノズルの第2の実施形態における構造をその長手方向に沿って破断して示す図。The figure which fractures | ruptures and shows the structure in 2nd Embodiment of the washing | cleaning nozzle in FIG. 洗浄ノズルの第2の実施形態における構造を図9中のB−B位置にて水平方向に沿って破断して示す図。The figure which fractures | ruptures and shows the structure in 2nd Embodiment of a washing nozzle along the horizontal direction in the BB position in FIG. 第2の実施形態における洗浄動作の一工程を示す図。The figure which shows 1 process of the washing | cleaning operation | movement in 2nd Embodiment. 第2の実施形態における洗浄動作の一工程を示す図。The figure which shows 1 process of the washing | cleaning operation | movement in 2nd Embodiment. 図3中の洗浄ノズルの第3の実施形態における構造をその長手方向に沿って破断して示す図。The figure which fractures | ruptures and shows the structure in 3rd Embodiment of the washing nozzle in FIG. 図3中の洗浄ノズルの第3の実施形態における外観を示す平面図。The top view which shows the external appearance in 3rd Embodiment of the washing nozzle in FIG. 洗浄ノズルの第3の実施形態における構造を図14中のC−C位置にて水平方向に沿って破断して示す図。The figure which fractures | ruptures and shows the structure in 3rd Embodiment of a washing nozzle along the horizontal direction in CC position in FIG. 図3中の洗浄ノズルの第1の変形例における構造をその長手方向に沿って破断して示す図。The figure which fractures | ruptures and shows the structure in the 1st modification of the washing nozzle in FIG. 3 along the longitudinal direction. 図3中の洗浄ノズルの第1の変形例における外観を示す平面図。The top view which shows the external appearance in the 1st modification of the washing nozzle in FIG. 図3中の洗浄ノズルの第2の変形例における外観を示す平面図。The top view which shows the external appearance in the 2nd modification of the washing nozzle in FIG. 図3中の洗浄ノズルの第3の変形例における外観を示す平面図。The top view which shows the external appearance in the 3rd modification of the washing nozzle in FIG. 図3中の洗浄ノズルの第4の変形例における外観を示す図。The figure which shows the external appearance in the 4th modification of the washing nozzle in FIG. 図3中の洗浄ノズルの第5の変形例における外観を示す図。The figure which shows the external appearance in the 5th modification of the washing nozzle in FIG. 図3中の洗浄ノズルの第6の変形例における構造をその長手方向に沿って破断して示す図。The figure which fractures | ruptures and shows the structure in the 6th modification of the washing nozzle in FIG. 3 along the longitudinal direction. 洗浄ノズルの第6の変形例における構造を図22中のD−D位置にて水平方向に沿って破断して示す図。The figure which shows the structure in the 6th modification of a washing | cleaning nozzle fractured | ruptured along the horizontal direction in the DD position in FIG. 洗浄ノズルの第7の変形例における構造を図22中のD−D位置に相当する位置にて水平方向に沿って破断して示す図。The figure which shows the structure in the 7th modification of a washing nozzle fractured | ruptured along a horizontal direction in the position corresponded to DD position in FIG.

以下、図面を参照して本発明のいくつかの実施形態について説明する。   Hereinafter, some embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

図1は本実施形態に係る自動分析装置100の構成を示したブロック図である。   FIG. 1 is a block diagram showing a configuration of an automatic analyzer 100 according to the present embodiment.

自動分析装置100は図1に示すように、測定部110、分析制御部120、分析データ処理部130、出力部140、操作部150およびシステム制御部160を含む。   As shown in FIG. 1, the automatic analyzer 100 includes a measurement unit 110, an analysis control unit 120, an analysis data processing unit 130, an output unit 140, an operation unit 150, and a system control unit 160.

測定部110はさらに、サンプル部111、試薬部112および反応部113を含む。サンプル部111は、測定項目毎のキャリブレータや、被検体から採取された被検試料(サンプル)を管理する。試薬部112は、測定項目に応じたサンプルの成分と化学反応させるための試薬を管理する。反応部113は、サンプルと試薬との反応液に関して、測定項目に応じた測定を行う。反応部113は、キャリブレータおよび被検試料についての測定結果をそれぞれ表すキャリブレータ信号および分析信号を分析データ処理部130に出力する。   The measurement unit 110 further includes a sample unit 111, a reagent unit 112, and a reaction unit 113. The sample unit 111 manages a calibrator for each measurement item and a test sample (sample) collected from the subject. The reagent unit 112 manages a reagent for causing a chemical reaction with a sample component corresponding to the measurement item. The reaction unit 113 performs measurement according to the measurement item regarding the reaction liquid of the sample and the reagent. The reaction unit 113 outputs a calibrator signal and an analysis signal representing measurement results for the calibrator and the test sample to the analysis data processing unit 130, respectively.

分析制御部120はさらに、機構部121および機構制御部122を含む。機構部121は、測定部110に含まれた後述する各種の可動要素を駆動する。機構制御部122は、機構部121の動作を制御する。   Analysis control unit 120 further includes a mechanism unit 121 and a mechanism control unit 122. The mechanism unit 121 drives various movable elements described later included in the measurement unit 110. The mechanism control unit 122 controls the operation of the mechanism unit 121.

分析データ処理部130はさらに、演算部131および記憶部132を含む。演算部131は、測定部110から出力されたキャリブレータ信号に基づいて、測定項目毎のキャリブレーションテーブルを作成する。演算部131は、測定部110から出力された分析信号とキャリブレーションテーブルとに基づいて、測定項目毎の分析データを算出する。記憶部132はハードディスクなどを備え、キャリブレーションテーブルや分析データなどを記憶する。演算部131は、キャリブレーションテーブルや分析データを、必要に応じて出力部140へ出力する。   The analysis data processing unit 130 further includes a calculation unit 131 and a storage unit 132. The calculation unit 131 creates a calibration table for each measurement item based on the calibrator signal output from the measurement unit 110. The calculation unit 131 calculates analysis data for each measurement item based on the analysis signal output from the measurement unit 110 and the calibration table. The storage unit 132 includes a hard disk and stores a calibration table, analysis data, and the like. The computing unit 131 outputs the calibration table and analysis data to the output unit 140 as necessary.

出力部140はさらに、印刷部141、表示部142およびオンライン部143を含む。印刷部141はプリンタなどを備え、演算部131から出力されたキャリブレーションテーブルや分析データを予め設定されたフォーマットでプリンタ用紙などに印刷する。表示部142はCRT(cathode-ray tube)やLCD(liquid crystal display)などを備え、演算部131から出力されたキャリブレーションテーブルや分析データを表示する。表示部142は、被検体のIDおよび氏名などを入力するための被検体情報入力画面、測定項目毎の分析条件を設定するための分析条件設定画面、被検試料毎の測定項目を選択設定するための測定項目設定画面などを、システム制御部160の制御の下に表示する。オンライン部143は、演算部131から出力されたキャリブレーションテーブルや分析データを、ネットワークを介して他の装置へ送信する。   The output unit 140 further includes a printing unit 141, a display unit 142, and an online unit 143. The printing unit 141 includes a printer or the like, and prints the calibration table and analysis data output from the calculation unit 131 on printer paper or the like in a preset format. The display unit 142 includes a CRT (cathode-ray tube), an LCD (liquid crystal display), and the like, and displays the calibration table and analysis data output from the calculation unit 131. The display unit 142 selects and sets a subject information input screen for inputting the ID and name of the subject, an analysis condition setting screen for setting analysis conditions for each measurement item, and a measurement item for each test sample. A measurement item setting screen for the purpose is displayed under the control of the system control unit 160. The online unit 143 transmits the calibration table and analysis data output from the calculation unit 131 to other devices via the network.

操作部150は、キーボード、マウス、ボタン、あるいはタッチキーパネルなどの入力デバイスを備える。操作部150は、測定項目毎の分析条件の設定、被検体の被検体IDや被検体名などの被検体情報の入力、被検試料毎の測定項目の選択入力、各測定項目のキャリブレーションや被検試料測定などのために操作者により操作される。操作部150は、操作者による操作の内容を表すコマンド信号をシステム制御部160へ出力する。   The operation unit 150 includes an input device such as a keyboard, a mouse, a button, or a touch key panel. The operation unit 150 sets analysis conditions for each measurement item, inputs subject information such as the subject ID and subject name of the subject, selects and inputs measurement items for each subject sample, calibrates each measurement item, It is operated by an operator for measuring a test sample. The operation unit 150 outputs a command signal representing the content of the operation by the operator to the system control unit 160.

システム制御部160は、CPUと記憶回路とを備え、自動分析装置100の各部を統括して制御する。具体的にはシステム制御部160は、操作部150から供給されるコマンド信号に基づいて、測定項目の分析条件、被検体情報、被検試料毎の測定項目などを判定し、これらを情報を記憶しておく。そしてシステム制御部160は、これらの情報に基づいて、一定サイクルの中の所定のシーケンスで測定を行うように測定部110の動作を制御する。システム制御部160は、所要のキャリブレーションテーブルの作成や所要の分析データの算出を行うように分析データ処理部130を制御する。さらにシステム制御部160は、キャリブレーションテーブルや分析データを所要の形態で出力するように出力部140を制御する。   The system control unit 160 includes a CPU and a storage circuit, and controls each unit of the automatic analyzer 100 in an integrated manner. Specifically, the system control unit 160 determines the analysis conditions of the measurement items, the subject information, the measurement items for each test sample, and the like based on the command signal supplied from the operation unit 150, and stores these information. Keep it. Based on these pieces of information, the system control unit 160 controls the operation of the measurement unit 110 so as to perform measurement in a predetermined sequence in a certain cycle. The system control unit 160 controls the analysis data processing unit 130 so as to create a required calibration table and calculate required analysis data. Furthermore, the system control unit 160 controls the output unit 140 so as to output the calibration table and analysis data in a required form.

図2はサンプル部111、試薬部112および反応部113の構成を示す斜視図である。   FIG. 2 is a perspective view showing the configuration of the sample unit 111, the reagent unit 112, and the reaction unit 113.

サンプル部111は、試料容器11a,11b、サンプラ12a,12b、ラック13、アーム14、サンプルプローブ15、ポンプ16、洗浄ユニット17、流路形成ユニット18およびポンプ19を含む。   The sample unit 111 includes sample containers 11a and 11b, samplers 12a and 12b, a rack 13, an arm 14, a sample probe 15, a pump 16, a cleaning unit 17, a flow path forming unit 18, and a pump 19.

試料容器11a,11bは、キャリブレータ、精度管理用試料、あるいは被検試料などのサンプルを収容する。試料容器11bは、小児などから採取した微量の被検試料を吸引可能に収容する。つまり試料容器11bは、試料容器11aよりも水平断面が小さく、収容された微量の被検試料の水面を試料容器11aよりも高くすることができる。   The sample containers 11a and 11b accommodate samples such as a calibrator, a quality control sample, or a test sample. The sample container 11b accommodates a small amount of test sample collected from a child or the like so that it can be aspirated. That is, the sample container 11b has a smaller horizontal cross section than the sample container 11a, and can make the water surface of a small amount of the sample to be tested higher than the sample container 11a.

サンプラ12aは、多数の試料容器11aを円周状に2列配列してセットできる。サンプラ12aは、回転することによって、セットされている試料容器11aを上記の円周に沿って移動させる。サンプラ12aにおける試料容器11aをセットする位置のそれぞれは、キャリブレータ用のセット位置または精度管理用試料のセット位置に予め割り当てられている。キャリブレータを収容した試料容器11aは前者のセット位置にセットされ、精度管理用試料を収容した試料容器11aは後者のセット位置にセットされる。   The sampler 12a can be set by arranging a large number of sample containers 11a in two circumferential rows. The sampler 12a rotates to move the set sample container 11a along the circumference. Each position where the sample container 11a is set in the sampler 12a is assigned in advance to a set position for a calibrator or a set position for a quality control sample. The sample container 11a containing the calibrator is set at the former setting position, and the sample container 11a containing the quality control sample is set at the latter setting position.

サンプラ12bは、多数のラック13をセットできる。ラック13は、複数の試料容器11a,11bを直線状に配列してセットできる。ラック13は、試料容器11a,11bの配列方向に直交する方向に沿って配列される。サンプラ12bは、ラック13をその配列方向に移動させる。またサンプラ12bは、サンプル吸引位置においては、ラック13をその配列方向に直交する方向にも移動させる。ラック13における試料容器11a,11bをセットする位置のそれぞれは、被検試料のセット位置に予め割り当てられており、被検試料を収容した試料容器11a,11bがこのセット位置にセットされる。   The sampler 12b can set a large number of racks 13. The rack 13 can be set by arranging a plurality of sample containers 11a and 11b in a straight line. The rack 13 is arranged along a direction orthogonal to the arrangement direction of the sample containers 11a and 11b. The sampler 12b moves the rack 13 in the arrangement direction. The sampler 12b also moves the rack 13 in the direction orthogonal to the arrangement direction at the sample suction position. Each position where the sample containers 11a and 11b are set in the rack 13 is assigned in advance to the set position of the test sample, and the sample containers 11a and 11b containing the test sample are set at the set position.

アーム14は、回動が可能なように一端において支持されている。アーム14の他端には、サンプルプローブ15が取り付けられている。アーム14は、サンプルプローブ15を鉛直方向に移動させるために鉛直方向に移動可能である。かくしてアーム14は、サンプルプローブ15を円弧状の軌道に沿って移動させたり上下動させる。   The arm 14 is supported at one end so that it can rotate. A sample probe 15 is attached to the other end of the arm 14. The arm 14 is movable in the vertical direction in order to move the sample probe 15 in the vertical direction. Thus, the arm 14 moves or moves the sample probe 15 along the arcuate path.

サンプルプローブ15は、内部に細い空洞を有していて、この空洞にアーム14の内部空間およびチューブを介してポンプ16が接続されている。サンプルプローブ15は、ポンプ16によって空洞内が負圧とされることによって、サンプルを吸引する。そしてサンプルプローブ15は、ポンプ16によって空洞内の負圧が解消されることによって、空洞内に保持していたサンプルを吐出する。サンプルプローブ15の先端には、サンプルの液面を検出するためのセンサが設けられており、サンプルプローブ15の先端がサンプルの液面から所定の深さまで入った際に液面を検出するようになっている。   The sample probe 15 has a thin cavity inside, and a pump 16 is connected to the cavity via the internal space of the arm 14 and a tube. The sample probe 15 sucks the sample by making the inside of the cavity have a negative pressure by the pump 16. The sample probe 15 discharges the sample held in the cavity when the negative pressure in the cavity is eliminated by the pump 16. A sensor for detecting the liquid level of the sample is provided at the tip of the sample probe 15 so that the liquid level is detected when the tip of the sample probe 15 enters a predetermined depth from the liquid level of the sample. It has become.

ポンプ16は、水などの圧力伝達媒体を吸引することによってサンプルプローブ15の空洞内を負圧とし、上記の圧力伝達媒体を吐出することによってサンプルプローブ15の空洞内の負圧を解消する。   The pump 16 draws a pressure transmission medium such as water to make a negative pressure in the cavity of the sample probe 15 and discharges the pressure transmission medium to release the negative pressure in the cavity of the sample probe 15.

試薬部112は、試薬ボトル21、試薬ラック22a,22b、アーム23a,23b,24a,24b、脚部25a,25b,26a,26bおよび試薬プローブ27a,27b,28a,28bを含む。   The reagent part 112 includes a reagent bottle 21, reagent racks 22a and 22b, arms 23a, 23b, 24a and 24b, legs 25a, 25b, 26a and 26b, and reagent probes 27a, 27b, 28a and 28b.

試薬ボトル21は、サンプルに対して選択的に反応する試薬を収容する。   The reagent bottle 21 contains a reagent that selectively reacts with the sample.

試薬ラック22a,22bは、それぞれ複数の試薬ボトル21を収納する。試薬ラック22a,22bはそれぞれ、上面を開口したほぼ円柱状の容器である。試薬ラック22a,22bはそれぞれ、複数の試薬ボトル21を円周状に2列配列した状態で収容できる。試薬ラック22a,22bは、図1では示されていない後述する回転機構によってそれぞれ回転される。   Each of the reagent racks 22a and 22b stores a plurality of reagent bottles 21. Each of the reagent racks 22a and 22b is a substantially cylindrical container having an upper surface opened. Each of the reagent racks 22a and 22b can accommodate a plurality of reagent bottles 21 arranged in two rows in a circumferential shape. The reagent racks 22a and 22b are rotated by a rotation mechanism (not shown in FIG. 1) described later.

アーム23a,23b,24a,24bは、その一端が脚部25a,25b,26a,26bによってそれぞれ支持されている。アーム23a,23b,24a,24bの他端には、試薬プローブ27a,27b,28a,28bがそれぞれ取り付けられている。   One end of each of the arms 23a, 23b, 24a, and 24b is supported by the leg portions 25a, 25b, 26a, and 26b. Reagent probes 27a, 27b, 28a, and 28b are attached to the other ends of the arms 23a, 23b, 24a, and 24b, respectively.

脚部25a,25b,26a,26bは、図1では図示されていない周知の構造の回転機構によってそれぞれ回転されることによって、アーム23a,23b,24a,24bをそれぞれ回動させる。脚部25a,25b,26a,26bは、図1においてはその一部のみが示されていて、実際には図示されているよりも長い。そして脚部25a,25b,26a,26bは、図1では図示されていない周知の構造の直線移動機構によってそれぞれに鉛直方向に直線移動される。   The leg portions 25a, 25b, 26a, and 26b are respectively rotated by a rotation mechanism having a known structure that is not shown in FIG. 1, thereby rotating the arms 23a, 23b, 24a, and 24b, respectively. The legs 25a, 25b, 26a, 26b are only partially shown in FIG. 1, and are actually longer than shown. The legs 25a, 25b, 26a, and 26b are linearly moved in the vertical direction by a known linear movement mechanism that is not shown in FIG.

試薬プローブ27a,27b,28a,28bは、アーム23a,23b,24a,24bおよび脚部25a,25b,26a,26bによって、それぞれ円弧状の軌道に沿って移動されたり、上下動される。試薬プローブ27a,27b,28a,28bは、内部に細い空洞を有していて、この空洞にアーム23a,23b,24a,24bおよび脚部25a,25b,26a,26bを介して図示しないポンプがそれぞれに接続されている。試薬プローブ27a,27b,28a,28bは、サンプルプローブ15と同様の動作により、試薬を吸引・吐出する。   The reagent probes 27a, 27b, 28a, 28b are moved or moved up and down along the arc-shaped trajectories by the arms 23a, 23b, 24a, 24b and the leg portions 25a, 25b, 26a, 26b, respectively. The reagent probes 27a, 27b, 28a, 28b have thin cavities inside, and pumps (not shown) are respectively inserted into the cavities via arms 23a, 23b, 24a, 24b and legs 25a, 25b, 26a, 26b. It is connected to the. The reagent probes 27a, 27b, 28a, and 28b suck and discharge the reagent by the same operation as that of the sample probe 15.

反応部113は、反応容器31、ディスク32、撹拌ユニット33a,33b、測光ユニット34および洗浄ユニット35を含む。   The reaction unit 113 includes a reaction vessel 31, a disk 32, stirring units 33 a and 33 b, a photometric unit 34, and a cleaning unit 35.

反応容器31は、多数が円周状に配列されている。反応容器31は、サンプルと試薬との反応液を収容する。   A large number of reaction vessels 31 are arranged circumferentially. The reaction container 31 contains a reaction solution of a sample and a reagent.

ディスク32は、反応容器31を回転可能に保持する。ディスク32は、反時計回りに、一定角度を4分析サイクルの間に回転する。1分析サイクルは、例えば4.5秒である。ディスク32は、時計回りに回転させるようにしてもよい。   The disk 32 holds the reaction vessel 31 rotatably. The disk 32 rotates counterclockwise at a constant angle during 4 analysis cycles. One analysis cycle is, for example, 4.5 seconds. The disk 32 may be rotated clockwise.

撹拌ユニット33aは、2つの撹拌子を備える。撹拌ユニット33aは、反応容器31の上方にそれぞれ相当する2つの撹拌位置と、これとは異なる2つの洗浄位置との間で2つの撹拌子を移動させることができる。また撹拌ユニット33aは、2つの撹拌子を鉛直方向に移動させることができる。撹拌ユニット33aは、2つの洗浄位置において2つの撹拌子をそれぞれ洗浄する機能を備える。この撹拌ユニット33aは、反応容器31に分注されたサンプルと第1の試薬とを撹拌するために使用される。   The stirring unit 33a includes two stirring bars. The stirring unit 33a can move two stirring bars between two stirring positions corresponding to the upper part of the reaction vessel 31 and two different cleaning positions. The stirring unit 33a can move the two stirring bars in the vertical direction. The stirring unit 33a has a function of cleaning two stirring bars at two cleaning positions. The stirring unit 33a is used for stirring the sample dispensed in the reaction vessel 31 and the first reagent.

撹拌ユニット33bは、2つの撹拌子を備える。撹拌ユニット33bは、反応容器31の上方にそれぞれ相当する2つの各半日と、これとは異なる2つの洗浄位置との間で2つの撹拌子を移動させることができる。また撹拌ユニット33bは、2つの撹拌子を鉛直方向に移動させることができる。撹拌ユニット33bは、2つの洗浄位置において2つの撹拌子をそれぞれ洗浄する機能を備える。この撹拌ユニット33bは、反応容器31に分注されたサンプルと第1の試薬と第2の試薬とを撹拌するために使用される。   The stirring unit 33b includes two stirring bars. The stirring unit 33b can move two stirring bars between two half days respectively corresponding to the upper side of the reaction vessel 31 and two different cleaning positions. The stirring unit 33b can move the two stirring bars in the vertical direction. The stirring unit 33b has a function of cleaning two stirring bars at two cleaning positions. The stirring unit 33b is used for stirring the sample dispensed in the reaction vessel 31, the first reagent, and the second reagent.

測光ユニット34は、反応容器31が測光位置を通過する時に光を照射して、透過した光から設定波長の吸光度を測定する。そして測光ユニット34は、測定した吸光度を表す信号として分析信号を生成する。   The photometric unit 34 emits light when the reaction vessel 31 passes through the photometric position, and measures the absorbance of the set wavelength from the transmitted light. Then, the photometry unit 34 generates an analysis signal as a signal representing the measured absorbance.

洗浄ユニット35は、洗浄ノズルおよび乾燥ノズルを備える。洗浄ユニット35は、洗浄ノズルにより、反応容器31内の反応液を吸引するとともに洗浄する。また洗浄ユニット35は、洗浄後の反応容器31内を乾燥ノズルにより乾燥する。洗浄ユニット35で洗浄および乾燥された反応容器31は、測定に再び使用される。   The cleaning unit 35 includes a cleaning nozzle and a drying nozzle. The cleaning unit 35 sucks and cleans the reaction solution in the reaction vessel 31 by the cleaning nozzle. The washing unit 35 dries the inside of the reaction vessel 31 after washing with a drying nozzle. The reaction vessel 31 washed and dried by the washing unit 35 is used again for measurement.

(第1の実施形態)
図3は第1の実施形態における洗浄ユニット35の一部の構造を示す斜視図である。
(First embodiment)
FIG. 3 is a perspective view showing a part of the structure of the cleaning unit 35 in the first embodiment.

図3において、洗浄ユニット35の洗浄ノズルを符号1を付して示す。洗浄ノズル1は、細長い円筒状をなし、その長手方向がほぼ鉛直方向となる姿勢でディスク32の上方に配置されている。洗浄ノズル1は、保持部2を貫通する状態で配置される。また洗浄ノズル1の上端は、ガイド部3に取り付けられている。   In FIG. 3, the cleaning nozzle of the cleaning unit 35 is denoted by reference numeral 1. The cleaning nozzle 1 has an elongated cylindrical shape, and is disposed above the disk 32 in a posture in which the longitudinal direction is substantially vertical. The cleaning nozzle 1 is disposed so as to penetrate the holding unit 2. The upper end of the cleaning nozzle 1 is attached to the guide part 3.

保持部2は、洗浄ユニット35のベース部4に固定されている。保持部2は、洗浄ノズル1をその長手方向に往復移動が可能なように保持する。保持部2の内部には、例えばラック&ピニオンなどの周知の直線運動機構が配置されている。この直線運動機構は、洗浄ノズル1をその長手方向に沿って往復移動させる。この直線運動機構は、機構部121に属する。   The holding part 2 is fixed to the base part 4 of the cleaning unit 35. The holding unit 2 holds the cleaning nozzle 1 so that it can reciprocate in the longitudinal direction. A known linear motion mechanism such as a rack and pinion is disposed inside the holding unit 2. This linear motion mechanism reciprocates the cleaning nozzle 1 along its longitudinal direction. This linear motion mechanism belongs to the mechanism unit 121.

ガイド部3はベース部4にほぼ鉛直方向に沿って形成されたガイド溝4aに案内されて移動する。この移動によりガイド部3は、洗浄ノズル1をほぼ鉛直方向に移動させるようにガイドする。   The guide portion 3 moves while being guided by a guide groove 4a formed in the base portion 4 along a substantially vertical direction. By this movement, the guide unit 3 guides the cleaning nozzle 1 to move in a substantially vertical direction.

図4は洗浄ノズル1の第1の実施形態における構造をその長手方向に沿って破断して示す図である。図5は洗浄ノズル1の第1の実施形態における構造を図4中のA−A位置にて水平方向に沿って破断して示す図である。   FIG. 4 is a diagram showing the structure of the cleaning nozzle 1 according to the first embodiment, broken along the longitudinal direction. FIG. 5 is a diagram showing the structure of the cleaning nozzle 1 according to the first embodiment, broken along the horizontal direction at the position AA in FIG.

これら図4および図5に示すように、第1の実施形態における洗浄ノズル1は外筒1aおよび内筒1bを含む。外筒1aは、その長手方向のほぼ全長に渡って延びる内部空間を有する。内筒1bは、外筒1aの内部空間に配置されている。外筒1aと内筒1bとは、それぞれの長手方向がほぼ一致する。そして、外筒1aと内筒1bとは、それぞれの中心軸が互いにほぼ一致することが望ましい。内筒1bは、その長手方向のほぼ全長に渡って延びる内部空間を有する。   As shown in FIGS. 4 and 5, the cleaning nozzle 1 in the first embodiment includes an outer cylinder 1a and an inner cylinder 1b. The outer cylinder 1a has an internal space extending over almost the entire length in the longitudinal direction. The inner cylinder 1b is disposed in the inner space of the outer cylinder 1a. The longitudinal directions of the outer cylinder 1a and the inner cylinder 1b are substantially the same. And as for the outer cylinder 1a and the inner cylinder 1b, it is desirable for each central axis to mutually correspond substantially. The inner cylinder 1b has an internal space extending over almost the entire length in the longitudinal direction.

内筒1bの先端の外側面は、内筒1bの外側に向かって突出している。そしてこの突出量は、内筒1bの先端に近づくほど大きくなっている。外筒1aと内筒1bとは、内筒1bの先端が外筒1aの先端から下方に突出する位置関係で、互いにあるいはガイド部3に固定されている。かくして洗浄ノズル1の先端には、横方向に向いたスリット1eが形成されている。   The outer surface at the tip of the inner cylinder 1b protrudes toward the outer side of the inner cylinder 1b. And this protrusion amount is so large that it approaches the front-end | tip of the inner cylinder 1b. The outer cylinder 1a and the inner cylinder 1b are fixed to each other or to the guide portion 3 in a positional relationship in which the tip of the inner cylinder 1b protrudes downward from the tip of the outer cylinder 1a. Thus, a slit 1e oriented in the lateral direction is formed at the tip of the cleaning nozzle 1.

かくして洗浄ノズル1は、外筒1aを外部壁とするとともに、内筒1bを内部壁とした第1の空間1cと、内筒1bの内部の第2の空間1dとを有する。第1の空間1cには、ガイド部3の内部を介して洗浄ノズル1の上方側から図示しないポンプにより洗浄液が供給される。第1の空間1cに供給された洗浄液は、その供給圧と自重とによって第1の空間内1c内を下方に流れる。そして洗浄液は、スリット1eを介して洗浄ノズル1の外部に放出される。つまり第1の空間1cは、洗浄剤の供給流路となる。第2の空間1dは、図示しないポンプにより必要に応じて減圧される。このときに内筒1bの先端の近傍に液体(反応液および洗浄液)が存在すれば、その液体は負圧によって第2の空間1dに吸い上げられる。つまり第2の空間1dは、反応液および洗浄液の回収経路となる。   Thus, the cleaning nozzle 1 has the first space 1c having the outer cylinder 1a as the outer wall, the inner cylinder 1b as the inner wall, and the second space 1d inside the inner cylinder 1b. A cleaning liquid is supplied to the first space 1 c by a pump (not shown) from above the cleaning nozzle 1 through the inside of the guide portion 3. The cleaning liquid supplied to the first space 1c flows downward in the first space 1c by its supply pressure and its own weight. The cleaning liquid is discharged to the outside of the cleaning nozzle 1 through the slit 1e. That is, the first space 1c serves as a supply channel for the cleaning agent. The second space 1d is decompressed as necessary by a pump (not shown). At this time, if liquid (reaction liquid and cleaning liquid) exists near the tip of the inner cylinder 1b, the liquid is sucked into the second space 1d by negative pressure. That is, the second space 1d is a recovery path for the reaction liquid and the cleaning liquid.

次に以上のように構成された洗浄ノズル1を用いての反応容器31の洗浄過程について説明する。   Next, the cleaning process of the reaction vessel 31 using the cleaning nozzle 1 configured as described above will be described.

まず、反応液の入った洗浄すべき反応容器31が洗浄ノズル1の下方に位置する状態でディスク32が停止する。この状態で機構制御部122は、保持部2の内部に配置された直線移動機構を動作させて、洗浄ノズル1を降下させる。これにより洗浄ノズル1は図6に示すように、矢印MAのように移動され、反応容器31の内部に挿入される。このときに、機構制御部122は、図示しないポンプを動作させて、第2の空間1dを減圧する。このため、洗浄ノズル1の先端が反応液L1に到達すると、反応液L1は矢印A1で示すように第2の空間1dに吸い上げられる。洗浄ノズル1の先端が反応容器31の底の近傍まで到達すれば、反応容器31に収容されていた反応液L1が反応容器31から排出される。そこでこの状態になったならば機構制御部122は、洗浄ノズル1の降下を停止させる。   First, the disk 32 is stopped in a state in which the reaction container 31 containing the reaction solution to be cleaned is positioned below the cleaning nozzle 1. In this state, the mechanism control unit 122 operates the linear movement mechanism disposed inside the holding unit 2 to lower the cleaning nozzle 1. Accordingly, as shown in FIG. 6, the cleaning nozzle 1 is moved as indicated by an arrow MA and inserted into the reaction vessel 31. At this time, the mechanism control unit 122 operates a pump (not shown) to decompress the second space 1d. For this reason, when the tip of the cleaning nozzle 1 reaches the reaction liquid L1, the reaction liquid L1 is sucked into the second space 1d as indicated by an arrow A1. When the tip of the cleaning nozzle 1 reaches the vicinity of the bottom of the reaction vessel 31, the reaction liquid L <b> 1 stored in the reaction vessel 31 is discharged from the reaction vessel 31. Therefore, when this state is reached, the mechanism control unit 122 stops the descent of the cleaning nozzle 1.

続いて機構制御部122は、図示しないポンプを動作させて、第1の空間1cへの洗浄液の供給を開始する。そうすると、洗浄液は第1の空間1cを図7に矢印A2で示すように流れて、スリット1eから矢印A3で示すように放出される。このとき、スリット1eは洗浄ノズル1の側方に向いて形成されているために、洗浄ノズル1から放出された洗浄液は反応容器31の内壁に直接的に噴射されることになる。そしてこの状態で機構制御部122は、保持部2の内部に配置された直線移動機構を動作させて、洗浄ノズル1を上昇させる。これにより、洗浄ノズル1は図7に示すように、矢印MBのように移動され、反応容器31の内壁に対する洗浄液の噴射位置が変化する。そして、予め定められた洗浄範囲に洗浄液を噴射し終えたならば、機構制御部122は、洗浄ノズル1の上昇を停止させる。   Subsequently, the mechanism control unit 122 operates a pump (not shown) to start supplying the cleaning liquid to the first space 1c. Then, the cleaning liquid flows in the first space 1c as shown by an arrow A2 in FIG. 7, and is discharged from the slit 1e as shown by an arrow A3. At this time, since the slit 1 e is formed toward the side of the cleaning nozzle 1, the cleaning liquid discharged from the cleaning nozzle 1 is directly sprayed onto the inner wall of the reaction vessel 31. In this state, the mechanism control unit 122 operates the linear movement mechanism disposed inside the holding unit 2 to raise the cleaning nozzle 1. As a result, the cleaning nozzle 1 is moved as shown by the arrow MB as shown in FIG. 7, and the spray position of the cleaning liquid with respect to the inner wall of the reaction vessel 31 changes. When the cleaning liquid has been sprayed into the predetermined cleaning range, the mechanism control unit 122 stops the cleaning nozzle 1 from rising.

続いて機構制御部122は、洗浄ノズル1を降下させるとともに、第2の空間1dを減圧する。これにより、反応容器31の内部に溜まった洗浄液L2は図8に矢印A4で示すように第2の空間1dに吸い上げられる。洗浄ノズル1の先端が反応容器31の底の近傍まで到達すれば、反応容器31に溜まった洗浄液L2が反応容器31から排出される。そこでこの状態になったならば機構制御部122は、洗浄ノズル1の降下を停止させる。   Subsequently, the mechanism control unit 122 lowers the cleaning nozzle 1 and depressurizes the second space 1d. As a result, the cleaning liquid L2 accumulated in the reaction vessel 31 is sucked into the second space 1d as indicated by an arrow A4 in FIG. When the tip of the cleaning nozzle 1 reaches the vicinity of the bottom of the reaction vessel 31, the cleaning liquid L <b> 2 accumulated in the reaction vessel 31 is discharged from the reaction vessel 31. Therefore, when this state is reached, the mechanism control unit 122 stops the descent of the cleaning nozzle 1.

そして最後に機構制御部122は、洗浄ノズル1が反応容器31から完全に抜けるまで洗浄ノズル1を上昇させる。   Finally, the mechanism control unit 122 raises the cleaning nozzle 1 until the cleaning nozzle 1 is completely removed from the reaction vessel 31.

かくして第1の実施形態によれば、反応容器31の内壁を洗浄剤を直接的に噴射しながら洗浄することができ、効率的な洗浄が達成される。   Thus, according to the first embodiment, the inner wall of the reaction vessel 31 can be cleaned while spraying the cleaning agent directly, and efficient cleaning is achieved.

なお、スリット1eは、洗浄液の放出方向が、水平方向を0度、鉛直方向下方を90度とした場合に1〜89度の方向となるように形成することが好ましい。洗浄液の放出方向が0度以下であると、洗浄液によって洗浄された反応液が跳ね上がり、洗浄ノズル1に付着してしまう恐れが生じるからである。このように洗浄ノズル1に反応液が付着すると、別の反応容器31を洗浄する際に当該反応容器31に洗浄ノズル1に付着していた反応液が付着してしまう恐れがある。また、洗浄液の放出方向が90度以上であると、反応容器31の内壁に洗浄剤を直接的に噴射することが困難となるからである。   In addition, it is preferable to form the slit 1e so that the discharge direction of the cleaning liquid is in the direction of 1 to 89 degrees when the horizontal direction is 0 degrees and the downward direction in the vertical direction is 90 degrees. This is because if the discharge direction of the cleaning liquid is 0 ° or less, the reaction liquid cleaned by the cleaning liquid may jump up and adhere to the cleaning nozzle 1. When the reaction liquid adheres to the cleaning nozzle 1 in this manner, the reaction liquid that has adhered to the cleaning nozzle 1 may adhere to the reaction container 31 when another reaction container 31 is cleaned. Moreover, it is because it becomes difficult to inject a cleaning agent directly on the inner wall of the reaction container 31 when the discharge direction of the cleaning liquid is 90 degrees or more.

また第2の実施形態によれば、洗浄ノズル1が洗浄液の吐出のための機能と、反応液および洗浄液の吸引のための機能との双方を兼ね備えている。このため、前述したような効率的な洗浄動作が可能である。   According to the second embodiment, the cleaning nozzle 1 has both a function for discharging the cleaning liquid and a function for suctioning the reaction liquid and the cleaning liquid. For this reason, an efficient cleaning operation as described above is possible.

(第2の実施形態)
第2の実施形態においても図3に示す構造は共通である。
(Second Embodiment)
The structure shown in FIG. 3 is also common in the second embodiment.

図9は洗浄ノズル1の第2の実施形態における構造をその長手方向に沿って破断して示す図である。図10は洗浄ノズル1の第2の実施形態における構造を図9中のB−B位置にて水平方向に沿って破断して示す図である。なお、図9および図10において、図4および図5に示されるのと同一の部分には同一の符号を付し、その詳細な説明は省略する。   FIG. 9 is a diagram showing the structure of the cleaning nozzle 1 according to the second embodiment, broken along the longitudinal direction. FIG. 10 is a diagram showing the structure of the cleaning nozzle 1 according to the second embodiment, broken along the horizontal direction at the BB position in FIG. 9. 9 and 10, the same parts as those shown in FIGS. 4 and 5 are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof is omitted.

これら図9および図10に示すように、第2の実施形態における洗浄ノズル1は、外筒1aおよび内筒1bの他に内内筒1fを含む。内内筒1fは、その長手方向に関しての内筒1bに対する相対的な位置を変更可能な程度の遊びを持って内筒1bの内部空間に配置されている。内内筒1fは、その長手方向が外筒1aおよび内筒1bの長手方向とほぼ一致する。本実施形態では、内内筒1fの外径は、内筒1bの内径よりも僅かに小さい。従って内内筒1fは、その姿勢が内筒1bによって規定される。ただし、内内筒1fの外径は、内内筒1fと内筒1bとの間に空間が形成される程度であっても良い。内内筒1fは、その長手方向のほぼ全長に渡って延びる内部空間を有する。   As shown in FIGS. 9 and 10, the cleaning nozzle 1 according to the second embodiment includes an inner and inner cylinder 1f in addition to the outer cylinder 1a and the inner cylinder 1b. The inner / inner cylinder 1f is arranged in the inner space of the inner cylinder 1b with a play that can change the relative position of the inner cylinder 1b with respect to the inner cylinder 1b. The longitudinal direction of the inner / inner cylinder 1f substantially coincides with the longitudinal directions of the outer cylinder 1a and the inner cylinder 1b. In the present embodiment, the outer diameter of the inner inner cylinder 1f is slightly smaller than the inner diameter of the inner cylinder 1b. Therefore, the posture of the inner cylinder 1f is defined by the inner cylinder 1b. However, the outer diameter of the inner / inner cylinder 1f may be such that a space is formed between the inner / inner cylinder 1f and the inner cylinder 1b. The inner / inner cylinder 1f has an internal space extending over substantially the entire length in the longitudinal direction.

上記のような構成により、内内筒1fの内部空間が第2の空間1dとして機能する。   With the configuration as described above, the inner space of the inner inner cylinder 1f functions as the second space 1d.

さて、保持部2の内部に配置された直線移動機構は、ラック&ピニオンなどを少なくとも2組含むか、あるいはラック&ピニオンにクラッチを組み合わせるなどの周知の構造をもち、外筒1aおよび内筒1bと内内筒1fとをそれぞれ個別に移動させる。   Now, the linear movement mechanism disposed inside the holding portion 2 has a known structure such as including at least two sets of racks and pinions or combining clutches with the racks and pinions, and the outer cylinder 1a and the inner cylinder 1b. And the inner and inner cylinders 1f are individually moved.

なお、内内筒1fは、それらが形成する空間内を圧力によって洗浄液や反応液を送液するために、耐薬品性があり、剛性があり、錆等の経年劣化が小さく、さらには−20〜60℃程度の温度範囲で形状が安定している材質を用いることが望ましい。このような条件に合致する材質としては、例えばステンレスが考えられる。   Note that the inner and inner cylinders 1f have chemical resistance, rigidity, small deterioration over time such as rust, and −20 in order to send cleaning liquid and reaction liquid by pressure in the space formed by them. It is desirable to use a material whose shape is stable in a temperature range of about ˜60 ° C. As a material meeting such conditions, for example, stainless steel is conceivable.

次に以上のように構成された洗浄ノズル1を用いての反応容器31の洗浄過程について説明する。   Next, the cleaning process of the reaction vessel 31 using the cleaning nozzle 1 configured as described above will be described.

まず、反応液の入った洗浄すべき反応容器31が洗浄ノズル1の下方に位置する状態でディスク32が停止する。この状態で機構制御部122は、保持部2の内部に配置された直線移動機構を動作させて、外筒1a、内筒1bおよび内内筒1fを、外筒1aおよび内筒1bと内内筒1fとの位置関係を図9に示す状態に保ったまま降下させる。これにより洗浄ノズル1は図11に示すように、矢印MDのように移動され、反応容器31の内部に挿入される。このときに、機構制御部122は、図示しないポンプを動作させて、第2の空間1dを減圧する。このため、洗浄ノズル1の先端が反応液L1に到達すると、反応液L1は矢印A5で示すように第2の空間1dに吸い上げられる。洗浄ノズル1の先端が反応容器31の底の近傍まで到達すれば、反応容器31に収容されていた反応液L1が反応容器31から排出される。そこでこの状態になったならば機構制御部122は、洗浄ノズル1の降下を停止させる。   First, the disk 32 is stopped in a state in which the reaction container 31 containing the reaction solution to be cleaned is positioned below the cleaning nozzle 1. In this state, the mechanism control unit 122 operates the linear movement mechanism disposed inside the holding unit 2 to move the outer cylinder 1a, the inner cylinder 1b, and the inner inner cylinder 1f to the inner cylinder 1a, the inner cylinder 1b, and the inner cylinder. The position is lowered while maintaining the positional relationship with the tube 1f as shown in FIG. As a result, the cleaning nozzle 1 is moved as shown by an arrow MD and inserted into the reaction vessel 31 as shown in FIG. At this time, the mechanism control unit 122 operates a pump (not shown) to decompress the second space 1d. For this reason, when the tip of the cleaning nozzle 1 reaches the reaction liquid L1, the reaction liquid L1 is sucked into the second space 1d as indicated by an arrow A5. When the tip of the cleaning nozzle 1 reaches the vicinity of the bottom of the reaction vessel 31, the reaction liquid L <b> 1 stored in the reaction vessel 31 is discharged from the reaction vessel 31. Therefore, when this state is reached, the mechanism control unit 122 stops the descent of the cleaning nozzle 1.

続いて機構制御部122は、図示しないポンプを動作させて、第1の空間1cへの洗浄液の供給を開始する。そうすると、洗浄液は第1の空間1cを図12に矢印A6で示すように流れて、スリット1eから矢印A7で示すように放出される。このとき、スリット1eは洗浄ノズル1の側方に向いて形成されているために、洗浄ノズル1から放出された洗浄液は反応容器31の内壁に直接的に噴射されることになる。そしてこの状態で機構制御部122は、保持部2の内部に配置された直線移動機構を動作させて、内内筒1fは静止させたままで外筒1aおよび内筒1bを上昇させる。これにより、外筒1aおよび内筒1bが、図12に示すように内内筒1fとの位置関係を変化させながら矢印MEのように移動され、反応容器31の内壁に対する洗浄液の噴射位置が変化する。そして、予め定められた洗浄範囲に洗浄液を噴射し終えたならば、洗浄液の供給を停止する。また機構制御部122は、外筒1aおよび内筒1bを上昇を停止させる。   Subsequently, the mechanism control unit 122 operates a pump (not shown) to start supplying the cleaning liquid to the first space 1c. Then, the cleaning liquid flows through the first space 1c as shown by an arrow A6 in FIG. 12, and is discharged from the slit 1e as shown by an arrow A7. At this time, since the slit 1 e is formed toward the side of the cleaning nozzle 1, the cleaning liquid discharged from the cleaning nozzle 1 is directly sprayed onto the inner wall of the reaction vessel 31. In this state, the mechanism control unit 122 operates the linear movement mechanism disposed inside the holding unit 2 to raise the outer cylinder 1a and the inner cylinder 1b while keeping the inner inner cylinder 1f stationary. Thereby, the outer cylinder 1a and the inner cylinder 1b are moved as shown by an arrow ME while changing the positional relationship with the inner inner cylinder 1f as shown in FIG. 12, and the injection position of the cleaning liquid with respect to the inner wall of the reaction vessel 31 is changed. To do. When the cleaning liquid has been sprayed into the predetermined cleaning range, the supply of the cleaning liquid is stopped. Moreover, the mechanism control part 122 stops raising the outer cylinder 1a and the inner cylinder 1b.

上記のように洗浄液の噴射が行われているのと並行して、あるいは上記のような洗浄液の噴射の停止後に、第2の空間1dを減圧する。これにより、反応容器31の内部に噴射された洗浄液は図12に矢印A8で示すように第2の空間1dに吸い上げられる。反応容器31から排出される。   In parallel with the spraying of the cleaning liquid as described above or after the stop of the spraying of the cleaning liquid as described above, the second space 1d is decompressed. As a result, the cleaning liquid sprayed into the reaction vessel 31 is sucked into the second space 1d as indicated by an arrow A8 in FIG. It is discharged from the reaction vessel 31.

そして最後に機構制御部122は、洗浄ノズル1が反応容器31から完全に抜けるまで洗浄ノズル1を上昇させる。   Finally, the mechanism control unit 122 raises the cleaning nozzle 1 until the cleaning nozzle 1 is completely removed from the reaction vessel 31.

かくして第2の実施形態によれば、第1の実施形態と同様に、効率的な洗浄が達成される。   Thus, according to the second embodiment, as in the first embodiment, efficient cleaning is achieved.

さらに第2の実施形態によれば、反応容器31に溜まる洗浄液を速やかに排出することができる。このため、反応容器31に溜まった洗浄液が後から放出される洗浄液が反応容器31の壁面に噴射されることを妨げてしまうことが無くなる。かつ、洗浄開始直後に反応容器31に溜まる洗浄液は反応液を高濃度で含むため、これを反応容器31内に留めておくことは洗浄効率の低下を来すが、上記のように反応容器31に溜まる洗浄液を速やかに排出することによって回避できる。   Furthermore, according to the second embodiment, the cleaning liquid accumulated in the reaction vessel 31 can be quickly discharged. For this reason, it is no longer possible to prevent the cleaning liquid accumulated in the reaction container 31 from being ejected onto the wall surface of the reaction container 31 afterward. And since the washing | cleaning liquid which accumulates in the reaction container 31 immediately after the start of washing | cleaning contains a reaction liquid in high concentration, keeping this in the reaction container 31 brings about the fall of washing | cleaning efficiency, but as mentioned above, reaction container 31 This can be avoided by quickly discharging the cleaning liquid accumulated in the water.

また第2の実施形態によれば、洗浄ノズル1が洗浄液の吐出のための機能と、反応液および洗浄液の吸引のための機能との双方を兼ね備えている。このため、前述したような効率的な洗浄動作が可能である。特に第2の実施形態では、第1の空間を形成する外筒1aおよび内筒1bと、第2の空間を形成する内内筒1fとを個別に移動可能としているので、第1の実施形態では洗浄ノズル1を2往復させなければならないのに対して、第2の実施形態では洗浄ノズル1を1往復させれば良く、さらなる効率化が達成される。   According to the second embodiment, the cleaning nozzle 1 has both a function for discharging the cleaning liquid and a function for suctioning the reaction liquid and the cleaning liquid. For this reason, an efficient cleaning operation as described above is possible. In particular, in the second embodiment, the outer cylinder 1a and the inner cylinder 1b that form the first space and the inner and inner cylinder 1f that forms the second space are individually movable, so the first embodiment Then, the cleaning nozzle 1 has to be reciprocated twice, whereas in the second embodiment, the cleaning nozzle 1 has only to be reciprocated once, and further efficiency is achieved.

なお、先に内内筒1fの先端を反応容器31の底面の近傍まで降下させておき、内内筒1fは静止させた状態で、洗浄液を噴射しながら外筒1aおよび内筒1bを降下させても良い。   The tip of the inner inner cylinder 1f is first lowered to the vicinity of the bottom surface of the reaction vessel 31, and the outer cylinder 1a and the inner cylinder 1b are lowered while spraying the cleaning liquid while the inner inner cylinder 1f is stationary. May be.

(第3の実施形態)
第3の実施形態においても図3に示す構造は共通である。
(Third embodiment)
The structure shown in FIG. 3 is common also in the third embodiment.

ただし第3の実施形態においては、ガイド部3の内部には、例えばモータなどの周知の回転機構が配置されている。この回転機構は、後述するように洗浄ノズル1の一部をその長手方向に沿った回転軸周りで回転させる。この回転機構は、機構部121に属する。   However, in the third embodiment, a known rotation mechanism such as a motor is disposed inside the guide portion 3. As will be described later, this rotating mechanism rotates a part of the cleaning nozzle 1 around a rotation axis along the longitudinal direction thereof. This rotation mechanism belongs to the mechanism unit 121.

図13は洗浄ノズル1の第3の実施形態における構造をその長手方向に沿って破断して示す図である。図14は洗浄ノズル1の第3の実施形態における外観を示す平面図である。図15は洗浄ノズル1の第3の実施形態における構造を図14中のC−C位置にて水平方向に沿って破断して示す図である。なお、図13乃至図15において、図4、図5、図9および図10に示されるのと同一の部分には同一の符号を付し、その詳細な説明は省略する。   FIG. 13 is a diagram showing the structure of the cleaning nozzle 1 according to the third embodiment, broken along the longitudinal direction. FIG. 14 is a plan view showing the appearance of the cleaning nozzle 1 in the third embodiment. FIG. 15 is a diagram showing the structure of the cleaning nozzle 1 according to the third embodiment, broken along the horizontal direction at the CC position in FIG. 13 to 15, the same parts as those shown in FIGS. 4, 5, 9, and 10 are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof is omitted.

これら図13乃至図15に示すように、第3の実施形態における洗浄ノズル1は、内筒1bおよび内内筒1fおよび外筒1gを含む。すなわち第3の実施形態における洗浄ノズル1は、第2の実施形態における外筒1aに代えて外筒1gを備える。外筒1gには、下側の端部近傍に、外筒1gの長手方向に沿って延びる細長いスリット1hが2つ形成されている。スリット1hの高さは、洗浄範囲の高さと同程度である。2つのスリット1hの相対的な位置関係は任意であって良いが、例えば図15に示すように外筒1gの長手方向に沿った軸心を挟んで対象な位置関係とする。なお、スリット1hは、1つのみとしても良い。   As shown in FIGS. 13 to 15, the cleaning nozzle 1 in the third embodiment includes an inner cylinder 1b, an inner inner cylinder 1f, and an outer cylinder 1g. That is, the cleaning nozzle 1 in the third embodiment includes an outer cylinder 1g instead of the outer cylinder 1a in the second embodiment. Two elongate slits 1h extending along the longitudinal direction of the outer cylinder 1g are formed in the outer cylinder 1g near the lower end. The height of the slit 1h is about the same as the height of the cleaning range. Although the relative positional relationship between the two slits 1h may be arbitrary, for example, as shown in FIG. 15, the relative positional relationship is set with respect to the axis along the longitudinal direction of the outer cylinder 1g. Note that only one slit 1h may be provided.

上記のような構成により、内筒1bと外筒1gとの間の空間が第1の空間1cとして機能する。   With the configuration as described above, the space between the inner cylinder 1b and the outer cylinder 1g functions as the first space 1c.

さて、保持部2の内部に配置された回転機構は、少なくとも外筒1gをその長手方向に沿った軸心を回転軸として図15に矢印RAで示すように回転させる。回転機構は、外筒1gのみを回転させても良いが、内筒1bおよび内内筒1fのいずれかまたは双方を同時に回転させても良い。   Now, the rotation mechanism disposed inside the holding portion 2 rotates at least the outer cylinder 1g as indicated by an arrow RA in FIG. 15 with the axis along the longitudinal direction as a rotation axis. The rotating mechanism may rotate only the outer cylinder 1g, but may rotate either or both of the inner cylinder 1b and the inner inner cylinder 1f at the same time.

なお、外筒1gは、それが形成する空間内を圧力によって洗浄液や反応液を送液するために、耐薬品性があり、剛性があり、錆等の経年劣化が小さく、さらには−20〜60℃程度の温度範囲で形状が安定している材質を用いることが望ましい。このような条件に合致する材質としては、例えばステンレスが考えられる。   In addition, the outer cylinder 1g has chemical resistance, rigidity, small deterioration over time such as rust, and the like, since the cleaning liquid and the reaction liquid are fed by the pressure in the space formed by the outer cylinder, and further −20 to 20 It is desirable to use a material whose shape is stable in a temperature range of about 60 ° C. As a material meeting such conditions, for example, stainless steel is conceivable.

次に以上のように構成された洗浄ノズル1を用いての反応容器31の洗浄過程について説明する。   Next, the cleaning process of the reaction vessel 31 using the cleaning nozzle 1 configured as described above will be described.

まず、反応液の入った洗浄すべき反応容器31が洗浄ノズル1の下方に位置する状態でディスク32が停止する。この状態で機構制御部122は、保持部2の内部に配置された直線移動機構を動作させて、洗浄ノズル1を降下させる。このときに、機構制御部122は、図示しないポンプを動作させて、第2の空間1dを減圧する。このため、洗浄ノズル1の先端が反応液に到達すると、反応液は第2の空間1dに吸い上げられる。洗浄ノズル1の先端が反応容器31の底の近傍まで到達すれば、反応容器31に収容されていた反応液が反応容器31から排出される。そこでこの状態になったならば機構制御部122は、洗浄ノズル1の降下を停止させる。   First, the disk 32 is stopped in a state in which the reaction container 31 containing the reaction solution to be cleaned is positioned below the cleaning nozzle 1. In this state, the mechanism control unit 122 operates the linear movement mechanism disposed inside the holding unit 2 to lower the cleaning nozzle 1. At this time, the mechanism control unit 122 operates a pump (not shown) to decompress the second space 1d. For this reason, when the tip of the washing nozzle 1 reaches the reaction solution, the reaction solution is sucked into the second space 1d. When the tip of the cleaning nozzle 1 reaches the vicinity of the bottom of the reaction vessel 31, the reaction liquid stored in the reaction vessel 31 is discharged from the reaction vessel 31. Therefore, when this state is reached, the mechanism control unit 122 stops the descent of the cleaning nozzle 1.

続いて機構制御部122は、図示しないポンプを動作させて、第1の空間1cへの洗浄液の供給を開始する。そうすると、洗浄液は第1の空間1cを流れて、スリット1hから図15に矢印A8で示すように放出される。このとき、スリット1hは洗浄ノズル1の側方に向いて形成されているために、洗浄ノズル1から放出された洗浄液は反応容器31の内壁に直接的に噴射されることになる。スリット1hは、その高さが洗浄範囲と同程度であるから、スリット1hから放出された洗浄液は高さ方向についての洗浄範囲のほぼ全域に噴射される。ただし、スリット1hは水平方向の幅が小さいから、洗浄ノズル1の周方向については狭い範囲にしか洗浄液を放出できない。そこで回転機構により外筒1gを回転させる。これにより、スリット1hの向きが洗浄ノズル1の周方向について変化し、洗浄範囲のほぼ全域に洗浄液を噴射できる。   Subsequently, the mechanism control unit 122 operates a pump (not shown) to start supplying the cleaning liquid to the first space 1c. Then, the cleaning liquid flows through the first space 1c and is discharged from the slit 1h as shown by an arrow A8 in FIG. At this time, since the slit 1 h is formed toward the side of the cleaning nozzle 1, the cleaning liquid discharged from the cleaning nozzle 1 is directly sprayed onto the inner wall of the reaction vessel 31. Since the height of the slit 1h is about the same as the cleaning range, the cleaning liquid discharged from the slit 1h is sprayed to almost the entire cleaning range in the height direction. However, since the slit 1h has a small width in the horizontal direction, the cleaning liquid can be discharged only in a narrow range in the circumferential direction of the cleaning nozzle 1. Therefore, the outer cylinder 1g is rotated by the rotation mechanism. Thereby, the direction of the slit 1h is changed in the circumferential direction of the cleaning nozzle 1, and the cleaning liquid can be sprayed to almost the entire cleaning range.

上記のように洗浄液の噴射が行われているのと並行して、あるいは上記のような洗浄液の噴射の停止後に、第2の空間1dを減圧する。これにより、反応容器31の内部に噴射された洗浄液は第2の空間1dに吸い上げられる。反応容器31から排出される。   In parallel with the spraying of the cleaning liquid as described above or after the stop of the spraying of the cleaning liquid as described above, the second space 1d is decompressed. As a result, the cleaning liquid sprayed into the reaction vessel 31 is sucked into the second space 1d. It is discharged from the reaction vessel 31.

そして最後に機構制御部122は、洗浄ノズル1が反応容器31から完全に抜けるまで洗浄ノズル1を上昇させる。   Finally, the mechanism control unit 122 raises the cleaning nozzle 1 until the cleaning nozzle 1 is completely removed from the reaction vessel 31.

かくして第3の実施形態によれば、第1の実施形態と同様に、効率的な洗浄が達成される。   Thus, according to the third embodiment, as in the first embodiment, efficient cleaning is achieved.

また第3の実施形態によれば、洗浄ノズル1が洗浄液の吐出のための機能と、反応液および洗浄液の吸引のための機能との双方を兼ね備えている。このため、前述したような効率的な洗浄動作が可能である。特に第3の実施形態では、外筒1gを回転させることにより洗浄液の噴射位置を変化させるので、第1の実施形態では洗浄ノズル1を2往復させなければならないのに対して、第2の実施形態では洗浄ノズル1を1往復させれば良く、さらなる効率化が達成される。   According to the third embodiment, the cleaning nozzle 1 has both a function for discharging the cleaning liquid and a function for suctioning the reaction liquid and the cleaning liquid. For this reason, an efficient cleaning operation as described above is possible. In particular, in the third embodiment, since the cleaning liquid injection position is changed by rotating the outer cylinder 1g, the cleaning nozzle 1 must be reciprocated twice in the first embodiment. In the embodiment, the cleaning nozzle 1 may be reciprocated once, and further efficiency is achieved.

(第1の変形例)
第1の変形例は、第3の実施形態についての変形例である。図16は洗浄ノズル1の第1の変形例における構造をその長手方向に沿って破断して示す図である。図17は洗浄ノズル1の第1の変形例における外観を示す平面図である。なお、図16および図17において、図4、図5、図9、図10および図13に示されるのと同一の部分には同一の符号を付し、その詳細な説明は省略する。
(First modification)
The first modification is a modification of the third embodiment. FIG. 16 is a diagram showing the structure of the cleaning nozzle 1 according to the first modified example, broken along the longitudinal direction. FIG. 17 is a plan view showing the appearance of the cleaning nozzle 1 in the first modification. 16 and 17, the same parts as those shown in FIGS. 4, 5, 9, 10, and 13 are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof is omitted.

これら図16および図17に示すように、第1の変形例における洗浄ノズル1は、内筒1bおよび内内筒1fおよび外筒1iを含む。すなわち第1の変形例における洗浄ノズル1は、第3の実施形態における外筒1gに代えて外筒1iを備える。外筒1iには、外筒1gに形成されていたスリット1hの一部を閉じることにより形成されるのと等価な複数の開口1jの列が形成されている。   As shown in FIGS. 16 and 17, the cleaning nozzle 1 in the first modification includes an inner cylinder 1b, an inner inner cylinder 1f, and an outer cylinder 1i. That is, the cleaning nozzle 1 in the first modification includes an outer cylinder 1i instead of the outer cylinder 1g in the third embodiment. In the outer cylinder 1i, a row of a plurality of openings 1j equivalent to that formed by closing a part of the slit 1h formed in the outer cylinder 1g is formed.

以上のような構造の洗浄ノズル1を用いても、第3の実施形態と同様な動作によって反応容器31を洗浄できる。   Even if the cleaning nozzle 1 having the above structure is used, the reaction vessel 31 can be cleaned by the same operation as in the third embodiment.

(第2の変形例)
第2の変形例は、第3の実施形態についての変形例である。図18は洗浄ノズル1の第2の変形例における外観を示す平面図である。
(Second modification)
The second modification is a modification of the third embodiment. FIG. 18 is a plan view showing the appearance of the cleaning nozzle 1 in the second modification.

第2の変形例における洗浄ノズル1は、第3の実施形態における外筒1gに代えて外筒1kを備える。外筒1kは、外筒1gに形成されていたスリット1hに代えてスリット1mを形成した構造を持つ。スリット1mは、外筒1kの長手方向に対して傾いている。   The cleaning nozzle 1 in the second modified example includes an outer cylinder 1k instead of the outer cylinder 1g in the third embodiment. The outer cylinder 1k has a structure in which a slit 1m is formed instead of the slit 1h formed in the outer cylinder 1g. The slit 1m is inclined with respect to the longitudinal direction of the outer cylinder 1k.

以上のような構造の洗浄ノズル1を用いても、第3の実施形態と同様な動作によって反応容器31を洗浄できる。   Even if the cleaning nozzle 1 having the above structure is used, the reaction vessel 31 can be cleaned by the same operation as in the third embodiment.

なお、スリット1mに代えて図17に示される開口1jの列を形成するようにさらに変形することも可能である。   Further, it may be further modified to form a row of openings 1j shown in FIG. 17 instead of the slit 1m.

(第3の変形例)
第3の変形例は、第3の実施形態についての変形例である。図19は洗浄ノズル1の第3の変形例における外観を示す平面図である。
(Third Modification)
The third modification is a modification of the third embodiment. FIG. 19 is a plan view showing the appearance of the cleaning nozzle 1 in the third modification.

第3の変形例における洗浄ノズル1は、第3の実施形態における外筒1gに代えて外筒1nを備える。外筒1nは、外筒1gに形成されていたスリット1hの数を増加した構造を持つ。外筒1nには、3つ以上のスリット1hが、外筒1nの周方向にほぼ平行に並ぶ状態で形成されている。   The cleaning nozzle 1 in the third modification includes an outer cylinder 1n instead of the outer cylinder 1g in the third embodiment. The outer cylinder 1n has a structure in which the number of slits 1h formed in the outer cylinder 1g is increased. In the outer cylinder 1n, three or more slits 1h are formed in a state of being arranged substantially parallel to the circumferential direction of the outer cylinder 1n.

以上のような構造の洗浄ノズル1を用いても、第3の実施形態と同様な動作によって反応容器31を洗浄できる。なお、スリット1hの数を十分に増やせば、洗浄ノズル1の回転を省略することもできる。   Even if the cleaning nozzle 1 having the above structure is used, the reaction vessel 31 can be cleaned by the same operation as in the third embodiment. If the number of slits 1h is sufficiently increased, the rotation of the cleaning nozzle 1 can be omitted.

(第4の変形例)
第4の変形例は、第1の変形例についてのさらなる変形例である。図20は洗浄ノズル1の第4の変形例における外観を示す図である。
(Fourth modification)
The fourth modification is a further modification of the first modification. FIG. 20 is a diagram showing an appearance of the cleaning nozzle 1 in the fourth modified example.

第4の変形例における洗浄ノズル1は、第1の変形例における外筒1iに代えて外筒1oを備える。外筒1oは、開口1jの列の数を増加した構造を持つ。外筒1oには、開口1jの列が3列以上、外筒1oの周方向にほぼ平行に並ぶ状態で形成されている。   The cleaning nozzle 1 in the fourth modified example includes an outer cylinder 1o instead of the outer cylinder 1i in the first modified example. The outer cylinder 1o has a structure in which the number of rows of openings 1j is increased. The outer cylinder 1o is formed in a state where three or more rows of openings 1j are arranged substantially parallel to the circumferential direction of the outer cylinder 1o.

以上のような構造の洗浄ノズル1を用いても、第3の実施形態と同様な動作によって反応容器31を洗浄できる。なお、開口1jの列の数を十分に増やせば、洗浄ノズル1の回転を省略することもできる。   Even if the cleaning nozzle 1 having the above structure is used, the reaction vessel 31 can be cleaned by the same operation as in the third embodiment. If the number of rows of the openings 1j is sufficiently increased, the rotation of the cleaning nozzle 1 can be omitted.

(第5の変形例)
第5の変形例は、第1の実施形態についての変形例である。図21は洗浄ノズル1の第5の変形例における外観を示す図である。
(Fifth modification)
The fifth modification is a modification of the first embodiment. FIG. 21 is a diagram illustrating an appearance of the cleaning nozzle 1 in the fifth modification.

第5の変形例における洗浄ノズル1は、第1の実施形態における外筒1aに代えて外筒1pを備える。外筒1pは、外筒1aに形成されていたスリット1eの数を増加した構造を持つ。外筒1pには、3つ以上のスリット1eが、外筒1pの長手方向にほぼ平行に並ぶ状態で形成されている。   The cleaning nozzle 1 in the fifth modification includes an outer cylinder 1p instead of the outer cylinder 1a in the first embodiment. The outer cylinder 1p has a structure in which the number of slits 1e formed in the outer cylinder 1a is increased. In the outer cylinder 1p, three or more slits 1e are formed in a state of being arranged substantially parallel to the longitudinal direction of the outer cylinder 1p.

以上のような構造の洗浄ノズル1を用いても、第1の実施形態と同様な動作によって反応容器31を洗浄できる。さらに第5の変形例では、洗浄液を噴射しながらの洗浄ノズル1の移動量を第1の実施形態に比べて小さくすることができる。なお、スリット1eの数を十分に増やせば、洗浄液を噴射しながらの洗浄ノズル1の移動を省略することもできる。   Even when the cleaning nozzle 1 having the above structure is used, the reaction vessel 31 can be cleaned by the same operation as in the first embodiment. Furthermore, in the fifth modification, the amount of movement of the cleaning nozzle 1 while spraying the cleaning liquid can be reduced as compared with the first embodiment. If the number of slits 1e is sufficiently increased, the movement of the cleaning nozzle 1 while spraying the cleaning liquid can be omitted.

(第6の変形例)
第6の変形例は、第3の実施形態についての変形例である。図22は洗浄ノズル1の第6の変形例における構造をその長手方向に沿って破断して示す図である。図23は洗浄ノズル1の第6の変形例における構造を図22中のD−D位置にて水平方向に沿って破断して示す図である。なお、図22および図23において、図4、図5、図9および図10に示されるのと同一の部分には同一の符号を付し、その詳細な説明は省略する。
(Sixth Modification)
The sixth modification is a modification of the third embodiment. FIG. 22 is a diagram showing the structure of the sixth modified example of the cleaning nozzle 1 by cutting along the longitudinal direction thereof. FIG. 23 is a diagram showing the structure of the sixth modification of the cleaning nozzle 1 by cutting along the horizontal direction at the DD position in FIG. 22 and 23, the same parts as those shown in FIGS. 4, 5, 9 and 10 are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof is omitted.

第6の変形例における洗浄ノズル1は、第3の実施形態における内筒1bおよび外筒1gに代えて、細長いパイプ1qを備える。パイプ1qは、その長手方向が内内筒1fの長手方向とほぼ平行する状態で内内筒1fに近接して配置されている。パイプ1qの内部空間は、パイプ1qの長手方向のほぼ全長に渡って延びる。この内部空間は、第1の空間1cとして機能する。パイプ1qには、その内部空間とパイプ1qの外部とを連通するスリット1hが形成されている。このスリット1hの長手方向は、パイプ1qの長手方向とほぼ一致する。   The cleaning nozzle 1 in the sixth modified example includes an elongated pipe 1q in place of the inner cylinder 1b and the outer cylinder 1g in the third embodiment. The pipe 1q is arranged close to the inner inner cylinder 1f in a state where the longitudinal direction thereof is substantially parallel to the longitudinal direction of the inner inner cylinder 1f. The internal space of the pipe 1q extends over almost the entire length in the longitudinal direction of the pipe 1q. This internal space functions as the first space 1c. The pipe 1q is formed with a slit 1h that communicates the internal space with the outside of the pipe 1q. The longitudinal direction of the slit 1h substantially coincides with the longitudinal direction of the pipe 1q.

以上のような構造の洗浄ノズル1を用いても、第3の実施形態と同様な動作によって反応容器31を洗浄できる。   Even if the cleaning nozzle 1 having the above structure is used, the reaction vessel 31 can be cleaned by the same operation as in the third embodiment.

(第7の変形例)
第7の変形例は、第6の変形例のさらなる変形例である。図24は洗浄ノズル1の第7の変形例における構造を図22中のD−D位置に相当する位置にて水平方向に沿って破断して示す図である。なお、図24において図22および図23と同一部分には同一符号を付して、その詳細な説明は省略する。
(Seventh Modification)
The seventh modification is a further modification of the sixth modification. FIG. 24 is a diagram showing the structure of the seventh modification of the cleaning nozzle 1 by breaking it along the horizontal direction at a position corresponding to the DD position in FIG. 24, the same parts as those in FIGS. 22 and 23 are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof is omitted.

第7の変形例における洗浄ノズル1は、第6の変形例における洗浄ノズル1に加えて、パイプ1qをもう1本備えている。   The cleaning nozzle 1 in the seventh modified example includes one more pipe 1q in addition to the cleaning nozzle 1 in the sixth modified example.

以上のような構造の洗浄ノズル1を用いても、第3の実施形態と同様な動作によって反応容器31を洗浄できる。   Even if the cleaning nozzle 1 having the above structure is used, the reaction vessel 31 can be cleaned by the same operation as in the third embodiment.

この第7の変形例における洗浄ノズル1ではさらに、回転させることなく洗浄液の噴射を行うことにより、特定の一方向についてのみ反応容器31の壁面を洗浄することも可能である。これは例えば、測光ユニット34での光路となる部分のみ反応容器31の壁面を洗浄すれば十分な測定精度が得られる場合に適用可能である。   In the cleaning nozzle 1 in the seventh modified example, the wall surface of the reaction vessel 31 can be cleaned only in one specific direction by spraying the cleaning liquid without rotating. This is applicable, for example, when sufficient measurement accuracy can be obtained by cleaning the wall surface of the reaction vessel 31 only in the portion that becomes the optical path in the photometry unit 34.

(その他の変形例)
第2の空間1dを介して洗浄液を放出することにより、反応容器31の底面に対しても洗浄液を直接的に噴射しても良い。
(Other variations)
By discharging the cleaning liquid through the second space 1d, the cleaning liquid may also be directly sprayed onto the bottom surface of the reaction vessel 31.

なお、本発明は上記実施形態そのままに限定されるものではなく、実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化できる。また、上記実施形態に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合わせにより、種々の発明を形成できる。例えば、実施形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。さらに、異なる実施形態にわたる構成要素を適宜組み合わせてもよい。   Note that the present invention is not limited to the above-described embodiment as it is, and can be embodied by modifying the constituent elements without departing from the scope of the invention in the implementation stage. In addition, various inventions can be formed by appropriately combining a plurality of components disclosed in the embodiment. For example, some components may be deleted from all the components shown in the embodiment. Furthermore, constituent elements over different embodiments may be appropriately combined.

1…洗浄ノズル、1a,1g,1i,1k,1n,1o,1p…外筒、1b…内筒、1e,1h,1m…スリット、1j…開口、1f…内内筒、1q…パイプ、2…保持部、3…ガイド部、4…ベース部、4a…ガイド溝、11a,11b…試料容器、12a,12b…サンプラ、13…ラック、14…アーム、15…サンプルプローブ、16…ポンプ、17…洗浄ユニット、18…流路形成ユニット、19…ポンプ、21…試薬ボトル、22a,22b…試薬ラック、23a,23b,24a,24b…アーム、25a,25b,26a,26b…脚部、27a,27b,28a,28b…試薬プローブ、31…反応容器、32…ディスク、33a,33b…撹拌ユニット、34…測光ユニット、35…洗浄ユニット、100…自動分析装置、110…測定部、111…サンプル部、112…試薬部、113…反応部、120…分析制御部、121…機構部、122…機構制御部、130…分析データ処理部、131…演算部、132…記憶部、140…出力部、141…印刷部、142…表示部、143…オンライン部、150…操作部、160…システム制御部。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Cleaning nozzle, 1a, 1g, 1i, 1k, 1n, 1o, 1p ... Outer cylinder, 1b ... Inner cylinder, 1e, 1h, 1m ... Slit, 1j ... Opening, 1f ... Inner cylinder, 1q ... Pipe, 2 ... holding part, 3 ... guide part, 4 ... base part, 4a ... guide groove, 11a, 11b ... sample container, 12a, 12b ... sampler, 13 ... rack, 14 ... arm, 15 ... sample probe, 16 ... pump, 17 ... Cleaning unit, 18 ... Flow path forming unit, 19 ... Pump, 21 ... Reagent bottle, 22a, 22b ... Reagent rack, 23a, 23b, 24a, 24b ... Arm, 25a, 25b, 26a, 26b ... Leg, 27a, 27b, 28a, 28b ... reagent probe, 31 ... reaction vessel, 32 ... disc, 33a, 33b ... stirring unit, 34 ... photometric unit, 35 ... washing unit, 100 ... automatic analyzer 110 ... Measurement unit 111 ... Sample unit 112 ... Reagent unit 113 ... Reaction unit 120 ... Analysis control unit 121 ... Mechanism unit 122 ... Mechanism control unit 130 ... Analysis data processing unit 131 ... Calculation unit 132 ... storage unit, 140 ... output unit, 141 ... printing unit, 142 ... display unit, 143 ... online unit, 150 ... operation unit, 160 ... system control unit.

Claims (3)

被検試料と試薬との反応液を収容するための内部空間を有した反応容器と、
前記反応容器における前記被検試料と前記試薬との反応の度合いを測定する測定ユニットと、
前記測定ユニットによる測定が終了したのちの前記反応容器を、その内壁のうちの洗浄対象領域に対して洗浄液を直接的に噴射することによって洗浄する洗浄ユニットとを具備し、
前記洗浄ユニットは、
第1の方向に沿って延びる第1の内部空間を有した外筒、前記第1の方向に沿って延びる第2の内部空間を有するとともに前記第1の内部空間に配置された内筒、ならびに前記第1の方向に沿って延びる第3の内部空間とこの第3の内部空間に連通した吸引口とを有するとともに前記第2の内部空間に配置された内内筒を含み、前記外筒と前記内筒との間に前記洗浄液の供給流路を形成し、前記外筒の端部と前記内筒の端部との間に前記第1の方向に交差する第2の方向に向いたスリットを形成するノズルと、
前記外筒および前記内筒と前記内内筒とをそれぞ個別に前記第1の方向に移動させる移動機構と、
第1のステップとして、前記吸引口から前記反応液および前記洗浄液を吸引可能な状態とした上で、少なくとも前記内内筒を前記内部空間へと挿入するように前記移動機構により移動させ、第2のステップとして、前記内内筒の先端が前記内部空間の第1の所定位置に到達したことに応じて前記移動機構による少なくとも前記内内筒の移動を停止させ、第3のステップとして、前記吸引口から前記反応液および前記洗浄液を吸引可能な状態、かつ前記供給流路に前記洗浄液を供給する状態とした上で、前記内内筒は静止させたままで前記外筒および前記内筒を前記内部空間へと挿入する方向または前記内部空間から引き抜く方向に前記移動機構により移動させ、第4のステップとして、前記外筒および前記内筒の先端が第2の所定位置に到達したことに応じて前記供給流路への前記洗浄液の供給を停止させた上で、前記外筒、前記内筒および前記内内筒を前記内部空間から引き抜く方向に前記移動機構により移動させる制御部とを具備したことを特徴とする自動分析装置。
A reaction container having an internal space for containing a reaction solution of a test sample and a reagent;
A measurement unit for measuring the degree of reaction between the test sample and the reagent in the reaction container;
A cleaning unit for cleaning the reaction container after the measurement by the measurement unit is completed by directly spraying a cleaning liquid onto a region to be cleaned of the inner wall;
The washing unit is
An outer cylinder having a first inner space extending along the first direction, an inner cylinder having a second inner space extending along the first direction and disposed in the first inner space; and An inner cylinder having a third inner space extending along the first direction and a suction port communicating with the third inner space and disposed in the second inner space; A slit that faces the second direction intersecting the first direction between the end portion of the outer cylinder and the end portion of the inner cylinder, forming a supply channel for the cleaning liquid between the inner cylinder and the inner cylinder Forming a nozzle, and
A moving mechanism for individually moving the outer cylinder, the inner cylinder, and the inner inner cylinder in the first direction;
As a first step, the reaction liquid and the cleaning liquid can be sucked from the suction port, and at least the inner inner cylinder is moved by the moving mechanism so as to be inserted into the inner space. As a third step, at least the movement of the inner inner cylinder by the moving mechanism is stopped in response to the tip of the inner inner cylinder reaching the first predetermined position of the inner space, and as the third step, the suction is performed. The reaction liquid and the cleaning liquid can be sucked from the mouth, and the cleaning liquid is supplied to the supply flow path, and the outer and inner cylinders are kept in the inner cylinder while the inner and inner cylinders are kept stationary. As a fourth step, the distal ends of the outer cylinder and the inner cylinder reach a second predetermined position by being moved by the moving mechanism in the direction of insertion into the space or the direction of extraction from the inner space. And a controller that moves the outer cylinder, the inner cylinder, and the inner inner cylinder by the moving mechanism in a direction in which the outer cylinder, the inner cylinder, and the inner inner cylinder are pulled out from the inner space after stopping the supply of the cleaning liquid to the supply flow path. An automatic analyzer characterized by comprising:
前記制御部は、前記第1のステップにて前記外筒および前記内筒を前記内内筒とともに前記移動機構により移動させ、前記第3のステップにて前記外筒および前記内筒を前記内部空間から引き抜く方向に前記移動機構により移動させることを特徴とする請求項1に記載の自動分析装置。   The control unit moves the outer cylinder and the inner cylinder together with the inner inner cylinder by the moving mechanism in the first step, and moves the outer cylinder and the inner cylinder in the inner space in the third step. The automatic analyzer according to claim 1, wherein the automatic analyzer is moved by the moving mechanism in a direction in which the automatic analyzer is pulled out. 前記制御部は、前記第1のステップにて前記内内筒のみを前記移動機構により移動させ、前記第3のステップにて前記外筒および前記内筒を前記内部空間に挿入する方向に前記移動機構により移動させることを特徴とする請求項1に記載の自動分析装置。   The control unit moves only the inner and inner cylinders by the moving mechanism in the first step, and moves the outer cylinder and the inner cylinder in the direction of inserting the inner cylinder into the inner space in the third step. The automatic analyzer according to claim 1, wherein the automatic analyzer is moved by a mechanism.
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