JP2013044821A - Image forming apparatus and process cartridge - Google Patents

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JP2013044821A JP2011181016A JP2011181016A JP2013044821A JP 2013044821 A JP2013044821 A JP 2013044821A JP 2011181016 A JP2011181016 A JP 2011181016A JP 2011181016 A JP2011181016 A JP 2011181016A JP 2013044821 A JP2013044821 A JP 2013044821A
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Inventor
Jiro Korenaga
次郎 是永
Katsumi Nukada
克己 額田
Wataru Yamada
渉 山田
Yuko Iwadate
侑子 岩舘
Tomoya Sasaki
知也 佐々木
Kenji Kajiwara
賢志 梶原
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Fuji Xerox Co Ltd
富士ゼロックス株式会社
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PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an image forming apparatus capable of obtaining an image in which occurrence of a black spotty image defect is suppressed over a long period of time.SOLUTION: An image forming apparatus includes: a photoreceptor which includes a surface layer including a polymer of a compound of general formula (II) or a compound having a similar structure and having the film thickness of 5 μm or more and 20 μm or less and in which relation among a surface layer film thickness d, a surface potential P after electricity removal, and a surface potential Pafter electricity removal when the surface layer film thickness d is 0 satisfies (P-P)/d≤1.20; and a development device which develops with a toner whose SF1 is 140 or more and 170 or less. However, in the general formula (II), F represents a charge transporting skeleton, L' represents a linking group of a specified structure, m' represents an integer of 1 or more and 6 or less, and n represents an integer of 2 or more and 3 or less.

Description

本発明は、画像形成装置、及びプロセスカートリッジに関する。 The present invention relates to an image forming apparatus, and a process cartridge.

電子写真方式の画像形成装置は、一般的には、次の如き構成及びプロセスを有するものである。 An electrophotographic image forming apparatus, in general, those having the following such configuration and process.
即ち、電子写真感光体表面を帯電手段で所定の極性及び電位に帯電させ、帯電後の電子写真感光体表面を、像露光により選択的に除電することにより静電潜像を形成させた後、現像手段で該静電潜像にトナーを付着させることにより、潜像をトナー像として現像し、トナー像を転写手段で被転写媒体に転写させることにより、画像形成物として排出させるといったものである。 That, is charged to a predetermined polarity and potential The electrophotographic photosensitive member surface by the charging means, after the surface of the electrophotographic photoreceptor after the charging to form a latent image by selectively discharged by image exposure, by adhering toner to the electrostatic latent image by developing means to develop the latent image as a toner image, by transferring to a transfer medium by a transfer means the toner image is things like is discharged as an image-formed product .

近年、電子写真感光体は、高速かつ高印字品質が得られるという利点を有することから、複写機及びレーザービームプリンター等の分野においての利用が多くなってきている。 Recently, the electrophotographic photosensitive member, because it has the advantage of high speed and high printing quality can be obtained, usage has become many in the field, such as a copying machine and laser beam printer.
これら画像形成装置において用いられる電子写真感光体としては、従来からのセレン、セレンーテルル合金、セレンーヒ素合金、硫化カドミウム等無機光導電材料を用いた電子写真感光体(無機感光体)が知られており、近年では、安価で製造性及び廃棄性の点で優れた利点を有する有機光導電材料を用いた有機感光体(有機感光体)が主流を占めるようになってきている。 The electrophotographic photosensitive member used in these image forming apparatuses, selenium conventionally Serenteruru alloy, Serenhi boron alloy, it is known electrophotographic photoreceptors using cadmium sulfide inorganic photoconductive material (inorganic photoconductor) in recent years, organic photoreceptors using organic photoconductive materials having advantages in terms of manufacturability and disposability inexpensive (organic photoconductor) is becoming to mainstream.

一方、帯電方式としては、従来はコロナ放電器を使用したコロナ帯電方式が用いられてきた。 Meanwhile, as the charging method, the conventional corona charging method using the corona discharger has been used. また、近年は、低オゾン及び低電力などの利点を有する接触帯電方式が実用化され、盛んに用いられるようになってきている。 In recent years, a contact charging method having advantages such as low ozone and low power is practical, have come to be extensively used. この接触帯電方式は、帯電用部材として導電性部材を感光体表面に接触、又は近接させ、該帯電部材に電圧を印加することにより、感光体表面を帯電させるものである。 The contact charging method, contact the conductive member to the photosensitive member surface as a charging member, or in close proximity, by applying a voltage to the charging member, is intended for charging the photosensitive member surface. また、帯電部材に印加する方式としては、直流電圧のみを印加する直流方式と、直流電圧に交流電圧を重畳して印加する交流重畳方式とがある。 As the method to be applied to the charging member, there are a direct current method of applying only a DC voltage, an AC superposition method applied by superimposing an AC voltage on a DC voltage. この接触帯電方式では、装置の小型化が図れ、かつ、オゾンなどのガスの発生が少ないという利点を有する。 In this contact charging method, downsizing of the apparatus, and has the advantage of generating only a small amount of a gas such as ozone.
更に、転写方式としては、直接紙に転写する方式が主流であったが、転写される紙の自由度が広がることから、近年では中間転写体を用いて転写する方式が盛んに用いられている。 Further, as the transfer method, but method of transferring directly to paper has been mainly, because the flexibility of the paper to be transferred is widened, a method of transferring by using an intermediate transfer member is used extensively in recent years .

一方で、電子写真感光体の表面に保護層を設けて強度を向上させることが提案されている。 Meanwhile, it has been proposed to improve the strength by providing a protective layer on the surface of the electrophotographic photosensitive member.
保護層を形成する材料系としては、以下のものが提案されている。 The material system that forms a protective layer, have been proposed as follows.
即ち、例えば、特許文献1には、導電粉をフェノール樹脂に分散したものが、特許文献2には、有機−無機ハイブリッド材料によるものが、特許文献3には、アルコール可溶性電荷輸送材料とフェノール樹脂によるものが、それぞれ開示されている。 Thus, for example, Patent Document 1, the conductive powder which is dispersed in a phenol resin, Patent Document 2, organic - due inorganic hybrid materials, Patent Document 3, an alcohol-soluble charge transporting material and a phenol resin by is disclosed, respectively.
また、特許文献4には、アルキルエーテル化ベンゾグアナミン・ホルムアルデヒド樹脂と、電子受容性カルボン酸、或いは、電子受容性ポリカルボン酸無水物の硬化膜が、特許文献5には、ベンゾグアナミン樹脂に、ヨウ素、有機スルホン酸化合物、或いは、塩化第二鉄などをドーピングした硬化膜が、特許文献6には、特定の添加剤と、フェノール樹脂、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、シロキサン樹脂、或いはウレタン樹脂との硬化膜が、保護層として開示されている。 Further, Patent Document 4, an alkyl etherified benzoguanamine-formaldehyde resin, an electron-accepting carboxylic acid or a cured film of the electron-accepting polycarboxylic anhydride, JP 5, the benzoguanamine resin, iodine, organic sulfonic acid compound, or ferric such cured film doped with chloride, Patent Document 6, and specific additives, phenolic resins, melamine resins, benzoguanamine resins, siloxane resins, or cured film of a urethane resin There is disclosed as a protective layer.

また、近年ではアクリル系材料による保護層が注目されている。 In recent years attention has been paid to the protection layer by an acrylic material. 例えば、特許文献7には、光硬化型アクリル系モノマーを含有する液を硬化した膜が、特許文献8には、炭素−炭素二重結合を有するモノマー、炭素−炭素二重結合を有する電荷移動材、及びバインダー樹脂の混合物を、熱或いは光のエネルギーによって前記モノマーの炭素−炭素二重結合と前記電荷移動材の炭素−炭素二重結合とを反応させることにより形成された膜が、特許文献9、10には、同一分子内に二つ以上の連鎖重合性官能基を有する正孔輸送性化合物を重合した化合物からなる膜が、保護層として開示されている。 For example, Patent Document 7, a film was cured liquid containing a light-curable acrylic monomer is, Patent Document 8, carbon - charge transfer having a carbon-carbon double bond - monomer, carbon having a carbon-carbon double bond wood, and a mixture of a binder resin, carbon of the monomer by the energy of heat or light - carbon carbon double bond and the charge transfer material - film formed by reacting carbon double bond, JP the 9,10, film made of a compound of the hole transporting compound was polymerized with two or more chain polymerizable functional groups in the same molecule is disclosed as a protective layer. また、特許文献11には、スチリル基変性した正孔輸送性化合物を重合した化合物からなる膜を用いた電子写真感光体が開示されてる。 Further, Patent Document 11, and an electrophotographic photoreceptor using the film made of a compound obtained by polymerizing a hole-transporting compound was styryl modified are disclosed.
これら連鎖重合性官能基を有する正孔輸送性化合物は、硬化条件、硬化雰囲気等の影響を強く受けることから、例えば、特許文献12には、真空中、或いは不活性ガス中で放射線照射後に加熱されることによって形成された膜が、特許文献13には、不活性ガス中で加熱硬化された膜が開示されている。 Heating hole-transporting compound having these chain polymerizable functional groups, from undergoing curing conditions, the influence of the curing atmosphere strongly, for example, Patent Document 12, in vacuum, or after irradiation in an inert gas film formed by being is, Patent Document 13, a film was cured by heating in an inert gas is disclosed.
更に、例えば、特許文献8、14には、電荷輸送材料自身をアクリル変性し、架橋可能とすると共に、電荷輸送性を有さない反応性モノマーを添加し、膜強度を向上させることも開示されている。 Furthermore, for example, Patent Document 8 and 14, a charge transporting material itself to acryl-modified, with a cross-linkable by adding a reactive monomer having no charge transport property, also disclosed to improve the film strength ing.

更に、反応物、硬化膜による保護層としては以下のようなものも提案されている。 Furthermore, the reaction product has also been proposed as follows as a protective layer by the cured film.
例えば、特許文献15には、電荷輸送材料自身を3官能以上の多官能に変性し、これを重合した化合物を含有する保護層が開示されている。 For example, Patent Document 15, to denature the charge transporting material itself to trifunctional or higher polyfunctional, protective layer is disclosed which contains a compound which was polymerized. また、特許文献16には、連鎖重合性官能基を有する電荷輸送物質の重合物を保護層に使用する技術が開示されており、また、摩擦特性を向上させるために、潤滑剤としてフッ素原子含有化合物を保護層中に含有する技術が開示されている。 Further, Patent Document 16, the polymer of the charge transporting material having a chain polymerizable functional group and technology to be used is disclosed in the protective layer, in order to improve frictional characteristics, a fluorine atom-containing as a lubricant technology containing compound in the protective layer is disclosed. 加えて、特許文献17には、連鎖重合性官能基を有する電荷輸送物質の濃度を最表面から内部に向かって傾斜を持たせることで、機械特性と電気特性を両立できることが開示されている。 In addition, Patent Document 17, the concentration of the charge transporting material having a chain polymerizable functional group can be performed by providing inclined toward the inside from the outermost surface, it is disclosed that can achieve both mechanical and electrical properties.

特許第3287678号公報 Patent No. 3287678 Publication 特2000−019749号公報 Japanese Patent Publication No. 2000-019749 特開2002−82469号公報 JP 2002-82469 JP 特開昭62−251757号公報 JP-A-62-251757 JP 特開平7−146564号公報 JP-7-146564 discloses 特開平2006−84711号公報 JP 2006-84711 JP 特開平5−40360号公報 JP 5-40360 discloses 特開平5−216249号公報 JP-5-216249 discloses 特開2000−206715号公報 JP 2000-206715 JP 特開2001−166509号公報 JP 2001-166509 JP 特許第2852464号公報 Patent No. 2852464 Publication 特開2004−12986号公報 JP 2004-12986 JP 特開平7−72640号公報 JP 7-72640 discloses 特開2004−302450号公報 JP 2004-302450 JP 特開2000−206717号公報 JP 2000-206717 JP 特開2001−175016号公報 JP 2001-175016 JP 特開2007−86522号公報 JP 2007-86522 JP

本発明の課題は、長期に亘り、黒点状の画像欠陥を抑制した画像が得られる画像形成装置を提供することである。 An object of the present invention, for a long time, is to provide an image forming apparatus in which the image that suppresses black dot image defects are obtained.

上記課題は、以下の本発明によって達成される。 The above object is achieved by the following present invention. 即ち、 In other words,
請求項1に係る発明は、 The invention according to claim 1,
最表面層として、下記一般式(I)及び(II)で表される反応性化合物から選択される少なくとも1種の反応性化合物の重合体を含んで構成され、膜厚が5μm以上20μm以下の層を有し、且つ、表面を帯電後、光照射により除電させた場合において、前記最表面層の膜厚d[μm]と、除電後の表面電位P[V]と、前記最表面層の膜厚dを0としたときの除電後の表面電位P [V]と、の関係が下記式(1)を満たす電子写真感光体と、 As the outermost layer, is configured to include a polymer of at least one reactive compound selected from the reactive compound represented by the following general formula (I) and (II), the film thickness is less 20μm or 5μm a layer, and, after charging the surface, in the case where is discharged by light irradiation, the film thickness d [[mu] m] of the outermost surface layer, the surface potential P [V] after neutralization, of the outermost layer an electrophotographic photosensitive member and the film thickness d surface potential P 0 after neutralization when formed into a 0 [V], the relationship satisfies the following formula (1),
前記電子写真感光体の表面を帯電させる帯電装置と、 A charging device for charging the surface of the electrophotographic photoconductor,
帯電された前記電子写真感光体の表面を露光して該表面に静電潜像を形成する露光装置と、 An exposure device for forming an electrostatic latent image on the surface of the charged the surface of the electrophotographic photosensitive member is exposed,
平均形状係数SF1が140以上170以下のトナーを含む現像剤を収容し、前記静電潜像を前記現像剤で現像してトナー像を形成する現像装置と、 A developing unit which average shape factor SF1 of accommodating a developer containing the toner of more than 140 170 or less, to develop the electrostatic latent image with the developer to form a toner image,
前記トナー像を被転写媒体に転写する転写装置と、 A transfer device that transfers the toner image to a transfer medium,
前記トナー像の転写後、前記電子写真感光体の表面に接触して該表面をクリーニングするクリーニングブレードを有するクリーニング装置と、 After transfer of the toner image, a cleaning device having a cleaning blade for cleaning the surface in contact with the surface of the electrophotographic photoconductor,
前記トナー像の転写後、前記電子写真感光体の表面に光照射して該表面を除電させる除電装置と、 After transfer of the toner image, a discharging device which discharges the surface irradiated with light on the surface of the electrophotographic photoreceptor,
を備える画像形成装置。 An image forming apparatus including a.
・式(1): (P−P )/d ≦1.20 - formula (1): (P-P 0) / d 2 ≦ 1.20



(一般式(I)中、Fは、電荷輸送性骨格を示す。Lは、アルキレン基、−C(=O)−、−N(R)−、−S−、及び−O−からなる群より選択される2種以上を組み合わせてなる2価の連結基を示す。Rは、水素原子、アルキル基、アリール基、又はアラルキル基を示す。mは、1以上6以下の整数を示す。) (In formula (I), F is .L showing a charge transporting skeleton is an alkylene group, -C (= O) -, - N (R) -, - S-, and the group consisting of -O- .R showing a divalent linking group formed by combining two or more kinds are more selected, a hydrogen atom, an alkyl group, .m to an aryl group, or an aralkyl group, represents an integer of 1 to 6.)



(一般式(II)中、Fは、電荷輸送性骨格を示す。L'は、アルキレン基、−C(=O)−、−N(R)−、−S−、及び−O−からなる群より選択される2種以上を組み合わせてなる(n+1)価の連結基を示す。Rは、水素原子、アルキル基、アリール基、又はアラルキル基を示す。m'は、1以上6以下の整数を示す。nは、2以上3以下の整数を示す。) (In the general formula (II), F is .L showing a charge transporting skeleton 'is an alkylene group, -C (= O) -, - N (R) -, - S-, and consisting -O- comprising a combination of two or more selected from the group shows the (n + 1) -valent linking group .R is a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or .m 'is showing an aralkyl group, 1 to 6 integer shown .n represents an integer of 2 to 3.)

請求項2に係る発明は、 The invention according to claim 2,
前記一般式(I)で表される反応性化合物が、下記一般式(III)で表され、且つ下記一般式(III)中のDが下記一般式(IV)で表される基を示す反応性化合物であり、 Reactive compound represented by the general formula (I) is represented by the following general formula (III), and the following general formula (III) in the D reaction of a group represented by the following general formula (IV) is a sex compound,
前記一般式(II)で表される反応性化合物が、下記一般式(III)で表され、且つ下記一般式(III)中のDが下記一般式(V)で表される基を示す反応性化合物である請求項1に記載の画像形成装置。 Reactive compound represented by the general formula (II) is represented by the following general formula (III), and the following general formula (III) in the D reaction of a group represented by the following general formula (V) the image forming apparatus according to claim 1, which is a sex compound.



(一般式(III)中、Ar 〜Ar は、それぞれ独立に、置換若しくは未置換のアリール基を示す。Ar は、置換若しくは未置換のアリール基、又は置換若しくは未置換のアリーレン基を示す。c1〜c5は、それぞれ独立に、0以上2以下の整数を示す。但し、全てのc1〜c5は、同時に0を示すことはない。kは、0又は1の整数を示す。) (In the general formula (III), Ar 1 ~Ar 4 each independently is .Ar 5 showing a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted aryl group, or a substituted or unsubstituted arylene group the .c1~c5 shown, each independently, represent an integer of 0 to 2 or less. However, all of c1~c5, the .k never represents 0 simultaneously, an integer of 0 or 1.)



(一般式(IV)中、Lは、アルキレン基、−C(=O)−、−N(R)−、−S−、及び−O−からなる群より選択される2種以上を組み合わせてなる2価の連結基を示す。Rは、水素原子、アルキル基、アリール基、又はアラルキル基を示す。) (In the general formula (IV), L represents an alkylene group, -C (= O) -, - N (R) -, - S-, and a combination of two or more selected from the group consisting of -O- .R showing a divalent linking group formed is a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or aralkyl group.)



(一般式(V)中、L'は、アルキレン基、−C(=O)−、−N(R)−、−S−、及び−O−からなる群より選択される2種以上を組み合わせてなる(n+1)価の連結基を示す。Rは、水素原子、アルキル基、アリール基、又はアラルキル基を示す。nは、2以上3以下の整数を示す。) (In the general formula (V), L 'represents an alkylene group, -C (= O) -, - N (R) -, - S-, and combinations of two or more selected from the group consisting of -O- comprising Te shows the (n + 1) -valent linking group .R is a hydrogen atom, an alkyl group, .n of an aryl group, or an aralkyl group, an integer of 2 to 3.)

請求項3に係る発明は 前記一般式(IV)で表される基が、下記一般式(VI)、又は下記一般式(VII)で表される基を示す請求項2に記載の画像形成装置。 The invention according to claim 3 is a group represented by formula (IV), the following general formula (VI), or an image forming apparatus according to claim 2, a group represented by the following general formula (VII) .



(一般式(VI)及び(VII)中、X、及びX'は、2価の有機基を示す。p、及びp'は、0又は1の整数を示す。) (In the general formula (VI) and (VII), X, and X ', .p represents a divalent organic group, and p' represents an integer of 0 or 1.)

請求項4に係る発明は 前記一般式(V)で表される基は、下記一般式(VIII)、又は下記一般式(IX)で表される基を示す請求項2又は3に記載の画像形成装置。 Group invention according to claim 4 represented by the general formula (V), an image according to claim 2 or 3 represents a group represented by the following general formula (VIII), or the following general formula (IX) forming apparatus.



(一般式(VIII)及び(IX)中、Y、及びY'は、2価の有機基を示す。q、及びq'は、0、又は1の整数を示す。) (In the general formula (VIII) and (IX), Y, and Y ', .q represents a divalent organic group, and q' is 0, or an 1 an integer.)

請求項5に係る発明は 最表面層として、下記一般式(I)及び(II)で表される反応性化合物から選択される少なくとも1種の反応性化合物の重合体を含んで構成され、膜厚が5μm以上20μm以下の層を有し、且つ、表面を帯電後、光照射により除電させた場合において、前記最表面層の膜厚d[μm]と、除電後の表面電位P[V]と、前記最表面層の膜厚dを0としたときの除電後の表面電位P [V]と、の関係が下記式(1)を満たす電子写真感光体と、 The invention according to claim 5 as an outermost surface layer, is configured to include a polymer of at least one reactive compound selected from the reactive compound represented by the following general formula (I) and (II), film the thickness has a 20μm following layers above 5 [mu] m, and, after charging the surface, in the case where is discharged by light irradiation, the film thickness d [[mu] m] of the outermost surface layer, the surface potential P after neutralization [V] when the surface potential P 0 [V] after neutralization when the zero film thickness d of the outermost surface layer, an electrophotographic photosensitive member satisfying the following formula (1) relationship,
平均形状係数SF1が140以上170以下のトナーを含む現像剤を収容し、静電潜像を前記現像剤で現像してトナー像を形成する現像装置と、 A developing unit which average shape factor SF1 of accommodating a developer containing the toner of more than 140 170 or less, by developing the electrostatic latent image with the developer to form a toner image,
前記トナー像の転写後、前記電子写真感光体の表面に接触して該表面をクリーニングするクリーニングブレードを有するクリーニング装置と、 After transfer of the toner image, a cleaning device having a cleaning blade for cleaning the surface in contact with the surface of the electrophotographic photoconductor,
前記トナー像の転写後、前記電子写真感光体の表面に光照射して該表面を除電させる除電装置と、 After transfer of the toner image, a discharging device which discharges the surface irradiated with light on the surface of the electrophotographic photoreceptor,
を備え 画像形成装置に着脱し得るプロセスカートリッジ。 Process cartridge can detachably to the image forming apparatus includes a.
・式(1): (P−P )/d ≦1.20 - formula (1): (P-P 0) / d 2 ≦ 1.20



(一般式(I)中、Fは、電荷輸送性骨格を示す。Lは、アルキレン基、−C(=O)−、−N(R)−、−S−、及び−O−からなる群より選択される2種以上を組み合わせてなる2価の連結基を示す。Rは、水素原子、アルキル基、アリール基、又はアラルキル基を示す。mは、1以上6以下の整数を示す。) (In formula (I), F is .L showing a charge transporting skeleton is an alkylene group, -C (= O) -, - N (R) -, - S-, and the group consisting of -O- .R showing a divalent linking group formed by combining two or more kinds are more selected, a hydrogen atom, an alkyl group, .m to an aryl group, or an aralkyl group, represents an integer of 1 to 6.)



(一般式(II)中、Fは、電荷輸送性骨格を示す。L'は、アルキレン基、−C(=O)−、−N(R)−、−S−、及び−O−からなる群より選択される2種以上を組み合わせてなる(n+1)価の連結基を示す。Rは、水素原子、アルキル基、アリール基、又はアラルキル基を示す。m'は、1以上6以下の整数を示す。nは、2以上3以下の整数を示す。) (In the general formula (II), F is .L showing a charge transporting skeleton 'is an alkylene group, -C (= O) -, - N (R) -, - S-, and consisting -O- comprising a combination of two or more selected from the group shows the (n + 1) -valent linking group .R is a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or .m 'is showing an aralkyl group, 1 to 6 integer shown .n represents an integer of 2 to 3.)

請求項1、2、3、4に係る発明によれば、最表面層として、下記一般式(I)及び(II)で表される反応性化合物から選択される少なくとも1種の反応性化合物の重合体を含んで構成され、膜厚が5μm以上20μm以下の層を有し、且つ、表面を帯電後、光照射により除電させた場合において、前記最表面層の膜厚d[μm]と、除電後の表面電位P[V]と、前記最表面層の膜厚dを0としたときの除電後の表面電位P [V]と、の関係が下記式(1)を満たす電子写真感光体と、平均形状係数SF1が140以上170以下のトナーを含む現像剤を収容し、前記静電潜像を前記現像剤で現像してトナー像を形成する現像装置と、を組み合わせない場合に比べ、長期に亘り、黒点状の画像欠陥を抑制した画像が得られる画像形成装置を提供でき According to the invention of claim 1, 2, 3, 4, as the outermost layer, at least one reactive compound selected from the reactive compound represented by the following general formula (I) and (II) is configured to include a polymer, the film thickness has a 20μm following layers above 5 [mu] m, and, after charging the surface, in the case where is discharged by light irradiation, the film thickness d [[mu] m] of the outermost layer, the surface potential P [V] after neutralization, the electrophotographic photosensitive that the surface potential P 0 [V] after neutralization when the zero film thickness d of the outermost surface layer, the relationship satisfies the following formula (1) and body average shape factor SF1 of accommodating a developer containing the toner of more than 140 170 or less, compared with the case where no combining, a developing unit for forming a toner image by developing the electrostatic latent image with the developer , for a long time, it can provide an image forming apparatus in which the image that suppresses black dot image defects are obtained .

請求項5に係る発明によれば、最表面層として、下記一般式(I)及び(II)で表される反応性化合物から選択される少なくとも1種の反応性化合物の重合体を含んで構成され、膜厚が5μm以上20μm以下の層を有し、且つ、表面を帯電後、光照射により除電させた場合において、前記最表面層の膜厚d[μm]と、除電後の表面電位P[V]と、前記最表面層の膜厚dを0としたときの除電後の表面電位P [V]と、の関係が下記式(1)を満たす電子写真感光体と、平均形状係数SF1が140以上170以下のトナーを含む現像剤を収容し、前記静電潜像を前記現像剤で現像してトナー像を形成する現像装置と、を組み合わせない場合に比べ、長期に亘り、黒点状の画像欠陥を抑制した画像が得られるプロセスカートリッジを提供できる。 According to the invention of claim 5, configured as the outermost layer, contains a polymer of at least one reactive compound selected from the reactive compound represented by the following general formula (I) and (II) is, the film thickness has a 20μm following layers above 5 [mu] m, and, after charging the surface, in the case where is discharged by light irradiation, the film thickness d [[mu] m] of the outermost surface layer, the surface potential P after neutralization and [V], wherein the surface potential P 0 [V] after neutralization when the zero film thickness d of the outermost surface layer, an electrophotographic photosensitive member satisfying the following formula (1) relationship, the average shape factor SF1 is containing a developer containing a toner 140 to 170 or less, compared with the case where no combining, a developing unit for forming a toner image by developing the electrostatic latent image with the developer for a long period, black spots images that suppresses Jo image defects can be provided a process cartridge is obtained.

本実施形態に係る電子写真感光体の層構成の一例を示す概略断面図。 Schematic cross-sectional view showing an example of a layer configuration of an electrophotographic photosensitive member according to the present embodiment. 本実施形態に係る電子写真感光体の層構成の他の一例を示す概略部分断面図。 Schematic partial cross-sectional view showing another example of a layer configuration of an electrophotographic photosensitive member according to the present embodiment. 本実施形態に係る電子写真感光体の層構成の他の一例を示す概略部分断面図。 Schematic partial cross-sectional view showing another example of a layer configuration of an electrophotographic photosensitive member according to the present embodiment. 本実施形態に係る画像形成装置の一例を示す概略構成図。 Schematic structural view showing an example of an image forming apparatus according to the present embodiment. 本実施形態に係る画像形成装置の他の一例を示す概略構成図。 Schematic diagram showing another example of an image forming apparatus according to the present embodiment. 露光ヘッドの一例を示す概略構成図 Schematic structural view showing an example of the exposure head 露光ヘッドにより電子写真感光体に露光を施している状態を示す模式図。 Schematic view showing a state that performs exposure on the electrophotographic photosensitive member by the exposure head.

以下、本発明の一例である実施形態について詳細に説明する。 Hereinafter, embodiments as an example of the present invention will be described in detail.

本実施形態に係る画像形成装置は、電子写真感光体と、電子写真感光体の表面を帯電させる帯電装置と、帯電された電子写真感光体の表面を露光して該表面に静電潜像を形成する露光装置と、静電潜像を現像剤で現像してトナー像を形成する現像装置と、トナー像を被転写媒体に転写する転写装置と、トナー像の転写後、電子写真感光体の表面に接触して該表面をクリーニングするクリーニングブレードを有するクリーニング装置と、トナー像の転写後、電子写真感光体の表面に光照射して該表面を除電させる除電装置と、を備える。 The image forming apparatus according to this embodiment, the electrophotographic photosensitive member, a charging device for charging the surface of the electrophotographic photosensitive member, the charged surface of the electrophotographic photoreceptor by exposing the electrostatic latent image on the surface an exposure device for forming, a developing device for forming a toner image by developing the electrostatic latent image with a developer, a transfer device for transferring the toner image to a transfer medium, after the transfer of the toner image, the electrophotographic photosensitive member comprising a cleaning device having a cleaning blade for cleaning the surface in contact with the surface, after the transfer of the toner image, a discharging device which discharges the surface irradiated with light on the surface of the electrophotographic photosensitive member, a.
そして、電子写真感光体として、下記一般式(I)及び(II)で表される反応性化合物から選択される少なくとも1種の反応性化合物の重合体を含んで構成され、膜厚が5μm以上20μm以下の最表面層を有し、且つ、表面を帯電後、光照射により除電させた場合において、前記最表面層の膜厚d[μm]と、除電後の表面電位P[V]と、前記最表面層の膜厚dを0としたときの除電後の表面電位P [V]と、の関係が下記式(1)を満たす電子写真感光体(以下、特定の電子写真感光体と称することがある)を適用する。 Then, the electrophotographic photosensitive member, is configured to include a polymer of at least one reactive compound selected from the reactive compound represented by the following general formula (I) and (II), the film thickness is more than 5μm have the following outermost layer 20 [mu] m, and, after charging the surface, in the case where is discharged by light irradiation, the film thickness d [[mu] m] of the outermost surface layer, the surface potential P [V] after neutralization, wherein the surface potential P 0 [V] after neutralization when the zero film thickness d of the outermost surface layer, the relationship electrophotographic photoreceptor satisfies the following formula (1) (hereinafter, a specific electrophotographic photosensitive member It referred it is) to apply.
また、現像装置として、平均形状係数SF1が140以上170以下のトナーを含む現像剤を収容し、静電潜像を前記現像剤で現像してトナー像を形成する現像装置を適用する。 Further, as a developing device accommodates developer average shape factor SF1 includes a toner of 140 to 170 or less, by developing the electrostatic latent image with the developer applying a developing device for forming a toner image.

なお、本実施形態に係る画像形成装置は、各色のトナーに対応した電子写真感光体を複数有するいわゆるタンデム機であってもよく、この場合、全ての電子写真感光体が本実施形態の電子写真感光体であることが望ましい。 The image forming apparatus according to the present embodiment may be a so-called tandem machine having a plurality of electrophotographic photosensitive members corresponding to respective colors of toner, in this case, all of the electrophotographic photosensitive member electrophotography of the present embodiment it is desirable that the photoreceptor. また、トナー像の転写は、中間転写体を利用した中間転写方式であってもよい。 The transfer of the toner image may be an intermediate transfer method using an intermediate transfer member.

ここで、電子写真感光体の摩耗耐性を向上させより長寿命化を図るため、硬化型(架橋型)の最表面層を設けることが知られているものの、硬化型(架橋型)の最表面層は、非硬化型(非架橋型)の最表面層と比較し電気特性が著しく悪化し、使用初期にBCO(Bead Carry Over;キャリアの一部が静電吸引力によって電子写真感光体表面に転移してしまう現象)といった黒点状の画像欠陥が発生し易く、そのため厚膜化ができず、その高摩耗耐性による電子写真感光体の長寿命化に限界があるのが現状である。 Since the increase the life of more improving the wear resistance of the electrophotographic photosensitive member, although it is known to provide a top surface layer of the curable (cross-linked), the outermost surface of the curable (crosslinkable) layers, compared to electrical characteristics as the outermost surface layer is remarkably deteriorated uncured (non-crosslinked), used BCO initially (Bead Carry Over; the electrophotographic photosensitive member surface portion of the carrier by electrostatic attraction easy transition to become phenomenon) such black dot image defects occur, therefore can not thickened, at present, there is a limit to the life of the electrophotographic photosensitive member due to the high abrasion resistance.
一方、平均形状係数SF1が140以上170以下とった球状ではなく歪な異形状のトナー(以下、異形トナーと称することがある)を使用した場合、これよりも真球に近いトナーを使用した場合と比較し、電子写真感光体の表面からのクリーニング性が高く、クリーニング不良による画質欠陥の発生が生じ難く、画質特性が維持され易い。 On the other hand, the average shape factor SF1 of 140 or more 170 or less took the distorted irregular shape rather than a spherical toner when using (hereinafter sometimes referred to as irregular toner), when using toner nearly spherical than this compared to a high cleaning property from the surface of the electrophotographic photosensitive member, it is less likely to occur image defects due to cleaning failure tends picture quality is maintained.
しかしながら、異形トナーを用いると、クリーニングブレードによる電子写真感光体の表面の削れ量が増加し、つまり最表面層の摩耗率が上がり、最表面層の磨耗による膜減りによるカブリ(非画像部にトナーが付着する現象)といった黒点状の画像欠陥が発生し、高い画像特性の長期に亘る維持が困難となり易い。 However, toner With irregular toner, increased abrasion of the surface of the electrophotographic photosensitive member by the cleaning blade, i.e. the wear rate of the outermost surface layer is increased, the fog (non-image portion due to reduction in film thickness due to wear of the outermost layer There black dot image defects occur such phenomena) adhering, likely to become difficult to maintain long-term high image characteristics.

これに対して、本実施形態に係る画像形成装置では、上記構成により、長期に亘り、黒点状の画像欠陥を抑制した画像が得られる。 In contrast, in the image forming apparatus according to this embodiment, the above-described configuration, for a long period, the image is obtained with reduced black dot image defects.
この理由は定かではないが、以下に示す理由によるものと推測される。 The reason is not clear, it is presumed to be due to the following reasons.

まず、特定の電子写真感光体は、下記一般式(I)及び下記(II)で表される反応性化合物から選択される少なくとも1種の反応性化合物(以下、「特定の反応基含有電荷輸送材料」と称することがある)の重合体を含む層を最表面層として有することから、最表面層が優れた電気特性と機械的強度を兼ね備え、最表面層の厚膜化(例えば5μm以上)も実現されると考えられる。 First, certain of the electrophotographic photosensitive member, at least one reactive compound selected from the reactive compound represented by the following general formula (I) and the following (II) (hereinafter, "specific reactive group-containing charge transporting a layer containing a polymer may be referred to as material ") since it has as the outermost surface layer, both the electrical characteristics and mechanical strength outermost surface layer is excellent, the thickness of the outermost layer form a film (e.g., more than 5 [mu] m) It believed to also be realized.

特定の電子写真感光体は、特定の反応基含有電荷輸送材料自身が電荷輸送性能に優れる上、−OH、−NH−などのキャリア輸送を妨げる極性基が少なく、また、キャリア輸送に有効なπ電子を有するスチリル基で、重合により当該材料が連結されることから、残留歪が抑制され、電荷を捕獲する構造的なトラップの形成が抑制されると考えられる。 Certain of the electrophotographic photosensitive member, on which a particular reactive group-containing charge transporting material itself is excellent in charge transport performance, -OH, less polar groups to prevent the carrier transporting such -NH-, also effective carrier transport π styryl group having an electron, since the material is connected by the polymerization, the residual strain is suppressed, it is considered to form structural traps for trapping charges is suppressed.
このため、最表面層が優れた電気特性と機械的強度を兼ね備えた上で、最表面層の厚膜化(例えば5μm以上)も実現されると考えられる。 Therefore, after both the electrical and mechanical strength outermost surface layer is excellent, thickened (e.g. 5μm or more) of the outermost surface layer is also believed to be realized.

また、感光層の強度を高める目的で、特定の反応基含有電荷輸送材料に対し更に多官能のアクリルモノマーを混合して成膜する場合、通常の電荷輸送材料では両者の相溶性が低いために上記多官能のアクリルモノマーの添加量を上げるには限界がある。 Further, for the purpose of increasing the strength of the photosensitive layer, when forming a mixture of specific reactive group-containing charge transporting further polyfunctional acrylic monomer to material, due to the low compatibility of both a normal charge transporting material to increase the amount of the acrylic monomer of the polyfunctional is limited. しかし、特定の反応基含有電荷輸送材料が多官能のアクリルモノマーと類似したエステル構造を有する場合、両者が相溶性に優れるために、多官能のアクリルモノマーと相分離を生じることなく重合(架橋)され、電気特性と機械的強度とを兼ね備えた最表面層が得られるものと推察される。 However, if a particular reactive group-containing charge transporting material having a similar ester structure and a polyfunctional acrylic monomer, for both excellent compatibility, the polymerization without causing an acrylic monomer and a phase separation of a multi-functional (crosslinking) It is is presumed that the outermost surface layer having both electrical and mechanical strength can be obtained.

なお、最表面層の厚膜化によって、繰り返し使用後での画質の低下が抑制される。 Depending thickening of the outermost surface layer, deterioration of image quality in after repeated use is suppressed. 高機械的強度の最表面層を有する場合、電子写真感光体の寿命はその最表面層が摩滅した時点で決定されるため、厚膜化の実現は電子写真感光体の長寿命化に有効である。 When having outermost surface layer of high mechanical strength, service life of the electrophotographic photosensitive member for the outermost surface layer is determined at the time of the wear, the realization of a thick film is effective in prolonging the life electrophotographic photoreceptor is there.
さらに、画像を形成する際には電子写真感光体を放電によって帯電させ使用するが、その際に電気的な負荷(ストレス)や、オゾン等の放電ガスによる負荷(ストレス)等により、電子写真感光体の最表面層の材料劣化が起こり結果として放電生成物と呼ばれる硝酸アンモニウムなどのイオン性物質を吸着しやすくなる。 Further, when forming an image using is charged by discharge an electrophotographic photosensitive member, but when the electrical load (stress) and by the load due to the discharge gas such as ozone (stress) such as an electrophotographic photosensitive body material degradation of the outermost surface layer occurs easily adsorb ionic substances such as ammonium nitrate called discharge product as a result of. そのために、特に高湿下(例えば28℃、85%RH環境下)で水分を吸着し、電子写真感光体の表面抵抗が低下し、形成される画像においては静電潜像にじみが生じ、結果として画像流れを生じやすい。 Therefore, especially under high humidity (e.g. 28 ° C., under 85% RH environment) to adsorb moisture, and decreases the surface resistance of the electrophotographic photosensitive member, it caused bleeding electrostatic latent image in an image to be formed, the result likely to cause image flow as. これを抑制するためには、感光体に接触する清掃部材を設けその清掃部材との摩擦によって表面層を適度に磨耗させて、放電生成物を除去し静電潜像にじみを抑制する方法が有効である。 To suppress this, moderately abrading the surface layer by friction with its cleaning member provided cleaning member in contact with the photosensitive member, a method of suppressing bleeding on a latent electrostatic image to remove discharge products enabled it is. なお、この磨耗量は、画像形成における帯電の方式、清掃の方式、用いるトナーの形状などの影響が大きく、画像形成のシステムによって大きく左右されるため、感光体の表面層の強度をそれに合わせて調整し得ることが重要となる。 Note that this wear amount is charged method in image formation method of cleaning a large influence of the toner shape is used, for greatly affected by the system of the image forming, the strength of the surface layer of the photosensitive member accordingly it is important to be adjusted.
これに対し、特定の電子写真感光体の最表面層において、特定の反応基含有電荷輸送材料等の重合成分(架橋成分)の割合や、特定の反応基含有電荷輸送材料等の反応性のモノマーの構造を選択することで、システムに合わせた最適な機械的強度の最表面層を形成し得る。 In contrast, in the outermost surface layer of a specific electrophotographic photoreceptor, and the proportion of polymerizable components, such as specific reactive group-containing charge transporting material (crosslinking component), reactive monomers such as specific reactive group-containing charge transporting material by selecting the structure of, it may form the outermost surface layer of the optimal mechanical strength to match the system.
また、特定の反応基含有電荷輸送材料と共に併称する不飽和結合を有する化合物を、スチリル基以外の官能基を持つ多官能の電荷輸送性材料とすることで、電荷輸送成分の濃度を低下させることなく、最表面層に機械的強度を付与することも実現される。 Further, a compound having an unsaturated bond classifying together with specific reactive group-containing charge transporting material, by polyfunctional charge transport material having a functional group other than a styryl group, to reduce the concentration of charge transport component without is also implemented to impart mechanical strength to the outermost layer. この場合には、最表面層に対して、異なる官能基によりさらに機械的強度などの物性を制御することが実現される。 In this case, with respect to the outermost surface layer, it is possible to further control the properties such as mechanical strength by different functional groups is achieved.

一方、特定の電子写真感光体において、上記式(1)を満たすことは、初期残留電位、および長期使用時における残留電位の低減を意味しており、高残留電位が原因となるBCOを発生させることなく最表面層の厚膜化が可能となる実現される。 On the other hand, in certain of the electrophotographic photosensitive member, it is the initial residual potential, and means a reduction of residual potential in long-term use, to generate a BCO high residual potential cause satisfying the above formula (1) is realized thickening of the outermost layer is possible without. そのため再表面層の摩耗が進んだ状況にあっても、摩耗によるカブリの発生を抑えることが実現されることを意味している。 Even wear has proceeded conditions therefor resurfacing layer, which means that it is possible to suppress the occurrence of fogging due to abrasion is realized.

このため、このような性質を有する特定の電子写真感光体では、使用初期のBCOの発生を抑えて、膜厚5μm以上20μm以下といった最表面層の厚膜化が実現されると考えられる。 Therefore, in certain of the electrophotographic photosensitive member having such a property, suppressing the occurrence of initial use BCO, believed thickening of the outermost layer is realized such thickness 5μm or 20μm or less.
そして、電子写真感光体の最表面層の削れ量を増加させる異形トナーを使用しても、膜厚5μm以上20μm以下といった最表面層の厚膜化が実現されることに加え、最表面層が機械的強度も有する結果、電子写真感光体の最表面層の膜減りを抑えられ、長期間に亘って、当該最表面層の膜減りによるカブリの発生も抑制されると考えられる。 Then, the use of irregular toner to increase the cutting amount of the outermost surface layer of the electrophotographic photosensitive member, in addition to thick film of the outermost layer such as a film thickness 5μm or 20μm or less is achieved, the outermost surface layer is results with mechanical strength, is suppressed and film loss of the outermost surface layer of the electrophotographic photosensitive member, for a long period of time, the occurrence of fog due to reduction in film thickness of the outermost layer are also intended to be suppressed.

以上から、本実施形態に係る画像形成装置では、長期に亘り、黒点状の画像欠陥を抑制した画像が得られると考えられる。 From the above, in the image forming apparatus according to the present embodiment, for a long time, an image that suppresses black dot image defects can be obtained.

以下、本実施形態に係る画像形成装置(及びプロセスカートリッジ)について詳細に説明する。 Hereinafter, an image forming apparatus according to the present embodiment (and process cartridge) will be described in detail.

図4は、本実施形態に係る画像形成装置の一例を示す概略構成図である。 Figure 4 is a schematic diagram showing an example of an image forming apparatus according to the present embodiment. 画像形成装置100は、図4に示すように。 The image forming apparatus 100, as shown in FIG. 電子写真感光体7を備えるプロセスカートリッジ300と、露光装置9と、転写装置40(一次転写装置)と、中間転写体50とを備える。 It includes a process cartridge 300 including the electrophotographic photoreceptor 7, an exposure device 9, a transfer device 40 (primary transfer unit), and an intermediate transfer member 50. なお、画像形成装置100において、露光装置9はプロセスカートリッジ300の開口部から電子写真感光体7に露光し得る位置に配置されており、転写装置40は中間転写体50を介して電子写真感光体7に対向する位置に配置されており、中間転写体50はその一部が電子写真感光体7に接触して配置されている。 In the image forming apparatus 100, the exposure device 9 is disposed at a position capable of exposing the opening of the process cartridge 300 in the electrophotographic photoreceptor 7, the transfer device 40 is an electrophotographic photosensitive member through the intermediate transfer member 50 7 is disposed in a position opposite to the intermediate transfer member 50 is disposed in contact with a portion of the electrophotographic photoreceptor 7. なお、図示しないが、中間転写体50に転写されたトナー像を被転写体に転写する二次転写装置も有している。 Although not shown, also it has a secondary transfer device that transfers the toner image transferred to the intermediate transfer member 50 onto a transfer member.

図4におけるプロセスカートリッジ300は、ハウジング内に、電子写真感光体7、帯電装置8、現像装置11、クリーニング装置13及び除電装置15を一体に支持している。 The process cartridge 300 in FIG. 4, in the housing, and integrally supports the electrophotographic photoreceptor 7, a charging device 8, a developing device 11, cleaning device 13 and the static eliminator 15. クリーニング装置13は、クリーニングブレード(クリーニング部材)を有しており、クリーニングブレード131は、電子写真感光体7の表面に接触するように配置されている。 The cleaning device 13 has a cleaning blade (cleaning member), a cleaning blade 131 is disposed so as to contact with the surface of the electrophotographic photoreceptor 7.

また、潤滑材14を感光体7の表面に供給する繊維状部材132(ロール状)、クリーニングをアシストする繊維状部材133(平ブラシ状)を用いた例を示してあるが、これらは使用しても、使用しなくてもよい。 The lubricating material 14 of the photoreceptor 7 to be supplied to the surface a fibrous member 132 (roll form), but the cleaning is shown an example of using a fibrous member 133 for assisting (flat brush), and these are used also, it may not be used.

以下、本実施形態に係る画像形成装置の各構成について説明する。 The following describes the configuration of an image forming apparatus according to the present embodiment.

[電子写真感光体] [Electrophotographic photosensitive member]
電子写真感光体は、前述の通り、特定の反応性基含有電荷輸送材料の重合体を含有する層を最表面層として有するものであるが、当該最表面層は電子写真感光体自体の最上面を形成していればよく、保護層として機能する層、又は、電荷輸送層として機能する層として設けられる。 Electrophotographic photosensitive member, as described above, but those having a layer containing a polymer of a specific reactive group-containing charge transporting material as the outermost layer, the outermost layer is the uppermost surface of the electrophotographic photoreceptor itself it is sufficient to form a layer functioning as a protective layer, or provided as a layer functioning as a charge transporting layer.
なお、最表面層が保護層として機能する層である場合、この保護層の下層には、電荷輸送層及び電荷発生層からなる感光層、又は単層型感光層を有することとなる。 In the case the outermost layer is a layer functioning as a protective layer, the lower layer of the protective layer, will have a charge transport layer and a photosensitive layer comprising a charge generating layer, or a single-layer type photosensitive layer.

最表面層が保護層として機能する層の場合、導電性基体上に、感光層、及び最表面層として保護層を有し、該保護層が特定の反応性基含有電荷輸送材料の重合体である形態が挙げられる。 If the layer outermost layer serves as a protective layer, on a conductive substrate, a photosensitive layer, and a protective layer as the outermost layer, the protective layer is a polymer of a specific reactive group-containing charge transporting material certain forms and the like.
一方、最表面層が電荷輸送層として機能する層の場合、導電性基体上に、電荷発生層、及び最表面層として特定の反応性基含有電荷輸送材料を含有する組成物、又は、その硬化物を含有する層で構成される形態が挙げられる。 On the other hand, if the layer functioning as an outermost surface layer is a charge transporting layer, on a conductive substrate, a charge generating layer, and a composition containing a specific reactive group-containing charge transporting material as the outermost layer, or, the curing include form for constitution with a layer containing an object.
なお、特定の反応性基含有電荷輸送材料と共に、不飽和結合を有する化合物、反応性を有さない電荷輸送材料(非反応性の電荷輸送材料)を併用してもよい。 Incidentally, the specific reactive group-containing charge transporting material, a compound having an unsaturated bond, a charge transport material having no reactivity (non-reactive charge transport material) may be used in combination.

そして、電子写真感光体は、その表面を帯電後、光照射により除電させた場合において、最表面層の膜厚d[μm]と、除電後の表面電位P[V]と、最表面層の膜厚dを0としたときの除電後の表面電位P [V]と、の関係が、式(1)(望ましくは式(1−2)、より望ましくは式(1−3))を満たす。 Then, the electrophotographic photosensitive member after charging the surface, in the case where is discharged by light irradiation, the film thickness d [[mu] m] of the outermost surface layer, the surface potential P [V] after neutralization, the outermost layer the surface potential P 0 after neutralization when the thickness d was set to 0 [V], the relationship, equation (1) (preferably formula (1-2), more preferably formula (1-3)) Fulfill.
・式(1) :(P−P )/d ≦1.20 - formula (1): (P-P 0) / d 2 ≦ 1.20
・式(1−2):(P−P )/d ≦1.15 · Formula (1-2) :( P-P 0 ) / d 2 ≦ 1.15
・式(1−2):(P−P )/d ≦1.0 · Formula (1-2) :( P-P 0 ) / d 2 ≦ 1.0
なお、「(P−P )/d 」の下限値は、電子写真感光体の帯電性確保の観点から0以上であることがよい。 The lower limit of the "(P-P 0) / d 2 " is better from the viewpoint of charging property securing of the electrophotographic photosensitive member is greater than zero.

ここで、最表面層の膜厚dを0としたときの除電後の表面電位P とは、最表面層を設ける前、又は最表面層を除去したときの電子写真感光体の表面(つまり、最表面層の下層の表面)について、測定したときの表面電位である。 Here, the surface potential P 0 after neutralization when the zero film thickness d of the outermost surface layer, before providing the outermost surface layer, or the surface of the electrophotographic photosensitive member upon removal of the outermost layer (i.e. for surface) of the lower layer of the outermost surface layer, a surface potential as measured.
一方、除電後の表面電位Pとは、最表面層まで設けて完成品の電子写真感光体の表面(つまり、最表面層の表面)について、測定したときの表面電位である。 On the other hand, the surface potential P after neutralization, the surface of the electrophotographic photosensitive member of the finished product is provided to the outermost surface layer (i.e., the surface of the outermost layer) for a surface potential as measured.

また、電子写真感光体の表面を帯電後、光照射により除電させた場合において、除電後の表面電位は、下記測定条件で電子写真感光体の表面を帯電、除電した後、表面電位計(Model 334(トレック社製))に測定した値である。 Also, after charging the surface of the electrophotographic photosensitive member, in the case where is discharged by light irradiation, the surface potential after charge removal, after the surface of the electrophotographic photosensitive member charged, and discharged by the following measuring conditions, the surface potential meter (Model 334 is a value measured (manufactured by Trek Co., Ltd.)).
但し、除電後の表面電位は、電子写真感光体の表面のうち、帯電、除電した領域内で、30点測定し、その平均値とする。 However, the surface potential after charge removal, of the surface of the electrophotographic photosensitive member, charging, in neutralizing the area, measured 30 points, and the average value.
−測定条件− - Measurement conditions -
・測定環境:10℃15%RH Measuring environment: 10 ℃ 15% RH
・帯電装置:非接触方式の帯電装置(例えばスコロトロン帯電器) Charge unit: a charging device of the non-contact method (e.g., scorotron charger)
・帯電後の電子写真感光体の表面電位:700V And surface potential of the electrophotographic photosensitive member after charging: 700V
・帯電後の表面電位を測定する時期:帯電してから30ms経過したときに測定・除電装置により照射する除電光の波長:780nm - time to measure the surface potential after charging: charged is irradiated with measuring and discharging device when passed 30ms since the discharging light wavelength: 780 nm
・除電装置により照射する除電光の強度:10mJ/m - intensity of charge removing light irradiated by the static eliminator: 10 mJ / m 2
・除電する時期:帯電してから185ms経過したときに除電・除電後の表面電位を測定する時期:除電してから40ms経過したときに測定 - neutralization to date: time to measure the surface potential after charge removal, neutralization when elapsed 185ms since charged: measured when 40ms has elapsed since the neutralization

なお、電子写真感光体が式(1)を満たすためには、特定の反応性基含有電荷輸送材料の重合体を含有する層を最表面層とすることに加え、例えば、最表面層膜厚を20μm以下とする構成を適用することがよい。 In order to electrophotographic photoreceptor satisfies the equation (1), a layer containing a polymer of a specific reactive group-containing charge transporting material in addition to the outermost layer, for example, the outermost surface layer thickness good have the configuration to be 20μm or less.

以下、最表面層が保護層として機能する層の場合の、本実施形態に係る電子写真感光体について図面を参照しつつ詳細に説明する。 Hereinafter, the case of the layer outermost surface layer functions as a protective layer will be described in detail with reference to the drawings electrophotographic photoreceptor according to the present embodiment. なお、図面中、同一又は相当部分には同一符号を付することとし、重複する説明は省略する。 Incidentally, the subjecting of the drawings, the same reference numerals to the same or corresponding parts, and a duplicate description thereof will be omitted.

図1は、本実施形態に係る電子写真感光体の一例を示す概略断面図である。 Figure 1 is a schematic sectional view showing an example of the electrophotographic photoreceptor according to the present embodiment. 図2乃至図3はそれぞれ本実施形態に係る電子写真感光体の他の一例を示す概略断面図である。 2 and 3 are schematic cross-sectional view showing another example of the electrophotographic photoreceptor according to the present embodiment, respectively.

図1に示す電子写真感光体7Aは、いわゆる機能分離型感光体(又は積層型感光体)であり、導電性基体4上に下引層1が設けられ、その上に電荷発生層2、電荷輸送層3、及び保護層5が順次形成された構造を有するものである。 Electrophotographic photoreceptor 7A shown in FIG. 1 is a so-called function separation type photoreceptor (or a lamination type photoreceptor), the undercoat layer 1 is provided on a conductive substrate 4, a charge generating layer 2 thereon, the charge transport layer 3, and protective layer 5 are those having the sequentially formed structure. 電子写真感光体7Aにおいては、電荷発生層2及び電荷輸送層3により感光層が構成される。 In the electrophotographic photoreceptor 7A, a photosensitive layer is composed of a charge generating layer 2 and charge transport layer 3.

図2に示す電子写真感光体7Bは、図1に示す電子写真感光体7Aのごとく、電荷発生層2と電荷輸送層3とに機能が分離された機能分離型感光体である。 Electrophotographic photoreceptor 7B shown in FIG. 2, as the electrophotographic photoreceptor 7A shown in FIG. 1, functions in the charge generating layer 2 and a charge transport layer 3 is separate function-separated type photosensitive member.
図2に示す電子写真感光体7Bにおいては、導電性基体4上に下引層1が設けられ、その上に、電荷輸送層3、電荷発生層2、及び保護層5が順次形成された構造を有するものである。 In electrophotographic photoreceptor 7B shown in FIG. 2, the undercoat layer 1 is provided on a conductive substrate 4, on which the charge-transporting layer 3, charge generating layer 2, and protective layer 5 are sequentially formed structure and it has a. 電子写真感光体7Bにおいては、電荷輸送層3及び電荷発生層2により感光層が構成される。 In the electrophotographic photoreceptor 7B, a photosensitive layer is composed of a charge transporting layer 3 and a charge generating layer 2.

図3に示す電子写真感光体7Cは、電荷発生材料と電荷輸送材料とを同一の層(単層型感光層6)に含有するものである。 The electrophotographic photosensitive member shown in FIG. 3 7C are those contained in the same layer a charge generating material and a charge-transporting material (single layer type photosensitive layer 6). 図3に示す電子写真感光体7Cにおいては、導電性基体4上に下引層1が設けられ、その上に単層型感光層6、保護層5が順次形成された構造を有するものである。 In the electrophotographic photoreceptor 7C shown in FIG. 3, undercoating layer 1 is provided on a conductive substrate 4, and has a single-layer type photosensitive layer 6, a protective layer 5 are sequentially formed structure thereon .

そして、図1、図2及び図3に示す電子写真感光体7A、7B及び7Cにおいて、保護層5が、導電性基体2から最も遠い側に配置される最表面層となっており、当該最表面層が、上記の構成となっている。 Then, 1, in the electrophotographic photoreceptor 7A, 7B and 7C shown in FIGS. 2 and 3, protective layer 5 is, has a top surface layer disposed farthest from the conductive substrate 2, the uppermost surface layer has a structure described above.
なお、図1、図2及び図3に示す電子写真感光体において、下引層1は設けてもよいし、設けなくてもよい。 Incidentally, FIG. 1, the electrophotographic photoreceptors shown in FIGS. 2 and 3, may be undercoat layer 1 is provided, may not be provided.

以下、代表例として図1に示す電子写真感光体7Aに基づいて、各要素について説明する。 Hereinafter, the electrophotographic photoreceptor 7A shown in FIG. 1 as a representative example will be described for each element.

(保護層) (Protective layer)
まず、電子写真感光体7Aにおける最表面層である保護層5について説明する。 First, a description will be given protective layer 5 is the outermost layer in the electrophotographic photoreceptor 7A.
保護層5は、電子写真感光体7Aにおける最表面層であり、特定の反応性基含有電荷輸送材料の重合体を含有して形成される。 Protective layer 5 is the outermost layer in the electrophotographic photoreceptor 7A, it is formed to contain a polymer of a specific reactive group-containing charge transporting material.
つまり、保護層5は、特定の反応性基含有電荷輸送材料を含む組成物を硬化させて形成されている。 That is, the protective layer 5 is formed by curing a composition containing a specific reactive group-containing charge transporting material.

硬化方法としては、熱、光、又は放射線などによるラジカル重合が行なわれる。 As the curing method, heat, light, or the like radical polymerization by radiation is performed. 反応が早く進行しすぎないよう調整すると膜のムラやシワの発生が抑制されるため、ラジカル発生が比較的ゆっくりと起こる条件下で重合させることが望ましい。 For the reaction to proceed to adjust to the occurrence of unevenness and wrinkles of the film not too quickly is prevented, it is preferable to polymerize under conditions where the radical generation relatively slowly occurs. この点からは、重合速度を調整しやすい熱重合が好適である。 From this point, it is preferable thermal polymerization easy to adjust the polymerization rate.

−特定の反応性基含有電荷輸送材料− - specific reactive group-containing charge transporting material -
特定の反応性基含有電荷輸送材料は、下記一般式(I)及び(II)で表される反応性化合物から選択される少なくとも1種の反応性化合物である。 Specific reactive group-containing charge transporting material is at least one reactive compound selected from the reactive compound represented by the following general formula (I) and (II).



一般式(I)中、Fは、電荷輸送性骨格を示す。 In formula (I), F represents a charge transporting skeleton.
Lは、アルキレン基、−C(=O)−、−N(R)−、−S−、及び−O−からなる群より選択される2種以上を組み合わせてなる2価の連結基を示す。 L is an alkylene group, -C (= O) -, - N (R) -, - shown S-, and a divalent linking group formed by combining two or more selected from the group consisting of -O- .
Rは、水素原子、アルキル基、アリール基、又はアラルキル基を示す。 R represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or aralkyl group.
mは、1以上6以下の整数を示す。 m represents an integer of 1 to 6.



一般式(II)中、Fは、電荷輸送性骨格を示す。 In the general formula (II), F represents a charge transporting skeleton.
L'は、アルキレン基、−C(=O)−、−N(R)−、−S−、及び−O−からなる群より選択される2種以上を組み合わせてなる(n+1)価の連結基を示す。 L 'is an alkylene group, -C (= O) -, - N (R) -, - S-, and comprising a combination of two or more selected from the group consisting of -O- (n + 1) -valent linking of a group.
Rは、水素原子、アルキル基、アリール基、又はアラルキル基を示す。 R represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or aralkyl group.
m'は、1以上6以下の整数を示す。 m 'represents an integer of 1 to 6.
nは、2以上3以下の整数 を示す。 n represents an integer of 2 to 3.

一般式(I)及び(II)中、Fは、電荷輸送性骨格、つまり電荷輸送性を有する構造を示し、具体的には、フタロシアニン系化合物、ポルフィリン系化合物、アゾベンゼン系化合物、トリアリールアミン系化合物、ベンジジン系化合物、アリールアルカン系化合物、アリール置換エチレン系化合物、スチルベン系化合物、アントラセン系化合物、ヒドラゾン系化合物、キノン系化合物、フルオレノン系化合物、などの電荷輸送性を有する構造が挙げられる。 In the general formula (I) and (II), F is the charge transporting skeleton, i.e. shows a structure having a charge transport, specifically, phthalocyanine compounds, porphyrin compounds, azobenzene compounds, triarylamine compounds, benzidine compounds, arylalkane compounds, aryl-substituted ethylene compounds, stilbene compounds, anthracene compounds, hydrazone compounds, quinone compounds, fluorenone-based compounds include structures having a charge transporting property such as.

一般式(I)中、Lが表す連結基としては、例えば、 In the formula (I), the linking group L is represented, for example,
アルキレン基中に−C(=O)−O−が介在した2価の連結基、 -C in the alkylene radical (= O) 2 divalent linking group -O- is interposed,
アルキレン基中に−C(=O)−N(R)−が介在した2価の連結基、 -C in the alkylene radical (= O) -N (R) - 2 divalent linking group interposed found
アルキレン基中に−C(=O)−S−が介在した2価の連結基、 -C in the alkylene radical (= O) 2 divalent linking group -S- is interposed,
アルキレン基中に−O−が介在した2価の連結基、 A divalent linking group in the alkylene radical -O- is interposed,
アルキレン基中に−N(R)−が介在した2価の連結基、 -N in the alkylene radical (R) - 2 divalent linking group interposed found
アルキレン基中に−S−が介在した2価の連結基、 A divalent linking group in the alkylene radical -S- is interposed,
が挙げられる。 And the like.
なお、Lが表す連結基は、アルキレ基中に、−C(=O)−O−、−C(=O)−N(R)−、−C(=O)−S−、−O−、又は−S−の基が2つ介在してもよい。 Incidentally, the linking group L is represented, during alkylene group, -C (= O) -O -, - C (= O) -N (R) -, - C (= O) -S -, - O- or a group of -S- may be two intervening.

一般式(I)中、Lが表す連結基として具体的には、例えば、 In the formula (I), specifically as a linking group L represents, for example,
*−(CH −C(=O)−O−(CH −、 * - (CH 2) p -C (= O) -O- (CH 2) q -,
*−(CH −C(=O)−N(R)−(CH −、 * - (CH 2) p -C (= O) -N (R) - (CH 2) q -,
*−(CH −C(=O)−S−(CH −、 * - (CH 2) p -C (= O) -S- (CH 2) q -,
*−(CH −O−(CH −、 * - (CH 2) p -O- (CH 2) q -,
*−(CH −N(R)−(CH −、 * - (CH 2) p -N (R) - (CH 2) q -,
*−(CH −S−(CH −、 * - (CH 2) p -S- (CH 2) q -,
*−(CH −O−(CH −O−(CH * - (CH 2) p -O- (CH 2) r -O- (CH 2) q -
等が挙げられる。 Etc. The.
ここで、Lが表す連結基中、pは、0、又は1以上6以下(望ましくは1以上5以下)の整数を示す。 Here, in the linking group L is represented, p is 0, or 1 to 6 (preferably 1 to 5) represents an integer of. qは、1以上6以下(望ましくは1以上5以下)の整数を示す。 q represents an integer of 1 to 6 (preferably 1 to 5). rは、1以上6以下(望ましくは1以上5以下)の整数を示す。 r represents an integer of 1 to 6 (preferably 1 to 5).
なお、Lが表す連結基中、「*」は、Fと連結する部位を示している。 Incidentally, in the linking group L is represented, "*" represents a site connecting to the F.

一方、一般式(II)中、L'が表す連結基としては、例えば、 On the other hand, in the general formula (II), the linking group represented by L ', for example,
分枝状に連結したアルキレン基中に−C(=O)−O−が介在した(n+1)価の連結基、 -C in an alkylene group linked to the branched (= O) -O- is interposed (n + 1) valent connecting group,
分枝状に連結したアルキレン基中にアルキレン基中に−C(=O)−N(R)−が介在した(n+1)価の連結基、 -C in an alkylene group in an alkylene group linked to the branched (= O) -N (R) - is interposed (n + 1) valent connecting group,
分枝状に連結したアルキレン基中に−C(=O)−S−が介在した(n+1)価の連結基、 -C in an alkylene group linked to the branched (= O) -S- is interposed (n + 1) valent connecting group,
分枝状に連結したアルキレン基中に−O−が介在した(n+1)価の連結基、 In an alkylene group linked to the branched -O- is interposed (n + 1) valent connecting group,
分枝状に連結したアルキレン基中に−N(R)−が介在した(n+1)価の連結基、 -N in an alkylene group linked to the branched (R) - is interposed (n + 1) valent connecting group,
分枝状に連結したアルキレン基中に−S−が介在した(n+1)価の連結基、 In an alkylene group linked to the branched -S- is interposed (n + 1) valent connecting group,
が挙げられる。 And the like.
なお、L'が表す連結は、分枝状に連結したアルキレ基中に、−C(=O)−O−、−C(=O)−N(R)−、−C(=O)−S−、−O−、又は−S−の基が2つ介在してもよい。 The connecting represented by L 'is in the alkylene group linked to a branched, -C (= O) -O -, - C (= O) -N (R) -, - C (= O) - S -, - O-, or -S- groups may be two intervening.

一般式(II)中、L'が表す連結基として具体的には、例えば、 In the formula (II), specifically as a linking group represented by L ', for example,
*−(CH −CH[C(=O)−O−(CH −] * - (CH 2) p -CH [C (= O) -O- (CH 2) q -] 2,
*−(CH −CH[C(=O)−N(R)−(CH −] * - (CH 2) p -CH [C (= O) -N (R) - (CH 2) q -] 2,
*−(CH −CH[C(=O)−S−(CH −] * - (CH 2) p -CH [C (= O) -S- (CH 2) q -] 2,
*−(CH −CH[(CH −O−(CH −] * - (CH 2) p -CH [(CH 2) r -O- (CH 2) q -] 2,
*−(CH −CH[(CH −N(R)−(CH −] * - (CH 2) p -CH [(CH 2) r -N (R) - (CH 2) q -] 2,
*−(CH −CH[(CH −S−(CH −] * - (CH 2) p -CH [(CH 2) r -S- (CH 2) q -] 2,



*−(CH −O−C[(CH −O−(CH −] * - (CH 2) p -O -C [(CH 2) r -O- (CH 2) q -] 3
*−(CH −C(=O)−O−C[(CH −O−(CH −] * - (CH 2) p -C (= O) -O-C [(CH 2) r -O- (CH 2) q -] 3
等が挙げられる。 Etc. The.
ここで、L'が表す連結基中、pは、0、又は1以上6以下(望ましくは1以上5以下)の整数を示す。 Here, in the linking group represented by L ', p is 0, or 1 to 6 (preferably 1 to 5) represents an integer of. qは、1以上6以下(望ましくは1以上5以下)の整数を示す。 q represents an integer of 1 to 6 (preferably 1 to 5). rは、1以上6以下(望ましくは1以上5以下)の整数を示す。 r represents an integer of 1 to 6 (preferably 1 to 5). sは、1以上6以下(望ましくは1以上5以下)の整数を示す。 s represents an integer of 1 to 6 (preferably 1 to 5).
なお、Lが表す連結基中、「*」は、Fと連結する部位を示している。 Incidentally, in the linking group L is represented, "*" represents a site connecting to the F.

一般式(I)及び(II)中、L、L'を表す連結基において、「−N(R)−」のRが表すアルキル基としては、炭素数1以上5以下(望ましくは1以上4以下)の直鎖状、分枝状のアルキル基が挙げられ、具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等が挙げられる。 In the general formula (I) and (II), L, in the linking group represented by L ',' - N (R) - "The alkyl group represented by R of 1 to 5 carbon atoms (preferably 1 to 4 or less) linear, branched alkyl group, and specifically, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group.
「−N(R)−」のRが表すアリール基としては、炭素数6以上15以下(望ましくは6以上12以下)のアリール基が挙げられ、具体的には、例えば、フェニル基、トルイル基、キシリジル基、ナフチル基等が挙げられる。 "-N (R) -" The aryl group represented by R in may be an aryl group having 6 to 15 carbon atoms (preferably 6 to 12), specifically, for example, a phenyl group, a toluyl group , Kishirijiru group, a naphthyl group, and the like.
アラルキル基としては、炭素数7以上15以下(望ましくは7以上14以下)のアラルキル基が挙げられ、具体的には、例えば、ベンジル基、フェネチル基、ビフェニルメチレン基等が挙げられる。 The aralkyl group, an aralkyl group having 7 to 15 carbon atoms (preferably 7 to 14), specifically, for example, a benzyl group, a phenethyl group, a biphenyl methylene group.

一般式(I)及び(II)中、mは、1以上6以下の整数を示すことが望ましい。 In the general formula (I) and (II), m is preferably an integer of 1 to 6.
m'は、1以上6以下の整数を示すことが望ましい。 m 'is preferably an integer of 1 to 6.
nは、2以上3以下の整数を示すことが望ましい。 n is preferably an integer of 2 to 3.

特定の反応性基含有電荷輸送材料として特に望ましくは、一般式(I)及び(II)のFとして、トリアリールアミン系化合物に由来する電荷輸送性骨格(電荷輸送性を有する構造)を有するものが挙げられる。 And particularly preferred as the specific reactive group-containing charge transporting material, as F in the general formula (I) and (II), those having a charge transporting skeleton derived from triarylamine compound (structure having a charge transport) and the like.
具体的には、一般式(I)で表される反応性化合物として特に望ましくは、下記一般式(III)で表され、且つ下記一般式(III)中のDが下記一般式(IV)で表される基を示す反応性化合物である。 Specifically, particularly preferable as the reactive compound represented by the general formula (I), it is represented by the following general formula (III), and D in formula (III) by the following general formula (IV) a reactive compound a group represented.
また、一般式(II)で表される反応性化合物として特に望ましくは、下記一般式(III)で表され、且つ下記一般式(III)中のDが下記一般式(V)で表される基を示す反応性化合物である。 Moreover, the particularly desirable as the general formula (II) reactive compound represented by represented by the following general formula (III), and D in the following formula (III) is represented by the following general formula (V) a reactive compound of the proximal.


一般式(III)中、Ar 〜Ar は、それぞれ独立に、置換若しくは未置換のアリール基を示す。 In the general formula (III), Ar 1 ~Ar 4 each independently represent a substituted or unsubstituted aryl group.
Ar は、置換若しくは未置換のアリール基、又は置換若しくは未置換のアリーレン基を示す。 Ar 5 represents a substituted or unsubstituted aryl group, or a substituted or unsubstituted arylene group.
c1〜c5は、それぞれ独立に、0以上2以下の整数を示す。 c1~c5 each independently represent an integer of 0 to 2.. 但し、全てのc1〜c5は、同時に0を示すことはない。 However, all of c1~c5 is not to show a 0 at the same time.
kは、0又は1の整数を示す。 k represents an integer of 0 or 1.



一般式(IV)中、Lは、アルキレン基、アルケニル基、−C(=O)−、−N(R)−、−S−、−O−、又はそれらを任意に組み合わせた基から選択される2価の連結基を示す。 In the general formula (IV), L represents an alkylene group, an alkenyl group, -C (= O) -, - N (R) -, - S -, - O-, or is selected them from any combination of group It represents a divalent linking group that.
Rは、水素原子、アルキル基、アリール基、又はアラルキル基を示す。 R represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or aralkyl group.



一般式(V)中、L'は、アルキレン基、アルケニル基、−C(=O)−、−N(R)−、−S−、−O−、又はそれらを任意に組み合わせた基から選択される(n+1)価の連結基を示す。 In the general formula (V), L 'represents an alkylene group, an alkenyl group, -C (= O) -, - N (R) -, - S -, - O-, or select them from any combination of group is the shows the (n + 1) -valent linking group.
Rは、水素原子、アルキル基、アリール基、又はアラルキル基を示す。 R represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or aralkyl group.
nは、2以上3以下の整数を示す。 n represents an integer of 2 to 3.

以下、一般式(III)で表される反応性化合物について詳細に説明する。 Hereinafter, the reactive compound represented by the general formula (III) will be described in detail.
一般式(III)において、Ar 、Ar 、Ar 及びAr は、それぞれ独立に、置換若しくは未置換のアリール基を示し、Ar 、Ar 、Ar 及びAr は、それぞれ、同一でもあってもよいし、異なっていてもよい。 In the general formula (III), Ar 1, Ar 2, Ar 3 and Ar 4 each independently represents a substituted or unsubstituted aryl group, Ar 1, Ar 2, Ar 3 and Ar 4, respectively, the same But may be there, it may be different.
ここで、置換アリール基における置換基としては、−D以外のものとして、炭素数1以上4以下のアルキル基、炭素数1以上4以下のアルコキシ基、炭素数6以上10以下のアリール基等が挙げられ、且つこれらのアルキル基、アルコキシ基、アリール基は置換、未置換の何れであってもよい。 Preferable examples of the substituent in the substituted aryl group, as other than -D, having 1 to 4 carbon atoms an alkyl group, having 1 to 4 carbon atoms in the alkoxy group and an aryl group having 6 to 10 carbon atoms is It mentioned, and these alkyl group, alkoxy group, aryl group substituted may be any unsubstituted.

Ar 、Ar 、Ar 及びAr としては、下記式(1)乃至(7)のうちのいずれかであることが望ましい。 The Ar 1, Ar 2, Ar 3 and Ar 4, it is desirable that any one of the following formulas (1) to (7). なお、下記式(1)乃至(7)は、Ar 、Ar 、Ar 及びAr の各々に連結され得る「−(D) C1 」乃至「−(D) C4 」を総括的に示した「−(D) 」と共に示す。 Incidentally, the following equation (1) to (7), Ar 1, Ar 2, Ar 3 and may be connected to each of Ar 4 '- (D) C1 "to" - (D) C4 "generically indicates and - shown with "(D) C".

上記式(1)乃至(7)中、R は、水素原子、炭素数1以上4以下のアルキル基、炭素数1以上4以下のアルキル基若しくは炭素数1以上4以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、及び炭素数7以上10以下のアラルキル基からなる群より選ばれる1種を表し、R 、R 及びR は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1以上4以下のアルキル基、炭素数1以上4以下のアルコキシ基、炭素数1以上4以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、炭素数7以上10以下のアラルキル基、及びハロゲン原子からなる群より選ばれる1種を表し、Arは置換又は未置換のアリーレン基を表し、cは0、1又は2を表し、sは0又は1を表し、tは0以上3以下の整数を表し、Z'は2価 In the above formula (1) to (7), R 1 is substituted with a hydrogen atom, having 1 to 4 alkyl group having a carbon number of 1 to 4 alkyl or carbons 1 to 4 an alkoxy group having a carbon phenyl group, an unsubstituted phenyl group, and represents one selected from the group consisting of an aralkyl group having 7 to 10 carbon atoms, R 2, R 3 and R 4 are each independently a hydrogen atom, the number of carbon atoms 1 to 4 of alkyl groups, having 1 to 4 carbon atoms in the alkoxy group, a phenyl group substituted by C 1 to 4 alkoxy groups carbons, an unsubstituted phenyl group, having 7 to 10 aralkyl group having a carbon and represents one selected from the group consisting of halogen atom, Ar represents a substituted or unsubstituted arylene group, c is 0, 1 or 2, s is 0 or 1, t is 0 to 3 represents an integer, Z 'is a divalent 有機連結基を示す。 An organic linking group.

ここで、式(7)中のArとしては、下記構造式(8)又は(9)で表されるものが望ましい。 Here, Ar in formula (7), those represented by is preferable by the following structural formula (8) or (9).



上記式(8)及び(9)中、R 及びR は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1以上4以下のアルキル基、炭素数1以上4以下のアルコキシ基、炭素数1以上4以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、炭素数7以上10以下のアラルキル基、及びハロゲン原子からなる群より選ばれる1種を表し、t'はそれぞれ0以上3以下の整数を表す。 In the formula (8) and (9), R 5 and R 6 are each independently a hydrogen atom, 1 or more and 4 or less carbon atoms alkyl group, having 1 to 4 carbon atoms in the alkoxy group, having 1 to 4 carbon atoms the following is a phenyl group substituted with an alkoxy group, an unsubstituted phenyl group, having 7 to 10 aralkyl group carbon, and represents one selected from the group consisting of halogen atom, t 'is 3 less than 0, respectively It represents an integer.

また、式(7)中、Z'は、下記式(10)乃至(17)のうちのいずれかで表されるものが望ましい。 In the formula (7), Z 'are those desirably represented by any one of the following formulas (10) to (17). また、sはそれぞれ0又は1を表す。 Further, it s independently are 0 or 1.


上記式(10)乃至(17)中、R 及びR は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1以上4以下のアルキル基、炭素数1以上4以下のアルコキシ基若しくは炭素数1以上4以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、炭素数7以上10以下のアラルキル基、及びハロゲン原子からなる群より選ばれる1種を表し、Wは2価の基を表し、q及びrはそれぞれ独立に1以上10以下の整数を表し、t”はそれぞれ0以上3以下の整数を表す。 In the formula (10) to (17), R 7 and R 8 are each independently a hydrogen atom, 1 or more and 4 or less carbon atoms alkyl group, 1 to 4 alkoxy groups or C 1 or more carbon atoms 4 following a phenyl group substituted with an alkoxy group, an unsubstituted phenyl group, having 7 to 10 aralkyl group carbon, and one selected from the group consisting of halogen atom, W represents a divalent group, q and r is 1 to 10 each independently represents an integer, t "each represents an integer of 0 to 3.

式(16)乃至(17)中のWとしては、下記(18)乃至(26)で表される2価の基のうちのいずれかであることが望ましい。 The W in the formula (16) to (17), it is desirable that any one of divalent groups represented by the following (18) to (26). 但し、式(25)中、uは0以上3以下の整数を表す。 In the formula (25), u represents an integer of 0 to 3.

また、一般式(III)中、Ar は、kが0のときは置換若しくは未置換のアリール基であり、このアリール基としては、Ar 乃至Ar の説明で例示されたアリール基が挙げられる。 Further, in the general formula (III), Ar 5 is, k is a substituted or unsubstituted aryl group 0, as the aryl group, Exemplified aryl group in the description of Ar 1 to Ar 4 It is. また、kが1のとき、Ar は置換若しくは未置換のアリーレン基であり、このアリーレン基としては、Ar 乃至Ar の説明で例示されたアリール基から水素原子を1つ除いたアリーレン基が挙げられる。 Further, when k is 1, Ar 5 is a substituted or unsubstituted arylene group, as the arylene group, Ar 1 to arylene group obtained by removing one hydrogen atom from the exemplified aryl groups in the description of Ar 4 and the like.

上記一般式(III)中、c1乃至c5は各々独立に0、1又は2を表し、Dの総数は1以上である。 In the general formula (III), c1 to c5 each independently 0, 1 or 2, the total number of D is 1 or more. 得られる硬化膜の強度を高め、繰り返し使用後の画質の低下を抑える観点からは、Dの総数は2以上であることが好適であり、4以上であることが更に好適である。 Increase the strength of the resulting cured film, from the viewpoint of suppressing deterioration of image quality after repeated use, the total number of D is preferred that 2 or more, it is more preferred 4 or more.

次に、一般式(III)で表される反応性化合物における「D」について詳細に説明する。 Next, the reactive compound represented by general formula (III) for the "D" will be described in detail.
一般式(III)において、Dは、一般式(IV)で表される基、又は一般式(V)で表される基を示す。 In the general formula (III), D represents a group represented by the group represented by formula (IV), or the general formula (V).
ここで、一般式(IV)の「L」、「R」は、一般式(I)の「L」、「R」と同義である。 Here, the general formula (IV) "L", "R", "L" in formula (I), is synonymous with "R".
一方、一般式(V)の「L'」、「R」、「n」は、一般式(II)の「L'」、「R」、「n」と同義である。 On the other hand, the general formula (V) of the "L '", "R", "n", the general formula (II) of the "L'" is synonymous with "R", "n".

一般式(IV)で表される基のうち、特に好適には、下記一般式(VI)、又は下記一般式(VII)で表される基が挙げられる。 Among the groups represented by the general formula (IV), particularly preferably a group represented by the following general formula (VI), or the following general formula (VII).



一般式(VI)及び(VII)中、X、及びX'は、2価の有機基を示す。 In the general formula (VI) and (VII), X, and X 'represents a divalent organic group.
p、及びp'は、0又は1の整数を示す。 p, and p 'represents an integer of 0 or 1.

一般式(VI)及び(VII)中、X、及びX'が表す2価の有機基としては、炭素数1以上6以下のアルキレン基、オキシアルキレン基等が挙げられる。 In the general formula (VI) and (VII), examples of the divalent organic group X, and X 'represents an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms and an oxyalkylene group.

一方、一般式(V)で表される基のうち、特に好適にには、下記一般式(VIII)、又は下記一般式(IX)で表される基が挙げられる。 On the other hand, among the groups represented by formula (V), in particular preferably, a group represented by the following general formula (VIII), or the following general formula (IX).



一般式(VIII)及び(IX)中、Y、及びY'は、2価の有機基を示す。 In the general formula (VIII) and (IX), Y, and Y 'represents a divalent organic group.
q、及びq'は、0、又は1の整数を示す。 q, and q 'is 0, or an 1 an integer.

一般式(VIII)及び(IX)中、Y、及びY'が表す2価の有機基としては、炭素数1以上6以下のアルキレン基、オキシアルキレン基等が挙げられる。 In the general formula (VIII) and (IX), Y, and examples of the divalent organic group represented by Y ', an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms and an oxyalkylene group.

ここで、特定の反応性基含有電荷輸送材料のうち、特に望ましくは、下記1)〜4)の反応性化合物である。 Among the specific reactive group-containing charge transporting material, particularly preferably a reactive compound of the following 1) to 4).
1)一般式(II)で表される反応性化合物。 1) the reactive compound represented by the general formula (II).
2)一般式(I)で表される反応性化合物であって、Lが−L −CH −を示し、L が−(CH −O−基を含む2価の連結基を示し、nが3以上6以下を示す反応性化合物。 2) a reactive compound represented by general formula (I), L is -L 1 -CH 2 - indicates, L 1 is - (CH 2) 2 divalent linking group containing an n -O- group It is shown, n reactive compounds exhibiting 3 to 6.

3)一般式(I)で表される反応性化合物であって、Lが−L −CH −を示し、L が−(CH −O−基を含む2価の連結基を示し、nが1以上6以下を示し、Fが複数の窒素原子を含み、それらが共役していない電荷輸輸送性骨格を示す反応性化合物。 3) a reactive compound represented by general formula (I), L is -L 1 -CH 2 - indicates, L 1 is - (CH 2) 2 divalent linking group containing an n -O- group are shown, n represents 1 to 6, F comprises a plurality of nitrogen atoms, the reactive compound showing a charge transportation transporting skeleton to which they are not conjugated.
本反応性化合物として具体的には、一般式(III)で表され、且つ一般式(III)中のDが下記一般式(IV)で表される基を示す反応性化合物であって、Lが−L −CH −を示し、L が−(CH −O−基を含む2価の連結基を示し、nが1以上6以下を示し、kが1を示し、Ar が−Ar 51 −Xa−Ar 52 −を示す反応性化合物である。 Specific examples present reactive compound is represented by the general formula (III), and D in the general formula (III) is a reactive compound a group represented by the following general formula (IV), L There -L 1 -CH 2 - indicates, L 1 is - (CH 2) represents a divalent linking group containing an n -O- radical, n represents 1 to 6, k represents 1, Ar 5 -Ar 51 -Xa-Ar 52 - is a reactive compound which exhibits.
Ar 51及びAr 52は、置換若しくは未置換のアリーレン基を示し、Ar と同様である。 Ar 51 and Ar 52 represents a substituted or unsubstituted arylene group are the same as Ar 5.
Xaは、アルキレン基、又はアルキレン基、−O−、−S−、及びエステルから選ばれる基を組み合わせてなる2価の基であって、芳香環や共役二重結合などの共役結合を含まない連結基である。 Xa represents an alkylene group, or an alkylene group, -O -, - S-, and a divalent group formed by combining groups selected from ester, does not contain conjugated bonds such as an aromatic ring or conjugated double bonds a linking group.
具体的には、Xaは、炭素数1〜4のアルキレン基であるか、炭素数1〜4のアルキレン基と−O−、−S−、−O−C(=O)−、及び−C(=O)−O−から選ばれる基とを組み合わせてなる2価の基が挙げられる。 Specifically, Xa is either an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms, an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms and -O -, - S -, - O-C (= O) -, and -C (= O) include a divalent group comprising a combination of a group selected from -O-.
なお、Xaがアルキレン基である場合、このアルキレン基は、炭素数1以上4以下のアルキル基、炭素数1以上4以下のアルコキシ基等の置換基を有していてもよく、この置換基の2つが互いに結合して、前記Wの具体例として記載の(26)で表される2価の基のような構造となってもよい。 In the case Xa is an alkylene group, the alkylene group is 1 or more and 4 or less carbon atoms the alkyl group may have a substituent such as an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, the substituents two are bonded to each other, the structure and may be made as a divalent group represented by described (26) specific examples of the W.

4)一般式(I)で表される反応性化合物であって、Lが−L −CH −を示し、L が−(CH −O−基を除く、−(CH −(C=O)−O−基、−(CH −(C=O)−N(R)−基、−(CH −(C=O)−S−基、−(CH −N(R)−基、−(CH −S−基を含む2価の連結基を示し、nが0、又は1以上6以下の整数を示す反応性化合物。 4) A reactive compound represented by general formula (I), L is -L 1 -CH 2 - indicates, L 1 is - except for (CH 2) n -O- group, - (CH 2 ) n - (C = O) -O- group, - (CH 2) n - (C = O) -N (R) - group, - (CH 2) n - (C = O) -S- group, - (CH 2) n -N ( R) - group, - (CH 2) n -S- group represents a divalent linking group containing a, n is 0, or reactive compounds exhibiting 1 to 6 integer .

以下に、特定の反応性基含有電荷輸送材料の具体的を示す。 Hereinafter, specific for specific reactive group-containing charge transporting material.
具体的には、一般式(I)及び(II)の電荷輸送性骨格F(一般式(III)中のDを除く骨格)の具体例、一般式(IV)で表される基の具体例、一般式(V)で表される基の具体例と共に、一般式(I)及び(II)で示される反応性化合物の具体例を示すが、これらに限定されるわけではない。 Specifically, examples of embodiment, the group represented by the general formula (IV) of the charge transporting skeleton F of the general formula (I) and (II) (formula (III) backbone, except for D in) , with specific examples of the group represented by formula (V), specific examples of the reactive compound represented by the general formula (I) and (II), but are not limited to.
なお、一般式(I)及び(II)の電荷輸送性骨格F(一般式(III)中のDを除く骨格)の具体例の「*」部分は、一般式(IV)で表される基の具体例、一般式(V)で表される基の具体例の「*」部分が連結していることを意味する。 Note that "*" portion of a specific example of the general formula (I) and a charge transporting skeleton F of (II) (formula (III) backbone, except for D in) is a group represented by the general formula (IV) It means that the specific example of the "*" portion of the specific examples of the group represented by the general formula (V) are linked.
例えば、例示化合物(I)−1としては、電荷輸送性骨格Fの具体例:(1)−1、一般式(IV)又は(V)で表される基の具体例:(IV)−1と示した場合、以下の構造を示す。 For example, the exemplified compound (I) -1, specific examples of the charge transporting skeleton F: (1) -1, specific examples of the group represented by the general formula (IV) or (V): (IV) -1 where indicated and shows the following structure.


電荷輸送性骨格Fの具体例を以下示す。 Specific examples of the charge transporting skeleton F shown below.

一般式(IV)で表される基の具体例について以下示す。 Shown below Specific examples of the group represented by the general formula (IV).

一般式(V)で表される基の具体例について以下示す。 Shown below Specific examples of the group represented by the general formula (V).

一般式(I)及び(II)で示される反応性化合物の具体例について以下に示す。 Specific examples of the reactive compound represented by the general formula (I) and (II) are shown below.

特定の反応性基含有電荷輸送材料は、例えば、以下のようにして合成される。 Specific reactive group-containing charge transporting material, for example, be synthesized as follows.
即ち、特定の反応性基含有電荷輸送材料は、前駆体であるカルボン酸、あるいは、アルコールと、対応するクロロメチルスチレンなどでのエーテル化などにより合成できる。 That is, the specific reactive group-containing charge transporting material is a precursor carboxylic acid, or an alcohol, can be synthesized by etherification, etc. in such corresponding chloromethylstyrene.

特定の反応性基含有電荷輸送材料の例示化合物(I)−172の合成経路を一例として以下に示す。 The synthetic routes of a particular illustrative compounds of the reactive group-containing charge transporting material (I) -172 shown below as an example.

アリールアミン化合物カルボン酸は、アリールアミン化合物のエステル基を、例えば、実験化学講座、第4版、20巻、P. Arylamine compound carboxylic acid, an ester group of the arylamine compound, for example, Jikken Kagaku Koza, 4th edition, vol. 20, P. 51などに記載されたように、塩基性触媒(NaOH、K CO 等)、酸性触媒(例えばリン酸、硫酸等)を用いる加水分解により得られる。 As it described like 51, a basic catalyst (NaOH, K 2 CO 3, etc.), an acidic catalyst (such as phosphoric acid, sulfuric acid) is obtained by hydrolysis with.
この際、溶剤としては、種々のものが挙げられるが、メタノール、エタノール、エチレングリコールなどのアルコール系を用いるか、これに水を混合して用いることがよい。 In this case, as the solvent, there may be mentioned various ones, methanol, ethanol, or an alcohol-based, such as ethylene glycol, may be used which in a mixture of water.
さらに、アリールアミン化合物の溶解性が低い場合には、塩化メチレン、クロロホルム、トルエン、ジメチルスルホキシド、エーテル、テトラヒドロフランなどを加えてもよい。 Furthermore, when the solubility of the arylamine compound is low, methylene chloride, chloroform, toluene, dimethyl sulfoxide, ether, or the like may be added tetrahydrofuran.
溶剤の量は、特に制限はないが、例えば、エステル基を含有するアリールアミン化合物1質量部に対して1質量部以上100質量部以下、望ましくは2質量部以上50質量部以下で用いることがよい。 The amount of the solvent is not particularly limited, for example, 100 parts by mass 1 part by mass or more relative to the arylamine compound 1 part by weight containing an ester group, preferably be used in the following 50 parts by mass or more 2 parts by good.
反応温度は、例えば、室温(例えば25℃)以上溶剤の沸点以下の範囲で設定され、反応速度の問題上、50度以上が望ましい。 The reaction temperature is, for example, is set in the range of the boiling point or lower at room temperature (e.g. 25 ° C.) or higher solvent, the reaction rate problem, desirably more than 50 degrees.
触媒の量については、特に制限はないが、例えば、エステル基を含有するアリールアミン化合物1質量部に対して0.001質量部以上1質量部以下、望ましくは0.01質量部以上0.5質量部以下で用いることがよい。 The amount of catalyst is not particularly limited, for example, 0.001 parts by mass or more than 1 part by weight relative to the arylamine compound 1 part by weight containing an ester group, preferably 0.01 part by mass or more 0.5 it is possible to use in the following parts by weight.
加水分解反応後、塩基性触媒で加水分解を行った場合には、生成した塩を酸(例えば塩酸等)で中和し、遊離させる。 After the hydrolysis reaction, when performing hydrolysis with basic catalyst, the resulting salt is neutralized with an acid (e.g. hydrochloric acid, etc.), it is liberated. さらに、十分に水洗した後、乾燥して使用するか、必要によっては、メタノール、エタノール、トルエン、酢酸エチル、アセトンなど、適当な溶剤により、再結晶精製を行った後、乾燥して使用してもよい。 Further, sufficiently washed with water, use dry, depending on the need, methanol, ethanol, toluene, ethyl acetate, or acetone, with a suitable solvent, after recrystallization purification using dried it may be.

アリールアミン化合物のアルコール体は、アリールアミン化合物のエステル基を、例えば、実験化学講座、第4版、20巻、P. Alcohol derivative arylamine compound, an ester group of the arylamine compound, for example, Jikken Kagaku Koza, 4th edition, vol. 20, P. 10などに記載されたように、水素化リチウムアルミニウム、水素化ホウ素ナトリウムなどを用いて対応するアルコールに還元して合成する。 Such as described in 10, it is reduced to the corresponding alcohol synthesized using lithium aluminum hydride, and the like sodium borohydride.

例えば、エステル結合にて反応基を導入する場合、アリールアミン化合物カルボン酸と、ヒドロキシメチルスチレンを酸触媒にて脱水縮合させる通常のエステル化や、アリールアミン化合物カルボン酸と、ハロゲン化メチルスチレンを、ピリジン、ピペリジン、トリエチルアミン、ジメチルアミノピリジン、トリメチルアミン、DBU、水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の塩基を用いて縮合させる方法が使用し得るが、ハロゲン化メチルスチレンを用いる方法が副生成物が抑制されることから好適である。 For example, the case of introducing a reactive group at an ester bond, an arylamine compound carboxylic acid, hydroxymethyl styrene at acid catalyst conventional esterification or dehydration condensation, and the arylamine compound carboxylic acid, a halogenated methylstyrene, pyridine, piperidine, triethylamine, dimethylaminopyridine, trimethylamine, DBU, sodium hydride, sodium hydroxide, a method of condensing with a base such as potassium hydroxide may be used, generation method using halogenated methylstyrene sub it is preferable because the object is suppressed.

アリールアミン化合物カルボン酸の酸に対し、ハロゲン化メチルスチレンを1当量以上、望ましくは、1.2当量以上、より望ましくは1.5当量以上加えることがよく、塩基はハロゲン化メチルスチレンに対し0.8当量以上2.0当量以下、望ましくは1.0等量以上1.5当量以下で用いることがよい。 To acid arylamine compound carboxylic acids, halogenated methylstyrene one equivalent or more, preferably 1.2 equivalents or more, and more preferably often added 1.5 equivalents or more, the base whereas halogenated methylstyrene 0 .8 eq to 2.0 equivalents or less, preferably it is possible to use 1.0 eq to 1.5 equivalents or less.
溶剤としては、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、N,N−ジメチルホルムアミド等の非プロトン性極性溶剤、アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン系溶剤、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶剤、トルエン、クロロベンゼン、1ークロロナフタレンなどの芳香族系溶剤などが有効であり、アリールアミン化合物カルボン酸の1質量部に対して、1質量部以上100質量部以下、望ましくは2質量部以上50質量部以下の範囲で用いられることがよい。 As the solvent, N- methylpyrrolidone, dimethyl sulfoxide, N, N- aprotic polar solvents such as dimethylformamide, acetone, ketone solvents such as methyl ethyl ketone, diethyl ether, ether solvents such as tetrahydrofuran, toluene, chlorobenzene, 1 chromatography such as aromatic solvents such as chloronaphthalene is effective, with respect to 1 part by weight of the arylamine compound carboxylic acid, 100 parts by mass or more than 1 part by weight, preferably in the range of 50 parts by mass or more 2 parts by good be used.
反応温度は特に制限はない。 The reaction temperature is not particularly limited. 反応終了後、反応液を水にあけ、トルエン、ヘキサン、酢酸エチルなどの溶剤で抽出、水洗し、さらに、必要により活性炭、シリカゲル、多孔質アルミナ、活性白土などの吸着剤を用いて精製を行ってもよい。 After completion of the reaction, the reaction mixture was poured into water, extracted toluene, hexane, a solvent such as ethyl acetate, washed with water, further, subjected activated carbon, silica gel, porous alumina, purified with an adsorbent such as activated clay if necessary it may be.

また、エーテル結合にて導入する場合、アリールアミン化合物アルコールと、ハロゲン化メチルスチレンを、ピリジン、ピペリジン、トリエチルアミン、ジメチルアミノピリジン、トリメチルアミン、DBU、水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の塩基を用いて縮合させる方法が使用することがよい。 In the case of introducing with ether bonds, and the arylamine compound alcohols, halogenated methylstyrene, pyridine, piperidine, triethylamine, dimethylaminopyridine, trimethylamine, DBU, sodium hydride, sodium hydroxide, bases such as potassium hydroxide it is possible to use a method of condensing with.
アリールアミン化合物アルコールのアルコールに対し、ハロゲン化メチルスチレンを1当量以上、望ましくは、1.2当量以上、より望ましくは1.5当量以上加えることがよく、塩基はハロゲン化メチルスチレンに対し0.8当量以上2.0当量以下、望ましくは、1.0等量以上1.5当量以下で用いることがよい。 To alcohol arylamine compound alcohols, halogenated methylstyrene one equivalent or more, 0 preferably 1.2 equivalents or more, and more preferably often added 1.5 equivalents or more, the base whereas halogenated methylstyrene. 8 equivalent to 2.0 equivalents or less, preferably, may be used in 1.0 equivalent amount to 1.5 equivalent or less.
溶剤としては、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、N,N−ジメチルホルムアミド等の非プロトン性極性溶剤、アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン系溶剤、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶剤、トルエン、クロロベンゼン、1ークロロナフタレンなどの芳香族系溶剤などが有効であり、アリールアミン化合物アルコールの1質量部に対して、1質量部以上100質量部以下、望ましくは2質量部以上50質量部以下の範囲で用いることがよい。 As the solvent, N- methylpyrrolidone, dimethyl sulfoxide, N, N- aprotic polar solvents such as dimethylformamide, acetone, ketone solvents such as methyl ethyl ketone, diethyl ether, ether solvents such as tetrahydrofuran, toluene, chlorobenzene, 1 is effective and aromatic solvents such as over-chloronaphthalene, with respect to 1 part by weight of the arylamine compound alcohol, 1 part by weight to 100 parts by weight, preferably employed in the range of less than 50 parts by mass or more 2 parts by it good.
反応温度は特に制限はない。 The reaction temperature is not particularly limited. 反応終了後、反応液を水にあけ、トルエン、ヘキサン、酢酸エチルなどの溶剤で抽出、水洗し、さらに、必要により活性炭、シリカゲル、多孔質アルミナ、活性白土などの吸着剤を用いて精製を行ってもよい。 After completion of the reaction, the reaction mixture was poured into water, extracted toluene, hexane, a solvent such as ethyl acetate, washed with water, further, subjected activated carbon, silica gel, porous alumina, purified with an adsorbent such as activated clay if necessary it may be.

−不飽和結合を有する化合物− - compounds having an unsaturated bond -
保護層(最表面層)5を構成する膜は、不飽和結合を有する化合物を併用してもよい。 Film constituting the protective layer (outermost layer) 5 may be used in combination of a compound having an unsaturated bond.
不飽和結合を有する化合物としては、モノマー、オリゴマー、ポリマーのいずれであってもよく、また、電荷輸送性骨格を有していてもよい。 The compound having an unsaturated bond, monomer, oligomer may be any polymer, also may have a charge transporting skeleton.

不飽和結合を有する化合物として、電荷輸送性骨格を有さないものとしては以下のようなものが挙げられる。 Examples of the compound having an unsaturated bond, may include the following as having no charge transporting skeleton.
1官能のモノマーは、例えば、イソブチルアクリレート、t−ブチルアクリレート、イソオクチルアクリレート、ラウリルアクリレート、ステアリルアクリレート、イソボルニルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、2−メトキシエチルアクリレート、メトキシトリエチレングリコールアクリレート、2−エトキシエチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、ベンジルアクリレート、エチルカルビトールアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシアクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、4−ヒドロキシブチルアクリレート、メトキシポリエチレングリコールアクリレート、メトキシポリエチレングリコールメタクリレート、フェノキシポリエチレングリコールアクリレート、フ 1 monomer functional, for example, isobutyl acrylate, t- butyl acrylate, isooctyl acrylate, lauryl acrylate, stearyl acrylate, isobornyl acrylate, cyclohexyl acrylate, 2-methoxyethyl acrylate, methoxy triethylene glycol acrylate, 2-ethoxyethyl acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, benzyl acrylate, ethyl carbitol acrylate, phenoxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 4-hydroxybutyl acrylate, methoxy polyethylene glycol acrylate, methoxy polyethylene glycol methacrylate, phenoxy polyethylene glycol acrylate , full ノキシポリエチレングリコールメタクリレート、ヒドロキシエチルo−フェニルフェノールアクリレート、o−フェニルフェノールグリシジルエーテルアクリレート、スチレン、などが挙げられる。 Roh carboxymethyl polyethylene glycol methacrylate, hydroxyethyl o- phenylphenol acrylate, o- phenylphenol glycidyl ether acrylate, styrene, and the like.

2官能のモノマーは、例えば、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ジビニルベンゼン、ジアリルフタレート等が挙げられる。 Monomers bifunctional, for example, diethylene glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, divinylbenzene, diallyl phthalate, and the like.
3官能のモノマーは、例えば、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、脂肪族トリ(メタ)アクリレート、トリビニルシクロヘキサン等が挙げられる。 Trifunctional monomers such as trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, aliphatic tri (meth) acrylate, tri-vinyl cyclohexane.
4官能のモノマーは、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、脂肪族テトラ(メタ)アクリレート等が挙げられる。 Tetrafunctional monomers, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate, and aliphatic tetra (meth) acrylate.
5官能以上のモノマーは、例えば、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート等の他、ポリエステル骨格、ウレタン骨格、フォスファゼン骨格を有する(メタ)アクリレート等が挙げられる。 5 or more functional monomers, for example, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, other such dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, polyester skeleton, a urethane skeleton, having a phosphazene skeleton (meth) acrylate.

また、反応性のポリマーとしては、例えば、特開平5−216249号公報、特開平5−323630号公報、特開平11―52603号公報、特開2000−264961号公報、特開2005−2291号公報などに開示されたものが挙げられる。 As the reactive polymer, for example, JP-A 5-216249, JP-A No. 5-323630, JP-A No. 11-52603, JP-2000-264961 and JP Patent Application 2005-2291 They include those disclosed in, for.

電荷輸送成分を有さない不飽和結合を有する化合物を用いる場合には、単独又は2種以上の混合物として使用される。 When using a compound having an unsaturated bond having no charge transport component may be used alone or in combination. 電荷輸送成分を有さない不飽和結合を有する化合物を、電子写真感光体の最表面層の形成に用いる場合であれば、該載表面層を形成する際に用いられる組成物の全固形分に対して、望ましくは60質量%以下、より望ましくは55質量%以下で用い、更に望ましくは50質量%以下で使用される。 A compound having an unsaturated bond having no charge transport component, in the case used to form the outermost layer of the electrophotographic photoconductor, the total solids of the composition used to form the the placing surface layer in contrast, desirably 60 wt% or less, more desirably used in 55 mass% or less, more desirably used in 50 mass% or less.

一方、不飽和結合を有する化合物として、電荷輸送骨格を有するものとしては、次のものが挙げられる。 On the other hand, as a compound having an unsaturated bond, as having a charge transport skeleton are given below.
・連鎖重合性官能基(スチリル基を除く連鎖重合性官能基)及び電荷輸送性骨格を同一分子内に持つ化合物 連鎖重合性官能基及び電荷輸送性骨格を同一分子内に持つ化合物における連鎖重合性官能基としては、ラジカル重合しうる官能基であれば特に限定されるものではなく、例えば、少なくとも炭素二重結合を含有する基を有する官能基である。 - chain polymerizable in the compound having a chain polymerizable functional group (a chain-polymerizable functional group except styryl group) and compound chain polymerizable functional group and a charge transporting skeleton having a charge transporting skeleton in the same molecule in the same molecule the functional group is not limited in particular as long as it is a functional group capable of radical polymerization, for example, a functional group having a group containing at least carbon double bond. 具体的には、ビニル基、ビニルエーテル基、ビニルチオエーテル基、スチリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、及びそれらの誘導体から選択される少なくも一つを含有する基等が挙げられる。 Specifically, vinyl group, vinyl ether group, vinyl thioether group, a styryl group, an acryloyl group, a methacryloyl group, and a group which also contains one less is selected from the derivatives thereof. なかでも、その反応性に優れることから、連鎖重合性官能基としては、ビニル基、スチリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、及びそれらの誘導体から選択される少なくも一つを含有する基であることが望ましい。 Among them, since it is excellent in its reactivity, it as the chain polymerizable functional group, a vinyl group, a styryl group, an acryloyl group, a methacryloyl group, and a least containing one group selected from the derivatives thereof It is desirable
また、連鎖重合性官能基及び電荷輸送性骨格を同一分子内に持つ化合物における電荷輸送性骨格としては電子写真感光体における公知の構造であれば特に限定されるものではなく、例えば、トリアリールアミン系化合物、ベンジジン系化合物、ヒドラゾン系化合物などの含窒素の正孔輸送性化合物に由来する骨格であって、窒素原子と共役している構造が挙げられる。 Further, as the charge transporting skeleton in the compound having a chain polymerizable functional group and a charge transporting skeleton in the same molecule is not particularly limited as long as it is a known structure in the electrophotographic photoconductor, for example, triarylamine system compounds, benzidine compounds, a skeleton derived from a hole-transporting compound a nitrogen-containing, such as hydrazone compounds include structures that are coupled with a nitrogen atom. これらの中でも、トリアリールアミン骨格が望ましい。 Among these, a triarylamine skeleton is preferable.

連鎖重合性官能基及び電荷輸送性骨格を同一分子内に持つ化合物は、下記一般式(B)及び(C)によりそれぞれ表される部分構造を含むポリマーであってもよい。 Compound having a chain polymerizable functional group and a charge transporting skeleton in the same molecule may be a polymer containing a partial structure represented respectively by the following general formula (B) and (C).

一般式(B)及び(C)中、R 、R 、R は、それぞれ独立して水素原子又は炭素数1以上4以下のアルキル基を表し、X、Yはそれぞれ独立して炭素数1以上20以下の2価の有機基を表し、aは0又は1を表し、CTは電荷輸送性骨格を持つ有機基を表す。 In the general formula (B) and (C), R 1, R 2, R 3 are each independently a hydrogen atom or having 1 to 4 alkyl group having a carbon, X, Y is the number of carbon atoms independently It represents 1 to 20 divalent organic group, a is 0 or 1, CT represents an organic group having a charge transporting skeleton.
ここで、一般式(B)及び(C)によりそれぞれ表される部分構造を含むポリマーの末端基としては、ラジカル重合反応による停止反応で生じた構造である。 Here, the terminal groups of the polymer containing a partial structure represented respectively by the general formula (B) and (C), the structure produced by the termination reaction due to radical polymerization reaction.

一般式(B)中、CTが表す電荷輸送性骨格を持つ有機基としては、上述した電荷輸送性骨格が挙げられるが、例えば、トリアリールアミン骨格、ベンジジン骨格、アリールアルカン骨格、アリール置換エチレン骨格、スチルベン骨格、アントラセン骨格、ヒドラゾン骨格を持つものなどが好適に挙げられるが、この中でもトリアリールアミン骨格、ベンジジン骨格、スチルベン骨格を持つものが望ましい。 In Formula (B), examples of the organic group having a charge transporting skeleton CT represents, including but charge transporting skeleton mentioned above, for example, triarylamine skeleton, benzidine skeleton, aryl alkane skeleton, an aryl-substituted ethylene backbone , stilbene skeleton, an anthracene skeleton, but such as those having a hydrazone skeleton preferably, triarylamine skeleton among these, benzidine skeleton, those having a stilbene skeleton desirable.

一般式(B)及び(C)中、X、Yが表す2価の有機基としては、例えば、アルキレン基、−C(=O)−、−O−C(=O)−、芳香環、及びこれらを組み合わせた連結基から選択される一つを含む2価の有機基が挙げられる。 In the general formula (B) and (C), examples of the divalent organic group X, Y is represented, for example, an alkylene group, -C (= O) -, - O-C (= O) -, an aromatic ring, and it includes a divalent organic group containing one selected from the linking group comprising a combination thereof. なお、X、Yが表す2価の有機基は、水酸基を有さないことが望ましい。 Incidentally, a divalent organic group X, Y is represented, it is desirable that no hydroxyl group.
Xが表す2価の有機基として具体的には、例えば、−C(=O)−O−(CH −(但し、nは0又は1以上10以下の整数を表す)等が挙げられる。 Specifically examples of the divalent organic group represented by X, for example, -C (= O) -O- ( CH 2) n - ( where, n is an integer of 0 or 1 to 10), and include It is.
Yが表す2価の有機基として具体的には、−(CH) −(但し、nは1以上10以下の整数を表す)、−(CH −O−C(=O)−(但し、nは0又は1以上10以下の整数を表し、「(CH 」の水素原子の一部は水酸基が置換していてもよい)、−(CH −Ar−(但し、Arは芳香環数1以上3以下のアリーレン基を表し、nは0又は1以上10以下の整数を表す)、−Ar−O−(CH −O−C(=O)−(但し、Arは芳香環数1以上3以下のアリーレン基を表し、nは0又は1以上10以下の整数を表す)等が挙げられる。 Specifically examples of the divalent organic group Y represents, - (CH) n - (where, n is an integer of 1 to 10), - (CH 2) n -O-C (= O) - (where, n represents an integer of 0 or 1 to 10, "(CH 2) n" portion of the hydrogen atom of the hydroxyl group may be substituted with a), - (CH 2) n -Ar- ( However, Ar represents an aromatic ring having 1 to 3 arylene group, n represents an integer of 0 or 1 to 10), - Ar-O- (CH 2) n -O-C (= O) - (wherein, Ar represents an aromatic ring having 1 to 3 arylene group, n represents an integer of 0 or 1 to 10), and the like.

一般式(B)で表される部分構造の具体例としては、以下のものが挙げられるが、これに限られるわけではない。 Specific examples of the partial structure represented by the general formula (B), but include the following, but is not limited thereto. なお、「(X) 」の欄において、「−」が示されている場合は、a=0のときを示してり、基が示されている場合は、a=1のときで、CTと共にXが表す基を示している。 Incidentally, in the column of "(X) a", "-" if is shown, the case shown the case of a = 0 Shimeshiteri, group, when the a = 1, CT It shows a group X represents together.






次に、一般式(C)で表される部分構造の具体例としては、以下のものが挙げられるが、これに限られるわけではない。 Next, specific examples of the partial structure represented by the general formula (C), and it include the following, but is not limited thereto.




このうち、更に下記構造式(D)で表されるものが溶解性、製膜性に優れ、望ましい。 Among further those represented by solubility by the following structural formula (D), excellent in film properties, desirable.


一般式(D)中、R 、R 、R は、それぞれ独立して水素原子又は炭素数1以上4以下のアルキル基を表し、Xは炭素数1以上20以下の2価の有機基を表し、Y'は−C(=O)−、−CH −、−(CH −を表し、a、bはそれぞれ独立して0又は1を表し、CTは電荷輸送性骨格を持つ有機基を表す。 In the general formula (D), R 1, R 2, R 3 are each independently a hydrogen atom or having 1 to 4 alkyl group having a carbon, X is a divalent organic group having 1 to 20 carbon atoms the stands, Y 'is -C (= O) -, - CH 2 -, - (CH 2) 2 - represents, a, b represents 0 or 1 each independently, CT is a charge transporting skeleton It represents an organic group having.
m、nはそれぞれ5以上の整数を表し、10<m+n<2000、かつ0.2<m/(m+n)<0.95であり、強度、可とう性、電気特性の観点から、15<m+n<2000、かつ0.3<m/(m+n)<0.95が望ましく、20<m+n<2000、かつ0.4<m/(m+n)<0.95がさらに望ましい。 m, n represents an integer of 5 or more, respectively, 10 <m + n <2000, and 0.2 <m / (m + n) <0.95, the strength, flexibility, from the viewpoint of electric properties, 15 <m + n <2000, and 0.3 <m / (m + n) <0.95 is desirable, 20 <m + n <2000, and 0.4 <m / (m + n) <0.95 is more preferable.
なお、一般式(D)中、Xが表す2価の有機基、及びCTが表す電荷輸送性骨格を持つ有機基としては、一般式(B)及び(C)中のX、CTと同義である。 Incidentally, in the general formula (D), 2-valent organic group represented by X, and as the organic group having a charge transporting skeleton CT represents the general formula (B) and (C) in the X, in CT synonymous is there.

一般式(B)及び(C)によりそれぞれ表される部分構造を含むポリマーは、例えば、一般式(A)で表される化合物をモノマーとして使用し、メタクリル酸、アクリル酸、グリシジル化合物及びこれらの誘導体との共重合等、公知の方法によって製造される。 The general formula (B) and (C) a polymer containing a partial structure represented respectively, for example, the compound represented by general formula (A) used as a monomer, methacrylic acid, acrylic acid, glycidyl compounds and their co-polymerization of derivatives are prepared by known methods.

また、一般式(B)及び(C)によりそれぞれ表される部分構造を含むポリマーは、一般式(B)及び(C)で示されるものに加え、溶解性、可とう性を付与するために1官能のモノマーを共重合してもよい。 In general formula (B) and the polymer containing a partial structure represented respectively by (C), in addition to those represented by the general formula (B) and (C), solubility, in order to impart flexibility the monofunctional monomer may be copolymerized.
1官能のモノマーとしては、例えば、イソブチルアクリレート、t−ブチルアクリレート、イソオクチルアクリレート、ラウリルアクリレート、ステアリルアクリレート、イソボルニルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、2−メトキシエチルアクリレート、メトキシトリエチレングリコールアクリレート、2−エトキシエチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、ベンジルアクリレート、エチルカルビトールアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシアクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、4−ヒドロキシブチルアクリレート、メトキシポリエチレングリコールアクリレート、メトキシポリエチレングリコールメタクリレート、フェノキシポリエチレングリコールアクリレー The monofunctional monomers, e.g., isobutyl acrylate, t- butyl acrylate, isooctyl acrylate, lauryl acrylate, stearyl acrylate, isobornyl acrylate, cyclohexyl acrylate, 2-methoxyethyl acrylate, methoxy triethylene glycol acrylate, 2-ethoxyethyl ethyl acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, benzyl acrylate, ethyl carbitol acrylate, phenoxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 4-hydroxybutyl acrylate, methoxy polyethylene glycol acrylate, methoxy polyethylene glycol methacrylate, phenoxy polyethylene glycol acrylates 、フェノキシポリエチレングリコールメタクリレート、ヒドロキシエチルo−フェニルフェノールアクリレート、o−フェニルフェノールグリシジルエーテルアクリレート、などのアクリレート、あるいは、メタクリレート、スチレン、α−メチルスチレン、4−メチルスチレンなどのスチレン誘導体などが挙げられる。 , Phenoxy polyethylene glycol methacrylate, hydroxyethyl o- phenylphenol acrylate, o- phenylphenol glycidyl ether acrylate acrylate such, or, methacrylate, styrene, alpha-methyl styrene, styrene derivatives such as 4-methyl styrene.
これらを共重合する際に使用される量(l)は、溶解性及び可とう性を付与する観点から、上記一般式(D)中のmに対してl/m<0.3が望ましく、l/m<0.2がより望ましい。 The amount to be used in the copolymerization of these (l), from the viewpoint of imparting solubility and flexibility, l / m <0.3 is preferable for m in the general formula (D), l / m <0.2 is more desirable.

−非反応性の電荷輸送材料− - non-reactive charge transport material -
保護層(最表面層)5を構成する膜は、非反応性の電荷輸送材料を併用してもよい。 Film constituting the protective layer (outermost layer) 5 may be used in combination with non-reactive charge transport material. 非反応性の電荷輸送材料は電荷輸送を担っていない反応性基を有さないため、非反応性の電荷輸送材料を保護層(最表面層)5に用いた場合には実質的に電荷輸送成分の濃度が高まり、電気特性を更に改善するのに有効である。 Since the non-reactive charge transport material having no reactive groups which are not responsible for charge transport, in the case of using a non-reactive charge transport material in the protective layer (outermost layer) 5 substantially charge-transporting increased concentration of the component, is effective to further improve the electrical characteristics. また、非反応性の電荷輸送材料を添加して架橋密度を減じ、強度を調整してもよい。 Further, the addition of non-reactive charge transport material by subtracting the cross-linking density may be adjusted intensity.

非反応性の電荷輸送材料としては、公知の電荷輸送材料を用いてもよく、具体的には、トリアリールアミン系化合物、ベンジジン系化合物、アリールアルカン系化合物、アリール置換エチレン系化合物、スチルベン系化合物、アントラセン系化合物、ヒドラゾン系化合物等が用いられる。 The non-reactive charge transporting material may be a known charge transporting material, specifically, triarylamine compounds, benzidine compounds, arylalkane compounds, aryl-substituted ethylene compounds, stilbene compounds , anthracene compounds, hydrazone compounds and the like.
中でも、モビリティー、相溶性など点から、トリフェニルアミン骨格を有するものが望ましい。 Among them, mobility, from the point such as compatibility, those having a triphenylamine skeleton is preferable.

非反応性の電荷輸送材料は、層形成のための塗布液中の全固形分に対して0質量%以上30質量%以下で用いられることが望ましく、より望ましくは1質量%以上25質量%以下であり、更に望ましくは5質量%以上25質量%以下である。 Non-reactive charge transport material is preferably used at 0% by weight to 30% by weight relative to the total solids in the coating solution for forming the layer, more preferably more than 1 wt% 25 wt% or less , still preferably is 25 wt% or less than 5 wt%.

−その他の添加剤− - Other additives -
保護層(最表面層)5を構成する膜は、更に成膜性、可とう性、潤滑性、接着性を調整するなどの目的から、他のカップリング剤、特にフッ素含有のカップリング剤と混合して用いてもよい。 Film constituting the protective layer (outermost layer) 5, further film-forming property, flexibility, lubricity, the purpose of adjusting the adhesion, other coupling agents, and in particular a fluorine-containing coupling agent it may be used as a mixture. このような化合物として、各種シランカップリング剤、及び市販のシリコーン系ハードコート剤が用いられる。 Such compounds, various silane coupling agents and commercially available silicone-based hard coating agents. また、ラジカル重合性基を有するシリコン化合物、フッ素含有化合物を用いてもよい。 The silicon compound having a radical polymerizable group, may be used a fluorine-containing compound.

シランカップリング剤としては、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−β(アミノエチル)γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、テトラメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、等が挙げられる。 Examples of the silane coupling agent, vinyltrichlorosilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, .gamma.-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, .gamma.-glycidoxypropyltrimethoxysilane, .gamma.-glycidoxypropyltrimethoxysilane silane, .gamma.-aminopropyltriethoxysilane, .gamma.-aminopropyltrimethoxysilane, .gamma.-aminopropyl methyl dimethoxy silane, N-beta (aminoethyl) .gamma.-aminopropyltriethoxysilane, tetramethoxysilane, methyltrimethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, and the like.
市販のハードコート剤としては、KP−85、X−40−9740、X−8239(以上、信越化学工業社製)、AY42−440、AY42−441、AY49−208(以上、東レダウコーニング社製)等が挙げられる。 Examples of the commercially available hard coating agent, KP-85, X-40-9740, X-8239 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), AY42-440, AY42-441, AY49-208 (or more, manufactured by Dow Corning Toray Co., Ltd. ), and the like.

また、撥水性等の付与のために、(トリデカフルオロ−1,1,2,2−テトラヒドロオクチル)トリエトキシシラン、(3,3,3−トリフルオロプロピル)トリメトキシシラン、3−(ヘプタフルオロイソプロポキシ)プロピルトリエトキシシラン、1H,1H,2H,2H−パーフルオロアルキルトリエトキシシラン、1H,1H,2H,2H−パーフルオロデシルトリエトキシシラン、1H,1H,2H,2H−パーフルオロオクチルトリエトシキシラン、等の含フッ素化合物を加えてもよい。 Further, in order to impart water repellency, (tridecafluoro-1,1,2,2-tetrahydrooctyl) triethoxysilane, (3,3,3-trifluoropropyl) trimethoxysilane, 3- (hepta fluoro-isopropoxyphenyl) propyl triethoxysilane, 1H, 1H, 2H, 2H- perfluoroalkyl triethoxysilane, 1H, 1H, 2H, 2H- perfluorodecyltriethoxysilane, 1H, 1H, 2H, 2H- perfluorooctyl triethoxysilane Toshiki silane may be added a fluorine-containing compound and the like.

シランカップリング剤は任意の量で使用されるが、含フッ素化合物の量は、架橋膜の成膜性の観点から、フッ素を含まない化合物に対して質量で0.25倍以下とすることが望ましい。 Silane coupling agents are used in any amount, the amount of the fluorine-containing compound, from the viewpoint of film formability of the crosslinked film, by mass relative to no fluorine include compounds be 0.25 times or less desirable. 更に、特開2001−166510号公報などに開示されている反応性のフッ素化合物などを混合してもよい。 Furthermore, it may be mixed and reactive fluorine compounds which are disclosed in, JP-2001-166510.
ラジカル重合性基を有するシリコン化合物、フッ素含有化合物としては、特開2007−11005号公報に記載の化合物などが挙げられる。 Silicon compound having a radical polymerizable group, as the fluorine-containing compound, include compounds described in JP-A-2007-11005.

保護層(最表面層)5を構成する膜には、劣化防止剤を添加することが望ましい。 The film constituting the 5 protective layer (outermost layer), it is preferable to add a deterioration inhibitor. 劣化防止剤としては、ヒンダードフェノール系あるいはヒンダードアミン系が望ましく、有機イオウ系酸化防止剤、フォスファイト系酸化防止剤、ジチオカルバミン酸塩系酸化防止剤、チオウレア系酸化防止剤、ベンズイミダゾール系酸化防止剤、などの公知の酸化防止剤を用いてもよい。 The deterioration inhibitor, a hindered phenol or hindered amine is preferably an organic sulfur antioxidants, phosphite antioxidants, dithiocarbamate antioxidants, thiourea antioxidants, benzimidazole antioxidants it may be a known antioxidant such as.
劣化防止剤の添加量としては20質量%以下が望ましく、10質量%以下がより望ましい。 Desirably 20 mass% or less as an additive amount of the deterioration inhibitor or less, more preferably 10% by mass.

ヒンダードフェノール系酸化防止剤としては、イルガノックス1076、イルガノックス1010、イルガノックス1098、イルガノックス245、イルガノックス1330、イルガノックス3114、イルガノックス1076、3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシビフェニル等が挙げられる。 Examples of the hindered phenol antioxidant, Irganox 1076, Irganox 1010, Irganox 1098, Irganox 245, Irganox 1330, Irganox 3114, Irganox 1076,3,5- di -t- butyl-4 hydroxybiphenyl, and the like.
ヒンダードアミン系酸化防止剤としては、サノールLS2626、サノールLS765、サノールLS770、サノールLS744、チヌビン144、チヌビン622LD、マークLA57、マークLA67、マークLA62、マークLA68、マークLA63が挙げられ、チオエーテル系として、スミライザーTPS、スミライザーTP−Dが挙げられ、ホスファイト系として、マーク2112、マークPEP−8、マークPEP−24G、マークPEP−36、マーク329K、マークHP−10等が挙げられる。 The hindered amine antioxidants, Sanol LS2626, Sanol LS765, Sanol LS770, Sanol LS744, Tinuvin 144, Tinuvin 622LD, Mark LA57, Mark LA67, Mark LA62, Mark LA68, Mark LA63 and the like, as thioether, Sumilizer TPS , it includes Sumilizer TP-D, as a phosphite, mark 2112, mark PEP-8, mark PEP-24G, mark PEP-36, mark 329K, include mark HP-10 and the like.

保護層(最表面層)5を構成する膜には、導電性粒子や、有機、無機粒子を添加してもよい。 The film constituting the 5 protective layer (outermost layer), and conductive particles, organic, may be added to the inorganic particles.
この粒子の一例として、ケイ素含有粒子が挙げられる。 As an example of the particles is silicon-containing particles. ケイ素含有粒子とは、構成元素にケイ素を含む粒子であり、具体的には、コロイダルシリカ及びシリコーン粒子等が挙げられる。 The silicon-containing particles are particles containing silicon as a constituent element, and specific examples thereof include colloidal silica and silicone particles. ケイ素含有粒子として用いられるコロイダルシリカは、望ましくは平均粒径1nm以上100nm以下、より望ましくは10nm以上30nm以下のシリカを、酸性若しくはアルカリ性の水分散液、あるいはアルコール、ケトン、エステル等の有機溶媒中に分散させたものから選ばれる。 Colloidal silica used as silicon-containing particles is desirably an average particle diameter of 1nm or more 100nm or less, more preferably 10nm or more 30nm or less silica, acidic or alkaline aqueous dispersion, or an alcohol, ketone, organic solvent such as an ester selected from those dispersed in. 該粒子としては一般に市販されているものを使用してもよい。 It may also be used those generally marketed as particles.

保護層中のコロイダルシリカの固形分含有量は、特に限定されるものではないが、保護層5の全固形分全量を基準として、0.1質量%以上50質量%以下、望ましくは0.1質量%以上30質量%以下の範囲で用いられる。 The solid content of the colloidal silica in the protective layer is not particularly limited, based on the total solid content of the protective layer 5, 50 wt% or less than 0.1 wt%, preferably 0.1 mass% or more 30 wt% used in the following range.

ケイ素含有粒子として用いられるシリコーン粒子は、シリコーン樹脂粒子、シリコーンゴム粒子、シリコーン表面処理シリカ粒子から選ばれ、一般に市販されているものを使用してもよい。 The silicone particles used as the silicon-containing particles, silicone resin particles, silicone rubber particles are selected from silicone surface-treated silica particles, may be used those generally commercially available.
これらのシリコーン粒子は球状で、その平均粒径は望ましくは1nm以上500nm以下、より望ましくは10nm以上100nm以下である。 These silicone particles are spherical, the average particle diameter preferably 1nm or 500nm or less, and more desirably from 10nm or 100nm or less.
表面層中のシリコーン粒子の含有量は、保護層5の全固形分全量を基準として、望ましくは0.1質量%以上30質量%以下、より望ましくは0.5質量%以上10質量%以下である。 The content of silicone particles in the surface layer, based on the total solid content of the protective layer 5, preferably 30 wt% or more 0.1 wt% or less, more preferably 10 mass% or less than 0.5 wt% is there.

また、その他の粒子としては、四フッ化エチレン、三フッ化エチレン、六フッ化プロピレン、フッ化ビニル、フッ化ビニリデン等のフッ素系粒子や“第8回ポリマー材料フォーラム講演予稿集、89頁”に示される、フッ素樹脂と水酸基を有するモノマーを共重合させた樹脂で構成される粒子、ZnO−Al 、SnO −Sb 、In −SnO 、ZnO −TIO 、ZnO−TIO 、MgO−Al 、FeO−TIO 、TIO 、SnO 、In 、ZnO、MgO等の半導電性金属酸化物が挙げられる。 As the other particles, tetrafluoroethylene, trifluoroethylene, hexafluoropropylene, vinyl fluoride, Ya fluorine-based particles such as vinylidene fluoride "8th Polymer Material Forum Lecture Proceedings, page 89" represented by, fluororesin and hydroxyl particles composed of a resin obtained by copolymerizing a monomer having a, ZnO-Al 2 O 3, SnO 2 -Sb 2 O 3, in 2 O 3 -SnO 2, ZnO 2 -TIO to 2, ZnO-TIO 2, MgO -Al 2 O 3, FeO-TIO 2, TIO 2, SnO 2, in 2 O 3, ZnO, include semiconductive metal oxides such as MgO. さらに、粒子を分散させるために公知の種々の分散材を用いてもよい。 Further, it may be used various known dispersing agent to disperse the particles.

保護層(最表面層)5を構成する膜には、シリコーンオイル等のオイルを添加してもよい。 The film constituting the 5 protective layer (outermost layer) may be added to the oil such as silicone oil.
シリコーンオイルとしては、ジメチルポリシロキサン、ジフェニルポリシロキサン、フェニルメチルシロキサン等のシリコーンオイル;アミノ変性ポリシロキサン、エポキシ変性ポリシロキサン、カルボキシル変性ポリシロキサン、カルビノール変性ポリシロキサン、メタクリル変性ポリシロキサン、メルカプト変性ポリシロキサン、フェノール変性ポリシロキサン等の反応性シリコーンオイル;ヘキサメチルシクロトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサン、ドデカメチルシクロヘキサシロキサン等の環状ジメチルシクロシロキサン類;1,3,5−トリメチル−1.3.5−トリフェニルシクロトリシロキサン、1,3,5,7−テトラメチル−1,3,5,7−テトラフェニルシクロ Examples of the silicone oil, dimethyl polysiloxane, diphenyl polysiloxane, silicone oils such as phenyl methyl siloxane; amino-modified polysiloxane, epoxy-modified polysiloxane, carboxyl-modified polysiloxane, carbinol modified polysiloxane, methacryl-modified polysiloxane, mercapto-modified poly siloxanes, reactive silicone oil and phenol-modified polysiloxane; hexamethylcyclotrisiloxane, octamethylcyclotetrasiloxane, decamethylcyclopentasiloxane, cyclic dimethylcyclosiloxanes such as dodecamethylcyclohexasiloxane; 1,3,5 trimethyl -1.3.5- triphenyl cyclotrisiloxane, 1,3,5,7-tetramethyl-1,3,5,7-tetraphenyl cyclo トラシロキサン、1,3,5,7,9−ペンタメチル−1,3,5,7,9−ペンタフェニルシクロペンタシロキサン等の環状メチルフェニルシクロシロキサン類;ヘキサフェニルシクロトリシロキサン等の環状フェニルシクロシロキサン類;3−(3,3,3−トリフルオロプロピル)メチルシクロトリシロキサン等のフッ素含有シクロシロキサン類;メチルヒドロシロキサン混合物、ペンタメチルシクロペンタシロキサン、フェニルヒドロシクロシロキサン等のヒドロシリル基含有シクロシロキサン類;ペンタビニルペンタメチルシクロペンタシロキサン等のビニル基含有シクロシロキサン類等が挙げられる。 Tiger siloxane, 1,3,5,7,9-pentamethyl-1,3,5,7,9-penta-phenylcyclopropyl cyclic methylphenylsiloxane cyclosiloxanes of pentasiloxane and the like; cyclic phenyl cyclosiloxane such as hexaphenylcyclotrisiloxane s; 3- (3,3,3-trifluoropropyl) fluorine-containing cyclosiloxane such as octamethylcyclotetrasiloxane; methylhydrosiloxane mixture, pentamethylcyclopentasiloxane, hydrosilyl group-containing cyclosiloxanes such as phenyl hydrocyclosiloxane ; vinyl group-containing cyclosiloxanes such as penta vinyl pentamethylcyclopentasiloxane and the like.

保護層(最表面層)5を構成する膜には、金属、金属酸化物及びカーボンブラック等を添加してもよい。 The film constituting the 5 protective layer (outermost layer), a metal may be added metal oxides and carbon black. 金属としては、アルミニウム、亜鉛、銅、クロム、ニッケル、銀及びステンレス等、又はこれらの金属をプラスチックの粒子の表面に蒸着したもの等が挙げられる。 Examples of the metal include aluminum, zinc, copper, chromium, nickel, silver and stainless steel, or these metals and the like that deposited on the surface of the plastic particles. 金属酸化物としては、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化スズ、酸化アンチモン、酸化インジウム、酸化ビスマス、スズをドープした酸化インジウム、アンチモンやタンタルをドープした酸化スズ及びアンチモンをドープした酸化ジルコニウム等が挙げられる。 As the metal oxide, zinc oxide, titanium oxide, tin oxide, antimony oxide, indium oxide, and bismuth oxide, tin-doped indium oxide, zirconium oxide doped with tin oxide and antimony doped with antimony or tantalum .
これらは単独で、又は2種以上を組み合わせて用いる。 These are used singly or in combination of two or more. 2種以上を組み合わせて用いる場合は、単に混合しても、固溶体や融着での混合でもよい。 When used in combination of two or more will simply be mixed, or a mixture of a solid solution or fusion. 導電性粒子の平均粒径は0.3μm以下、特に0.1μm以下が望ましい。 The average particle diameter of the conductive particles is 0.3μm or less, in particular less desirable 0.1 [mu] m.

−組成物− - composition -
保護層5を形成するために用いる組成物は、各成分を溶媒中に溶解又は分散してなる保護層形成用塗布液として調製されることが望ましい。 The composition used to form the protective layer 5 is preferably prepared each component as a protective layer-forming coating solution obtained by dissolving or dispersing in a solvent.
この保護層形成用塗布液は、無溶媒であってもよいし、必要に応じて、トルエン、キシレンなどの芳香族、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン系、酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル系、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル系、エチレングリコールモノメチルエーテルなどのセロソルブ系、イソプロピルアルコール、ブタノールなどのアルコール系等の溶媒などの単独又は混合溶媒を用いて調製される。 The protective layer-forming coating liquid may be a solvent-free, if necessary, toluene, aromatic and xylene, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, ketones such as cyclohexanone system, ethyl acetate, such as butyl acetate ester, tetrahydrofuran, ethers such as dioxane type, cellosolve such as ethylene glycol monomethyl ether, are prepared using a single or a mixed solvent such as an alcohol solvent such as such as isopropyl alcohol, butanol.

また、前述の成分を反応させて塗布液を得るときには、各成分を単純に混合、溶解させるだけでもよいが、望ましくは室温(20℃)以上100℃以下、より望ましくは30℃以上80℃以下で、望ましくは10分以上100時間以下、より望ましくは1時間以上50時間以下の条件で加温する。 Further, when obtaining a coating solution by reacting the above components, simply mixing the components, but may simply be dissolved, preferably at room temperature (20 ° C.) or higher 100 ° C. or less, more preferably 30 ° C. or higher 80 ° C. or less in, preferably 100 hours or 10 minutes or less, more desirably heated under the following conditions 50 or more hours 1 hour. また、この際に超音波を照射することも望ましい。 It is also desirable to ultrasonic waves in this.

−保護層5の作製− - Preparation of the protective layer 5 -
保護層形成用塗布液は、被塗布面(図1に示す態様では電荷輸送層3)の上に、ブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法、インクジェット塗布法等の通常の方法により塗布される。 Protective layer forming coating solution, on top of the coated surface (the charge transport layer 3 in the embodiment shown in FIG. 1), a blade coating method, wire bar coating, spray coating, dip coating, bead coating, air knife coating, curtain coating, applied by conventional methods such as ink-jet coating method.
その後、得られた塗膜に対して、光、電子線又は熱を付与してラジカル重合を生起させて、該塗膜を重合、硬化させる。 Thereafter, the resulting coating film, light, by applying an electron beam or heat by rise to radical polymerization, the coating film of the polymer is cured.

重合、硬化の方法は、熱、光、放射線などが用いられる。 Polymerization, the method of curing, heat, light, radiation and the like are used. 熱、光で重合、硬化を行う場合、重合開始剤は必ずしも必要ではないが、光硬化触媒又は熱重合開始剤を用いてもよい。 Heat, polymerization by light, when performing curing, the polymerization initiator is not necessarily required, it may be used photocuring catalyst or thermal polymerization initiator. この光硬化触媒及び熱重合開始剤としては、公知の光硬化触媒や熱重合開始剤が用いられる。 As the photocuring catalyst and a thermal polymerization initiator, a known light curing catalyst and a thermal polymerization initiator is used. 放射線としては電子線が望ましい。 As the radiation is desirable that the electron beam.

・電子線硬化 電子線を用いる場合、加速電圧は300KV以下が望ましく、最適には150KV以下である。 - When using an electron beam curing an electron beam, the acceleration voltage is less desirable 300 KV, and optimally less conditions of 150 kV. また、線量は望ましくは1Mrad以上100Mrad以下の範囲、より望ましくは3Mrad以上50Mrad以下の範囲である。 Further, the dose is desirably 100Mrad the range above 1 Mrad, and more preferably a 50Mrad less range of 3 Mrad. 加速電圧が300KV以下であることにより感光体特性に対する電子線照射のダメージが抑制される。 Damage of the electron beam irradiation to the photoreceptor characteristics can be suppressed by accelerating voltage is less than 300 KV. また、線量が1Mrad以上であることにより架橋が十分に行なわれ、100Mrad以下であることにより感光体の劣化が抑制される。 Also, dose crosslinking is sufficiently carried out by at least 1 Mrad, deterioration of the photosensitive member is inhibited by at most 100 Mrad.

照射は、窒素、アルゴンなどの不活性ガス雰囲気下、酸素濃度が1000ppm、望ましくは500ppm以下で行い、さらに照射中、あるいは照射後に50℃以上150℃以下に加熱してもよい。 Irradiation, nitrogen, an inert gas atmosphere such as argon, oxygen concentration is 1000 ppm, preferably performed at 500ppm or less, in addition irradiation, or may be heated to 50 ° C. or higher 0.99 ° C. or less after irradiation.

・光硬化 光源としては、高圧水銀灯、低圧水銀灯、メタルハライドランプなどが用いられ、バンドパスフィルター等のフィルターを用いて好適な波長を選択してもよい。 · The light curing light source, high pressure mercury lamps, low pressure mercury lamp, metal halide lamp is used, may be selected suitable wavelength using a filter such as a band-pass filter. 照射時間、光強度は自由に選択されるが、例えば照度(365nm)は300mW/cm 以上、1000mW/cm 以下が望ましく、例えば600mW/cm のUV光を照射する場合、5秒以上360秒以下照射すればよい。 Irradiation time, the light intensity is selected freely, for example, the illuminance (365 nm) is 300 mW / cm 2 or more, 1000 mW / cm 2 or less is desirable, for example, the case of irradiation with UV light of 600 mW / cm 2, 5 seconds or more 360 seconds may be irradiated below.

照射は、窒素、アルゴンなどの不活性ガス雰囲気下、酸素濃度が望ましくは1000ppm以下、より望ましくは500ppm以下で行い、さらに照射中、あるいは照射後に50℃以上150℃以下に加熱してもよい。 Irradiation, nitrogen, an inert gas atmosphere such as argon, oxygen concentration is desirably 1000ppm or less, performed by more desirably 500ppm or less, in addition irradiation, or may be heated to 50 ° C. or higher 0.99 ° C. or less after irradiation.

光硬化触媒として、分子内開裂型としては、ベンジルケタール系、アルキルフェノン系、アミノアルキルフェノン系、ホスフィンオキサイド系、チタノセン系、オキシム系などが挙げられる。 As a photocuring catalyst, as the intramolecular cleavage type, benzyl ketal, alkyl phenone, aminoalkyl phenone, phosphine oxide, titanocene, and the like oxime.
より具体的には、ベンジルケタール系として、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オンが挙げられる。 More specifically, as benzyl ketal-based, it includes 2,2-dimethoxy-1,2-.

また、アルキルフェノン系としては、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−プロパン−1−オン、1−[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−フェニル]−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−プロパン−1−オン、2−ヒドロキシ−1−{4−[4−(2−ヒドロキシ−2−メチル−プロピオニル)−ベンジル]フェニル}−2−メチル−プロパン−1−オン、アセトフェノン、2−フェニル−2−(p−トルエンスルフォニルオキシ)アセトフェノンが挙げられる。 The alkyl phenone, 1-hydroxy - cyclohexyl - phenyl - ketone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl - propane-1-one, 1- [4- (2-hydroxyethoxy) - phenyl] -2-hydroxy-2-methyl-1-hydroxy-1- {4- [4- (2-hydroxy-2-methyl - propionyl) - benzyl] phenyl} -2-methyl - propan-1-one, acetophenone, 2-phenyl-2-(p-toluenesulfonyl oxy) acetophenone.
アミノアルキルフェノン系としては、p−ジメチルアミノアセトフェノン、p−ジメチルアミノプロピオフェノン、2−メチル−1−(4−メチルチオフェニル)−2−モルフォリノプロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノン−1,2−(ジメチルアミノ)−2−[(4−メチルフェニル)メチル]−1−[4−(4−モリホニル)フェニル]−1−ブタノンなどが挙げられる。 The aminoalkyl phenone, p- dimethylaminoacetophenone, p- dimethylamino propiophenone, 2-methyl-1- (4-methylthiophenyl) -2-morpholinopropan-1-one, 2-benzyl-2- dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) - butanone-1,2 (dimethylamino) -2 - [(4-methylphenyl) methyl] -1- [4- (4-Morihoniru) phenyl] -1 - such as butanone, and the like.
ホスフィノキサイド系としては、2,4,6−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−ホスフィンオキサイド、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルホスフィンキサイドなどが挙げられる。 The phosphino key side system, 2,4,6-trimethylbenzoyl - diphenyl - phosphine oxide, bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) - phenyl phosphine key side thereof.
チタノセン系としては、ビス(η5−2,4−シクロペンタジエン−1−イル)−ビス(2,6−ジフルオロ−3−(1H−ピロール−1−イル)−フェニル)チタニウムなどが挙げられる。 The titanocene, bis (Ita5-2,4- cyclopentadiene-1-yl) - bis (2,6-difluoro-3-(1H-pyrrol-1-yl) - phenyl), such as titanium and the like.
オキシム系としては、1,2−オクタンジオン,1−[4−(フェニルチオ)−,2−(O−ベンゾイルオキシム)]、エタノン,1−[9−エチル−6−(2−メチルベンゾイル)−9H−カルバゾール−3−イル]−,1−(O−アセチルオキシム)などが挙げられる。 The oxime, 1,2-octanedione, 1- [4- (phenylthio) -, 2- (O-benzoyl oxime)], ethanone, 1- [9-ethyl-6- (2-methylbenzoyl) - 9H- carbazol-3-yl] -, 1- (O- acetyloxime) and the like.

水素引抜型としては、ベンゾフェノン系、チオキサントン系、ベンジル系、ミヒラーケトン系などが挙げられる。 The hydrogen abstraction type, benzophenone, thioxanthone, benzyl-based, and the like Michler's system.
より具体的には、ベンゾフェノン系として、2−ベンゾイル安息香酸、2−クロロベンゾフェノン、4,4'−ジクロロベンゾフェノン、4−ベンゾイル−4'−メチルジフェニルスルフィド、p,p'−ビスジエチルアミノベンゾフェノンなどが挙げられる。 More specifically, as benzophenone, 2-benzoyl benzoic acid, 2-chloro benzophenone, 4,4'-dichlorobenzophenone, 4-benzoyl-4'-methyl diphenyl sulfide, p, etc. p'- bisdiethylaminobenzophenone is and the like.
チオキサントン系としては、2,4−ジエチルチオキサンテン−9−オン、2−クロロチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントンなどが挙げられる。 The thioxanthone, 2,4-diethyl thioxanthone-9-one, 2-chloro thioxanthone, and 2-isopropylthioxanthone and the like.
ベンジル系としては、ベンジル、(±)−カンファーキノン、p−アニシルなどが挙げられる。 The benzyl-based, benzyl, (±) - camphor quinone, such as p- anisyl and the like.

これらの光重合開始剤は、単独で又は2種類以上を組み合わせて用られる。 These photopolymerization initiators may be use alone or in combinations of two or more.

・熱硬化 熱重合開始剤としては、V−30、V−40、V−59、V601、V65、V−70、VF−096、VE−073、Vam−110、Vam−111(和光純薬製)、OTazo−15、OTazo−30、AIBN、AMBN、ADVN、ACVA(大塚化学)等のアゾ系開始剤;パーテトラA、パーヘキサHC、パーヘキサC、パーヘキサV、パーヘキサ22、パーヘキサMC、パーブチルH、パークミルH、パークミルP、パーメンタH、パーオクタH、パーブチルC、パーブチルD、パーヘキシルD、パーロイルIB、パーロイル355、パーロイルL、パーロイルSA、ナイパーBW、ナイパーBMT−K40/M、パーロイルIPP、パーロイルNPP、パーロイルTCP、パーロイルOPP、パーロイルSBP、 · The thermosetting thermal polymerization initiator, V-30, V-40, V-59, V601, V65, V-70, VF-096, VE-073, Vam-110, Vam-111 (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd. ), OTazo-15, OTazo-30, AIBN, AMBN, ADVN, azo initiators such as ACVA (manufactured by Otsuka Chemical); Patetora a, Perhexa HC, PERHEXA C, PERHEXA V, PERHEXA 22, PERHEXA MC, PERBUTYL H, PERCUMYL H, PERCUMYL P, Pamenta H, Perocta H, Perbutyl C, Perbutyl D, PERHEXYL D, PEROYL IB, Peroyl 355, Peroyl L, Peroyl SA, NYPER BW, NYPER BMT-K40 / M, PEROYL IPP, Peroyl NPP, PEROYL TCP , Peroyl OPP, Peroyl SBP, パークミルND、パーオクタND、パーヘキシルND、パーブチルND、パーブチルNHP、パーヘキシルPV、パーブチルPV、パーヘキサ250、パーオクタO、パーヘキシルO、パーブチルO、パーブチルL、パーブチル355、パーヘキシルI、パーブチルI、パーブチルE、パーヘキサ25Z、パーブチルA、パーヘキシルZ、パーブチルZT、パーブチルZ(日油化学社製)、カヤケタールAM−C55、トリゴノックス36−C75、ラウロックス、パーカドックスL−W75、パーカドックスCH−50L、トリゴノックスTMBH、カヤクメンH、カヤブチルH−70、ペルカドックスBC−FF、カヤヘキサAD、パーカドックス14、カヤブチルC、カヤブチルD、カヤヘキサYD−E85、パーカドックス12−X PERCUMYL ND, Perocta ND, PERHEXYL ND, PERBUTYL ND, PERBUTYL NHP, PERHEXYL PV, PERBUTYL PV, PERHEXA 250, Perocta O, PERHEXYL O, PERBUTYL O, PERBUTYL L, PERBUTYL 355, PERHEXYL I, PERBUTYL I, PERBUTYL E, PERHEXA 25Z , Perbutyl A, PERHEXYL Z, PERBUTYL ZT, Perbutyl Z (manufactured by NOF chemical Co.), Kayaketaru AM-C55, Trigonox 36-C75, Raurokkusu, Perkadox L-W75, Perkadox CH-50L, Trigonox TMBH, Kayakumen H, Kayabutyl H-70, Perukadokkusu BC-FF, Kayahekisa AD, Perkadox 14, Kayabutyl C, Kayabutyl D, Kayahekisa YD-E85, Perkadox 12-X 25、パーカドックス12−EB20、トリゴノックス22−N70、トリゴノックス22−70E、トリゴノックスD−T50、トリゴノックス423−C70、カヤエステルCND−C70、カヤエステルCND−W50、トリゴノックス23−C70、トリゴノックス23−W50N、トリゴノックス257−C70、カヤエステルP−70、カヤエステルTMPO−70、トリゴノックス121、カヤエステルO、カヤエステルHTP−65W、カヤエステルAN、トリゴノックス42、トリゴノックスF−C50、カヤブチルB、カヤカルボンEH−C70、カヤカルボンEH−W60、カヤカルボンI−20、カヤカルボンBIC−75、トリゴノックス117、カヤレン6−70(化薬アクゾ社製)、ルルペロックス610 25, Perkadox 12-EB20, Trigonox 22-N70, Trigonox 22-70E, Trigonox D-T50, Trigonox 423-C70, Kayaester CND-C70, Kayaester CND-W50, Trigonox 23-C70, Trigonox 23-W50N, Trigonox 257-C70, Kayaester P-70, Kayaester TMPO-70, Trigonox 121, Kayaester O, Kayaester HTP-65W, Kayaester AN, Trigonox 42, Trigonox F-C50, Kayabutyl B, Kayakarubon EH-C70, Kayakarubon EH-W60, Kayakarubon I-20, Kayakarubon BIC-75, Trigonox 117, Kayaren 6-70 (manufactured by Kayaku Akzo Corporation), Ruruperokkusu 610 ルペロックス188、ルペロックス844、ルペロックス259、ルペロックス10、ルペロックス701、ルペロックス11、ルペロックス26、ルペロックス80、ルペロックス7、ルペロックス270、ルペロックスP、ルペロックス546、ルペロックス554、ルペロックス575、ルペロックスTANPO、ルペロックス555、ルペロックス570、ルペロックスTAP、ルペロックスTBIC、ルペロックスTBEC、ルペロックスJW、ルペロックスTAIC、ルペロックスTAEC、ルペロックスDC、ルペロックス101、ルペロックスF、ルペロックスDI、ルペロックス130、ルペロックス220、ルペロックス230、ルペロックス233、ルペロックス531などが挙げられる。 Luperox 188, Luperox 844, Luperox 259, Luperox 10, Luperox 701, Luperox 11, Luperox 26, Luperox 80, Luperox 7, Luperox 270, Luperox P, Luperox 546, Luperox 554, Luperox 575, Luperox TANPO, Luperox 555, Luperox 570 , Luperox TAP, Luperox TBIC, Luperox TBEC, Luperox JW, Luperox TAIC, Luperox TAEC, Luperox DC, Luperox 101, Luperox F, Luperox DI, Luperox 130, Luperox 220, Luperox 230, Luperox 233, and the like Luperox 531.

これらのうち、分子量250以上のアゾ系重合開始剤を用いると、低い温度でムラなく反応が進行することから、ムラの抑制された高強度の膜の形成が図られる。 Of these, the use of molecular weight 250 or more azo polymerization initiators, since the evenly reaction proceeds at lower temperatures, the formation of the film having a high strength with suppressed unevenness can be achieved. より好適には、アゾ系重合開始剤の分子量は、250以上であり、300以上が更に好適である。 More preferably, the molecular weight of the azo polymerization initiator is 250 or more, 300 or more is more preferable.

加熱は、窒素、アルゴンなどの不活性ガス雰囲気下、酸素濃度が望ましくは1000ppm以下、より望ましくは500ppm以下で行い、望ましくは50℃以上170℃以下、より望ましくは70℃以上150℃以下で、望ましくは10分以上120分以下、より望ましくは15分以上100分以下加熱する。 Heating, nitrogen, an inert gas atmosphere such as argon, oxygen concentration is desirably 1000ppm or less, and more preferably is carried out at 500ppm or less, preferably 170 ° C. or higher 50 ° C. or less, and more preferably at 70 ° C. or higher 0.99 ° C. or less, preferably more than 120 minutes 10 minutes or less, more desirably heated to 100 minutes or more 15 minutes.

光硬化触媒又は熱重合開始剤の総含有量は、層形成のための溶解液中の全固形分に対して0.1質量%以上10質量%以下が望ましく、更には0.1質量%以上8質量%以下がより望ましく、0.1質量%以上5質量%以下の範囲が特に望ましい。 The total content of the light curing catalyst or thermal polymerization initiator is preferably 0.1% by weight to 10% by weight relative to the total solid content of the lysates for layer formation, even 0.1 wt% 8 wt% or less, more preferably, particularly preferred in the range of less than 5 wt% 0.1 wt%.

なお、 本実施態様では、反応が早く進行しすぎると架橋により塗膜の構造緩和ができ難くなり、膜のムラやシワを発生しやすくなるといった理由から、ラジカルの発生が比較的ゆっくりと起こる熱による硬化方法が採用される。 In the present embodiment, the reaction hardly possible structural relaxation of the coating film and the crosslinking proceeds too quickly, because such tends to occur unevenness and wrinkles of the film, generation of radicals relatively slowly occurring heat curing method by is adopted.
特に、特定の反応性基含有電荷輸送材料と熱による硬化とを組み合わせることで、塗膜の構造緩和の促進が図られ、表面性状に優れた高い保護層5(最表面層)が得られ易くなる。 In particular, by combining the curing by specific reactive group-containing charge transporting material and heat, the promotion of structural relaxation of the coating film is achieved, high protection layer 5 (outermost layer) having excellent surface properties easily obtained Become.

保護層5の膜厚は3μm以上40μm以下程度が望ましく、5μm以上35μm以下とするのがさらに望ましい。 The thickness of the protective layer 5 is desirably extent than 40μm or less 3 [mu] m, and more desirably set to 5μm or 35μm or less.

(導電性基体) (Conductive substrate)
導電性基体4としては、例えば、アルミニウム、銅、亜鉛、ステンレス、クロム、ニッケル、モリブデン、バナジウム、インジウム、金、白金等の金属又は合金を用いて構成される金属板、金属ドラム、及び金属ベルトが挙げられる。 The conductive substrate 4, for example, aluminum, copper, zinc, stainless steel, chromium, nickel, molybdenum, vanadium, indium, gold, platinum metals or metal plate formed with an alloy, a metal drum, and a metal belt and the like. また、導電性基体4としては、導電性ポリマー、酸化インジウム等の導電性化合物やアルミニウム、パラジウム、金等の金属又は合金を塗布、蒸着又はラミネートした紙、プラスチックフィルム、ベルト等も挙げられる。 As the electroconductive substrate 4, a conductive polymer, a conductive compound and aluminum indium oxide, palladium, coated metal or alloy such as gold, deposited or laminated with paper, plastic films, the belt or the like.
ここで、「導電性」とは体積抵抗率が10 13 Ωcm未満であることをいう。 The term "conductive" means that the volume resistivity is less than 10 13 [Omega] cm.

電子写真感光体7Aがレーザープリンターに使用される場合、レーザー光を照射する際に生じる干渉縞を防止するために、導電性基体4の表面は、中心線平均粗さRaで0.04μm以上0.5μm以下に粗面化することが望ましい。 When the electrophotographic photoreceptor 7A is used in a laser printer, in order to prevent interference fringes generated upon irradiation with laser light, the surface of the conductive substrate 4, 0.04 .mu.m or center line average roughness Ra 0 it is desirable to less roughening .5Myuemu. なお、非干渉光を光源とする場合、干渉縞防止の粗面化は特に必要ない。 In the case of the incoherent light source, surface roughening for preventing interference fringes is not particularly necessary.

粗面化の方法としては、研磨剤を水に懸濁させて支持体に吹き付けることによって行う湿式ホーニング、又は回転する砥石に支持体を接触し、連続的に研削加工を行うセンタレス研削、陽極酸化処理等が望ましい。 As a roughening method, a polishing agent in contact with support wheels wet honing, or rotation performed by blowing a support suspended in water, continuously centerless grinding to perform grinding, anodizing processing and the like is desirable.

また、他の粗面化の方法としては、導電性基体4表面を粗面化することなく、導電性又は半導電性粉体を樹脂中に分散させて、支持体表面上に層を形成し、その層中に分散させる粒子により粗面化する方法も望ましく用いられる。 Further, as a method for other roughening, without roughening the electroconductive substrate 4 surface, a conductive or semiconductive powder dispersed in a resin, the layer formed on the support surface , a method of roughening by the particles dispersed in the layer in also desirably used.

ここで、陽極酸化による粗面化処理は、アルミニウムを陽極とし電解質溶液中で陽極酸化することによりアルミニウム表面に酸化膜を形成するものである。 Here, roughening treatment by anodic oxidation, in which the aluminum to form an oxide film on the aluminum surface by anodizing at an anode electrolyte solution. 電解質溶液としては、硫酸溶液、シュウ酸溶液等が挙げられる。 As the electrolyte solution, a sulfuric acid solution and an oxalic acid solution and the like. しかし、陽極酸化により形成された多孔質陽極酸化膜は、そのままの状態では化学的に活性である。 However, the porous anodic oxide film formed by anodic oxidation is chemically active in intact. そこで、陽極酸化膜の微細孔を加圧水蒸気又は沸騰水中(ニッケル等の金属塩を加えてもよい)で水和反応による体積膨張でふさぎ、より安定な水和酸化物に変える封孔処理を行うことが望ましい。 Therefore, the micropores of the anodized film pressurized water vapor or boiling water in (may be added metal salts such as nickel) plugging by volume expansion due to hydration reaction is carried out sealing treatment to change to a more stable hydrated oxide it is desirable.
陽極酸化膜の膜厚については、0.3μm以上15μm以下が望ましい。 The thickness of the anodic oxide film is desirably 15μm or 0.3 [mu] m.

また、導電性基体4には、酸性水溶液による処理又はベーマイト処理を施してもよい。 The electroconductive substrate 4 may be subjected to a treatment an acidic aqueous solution or a boehmite treatment. リン酸、クロム酸及びフッ酸からなる酸性処理液による処理は以下のようにして実施される。 Phosphoric acid, treatment with an acidic treatment solution comprising chromic acid and hydrofluoric acid is carried out as follows.
先ず、酸性処理液を調製する。 First, to prepare the acidic treatment solution. 酸性処理液におけるリン酸、クロム酸及びフッ酸の配合割合は、リン酸が10質量%以上11質量%以下の範囲、クロム酸が3質量%以上5質量%以下の範囲、フッ酸が0.5質量%以上2質量%以下の範囲であって、これらの酸全体の濃度は13.5質量%以上18質量%以下の範囲が望ましい。 Phosphoric acid in an acidic treating solution, the mixing ratio of chromic acid and hydrofluoric acid in the range phosphate following 11 wt% to 10 wt%, chromic acid or 3 wt% 5 wt% or less, hydrofluoric acid 0. 5 a mass% or more 2 wt% or less, the total concentration of these acids is preferably in the range of less 18 mass% or more 13.5% by weight. 処理温度は42℃以上48℃以下が望ましいが、処理温度を高く保つことにより、一層速く、かつ厚い被膜が形成される。 Although the treatment temperature is desirably 42 ° C. or higher 48 ° C. or less, by keeping the treatment temperature high, more quickly, and a thick coating is formed. 被膜の膜厚は、0.3μm以上15μm以下が望ましい。 The film thickness of the coating is less desirable 15μm or 0.3 [mu] m.

ベーマイト処理は、90℃以上100℃以下の純水中に5分以上60分以下浸漬すること、又は90℃以上120℃以下の加熱水蒸気に5分以上60分以下接触させて行うことが望ましい。 Boehmite treatment is preferably carried out 90 ° C. or higher 100 ° C. dipping below or longer and 60 minutes or 5 minutes in pure water, or 90 ° C. or higher 120 ° C. by contacting 60 minutes or less 5 minutes or more following heating steam. 被膜の膜厚は、0.1μm以上5μm以下が望ましい。 The film thickness of the coating is less desirable 5μm least 0.1 [mu] m. これをさらにアジピン酸、硼酸、硼酸塩、燐酸塩、フタル酸塩、マレイン酸塩、安息香酸塩、酒石酸塩、クエン酸塩等の被膜溶解性の低い電解質溶液を用いて陽極酸化処理してもよい。 This was further adipic acid, boric acid, borate, phosphate, phthalate, maleate, benzoate, tartrate, even anodized with a low electrolytic solution of the film solubility such as citrate good.

(下引層) (Undercoat layer)
下引層1は、例えば、金属酸化物粒子及び結着樹脂を含有して構成され、厚さ7μm以上である。 The undercoat layer 1 is composed of, for example, contain metal oxide particles and a binder resin is thickness 7μm or more.
金属酸化物粒子としては、粉体抵抗(体積抵抗率)10 Ω・cm以上10 11 Ω・cm以下のものが望ましく用いられる。 As the metal oxide particles are those powder resistance (volume resistivity) of 10 2 Ω · cm or more 10 11 Ω · cm is desirably used.

なかでも上記抵抗値を有する金属酸化物粒子としては、酸化錫、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム等の金属酸化物粒子を用いるのが望ましく、特に、酸化亜鉛は望ましく用いられる。 Of these examples of the metal oxide particles having the above resistance value, tin oxide, titanium oxide, zinc oxide, it is desirable to use a metal oxide particles such as zirconium oxide, in particular, zinc oxide is desirably used.

また、金属酸化物粒子は表面処理を行ったものでもよく、表面処理の異なるもの、又は、粒子径の異なるものなど2種以上混合して用いてもよい。 The metal oxide particles may be those subjected to surface treatment, having a different surface treatment, or may be a mixture including two or more different particle diameters.
金属酸化物粒子のBET法による比表面積は、10m /g以上が望ましい。 BET specific surface area of metal oxide particles, 10 m 2 / g or more.
金属酸化物粒子の体積平均粒径は50nm以上2000nm以下(望ましくは60nm以上1000nm以下)の範囲であることが望ましい。 The volume average particle diameter of the metal oxide particles is preferably in the range of 50nm or more 2000nm or less (preferably 60nm or more 1000nm or less).

更に、金属酸化物粒子と共にアクセプター性化合物を含有させることが望ましい。 Furthermore, it is desirable to include an acceptor compound together with the metal oxide particles.
アクセプター性化合物としては、上記特性が得られるものであれば限定されず、クロラニル、ブロモアニル等のキノン系化合物、テトラシアノキノジメタン系化合物、2,4,7−トリニトロフルオレノン、2,4,5,7−テトラニトロ−9−フルオレノン等のフルオレノン化合物、2−(4−ビフェニル)−5−(4−t−ブチルフェニル)−1,3,4−オキサジアゾールや2,5−ビス(4−ナフチル)−1,3,4−オキサジアゾール、2,5−ビス(4−ジエチルアミノフェニル)1,3,4オキサジアゾール等のオキサジアゾール系化合物、キサントン系化合物、チオフェン化合物、3,3',5,5'テトラ−t−ブチルジフェノキノン等のジフェノキノン化合物等の電子輸送性物質などが望ましく、特にアントラキノン構造 As the acceptor compound is not limited as long as the properties can be obtained, chloranil, quinone compounds such Buromoaniru, tetracyanoquinodimethane-based compounds, trinitrofluorenone, 2, 4, 5,7-tetranitro-9-fluorenone fluorenone compounds such as 2- (4-biphenyl)-5-(4-t-butylphenyl) -1,3,4-oxadiazole and 2,5-bis (4 - naphthyl) -1,3,4-oxadiazole, 2,5-bis (4-diethylamino-phenyl) oxadiazole-based compounds such as 1,3,4-oxadiazole, xanthone compounds, thiophene compounds, 3, 3 ', 5,5' is desired, such as an electron-transporting material of the diphenoquinone compounds such as tetra -t- butyl diphenoquinone, especially anthraquinone structure 有する化合物が望ましい。 Compounds having desirable. 更にヒドロキシアントラキノン系化合物、アミノアントラキノン系化合物、アミノヒドロキシアントラキノン系化合物等、アントラキノン構造を有するアクセプター性化合物が望ましく用いられ、具体的にはアントラキノン、アリザリン、キニザリン、アントラルフィン、プルプリン等が挙げられる。 Further hydroxy anthraquinone compounds, aminoanthraquinone-based compounds, such as amino hydroxy anthraquinone compounds, acceptor compounds having an anthraquinone structure are desirably used, and specific examples thereof include anthraquinone, alizarin, quinizarin, Ann Tsentralnyi fins, purpurin, and the like.

これらのアクセプター性化合物の含有量は上記特性が得られる範囲であれば限定されないが、望ましくは金属酸化物粒子に対して0.01質量%以上20質量%以下の範囲で含有され、更に0.05質量%以上10質量%以下の範囲で添加されることが望ましい。 The content of the acceptor compound is not limited as long as the above properties can be obtained, preferably is contained in an amount of less than 20 wt% 0.01 wt% with respect to the metal oxide particles, further 0. it is desirable that the addition in a range of 05 wt% to 10 wt%.

アクセプター化合物は、下引層形成用塗布液に添加するだけでもよいし、金属酸化物粒子表面にあらかじめ付着させておいてもよい。 The acceptor compound may simply be added to the coating liquid for forming an undercoat layer, it may be allowed to advance attached to the metal oxide particle surfaces.
金属酸化物粒子表面にアクセプター化合物を付与させる方法としては、乾式法、又は、湿式法が挙げられる。 As a method of attaching the acceptor compound to the metal oxide particle surface, a dry method, or a wet method.

乾式法にて表面処理を施す場合には、金属酸化物粒子をせん断力の大きなミキサ等で攪拌しながら、直接又は有機溶媒に溶解させたアクセプター化合物を滴下、乾燥空気や窒素ガスとともに噴霧させることによって処理される。 When subjected to a surface treatment by a dry method, the stirring of the metal oxide particles in a large mixer, such as a shearing force, dropping directly or acceptor compound dissolved in an organic solvent, is sprayed with dry air or nitrogen gas It is processed by. 添加又は噴霧する際には溶剤の沸点以下の温度で行われることが望ましい。 The addition or spraying is carried out at a temperature below the boiling point of the solvent is desirable. 添加又は噴霧した後、更に100℃以上で焼き付けを行ってもよい。 After the addition or spraying, it may be subjected to baking at further 100 ° C. or higher. 焼き付けの温度、時間は任意の範囲で実施される。 Baking temperature, time is carried out at any range.

また、湿式法としては、金属酸化物粒子を溶剤中で攪拌、超音波、サンドミルやアトライター、ボールミル等を用いて分散し、アクセプター化合物を添加し攪拌又は分散した後、溶剤除去することで処理される。 As the wet method, stirring the metal oxide particles in the solvent, ultrasonic, sand mill or attritor, and dispersed using a ball mill, was added and stirred or dispersed acceptor compounds, treatment by solvent removal It is. 溶剤除去方法はろ過又は蒸留により留去される。 The solvent is removed by filtration or distillation. 溶剤除去後には更に100℃以上で焼き付けを行ってもよい。 It may be subjected to baking at further 100 ° C. or higher after solvent removal. 焼き付けは電子写真特性が得られる温度、時間であれば特に限定されない。 Baking the resulting electrophotographic characteristic temperature is not particularly limited as long as it is time. 湿式法においては表面処理剤を添加する前に金属酸化物粒子含有水分を除去してもよく、その例として表面処理に用いる溶剤中で攪拌加熱しながら除去する方法、溶剤と共沸させて除去する方法を用いてもよい。 Wet process may be removing metal oxide particles containing the water before adding the surface treatment agent in a method for removing under heating and stirring in a solvent used for the surface treatment as an example, removed azeotropically with the solvent how to may be used.

また、金属酸化物粒子にはアクセプター化合物を付与する前に表面処理を施してもよい。 Further, it may be subjected to a surface treatment prior to the addition of the acceptor compound to the metal oxide particles. 表面処理剤としては、所望の特性が得られるものであればよく、公知の材料から選択される。 The surface treatment agent may be any desired characteristics are obtained, are selected from known materials. 例えば、シランカップリング剤、チタネート系カップリング剤、アルミニウム系カップリング剤、界面活性材等が挙げられる。 For example, a silane coupling agent, titanate coupling agent, aluminum coupling agents, surface active materials and the like. 特に、シランカップリング剤は良好な電子写真特性を与えるため望ましく用いられる。 In particular, a silane coupling agent is desirably used to provide good electrophotographic properties. 更にアミノ基を有するシランカップリング剤が望ましく用いられる。 Furthermore silane coupling agent having an amino group is used preferably.

アミノ基を有するシランカップリング剤としては、電子写真感光体特性が得られればいかなるものを用いてもよく、具体的例としては、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−β−(アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−β−(アミノエチル)−γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N,N−ビス(β−ヒドロキシエチル)−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。 The silane coupling agent having an amino group, may also be used as any as long obtained electrophotographic photoreceptor characteristics, and specific examples, .gamma.-aminopropyltriethoxysilane, N-beta-(aminoethyl) -.gamma.-aminopropyltrimethoxysilane, N-β- (aminoethyl)-.gamma.-aminopropyl methyl dimethoxy silane, N, N-bis (beta-hydroxyethyl)-.gamma.-amino-but-triethoxysilane, and the like , but it is not limited thereto.

また、シランカップリング剤は2種以上混合して使用してもよい。 The silane coupling agent may be used in combination of two or more. アミノ基を有するシランカップリング剤と併用して用いてもよいシランカップリング剤の例としては、ビニルトリメトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピル−トリス(β−メトキシエトキシ)シラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−β−(アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−β−(アミノエチル)−γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N,N−ビス(β−ヒドロキシエチル)−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−クロルプロピルトリメトキシシラン等が挙げられるが、これらに限 Examples of amino groups silane coupling having a agent in combination with even better silane coupling agent used, vinyltrimethoxysilane, .gamma.-methacryloxypropyl - tris (beta-methoxyethoxy) silane, beta-(3, 4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, .gamma.-glycidoxypropyltrimethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, .gamma.-mercaptopropyltrimethoxysilane, .gamma.-aminopropyltriethoxysilane, N-beta-(aminoethyl) - .gamma.-aminopropyltrimethoxysilane, N-β- (aminoethyl)-.gamma.-aminopropyl methyl dimethoxy silane, N, N-bis (beta-hydroxyethyl)-.gamma.-aminopropyltriethoxysilane, .gamma.-chloropropyl tri While silane and the like, limited to these されるものではない。 Not intended to be.

また、これらの表面処理剤を用いた表面処理方法は公知の方法であればいかなる方法でもよく、乾式法又は湿式法が用いられる。 The surface treatment method using the surface treatment agent is any known method may be any method, a dry method or a wet method is used. また、アクセプター化合物の付与と、カップリング剤等の表面処理剤による表面処理と、をいっぺんに行ってもよい。 Moreover, the application of the acceptor compound, the surface treatment with a surface treating agent such as a coupling agent may be carried out at once a.

下引層1中の金属酸化物粒子に対するシランカップリング剤の量は電子写真特性が得られる量であれば限定されず、金属酸化物粒子に対して0.5質量%以上10質量%以下が望ましい。 The amount of the silane coupling agent to the metal oxide particles in the undercoat layer 1 is not limited as long as it is an amount that electrophotographic characteristics can be obtained, 0.5% by weight to 10% by weight with respect to the metal oxide particles desirable.

下引層1に含有される結着樹脂としては、良好な膜が形成されるもので、かつ、所望の特性が得られるものであれば公知のいかなるものを使用してもよく、例えば、ポリビニルブチラール等のアセタール樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、カゼイン、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、フェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂等の公知の高分子樹脂化合物、ジルコニウムキレート化合物、チタニウムキレート化合物、アルミニウムキレート化合物、チタニウムアル The binder resin contained in the undercoat layer 1, but good film is formed, and may be used any known ones as long as desired characteristics can be obtained, for example, polyvinyl acetal resins butyral, etc., polyvinyl alcohol resins, casein, polyamide resins, cellulose resins, gelatin, polyurethane resins, polyester resins, methacrylic resins, acrylic resins, polyvinyl chloride resins, polyvinyl acetate resins, vinyl chloride - vinyl acetate - maleic acid anhydride resins, silicone resins, silicone - alkyd resin, phenol resin, phenol - formaldehyde resins, melamine resins, known polymer resin compounds such as urethane resin, zirconium chelate compounds, titanium chelate compounds, aluminum chelate compounds, titanium Al キシド化合物、有機チタニウム化合物、シランカップリング剤等の公知の材料が用いられる。 Kishido compounds, organic titanium compounds, known materials such as a silane coupling agent is used.
また、下引層1に含有される結着樹脂として、電荷輸送性基を有する電荷輸送性樹脂やポリアニリン等の導電性樹脂等を用いてもよい。 Further, as the binder resin contained in the undercoat layer 1, it may be used conductive resin such as a charge-transporting resin or a polyaniline having a charge transport group. なかでも上層の塗布溶剤に不溶な樹脂が好適であり、特にフェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂等が好適である。 Among them is preferable the coating solvent for the upper layer to the insoluble resin, in particular a phenol resin, phenol - formaldehyde resins, melamine resins, urethane resins, epoxy resins and the like. これらを2種以上組み合わせて使用する場合には、その混合割合は、必要に応じて設定される。 In the case where these resins are used in combination of two or more kinds, the mixing ratio is set according to need.

下引層形成用塗布液中の、表面にアクセプター化合物を付与させた金属酸化物粒子(アクセプター性を付与した金属酸化物粒子)と結着樹脂、又は、金属酸化物粒子と結着樹脂との比率は電子写真感光体特性が得られる範囲で設定される。 In the coating liquid for undercoat layer formation, surface acceptor compound granted was metal oxide particles (metal oxide particles applied an acceptor) and a binder resin, or the metal oxide particles and a binder resin the ratio is set in a range in which the electrophotographic photoreceptor characteristics can be obtained.

また、下引層1中には種々の添加物を用いてもよい。 It may also be used various additives in the undercoat layer 1.
添加物としては、多環縮合系、アゾ系等の電子輸送性顔料、ジルコニウムキレート化合物、チタニウムキレート化合物、アルミニウムキレート化合物、チタニウムアルコキシド化合物、有機チタニウム化合物、シランカップリング剤等の公知の材料が用いられる。 The additive, polycyclic fused system, electron transporting pigment of azo system, etc., a zirconium chelate compound, titanium chelate compounds, aluminum chelate compounds, titanium alkoxide compounds, organic titanium compounds, known materials such as a silane coupling agent used It is. シランカップリング剤は前述のように無機粒子の表面処理に用いられるが、添加剤として更に下引層形成用塗布液に添加してもよい。 The silane coupling agent is used for the surface treatment of inorganic particles as described above, but may be further added to the coating liquid for forming an undercoat layer as an additive.

添加剤としてのシランカップリング剤の具体例としては、ビニルトリメトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピル−トリス(β−メトキシエトキシ)シラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−β−(アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−β−(アミノエチル)−γ−アミノプロピルメチルメトキシシラン、N,N−ビス(β−ヒドロキシエチル)−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−クロルプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。 Specific examples of the silane coupling agent as an additive include vinyltrimethoxysilane, .gamma.-methacryloxypropyl - tris (beta-methoxyethoxy) silane, beta-(3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, gamma - glycidoxypropyltrimethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, .gamma.-mercaptopropyltrimethoxysilane, .gamma.-aminopropyltriethoxysilane, N-beta-(aminoethyl)-.gamma.-aminopropyltrimethoxysilane, N-beta - (aminoethyl)-.gamma.-aminopropyl methoxy silane, N, N-bis (beta-hydroxyethyl)-.gamma.-aminopropyltriethoxysilane, .gamma.-chloropropyl trimethoxy silane, and the like.
また、ジルコニウムキレート化合物の例としては、ジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセト酢酸エチル、ジルコニウムトリエタノールアミン、アセチルアセトネートジルコニウムブトキシド、アセト酢酸エチルジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセテート、ジルコニウムオキサレート、ジルコニウムラクテート、ジルコニウムホスホネート、オクタン酸ジルコニウム、ナフテン酸ジルコニウム、ラウリン酸ジルコニウム、ステアリン酸ジルコニウム、イソステアリン酸ジルコニウム、メタクリレートジルコニウムブトキシド、ステアレートジルコニウムブトキシド、イソステアレートジルコニウムブトキシド等が挙げられる。 Further, examples of the zirconium chelate compounds include zirconium butoxide, zirconium ethyl acetoacetate, zirconium triethanolamine, acetylacetonate zirconium butoxide, ethyl acetoacetate zirconium butoxide, zirconium acetate, zirconium oxalate, zirconium lactate, zirconium phosphonate, octanoic acid zirconium, zirconium naphthenate, zirconium laurate, zirconium stearate, zirconium isostearate, methacrylate zirconium butoxide, stearate zirconium butoxide, and isostearate zirconium butoxide.

チタニウムキレート化合物の例としては、テトライソプロピルチタネート、テトラノルマルブチルチタネート、ブチルチタネートダイマー、テトラ(2−エチルヘキシル)チタネート、チタンアセチルアセトネート、ポリチタンアセチルアセトネート、チタンオクチレングリコレート、チタンラクテートアンモニウム塩、チタンラクテート、チタンラクテートエチルエステル、チタントリエタノールアミネート、ポリヒドロキシチタンステアレート等が挙げられる。 Examples of the titanium chelate compound include tetraisopropyl titanate, tetra-n-butyl titanate, butyl titanate dimer, tetra (2-ethylhexyl) titanate, titanium acetyl acetonate, poly titanium acetylacetonate, titanium octylene glycolate, titanium lactate ammonium salt , titanium lactate, titanium lactate ethyl ester, titanium triethanolaminate, polyhydroxy titanium stearate.

アルミニウムキレート化合物の例としては、アルミニウムイソプロピレート、モノブトキシアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムブチレート、ジエチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス(エチルアセトアセテート)等が挙げられる。 Examples of the aluminum chelate compounds include aluminum isopropylate, monobutoxy aluminum diisopropylate, aluminum butyrate, diethyl acetoacetate aluminum diisopropylate, such as aluminum tris (ethylacetoacetate) and the like.

これらの化合物は単独に若しくは複数の化合物の混合物又は重縮合物として用いてもよい。 These compounds may be used as a mixture or a polycondensate of singly or a plurality of compounds.

下引層形成用塗布液を調製するための溶媒としては、公知の有機溶剤、例えば、アルコール系、芳香族系、ハロゲン化炭化水素系、ケトン系、ケトンアルコール系、エーテル系、エステル系等から任意で選択される。 The solvent for preparing the coating solution for forming the undercoat layer, known organic solvents, e.g., alcohols, aromatic solvents, halogenated hydrocarbon solvents, ketone-based, ketone alcohol-based, ether-based, ester solvents It is selected in any.
溶媒として、具体的には、例えば、メタノール、エタノール、n−プロパノール、iso−プロパノール、n−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸n−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロルベンゼン、トルエン等の通常の有機溶剤が用いられる。 As a solvent, specifically, for example, methanol, ethanol, n- propanol, iso- propanol, n- butanol, benzyl alcohol, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, methyl acetate, ethyl acetate, n- butyl, dioxane, tetrahydrofuran, methylene chloride, chloroform, chlorobenzene, and toluene.

また、これらの溶剤は単独又は2種以上混合して用いてもよい。 These solvents may be used alone or in combination. 混合する際、使用される溶剤としては、混合溶剤として結着樹脂を溶かし得る溶剤であれば、いかなるものでも使用される。 When mixing, the solvent used, as long as the solvent can dissolve the binder resin as a mixed solvent, be any one used.

下引層形成用塗布液を調製する際の金属酸化物粒子の分散方法としては、ロールミル、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、コロイドミル、ペイントシェーカーなどの公知の方法が用いられる。 The method of dispersing the metal oxide particles in preparing the coating solution for forming the undercoat layer, a roll mill, a ball mill, a vibrating ball mill, an attritor, a sand mill, a colloid mill, a known method such as a paint shaker are used.
更に、下引層1を設けるときに用いる塗布方法としては、ブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が用いられる。 Furthermore, as a coating method which is used when providing the undercoat layer 1, a blade coating method, wire bar coating, spray coating, dip coating, bead coating method, an air knife coating method, a curtain coating method It is used.

このようにして得られた下引層形成用塗布液を用い、導電性基体上に下引層1が成膜される。 Thus using the coating solution for forming the undercoat layer obtained, undercoating layer 1 is formed on the conductive substrate.

下引層1は、厚さ7μm以上であるが、厚さ15μm以上が望ましく、更に望ましくは15μm以上50μm以下とされていることが望ましい。 The undercoat layer 1, although the thickness 7μm or more, more thickness 15μm is desirable, more preferably it is desirable that there is a 15μm or 50μm or less.

下引層1は、ビッカース硬度が35以上とされていることが望ましい。 The undercoat layer 1, it is desirable that the Vickers hardness is 35 or more.
下引層1の表面粗さ(十点平均粗さ)は、使用される露光用レーザー波長λの1/4n(nは上層の屈折率)から1/2λまでに調整することが望ましい。 Surface roughness of the undercoating layer 1 (ten point average roughness) is, 1 / 4n of the exposure laser wavelength λ used (n is a refractive index of the upper layer) is preferably adjusted to from to 1/2 [lambda].
表面粗さ調整のために下引層中に樹脂などの粒子を添加してもよい。 The particles of a resin or the like may be added to the undercoat layer for adjusting the surface roughness. 樹脂粒子としてはシリコーン樹脂粒子、架橋型ポリメタクリル酸メチル樹脂粒子等が用いられる。 Silicone resin particles as the resin particles, crosslinked polymethyl methacrylate resin particles are used.
また、表面粗さ調整のために下引層表面を研磨してもよい。 It is also possible to polish the undercoat layer surface to adjust the surface roughness. 研磨方法としては、バフ研磨、サンドブラスト処理、湿式ホーニング、研削処理等が用いられる。 The polishing method, buff polishing, sandblast treatment, wet honing, grinding treatment or the like is used. LED,有機ELイメージアレイなどの非干渉性光源を用いる場合には平滑な表面を用いてもよい。 LED, it may be used a smooth surface in the case of using an incoherent light source such as an organic EL image array.

下引層1は、導電性基体4上に塗布した前述の下引層形成用塗布液を乾燥させることで得られるが、通常乾燥は、溶剤を蒸発させ製膜し得る温度で行われる。 The undercoat layer 1, an undercoat layer-forming coating liquid described above was coated on a conductive substrate 4 obtained by drying, but normally drying is at a temperature capable of film made to evaporate the solvent.

(電荷発生層) (Charge generating layer)
電荷発生層2は、電荷発生材料及び結着樹脂を含有する層である。 The charge generating layer 2 is a layer containing a charge-generating material and a binder resin. また、結着樹脂を含有しない蒸着膜として形成してもよい。 It may also be formed as a deposited film containing no binder resin. 特に、LED,有機ELイメージアレイなどの非干渉性光源を用いる場合には望ましい。 In particular, LED, in the case of using an incoherent light source such as an organic EL image array desirable.

電荷発生材料としては、ビスアゾ、トリスアゾ等のアゾ顔料、ジブロモアントアントロン等の縮環芳香族顔料、ペリレン顔料、ピロロピロール顔料、フタロシアニン顔料、酸化亜鉛、三方晶系セレン等が挙げられる。 Examples of the charge generating material include azo pigments such as bisazo and trisazo, condensed aromatic pigments such as dibromo anthanthrone, perylene pigments, phthalocyanine pigments, zinc oxide, and trigonal selenium. これらの中でも、近赤外域のレーザー露光に対応させるためには、電荷発生材料として、金属フタロシアニン顔料、及び無金属フタロシアニン顔料を用いることが望ましく、特に、CuKα特性X線に対するブラッグ角(2θ±0.2゜)の少なくとも7.5゜、9.9゜、12.5゜、16.3゜、18.6゜、25.1゜及び28.3゜、または、、7.9°、16.5°、24.4°および27.6°、または、7.9°、16.5°、24.4°および27.6°、または、7.0°、7.5°、10.5°、11.7°、12.7°、17.3°18.1°、24.5°、26.2°および27.1°、または、7.4°、9.9°、25.0°、26.2°および28.2°または、7.3゜,16.0゜,24.9゜,28.0゜に強い回折ピー Among these, in order to correspond to the laser exposure in the near infrared region, as a charge generating material, it is desirable to use a metal phthalocyanine pigments, and metal-free phthalocyanine pigment, in particular, the Bragg angle with respect to CuKα characteristic X-ray (2 [Theta] ± 0 At least 7.5 ° .2 °), 9.9 °, 12.5 °, 16.3 °, 18.6 °, 25.1 ° and 28.3 ° or ,, 7.9 °,, 16 .5 °, 24.4 ° and 27.6 °, or, 7.9 °, 16.5 °, 24.4 ° and 27.6 °, or, 7.0 °, 7.5 °, 10. 5 °, 11.7 °, 12.7 °, 17.3 ° 18.1 °, 24.5 °, 26.2 ° and 27.1 °, or, 7.4 °, 9.9 °, 25 .0 °, 26.2 ° and 28.2 °, or 7.3 °, 16.0 °, 24.9 °, 28.0 ° strong diffraction peak クを有するヒドロキシガリウムフタロシアニン、CuKα特性X線に対するブラッグ角度(2θ±0.2°)が少なくとも7.4°、16.6°、25.5°及び28.3°、または6.8°、17.3°、23.6°及び26.9°、または8.7°〜9.2°、17.6°、24.0°、27.4°及び28.8°に強い回折ピークを有するクロロガリウムフタロシアニン、CuKα特性X線に対するブラッグ角(2θ±0.2°)が8.7°、9.9°、10.9°、13.1°、15.2°、16.3°、17.4°、21.9°、25.5°または、に強い回折ピークを有するジクロロスズフタロシアニン、CuKα特性X線に対するブラッグ角(2θ±0.2゜)の少なくとも9.6゜、24.1゜及び27.2゜に強い回折ピークを有するチタニルフ Hydroxygallium phthalocyanine having a click, Bragg angle (2θ ± 0.2 °) with respect to CuKα characteristic X-ray of at least 7.4 °, 16.6 °, 25.5 ° and 28.3 °, or 6.8 °, 17.3 °, 23.6 ° and 26.9 °, or 8.7 ° ~9.2 °, 17.6 °, 24.0 °, a strong diffraction peak at 27.4 ° and 28.8 ° chlorogallium phthalocyanine having a Bragg angle with respect to CuKα characteristic X-ray (2θ ± 0.2 °) is 8.7 °, 9.9 °, 10.9 °, 13.1 °, 15.2 °, 16.3 ° , 17.4 °, 21.9 °, 25.5 ° or, dichlorotin phthalocyanine having strong diffraction peaks at least 9.6 ° of the Bragg angle with respect to CuKα characteristic X-ray (2 [Theta] ± 0.2 °), 24 Chitanirufu with .1 ° and 27.2 ° strong diffraction peaks ロシアニンがより望ましい。 Roshianin is more desirable. また、近紫外域のレーザー露光に対応させるためには、電荷発生材料として、ジブロモアントアントロン等の縮環芳香族顔料、チオインジゴ系顔料、ポルフィラジン化合物、酸化亜鉛、三方晶系セレン、ビスアゾ顔料等を用いることがより望ましい。 Further, in order to correspond to the laser exposure in the near ultraviolet region, as a charge generating material are condensed aromatic pigments such as dibromo anthanthrone, thioindigo pigments, porphyrazine compounds, zinc oxide, trigonal selenium, bisazo pigment it is more desirable to use.

また、450nm以上780nm以下に発光の中心波長があるLED,有機ELイメージアレイなどの非干渉性光源を用いる場合にも上記電荷発生材料を用いてもよいが、解像度の観点より、感光層を20μm以下の薄膜で用いる場合には、感光層中の電界強度が高くなり、基材からの電荷注入による帯電低下、いわゆる黒点と呼ばれる画像欠陥を生じやすくなる。 Further, 20 [mu] m LED centered wavelength of emission in the 450nm or 780nm or less, may be used the charge-generating material in the case of using an incoherent light source such as an organic EL image array, in view of the resolution, the photosensitive layer when used in the following thin film, the electric field strength in the photosensitive layer is increased, charge problem due to charge injection from the substrate, it tends to occur an image defect called a so-called black spots.
これは、三方晶系セレンや、フタロシアニン顔料などのp-型半導体で暗電流を生じやすい電荷発生材料を用いた時に顕著となる。 This crystal selenium and trigonal, becomes significant when a charge generating material susceptible to dark current in the p- type semiconductor such as phthalocyanine pigments.

これに対し、縮環芳香族顔料、ペリレン顔料、アゾ顔料などのn-型半導体を用いた場合、暗電流を生じにくく、薄膜にしても黒点と呼ばれる画像欠陥を抑制し得る。 In contrast, condensed aromatic pigments, perylene pigments, in the case of using the n- type semiconductor, such as azo pigments, unlikely to occur dark current can suppress image defects even when a thin film called a black spot.
450nm以上780nm以下に発光の中心波長があるLED,有機ELイメージアレイなどの非干渉性光源を用い、平滑な基材、下引層を形成し、さらにn-型の電荷発生材料を用いることで、感光層を20μm以下の薄膜にしても画像欠陥を生じず、長期に渡って高解像度の画像が得られる。 LED centered wavelength of emission in the 450nm or 780nm or less, using an incoherent light source such as an organic EL image array, smooth substrate to form a subbing layer, by using a further n- type of the charge generating material , it does not cause an image defect even when the photosensitive layer below the thin film 20 [mu] m, the high-resolution image can be obtained over a long term.
n-型の電荷発生材料としては、具体的に以下の例があげられるがこれに限られるものではない。 The n- type charge generating material, do not Although the following examples specifically the like is not limited thereto. なお、n-型の判定は、通常使用されるタイムオブフライト法を用い、流れる光電流の極性によって判定され、正孔よりも電子をキャリアとして流しやすいものをn-型とする。 The determination of the n- type, using the time-of-flight method which is usually used, is determined by the polarity of the photocurrent flowing through, the material can easily flow of electrons as carriers than the hole and n- type.




電荷発生層2に使用される結着樹脂としては、広範な絶縁性樹脂から選択され、また、ポリ−N−ビニルカルバゾール、ポリビニルアントラセン、ポリビニルピレン、ポリシラン等の有機光導電性ポリマーから選択してもよい。 The binder resin used in the charge generating layer 2 is selected from a wide range of insulating resins, poly -N- vinylcarbazole, polyvinyl anthracene, polyvinyl pyrene, selected from organic photoconductive polymers polysilane it may be. 望ましい結着樹脂としては、ポリビニルブチラール樹脂、ポリアリレート樹脂(ビスフェノール類と芳香族2価カルボン酸の重縮合体等)、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、フェノキシ樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリアミド樹脂、アクリル樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリビニルピリジン樹脂、セルロース樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、カゼイン、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂等が挙げられる。 Preferable examples of the binder resin include polyvinyl butyral resins, polyarylate resins (polycondensates of bisphenols and aromatic divalent carboxylic acid or the like), polycarbonate resins, polyester resins, phenoxy resins, vinyl chloride - vinyl acetate copolymer, a polyamide resins, acrylic resins, polyacrylamide resins, polyvinyl pyridine resins, cellulose resins, urethane resins, epoxy resins, casein, polyvinyl alcohol resins, polyvinyl pyrrolidone resins. これらの結着樹脂は1種を単独で又は2種以上を混合して用いられる。 These binder resins may be used alone or in combination of two or more thereof. 電荷発生材料と結着樹脂の配合比は質量比で10:1から1:10までの範囲内であることが望ましい。 Compounding ratio of the charge generating material to the binder resin is in a mass ratio of 10: is preferably in the range of from 1 to 1:10. ここで、「絶縁性」とは、ここで、「絶縁性」とは体積抵抗率が10 13 Ωcm以上であることをいう。 The term "insulating", where "insulating" The volume resistivity means that is 10 13 [Omega] cm or more.

電荷発生層2は、上述の電荷発生材料及び結着樹脂を定められた溶剤中に分散した電荷発生層形成用塗布液を用いて形成される。 The charge generating layer 2 is formed by using a charge-generating layer-forming coating solution prepared by dispersing in a solvent defined a charge generating material and a binder resin described above. また、結着樹脂を含有しない蒸着膜として形成させてもよく、特に縮環芳香族顔料、ペリレン顔料は蒸着膜として望ましく使用し得る。 It is also possible by forming a deposited film containing no binder resin, in particular condensed ring aromatic pigments, perylene pigments may be used preferably as a vapor deposition film.

分散に用いる溶剤としては、メタノール、エタノール、n−プロパノール、n−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸n−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロルベンゼン、トルエン等が挙げられ、これらは1種を単独で又は2種以上を混合して用いる。 Examples of the solvent used for dispersion include methanol, ethanol, n- propanol, n- butanol, benzyl alcohol, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, methyl acetate, acetic acid n- butyl, dioxane, tetrahydrofuran, methylene chloride , chloroform, chlorobenzene, toluene. they used alone or in combination of two or more kinds.

また、電荷発生材料及び結着樹脂を溶剤中に分散させる方法としては、ボールミル分散法、アトライター分散法、サンドミル分散法等の通常の方法を用いられる。 As a method of dispersing a charge generating material and a binder resin in a solvent, the ball mill dispersion method, attritor dispersion method, using a conventional method such as a sand mill dispersion method. これらの分散方法により、分散による電荷発生材料の結晶型の変化が防止される。 These dispersion methods, deformation of crystals of the charge generating material caused by dispersion can be prevented.
更にこの分散の際、電荷発生材料の平均粒径を0.5μm以下、望ましくは0.3μm以下、更に望ましくは0.15μm以下にすることが有効である。 Moreover during this dispersion, the following 0.5μm average particle diameter of the charge generating material, preferably 0.3μm or less, and more preferably is effective to the 0.15μm or less.

また、電荷発生層2を形成する際には、ブレード塗布法、マイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が用いられる。 In forming the charge generating layer 2, a blade coating method, Meyer bar coating, spray coating, dip coating, bead coating, air knife coating method, and a curtain coating method is used .

このようにして得られる電荷発生層2の膜厚は、望ましくは0.1μm以上5.0μm以下、更に望ましくは0.2μm以上2.0μm以下である。 The thickness of the charge generating layer 2 obtained in this manner is preferably 0.1μm or more 5.0μm or less, more preferably is 0.2μm or more 2.0μm or less.

(電荷輸送層) (Charge transport layer)
電荷輸送層3は、電荷輸送材料と結着樹脂を含有して、又は高分子電荷輸送材を含有して形成される。 The charge transport layer 3, and containing a charge transporting material and a binder resin, or is formed to contain a polymer charge transporting material.

電荷輸送材料としては、p−ベンゾキノン、クロラニル、ブロマニル、アントラキノン等のキノン系化合物、テトラシアノキノジメタン系化合物、2,4,7−トリニトロフルオレノン等のフルオレノン化合物、キサントン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノビニル系化合物、エチレン系化合物等の電子輸送性化合物や、トリアリールアミン系化合物、ベンジジン系化合物、アリールアルカン系化合物、アリール置換エチレン系化合物、スチルベン系化合物、アントラセン系化合物、ヒドラゾン系化合物などの正孔輸送性化合物が挙げられる。 As the charge transporting material, p- benzoquinone, chloranil, bromanil, quinone compounds of anthraquinone, tetracyanoquinodimethane-based compounds, 2,4,7-fluorenone compounds such as Lennon, xanthone compounds, benzophenone compounds , cyanovinyl-based compounds, and electron transporting compounds such as ethylene compound, triarylamine compounds, benzidine compounds, arylalkane compounds, aryl-substituted ethylene compounds, stilbene compounds, anthracene-based compounds, such as hydrazone compounds hole-transporting compound. これらの電荷輸送材料は1種を単独で又は2種以上で用いられるが、これらに限定されるものではない。 These charge transporting materials may be used singly, or two or more, but not limited thereto.

電荷輸送材料としては、電荷移動度の観点から、下記構造式(a−1)で示されるトリアリールアミン誘導体、及び下記構造式(a−2)で示されるベンジジン誘導体が望ましい。 As the charge-transporting material, from the viewpoint of charge mobility, triarylamine derivatives represented by the following structural formula (a-1), and benzidine derivative represented by the following formula (a-2) desirable.



上記構造式(a−1)中、R は、水素原子、メチル基、−C(R 10 )=C(R 11 )(R 12 )、又は−CH=CH−CH=C(R 13 )(R 14 )を示す。 The structural formula (a-1) in, R 9 is a hydrogen atom, a methyl group, -C (R 10) = C (R 11) (R 12), or -CH = CH-CH = C ( R 13) shows the (R 14). lは1又は2を示す。 l represents 1 or 2. Ar 及びAr は各々独立に置換若しくは未置換のアリール基、−C −C(R 10 )=C(R 11 )(R 12 )、又は−C −CH=CH−CH=C(R 13 )(R 14 )を示し、R 10 、R 11 、R 12 、R 13及びR 14は各々独立に水素原子、置換若しくは未置換のアルキル基、又は置換若しくは未置換のアリール基を表す。 Ar 6 and Ar 7 each independently represent a substituted or unsubstituted aryl group, -C 6 H 4 -C (R 10) = C (R 11) (R 12), or -C 6 H 4 -CH = CH- CH = C (R 13) shows the (R 14), R 10, R 11, R 12, R 13 and R 14 are each independently a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, or a substituted or unsubstituted aryl It represents a group.

ここで、上記各基の置換基としては、ハロゲン原子、炭素数1以上5以下のアルキル基、炭素数1以上5以下のアルコキシ基、又は炭素数1以上3以下のアルキル基で置換された置換アミノ基が挙げられる。 Here, the substituent of each group, substituted with a halogen atom, 1 to 5 carbon atoms in the alkyl group, having 1 to 5 alkoxy group carbon atoms or having 1 or more carbon atoms 3 an alkyl group substituted and amino group.

上記構造式(a−2)中、R 15及びR 15'は各々独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数1以上5以下のアルキル基、又は炭素数1以上5以下のアルコキシ基を示す。 In the above formula (a-2), shown R 15 and R 15 'each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, 1 to 5 carbon atoms in the alkyl group, or a number of 1 to 5 alkoxy group carbon. 16 、R 16' 、R 17 、及びR 17'は各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1以上5以下のアルキル基、炭素数1以上5以下のアルコキシ基、炭素数1以上2以下のアルキル基で置換されたアミノ基、置換若しくは未置換のアリール基、−C(R 18 )=C(R 19 )(R 20 )、又は−CH=CH−CH=C(R 21 )(R 22 )を示し、R 18 、R 19 、R 20 、R 21及びR 22は各々独立に水素原子、置換若しくは未置換のアルキル基、又は置換若しくは未置換のアリール基を表す。 R 16, R 16 ', R 17, and R 17' each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, 1 to 5 carbon atoms in the alkyl group, 1 to 5 of the alkoxy group having a carbon number, the number 1 or more carbon atoms 2 the following amino group substituted with an alkyl group, a substituted or unsubstituted aryl group, -C (R 18) = C (R 19) (R 20), or -CH = CH-CH = C ( R 21) ( indicates R 22), represents an R 18, R 19, R 20 , R 21 and R 22 each independently represent a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, or a substituted or unsubstituted aryl group. m及びnは各々独立に0以上2以下の整数を示す。 m and n represent an integer of 0 to 2. independently.

ここで、構造式(a−1)で示されるトリアリールアミン誘導体、及び構造式(a−2)で示されるベンジジン誘導体のうち、特に、「−C −CH=CH−CH=C(R 13 )(R 14 )」を有するトリアリールアミン誘導体、及び「−CH=CH−CH=C(R 21 )(R 22 )」を有するベンジジン誘導体が、電荷移動度、保護層との接着性、前画像の履歴が残ることで生じる残像(以下「ゴースト」と言う場合がある)などの観点で優れ望ましい。 Among the benzidine derivatives represented by structural formula triarylamine derivative represented by (a-1), and formula (a-2), in particular, "- C 6 H 4 -CH = CH -CH = C (R 13) triarylamine derivative having (R 14) ", and benzidine derivatives having" -CH = CH-CH = C ( R 21) (R 22) ", charge mobility, adhesion between the protective layer gender, prior residual image caused by image history remains (hereinafter sometimes referred to as "ghost") excellent in terms of such desirable.

電荷輸送層3に用いる結着樹脂は、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアリレート樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体、シリコーン樹脂、シリコーンアルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、スチレン−アルキッド樹脂、ポリ−N−ビニルカルバゾール、ポリシラン等が挙げられる。 The binder resin used in the charge transporting layer 3 include polycarbonate resins, polyester resins, polyarylate resins, methacrylic resins, acrylic resins, polyvinyl chloride resins, polyvinylidene chloride resins, polystyrene resins, polyvinyl acetate resins, styrene - butadiene copolymer , vinylidene chloride - acrylonitrile copolymer, vinyl chloride - vinyl acetate copolymer, vinyl chloride - vinyl acetate - maleic anhydride copolymer, silicone resin, silicone alkyd resin, phenol - formaldehyde resins, styrene - alkyd resins, poly - N- vinylcarbazole, polysilane and the like. また、ポリエステル系の高分子電荷輸送材料等を用いてもよい。 It is also possible to use a polymeric charge transport material such as polyester. これらのうち、ポリカーボネート樹脂又はポリアリレート樹脂が好適である。 Among these, polycarbonate resin or polyarylate resin is preferable.
これらの結着樹脂は1種を単独で又は2種以上で用いる。 These binder resins used singly, or two or more. 電荷輸送材料と結着樹脂との配合比は質量比で10:1から1:5までが望ましい。 A charge transport material and the formulation ratio mass ratio of the binder resin 10: 1 to 1: is desirable to 5.

特に、電荷輸送層3上には、反応性の電荷輸送材料とポリカーボネート樹脂とを含有する組成物の硬化膜からなる保護層(最表面層)を備える場合、電荷輸送層3に用いる結着樹脂としては、粘度平均分子量50000以上のものが望ましく、55000以上のものがより望ましい。 In particular, on the charge transporting layer 3, when a protective layer comprising the cured film of the composition containing the reactive charge transport material and a polycarbonate resin (outermost layer), the binder resin used in the charge transporting layer 3 as it is desirably not less than the viscosity-average molecular weight of 50,000, and more preferably not less than 55000.
なお、電荷輸送層3に用いる結着樹脂の粘度平均分子量の上限値としては100000以下が望ましい。 It should be noted that 100,000 is preferred as the upper limit of the viscosity average molecular weight of the binder resin used in the charge transport layer 3.
ここで、本実施形態における結着樹脂の粘度平均分子量は、毛細管粘度計によって測定した値である。 Here, the viscosity average molecular weight of the binder resin in the present embodiment is a value measured by a capillary viscometer.
なお、最表面層が電荷輸送層である場合には、その下層中に含まれる結着樹脂の粘度平均分子量が上記の範囲であることが望ましい。 Note that when the outermost surface layer is a charge transport layer is preferably a viscosity average molecular weight of the binder resin contained in the lower layer is in the above range.

また、電荷輸送材料として高分子電荷輸送材を用いてもよい。 It is also possible to use a polymeric charge transporting material as a charge transport material. 高分子電荷輸送材としては、ポリ−N−ビニルカルバゾール、ポリシランなどの電荷輸送性を有する公知のものが用いられる。 As the polymer charge transporting material, poly -N- vinylcarbazole, are known materials having charge transporting property such as polysilane used. 特に、ポリエステル系高分子電荷輸送材は望ましいものである。 In particular, those polyester polymeric charge transporting materials desirable. 高分子電荷輸送材はそれだけでも成膜し得るが、前述の結着樹脂と混合して成膜してもよい。 Polymer charge transporting material may be deposited alone it, may be formed by mixing the aforementioned binder resin.

電荷輸送層3は、上記構成材料を含有する電荷輸送層形成用塗布液を用いて形成される。 The charge transport layer 3 is formed by using a charge-transporting layer-forming coating solution containing the constituent materials.
電荷輸送層形成用塗布液に用いる溶剤としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロルベンゼン等の芳香族炭化水素類、アセトン、2−ブタノン等のケトン類、塩化メチレン、クロロホルム、塩化エチレン等のハロンゲン化脂肪族炭化水素類、テトラヒドロフラン、エチルエーテル等の環状若しくは直鎖状のエーテル類等の通常の有機溶剤を単独又は2種以上混合して用いられる。 The solvent used in the charge transport layer coating liquid, benzene, toluene, xylene, aromatic hydrocarbons such as chlorobenzene, acetone, ketones 2-butanone, methylene chloride, chloroform, Harongen of such ethylene chloride aliphatic hydrocarbons, tetrahydrofuran, used alone or in combination of cyclic or ordinary organic solvents such as straight-chain ethers such as ethyl ether. また、上記各構成材料の溶解方法としては、公知の方法が使用される。 Moreover, as the dissolution the above-described constituents, known methods are used.

電荷輸送層形成用塗布液を電荷発生層2の上に塗布する際の塗布方法としては、ブレード塗布法、マイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が用いられる。 As a coating method at the time of applying a charge transporting layer-forming coating solution on the charge generating layer 2, a blade coating method, Meyer bar coating, spray coating, dip coating, bead coating, air knife coating, conventional methods such as curtain coating.

電荷輸送層3の膜厚は、望ましくは5μm以上50μm以下、より望ましくは10μm以上30μm以下である。 The thickness of the charge transporting layer 3 is preferably 5μm or 50μm or less, and more desirably 10μm or 30μm or less.

以上、図1に示される電子写真感光体7Aを参照し、機能分離型の感光層における各層の構成を説明したが、図2に示される機能分離型の電子写真感光体7Bにおける各層においてもこの構成が採用しうる。 Above, with reference to electrophotographic photoreceptor 7A shown in FIG. 1 has been described the configuration of each layer in the function separation type photosensitive layer, in each layer in the electrophotographic photoreceptor 7B functional separation type shown in FIG. 2 this configuration can be adopted. また、図3に示される電子写真感光体7Cの単層型感光層6の場合、以下の態様であることが望ましい。 In addition, in the case of single-layer photosensitive layer 6 of the electrophotographic photoreceptor 7C shown in FIG. 3, it is desirable that the following aspects.

即ち、単層型感光層6中の電荷発生材料の含有量は、保護層(最表面層)5を形成する際に用いられる組成物の全固形分に対して5質量%以上50質量%以下が望ましく、更には10質量%以上40質量%以下がより望ましく、15質量%以上35質量%以下が特に望ましい。 That is, the content of the charge generating material of the single-layer type photosensitive layer 6, a protective layer (outermost layer) 50 wt% 5 wt% or more with respect to 5 the total solids of the composition used in forming the is desirable, even more preferably 10 mass% to 40 mass%, particularly preferably at least 15 wt% 35 wt% or less.

単層型感光層6の形成方法は、電荷発生層2や電荷輸送層3における形成方法を採用しうる。 Method of forming a single-layer photosensitive layer 6 may employ a forming method of the charge generating layer 2 and charge transport layer 3. 単層型感光層6の膜厚は5μm以上50μm以下が望ましく、10μm以上40μm以下とするのが更に望ましい。 Thickness of the single layer type photosensitive layer 6 is desirably 5μm or more 50μm or less, and more desirably set to 10μm or 40μm or less.

また、上述の実施形態では、最表面層が保護層5である形態を説明したが、保護層5がない層構成の場合には、その層構成において最表面に位置する電荷輸送層が該最表面層となる。 In the above embodiments have been described in the form outermost layer is a protective layer 5, if the protective layer 5 is not the layer structure, the charge transport layer located on the outermost surface in the layer configuration outermost the surface layer. 最表面層が電荷輸送層である場合、この層の厚みは、7μm以上70μm以下が望ましく、10μm以上60μm以下がより望ましい。 If the outermost surface layer is a charge transport layer, the thickness of this layer is desirably 7μm least 70μm or less, and more preferably 60μm or more 10 [mu] m.

[帯電装置] [Charging device]
帯電装置8としては、例えば、導電性又は半導電性の帯電ローラ、帯電ブラシ、帯電フィルム、帯電ゴムブレード、帯電チューブ等を用いた接触型帯電器が使用される。 As the charging device 8, for example, a conductive or semiconductive charging roller, a charging brush, a charging film, a charging rubber blade, a contact type charging device using such a charging tube is used. また、非接触方式のローラ帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン帯電器やコロトロン帯電器等のそれ自体公知の帯電器等も使用される。 The roller charging device of the non-contact type, known per se charger etc. of the scorotron charger and a corotron charger or the like utilizing corona discharge can also be used.

なお、図示しないが、電子写真感光体7の周囲には、電子写真感光体7の温度を上昇させ、相対温度を低減させるための感光体加熱部材を設けてもよい。 Although not shown, around the electrophotographic photoreceptor 7, increases the temperature of the electrophotographic photoreceptor 7, it may be provided with a photoreceptor heating member for reducing the relative temperature.

[露光装置] [Exposure Apparatus]
露光装置9としては、例えば、感光体7表面に、半導体レーザ光、LED光、液晶シャッタ光等の光を、定められた像様に露光する光学系機器等が挙げられる。 As the exposure device 9, for example, surface of the photoreceptor 7, a semiconductor laser light, LED light, the light of the liquid crystal shutter light or the like, optical equipment, and the like to be exposed to a defined imagewise. 光源の波長は感光体の分光感度領域にあるものが使用される。 Wavelength of the light source to be used is in the range of the spectral sensitivity region of the photoreceptor. 半導体レーザーの波長としては、780nm付近に発振波長を有する近赤外が主流である。 The wavelength of the semiconductor laser, a near-infrared mainstream having an oscillation wavelength near 780 nm. しかし、この波長に限定されず、600nm台の発振波長レーザーや青色レーザーとして400nm以上450nm以下に発振波長を有するレーザーも利用してもよい。 However, not limited to this wavelength, the laser may also be utilized with an oscillation wavelength of 400nm or more 450nm or less as the oscillation wavelength and blue lasers of 600nm stand. また、カラー画像形成のためにはマルチビームを出力し得るタイプの面発光型のレーザー光源も有効である。 Furthermore, for color image formation is also effective type of surface-emitting laser light source capable of outputting a multi-beam.

ここで、露光装置9の光源として、非干渉性の露光光源を適用してもよい。 Here, as the light source of the exposure device 9, it may be applied to incoherent exposure light source.
非干渉性の露光光源は、インコヒーレント光を照射する光源であり、例えば、非干渉性の露光光源としては、LED,有機ELイメージアレイなどが採用される。 Incoherent exposure light source is a light source for irradiating incoherent light, for example, as the incoherent exposure light source, LED, organic EL image array is employed.
非干渉性の露光光源によって露光される電子写真感光体表面の露光スポットの面積は1000μm 以下であり、且つ非干渉性の露光光源の発光の中心波長は450nm以上780nm以下であることがよい。 Area of exposure spots of the electrophotographic photosensitive member surface to be exposed by the incoherent exposure light source is a 1000 .mu.m 2 or less, and the center wavelength of the luminescence of the incoherent exposure light source may be at 450nm than 780nm or less.

次に、露光ヘッドの一例について説明する。 Next, an example of the exposure head.
図6は露光ヘッドの一例を示す図であり、図7は露光ヘッドにより感光体に露光を施している状態を示す図である。 Figure 6 is a diagram showing an example of the exposure head, Fig. 7 is a view showing a state in which is subjected to exposure on the photosensitive member by the exposure head. 各露光ヘッドは、図6及び図7に示すように、例えば、有機EL素子アレイ(発光素子アレイ60B)と、結像部(レンズ70)と、を備えている。 Each exposure head, as shown in FIGS. 6 and 7, for example, includes an organic EL element array (light-emitting element array 60B), the imaging section (lens 70), the.
発光素子アレイ60Bは、例えば、有機EL素子(発光素子60A)で構成される発光部と有機EL素子が実装される実装基板(図6の発光素子アレイ基板61に相当)とを備える。 Emitting element array 60B includes, for example, an organic EL element mounting substrate composed of (light-emitting element 60A) emitting portion and the organic EL element is mounted (corresponding to the light-emitting element array substrate 61 of FIG. 6).
有機EL素子アレイ(発光素子アレイ60B)と結像部(レンズ70)とは、発光部(発光素子60A)と結像部の光入射面70Aとの光学距離が結像部の作動距離となるように、離間した状態で保持部材により保持されている。 An imaging unit organic EL device array (light-emitting element array 60B) and the (lens 70), the optical distance of the light emitting portion (light emitting element 60A) to the light incident surface 70A of the imaging unit is the working distance of the imaging unit as it has been held by the holding member in a spaced apart state.

ここで、結像部の作動距離とは、結像部に用いるレンズ70の焦点から結像部の入射面70Aまでの距離である。 Here, the working distance of the imaging unit, a distance from the focal point of the lens 70 used in the imaging section to the incident surface 70A of the imaging unit.
そして、結像部では、発光部からの発光を光の入射面70Aから入射すると共に光の出射面70Bから出射して予め定められた位置に結像させる、つまり、発光素子60Aからの発光を感光体30に結像することによって、感光体30が露光されて潜像が形成される(図7)。 Then, in the imaging unit, and emitted from the light exit surface 70B is imaged at a predetermined position with incident light emitted from the light-emitting portion from the incident surface 70A of the light, i.e., light emitted from the light-emitting element 60A by imaging on the photoreceptor 30, the photoreceptor 30 is a latent image is exposed is formed (FIG. 7).
ここで、有機EL素子アレイ(発光素子アレイ60B)について説明する。 Here will be described an organic EL element array (light-emitting element array 60B).
有機EL素子アレイは、例えば発光部から照射される光を実装基板(発光素子アレイ基板61)側から取り出す、所謂、ボトムエミッション方式となっている。 The organic EL element array, for example, a mounting substrate to light emitted from the light emitting section is taken out from the (light-emitting element array substrate 61) side, so-called, it has a bottom emission type. 無論、トップエミッション方式であってもよい。 Of course, it may be a top emission type.
発光部は、例えば、単一の発光素子60Aの群で構成されている。 Emitting unit, for example, it is composed of a group of single light emitting element 60A. 発光素子60Aは、実装基板(発光素子アレイ基板61)の長手方向に沿って線状(直列)又は千鳥状に配置して、発光部を構成している。 Emitting element 60A is mounted substrate is disposed (the light emitting element array substrate 61) longitudinally along linear (series) or staggered constitute a light emitting portion. 発光素子60Aの群で構成された発光部は、感光体30の画像形成領域以上の長さとしている。 Emitting unit composed of a group of light emitting elements 60A is directed to the image forming area over the length of the photosensitive member 30.

次いで、結像部(レンズ70)について説明する。 Next, a description will be given imaging unit (lens 70).
結像部は、例えば、ロッドレンズが複数配列されたレンズアレイで構成されている。 Imaging unit, for example, is composed of a lens array rod lenses are arrayed. レンズアレイとして具体的には、例えば、セルフォックレンズアレイ(SLA:セルフォックは、日本板硝子(株)の登録商標)と呼ばれる屈折率分散型レンズアレイを適用することが最もよいが、シリンドリカルレンズを組み合わせても良い。 Specific examples lens array, e.g., SELFOC lens array (SLA: SELFOC is a registered trademark of Nippon Sheet Glass Co., Ltd.), but is best to apply the refractive index distributed lens array called a combination of cylindrical lenses and it may be. さらに、個々の光源用有機EL素子上にマイクロレンズを接合しても良い。 Furthermore, it may be joined microlens on the organic EL element for an individual light source.

[現像装置] [Developing device]
現像装置11としては、例えば、磁性若しくは非磁性の一成分系現像剤又は二成分系現像剤等を接触又は非接触させて現像する一般的な現像装置を用いて行ってもよい。 As the developing device 11, for example, it may be performed using a common developing device, in which a magnetic or non-one-component developer of magnetic or two-component developer is contacted or non-contacted thereby. その現像装置としては、上述の機能を有している限り特に制限はなく、目的に応じて選択される。 As the developing device is not particularly limited as long as it has the function described above, it is selected according to the purpose. 例えば、上記一成分系現像剤又は二成分系現像剤をブラシ、ローラ等を用いて感光体7に付着させる機能を有する公知の現像器等が挙げられる。 For example, a known developing device or the like having a function of attaching to the photoreceptor 7 using the one-component developer or a two-component developer brush, a roller, or the like. 中でも現像剤を表面に保持した現像ローラを用いるものが望ましい。 Among these, using a developing roller which holds a developer on the surface is desirable.

以下、現像装置11に使用される現像剤について説明する。 The following describes the developer used in the developing device 11.
現像剤は、トナー単独の一成分現像剤であってもよいし、トナーとキャリアとを含む二成分現像剤であってもよい。 The developer may be a one-component developer of toner alone or a two-component developer including a toner and a carrier.

(トナー) (toner)
トナーは、現像性及び転写性に優れる球状トナーが適用される。 Toner is spherical toner is applied is excellent in developability and transferability.
具体的には、トナーの平均形状係数SF1は、140以上170以下であり、望ましくは145以上165以下、より望ましくは148以上162以下である。 Specifically, the average shape factor SF1 of the toner is 140 to 170 or less, preferably 145 or more 165 or less, more desirably 148 or more 162 or less.
また、トナー(トナー粒子)の体積平均粒径は3.0μm以上6.0μm以下であることがよく、望ましくは3.5μm以上5.8μm以下である。 The toner volume average particle diameter of the (toner particles) often is 3.0μm or more 6.0μm or less, preferably is 3.5μm or more 5.8μm or less.

ここで、トナー(トナー粒子)の平均形状係数SF1の測定方法は、次の通りである。 Here, the measurement method of the average shape factor SF1 of the toner (toner particles) is as follows.
まず、スライドグラス上に散布したトナー(トナー粒子)の光学顕微鏡像(250倍に拡大した画像)を、ビデオカメラを通じてルーゼックス画像解析装置(LUZEX III、ニレコ社製)に取り込み、100個のトナー(トナー粒子)について下記式に基づきSF1を計算し、平均値を求めることにより得られる。 First, an optical micrograph of the toner scattered on a slide glass (toner particles) to (enlarged image 250 times), uptake through a video camera Luzex image analyzer (LUZEX III, manufactured by Nireco Corporation), the 100 toner ( the SF1 according to the following equation to calculate the toner particles) obtained by determining the average value.
・式:SF1=(ML 2 /A)×(π/4)×100 · Formula: SF1 = (ML 2 / A ) × (π / 4) × 100
ここでMLは粒子の絶対最大長、Aは粒子の投影面積である。 Here ML represents the absolute maximum length of a particle, A is the projected area of ​​the grain.

一方、トナー(トナー粒子)の体積平均粒径D50vの測定法は、次の通りである。 On the other hand, the measurement method of the volume average particle diameter D50v of toner (toner particles) is as follows.
まず、分散剤として界面活性剤(望ましくはアルキルベンゼンスルホン酸ナトリウム)の5質量%水溶液2ml中に、測定試料を0.5mg以上50mg以下加え、これを電解液100ml以上150ml以下中に添加した。 First, the surfactant (preferably sodium alkylbenzenesulfonate) as a dispersant in 5 wt% aqueous solution of 2ml of added sample 0.5mg or 50mg or less, which was added to in the following electrolyte 100ml or 150 ml. この測定試料を懸濁させた電解液を超音波分散器で約1分間分散処理を行い、コールターマルチサイザーII型(ベックマン−コールター社製)により、アパーチャー径が100μmのアパーチャーを用いて、粒径が2.0μm以上60μm以下の範囲の粒子の粒度分布を測定する。 The measurement sample the electrolytic solution is suspended performed about 1 minute dispersion treatment with an ultrasonic dispersing device, Coulter Multisizer II - by (Beckman Coulter), aperture size using a 100μm aperture, the particle size There measuring the particle size distribution of particles of 60μm or less in the range of 2.0 .mu.m. 測定する粒子数は50,000とする。 The number of particles to be measured is 50,000.
得られた粒度分布を分割された粒度範囲(チャンネル)に対し、小粒径側から体積累積分布を引いて、累積50%となる粒径を体積平均粒径D50vとする。 The obtained particle size distribution of the divided particle size ranges (channels), by subtracting the volume cumulative distribution from the smaller particle size side, and the particle diameter at a cumulative 50% volume average particle diameter D50v.

−トナーの構成− - of toner configuration -
トナーは、トナー粒子単独で構成されていてもよいし、トナー粒子と外添剤とを含んで構成されていてもよい。 Toner may be composed of toner particles alone, or may be configured to include toner particles and an external additive.

トナー粒子は、例えば、結着樹脂と、必要に応じて、着色剤、離型剤その他内添剤と、を含有して構成される。 The toner particles, for example, a binder resin, if necessary, a colorant, and contains, and other internal additive release agent.

結着樹脂としては、特に制限はないが、スチレン類(例えばスチレン、クロロスチレン等)、モノオレフィン類(例えばエチレン、プロピレン、ブチレン、イソプレン等)、ビニルエステル類(例えば酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、安息香酸ビニル、酪酸ビニル等)、α−メチレン脂肪族モノカルボン酸エステル類(例えばアクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸ドデシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸フェニル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸ドデシル等)、ビニルエーテル類(例えばビニルメチルエーテル、ビニルエチルエーテル、ビニルブチルエーテル等)、ビニルケトン類(例えばビニルメチルケトン、ビニルヘキシルケトン、ビニルイソプロ The binder resin is not particularly limited, styrenes (such as styrene, chlorostyrene, etc.), mono-olefins (such as ethylene, propylene, butylene, isoprene, etc.), vinyl esters (e.g. vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl benzoate, vinyl butyrate and the like), alpha-methylene aliphatic monocarboxylic acid esters (e.g. methyl acrylate, ethyl acrylate, butyl acrylate, dodecyl acrylate, octyl acrylate, phenyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl, butyl methacrylate, dodecyl methacrylate), vinyl ethers (e.g., vinyl methyl ether, vinyl ethyl ether, vinyl butyl ether), vinyl ketones (e.g., vinyl methyl ketone, vinyl hexyl ketone, vinyl isopropenyl ニルケトン等)等の単独重合体および共重合体、ジカルボン酸類とジオール類との共重合によるポリエステル樹脂等が挙げられる。 Homopolymers and copolymers of Niruketon etc.), etc., and polyester resins by copolymerization of dicarboxylic acids and diols.

特に代表的な結着樹脂としては、ポリスチレン、スチレン−アクリル酸アルキル共重合体、スチレン−メタクリル酸アルキル共重合体、スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリエステル樹脂等が挙げられる。 Particularly typical binder resins include polystyrene, styrene - alkyl acrylate copolymer, styrene - alkyl methacrylate copolymer, styrene - acrylonitrile copolymer, styrene - butadiene copolymer, styrene - maleic anhydride copolymer polymers, polyethylene resins, polypropylene resins, polyester resins, and the like.
また、代表的な結着樹脂としては、ポリウレタン、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、ポリアミド、変性ロジン、パラフィンワックス等も挙げられる。 Further, typical binder resins, polyurethane, epoxy resins, silicone resins, polyamide, modified rosin, and also paraffin wax.

着色剤としては、磁性粉(例えばマグネタイト、フェライト等)、カーボンブラック、アニリンブルー、カルイルブルー、クロムイエロー、ウルトラマリンブルー、デュポンオイルレッド、キノリンイエロー、メチレンブルークロリド、フタロシアニンブルー、マラカイトグリーンオキサレート、ランプブラック、ローズベンガル、C. As the colorant, magnetic powder (e.g. magnetite, ferrite), carbon black, aniline blue, Cal yl blue, chrome yellow, ultramarine blue, Du Pont Oil Red, Quinoline Yellow, Methylene Blue Chloride, Phthalocyanine Blue, Malachite Green Oxalate, lamp black, Rose Bengal, C. I. I. ピグメント・レッド48:1、C. Pigment Red 48: 1, C. I. I. ピグメント・レッド122、C. Pigment Red 122, C. I. I. ピグメント・レッド57:1、C. Pigment Red 57: 1, C. I. I. ピグメント・イエロー97、C. Pigment Yellow 97, C. I. I. ピグメント・イエロー17、C. Pigment Yellow 17, C. I. I. ピグメント・ブルー15:1、C. Pigment Blue 15: 1, C. I. I. ピグメント・ブルー15:3等が代表的なものとして挙げられる。 Pigment Blue 15: 3 and the like can be cited as a typical example.

離型剤としては、例えば、炭化水素系ワックス;カルナウバワックス、ライスワックス、キャンデリラワックス等の天然ワックス;モンタンワックス等の合成或いは鉱物・石油系ワックス;脂肪酸エステル、モンタン酸エステル等のエステル系ワックス;などが挙げられるが、これに限定されるものではない。 The release agent, for example, hydrocarbon wax, synthetic or mineral and petroleum waxes such as montan wax; carnauba wax, rice wax, natural waxes such as candelilla wax fatty acid ester, ester such as montanic acid ester waxes; and the like, but not limited thereto.

その他内添剤としては、例えば、磁性体、帯電制御剤、無機粉体等が挙げられる。 Other internal additives, for example, a magnetic material, charge control agent, inorganic powder.

外添剤としては、例えば、無機粒子が挙げられ、該無機粒子として、SiO 、TiO 、Al 、CuO、ZnO、SnO 、CeO 、Fe 、MgO、BaO、CaO、K O、Na O、ZrO 、CaO・SiO 、K O・(TiO 、Al ・2SiO 、CaCO 、MgCO 、BaSO 、MgSO 等が挙げられる。 As the external additive, for example, inorganic particles, and examples of the inorganic particles, SiO 2, TiO 2, Al 2 O 3, CuO, ZnO, SnO 2, CeO 2, Fe 2 O 3, MgO, BaO, CaO , K 2 O, Na 2 O , ZrO 2, CaO · SiO 2, K 2 O · (TiO 2) n, Al 2 O 3 · 2SiO 2, CaCO 3, MgCO 3, BaSO 4, MgSO 4 , and the like .

外添剤の表面は、予め疎水化処理をしてもよい。 The surface of the external additive may previously hydrophobic treatment. 疎水化処理は、例えば疎水化処理剤に無機粒子を浸漬する等して行う。 Hydrophobic treatment is performed, for example by, for example immersing the inorganic particles to a hydrophobic treatment agent. 疎水化処理剤は特に制限されないが、例えば、シラン系カップリング剤、シリコーンオイル、チタネート系カップリング剤、アルミニウム系カップリング剤等が挙げられる。 Hydrophobizing agent is not particularly limited, for example, silane coupling agent, silicone oil, a titanate coupling agent, aluminum coupling agent, and the like. これらは1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。 These may be used alone or in combination of two or more thereof.

−トナーの製造方法− - method for producing a toner -
トナーは、例えば、トナー粒子を得た後、必要に応じて外添剤と混合することにより得られる。 The toner is, for example, after obtaining the toner particles are obtained by mixing the external additive as necessary.
トナー粒子の製造方法としては、特に製造方法により限定されるものではないが、例えば、結着樹脂、必要に応じて着色剤、離型剤その他内添剤等を加えて混練、粉砕、分級する混練粉砕法;混練粉砕法にて得られた粒子を機械的衝撃力又は熱エネルギーにて形状を変化させる方法;結着樹脂の重合性単量体を乳化重合させ、形成された分散液と、必要に応じて着色剤、離型剤その他内添剤等の分散液と、を混合し、凝集、加熱融着する乳化重合凝集法;結着樹脂を得るための重合性単量体と、必要に応じて着色剤、離型剤その他内添剤等の溶液を水系溶媒に懸濁させて重合する懸濁重合法;結着樹脂と、必要に応じて着色剤、離型剤その他内添剤等の溶液と、を水系溶媒に懸濁させて造粒する溶解懸濁法等が挙げられる。 As a method for producing toner particles, in particular but not limited by the manufacturing method, for example, a binder resin, coloring agents, kneaded release agent Additional additives such as, grinding, classifying kneading pulverization method; method changing the shape by mechanical impact force or thermal energy particles obtained by the kneading pulverization method; a polymerizable monomer of a binder resin is emulsion polymerization, the dispersion formed, coloring agents, and dispersion such as a releasing agent and other internal additives, were mixed, agglomerated, emulsion polymerization aggregation method for heat sealing; a polymerizable monomer for obtaining a binder resin, necessary colorants, suspension polymerization solution other internal additives such as a releasing agent for polymerization by suspending in an aqueous solvent in accordance with; a binder resin, a coloring agent, if necessary, other internal additive release agent a solution of equal, dissolution suspension method in which granulated suspended in an aqueous solvent and the like to.
また、トナー粒子は、上記方法で得られたトナー粒子をコアにして、さらに凝集粒子を付着、加熱融合してコアシェル構造のトナー粒子としてもよい。 The toner particles in the core of the toner particles obtained by the above method, further attaching aggregated particles may be toner particles of heat fusion to a core-shell structure.
なお、トナー粒子の製造方法としては、形状制御、粒度分布制御の観点から水系溶媒にて製造する懸濁重合法、乳化重合凝集法、溶解懸濁法が望ましく、乳化重合凝集法が特に望ましい。 As the production method of the toner particles, the shape control, suspension polymerization method for producing at an aqueous solvent from the viewpoint of the particle size distribution control, the emulsion polymerization aggregation method, a dissolution suspension method is desirable, the emulsion polymerization aggregation method is particularly preferable.

そして、トナーは、外添剤を含む場合、トナー粒子及び外添剤をヘンシェルミキサー又はVブレンダー等で混合することによって製造される。 The toner may include an external additive, it is prepared by mixing the toner particles and the external additive by a Henschel mixer or a V blender. また、トナー粒子を湿式にて製造する場合は、湿式にて外添してもよい。 Further, when the toner particles are produced by wet it may be externally added by a wet method.

(キャリア) (Carrier)
キャリアとしては、例えば、鉄粉、ガラスビーズ、フェライト粉、ニッケル粉又はそれ等の表面に樹脂コーティングを施したものが挙げられる。 As the carrier, for example, iron powder, glass beads, ferrite powder, those having been subjected to resin coating on nickel powder or the like surface.
なお、トナーとキャリアとの混合比(質量比)は、例えば、トナー:キャリア=1:100から30:100程度の範囲が挙げられる。 The mixing ratio of the toner and the carrier (weight ratio), for example, toner: carrier = 1: 100 to 30: include 100 in the range of about.

[クリーニング装置] [Cleaning device]
クリーニング装置13は、クリーニングブレード131を備えるクリーニングブレード方式の装置が用いられる。 The cleaning device 13, device of the cleaning blade system comprising a cleaning blade 131 is used.

クリーニングブレード131の耐磨耗性を向上させる目的で放電生成物を除去する手段を付加したり、BCOの発生に伴い電子写真感光体7の表面に付着し、エッジ欠けの原因ともなる微粉キャリアを捕集する目的でキャリア捕集手段を付加してもよい。 Or after addition of the means for removing discharge products in order to improve the abrasion resistance of the cleaning blade 131, attached to the surface of the electrophotographic photoreceptor 7 with the generation of the BCO, the fine carrier also causes edge chipping for the purpose of collecting may be added to the carrier collecting means.

クリーニングブレード131は、下式(K1)を満たすものであることがよい。 The cleaning blade 131 may be one satisfying the formula (K1). 具体的には、クリーニングブレード131は。 Specifically, the cleaning blade 131. 少なくとも電子写真感光体7と接触する部位が下式(K1)を満たす高モジュラス(高硬度)な材料により構成されていることがよい。 At least portions in contact with the electrophotographic photoreceptor 7 is good to be composed by a high modulus (high hardness) material that satisfies the following formula (K1). クリーニングブレード131が下式(K1)を満たすことにより、良好なクリーニング性を発揮しつつ、耐磨耗性にも優れる。 By cleaning blade 131 satisfies the following formula (K1), while exhibiting excellent cleaning properties, is excellent in abrasion resistance.
・式(K1) 3.92≦M≦29.42 · Formula (K1) 3.92 ≦ M ≦ 29.42
〔但し、式(K1)中、Mは100%モジュラス(MPa)を表す。 [In the formula (K1), M represents a 100% modulus (MPa). ]

ここで、クリーニングブレード131は、単層構造であってもよいが、以下に示す理由により、複層構造であることがよい。 Here, the cleaning blade 131 may be a single layer structure, the following reason may be a multilayer structure.
なお、単層構造のクリーニングブレード131は、後述する複層構造の「第一層」の構成と同様であるため、説明を省略する。 The cleaning blade 131 having a single layer structure is the same as the configuration of the "first layer" of the multilayer structure to be described below, the description thereof is omitted.

まず、高モジュラスな材料により単層のゴムブレードを、クリーニングブレード131として使用すると、一般的には耐性は向上するが弾性が低下する場合がある。 First, a rubber blade monolayer with a high modulus material, when used as a cleaning blade 131, the general resistance is improved but there is a case where the elastic lowered. 弾性が低下するとは、ゴムらしさが無くなり伸び難くなることである。 The elastic is reduced is that the rubber ness is hardly stretched eliminated. 伸び難くなる為、BCOの発生に伴い電子写真感光体7の表面に埋没したキャリア片などの異物が、クリーニングブレード131のエッジと電子写真感光体7の表面との接触部を通過する際、異物がエッジを変形させる力に追従して、エッジ先端が変形しないためにブレードエッジが欠け易くなってしまう場合がある。 Since hardly stretch, foreign matter such as carrier piece buried in the surface of the electrophotographic photoreceptor 7 with the generation of the BCO is, when passing through the contact portion between the edge and the surface of the electrophotographic photosensitive member 7 of the cleaning blade 131, the foreign matter there follows the force to deform the edge, which may become liable missing blade edge to edge tip is not deformed.

また、高モジュラスな材料は永久伸びが大きいためにへたり(永久変形)が悪化してしまうことがあり、へたりの量が大きくなると接触圧が維持されなくなり、結果としてクリーニング不良を招いてしまう場合があった。 Furthermore, high modulus material is sometimes sag for permanent elongation is large (permanent deformation) is deteriorated, and the contact pressure the amount of sag is large is not maintained, thereby causing a cleaning failure as a result If there has been.

クリーニングブレード131のエッジ欠けを防止するためには、クリーニングブレード131のエッジと電子写真感光体7の表面との接触部を異物が通過する際に、エッジ先端が変形する(伸びる)低硬度の材料で、エッジ先端部が構成されていることが有利である。 In order to prevent edge chipping of the cleaning blade 131, the contact portion between the cleaning blade 131 of the edge and the surface of the electrophotographic photoreceptor 7 when passing through the foreign substance, the edge tip is deformed (extended) of the low-hardness material in, it is advantageous that the edge tip is configured. また、上記のへたりを防止する観点においても、低硬度の材料が有利である。 Also in terms of preventing the sag of the above, the low-hardness material is advantageous.
しかし、この低硬度の材料では、耐磨耗性に劣るため、長期に渡り良好なクリーニング性能を維持し得ない。 However, the material of the low hardness, is inferior in abrasion resistance, not maintaining good cleaning performance over a long term.

そのため、クリーニングブレード131としては、電子写真感光体7の表面と接触する第一層と、電子写真感光体7の表面と接触しない背面層と、から構成され、第一層の材料が、上記式(K1)を満たものとすることがよい。 Therefore, the cleaning blade 131, a first layer in contact with the surface of the electrophotographic photoreceptor 7, a back layer not in contact with the surface of the electrophotographic photoreceptor 7, is composed of the material of the first layer, the formula (K1) may be made smaller than the.

ここで、クリーニングブレード131は、電子写真感光体7の表面に接触する第一層の背面に、背面層としての第二層が設けられた2層構成であってもよいし、また、第一層の背面に第二層、第三層など複数の層からなる背面層を設けた構成であってもよい。 Here, the cleaning blade 131, the back of the first layer in contact with the surface of the electrophotographic photoreceptor 7, to the second layer as a back layer may be a two-layer structure are provided, also, the first the second layer on the back layer may be a configuration in which the back layer is provided comprising a plurality of layers such as the third layer. なお、以下においては、第一層と背面層としての第二層とからなる2層構成のクリーニングブレード131を取り上げて、詳細に説明する。 In the following, by taking a two-layer structure of a cleaning blade 131 made of a second layer of the back layer and the first layer, it will be described in detail.

−第一層− - the first layer -
クリーニングブレード131は、電子写真感光体7の表面と接触する第一層の材料が、式(K1)を満たすため、良好なクリーニング性を発揮しつつ、耐磨耗性にも優れる。 The cleaning blade 131, the material of the first layer is in contact with the surface of the electrophotographic photoreceptor 7, in order to satisfy the equation (K1), while exhibiting excellent cleaning properties, is excellent in abrasion resistance.

100%モジュラスMが、3.92MPa(40kgf/cm )以上であると、耐磨耗性が得られ、長期に渡り良好なクリーニング性が維持される。 100% modulus M is, if it is 3.92MPa (40kgf / cm 2) or more, the abrasion resistance can be obtained, good cleaning properties over a long period is maintained. また、29.42MPa(300kgf/cm )以下であると、第一層材料が硬過ぎず、電子写真感光体7に対する追従性が得られ、良好なクリーニング性が発揮される。 Moreover, is not more than 29.42MPa (300kgf / cm 2), the first layer material is not too hard, tracking resistance can not be obtained with respect to the electrophotographic photoreceptor 7, good cleaning property is exhibited. 加えて、電子写真感光体7の表面の傷つけが抑制される。 In addition, scratching of the surface of the electrophotographic photosensitive member 7 is suppressed.
なお、100%モジュラスMは、5MPa以上20MPa以下の範囲内であることが望ましく、6.5MPa以上15MPa以下の範囲内であることがより望ましい。 Incidentally, the 100% modulus M is desirably within the range of 5MPa or more 20 MPa, and more desirably within 15MPa the range over 6.5 MPa.

また、画像形成装置のクリーニングブレード131周辺温度つまり使用環境温度は概ね10℃以上60℃以下の範囲である。 The cleaning blade 131 ambient temperature, that the ambient temperature of the image forming apparatus is generally the range of 10 ° C. or higher 60 ° C. or less. 従って、電子写真感光体7の表面と接触する第一層の材料のガラス転移温度Tgが使用環境温度を超えなければゴムらしさが維持されクリーニングブレード131の接触圧が安定する。 Accordingly, the glass transition temperature Tg of the material of the first layer contact pressure is maintained rubber likeness does not exceed the ambient temperature cleaning blade 131 is stabilized in contact with the surface of the electrophotographic photoreceptor 7. それゆえ、第一層の材料のガラス転移温度Tgは使用環境温度の下限値(10℃)以下であることが望ましい。 It is therefore desirable glass transition temperature Tg of the material of the first layer is less than the lower limit of the operating environment temperature (10 ° C.).

一方、電子写真感光体7の表面と接触する第一層の材料の反発弾性Rは、当該材料のガラス転移温度Tgが10℃以下である場合、低温程反発弾性は小さくなる傾向にある。 On the other hand, impact resilience R of the material of the first layer in contact with the surface of the electrophotographic photoreceptor 7, when the glass transition temperature Tg of the material is 10 ° C. or less, impact resilience as low temperature tends to decrease. そのため、反発弾性Rが10%以上であれば第一層先端のスティック&スリップ挙動が鈍くなり過ぎず、ある接触姿勢で変形した状態で摺擦する部分が発生してしまうことが抑制される。 Therefore, rebound resilience R is not too dull stick & slip behavior of the first layer tip if more than 10%, the portion sliding in a deformed state at a certain contact position is suppressed to occur.
スティック&スリップ挙動により接触姿勢が解放さることにより、第一層先端の姿勢が保たれたまま摺擦が起こることがなく、局所的な塑性変形の発生が抑制される。 By contacting posture monkey released by the stick and slip behavior, the first layer tip remains being rubbed without happen posture is maintained, the occurrence of local plastic deformation is suppressed. この局所的な塑性変形の発生が抑制されると、第一層先端と電子写真感光体7との密着性の低下が抑制され、クリーニング不良の発生が抑制される。 The occurrence of this local plastic deformation is suppressed, reduction of adhesion between the first layer tip and the electrophotographic photosensitive member 7 is suppressed, cleaning failure can be suppressed. この局所的な塑性変形を抑制する為には第一層先端は常にスティック&スリップ挙動が行われている事が望ましく、そのためには、使用環境温度の実質的な下限値である温度10℃以上の環境下において、反発弾性Rは、10%以上であることが望ましく、15%以上がより望ましく、20%以上が更に望ましい。 It is desirable to always stick & slip behavior first layer tip in order to suppress this local plastic deformation is being performed. For this purpose, the temperature 10 ° C. or more is a substantial lower limit of the operating temperature under circumstances, the impact resilience R is desirably 10% or more, more preferably 15% or more, more preferably 20% or more.
なお、反発弾性Rは、前述の通りJISK6255(1996年)に基づいて測定される。 Incidentally, the rebound resilience R is measured on the basis of the previously described JISK6255 (1996 years).

なお、式(K1)に示す100%モジュラスMは、JISK6251(1993年)に準拠して、ダンベル状3号形試験片を用い、引張速度500mm/minで計測し、100%歪み時の応力より求めた。 Incidentally, the 100% modulus M shown in formula (K1) is in conformity with JIS K6251 (1993 years), using a No. 3 dumbbell test piece was measured at a tensile speed of 500 mm / min, from the stress at 100% strain I was determined. なお、測定装置は、東洋精機(株)製、ストログラフAEエラストマを用いた。 The measurement apparatus, Toyo Seiki Co., Ltd., was used Strograph AE elastomer.

さらに、電子写真感光体7の表面と接触する第一層の材料のガラス転移温度や、後述するソフトセグメント材料やハードセグメント材料のガラス転移温度は、粘弾性測定装置により温度分散を測定し、tanδ(損失正接)のピーク温度として求めた。 Further, the first layer material the glass transition temperature and of which contacts the surface of the electrophotographic photoreceptor 7, a glass transition temperature of the soft segment material and the hard segment material to be described later, the temperature dispersion was measured by a viscoelasticity measuring apparatus, tan [delta It was determined as the peak temperature of tan delta.

ここで、tanδ値は、以下に説明する貯蔵及び損失弾性率から導かれるものである。 Here, tan [delta value are those derived from the storage and loss modulus are described below. 線形弾性体に、正弦波の歪みを定常振動的に与えたとき、応力は式(K2)で表される。 A linear elastic body, when given the distortion of the sinusoidal steady vibratory stress is represented by the formula (K2). |E*|は複素弾性率と呼ばれる。 | E * | is called the complex modulus. また、レオロジー学の理論より、弾性体成分は式(K3)、及び粘性体成分は式(K4)で表される。 Further, from the theory of rheological, elastic component has the formula (K3), and viscous component is represented by formula (K4). ここで、E'は貯蔵弾性率、E''は損失弾性率と呼ばれる。 Here, E 'is storage modulus, E' 'is called the loss modulus. δは応力と歪みとの位相差角を表し、“力学的損失角”と呼ばれるものである。 δ represents the phase difference angle between stress and strain, and is called a "dynamic loss angle".
tanδ値は、式(K5)の様にE''/E'で表され、“損失正弦”と呼ばれるものであり、その値が大きい程、その線形弾性体は、ゴム弾性を有するものとなる。 tanδ value is represented by the formula (K5) as a E '' / E ', are those called "loss sine", as the value is large, the linear elastic member comes to have rubber elasticity .
式(K2) σ=|E*|γcos(ωt) Formula (K2) σ = | E * | γcos (ωt)
式(K3) E'=|E*|cosδ Formula (K3) E '= | E * | cosδ
式(K4) E”=|E*|sinδ Formula (K4) E "= | E * | sinδ
式(K5) tanδ=E”/E' Formula (K5) tanδ = E "/ E '
tanδ値は、レオペクトラ−DVE−V4(レオロジ−(株)製)によって静止歪み5%、10Hz 正弦波引張加振を温度範囲−60℃以上100℃以下で測定した。 tanδ value Reopekutora -DVE-V4 - static strain 5% by (Rheology Co., Ltd.), and the 10Hz sine wave tensile excitation was measured at less than 100 ° C. temperature range -60 ° C. or higher.

以上に説明したように上記クリーニングブレード131に用いられる第一層用材料は、耐磨耗性及び耐欠け性の双方に優れ、長期に渡り良好なクリーニング性能が維持される。 First layer material used for the cleaning blade 131 as described above is excellent in both wear resistance and chipping resistance, good cleaning performance over a long period of time is maintained.
このため、BCOの発生に伴い、電子写真感光体7の表面に埋没・固着した異物等のように、電子写真感光体7の表面に存在する異物、特に表面に埋没・固着した異物に対応するために、従来のように画像形成装置内に別途耐磨耗性や耐欠け性を向上させるための装置を新たに設ける必要が無いため、装置の大型化・高コスト化が防止される。 Thus, with the occurrence of BCO, such as the foreign matter or the like buried and fixed to the surface of the electrophotographic photoreceptor 7, the foreign matter on the surface of the electrophotographic photoreceptor 7, corresponding to the foreign matter embedded and fixed in the particular surface Therefore, since there is no need to newly provide a device for improving a conventional manner separately wear resistance and chipping resistance in the image forming apparatus, larger and cost of the apparatus can be prevented.

加えて、クリーニングブレード131の寿命が長くなるため、上記クリーニングブレード131を具備したプロセスカートリッジや、クリーニング装置、画像形成装置の長寿命化や、メンテナンスコストの低減が容易である。 In addition, since the service life of the cleaning blade 131 is long, and a process cartridge provided with the above cleaning blade 131, a cleaning device, the life of the image forming apparatus and is easy to reduce the maintenance costs. 特に、表面の耐磨耗性を向上させた電子写真感光体7及びクリーニングブレード131の双方を具備したプロセスカートリッジや、画像形成装置であれば、上述した利点をより一層享受し得る。 In particular, and a process cartridge provided with the both of the electrophotographic photoreceptor 7 and a cleaning blade 131 with improved wear resistance of the surface, if the image forming apparatus may further enjoy the advantages described above.

式(K1)を満たす材料は、エラストマー材料であれば特に限定されないが、ハードセグメント及びソフトセグメントを含むエラストマー材料であることが特に望ましい。 Material satisfying the formula (K1) is not particularly limited as long as the elastomeric material, it is particularly desirable that the elastomeric material comprising hard and soft segments. エラストマー材料が、ハードセグメント及びソフトセグメントの双方を含むことにより、式(K1)に示す物性を満たすことが容易となり、耐磨耗性及び耐欠け性の双方を、より高いレベルで両立し得るためである。 Since the elastomeric material, by including both hard and soft segments, it is easy to satisfy the physical properties as indicated in formula (K1), both of wear resistance and chipping resistance can be compatible at a higher level it is.
なお、「ハードセグメント」及び「ソフトセグメント」とは、エラストマー材料中で、前者を構成する材料の方が、後者を構成する材料よりも相対的に硬い材料からなり、後者を構成する材料の方が前者を構成する材料よりも相対的に柔らかい材料からなるセグメントを意味する。 Note that the "hard segments" and "soft segment", an elastomeric material, towards the material constituting the former, than the material constituting the latter made from a relatively rigid material, towards the material constituting the latter There means segments of relatively softer material than the material constituting the former.

ここで、ハードセグメント及びソフトセグメントを含むエラストマー材料のガラス転移温度は、−50℃以上30℃以下の範囲内であることが望ましく、−30℃以上10℃以下の範囲内であることが望ましい。 Here, the glass transition temperature of the elastomeric material comprising hard and soft segments is desirably in the range of -50 ° C. or higher 30 ° C. or less, is preferably in the range of -30 ° C. or higher 10 ° C. or less. ガラス転移温度が30℃以下であると、クリーニングブレード131を使用する実用温度域において脆化の発生が抑制される。 When the glass transition temperature is 30 ° C. or less, occurrence of embrittlement is suppressed in a practical temperature range of using the cleaning blade 131. また、ガラス転移温度が−50℃以上であると、実使用領域において十分な硬度、応力が得られる。 Further, the glass transition temperature is -50 ° C. or higher, sufficient hardness in the actual use area, the stress is obtained.
従って、上述したガラス転移温度を実現するためには、エラストマー材料のハードセグメントを構成する材料(以下、「ハードセグメント材料」と称す場合がある)のガラス転移温度は、30℃以上100℃以下の範囲内であることが望ましく、35℃以上60℃以下の範囲内であることがより望ましく、ソフトセグメントを構成する材料(以下、「ソフトセグメント材料」と称す場合がある)のガラス転移温度は、−100℃以上−50℃以下の範囲内であることが望ましく、−90℃以上−60℃以下の範囲内であることがより望ましい。 Therefore, in order to achieve a glass transition temperature described above, the material constituting the hard segment of the elastomer material the glass transition temperature (hereinafter, sometimes referred to as "hard segment material") is 100 ° C. below 30 ° C. or higher it is desirable in the range, more preferably in the range of 35 ° C. or higher 60 ° C. or less, the material constituting the soft segment glass transition temperature (hereinafter, sometimes referred to as "soft segment material") is, it is desirable in the range of -100 ° C. or higher -50 ° C. or less, and more desirably in the range of -90 ° C. or higher -60 ° C. or less.

また、上述したガラス転移温度を有するハードセグメント材料及びソフトセグメント材料を用いる場合、ハードセグメント材料及びソフトセグメント材料の総量に対するハードセグメントを構成する材料の質量比(以下、「ハードセグメント材料比」と称す場合がある)が46質量%以上96質量%以下の範囲内であることが望ましく、50質量%以上90質量%以下の範囲内であることがより望ましく、60質量%以上85質量%以下の範囲内であることが更に望ましい。 In the case of using the hard segment material and the soft segment material having a glass transition temperature described above, the mass ratio of the material constituting the hard segment to the total amount of the hard segment material and the soft segment material (hereinafter, referred to as "hard segment material ratio" it is desirable if there is) is in the range of 96 wt% or less 46% by mass or more, and more preferably in the range of 50 to 90 mass% or less, the range of 60 mass% or more and 85 mass% or less it is further desirable that the inner.
ハードセグメント材料比が、46質量%以上であると、第一層先端の耐磨耗性が確保され、磨耗の発生が抑制されることにより、長期に渡って良好なクリーニング性が維持される。 Hard segment material ratio, if it is 46 mass% or more, the abrasion resistance of the first layer tip is secured, by the occurrence of abrasion can be suppressed, good cleaning property over a long period of time is maintained. また、ハードセグメント材料比が96質量%以下であると、第一層先端が硬くなり過ぎず、柔軟性や伸張性が得られ、欠けの発生が抑制されることにより、長期に渡って良好なクリーニング性が維持される。 Further, when the hard segment material ratio is 96 mass% or less, the first layer tip is not too hard, flexibility and extensibility are obtained by chipping is suppressed, excellent for a long time cleaning is maintained.

ハードセグメント材料とソフトセグメント材料との組み合わせとしては、特に限定されず、一方が他方に対して相対的に硬く、他方が一方に対して相対的に柔らかい組み合わせとなるように公知の樹脂材料から選択されるが、以下の組み合わせが好適である。 The combination of the hard segment material and the soft segment material is not particularly limited, relatively rigid, selected from known resin material such other is relatively soft combining for one one is relative to the other but is the combination of the following are preferred.
すなわち、ハードセグメント材料としては、ポリウレタン樹脂を用いることが望ましい。 That is, as the hard segment material, it is preferable to use a polyurethane resin. この場合のポリウレタン樹脂の重量平均分子量は、1000以上4000以下の範囲内であることが望ましく、1500以上3500以下の範囲内であることがより望ましい。 The weight average molecular weight of the polyurethane resin in this case is desirably in the range of 1000 to 4,000, and more desirably in the range of 1500 or more 3500 or less.
重量平均分子量が1000以上の場合、クリーニングブレード131が低温環境下で使用される場合にハードセグメントを構成するポリウレタン樹脂の弾性が失われないために、クリーニング不良が抑制される。 If the weight average molecular weight is 1,000 or more, for the cleaning blade 131 is elastically polyurethane resin constituting the hard segment is not lost when used in a low-temperature environment, cleaning failure can be suppressed. また、重量平均分子量が4000以下の場合は、ハードセグメントを構成するポリウレタン樹脂の永久歪みが大きくなり過ぎず、第一層先端が、電子写真感光体7に対して接触圧力を保持し得るため、クリーニング不良が抑制される。 Further, since the weight average molecular weight in the case of 4000 or less, the permanent strain of the polyurethane resin constituting the hard segment is not too large, the first layer tip may hold the contact pressure against the electrophotographic photoreceptor 7, cleaning failure is suppressed.
なお、上述したハードセグメント材料として用いられるポリウレタン樹脂としては、例えば、ダイセル化学社製、プラクセル205やプラクセル240などが挙げられる。 As the polyurethane resin used as a hard segment material described above, for example, Daicel Chemical Industries, Ltd., and the like Placcel 205 and Placcel 240.

クリーニングブレード131の押し付け圧は、望ましくは1.7gf/mm以上6.5gf/mm以下、より望ましくは2.0gf/mm以上6.0gf/mm以下に設定される。 Pressing pressure of the cleaning blade 131 is preferably 1.7gf / mm or more 6.5gf / mm or less, and more preferably is set below 2.0 gf / mm or more 6.0gf / mm. 該下限値以上であると高硬度ブレードを用いた場合でもトナーのクリーニング不良が抑制され、該上限値以下であると電子写真感光体7との摩擦が高くなり過ぎず、トルク上昇、電子写真感光体7の磨耗、ブレードエッジの欠けによるスジの発生、電子写真感光体7との摩擦によるゴーストの発生などが抑制される。 Cleaning the toner defects even when a high hardness blade to be equal to or more than the lower limit value is inhibited, if it is more than the upper limit does not become too high friction between the electrophotographic photosensitive member 7, the torque increases, the electrophotographic photosensitive wear body 7, the occurrence of streaks due to chipping of the blade edge, friction ghost caused by the electrophotographic photoreceptor 7 is suppressed.

[除電装置] [Static eliminator]
除電装置15としては、電子写真感光体7の表面を除電し得る光(除電光)を照射する公知の光除電装置(例えば、例えば、タングステンランプ、LED等)が挙げられ、トナー像の被転写体への転写後かつ帯電前に、電子写真感光体7の表面電位を除去し得るものであればよい。 The neutralization device 15, known optical discharging device for emitting light (discharging light) capable of neutralizing the surface of the electrophotographic photoreceptor 7 (e.g., e.g., a tungsten lamp, LED, etc.), with the transfer of the toner image after transfer to the body and prior to charging, as long as it can remove the surface potential of the electrophotographic photoreceptor 7.

[転写装置] [Transfer device]
転写装置40としては、例えば、ベルト、ローラ、フィルム、ゴムブレード等を用いた接触型転写帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン転写帯電器やコロトロン転写帯電器等のそれ自体公知の転写帯電器が挙げられる。 As the transfer device 40, for example, a belt, a roller, a film, a contact type transfer charging devices using a rubber blade or the like, scorotron transfer charger or a corotron transfer per se known transfer charger or the like utilizing corona discharge and the like.

[中間転写体] [Intermediate transfer member]
中間転写体50としては、半導電性を付与したポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエステル、ゴム等のベルト状のもの(中間転写ベルト)が使用される。 As the intermediate transfer member 50, a polyimide imparted with semiconductive, polyamideimide, polycarbonate, polyarylate, polyester, belt type, such as rubber (intermediate transfer belt) is used. また、中間転写体の形態としては、ベルト状以外にドラム状のものを用いてもよい。 As the form of the intermediate transfer member, may be used as a drum-like in addition to belt.

以上説明した画像形成装置100は、上述した各装置の他に、例えば、公知の装置を備えてもよい。 The image forming apparatus 100 described above, in addition to the above-described devices, for example, may comprise a known apparatus.

図5は、本実施形態に係る画像形成装置の他の一例を示す概略構成図である。 Figure 5 is a schematic diagram showing another example of an image forming apparatus according to the present embodiment.
図5に示す画像形成装置120は、プロセスカートリッジ300を4つ搭載したタンデム方式の多色画像形成装置である。 The image forming apparatus 120 shown in FIG. 5 is a multi-color image forming apparatus of a tandem type equipped with four process cartridges 300. 画像形成装置120では、中間転写体50上に4つのプロセスカートリッジ300がそれぞれ並列に配置されており、1色に付き1つの電子写真感光体が使用される構成となっている。 In the image forming apparatus 120, four process cartridges 300 onto the intermediate transfer member 50 are arranged in parallel, and has a configuration in which one electrophotographic photoreceptor per color are used. なお、画像形成装置120は、タンデム方式であること以外は、画像形成装置100と同様の構成を有している。 The image forming apparatus 120, except that the tandem type, has the same configuration as the image forming apparatus 100.

なお、本実施形態に係るプロセスカートリッジは、電子写真感光体と、現像装置と、除電装置と、を備え、画像形成装置に着脱し得るプロセスカートリッジであればよい。 Incidentally, the process cartridge according to the present embodiment comprises an electrophotographic photosensitive member, a developing unit, and a neutralization device may be a process cartridge that can be detachably attached to the image forming apparatus.

以下、実施例及び比較例について説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。 EXAMPLES The following explains Examples and Comparative Examples, the present invention is not limited to the following examples. なお、以下において「部」は、特に断りのない限り質量基準である。 Incidentally, "parts" in the following are based on mass unless otherwise specified.

<感光体> <Photoreceptor>
[感光体1の作製] [Preparation of the photosensitive member 1]
(下引層の作製) (Preparation of the undercoat layer)
酸化亜鉛(平均粒子径70nm:テイカ社製:比表面積値15m /g)100部をテトラヒドロフラン500部と攪拌混合し、シランカップリング剤(KBM503:信越化学工業社製)1.3部を添加し、2時間攪拌した。 Zinc oxide (average particle size 70 nm: manufactured by Tayca Corporation, specific surface area: 15 m 2 / g) 100 parts of stirred and mixed with 500 parts of tetrahydrofuran, and silane coupling agent (KBM503: manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) added 1.3 parts of then, the mixture was stirred for 2 hours. その後トルエンを減圧蒸留にて留去し、120℃で3時間)焼き付けを行い、シランカップリング剤表面処理酸化亜鉛を得た。 Then toluene was distilled off by distillation under reduced pressure, for 3 hours) baked at 120 ° C., to obtain a silane coupling agent surface treated zinc oxide.
表面処理を施した酸化亜鉛110部を500部のテトラヒドロフランと攪拌混合し、アリザリン1.0部を50部のテトラヒドロフランに溶解させた溶液を添加し、50℃にて5時間攪拌した。 Zinc oxide 110 parts of surface-treated stirred and mixed with tetrahydrofuran 500 parts, a solution prepared by dissolving 1.0 parts of alizarin in tetrahydrofuran 50 parts, was stirred for 5 hours at 50 ° C.. その後、減圧ろ過にてアリザリンを付与させた酸化亜鉛を濾別し、さらに60℃で減圧乾燥を行い、アリザリン付与酸化亜鉛を得た。 Then filtered zinc oxide obtained by alizarin under reduced pressure filtration and further dried under reduced pressure at 60 ° C., to obtain alizarin-added zinc oxide.
このアリザリン付与酸化亜鉛60部と硬化剤(ブロック化イソシアネート、スミジュール3175、住友バイエルンウレタン社製)13.5部とブチラール樹脂(エスレックBM−1、積水化学社製)15部とをメチルエチルケトン85部に溶解した溶液38部と、メチルエチルケトン25部と、を混合し1mmφのガラスビーズを用いてサンドミルにて2時間の分散を行い分散液を得た。 The alizarin-added zinc oxide 60 parts of a curing agent (blocked isocyanate, Sumidule 3175, manufactured by Sumitomo Bayer Urethane Co., Ltd.) 13.5 parts of a butyral resin (S-LEC BM-1, manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.) 15 parts of methyl ethyl ketone 85 parts to obtain a solution 38 parts were dissolved, and methyl ethyl ketone 25 parts, by using the glass beads were mixed 1mmφ the dispersion was dispersed for 2 hours by a sand mill to.
得られた分散液に触媒としてジオクチルスズジラウレート0.005部、シリコーン樹脂粒子(トスパール145、GE東芝シリコーン社製)45部を添加し、下引層用塗布液を得た。 The resulting dioctyltin dilaurate 0.005 parts as the catalyst to the dispersion was added a silicone resin particles (Tospearl 145, GE Toshiba Silicones Co., Ltd.) 45 parts, to obtain an undercoat layer coating solution. この塗布液を浸漬塗布法にて、直径30mm、長さ340mm、肉厚1mmのアルミニウム基材上に塗布し、170℃、40分の乾燥硬化を行い厚さ18μmの下引層を得た。 At this coating solution dip coating method, coating diameter 30 mm, length 340 mm, on an aluminum substrate having a thickness of 1 mm, 170 ° C., to obtain a thickness of 18μm of the undercoat layer and dried cured 40 minutes. 形成された下引層の外側表面の表面粗さRaは0.3μmであった。 Surface roughness Ra of the formed outer surface of the undercoat layer was 0.3 [mu] m.

(電荷発生層の作製) (Preparation of the charge generating layer)
電荷発生物質としてのCukα特性X線を用いたX線回折スペクトルのブラッグ角度(2θ±0.2°)が少なくとも7.3゜,16.0゜,24.9゜,28.0゜の位置に回折ピークを有するヒドロキシガリウムフタロシアニン15部、結着樹脂としての塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体樹脂(VMCH、日本ユニカー社製)10部、及びn−酢酸ブチル200部からなる混合物を、直径1mmφのガラスビーズを用いてサンドミルにて4時間分散した。 Cukα characteristic Bragg angle of X-ray diffraction spectrum using X-ray (2θ ± 0.2 °) of at least 7.3 ° as a charge generating material, 16.0 °, 24.9 °, 28.0 ° position diffraction 15 parts of hydroxygallium phthalocyanine having a peak, vinyl acetate copolymer resins chloride as a binder resin (VMCH, manufactured by Nippon Unicar Company Limited) 10 parts, and a mixture of n- butyl acetate 200 parts, the diameter 1mmφ It was dispersed for 4 hours in a sand mill using glass beads. 得られた分散液にn−酢酸ブチル175部、メチルエチルケトン180部を添加し、攪拌して電荷発生層用塗布液を得た。 The resulting dispersion 175 parts of n- butylacetate, were added 180 parts of methyl ethyl ketone to obtain a charge generation layer coating liquid by stirring. この電荷発生層用塗布液を、下引層上に浸漬塗布し、100℃で5分間乾燥して、膜厚が0.2μmの電荷発生層を形成した。 This charge generation layer coating liquid was dip-coated on the undercoat layer and dried for 5 minutes at 100 ° C., the film thickness to form a charge generation layer of 0.2 [mu] m.

(電荷輸送層の作製) (Preparation of charge transport layer)
N,N'−ジフェニル−N,N'−ビス(3−メチルフェニル)−[1,1']ビフェニル−4,4'−ジアミン(TPD)40部、N,N−ビス(3,4−ジメチルフェニル)ビフェニル−4−アミン10部、及びビスフェノールZポリカーボネート樹脂(PC(Z):粘度平均分子量:6万)55部をクロルベンゼン800部に加えて溶解し、電荷輸送層用塗布液を得た。 N, N'-diphenyl -N, N'-bis (3-methylphenyl) - [1,1 '] biphenyl-4,4'-diamine (TPD) 40 parts, N, N-bis (3,4 10 parts of dimethyl phenyl) biphenyl-4-amine, and bisphenol Z polycarbonate resin (PC (Z): the viscosity-average molecular weight: 60,000) 55 parts was dissolved by adding 800 parts of chlorobenzene to obtain a coating liquid for charge transport layer It was. この塗布液を電荷発生層上に塗布し、130℃、45分の乾燥を行って膜厚が25μmの電荷輸送層を形成した。 The coating liquid was coated on the charge generating layer, 130 ° C., a film thickness and then dried for 45 minutes to form a charge transport layer of 25 [mu] m.

(保護層(最表面層)の作製) (Preparation of the protective layer (outermost surface layer))
例示化合物(I)−83(特定の反応基含有電荷輸送材料)12部、サーフロンS651(界面活性剤:AGCセイミケミカル社製)0.1部、OTazo−15(重合開始剤:大塚化学社製、分子量354.4)0.2部をシクロペンチルメチルエーテル(溶剤:CPME)30部に溶解して、保護層(最表面層)形成用の塗布液を準備した。 Exemplified Compound (I) -83 (specific reactive group-containing charge transporting material) 12 parts, Surflon S651 (surfactant, manufactured by AGC Seimi Chemical Co., Ltd.) 0.1 parts, OTazo-15 (polymerization initiator: Otsuka Chemical Co., Ltd. , molecular weight 354.4) 0.2 parts of cyclopentyl methyl ether (solvent: CPME) was dissolved in 30 parts, were prepared protective layer (outermost layer) coating solution for forming.
そして、保護層(最表面層)形成用の塗布液を用いて、突き上げコートにて電荷輸送層上に塗布した。 Then, using the protective layer (outermost layer) coating liquid for forming was applied onto the charge transport layer at the push-up coat. 室温(20℃)で30分風乾した後、酸素濃度200ppmの窒素下で室温(20℃)から10℃/分の速度で150℃まで昇温し、150℃で1時間加熱処理して硬化させ、膜厚7μmの保護層(最表面層)を形成した。 After air-dried for 30 minutes at room temperature (20 ° C.), under nitrogen at an oxygen concentration 200ppm room temperature was raised from (20 ° C.) up to 0.99 ° C. at a 10 ° C. / min rate, then cured by 1 hour heating at 0.99 ° C. It was formed protective layer having a thickness of 7μm the (outermost surface layer).

以上の工程を経て、感光体1を作製した。 Through the above steps, to prepare a photosensitive member 1.

[感光体2〜38の作製] [Preparation of the photosensitive member 2 to 38]
表1〜表2に従った組成の保護層(最表面層)形成用の塗布液を用い、表1〜2に従った保護層の膜厚とした以外は、感光体1と同様にして、それぞれ感光体2〜38を作製した。 Using Table 1 to Table protective layer of the composition according to 2 (outermost layer) coating solution for forming, except that the film thickness of the protective layer according to Table 1-2, in the same manner as the photosensitive member 1, each was prepared photoreceptor 2 to 38.

[比較感光体1〜62の作製] [Preparation of comparative photoreceptor 1 to 62]
表3〜表5に従った組成の保護層(最表面層)形成用の塗布液を用い、表3〜5に従った保護層の膜厚とした以外は、感光体1と同様にして、それぞれ比較感光体1〜62を作製した。 Using Tables 3 protective layer of the composition according to 5 (outermost layer) coating solution for forming, except that the film thickness of the protective layer according to Table 3-5, in the same manner as the photosensitive member 1, respectively to prepare a comparative photoreceptor 1 to 62.

なお、上記表中の詳細は、以下の通りである。 The details of the above table are as follows.
・A−TMPT:トリメチロールプロパントリアクリレート、新中村化学社製・サーフロンS651:AGCセイミケミカル社製・OTazo−15:大塚化学社製、分子量354.4 - A-TMPT: trimethylolpropane triacrylate, Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., Surflon S651: AGC SEIMI Chemical Co., Ltd. · OTazo-15: manufactured by Otsuka Chemical Co., molecular weight 354.4
・化合物(A)及び(B):下記構造式参照・CPME:シクロペンチルメチルエーテル - Compound (A) and (B): the following structural formula See, CPME: cyclopentyl methyl ether


<現像剤> <Developer>
[比較現像剤1の作製] Preparation of Comparative developer 1]
(比較トナー粒子K1の作製) (Preparation of Comparative Toner particles K1)
(1)結着樹脂粒子分散液の調製 スチレン370質量部、n−ブチルアクリレート30質量部、アクリル酸8質量部、ドデカンチオール24質量部、及び、四臭化炭素4質量部を混合して溶解した溶液Aと、非イオン性界面活性剤(ノニポール400、三洋化成社製)6質量部及びアニオン性界面活性剤(ネオゲンSC、第一工業製薬社製)10質量部をイオン交換水550質量部に溶解した溶液Bと、過硫酸アンモニウム4質量部をイオン交換水50質量部に溶解した溶液Cと、を準備した。 (1) Preparation of styrene 370 parts by weight of the binder resin particle dispersion, n- butyl acrylate 30 parts by mass, 8 parts by weight of acrylic acid, dodecanethiol 24 parts by weight, and dissolved by mixing 4 parts by mass Carbon tetrabromide It was a solution a, non-ionic surfactant (Nonipol 400, manufactured by Sanyo Chemical Industries, Ltd.) 6 parts by weight of an anionic surfactant (Neogen SC, manufactured by Dai-ichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.) 10 parts by mass of ion-exchanged water 550 parts by weight and solution B was dissolved in a solution C ammonium persulfate 4 parts by weight were dissolved in 50 parts by weight of deionized water, was prepared. 次に、フラスコ中に溶液Aと溶液Bとを加え、ゆっくりと混合攪拌しながら、10分間かけて溶液Cを徐々に加えることにより乳化重合させた。 Next, the solutions A and B was added to the flask, stirring gently mixed and emulsion polymerization by gradual addition of solution C over a period of 10 minutes.

上記フラスコ内を窒素置換した後、フラスコ内を攪拌しながら内容物が70℃になるまでオイルバスで加熱し、5時間そのまま乳化重合を継続した。 After the inside the flask was replaced with nitrogen, the contents while stirring the flask was heated in an oil bath until 70 ° C., it was continued emulsion polymerization for 5 hours. これにより、体積平均一次粒径が150nm、ガラス転移点Tgが58℃、重量平均分子量Mwが11500の結着樹脂粒子が溶液中に分散した結着樹脂粒子分散液を得た。 Thus, volume average primary particle size was obtained 150 nm, a glass transition point Tg 58 ° C., a weight average molecular weight Mw of 11500 of the binder resin particles to the binder resin particle dispersion liquid dispersed in the solution. この結着樹脂粒子分散液の固形分濃度は40質量%であった。 The solid content concentration of the binder resin particle dispersion was 40% by mass.

(2)着色剤分散液の調製 カーボンブラック(モーガルL、キャボット社製)60質量部、ノニオン性界面活性剤(ノニポール400、三洋化成社製)6質量部、イオン交換水240質量部を混合して溶解させ、ホモジナイザー(ウルトラタラックスT50、IKA社製)を用いて10分間攪拌し、その後、アルティマイザーにて分散処理を行うことで、平均粒子径250nmの着色剤(カーボンブラック)粒子が分散された着色剤分散剤を得た。 (2) Preparation of carbon black colorant dispersion (Mogul L, Cabot Corporation) 60 parts by weight of a nonionic surfactant (Nonipol 400, manufactured by Sanyo Chemical Industries, Ltd.) 6 parts by weight, were mixed 240 parts by weight of deionized water dissolved Te, and stirred for 10 minutes using a homogenizer (Ultra Turrax T50, IKA Co.), then, by performing distributed processing in ultimizer, average particle size 250nm of the colorant (carbon black) particles are dispersed to obtain a colorant dispersant.

(3)離型剤分散液の調製 パラフィンワックス(HNP0190、日本精蝋社製、融点85℃)100質量部、カチオン性界面活性剤(サニゾールB50、花王社製)5質量部、イオン交換水240質量部を、丸型ステンレス鋼製フラスコ中でホモジナイザー(ウルトラタラックスT50、IKA社製)を用いて10分間分散した後、圧力吐出型ホモジナイザーで分散処理し、平均粒径550nmの離型剤粒子が分散された離型剤分散液を調整した。 (3) Preparation of paraffin wax of the release agent dispersion liquid (HNP0190, Nippon Seiro Co., 85 ° C. melting point) 100 parts by weight of a cationic surfactant (Sanisol B50, manufactured by Kao Corporation) 5 parts by mass, ion-exchanged water 240 the parts by weight, was dispersed for 10 minutes using a homogenizer (Ultra Turrax T50, IKA Co.) in a round stainless steel flask, a dispersion treatment using a pressure discharge type homogenizer, release agent particles having an average particle diameter of 550nm There was adjusted releasing agent dispersion dispersed.

(4)比較トナー粒子K1の作製 上記結着樹脂粒子分散液234質量部、上記着色剤分散液30質量部、上記離型剤分散液40質量部、ポリ水酸化アルミニウム(Paho2S、浅田化学社製)1.0質量部、イオン交換水600質量部を、丸型ステンレス鋼鉄フラスコ中でホモジナイザー(ウルトラタラックスT50、IKA社製)を用いて混合し、分散した後、加熱用オイルバス中でフラスコ内を攪拌しながら40℃まで加熱した。 (4) Comparative Preparation the binder resin particle dispersion 234 parts by mass of the toner particles K1, the colorant dispersion 30 parts by mass, the release agent dispersion liquid 40 parts by mass, polyaluminum hydroxide (Paho2S, manufactured by Asada Chemical Co. ) 1.0 part by weight, the flask of deionized water 600 parts by weight, in a round stainless steel flask by mixed using a homogenizer (Ultra Turrax T50, IKA Co.), was dispersed, a heating oil bath the inner was heated with stirring to 40 ° C.. 40℃で30分間保持した後、D50(体積平均粒径)3.5μmの凝集粒子が生成していることを確認した。 After holding for 30 minutes at 40 ° C., it was confirmed that D50 (volume average particle diameter) 3.5 [mu] m of the aggregated particles are generated.

その後、加熱用オイルバスの温度を上げて56℃で1時間保持した。 Then held for 1 hour at 56 ° C. by increasing the temperature of the oil bath for heating. この際の、D50は4.3μmであった。 In this case, D50 was 4.3μm. この凝集体粒子を含む分散液に上記結着樹脂粒子分散液26質量部を添加した後、加熱用オイルバスの温度を50℃まで下げて30分間保持した。 After addition of the binder resin particle dispersion liquid 26 parts by weight dispersion containing the aggregate particles, the temperature of the heating oil bath and held down for 30 minutes until 50 ° C.. 次に、この凝集体粒子を含む分散液に、1N水酸化ナトリウムを添加することによりpHを7.0に調整した後、ステンレス製フラスコを密閉し、磁気シールを用いて攪拌を継続しながら80℃まで加熱して3時間保持した。 Then, the dispersion containing the aggregate particles, the pH was adjusted to 7.0 by addition of 1N sodium hydroxide, the stainless flask was sealed, while continuing stirring using a magnetic seal 80 and held for 3 hours and heated to ° C.. この凝集体粒子を含む分散液を冷却した後、凝集体粒子(トナー粒子)を濾別し、イオン交換水で4回洗浄した後、凍結乾燥して黒色の比較トナー粒子K1を得た。 After the dispersion was cooled containing the aggregate particles, and filtered aggregate particles (toner particles) were washed four times with deionized water, and freeze-dried to obtain a comparative toner particles K1 black. 比較トナー粒子K1のD50は4.9μm、平均形状係数SF1は138であった。 D50 of Comparative Toner particles K1 is 4.9 [mu] m, an average shape factor SF1 of 138.

(現像剤1の作製) (Preparation of Developer 1)
(1)キャリアの作製 まず、パーフルオロオクチルエチルメタクリレート/メチルメタクリレート共重合体(成分比:15/85)2質量部、カーボンブラック(VXC72、キャボット社製)0.2質量部、トルエン14質量部をサンドミルにて10分間撹拌させ、分散処理した被覆液を調製した。 (1) Preparation of Carrier First, perfluorooctyl methacrylate / methyl methacrylate copolymer (component ratio: 15/85) 2 parts by weight of carbon black (VXC72, manufactured by Cabot Corporation) 0.2 parts by mass Toluene 14 parts by weight It was allowed to stir for 10 minutes in a sand mill to prepare a coating solution by dispersing. 次に、この被覆液とフェライト粒子(平均粒径:35μm)100質量部とを真空脱気型ニーダーに入れ、攪拌しながら、温度60℃、圧力を560mmHg(74660Pa)まで減圧し、30分間混合した。 Next, the coating liquid and ferrite particles (average particle size: 35 [mu] m) and 100 parts by mass placed in a vacuum degassing kneader, with stirring, under reduced pressure temperature 60 ° C., the pressure to 560mmHg (74660Pa), mixed for 30 minutes did. その後、さらに昇温及び減圧させ90℃、40mmHg(5330Pa)で30分間攪拌・乾燥させることによりキャリアを得た。 Then, to obtain a carrier by further raising the temperature and reduced pressure is not 90 ° C., is agitated and dried for 30 minutes at 40mmHg (5330Pa). 得られたキャリアは、1000V/cmの印加電界時の体積固有抵抗値が1011Ω・cmであった。 The resulting carrier has a volume resistivity of at an applied electric field of 1000V / cm was 10 @ 11 .OMEGA · cm.

(2)K色トナーの作製 100質量部の比較トナー粒子K1に対して、ルチル型酸化チタン(粒径:20nm、表面処理:n−デシルトリメトキシラン処理)1.0質量部、シリカ(粒径:140nm、表面処理:HMDS処理、粒子作製法:ゾルゲル法)2.0質量部、及び、ステアリン酸亜鉛(ZNS−S、粒径:6μm、旭電化工業社製)0.3質量部を添加し、5Lヘンシェルミキサーで周速30m/s×15分間ブレンドを行った。 (2) the comparative Preparation 100 parts by weight of K toner toner particles K1, rutile type titanium oxide (particle diameter: 20 nm, surface treatment: n-decyltrimethoxysilane) 1.0 part by weight of silica (particle diameter: 140 nm, surface treatment: HMDS treatment, particle preparation method: sol-gel method) 2.0 part by mass, and zinc stearate (ZNS-S, particle diameter: 6 [mu] m, the Asahi Denka Co., Ltd.) 0.3 parts by weight was added, it was blended peripheral speed 30 m / s × 15 min 5L Henschel mixer. その後、45μmの目開きのシーブを用いて粗大粒子を除去して、表面に外添剤が外添されたK(ブラック)色トナーを得た。 Then, to remove coarse particles using a 45μm mesh sieve of the external additive to obtain an external addition has been K (black) toner to the surface.

(3)現像剤の作製 上記の表面に外添剤が外添されたK色トナーを用いて、該トナー8質量部と、上記キャリア100質量部とを、V−ブレンダーで、40rpm×20分間攪拌し、212μmの目開きを有するシーブで篩分することにより比較現像剤1を得た。 (3) using a K-color toner prepared external additive to the surface is externally added in the developer, and the toner 8 parts by weight, and 100 parts by mass of the above carrier, with V- blender, 40 rpm × 20 min stirring to obtain a comparative developer 1 by sieved through a sieve having a mesh of 212 m.

[比較現像剤2の作製] Preparation of Comparative Developer 2]
比較現像剤1の比較トナー粒子K1作製において、凝集体粒子を含む分散液に、1N水酸化ナトリウムを添加することによりpHを7.0に調整した後、ステンレス製フラスコを密閉し、磁気シールを用いて攪拌を継続しながら80℃まで加熱して0.5時間保持したこと以外は比較現像剤1同様の作製方法にて比較現像剤2を作製した。 Comparative Comparative Toner particles K1 Preparation of Developer 1, the dispersion containing the aggregate particles, the pH was adjusted to 7.0 by addition of 1N sodium hydroxide, and the stainless steel flask is sealed, the magnetic seal used except that the heating and holding for 0.5 hours to 80 ° C. with continued stirring to produce a comparison developer 2 in Comparative developer 1 similar fabrication method.

[現像剤1の作製] [Preparation of Developer 1]
比較現像剤1の比較トナー粒子K1作製において、凝集体粒子を含む分散液に、1N水酸化ナトリウムを添加することによりpHを7.0に調整した後、ステンレス製フラスコを密閉し、磁気シールを用いて攪拌を継続しながら80℃まで加熱して2.5時間保持したこと以外は比較現像剤1同様の作製方法にて現像剤1を作製した。 Comparative Comparative Toner particles K1 Preparation of Developer 1, the dispersion containing the aggregate particles, the pH was adjusted to 7.0 by addition of 1N sodium hydroxide, and the stainless steel flask is sealed, the magnetic seal except that held by heating to 80 ° C. with continuous stirring for 2.5 hours to prepare a developer 1 in Comparative developer 1 same manufacturing method used.

[現像剤2の作製] [Preparation of Developer 2]
比較現像剤1の比較トナー粒子K1作製において、凝集体粒子を含む分散液に、1N水酸化ナトリウムを添加することによりpHを7.0に調整した後、ステンレス製フラスコを密閉し、磁気シールを用いて攪拌を継続しながら80℃まで加熱して2時間保持したこと以外は比較現像剤1同様の作製方法にて現像剤2を作製した。 Comparative Comparative Toner particles K1 Preparation of Developer 1, the dispersion containing the aggregate particles, the pH was adjusted to 7.0 by addition of 1N sodium hydroxide, and the stainless steel flask is sealed, the magnetic seal used except that the hold was heated to 80 ° C. with continued stirring for 2 hours to prepare a developer 2 in Comparative developer 1 similar fabrication method.

[現像剤3の作製] Preparation of the developer 3]
比較現像剤1の比較トナー粒子K1作製において、凝集体粒子を含む分散液に、1N水酸化ナトリウムを添加することによりpHを7.0に調整した後、ステンレス製フラスコを密閉し、磁気シールを用いて攪拌を継続しながら80℃まで加熱して1時間保持したこと以外は比較現像剤1同様の作製方法にて現像剤3を作製した。 Comparative Comparative Toner particles K1 Preparation of Developer 1, the dispersion containing the aggregate particles, the pH was adjusted to 7.0 by addition of 1N sodium hydroxide, and the stainless steel flask is sealed, the magnetic seal used except that the hold was heated to 80 ° C. with continued stirring for 1 hour to prepare a developer 3 in Comparative developer 1 similar fabrication method.

[現像剤4の作製] [Preparation of Developer 4]
比較現像剤1の比較トナー粒子K1作製において、凝集体粒子を含む分散液に、1N水酸化ナトリウムを添加することによりpHを7.0に調整した後、ステンレス製フラスコを密閉し、磁気シールを用いて攪拌を継続しながら80℃まで加熱して0.5時間保持したこと以外は比較現像剤1同様の作製方法にて現像剤4を作製した。 Comparative Comparative Toner particles K1 Preparation of Developer 1, the dispersion containing the aggregate particles, the pH was adjusted to 7.0 by addition of 1N sodium hydroxide, and the stainless steel flask is sealed, the magnetic seal except that heating to hold 0.5 hours 80 ° C. with continuous stirring to prepare a developer 4 in Comparative developer 1 same manufacturing method used.

作製した各現像剤(トナー)の特性を一覧にして表6に示す。 And each developer to produce a characteristic of the (toner) to the list shown in Table 6.

<クリーニングブレード> <Cleaning blade>
[クリーニングブレード1の作製] [Production of the cleaning blade 1]
はじめに、クリーニング層(第一層)用の部材を以下のようにして形成した。 First was a member of the cleaning layer (first layer) was formed as follows.
まず、ポリオール成分として、ポリカプロラクトンポリオール(ダイセル化学社製、プラクセル205、平均分子量529、水酸基価212KOHmg/g)及びポリカプロラクトンポリオール(ダイセル化学社製、プラクセル240、平均分子量4155、水酸基価27KOHmg/g)とからなるハードセグメント材料と、2つ以上のヒドロキシル基を含むアクリル樹脂(綜研化学社製、アクトフローUMB−2005B)からなるソフトセグメント材料とを、ハードセグメント材料比46質量%となるようにして混合した。 First, as the polyol component, polycaprolactone polyol (manufactured by Daicel Chemical Industries, PLACCEL 205, average molecular weight 529, hydroxyl value 212KOHmg / g) and polycaprolactone polyol (manufactured by Daicel Chemical Industries, PLACCEL 240, average molecular weight 4155, hydroxyl value 27KOHmg / g ) and the hard segment material made from two or more acrylic resins (Soken Chemical & Engineering Co., Ltd. containing hydroxyl groups, and a soft segment material consisting ACTFLOW UMB-2005B), as the hard segment material ratio 46 wt% was mixed Te.

次に、このハードセグメント材料とソフトセグメント材料との混合物100部に対して、イソシアネート化合物として4,4'−ジフェニルメタンジイソシアネート(日本ポリウレタン工業社製、ミリオネートMT、以下「MDI」という)を6.26部加えて、窒素雰囲気下で70℃で3時間反応させた。 Next, with respect to 100 parts of a mixture of this hard segment material and the soft segment material, as an isocyanate compound 4,4'-diphenylmethane diisocyanate (Nippon Polyurethane Industry Co., Millionate MT, hereinafter referred to as "MDI") 6.26 in addition parts, it was reacted for 3 hours at 70 ° C. under a nitrogen atmosphere. なお、この反応で使用したイソシアネート化合物量は、反応系に含まれる水酸基に対するイソシアネート基の比(イソシアネート基/水酸基)が0.5となるように選択したものである。 Incidentally, the isocyanate compound content used in this reaction, the ratio of isocyanate groups to hydroxyl groups contained in the reaction system (isocyanate group / hydroxyl group) is one selected to be 0.5. 続いて、上記イソシアネート化合物を更に34.3部加え、窒素雰囲気下で70℃で3時間反応させて、プレポリマーを得た。 Then, further added 34.3 parts of the isocyanate compound is allowed to react for 3 hours at 70 ° C. under a nitrogen atmosphere to obtain a prepolymer.
なお、プレポリマーの使用に際して利用したイソシアネート化合物の全量は40.56部である。 Incidentally, the total amount of the isocyanate compound utilized in use of the prepolymer is 40.56 parts.

次に、このプレポリマーを100℃に昇温し、減圧下で1時間脱泡した後、プレポリマー100部に対して、1,4−ブタンジオールとトリメチロールプロパンとの混合物(質量比=60/40)を7.14部加え、3分間泡をかまないように充分に混合し、クリーニング層形成用組成物A1を調製した。 Then, the prepolymer was heated to 100 ° C., after 1 hour defoamed under reduced pressure, the prepolymer 100 parts of 1,4-butanediol and a mixture of trimethylolpropane (weight ratio = 60 / 40) 7.14 parts was added, and sufficiently mixed so as not to bite 3 minutes foam was prepared a cleaning layer forming composition A1.

次いで、140℃に金型を調整した遠心成形機に上記クリーニング層形成用組成物A1を流し込み、1時間硬化反応させ、平板状のクリーニング層を形成した。 Then, pouring the cleaning layer forming composition A1 in a centrifugal molding machine to adjust the mold to 140 ° C., then 1 hour curing reaction, to form a flat cleaning layer.

一方、背面層(第2層)用の部材として以下の方法により調製した背面層形成用組成物A1を準備した。 On the other hand, it was prepared back layer-forming composition A1 prepared in the following manner as a member for the back layer (second layer).
脱水処理したポリテトラメチルエーテルグリコールに、ジフェニルメタン−4,4−ジイソシアネートを混入し120℃で15分反応させ、生成したプレポリマーに硬化剤として1,4−ブタジオール及びトリメチロールプロパンを併用したものを用いた。 A polytetramethylene ether glycol was dehydrated, diphenylmethane-4,4-diisocyanate contaminating reacted for 15 minutes at 120 ° C., and the curing agent to the resulting prepolymer that a combination of 1,4-butanediol and trimethylolpropane Using.
なお、上記クリーニング層と背面層との接着は、前述の通りクリーニング層を平板状に形成した後の遠心成形機に、背面層形成用の組成物を流し込み硬化させることによって行い、クリーニング層の背面に背面層を形成した。 The adhesive of the cleaning layer and the back layer performs as previously described cleaning layer in a centrifugal molding machine after forming the flat, by curing pouring a composition for the back layer formation, the back of the cleaning layer to form a back layer to.

この平板を110℃で24時間架橋後冷却し、所定の寸法にカットして、クリーニング層厚さ0.5mm、背面層厚さ1.5mmのクリーニングブレード1を得た。 The plates were cooled after 24 hours cross-linking at 110 ° C., and cut into a predetermined size to obtain the cleaning layer thickness 0.5 mm, the cleaning blade 1 of the back layer thickness 1.5 mm.

[クリーニングブレード2〜4の作製] [Production of the cleaning blade 2 to 4]
表7に従って、クリーニング層(第一層)におけるハードセグメント材料比を変更した以外は、クリーニングブレード1と同様にして、それぞれ、クリーニングブレード2〜4を得た。 According to Table 7, except for changing the hard segment material ratio in the cleaning layer (first layer), the procedure of the cleaning blade 1, respectively, to obtain a cleaning blade 2-4.

[実施例1] [Example 1]
感光体1について、既述の測定条件・方法に従って、保護層(最表面層)の膜厚d[μm]と、帯電・露光後の表面電位P[V]と、最表面層の膜厚dを0としたときの除電後の表面電位P [V]との関係((P−P )/d )と、について調べた。 For the photosensitive member 1, according to the measurement conditions or methods described above, the film thickness d [[mu] m] of protective layer (outermost layer), the surface potential P after charging, exposure [V], the outermost surface layer thickness d and 0 and the relationship between the surface potential P 0 [V] after neutralization when ((P-P 0) / d 2), was examined. 結果を表8に示す。 The results are shown in Table 8.

そして、感光体1、現像剤2、及びクリーニングブレード1を組み合わせて、富士ゼロックス社製「ApeosPort−III C4400」に装着し、以下の評価を行った。 Then, the photosensitive member 1, a combination of developer 2, and the cleaning blade 1, attached to Fuji Xerox Co., Ltd. "ApeosPort-III C4400", was evaluated as follows. 結果を表8に示す。 The results are shown in Table 8.

(初期BCO評価) (Initial BCO evaluation)
高温高湿(30℃85%)において、画像密度5%の全面ハーフトーン画像をA4用紙1000000枚プリントした後、用紙の白地部(非画像部)の現像剤のキャリア付着程度を目視にて観察して判断した。 At high temperature and high humidity (30 ° C. 85%), after the entire halftone image of the image density 5% were printed 1,000,000 sheets of A4 size paper, observed white background of the paper carrier about adhesion of the developer (non-image portion) was visually It was judged by. このときのプロセススピードは320mm/sとした。 The process speed of this time was set to 320mm / s.
評価基準は、以下の通りである。 The evaluation criteria are as follows.
○:発生なし△:軽微に発生×:重度に発生 ○: No occurrence △: slight occur ×: occurrence in severe

(プリント後カブリ評価) (Print after the fog evaluation)
低温低湿(10℃、15%RH)において、画像密度5%の全面ハーフトーン画像をA4用紙3000000枚プリントした後、用紙の白地部(非画像部)のトナー付着程度を目視にて観察し判断した。 Low temperature and low humidity (10 ° C., RH 15%) in the, after printing the entire halftone image of the image density 5% A4 paper 3,000,000 sheets was observed white background of the paper the toner adhesion degree of (non-image portion) was visually determined did. プロセススピードは320mm/sとした。 Process speed was set at 320mm / s.
評価基準は以下の通りである。 The evaluation criteria are as follows.
○:カブリ発生なし △:軽微に発生 ×:重度に発生 ○: No fogging △: slight occur ×: occurrence in severe

(画質特性評価) (Image quality evaluation)
画質特性は、次のようにして、行った。 Image quality characteristics, as follows, were carried out.
上記高温高湿プリントと同一条件にてプリントを行ったのち、画像密度30%のハーフトーン画像を採取し白点発生状況を判断した。 After performing printing in the high-temperature and high-humidity printing the same conditions, a halftone image of the image density of 30% was collected to determine the white spots occurrence. この白点は感光体表面上の外添剤等の付着物起因であると考えられる。 The white spots is believed to be deposits due to such an external additive on the photosensitive member surface.
評価基準は、以下の通りである。 The evaluation criteria are as follows.
○:白点発生なし △:軽微に発生 ×:重度に発生 ○: white point without the occurrence △: slight occur ×: occurrence in severe

[実施例2〜41] [Example 2-41]
表8〜表9に従って、感光体、及び現像剤を組み合わせた以外は、実施例1と同様に評価を行った。 According to Table 8 Table 9, except in combination photoconductor, and a developer was evaluated in the same manner as in Example 1. 結果を表8〜表9に示す。 The results are shown in Tables 8 to 9.

[比較例1−64] [Comparative Example 1-64]
表10〜表12に従って、感光体、及び現像剤を組み合わせた以外は、実施例1と同様に評価を行った。 According to Table 10 to Table 12, except for the combination photoconductor, and a developer was evaluated in the same manner as in Example 1. 結果を表10〜表12に示す。 The results are shown in Tables 10 to 12.

上記結果から、本実施例では、比較例に比べ、初期BCO評価、プリンt後カブリ評価、画質特性評価について、共に良好な結果が得られたことがわかる。 From the above results, in the present embodiment, compared with the comparative example, the initial BCO evaluation, after purine t fog evaluation, the image quality evaluation, it is found both that good results were obtained.

1…下引層、2…電荷発生層、3…電荷輸送層、4…導電性基体、5…保護層、6…単層型感光層、7A,7B,7C,7…電子写真感光体、8…帯電装置、9…露光装置、11…現像装置、13…クリーニング装置、14…潤滑材、15…除電装置、30…感光体、40…転写装置、50…中間転写体、60A…発光素子、60B…発光素子アレイ、61…発光素子アレイ基板、70…レンズ、70A…入射面、70B…出射面、100…画像形成装置、120…画像形成装置、300…プロセスカートリッジ 1 ... undercoat layer, 2 ... charge generating layer, 3 ... charge transport layer, 4 ... conductive substrate, 5 ... protective layer, 6 ... single-layer type photosensitive layer, 7A, 7B, 7C, 7 ... electrophotographic photoreceptor, 8 ... charger, 9 ... exposure apparatus, 11 ... developing device, 13 ... cleaning device, 14 ... lubricant, 15 ... neutralizer, 30 ... photoreceptor, 40 ... transfer device, 50 ... intermediate transfer member, 60A ... light emitting element , 60B ... light-emitting element array, 61 ... light-emitting element array substrate, 70 ... lens, 70A ... incident plane, 70B ... exit surface, 100 ... image forming apparatus, 120 ... image forming apparatus, 300 ... process cartridge

Claims (5)

  1. 最表面層として、下記一般式(I)及び(II)で表される反応性化合物から選択される少なくとも1種の反応性化合物の重合体を含んで構成され、膜厚が5μm以上20μm以下の層を有し、且つ、表面を帯電後、光照射により除電させた場合において、前記最表面層の膜厚d[μm]と、除電後の表面電位P[V]と、前記最表面層の膜厚dを0としたときの除電後の表面電位P [V]と、の関係が下記式(1)を満たす電子写真感光体と、 As the outermost layer, is configured to include a polymer of at least one reactive compound selected from the reactive compound represented by the following general formula (I) and (II), the film thickness is less 20μm or 5μm a layer, and, after charging the surface, in the case where is discharged by light irradiation, the film thickness d [[mu] m] of the outermost surface layer, the surface potential P [V] after neutralization, of the outermost layer an electrophotographic photosensitive member and the film thickness d surface potential P 0 after neutralization when formed into a 0 [V], the relationship satisfies the following formula (1),
    前記電子写真感光体の表面を帯電させる帯電装置と、 A charging device for charging the surface of the electrophotographic photoconductor,
    帯電された前記電子写真感光体の表面を露光して該表面に静電潜像を形成する露光装置と、 An exposure device for forming an electrostatic latent image on the surface of the charged the surface of the electrophotographic photosensitive member is exposed,
    平均形状係数SF1が140以上170以下のトナーを含む現像剤を収容し、前記静電潜像を前記現像剤で現像してトナー像を形成する現像装置と、 A developing unit which average shape factor SF1 of accommodating a developer containing the toner of more than 140 170 or less, to develop the electrostatic latent image with the developer to form a toner image,
    前記トナー像を被転写媒体に転写する転写装置と、 A transfer device that transfers the toner image to a transfer medium,
    前記トナー像の転写後、前記電子写真感光体の表面に接触して該表面をクリーニングするクリーニングブレードを有するクリーニング装置と、 After transfer of the toner image, a cleaning device having a cleaning blade for cleaning the surface in contact with the surface of the electrophotographic photoconductor,
    前記トナー像の転写後、前記電子写真感光体の表面に光照射して該表面を除電させる除電装置と、 After transfer of the toner image, a discharging device which discharges the surface irradiated with light on the surface of the electrophotographic photoreceptor,
    を備える画像形成装置。 An image forming apparatus including a.
    ・式(1): (P−P )/d ≦1.20 - formula (1): (P-P 0) / d 2 ≦ 1.20



    (一般式(I)中、Fは、電荷輸送性骨格を示す。Lは、アルキレン基、−C(=O)−、−N(R)−、−S−、及び−O−からなる群より選択される2種以上を組み合わせてなる2価の連結基を示す。Rは、水素原子、アルキル基、アリール基、又はアラルキル基を示す。mは、1以上6以下の整数を示す。) (In formula (I), F is .L showing a charge transporting skeleton is an alkylene group, -C (= O) -, - N (R) -, - S-, and the group consisting of -O- .R showing a divalent linking group formed by combining two or more kinds are more selected, a hydrogen atom, an alkyl group, .m to an aryl group, or an aralkyl group, represents an integer of 1 to 6.)



    (一般式(II)中、Fは、電荷輸送性骨格を示す。L'は、アルキレン基、−C(=O)−、−N(R)−、−S−、及び−O−からなる群より選択される2種以上を組み合わせてなる(n+1)価の連結基を示す。Rは、水素原子、アルキル基、アリール基、又はアラルキル基を示す。m'は、1以上6以下の整数を示す。nは、2以上3以下の整数を示す。) (In the general formula (II), F is .L showing a charge transporting skeleton 'is an alkylene group, -C (= O) -, - N (R) -, - S-, and consisting -O- comprising a combination of two or more selected from the group shows the (n + 1) -valent linking group .R is a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or .m 'is showing an aralkyl group, 1 to 6 integer shown .n represents an integer of 2 to 3.)
  2. 前記一般式(I)で表される反応性化合物が、下記一般式(III)で表され、且つ下記一般式(III)中のDが下記一般式(IV)で表される基を示す反応性化合物であり、 Reactive compound represented by the general formula (I) is represented by the following general formula (III), and the following general formula (III) in the D reaction of a group represented by the following general formula (IV) is a sex compound,
    前記一般式(II)で表される反応性化合物が、下記一般式(III)で表され、且つ下記一般式(III)中のDが下記一般式(V)で表される基を示す反応性化合物である請求項1に記載の画像形成装置。 Reactive compound represented by the general formula (II) is represented by the following general formula (III), and the following general formula (III) in the D reaction of a group represented by the following general formula (V) the image forming apparatus according to claim 1, which is a sex compound.



    (一般式(III)中、Ar 〜Ar は、それぞれ独立に、置換若しくは未置換のアリール基を示す。Ar は、置換若しくは未置換のアリール基、又は置換若しくは未置換のアリーレン基を示す。c1〜c5は、それぞれ独立に、0以上2以下の整数を示す。但し、全てのc1〜c5は、同時に0を示すことはない。kは、0又は1の整数を示す。) (In the general formula (III), Ar 1 ~Ar 4 each independently is .Ar 5 showing a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted aryl group, or a substituted or unsubstituted arylene group the .c1~c5 shown, each independently, represent an integer of 0 to 2 or less. However, all of c1~c5, the .k never represents 0 simultaneously, an integer of 0 or 1.)



    (一般式(IV)中、Lは、アルキレン基、−C(=O)−、−N(R)−、−S−、及び−O−からなる群より選択される2種以上を組み合わせてなる2価の連結基を示す。Rは、水素原子、アルキル基、アリール基、又はアラルキル基を示す。) (In the general formula (IV), L represents an alkylene group, -C (= O) -, - N (R) -, - S-, and a combination of two or more selected from the group consisting of -O- .R showing a divalent linking group formed is a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or aralkyl group.)



    (一般式(V)中、L'は、アルキレン基、−C(=O)−、−N(R)−、−S−、及び−O−からなる群より選択される2種以上を組み合わせてなる(n+1)価の連結基を示す。Rは、水素原子、アルキル基、アリール基、又はアラルキル基を示す。nは、2以上3以下の整数を示す。 (In the general formula (V), L 'represents an alkylene group, -C (= O) -, - N (R) -, - S-, and combinations of two or more selected from the group consisting of -O- comprising Te shows the (n + 1) -valent linking group .R is .n showing hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or aralkyl group, an integer of 2 to 3.
  3. 前記一般式(IV)で表される基が、下記一般式(VI)、又は下記一般式(VII)で表される基を示す請求項2に記載の画像形成装置。 A group represented by general formula (IV) is, the image forming apparatus according to claim 2, a group represented by the following general formula (VI), or the following general formula (VII).



    (一般式(VI)及び(VII)中、X、及びX'は、2価の有機基を示す。p、及びp'は、0又は1の整数を示す。) (In the general formula (VI) and (VII), X, and X ', .p represents a divalent organic group, and p' represents an integer of 0 or 1.)
  4. 前記一般式(V)で表される基は、下記一般式(VIII)、又は下記一般式(IX)で表される基を示す請求項2又は3に記載の画像形成装置。 A group represented by the formula (V), the image forming apparatus according to claim 2 or 3 represents a group represented by the following general formula (VIII), or the following general formula (IX).


    (一般式(VIII)及び(IX)中、Y、及びY'は、2価の有機基を示す。q、及びq'は、0、又は1の整数を示す。) (In the general formula (VIII) and (IX), Y, and Y ', .q represents a divalent organic group, and q' is 0, or an 1 an integer.)
  5. 最表面層として、下記一般式(I)及び(II)で表される反応性化合物から選択される少なくとも1種の反応性化合物の重合体を含んで構成され、膜厚が5μm以上20μm以下の層を有し、且つ、表面を帯電後、光照射により除電させた場合において、前記最表面層の膜厚d[μm]と、除電後の表面電位P[V]と、前記最表面層の膜厚dを0としたときの除電後の表面電位P [V]と、の関係が下記式(1)を満たす電子写真感光体と、 As the outermost layer, is configured to include a polymer of at least one reactive compound selected from the reactive compound represented by the following general formula (I) and (II), the film thickness is less 20μm or 5μm a layer, and, after charging the surface, in the case where is discharged by light irradiation, the film thickness d [[mu] m] of the outermost surface layer, the surface potential P [V] after neutralization, of the outermost layer an electrophotographic photosensitive member and the film thickness d surface potential P 0 after neutralization when formed into a 0 [V], the relationship satisfies the following formula (1),
    平均形状係数SF1が140以上170以下のトナーを含む現像剤を収容し、前記静電潜像を前記現像剤で現像してトナー像を形成する現像装置と、 A developing unit which average shape factor SF1 of accommodating a developer containing the toner of more than 140 170 or less, to develop the electrostatic latent image with the developer to form a toner image,
    前記トナー像の転写後、前記電子写真感光体の表面に接触して該表面をクリーニングするクリーニングブレードを有するクリーニング装置と、 After transfer of the toner image, a cleaning device having a cleaning blade for cleaning the surface in contact with the surface of the electrophotographic photoconductor,
    前記トナー像の転写後、前記電子写真感光体の表面に光照射して該表面を除電させる除電装置と、 After transfer of the toner image, a discharging device which discharges the surface irradiated with light on the surface of the electrophotographic photoreceptor,
    を備え、 Equipped with a,
    画像形成装置に着脱し得るプロセスカートリッジ。 Process cartridge can detachably to the image forming apparatus.
    ・式(1): (P−P )/d ≦1.20 - formula (1): (P-P 0) / d 2 ≦ 1.20



    (一般式(I)中、Fは、電荷輸送性骨格を示す。Lは、アルキレン基、−C(=O)−、−N(R)−、−S−、及び−O−からなる群より選択される2種以上を組み合わせてなる2価の連結基を示す。Rは、水素原子、アルキル基、アリール基、又はアラルキル基を示す。mは、1以上6以下の整数を示す。) (In formula (I), F is .L showing a charge transporting skeleton is an alkylene group, -C (= O) -, - N (R) -, - S-, and the group consisting of -O- .R showing a divalent linking group formed by combining two or more kinds are more selected, a hydrogen atom, an alkyl group, .m to an aryl group, or an aralkyl group, represents an integer of 1 to 6.)



    (一般式(II)中、Fは、電荷輸送性骨格を示す。L'は、アルキレン基、−C(=O)−、−N(R)−、−S−、及び−O−からなる群より選択される2種以上を組み合わせてなる(n+1)価の連結基を示す。Rは、水素原子、アルキル基、アリール基、又はアラルキル基を示す。m'は、1以上6以下の整数を示す。nは、2以上3以下の整数を示す。) (In the general formula (II), F is .L showing a charge transporting skeleton 'is an alkylene group, -C (= O) -, - N (R) -, - S-, and consisting -O- comprising a combination of two or more selected from the group shows the (n + 1) -valent linking group .R is a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or .m 'is showing an aralkyl group, 1 to 6 integer shown .n represents an integer of 2 to 3.)
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