JP2013029828A - Light-transmitting molding and antireflection article using the same - Google Patents

Light-transmitting molding and antireflection article using the same Download PDF

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JP2013029828A JP2012138147A JP2012138147A JP2013029828A JP 2013029828 A JP2013029828 A JP 2013029828A JP 2012138147 A JP2012138147 A JP 2012138147A JP 2012138147 A JP2012138147 A JP 2012138147A JP 2013029828 A JP2013029828 A JP 2013029828A
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Yusuke Nakai
祐介 中井
Keiko Yasukawa
桂子 安川
Takeshi Otani
剛 大谷
Shinji Makino
伸治 牧野
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a light-transmitting molding excellent in scratch resistance and antireflection performance.SOLUTION: The light-transmitting molding has a fine rugged layer 11 with projections and recesses in a size of equal to or less than a wavelength of visible light, the layer comprising a cured product of an active energy ray-curable resin composition and formed on a surface of a light-transmitting substrate 10. The active energy ray-curable resin composition contains a polymeric compound comprising a (meth)acrylic monomer (A) having four or more functional groups and if necessary, a (meth)acrylic monomer (B) having three or more functional groups except for the monomer (A). A content percentage of polyalkylene glycol (PAG) in the (meth)acrylic monomer (A), which is expressed by formula (a): PAG=M(PAG)/[M(ACR)+M(PAG)]×100, is 50% or more and 87% or less. In the formula, PAG represents a content percentage (%) of polyalkylene glycol, M(PAG) represents a total chemical formula weight of the polyalkylene glycol structure moiety; and M(ACR) represents a total chemical formula weight of the (meth)acryloyl structure moiety.

Description

本発明は、耐擦傷性及び反射防止性能に優れた光透過性成形体及びそれを用いた反射防止物品に関する。   The present invention relates to a light-transmitting molded article having excellent scratch resistance and antireflection performance, and an antireflection article using the same.

近年、反射防止フィルムの分野において、蛾の目やハスの葉の表面を模倣した「モスアイ」と呼ばれるナノメートルサイズの微細凹凸層を有する構造体(以下「ナノ凹凸構造体」と略す)が開発されている(例えば、特許文献1)。このナノ構造体は微細凹凸層を持つので、屈折率の連続的変化による反射防止性能や、樹脂特性との組合せによる超撥水又は超親水性能を発現することが可能である。   In recent years, in the field of anti-reflection film, a structure with a nanometer-sized fine concavo-convex layer called “moss eye” that mimics the surface of moth eyes or lotus leaves (hereinafter referred to as “nano concavo-convex structure”) has been developed. (For example, Patent Document 1). Since this nanostructure has a fine concavo-convex layer, it is possible to exhibit antireflection performance due to a continuous change in refractive index and superhydrophobicity or superhydrophilicity due to a combination with resin characteristics.

ナノ凹凸構造体は優れた反射防止性能を発現するので、例えば、各種ディスプレイパネル、レンズ、ショーウィンドー、自動車メーターカバー、太陽電池の光取り出し率向上部材など様々な光学用途に使用できる。また、水滴の付着により視認性が悪くなる鏡や窓材などの用途に使用して、超撥水性能や超親水性能による視認性向上効果を得ることもできる。   Since the nano uneven structure exhibits excellent antireflection performance, it can be used for various optical applications such as various display panels, lenses, show windows, automobile meter covers, and members for improving the light extraction rate of solar cells. Further, it can be used for applications such as mirrors and window materials whose visibility deteriorates due to adhesion of water droplets, and the effect of improving visibility due to super water-repellent performance and super hydrophilic performance can also be obtained.

特許文献1には、ナノ凹凸構造を有するフィルムが開示されている。ただし、ナノ凹凸構造を形成する際に活性エネルギー線硬化性樹脂組成物に使用する希釈溶剤の影響によって、フィルム表面に塗工斑が生じる場合がある。一方、特許文献2では、無溶剤系の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物が提案されている。しかし、この硬化性樹脂組成物で形成された光透過性物品は、耐擦傷性の点でまだ改善の余地がある。   Patent Document 1 discloses a film having a nano uneven structure. However, coating unevenness may occur on the film surface due to the influence of the dilution solvent used in the active energy ray-curable resin composition when forming the nano uneven structure. On the other hand, Patent Document 2 proposes a solventless active energy ray-curable resin composition. However, the light transmissive article formed with this curable resin composition still has room for improvement in terms of scratch resistance.

一方、耐擦傷性を向上させる一般的な手法としては、硬化性樹脂組成物に表面調整剤としてシリコーンオイルを配合してスリップ性を付与する方法(例えば、特許文献3)、多官能アクリレートモノマーを使用する方法(例えば、特許文献4)などがある。   On the other hand, as a general method for improving the scratch resistance, a method of adding slip properties by adding silicone oil as a surface conditioner to a curable resin composition (for example, Patent Document 3), a polyfunctional acrylate monomer There is a method to be used (for example, Patent Document 4).

特許第4156415号公報Japanese Patent No. 4156415 国際公開第2008/096872号パンフレットInternational Publication No. 2008/096872 Pamphlet 特開2000−234073号公報JP 2000-234073 A 特許第4318577号公報Japanese Patent No. 4318577

ナノ凹凸構造体は特異な表面構造を持つので、平滑面と同じような方法で耐擦傷性を付与することは困難である。例えば、特許文献3のようにシリコーンオイル等の表面調整剤を配合する方法では、要求される耐擦傷性を十分に満たすことができない。しかも、表面調整剤の影響によって付着した汚れが取れ難くなることもある。   Since the nano concavo-convex structure has a unique surface structure, it is difficult to impart scratch resistance by the same method as that for a smooth surface. For example, the method of blending a surface conditioner such as silicone oil as in Patent Document 3 cannot sufficiently satisfy the required scratch resistance. In addition, the adhered dirt may be difficult to remove due to the influence of the surface conditioner.

また、特許文献4の多官能モノマーのエチレンオキシド変性化合物を使用する方法では、金型から剥離する際にひびが入る等の剥離不良が発生する場合がある。また、硬い部材との接触によってナノ凹凸構造の突起が折れて反射防止性能が低下する場合もある。更に、エチレンオキシドが多過ぎるとナノ凹凸構造の突起同士が寄り添う現象が生じ、フィルムが白濁する場合もある。   In addition, in the method using the polyfunctional monomer ethylene oxide-modified compound of Patent Document 4, peeling failure such as cracking may occur when peeling from the mold. In addition, the projections of the nano uneven structure may break due to contact with a hard member, and the antireflection performance may deteriorate. Furthermore, when there is too much ethylene oxide, a phenomenon in which the protrusions of the nano uneven structure come close to each other, and the film may become cloudy.

以上の通り、耐擦傷性を向上させる従来の一般的な手法では、ナノ凹凸構造によって反射防止性能を示す成形体の耐擦傷性を良好に改善することは困難であった。   As described above, with the conventional general technique for improving the scratch resistance, it has been difficult to satisfactorily improve the scratch resistance of the molded article exhibiting the antireflection performance by the nano uneven structure.

本発明は、このような課題を解決すべく為されたものである。すなわち、本発明の目的は、耐擦傷性及び反射防止性能に優れた光透過性成形体を提供することにある。   The present invention has been made to solve such problems. That is, an object of the present invention is to provide a light-transmitting molded article excellent in scratch resistance and antireflection performance.

本発明者らは、(メタ)アクリロイル構造を有する多官能(メタ)アクリルモノマーの架橋構造に由来する硬化物の耐擦傷性と、ポリアルキレングリコール構造を有する(メタ)アクリルモノマーの硬化物の柔軟性に着目し、これら二つの構造を特定比率で有するモノマーを使用することが耐擦傷性及び柔軟性の付与に非常に効果的であることを見出し、本発明を完成するに至った。   The present inventors have found that the cured product derived from the crosslinked structure of the polyfunctional (meth) acrylic monomer having a (meth) acryloyl structure and the flexibility of the cured product of the (meth) acrylic monomer having a polyalkylene glycol structure. Focusing on the properties, it has been found that the use of a monomer having these two structures in a specific ratio is very effective in imparting scratch resistance and flexibility, and the present invention has been completed.

すなわち本発明は、光透過性基材と、該光透過性基材の少なくとも一方の表面に形成された活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の硬化物からなる微細凹凸層とを有する光透過性成形体であって、
前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物に含有される重合性化合物が、下記式(a)で表される(メタ)アクリルモノマー(A)中のポリアルキレングリコール含有率(PAG)が50%以上87%以下である4官能以上の(メタ)アクリルモノマー(A)を含む光透過性成形体である。
That is, the present invention relates to a light transmissive molding having a light transmissive substrate and a fine uneven layer made of a cured product of an active energy ray-curable resin composition formed on at least one surface of the light transmissive substrate. Body,
The polymerizable compound contained in the active energy ray-curable resin composition has a polyalkylene glycol content (PAG) in the (meth) acrylic monomer (A) represented by the following formula (a) of 50% or more and 87. % Is a light-transmitting molded article containing a tetrafunctional or higher functional (meth) acrylic monomer (A).

PAG=M(PAG)/[M(ACR)+M(PAG)]×100 (a)
PAG:ポリアルキレングリコール含有率(%)、
M(PAG):ポリアルキレングリコール構造部分の合計化学式量、
M(ACR):(メタ)アクリロイル構造部分の合計化学式量
また本発明は、上記光透過性成形体を用いた反射防止物品である。
PAG = M (PAG) / [M (ACR) + M (PAG)] × 100 (a)
PAG: polyalkylene glycol content (%),
M (PAG): total chemical formula amount of the polyalkylene glycol structural moiety,
M (ACR): Total chemical formula amount of (meth) acryloyl structure portion The present invention is an antireflection article using the above light-transmitting molded article.

本発明によれば、(メタ)アクリロイル構造とポリアルキレングリコール構造を特定比率で有する特定のモノマーを使用することにより、耐擦傷性及び反射防止性能に優れた微細凹凸層を有する光透過性成形体を提供できる。この光透過性成形体は、可視光の波長領域全体で反射率が低く、またスチールウール擦傷試験でも傷が付かないような優れた耐擦傷性を示すので、当該性能が必要とされる反射防止物品として、例えば各種ディスプレイ、レンズ、窓材などの用途に非常に有用である。   According to the present invention, by using a specific monomer having a (meth) acryloyl structure and a polyalkylene glycol structure in a specific ratio, a light transmissive molded article having a fine uneven layer excellent in scratch resistance and antireflection performance. Can provide. This light-transmitting molded product has low reflectivity over the entire visible light wavelength region, and exhibits excellent scratch resistance that does not cause scratches in the steel wool scratch test. As an article, it is very useful for applications such as various displays, lenses, and window materials.

本発明の光透過性成形体の一例を示す模式的断面図である。It is typical sectional drawing which shows an example of the light-transmitting molded object of this invention.

本発明に用いる活性エネルギー線硬化性樹脂組成物は、例えば、電子線、紫外線、可視光線などの活性エネルギー線を照射することで重合反応が進行し、硬化する樹脂組成物である。この活性エネルギー線硬化性樹脂組成物は、(メタ)アクリロイル基やビニル基などのラジカル重合性部位を有する重合性化合物、重合反応を開始させる重合開始剤、その他必要に応じて有機溶媒や界面活性剤などの助剤から構成される。   The active energy ray-curable resin composition used in the present invention is, for example, a resin composition that undergoes a polymerization reaction and cures when irradiated with active energy rays such as electron beams, ultraviolet rays, and visible rays. This active energy ray-curable resin composition is composed of a polymerizable compound having a radical polymerizable site such as a (meth) acryloyl group or a vinyl group, a polymerization initiator for initiating a polymerization reaction, and an organic solvent or a surface active as necessary. Consists of auxiliary agents such as agents.

活性エネルギー線硬化性樹脂組成物に含有される重合性化合物は、ポリアルキレングリコール構造を分子中に1つ以上有する4官能以上の(メタ)アクリルモノマー(A)であり、(メタ)アクリルモノマー(A)中のポリアルキレングリコール含有率(PAG)が、50%以上87%以下である。   The polymerizable compound contained in the active energy ray-curable resin composition is a tetrafunctional or higher functional (meth) acrylic monomer (A) having at least one polyalkylene glycol structure in the molecule, and a (meth) acrylic monomer ( The polyalkylene glycol content (PAG) in A) is 50% or more and 87% or less.

ここで、ポリアルキレングリコール構造とは、アルキレングリコールの分子構造の繰返し単位(−R−O−)[Rはアルキレン基]からなる分子構造(−R−O−)n[nは平均繰り返し数]を意味する。ポリアルキレングリコール構造(−R−O−)nは、単一種類の繰返し単位が複数連結する分子構造であってもよいし、複数種類の繰返し単位が混在して連結する分子構造であってもよい。平均繰り返し数とは、繰り返し数が異なるポリアルキレングリコール構造が1分子中に複数存在する場合、その繰り返し数の合計をポリアルキレングリコール構造の数で割って得られる平均値を意味する。   Here, the polyalkylene glycol structure is a molecular structure (—R—O—) n [n is an average number of repetitions] consisting of a repeating unit (—R—O—) [R is an alkylene group] of the molecular structure of alkylene glycol. Means. The polyalkylene glycol structure (—R—O—) n may be a molecular structure in which a plurality of single types of repeating units are linked, or may be a molecular structure in which a plurality of types of repeating units are linked together. Good. The average number of repeats means an average value obtained by dividing the total number of repeats by the number of polyalkylene glycol structures when a plurality of polyalkylene glycol structures having different numbers of repeats exist in one molecule.

この(メタ)アクリルモノマー(A)は、少なくとも1つ以上の(メタ)アクリロイル基を有し、かつ(メタ)アクリロイル基やビニル基等のラジカル重合性部位を1分子中に4つ以上有する化合物である。特に、分子中の全ての重合性部位が(メタ)アクリロイル基であること、すなわち4つ以上の(メタ)アクリロイル基を有することが好ましい。なお、「(メタ)アクリロイル基」は「アクリロイル基及び/又はメタクリロイル基」を意味し、「(メタ)アクリレート」は「アクリレート及び/又はメタクリレート」を意味する。   This (meth) acrylic monomer (A) has at least one (meth) acryloyl group and a compound having four or more radical polymerizable sites such as (meth) acryloyl group or vinyl group in one molecule. It is. In particular, it is preferable that all the polymerizable sites in the molecule are (meth) acryloyl groups, that is, have four or more (meth) acryloyl groups. “(Meth) acryloyl group” means “acryloyl group and / or methacryloyl group”, and “(meth) acrylate” means “acrylate and / or methacrylate”.

(メタ)アクリルモノマー(A)は、前述の式(a)で表されるPAGが、50%以上87%以下である。さらにPAGは、55%以上83%以下が好ましく、70%以上80%以下がより好ましい。PAGを50%以上とすることで高い耐擦傷性を発現できる。また、PAGが87%以下であれば、光透過性成形体の架橋密度に由来するマルテンス硬さ及び弾性率を良好に維持することができ、さらに、凹凸構造の突起同士が寄り添う現象による白濁を防止し、光透過性を向上できる。   In the (meth) acrylic monomer (A), the PAG represented by the formula (a) is 50% or more and 87% or less. Further, the PAG is preferably 55% or more and 83% or less, and more preferably 70% or more and 80% or less. By setting the PAG to 50% or more, high scratch resistance can be expressed. Further, if the PAG is 87% or less, the Martens hardness and the elastic modulus derived from the crosslink density of the light-transmitting molded product can be maintained satisfactorily. Can be prevented and light transmittance can be improved.

(メタ)アクリルモノマー(A)としては、4つ以上の水酸基を有するポリオール化合物の当該水酸基部分にポリアルキレングリコール構造を介して(メタ)アクリロイル基が結合した化合物、いわゆる(メタ)アクリルモノマーのアルキレンオキシド変性化合物を使用することが好ましい。また、ウレタン(メタ)アクリレートのアルキレンオキシド変性化合物、エポキシ(メタ)アクリレートのアルキレンオキシド変性化合物も使用できる。(メタ)アクリルモノマー(A)は、1種を単独で用いても良いし、2種以上を併用しても良い。特に付着した汚れを水拭きによって除去し易くなる点から、エチレンオキシド変性化合物(ポリエチレングリコール構造を有する化合物)が好ましい。   As the (meth) acrylic monomer (A), a compound in which a (meth) acryloyl group is bonded to the hydroxyl part of a polyol compound having four or more hydroxyl groups via a polyalkylene glycol structure, so-called (meth) acrylic monomer alkylene Preference is given to using oxide-modifying compounds. Moreover, the alkylene oxide modified compound of urethane (meth) acrylate and the alkylene oxide modified compound of epoxy (meth) acrylate can also be used. The (meth) acrylic monomer (A) may be used alone or in combination of two or more. In particular, an ethylene oxide-modified compound (compound having a polyethylene glycol structure) is preferable because it makes it easy to remove attached dirt by wiping with water.

(メタ)アクリルモノマー(A)のアルキレングリコールの分子構造の単位(−R−O−)はポリアルキレングリコール構造の柔軟性を付与する点で繰り返し数は5以上が好ましい。架橋密度と柔軟性とを両立させる観点からは繰り返し数が2〜4が好ましい。   The unit (—R—O—) of the molecular structure of the alkylene glycol of the (meth) acrylic monomer (A) is preferably 5 or more in terms of imparting the flexibility of the polyalkylene glycol structure. From the viewpoint of achieving both a crosslinking density and flexibility, the number of repetitions is preferably 2 to 4.

4官能の(メタ)アクリルモノマー(A)の好適な具体例としては、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレートのEO変性化合物、PO変性化合物、EO・PO変性化合物、ブチレンオキシド変性化合物、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレートのEO変性化合物、PO変性化合物、EO・PO変性化合物、ブチレンオキシド変性化合物が挙げられる。5官能以上の(メタ)アクリルモノマー(A)の好適な具体例としては、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレートのEO変性化合物、PO変性化合物、EO・PO変性化合物、ブチレンオキシド変性化合物が挙げられる。なお、「EO」とは「エチレンオキシド」を意味し、「PO」は「プロピレンオキシド」を意味する。また、「EO変性化合物」とはエチレンオキシドユニットのブロック構造(−CH2−CH2−O−)nを有する化合物を意味し、「PO変性化合物」とはプロピレンオキシドユニットのブロック構造(−CH2−CH(CH3)−O−)nを有する化合物を意味する。 Specific examples of the tetrafunctional (meth) acrylic monomer (A) include pentaerythritol tetra (meth) acrylate EO-modified compounds, PO-modified compounds, EO / PO-modified compounds, butylene oxide-modified compounds, ditrimethylolpropane tetra Examples include EO-modified compounds, PO-modified compounds, EO / PO-modified compounds, and butylene oxide-modified compounds of (meth) acrylate. Specific examples of the pentafunctional or higher functional (meth) acrylic monomer (A) include dipentaerythritol hexa (meth) acrylate EO-modified compounds, PO-modified compounds, EO / PO-modified compounds, and butylene oxide-modified compounds. . “EO” means “ethylene oxide” and “PO” means “propylene oxide”. The “EO-modified compound” means a compound having a block structure (—CH 2 —CH 2 —O—) n of an ethylene oxide unit, and the “PO-modified compound” means a block structure (—CH 2 of propylene oxide unit). It means a compound having —CH (CH 3 ) —O—) n.

(メタ)アクリルモノマー(A)は、特に、下記一般式(1)   The (meth) acrylic monomer (A) is particularly represented by the following general formula (1)

Figure 2013029828
Figure 2013029828

[式(1)中、R1〜R6はH又はCH3であり、l〜qは12≦l+m+n+o+p+q≦48を満たす整数である。]
で表される化合物(ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレートのEO変性化合物)及び/又は、下記一般式(2)
[In the formula (1), R 1 to R 6 are H or CH 3 , and 1 to q are integers satisfying 12 ≦ l + m + n + o + p + q ≦ 48. ]
(An EO-modified compound of dipentaerythritol hexa (meth) acrylate) and / or the following general formula (2)

Figure 2013029828
Figure 2013029828

[式(2)中、R7〜R10はH又はCH3であり、r〜uは8≦r+s+t+u≦32を満たす整数である。]
で表される化合物(ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレートのEO変性化合物)であることが好ましい。
[In the formula (2), R 7 to R 10 are H or CH 3 , and r to u are integers satisfying 8 ≦ r + s + t + u ≦ 32. ]
It is preferable that it is a compound represented by (EO-modified compound of pentaerythritol tetra (meth) acrylate).

活性エネルギー線硬化性樹脂組成物は、以上説明した(メタ)アクリルモノマー(A)と共に、更に(メタ)アクリルモノマー(A)以外の3官能以上の(メタ)アクリルモノマー(B)を含むことが好ましい。この(メタ)アクリルモノマー(B)を併用することにより、耐擦傷性が更に向上する。   The active energy ray-curable resin composition may further contain a (meth) acrylic monomer (B) having three or more functions other than the (meth) acrylic monomer (A) together with the (meth) acrylic monomer (A) described above. preferable. By using this (meth) acrylic monomer (B) in combination, the scratch resistance is further improved.

この(メタ)アクリルモノマー(B)は、少なくとも1つ以上の(メタ)アクリロイル基を有し、かつ(メタ)アクリロイル基やビニル基等のラジカル重合性部位を1分子中に3つ以上有する化合物であって、(メタ)アクリルモノマー(A)以外の化合物である。特に、分子中の全ての重合性部位が(メタ)アクリロイル基であること、すなわち3つ以上の(メタ)アクリロイル基を有することが好ましい。また、3官能〜9官能の(メタ)アクリルモノマーが好ましい。   This (meth) acrylic monomer (B) has at least one (meth) acryloyl group and a compound having three or more radical polymerizable sites such as (meth) acryloyl group and vinyl group in one molecule. It is a compound other than the (meth) acrylic monomer (A). In particular, it is preferable that all polymerizable sites in the molecule are (meth) acryloyl groups, that is, three or more (meth) acryloyl groups. Trifunctional to 9 functional (meth) acrylic monomers are preferred.

(メタ)アクリルモノマー(B)としては、3つ以上の水酸基を有するポリオール化合物の当該水酸基部分に(メタ)アクリロイル基が結合した(メタ)アクリルモノマーを使用することが好ましい。また、ウレタン(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレートも使用できる。(メタ)アクリルモノマー(B)は、1種を単独で用いてもよいし、2種以上併用してもよい。また、(メタ)アクリルモノマーのアルキレンオキシド変性化合物も使用できる。光透過性成形体の架橋密度に由来するマルテンス硬さ及び弾性率を良好に維持する点、さらに、凹凸構造の突起同士が寄り添う現象による白濁を防止し、光透過性を向上する点で、(メタ)アクリルモノマー(B)のアルキレングリコールの分子構造の単位(−R−O−)は繰り返し構造を形成しないこと、すなわち繰り返し数は1であることが好ましい。一方、ポリアルキレングリコール構造の柔軟性を付与する点で、(メタ)アクリルモノマー(B)のアルキレングリコール構造の平均繰り返し数は5以上が好ましい。(メタ)アクリルモノマー(B)は、1種を単独で用いても良いし、2種以上を併用しても良い。   As the (meth) acrylic monomer (B), it is preferable to use a (meth) acrylic monomer in which a (meth) acryloyl group is bonded to the hydroxyl group of a polyol compound having three or more hydroxyl groups. Urethane (meth) acrylate and epoxy (meth) acrylate can also be used. The (meth) acrylic monomer (B) may be used alone or in combination of two or more. Moreover, the alkylene oxide modified compound of a (meth) acryl monomer can also be used. In terms of maintaining good Martens hardness and elastic modulus derived from the crosslinking density of the light-transmitting molded article, and further preventing white turbidity due to a phenomenon in which protrusions of the concavo-convex structure snuggle together, improving light transmittance ( The unit (—R—O—) of the molecular structure of the alkylene glycol of the (meth) acrylic monomer (B) preferably does not form a repeating structure, that is, the repeating number is 1. On the other hand, the average repeating number of the alkylene glycol structure of the (meth) acrylic monomer (B) is preferably 5 or more from the viewpoint of imparting the flexibility of the polyalkylene glycol structure. The (meth) acrylic monomer (B) may be used alone or in combination of two or more.

3官能の(メタ)アクリルモノマー(B)の具体例としては、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、イソシアヌル酸トリ(メタ)アクリレートが挙げられる。4官能の(メタ)アクリルモノマー(B)の具体例としては、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレートが挙げられる。5官能以上の(メタ)アクリルモノマー(B)の具体例としては、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレートが挙げられる。また、ポリオール化合物とイソシアネート化合物と水酸基を有する(メタ)アクリレートを反応させて得たウレタン(メタ)アクリレートを用いても良い。また、トリメチロールエタンとコハク酸とアクリル酸を2/1/4のモル比で反応させて得た混合物を用いても良い。中でも、重合反応性の点から、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパン(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート及びそれらのEO変性化合物が好ましい。   Specific examples of the trifunctional (meth) acrylic monomer (B) include trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, and isocyanuric acid tri (meth) acrylate. Specific examples of the tetrafunctional (meth) acrylic monomer (B) include pentaerythritol tetra (meth) acrylate and ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate. Specific examples of the pentafunctional or higher functional (meth) acrylic monomer (B) include dipentaerythritol hexa (meth) acrylate. Further, urethane (meth) acrylate obtained by reacting a polyol compound, an isocyanate compound, and a (meth) acrylate having a hydroxyl group may be used. Further, a mixture obtained by reacting trimethylolethane, succinic acid and acrylic acid at a molar ratio of 2/4 may be used. Among these, from the viewpoint of polymerization reactivity, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, ditrimethylolpropane (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate and EO-modified compounds thereof are preferable. .

活性エネルギー線硬化性樹脂組成物に含有される重合性化合物100重量部のうち、(メタ)アクリルモノマー(A)の含有量は、50質量部以上100質量部以下が好ましく、50質量部以上95質量部以下がより好ましく、55質量部以上80質量部以下が特に好ましく、60質量部以上75質量部以下が最も好ましい。50質量部以上であれば、光透過性成形体の耐擦傷性及び透明性を良好にすることができる。   Of 100 parts by weight of the polymerizable compound contained in the active energy ray-curable resin composition, the content of the (meth) acrylic monomer (A) is preferably 50 parts by mass or more and 100 parts by mass or less, and 50 parts by mass or more and 95 parts by mass. More preferably, it is 55 parts by weight or more and 80 parts by weight or less, and most preferably 60 parts by weight or more and 75 parts by weight or less. If it is 50 mass parts or more, the abrasion resistance and transparency of a light-transmitting molded object can be made favorable.

(メタ)アクリルモノマー(B)を併用する場合、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物に含まれる重合性化合物100重量部のうち、(メタ)アクリルモノマー(B)の含有量は、5質量部以上50質量部以下が好ましく、20質量部以上45質量部以下がより好ましく、25質量部以上40質量部以下が特に好ましい。5質量部以上であれば、(メタ)アクリルモノマー(B)自体のハードコート性に起因する耐擦傷性の向上効果やポリアルキレングリコール構造の柔軟性を得ることができる。また50質量部以下であれば、硬化物の靭性が維持され、硬度が高くなり過ぎることによるスタンパからの剥離不良や、凹凸部分の突起が折れて反射率が低下することを防止することができる。   When the (meth) acrylic monomer (B) is used in combination, the content of the (meth) acrylic monomer (B) is 5 parts by mass or more out of 100 parts by weight of the polymerizable compound contained in the active energy ray-curable resin composition. 50 mass parts or less are preferable, 20 mass parts or more and 45 mass parts or less are more preferable, and 25 mass parts or more and 40 mass parts or less are especially preferable. If it is 5 parts by mass or more, the effect of improving the scratch resistance resulting from the hard coat property of the (meth) acrylic monomer (B) itself and the flexibility of the polyalkylene glycol structure can be obtained. Moreover, if it is 50 mass parts or less, the toughness of hardened | cured material is maintained and it can prevent that the peeling defect from a stamper by the hardness becoming high too much, or the protrusion of an uneven | corrugated | grooved part breaks, and a reflectance falls. .

活性エネルギー線硬化性樹脂組成物に含有される重合性化合物は、上述した(メタ)アクリルモノマー(A)、又は(メタ)アクリルモノマー(A)及び(メタ)アクリルモノマー(B)とから実質的に構成される。ここで、実質的に構成されるとは、(メタ)アクリルモノマー(A)及び/又は(メタ)アクリルモノマー(B)以外の成分を全く含まないことを意味するのではなく、数質量部程度であれば他のモノマー成分を含有してもよい。好ましくは(メタ)アクリルモノマー(A)の単独使用又は(メタ)アクリルモノマー(A)及び(メタ)アクリルモノマー(B)の2つのみの使用である。   The polymerizable compound contained in the active energy ray-curable resin composition is substantially composed of the (meth) acrylic monomer (A) or the (meth) acrylic monomer (A) and the (meth) acrylic monomer (B) described above. Configured. Here, “substantially constituted” does not mean that it contains no components other than the (meth) acrylic monomer (A) and / or the (meth) acrylic monomer (B), and is about several parts by mass. If so, other monomer components may be contained. Preferably, the (meth) acrylic monomer (A) is used alone or only two (meth) acrylic monomers (A) and (meth) acrylic monomers (B) are used.

活性エネルギー線硬化性樹脂組成物には、通常、活性エネルギー線を照射することで開裂し重合反応を開始させるラジカルを発生する重合開始剤を添加する。活性エネルギー線としては、例えば、電子線、紫外線、可視光線が挙げられる。装置コストや生産性の点から紫外線を利用することが一般的である。   The active energy ray-curable resin composition is usually added with a polymerization initiator that generates radicals that are cleaved by irradiation with active energy rays to initiate a polymerization reaction. Examples of active energy rays include electron beams, ultraviolet rays, and visible rays. In general, ultraviolet rays are used from the viewpoint of apparatus cost and productivity.

この重合開始剤の種類に特に制限はない。その具体例としては、ベンゾフェノン、4,4−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、2,4,6−トリメチルベンゾフェノン、メチルオルソベンゾイルベンゾエート、4−フェニルベンゾフェノン、t−ブチルアントラキノン、2−エチルアントラキノン、2,4−ジエチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、2,4−ジクロロチオキサントン等のチオキサントン類、ジエトキシアセトフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、ベンジルジメチルケタール、1−ヒドロキシシクロヘキシル−フェニルケトン、2−メチル−2−モルホリノ(4−チオメチルフェニル)プロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルホリノフェニル)−ブタノン等のアセトフェノン類、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾインエーテル類、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、ビス(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4−トリメチルペンチルホスフィンオキサイド、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルホスフィンオキサイド等のアシルホスフィンオキサイド類、メチルベンゾイルホルメート、1,7−ビスアクリジニルヘプタン、9−フェニルアクリジンが挙げられる。   There is no restriction | limiting in particular in the kind of this polymerization initiator. Specific examples thereof include benzophenone, 4,4-bis (diethylamino) benzophenone, 2,4,6-trimethylbenzophenone, methyl orthobenzoylbenzoate, 4-phenylbenzophenone, t-butylanthraquinone, 2-ethylanthraquinone, 2,4. -Thioxanthones such as diethylthioxanthone, isopropylthioxanthone, 2,4-dichlorothioxanthone, diethoxyacetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, benzyldimethyl ketal, 1-hydroxycyclohexyl-phenyl ketone Acetophenones such as 2-methyl-2-morpholino (4-thiomethylphenyl) propan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone Benzoin ethers such as benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, bis (2,6-dimethoxybenzoyl) -2,4,4-trimethyl Examples include acylphosphine oxides such as pentylphosphine oxide and bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide, methylbenzoylformate, 1,7-bisacridinylheptane, and 9-phenylacridine.

重合開始剤は1種を単独で用いても良いし、2種以上を併用しても良い。特に、吸収波長の異なる2種以上を併用することが好ましい。また、必要に応じて過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウム等の過硫酸塩、ベンゾイルパーオキシドなどの過酸化物、アゾ系開始剤などの熱重合開始剤を併用しても良い。   A polymerization initiator may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together. In particular, it is preferable to use two or more types having different absorption wavelengths. Moreover, you may use together thermal polymerization initiators, such as persulfates, such as potassium persulfate and ammonium persulfate, peroxides, such as a benzoyl peroxide, and an azo initiator, as needed.

重合開始剤の割合は、重合性化合物100質量部に対して、0.01質量部以上10質量部以下が好ましく、0.1質量部以上5質量部以下がより好ましく、0.2質量部以上3質量部以下が特に好ましい。0.01質量部以上であれば、樹脂組成物の硬化性及びその硬化性に起因する硬化物の機械物性を良好にできる。10質量部以下であれば、残存する未反応の開始剤による硬化物の弾性率及び耐擦傷性への悪影響や着色を防止することができる。   The proportion of the polymerization initiator is preferably 0.01 parts by mass or more and 10 parts by mass or less, more preferably 0.1 parts by mass or more and 5 parts by mass or less, and more preferably 0.2 parts by mass or more with respect to 100 parts by mass of the polymerizable compound. 3 parts by mass or less is particularly preferable. If it is 0.01 mass part or more, the sclerosis | hardenability of a resin composition and the mechanical physical property of the hardened | cured material resulting from the sclerosis | hardenability can be made favorable. If it is 10 parts by mass or less, it is possible to prevent adverse effects and coloring on the elastic modulus and scratch resistance of the cured product due to the remaining unreacted initiator.

活性エネルギー線硬化性樹脂組成物には、必要に応じて、離型剤、滑剤、可塑剤、酸化防止剤、帯電防止剤、光安定剤、紫外線吸収剤、難燃剤、難燃助剤、重合禁止剤、充填剤、シランカップリング剤、着色剤、強化剤、無機フィラー、耐衝撃性改質剤等の公知の添加剤を配合してもよい。   For the active energy ray-curable resin composition, a release agent, a lubricant, a plasticizer, an antioxidant, an antistatic agent, a light stabilizer, an ultraviolet absorber, a flame retardant, a flame retardant aid, and a polymerization agent, if necessary. You may mix | blend well-known additives, such as an inhibitor, a filler, a silane coupling agent, a coloring agent, a reinforcement | strengthening agent, an inorganic filler, and an impact modifier.

重合性化合物と重合開始剤、及び必要に応じて添加剤を混合する際の混合条件は、特に限定されない。例えば、撹拌時間は1時間以上10時間以下、撹拌温度は室温以上80℃以下にすればよい。   The mixing conditions when mixing the polymerizable compound, the polymerization initiator, and, if necessary, the additive are not particularly limited. For example, the stirring time may be 1 hour or more and 10 hours or less, and the stirring temperature may be room temperature or more and 80 ° C. or less.

本発明の光透過性成形体の微細凹凸層のマルテンス硬さは、15N/mm以上が好ましい。より好ましくは20N/mm以上、さらに好ましくは30N/mm以上である。15N/mm以上であれば、微細凹凸構造の突起同士が寄り添う現象が起こり難いため、光透過性成形体表面に白化や白濁が見えない。 The Martens hardness of the fine concavo-convex layer of the light transmissive molded article of the present invention is preferably 15 N / mm 2 or more. More preferably 20 N / mm 2 or more, further preferably 30 N / mm 2 or more. If it is 15 N / mm 2 or more, a phenomenon in which the protrusions of the fine concavo-convex structure are close to each other is unlikely to occur, and thus whitening or cloudiness is not visible on the surface of the light-transmitting molded body.

本発明の光透過性成形体は、温度23℃、湿度50%Rhの環境下において20mm角の圧子とスチールウール#0000を用い、荷重25gf/cm2の条件で、光透過性成形体を10往復擦る耐擦傷性試験を行った場合に生じる傷が0〜10本以内であることが好ましい。この範囲であれば耐擦傷性を十分に備えることができる。 The light-transmitting molded body of the present invention is a light-transmitting molded body having a load of 25 gf / cm 2 using a 20 mm square indenter and steel wool # 0000 in an environment of a temperature of 23 ° C. and a humidity of 50% Rh. It is preferable that the number of scratches generated when the scratch resistance test for reciprocal rubbing is performed is 0 to 10 or less. Within this range, scratch resistance can be sufficiently provided.

本発明の光透過性成形体は、以上説明した活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の硬化物からなる微細凹凸層を、光透過性基材の少なくとも一方の表面に形成したものである。   The light-transmitting molded product of the present invention is obtained by forming a fine uneven layer made of a cured product of the active energy ray-curable resin composition described above on at least one surface of a light-transmitting substrate.

光透過性基材は光を透過するものであればよく、その材質は特に限定されない。光透過性基材の材質としては、例えば、メチルメタクリレート(共)重合体、ポリカーボネート、スチレン(共)重合体、メチルメタクリレート−スチレン共重合体、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートブチレート、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアセタール、ポリエーテルケトン、ポリウレタン、ガラスが挙げられる。活性エネルギー線硬化性樹脂組成物は、単独で硬化させることもできるが、光透過性基材の上で硬化させ、光透過性基材と一体化させて用いることが一般的である。   The light transmissive substrate may be any material that transmits light, and the material is not particularly limited. Examples of the material for the light transmissive substrate include methyl methacrylate (co) polymer, polycarbonate, styrene (co) polymer, methyl methacrylate-styrene copolymer, cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose acetate butyrate, and polyester. , Polyamide, polyimide, polyether sulfone, polysulfone, polypropylene, polymethylpentene, polyvinyl chloride, polyvinyl acetal, polyether ketone, polyurethane, and glass. The active energy ray-curable resin composition can be cured alone, but is generally cured on a light-transmitting substrate and integrated with the light-transmitting substrate.

基材の形状や製造方法は、特に限定されない。例えば、射出成形体、押し出し成形体、キャスト成形体を使用できる。また形状は、シート状、フィルム状、その他の立体形状でもよい。さらに、密着性、帯電防止性、耐擦傷性、耐候性等の特性の改良を目的として、基材の表面にコーティングやコロナ処理が施されていてもよい。特に、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物と光透過性基材の密着性を良くする為に、表面に易接着層が設けられた光透過性基材を用いることが好ましい。   The shape and manufacturing method of the substrate are not particularly limited. For example, an injection molded body, an extrusion molded body, and a cast molded body can be used. The shape may be a sheet shape, a film shape, or other three-dimensional shapes. Furthermore, the surface of the substrate may be coated or corona treated for the purpose of improving properties such as adhesion, antistatic properties, scratch resistance, and weather resistance. In particular, in order to improve the adhesion between the active energy ray-curable resin composition and the light-transmitting substrate, it is preferable to use a light-transmitting substrate having an easy-adhesion layer on the surface.

図1は、本発明の光透過性成形体の一例を示す模式的断面図である。この図に示す光透過性成形体は、光透過性基材10と、その光透過性基材10の上側の表面に形成された活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の硬化物からなる微細凹凸層11とを有する。微細凹凸層11には可視光の波長以下のサイズの微細な凸部12と凹部13が交互に繰り返されたナノ凹凸構造が形成されている。可視光とは、一般的に波長が380〜780nmの光を指し、可視光波長以下のサイズとは、隣り合う凸部12又は凹部13の間隔(図中の突起幅15)が380nm以下であることを意味する。凹凸の高さ14は特に限定されないが、反射防止特性の点から60nm以上が好ましく、90nm以上がより好ましい。この微細凹凸層11は、光透過性基材10の片面又は両面の全体又は一部に形成すればよい。   FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an example of a light-transmitting molded article of the present invention. The light-transmitting molded body shown in this figure is a fine concavo-convex layer comprising a light-transmitting substrate 10 and a cured product of an active energy ray-curable resin composition formed on the upper surface of the light-transmitting substrate 10. 11. The fine concavo-convex layer 11 is formed with a nano concavo-convex structure in which fine convex portions 12 and concave portions 13 having a size equal to or smaller than the wavelength of visible light are alternately repeated. Visible light generally refers to light having a wavelength of 380 to 780 nm, and the size equal to or smaller than the visible light wavelength is a distance between adjacent convex portions 12 or concave portions 13 (protrusion width 15 in the drawing) of 380 nm or less. Means that. The height 14 of the unevenness is not particularly limited, but is preferably 60 nm or more, more preferably 90 nm or more from the viewpoint of antireflection characteristics. The fine concavo-convex layer 11 may be formed on the whole or a part of one side or both sides of the light transmissive substrate 10.

微細凹凸層の凹凸形状は特に限定されないが、例えば空気から材料表面まで連続的に屈折率を増大させて低反射率と低波長依存性を両立させた反射防止機能を得るためには、円錐状、角錐状、釣鐘状など、膜面で切断した時の断面積の占有率が連続的に増大するような構造が好ましい。また、より微細な突起が合一して上記の微細凹凸層を形成していてもよい。   The uneven shape of the fine uneven layer is not particularly limited. For example, in order to obtain an antireflection function that achieves both low reflectivity and low wavelength dependency by continuously increasing the refractive index from the air to the material surface, it is conical. A structure such as a pyramid shape, a bell shape, or the like in which the occupation ratio of the cross-sectional area when cut on the film surface continuously increases is preferable. Further, the fine projections may be formed by uniting finer protrusions.

微細凹凸層を形成する方法としては、例えば、微細凹凸構造を有するスタンパと光透過性基材の間に活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を配し、活性エネルギー線照射によって硬化させ、その硬化物層からスタンパを剥離することにより、微細凹凸構造が転写された硬化物層(微細凹凸層)を得る方法が好ましい。   As a method for forming a fine uneven layer, for example, an active energy ray-curable resin composition is disposed between a stamper having a fine uneven structure and a light-transmitting substrate, and cured by active energy ray irradiation, and the cured product is obtained. A method of obtaining a cured product layer (fine concavo-convex layer) to which the fine concavo-convex structure is transferred by peeling the stamper from the layer is preferable.

以上の方法に使用するスタンパの製造方法は、特に限定されないが、例えば、電子ビームリソグラフィー法、レーザー光干渉法、陽極酸化法などを用いることができる。例えば適当な支持基板上にフォトレジスト膜を塗布し、紫外線レーザー、電子線、X線等の光を用いて露光し、現像することによって微細凹凸層を有する型を作製できる。この型をそのままスタンパとして使用することもできる。また、フォトレジスト層を介して支持基板をドライエッチングにより選択的にエッチングし、レジスト層を除去することで支持基板表面に直接微細凹凸構造を形成して使用することも可能である。   The manufacturing method of the stamper used in the above method is not particularly limited. For example, an electron beam lithography method, a laser beam interference method, an anodizing method, or the like can be used. For example, a mold having a fine concavo-convex layer can be produced by applying a photoresist film on a suitable support substrate, exposing it to light using ultraviolet laser, electron beam, X-ray or the like, and developing it. This mold can also be used as a stamper. Further, the support substrate can be selectively etched by dry etching through the photoresist layer, and the resist layer can be removed to form a fine relief structure directly on the support substrate surface.

陽極酸化ポーラスアルミナをスタンパとして利用することも可能である。例えば、アルミニウムをシュウ酸、硫酸、リン酸等を電解液として所定の電圧にて陽極酸化して20〜200nmの細孔構造を形成し、これをスタンパとして使用しても良い。この方法では、高純度アルミニウムを定電圧で長時間陽極酸化し、その後一旦酸化皮膜を除去し、再び陽極酸化することで、非常に高規則性の細孔が自己組織化的に形成されることが知られている。更に二回目に陽極酸化する工程で、陽極酸化処理と孔径拡大処理を組み合わせることで、断面が矩形でなく三角形や釣鐘型である微細凹凸構造も形成可能である。   It is also possible to use anodized porous alumina as a stamper. For example, aluminum may be anodized at a predetermined voltage using oxalic acid, sulfuric acid, phosphoric acid or the like as an electrolytic solution to form a pore structure of 20 to 200 nm, and this may be used as a stamper. In this method, high-purity aluminum is anodized at a constant voltage for a long time, and then the oxide film is removed and then anodized again to form extremely highly regular pores in a self-organized manner. It has been known. Further, in the second anodic oxidation step, a fine uneven structure having a triangular or bell-shaped cross section can be formed by combining the anodizing treatment and the hole diameter enlarging treatment.

また、微細凹凸構造を有する原型から電鋳法等で複製型を作製し、これをスタンパとして使用してもよい。   Alternatively, a replica mold may be produced from an original mold having a fine concavo-convex structure by electroforming or the like and used as a stamper.

スタンパの形状は特に限定されず、平板状でもロール形状でも良い。特に、ロール形状のスタンパは、連続的に微細凹凸層を転写できるので生産性の点から好ましい。   The shape of the stamper is not particularly limited, and may be a flat plate shape or a roll shape. In particular, a roll-shaped stamper is preferable from the viewpoint of productivity because a fine uneven layer can be transferred continuously.

重合・硬化に用いる活性エネルギー線としては、例えば、電子線、紫外線、可視光線が挙げられる。特に紫外線が好ましい。紫外線を照射するランプとしては、例えば、高圧水銀灯、メタルハライドランプ、フュージョン社製の無電極UVランプ(各種バルブ)が挙げられる。紫外線照射量は、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物中の重合開始剤の吸収波長や添加量に応じて適宜決定すれば良い。硬化が不十分だと微細凹凸層の耐擦傷性が損なわれる場合がある。また照射量が多過ぎると硬化物の着色や光透過性基材の劣化を引き起こす場合がある。特に、400〜4000mJ/cm2の積算光量で硬化させることが好
ましく、400〜2000mJ/cm2の積算光量で硬化させることがより好ましい。照射強度についても特に制限されないが、光透過性基材の劣化等を招かない程度の出力に抑えることが好ましい。
Examples of active energy rays used for polymerization / curing include electron beams, ultraviolet rays, and visible rays. In particular, ultraviolet rays are preferable. Examples of the lamp that irradiates ultraviolet rays include a high-pressure mercury lamp, a metal halide lamp, and an electrodeless UV lamp (various bulbs) manufactured by Fusion. What is necessary is just to determine an ultraviolet irradiation amount suitably according to the absorption wavelength and addition amount of the polymerization initiator in an active energy ray curable resin composition. If the curing is insufficient, the scratch resistance of the fine uneven layer may be impaired. Moreover, when there is too much irradiation amount, coloring of hardened | cured material and deterioration of a transparent substrate may be caused. Particularly preferably be cured by the integrated quantity of light of 400~4000mJ / cm 2, and more preferably cured at a cumulative light quantity of 400~2000mJ / cm 2. The irradiation intensity is not particularly limited, but is preferably suppressed to an output that does not cause deterioration of the light-transmitting substrate.

本発明の光透過性成形品は、例えば、反射防止物品(反射防止フィルム、反射防止膜、反射防止シート、及び、その他の反射防止部材)、光導波路、レリーフホログラム、レンズ、偏光分離素子などの光学物品や、細胞培養シートの用途に使用可能である。特に、反射防止物品の用途に適している。反射防止物品としては、例えば、液晶表示装置、プラズマディスプレイパネル、エレクトロルミネッセンスディスプレイ、冷陰極管表示装置などの画像表示装置、レンズ、ショーウィンドー、眼鏡レンズ等の表面で使用される反射防止膜、反射防止フィルム、反射防止シートが挙げられる。画像表示装置に用いる場合は、最表面上に反射防止フィルムを貼り付けても良いし、最表面となる部材として成形しても良いし、前面板として成形しても良い。   The light-transmitting molded article of the present invention includes, for example, antireflection articles (antireflection films, antireflection films, antireflection sheets, and other antireflection members), optical waveguides, relief holograms, lenses, polarization separation elements, and the like. It can be used for optical articles and cell culture sheet applications. It is particularly suitable for use as an antireflection article. As the antireflection article, for example, an image display device such as a liquid crystal display device, a plasma display panel, an electroluminescence display, a cold cathode tube display device, an antireflection film used on the surface of a lens, a show window, a spectacle lens, Examples thereof include an antireflection film and an antireflection sheet. When used in an image display device, an antireflection film may be affixed on the outermost surface, may be molded as a member that will be the outermost surface, or may be molded as a front plate.

以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明する。以下の記載において「部」は「質量部」を意味する。また、各物性の評価は以下の方法に従い実施した。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples. In the following description, “part” means “part by mass”. Each physical property was evaluated according to the following method.

<耐擦傷性:スチールウール試験>
往復磨耗試験機(新東科学社製、型名HEIDON Type:30S)を使用し、20mm角の圧子にスチールウール(#0000)を取り付け、温度23℃、湿度50%Rhの環境下において、荷重25gf/cm2の条件で光透過性成形体を10往復擦った。その後、光透過性成形体の裏面に黒い紙を置き、光透過性成形体に生じた傷の数を確認して、以下の基準に従って目視で評価した。評価がAの場合に耐擦傷性が十分あり、Bの場合に耐擦傷性良好、と判断した。
「A」:傷が0〜10本以内。
「B」:傷が10を超え20本以内。
「C」:圧子の当たった全面に傷有り、又は全面が白く曇っている(傷以外の光透過性低下などの外観変化も含む)。
<Abrasion resistance: Steel wool test>
Using a reciprocating abrasion tester (manufactured by Shinto Kagaku Co., Ltd., model name HEIDON Type: 30S), steel wool (# 0000) is attached to a 20 mm square indenter, and the load is applied in an environment of temperature 23 ° C. and humidity 50% Rh. The light-transmitting molded body was rubbed 10 times under the condition of 25 gf / cm 2 . Thereafter, black paper was placed on the back surface of the light-transmitting molded body, the number of scratches generated on the light-transmitting molded body was confirmed, and visual evaluation was performed according to the following criteria. When the evaluation is A, the scratch resistance is sufficient, and when the evaluation is B, the scratch resistance is good.
“A”: 0 to 10 scratches.
“B”: The number of scratches exceeds 10 and is within 20
“C”: scratches are present on the entire surface of the indenter, or the entire surface is white and cloudy (including changes in appearance such as a decrease in light transmission other than the scratches).

<反射防止性:反射率>
透明アクリル樹脂板に貼り付けた光透過性成形体を、日立社製分光光度計U‐3300を用いて、入射角5°の条件で波長380nm〜780nmの間の相対反射率を測定し、波長550nmの反射率を以下の基準に従って評価した。
「○」:4.9%以下。
「×」:4.9%を超える。
<Antireflection: Reflectivity>
Using a spectrophotometer U-3300 manufactured by Hitachi, measure the relative reflectance between wavelengths of 380 nm and 780 nm, using a spectrophotometer U-3300 manufactured by Hitachi, The reflectance at 550 nm was evaluated according to the following criteria.
“◯”: 4.9% or less.
"X": It exceeds 4.9%.

<指紋拭き取り性:水拭き>
微細凹凸層の微細凹凸構造面(表面)の反対側の面を、光学粘着層を介して黒色アクリル樹脂板(三菱レイヨン株式会社製、アクリライトEX#502、50mm×60mm)に貼り付け、微細凹凸構造面に人口指紋液(特許第3799025号に記載の評価用分散液)を付着させた物品を作成した。
指先で約1kgf/cmの力を加えながら、水道水を1.0cc染込ませたワイパー(日本製紙クレシア株式会社、ケイドライワイパー132−S)で微細凹凸構造面を10往復させた後、物品表面の外観を評価した。
○:指紋が完全に除去された。
△:ほぼ指紋は目立たないが、蛍光灯を映り込ませたときの色味が僅かに異なる(指紋が完全には除去できていない)。
×:はっきりと指紋が残る。
<Fingerprint wiping: water wiping>
The surface opposite to the fine uneven structure surface (front surface) of the fine uneven layer is attached to a black acrylic resin plate (manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd., Acrylite EX # 502, 50 mm × 60 mm) via an optical adhesive layer. An article was prepared by attaching artificial fingerprint liquid (evaluation dispersion described in Japanese Patent No. 3799025) to the concavo-convex structure surface.
While applying a force of about 1 kgf / cm 2 with a fingertip, the micro concavo-convex structure surface was reciprocated 10 times with a wiper (Nippon Paper Crecia Co., Ltd., Keidry Wiper 132-S) impregnated with 1.0 cc of tap water, The appearance of the article surface was evaluated.
○: The fingerprint was completely removed.
Δ: Fingerprints are almost inconspicuous, but the color when a fluorescent lamp is reflected is slightly different (the fingerprints are not completely removed).
X: A fingerprint remains clearly.

<指紋拭き取り性:乾拭き>
微細凹凸層の微細凹凸構造面(表面)の反対側の面を、光学粘着層を介して黒色アクリル樹脂板(三菱レイヨン株式会社製、アクリライトEX#502、50mm×60mm)に貼り付け、微細凹凸構造面に人口指紋液(特許第3799025号に記載の評価用分散液)を付着させた物品を作成した。
指先で力を加えながら(約3kgf/cm)、乾燥したワイパー(日本製紙クレシア株式会社、ケイドライワイパー132−S)で微細凹凸構造面を40往復させた後、物品表面の外観を評価した。
○:指紋が完全に除去された。
△:ほぼ指紋は目立たないが、蛍光灯を映り込ませたときの色味が僅かに異なる(指紋が完全には除去できていない)。
×:はっきりと指紋が残る。
<Fingerprint wiping: dry wiping>
The surface opposite to the fine uneven structure surface (front surface) of the fine uneven layer is attached to a black acrylic resin plate (manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd., Acrylite EX # 502, 50 mm × 60 mm) via an optical adhesive layer. An article was prepared by attaching artificial fingerprint liquid (evaluation dispersion described in Japanese Patent No. 3799025) to the concavo-convex structure surface.
While applying force with the fingertip (about 3 kgf / cm 2 ), the fine concavo-convex structure surface was reciprocated 40 times with a dry wiper (Nippon Paper Crecia Co., Ltd., Keidry Wiper 132-S), and then the appearance of the article surface was evaluated. .
○: The fingerprint was completely removed.
Δ: Fingerprints are almost inconspicuous, but the color when a fluorescent lamp is reflected is slightly different (the fingerprints are not completely removed).
X: A fingerprint remains clearly.

<外観:透明性(白濁)>
微細凹凸層の微細凹凸構造面(表面)の反対側の面を、光学粘着層を介して黒色アクリル樹脂板(三菱レイヨン株式会社製、アクリライトEX#502、50mm×60mm)に貼り付け、次に記載のように物品の外観を評価した。
○:斜め方向から白色LED光源を照射した場合に、表面が均一であり、僅かな白化や白濁などが認められない。
△:室内の蛍光灯下では表面が均一で白濁は認められないが、斜め方向から白色LED光源を照射した場合には、白化や白濁が認められる。
×:室内の蛍光灯下であっても白化や白濁が認められる。
<Appearance: Transparency (cloudiness)>
The surface opposite to the fine concavo-convex structure surface (front surface) of the fine concavo-convex layer is attached to a black acrylic resin plate (manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd., Acrylite EX # 502, 50 mm × 60 mm) through the optical adhesive layer. The appearance of the article was evaluated as described in.
○: When a white LED light source is irradiated from an oblique direction, the surface is uniform and slight whitening or cloudiness is not observed.
Δ: The surface is uniform and white turbidity is not recognized under the fluorescent lamp in the room, but whitening and white turbidity are observed when the white LED light source is irradiated from an oblique direction.
X: Whitening and cloudiness are recognized even under indoor fluorescent lamps.

<樹脂物性:マルテンス硬さ及び弾性率>
実施例及び比較例に用いた樹脂組成物を、厚さ約200μmのスペーサーを挿入した2枚のスライドガラス(76×52mm、厚さ約1mm)ではさみ、高圧水銀灯を用いて積算光量1200mJ/cmのエネルギーで紫外線を照射して硬化させた。片面のスライドガラスを剥がして、硬化した樹脂表面のマルテンス硬さ及び弾性率を、超微小硬さ試験装置(フィッシャー・インストルメンツ社、商品名:フィッシャー・スコープ・HM2000)を用い、ISO−14577−1に準拠した方法により、次に記載の測定条件で測定した。
圧子形状:ビッカース圧子(a=136°)、
測定環境:温度23℃・相対湿度50%、
最大試験荷重:100mN、
荷重速度:100mN/10秒、
最大荷重クリープ時間:10秒、
除荷速度:100mN/10秒。
<Resin physical properties: Martens hardness and elastic modulus>
The resin compositions used in Examples and Comparative Examples are sandwiched between two glass slides (76 × 52 mm, thickness about 1 mm) with a spacer having a thickness of about 200 μm, and an integrated light quantity of 1200 mJ / cm using a high-pressure mercury lamp. It was cured by irradiating with ultraviolet rays with energy of 2 . The slide glass on one side is peeled off, and the Martens hardness and elastic modulus of the cured resin surface are measured using an ultra-micro hardness tester (Fischer Instruments, trade name: Fisher Scope HM2000), ISO-14577. The measurement was performed under the following measurement conditions by a method based on -1.
Indenter shape: Vickers indenter (a = 136 °),
Measurement environment: temperature 23 ° C, relative humidity 50%,
Maximum test load: 100 mN
Loading speed: 100 mN / 10 seconds,
Maximum load creep time: 10 seconds,
Unloading speed: 100 mN / 10 seconds.

<樹脂組成物のPAG含有率>
PAG含有率[%]=[P(モノマー1)×PAG(モノマー1)+P(モノマー2)×PAG(モノマー2)+・・・+P(モノマーn)×PAG(モノマーn)]/100、
PAG含有率:ポリアルキレングリコール含有率(%)、
PAG(モノマー1):モノマー1のPAG(%)、
P(モノマー1):組成中におけるモノマー1の質量分率(%)。
(但し、モノマー1、モノマー2・・・モノマーnは、(メタ)アクリルモノマー(A)及び(メタ)アクリルモノマー(B)、その他のモノマーを含む樹脂組成物を構成する全てのモノマーである。)
<PAG content ratio of resin composition>
PAG content [%] = [P (monomer 1) × PAG (monomer 1) + P (monomer 2) × PAG (monomer 2) +... + P (monomer n) × PAG (monomer n)] / 100,
PAG content: polyalkylene glycol content (%)
PAG (monomer 1): PAG of monomer 1 (%),
P (monomer 1): mass fraction (%) of monomer 1 in the composition.
(However, monomer 1, monomer 2... Monomer n are all monomers constituting the resin composition containing (meth) acrylic monomer (A), (meth) acrylic monomer (B), and other monomers). )

(スタンパの作製)
純度99.99%のアルミニウムを、羽布研磨及び過塩素酸/エタノール混合溶液(1/4体積比)中で電解研磨し鏡面化した。
(a)工程:
このアルミニウム板を、0.3Mシュウ酸水溶液中で、直流40V、温度16℃の条件で30分間陽極酸化を行った。
(b)工程:
上記工程で酸化皮膜が形成されたアルミニウム板を、6質量%リン酸/1.8質量%クロム酸混合水溶液に6時間浸漬して、酸化皮膜を除去した。
(c)工程:
このアルミニウム板を、0.3Mシュウ酸水溶液中、直流40V、温度16℃の条件で30秒陽極酸化を行った。
(d)工程:
上記工程で酸化皮膜が形成されたアルミニウム板を、32℃の5質量%リン酸に8分間浸漬して、細孔径拡大処理を行った。
(e)工程:
前記(c)工程及び(d)工程を合計で5回繰り返し、周期100nm、深さ180nmの略円錐形状の細孔を有する陽極酸化ポーラスアルミナを得た。
(Production of stamper)
Aluminum having a purity of 99.99% was mirror polished by feather polishing and electrolytic polishing in a perchloric acid / ethanol mixed solution (1/4 volume ratio).
(A) Process:
This aluminum plate was anodized in a 0.3 M oxalic acid aqueous solution for 30 minutes under conditions of a direct current of 40 V and a temperature of 16 ° C.
(B) Process:
The aluminum plate on which the oxide film was formed in the above step was immersed in a 6% by mass phosphoric acid / 1.8% by mass chromic acid mixed aqueous solution for 6 hours to remove the oxide film.
(C) Process:
This aluminum plate was anodized for 30 seconds in a 0.3 M oxalic acid aqueous solution under the conditions of a direct current of 40 V and a temperature of 16 ° C.
(D) Process:
The aluminum plate on which the oxide film was formed in the above step was immersed in 5% by mass phosphoric acid at 32 ° C. for 8 minutes to carry out pore diameter expansion treatment.
(E) Process:
The steps (c) and (d) were repeated 5 times in total to obtain anodized porous alumina having substantially conical pores with a period of 100 nm and a depth of 180 nm.

得られた陽極酸化ポーラスアルミナは脱イオン水で洗浄し、次いで表面の水分をエアーブローで除去し、フッ素系剥離材(ダイキン工業社製、商品名オプツールDSX)を固形分0.1質量%になるように希釈剤(ハーベス社製、商品名HD−ZV)で希釈した溶液に10分間浸漬し、20時間風乾して、表面上に細孔が形成されたスタンパを得た。   The obtained anodized porous alumina was washed with deionized water, and then water on the surface was removed by air blow, and the fluorine-based release material (trade name Optool DSX, manufactured by Daikin Industries, Ltd.) was adjusted to a solid content of 0.1% by mass. Thus, it was immersed in a solution diluted with a diluent (trade name HD-ZV, manufactured by Harves Co., Ltd.) for 10 minutes and air-dried for 20 hours to obtain a stamper having pores formed on the surface.

<実施例1>
(A)成分として、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートのEO変性化合物[第一工業製薬(株)製、商品名DPHA−12EO]70部、(B)成分として、エトキシ化ペンタエリスリトールテトラアクリレート(新中村化学工業(株)製、商品名NKエステルATM−4E)30部、重合開始剤として、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン(チバ・ジャパン(株)製、商品名IRGACURE184)1.0部及びビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルホスフィンオキサイド(チバ・ジャパン(株)製、商品名IRGACURE819)0.5部、離型剤(巴工業(株)製、商品名モールドウイズINT−1856)0.1部からなる活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を調製した。
<Example 1>
As component (A), 70 parts of EO-modified compound of dipentaerythritol hexaacrylate [Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd., trade name DPHA-12EO], as component (B), ethoxylated pentaerythritol tetraacrylate (Shin Nakamura Chemical) 30 parts by Kogyo Co., Ltd., trade name: NK Ester ATM-4E), 1.0 parts of 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone (trade name: IRGACURE 184, made by Ciba Japan Co., Ltd.) and bis. 0.5 part of (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide (Ciba Japan Co., Ltd., trade name IRGACURE819), release agent (manufactured by Sakai Kogyo Co., Ltd., trade name Mold With INT-1856) ) An active energy ray-curable resin composition consisting of 0.1 part was prepared.

ここで使用した(A)成分中のポリアルキレングリコール構造(−C24O−)n部分の合計化学式量(M(PAG))は、44×12=528であり、アクリロイル構造(CH2=CHCO−)部分の合計化学式量(M(ACR))は、55×6=330であり、そのポリアルキレングリコール含有率(PAG)は、528/(330+528)×100≒61.5(%)である。 The total chemical formula amount (M (PAG)) of the polyalkylene glycol structure (—C 2 H 4 O—) n part in the component (A) used here is 44 × 12 = 528, and the acryloyl structure (CH 2 = CHCO-) The total formula amount (M (ACR)) of the moiety is 55 × 6 = 330, and the polyalkylene glycol content (PAG) is 528 / (330 + 528) × 100≈61.5 (%) It is.

以上の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物をスタンパ上に数滴垂らし、厚さ188μmのポリエチレンテレフタレートフィルム(東洋紡績(株)製、商品名A−4300)で押し広げながら表面を被覆した。次いで、フィルム側から高圧水銀灯を用いて1200mJ/cm2のエネルギーで紫外線を照射して硬化させた。次いで、フィルムとスタンパを剥離して、隣り合う凸部又は凹部の間隔が100nm、高さ180nmの微細凹凸層を有する光透過性成形体を得た。 A few drops of the above active energy ray-curable resin composition was dropped on a stamper, and the surface was covered with a 188 μm-thick polyethylene terephthalate film (trade name A-4300, manufactured by Toyobo Co., Ltd.). Next, the film was cured by irradiating ultraviolet rays with an energy of 1200 mJ / cm 2 using a high-pressure mercury lamp from the film side. Subsequently, the film and the stamper were peeled off to obtain a light-transmitting molded body having a fine uneven layer with an interval between adjacent protrusions or recesses of 100 nm and a height of 180 nm.

<実施例2〜17、比較例1〜7>
重合性化合物として表1及び表2に示す化合物を用いたこと以外は、実施例1と同様にして光透過性成形体を製造した。
<Examples 2 to 17 and Comparative Examples 1 to 7>
A light-transmitting molded article was produced in the same manner as in Example 1 except that the compounds shown in Table 1 and Table 2 were used as the polymerizable compound.

以上の各実施例及び各比較例の評価結果を表1及び表2に示す。   Tables 1 and 2 show the evaluation results of the above examples and comparative examples.

Figure 2013029828
Figure 2013029828

Figure 2013029828
Figure 2013029828

表中の略号は、下記の通りである。
・「a」:アクリロイル基の数、
・「n」:アルキレングリコールに由来する構造の平均繰り返し数、
・「PAG」:ポリアルキレングリコール含有率(%)、
・「DPHA−12EO」:ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートのEO変性化合物[第一工業製薬(株)製、商品名DPHA−12EO変性、一般式(1)のR1〜R6は全てH、かつエチレングリコールの分子構造の繰返し単位の総数(l+m+n+o+p+q)が12の化合物であり、ポリエチレングリコール構造の平均繰り返し数は2(=12/6)]、
・「DPHA−18EO」:ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートのEO変性化合物[第一工業製薬(株)製、商品名DPHA−18EO変性、一般式(1)のR1〜R6は全てH、かつエチレングリコールの分子構造の繰返し単位の総数(l+m+n+o+p+q)が18の化合物、ポリエチレングリコール構造の平均繰り返し数は3(=18/6)]、
・「DPHA−24EO」:ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートのEO変性化合物[第一工業製薬(株)製、商品名DPHA−24EO変性、一般式(1)のR1〜R6は全てH、かつエチレングリコールの分子構造の繰返し単位の総数(l+m+n+o+p+q)が24の化合物であり、ポリエチレングリコール構造の平均繰り返し数は4(=24/6)]、
・「DPHA−30EO」:ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートのEO変性化合物[第一工業製薬(株)製、商品名DPHA−30EO変性、一般式(1)のR1〜R6は全てH、かつエチレングリコールの分子構造の繰返し単位の総数(l+m+n+o+p+q)が30の化合物であり、ポリエチレングリコール構造の平均繰り返し数は5(=30/6)]、
・「ATM−4E」:エトキシ化ペンタエリスリトールテトラアクリレート(新中村化学工業(株)製、商品名ATM−4E)、
・「DPHA」:ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(東亞合成(株)製)、
・「A−TMPT−6EO」:トリメチロールプロパントリアクリレートのEO変性化合物(新中村化学工業(株)製、ポリエチレングリコール構造の平均繰り返し数=2)、
・「PE−4A」:ペンタエリスリトールテトラアクリレート(共栄社化学(株)製、商品名:ライトアクリレートPE−4A)、
・「ATM−35E」:エトキシ化ペンタエリスりトールテトラアクリレート(新中村化学工業(株)製、エチレングリコールの分子構造の繰返し単位の総数が35の化合物であり、ポリエチレングリコール構造の平均繰り返し数=8.75(=35/4))、
・「A−GLY−20E」:エトキシ化グリセリントリアクリレート(新中村化学工業(株)製、エチレングリコールの分子構造の繰返し単位の総数が20の化合物であり、ポリエチレングリコール構造の平均繰り返し数=6.67(20/3))、
・「M260」:ポリエチレングリコール(n=約13)ジアクリレート(東亞合成(株)製)、
・「A−1000」:ポリエチレングリコール(n=23)ジアクリレート(新中村化学工業(株)製、商品名:NK−エステルA−1000)、
・「9EG−A」:ポリエチレングリコール(n=9)ジアクリレート(共栄社化学(株)製、商品名:ライトアクリレート9EG−A)、
・「HEA」:ヒドロキシエチルアクリレート、
・「A−SA」:2−アクリロイルオキシエチルサクシネート(新中村化学工業(株)製)。
Abbreviations in the table are as follows.
"A": number of acryloyl groups,
"N": average number of repeating structures derived from alkylene glycol,
"PAG": polyalkylene glycol content (%),
"DPHA-12EO": EO-modified compound of dipentaerythritol hexaacrylate [Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd., trade name DPHA-12EO-modified, R 1 to R 6 in general formula (1) are all H and ethylene The total number of repeating units (l + m + n + o + p + q) of the molecular structure of glycol is 12, and the average number of repeating units of polyethylene glycol structure is 2 (= 12/6)]
“DPHA-18EO”: EO-modified compound of dipentaerythritol hexaacrylate [Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd., trade name DPHA-18EO-modified, R 1 to R 6 in the general formula (1) are all H and ethylene A compound in which the total number of repeating units (l + m + n + o + p + q) of the molecular structure of glycol is 18, the average number of repeating units of polyethylene glycol structure is 3 (= 18/6)],
“DPHA-24EO”: EO-modified compound of dipentaerythritol hexaacrylate [Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd., trade name DPHA-24EO-modified, R 1 to R 6 in general formula (1) are all H and ethylene The total number of repeating units of the molecular structure of glycol (l + m + n + o + p + q) is 24, and the average number of repeating units of polyethylene glycol structure is 4 (= 24/6)]
“DPHA-30EO”: EO-modified compound of dipentaerythritol hexaacrylate [Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd., trade name DPHA-30EO-modified, R 1 to R 6 in general formula (1) are all H and ethylene The total number of repeating units (l + m + n + o + p + q) of the molecular structure of glycol is 30, and the average number of repeating units of polyethylene glycol structure is 5 (= 30/6)]
"ATM-4E": ethoxylated pentaerythritol tetraacrylate (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., trade name ATM-4E),
"DPHA": Dipentaerythritol hexaacrylate (manufactured by Toagosei Co., Ltd.)
"A-TMPT-6EO": EO-modified compound of trimethylolpropane triacrylate (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., average number of repetitions of polyethylene glycol structure = 2),
"PE-4A": pentaerythritol tetraacrylate (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd., trade name: light acrylate PE-4A),
"ATM-35E": Ethoxylated pentaerythritol tetraacrylate (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., a compound having a total number of repeating units of molecular structure of ethylene glycol of 35 and an average number of repeating polyethylene glycol structures of 8) .75 (= 35/4)),
"A-GLY-20E": ethoxylated glycerin triacrylate (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., a compound having a total number of 20 repeating units of the molecular structure of ethylene glycol, and the average number of repeating polyethylene glycol structures = 6 .67 (20/3)),
"M260": polyethylene glycol (n = about 13) diacrylate (manufactured by Toagosei Co., Ltd.)
"A-1000": polyethylene glycol (n = 23) diacrylate (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., trade name: NK-ester A-1000),
"9EG-A": polyethylene glycol (n = 9) diacrylate (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd., trade name: Light acrylate 9EG-A),
"HEA": hydroxyethyl acrylate,
“A-SA”: 2-acryloyloxyethyl succinate (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.).

<評価>
表1の結果から明らかなように、実施例1〜7、9、12〜17の光透過性成形体は良好な耐擦傷性と低反射率を有していた。また、マルテンス硬さが15N/mm未満である実施例8、10、11の光透過性成形体は、耐擦傷性試験により試験部分の一部に目視では目立たない程度の、20本以内の細かなキズが生じた。一方、(メタ)アクリルモノマー(A)を含まない比較例1の光透過性成形体は耐擦傷性試験により20を超える傷が生じ、耐擦傷性試験部分の全面が白く曇っていた。同様に(メタ)アクリルモノマー(A)を含まない比較例2、及び4〜7、(メタ)アクリルモノマー(A)成分及び(メタ)アクリルモノマー(B)以外の成分を含む比較例3、PAG含有率が50%未満である比較例4、及び、(メタ)アクリルモノマー(B)の官能基数が3である比較例5の光透過性成形体は圧子の当たった全面に多数の傷が生じた。
<Evaluation>
As is apparent from the results in Table 1, the light transmissive molded products of Examples 1 to 7, 9, and 12 to 17 had good scratch resistance and low reflectance. Further, the light-transmitting molded bodies of Examples 8, 10, and 11 having a Martens hardness of less than 15 N / mm 2 are within 20 pieces, which are inconspicuous in a part of the test part by a scratch resistance test. Minor scratches occurred. On the other hand, the light transmissive molded article of Comparative Example 1 containing no (meth) acrylic monomer (A) had more than 20 scratches in the scratch resistance test, and the entire scratch resistance test portion was clouded white. Similarly, Comparative Examples 2 and 4-7 which do not contain (meth) acrylic monomer (A), Comparative Example 3 which contains components other than (meth) acrylic monomer (A) and (meth) acrylic monomer (B), PAG In the light-transmitting molded article of Comparative Example 4 in which the content is less than 50% and Comparative Example 5 in which the number of functional groups of the (meth) acrylic monomer (B) is 3, many scratches are generated on the entire surface where the indenter hits. It was.

また、アルキレングリコールに由来する構造の平均繰り返し数が少ない(メタ)アクリルモノマー(B)のみを含む比較例4及び5の光透過性成形体は指紋を水拭きで除去できなかった。
また、マルテンス硬さが比較的柔らかい実施例8〜11では、耐擦傷性は良好なものの、微細凹凸構造の突起同士が寄り添う現象による白濁が観察された。
また、実施例1〜17の光透過性成形体は、水拭き及び乾拭きで、傷が付くことなく、指紋を目立たないレベルで除去できた。比較例1〜5、及び7の光透過性成形体は、耐擦傷性に劣るものの、乾拭き又は水拭きにて指紋を目立たないレベルで除去できた。
Moreover, the light-transmitting molded articles of Comparative Examples 4 and 5 containing only the (meth) acrylic monomer (B) having a small average number of repeating structures derived from alkylene glycol could not be removed by wiping with water.
Further, in Examples 8 to 11 in which the Martens hardness was relatively soft, although the scratch resistance was good, white turbidity due to a phenomenon in which the protrusions of the fine concavo-convex structure nestle was observed.
Moreover, the light-transmitting molded bodies of Examples 1 to 17 were able to be removed at a level where the fingerprints were not noticeable without being scratched by water wiping and dry wiping. Although the light-transmitting molded bodies of Comparative Examples 1 to 5 and 7 were inferior in scratch resistance, the fingerprints could be removed at a level where they were not noticeable by dry wiping or water wiping.

本発明の光透過性成形体は、ナノ凹凸構造体として優れた反射防止性能と高い耐擦傷性能を両立することから屋外で使用される可能性のある各種ディスプレイパネル、レンズ、ショーウィンドー、自動車メーターカバー、ロッドレンズアレイ、FAX、複写機、スキャナなどのイメージセンサーのカバーガラス、複写機の原稿を置くコンタクトガラス、眼鏡レンズや太陽電池の光取り出し率向上部材などの光学用途に利用可能であり、工業的に極めて有用である。また、水滴が付着することで視認性が悪くなる鏡や窓材などにも利用可能である。   The light-transmitting molded body of the present invention has various anti-reflection performance and high scratch resistance performance as a nano uneven structure, so that various display panels, lenses, show windows, automobiles that may be used outdoors. It can be used for optical applications such as cover glass for image sensors such as meter covers, rod lens arrays, fax machines, copiers, and scanners, contact glass for placing manuscripts for copiers, and members for improving the light extraction rate of spectacle lenses and solar cells. It is extremely useful industrially. It can also be used for mirrors and window materials that have poor visibility due to water droplets.

10 光透過性基材
11 微細凹凸層
12 凸部
13 凹部
14 凹凸の高さ
15 突起幅
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Light-transmitting base material 11 Fine concavo-convex layer 12 Convex part 13 Concave part 14 Convex height 15 Protrusion width

Claims (7)

光透過性基材と、該光透過性基材の少なくとも一方の表面に形成された活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の硬化物からなる微細凹凸層とを有する光透過性成形体であって、
前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物に含有される重合性化合物が、下記式(a)で表される(メタ)アクリルモノマー(A)中のポリアルキレングリコール含有率(PAG)が50%以上87%以下である4官能以上の(メタ)アクリルモノマー(A)である光透過性成形体。
PAG=M(PAG)/[M(ACR)+M(PAG)]×100 (a)
PAG:ポリアルキレングリコール含有率(%)、
M(PAG):ポリアルキレングリコール構造部分の合計化学式量、
M(ACR):(メタ)アクリロイル構造部分の合計化学式量
A light-transmitting molded article having a light-transmitting substrate and a fine uneven layer made of a cured product of an active energy ray-curable resin composition formed on at least one surface of the light-transmitting substrate,
The polymerizable compound contained in the active energy ray-curable resin composition has a polyalkylene glycol content (PAG) in the (meth) acrylic monomer (A) represented by the following formula (a) of 50% or more and 87. %. A light-transmitting molded article that is a tetrafunctional or higher-functional (meth) acrylic monomer (A) that is not more than%.
PAG = M (PAG) / [M (ACR) + M (PAG)] × 100 (a)
PAG: polyalkylene glycol content (%),
M (PAG): total chemical formula amount of the polyalkylene glycol structural moiety,
M (ACR): Total chemical formula amount of (meth) acryloyl structure moiety
前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物が、さらに(メタ)アクリルモノマー(A)以外の3官能以上の(メタ)アクリルモノマー(B)を含む請求項1記載の光透過性成形体。   The light-transmitting molded article according to claim 1, wherein the active energy ray-curable resin composition further contains a trifunctional or higher functional (meth) acrylic monomer (B) other than the (meth) acrylic monomer (A). 活性エネルギー線硬化性樹脂組成物に含有される重合性化合物の、(メタ)アクリルモノマー(A)及び/又は(メタ)アクリルモノマー(B)が、アルキレングリコールに由来する構造の平均繰り返し数が5以上のポリアルキレングリコール構造を分子中に1つ以上有する請求項1又は2記載の光透過性成形体。   The average number of repetitions of the structure in which the (meth) acrylic monomer (A) and / or the (meth) acrylic monomer (B) of the polymerizable compound contained in the active energy ray-curable resin composition is derived from alkylene glycol is 5 The light-transmitting molded article according to claim 1 or 2, which has one or more of the above polyalkylene glycol structures in a molecule. (メタ)アクリルモノマー(A)が、下記一般式(1)
Figure 2013029828
[式(1)中、R1〜R6はH又はCH3であり、l〜qは12≦l+m+n+o+p+q≦48を満たす整数である。]
で表される化合物、及び/又は、下記一般式(2)
Figure 2013029828
[式(2)中、R7〜R10はH又はCH3であり、r〜uは8≦r+s+t+u≦32を満たす整数である。]
で表される化合物である請求項1〜3の何れか一項記載の光透過性成形体。
The (meth) acrylic monomer (A) is represented by the following general formula (1)
Figure 2013029828
[In the formula (1), R 1 to R 6 are H or CH 3 , and 1 to q are integers satisfying 12 ≦ l + m + n + o + p + q ≦ 48. ]
And / or the following general formula (2)
Figure 2013029828
[In the formula (2), R 7 to R 10 are H or CH 3 , and r to u are integers satisfying 8 ≦ r + s + t + u ≦ 32. ]
The light-transmitting molded article according to any one of claims 1 to 3, which is a compound represented by the formula:
微細凹凸層のマルテンス硬さが15N/mm以上である請求項1〜4の何れか一項記載の光透過性成形体。 The light-transmitting molded article according to any one of claims 1 to 4, wherein the Martens hardness of the fine uneven layer is 15 N / mm 2 or more. 温度23℃、湿度50%Rhの環境下において20mm角の圧子とスチールウール#0000を用い、荷重25gf/cm2の条件で、光透過性成形体を10往復擦る耐擦傷性試験を行った場合に生じる傷が0〜10本以内である請求項1〜5の何れか一項記載の光透過性成形体。 When a 20 mm square indenter and steel wool # 0000 are used in an environment of a temperature of 23 ° C. and a humidity of 50% Rh, and a scratch resistance test is performed in which a light-transmitting molded product is rubbed 10 times under a load of 25 gf / cm 2. The light-transmitting molded article according to any one of claims 1 to 5, wherein there are no more than 0 to 10 scratches. 請求項1〜6記載の光透過性成形体を用いた反射防止物品。
An antireflection article using the light transmissive molded article according to claim 1.
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