JP2012520461A - マイクロ回路テスタ用の導電ピン - Google Patents
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Abstract
【選択図】図1
Description
第一に、ボール端子と一時的に接触させる際、テスタは回路基板に接触するS&P端子表面を損傷してはならない。なぜなら、このような損傷が当該端子の半田接合の信頼性に影響を与えることがあるためである。
図5において膜が非圧縮状態にあるとき、上ピン20及び下ピン30は概ね平行な縦部材を有している。図6において試験対象素子がロードボードに向かって押圧されると、上ピン20は湾曲したインタフェース面70Bに沿って摺動し、この湾曲したインタフェース面70Bが上ピン20が下方へ移動させ、上ピン20を旋回させるので、上接点パッドは試験対象素子上の端子2に対して傾斜し、上ピン縦部材は下ピン縦部材に対して傾斜している。
2…端子又はボール
3…ロードボード
4…ロードボードの接点パッド
5…テスタ
6…ロードボードの基板
9…電気接続
10…インタポーザ膜
20…上ピン又はスライドピン
21、21A、21B、21C、21D、21E、21F、21G、21H…上接点パッド
22…上ピン縦部材
23A、23B…上ピン接面
24…上レリーフ面
25…上接点パッドの面取り端部
26A、26B、26C…上ピン係合機構又はリップ
30…下ピン又はベースピン
31…下接点パッド
32…下ピン縦部材
33A、33B…下ピン接面
34…下レリーフ面
35…下接点パッドの面取り端部
36A、36C…下ピン係合機構又はリップ
40…上接点プレート(カプトン、ポリイミド)
41…接着剤
50…インタポーザ(発泡体、エラストマ)
60…下接点プレート(カプトン、ポリイミド)
61…接着剤
70A、70B、70C、70D、70E、70F…インタフェース面
120…上ピン
121…上接点パッド
123…上ピン接面
127…上接点パッドにおける導電性を有する前半分
128…絶縁材料
129…上接点パッドにおける導電性を有する後半分
130…下ピン
133…下ピン接面
170…インタフェース面
180…絶縁性畝
210…ピン支持用孔
215…位置決め用孔
220…位置決め用ピン
230…支持部材
240…何も存在しないスペース
260…支持部材
270…支持平面
Claims (37)
- 複数の端子(2)を有する試験対象素子(1)と複数の接点パッド(4)を有するロードボード(3)との間において、各接点パッド(4)が一の端子(2)に対応するよう横方向に配置された状態で、複数の一時的な機械的及び電気接続を形成するための、交換可能で、縦方向に圧縮可能な膜(10)であって、
試験対象素子(1)上の端子(2)に対して縦方向に隣接した、可撓性を有し、電気絶縁性を有する上接点プレート(40)と、
ロードボード(3)上の接点パッド(4)に対して縦方向に隣接した、可撓性を有し、電気絶縁性を有する下接点プレート(60)と、
上接点プレート(40)及び下接点プレート(60)間における、縦方向に弾性を有し、電気絶縁性を有するインタポーザ(50)と、
上接点プレート(40)、インタポーザ(50)、下接点プレート(60)における縦方向の孔に貫通する、縦方向に圧縮可能な複数の導電ピン対(20,30)であって、この複数対における各ピン対が、試験対象素子(1)上の一の端子(2)に対応するよう横方向に配置されている複数の導電ピン対(20,30)と、
を備え、
特定のピン対(20,30)が縦方向に圧縮されると、対をなすピン(20,30)は、インタポーザ(50)と直交する表面に対して傾斜している仮想的なインタフェース面(70)に沿って、互いに摺動することを特徴とする膜。 - 請求項1に記載の膜(10)であって、
前記特定のピン対における前記2つのピン(20,30)は、両者を合わせると、仮想的なインタフェース面(70)を形成する接面(23、33)を備えることを特徴とする膜。 - 請求項1に記載の膜(10)であって、
仮想的なインタフェース面(70A)が概ね平面状であることを特徴とする膜。 - 請求項1に記載の膜(10)であって、
仮想的なインタフェース面(70B)が一次元に沿って湾曲していることを特徴とする膜。 - 請求項1に記載の膜(10)であって、
仮想的なインタフェース面(70C)が二次元に沿って湾曲していることを特徴とする膜。 - 請求項1に記載の膜(10)であって、
仮想的なインタフェース面(70D)がサドル状であることを特徴とする膜。 - 請求項1に記載の膜(10)であって、
仮想的なインタフェース面(70E)は一又は複数の位置決め機構を備えることを特徴とする膜。 - 請求項1に記載の膜(10)であって、
仮想的なインタフェース面は一又は複数の不連続な領域を備えることを特徴とする膜。 - 請求項8に記載の膜(10)であって、
前記不連続な領域は同一線上の曲率中心を備えることを特徴とする膜。 - 請求項8に記載の膜(10)であって、
不連続な領域は、接面上に配置された一致し合う溝及び畝によって分離されていることを特徴とする膜。 - 請求項1に記載の膜(10)であって、
各ピン対(20,30)におけるピンの一方(20)は、試験対象素子(1)における端子(2)の表面上の如何なる酸化物の層をも擦ることができる接点パッド(21)を備えることを特徴とする膜。 - 請求項1に記載の膜(10)であって、
各ピン対(20,30)におけるピンの一方(20)は、試験対象素子(1)における端子(2)に接触するためのテクスチャを有する接点パッド(21E)を備えることを特徴とする膜。 - 請求項1に記載の膜(10)であって、
各ピン対(20,30)におけるピンの一方(20)は、少なくとも一の面取り端部(25)を有する接点パッド(21)を備えることを特徴とする膜。 - 請求項1に記載の膜(10)であって、
各ピン対(20,30)におけるピンの一方(20)は、ピン(20)を上接点プレート(40)に固着するための係合機構(26)を備えることを特徴とする膜。 - 請求項1に記載の膜(10)であって、
各ピン対(20,30)におけるピンの一方(20)は、ピン(20)を上接点プレート(40)に固着するための窪み(26)を備えることを特徴とする膜。 - 請求項1に記載の膜(10)であって、
各ピン対(20,30)におけるピンの一方(30)は、ピン(30)を下接点プレート(60)に固着するための係合機構(36)を備えることを特徴とする膜。 - 請求項1に記載の膜(10)であって、
各ピン対(20,30)におけるピンの一方(30)は、ピン(30)を下接点プレート(60)に固着するための窪み(36)を備えることを特徴とする膜。 - 請求項1に記載の膜(10)であって、
上接点プレート(40)及び下接点プレート(60)は、ポリイミドで作製されることを特徴とする膜。 - 請求項1に記載の膜(10)であって、
上接点プレート(40)及び下接点プレート(60)は、カプトンで作製されることを特徴とする膜。 - 請求項1に記載の膜(10)であって、
上接点プレート(40)及び下接点プレート(60)は、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)で作製されることを特徴とする膜。 - 請求項1に記載の膜(10)であって、
インタポーザ(50)は発泡体で作製されることを特徴とする膜。 - 請求項1に記載の膜(10)であって、
インタポーザ(50)はエラストマで作製されることを特徴とする膜。 - 請求項1に記載の膜(10)であって、
インタポーザ(50)は少なくとも一の中空領域を備えることを特徴とする膜。 - 請求項1に記載の膜(10)であって、
各ピン対(20,30)における2つのピンは異なる金属で作製されることを特徴とする膜。 - 請求項1に記載の膜(10)であって、
特定のピン対(20,30)が試験対象素子(1)における端子(2)とロードボード(3)における接点パッド(4)との間で縦方向に圧縮されると、一方のピン(30)は、静止して、ロードボード上の接点パッド(4)に接触したままであり、他方のピン(20)は、試験対象素子(1)における端子(2)との接触を維持しながら移動することを特徴とする膜。 - 請求項24に記載の膜(10)であって、
他方のピン(20)は、縦方向の圧縮の全範囲に亘ってインタポーザ(50)との接触を回避するレリーフ機構(24)を備えることを特徴とする膜。 - 請求項1に記載の膜(10)であって、
試験対象素子(1)における各端子(2)は、ロードボード(3)における最多で2つの接点パッド(4)に対応することを特徴とする膜。 - 請求項1に記載の膜(10)であって、
試験対象素子(1)における各端子(2)は、ロードボード(3)における一の接点パッド(4)に対応することを特徴とする膜。 - 請求項1に記載の膜(10)であって、
上接点プレート(40)、インタポーザ(50)、下接点プレート(60)における縦方向の孔のうち少なくとも2つは、内部を貫通する、対応する横方向の位置合わせ用ピンを収容することを特徴とする膜。 - 膜(10)と、
複数の電気的ピン対(20,30)と、
を備えるテスト器具(5)であって、
前記膜(10)は、試験対象素子(1)とロードボード(3)との間で横方向に延在され、
試験対象素子(1)は所定パターンに配置された複数の電気的端子(2)を有し、
ロードボード(3)は端子(2)の所定パターンと対応するパターンで配置された複数の電気的接点パッド(4)を有し、
膜(10)は試験対象素子(1)の端子(2)に面する上面と、ロードボード(3)の接点パッド(4)に面する下面とを有しており、
前記複数の電気的ピン対(20,30)は、端子(2)の所定パターンと対応するパターンで膜(10)によって支持されており、
該複数対における各ピン対は、
膜(10)の上面から突出し、上ピン接面(23)を有する上ピン(20)と、
膜(10)の下面から突出し、下ピン接面(33)を有する下ピン(30)と、
を備え、
前記上ピン接面(23)及び前記下ピン接面(33)は、相補性の表面プロファイルを有し、
対応する電気的端子(2)がピン対に対して押圧されると、上ピン及び下ピン接面(23、33)は仮想的なインタフェース面(70)に沿って互いに摺動し、
該仮想的なインタフェース面(70)は、膜(10)と直交する表面に対して傾斜していることを特徴とするテスト器具。 - 請求項30に記載のテスト器具(5)であって、
膜(10)が複数の膜層を備えることを特徴とするテスト器具。 - 請求項31に記載のテスト器具(5)であって、
前記複数の膜層の内、少なくとも2つの膜層は、異なる機械的特性を備えることを特徴とするテスト器具。 - 請求項30に記載のテスト器具(5)であって、
膜(10)がモノリシックであることを特徴とするテスト器具。 - 複数の端子(2)を有する試験対象素子(1)と、複数の接点パッド(4)を有するロードボード(3)との間において、一時的な機械的及び電気接続を複数形成するためのテスト器具(5)であって、
前記接点パッド(4)が、端子(2)と1対1に対応して設けられており、
ロードボード(3)に対して概ね平行でかつ隣接して配設された、交換可能なインタポーザ膜(10)を備えており、
前記インタポーザ膜(10)は、前記複数の端子(2)と1対1の対応関係で配置された複数のピン対(20,30)を備え、該各ピン対(20,30)は、対応する端子(2)に隣接し、かつインタポーザ膜に延在される上ピン(20)と、対応する接点パッド(4)に隣接し、
かつインタポーザ膜(10)に延在される下ピン(30)とを有し、
特定のピン対(20,30)に対応した各接点パッド(4)は、該特定のピン対(20,30)に対応する、試験対象素子(1)上の端子(2)を機械的及び電気的に受けるように構成されており、
試験対象素子(1)がテスト器具(5)に装着されると、上ピン(20)は試験対象素子(1)上の対応する端子(2)に接触し、
下ピン(30)はロードボード(3)上の対応する接点パッド(4)に接触し、
各上ピン(20)は、インタポーザ膜(10)と直交する表面に対して傾斜している仮想的なインタフェース面に沿って、対応する下ピン(30)に接触し、
試験対象素子(1)上の前記複数の端子(2)が、ロードボード(3)上の前記複数の接点パッド(4)に対して1対1の対応関係で電気的に接続されてなることを特徴とするテスト器具。 - 請求項34に記載のテスト器具(5)であって、
膜(10)が複数の膜層を備えることを特徴とするテスト器具。 - 請求項35に記載のテスト器具(5)であって、
前記複数の膜層の内、少なくとも2つの膜層は、異なる機械的特性を備えることを特徴とするテスト器具。 - 請求項34に記載のテスト器具(5)であって、
膜(10)がモノリシックであることを特徴とするテスト器具。
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