JP2012246433A - Conductive ink, laminate with conductive pattern, and production method thereof - Google Patents

Conductive ink, laminate with conductive pattern, and production method thereof Download PDF

Info

Publication number
JP2012246433A
JP2012246433A JP2011120602A JP2011120602A JP2012246433A JP 2012246433 A JP2012246433 A JP 2012246433A JP 2011120602 A JP2011120602 A JP 2011120602A JP 2011120602 A JP2011120602 A JP 2011120602A JP 2012246433 A JP2012246433 A JP 2012246433A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
conductive
weight
parts
conductive ink
group
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2011120602A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP5146567B2 (en
Inventor
Nozomi Hatano
望 秦野
Hiroyuki Kondo
宏行 近藤
Hiroko Mori
浩子 森
Koichi Tozaki
広一 戸崎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Artience Co Ltd
Original Assignee
Toyo Ink SC Holdings Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toyo Ink SC Holdings Co Ltd filed Critical Toyo Ink SC Holdings Co Ltd
Priority to JP2011120602A priority Critical patent/JP5146567B2/en
Publication of JP2012246433A publication Critical patent/JP2012246433A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP5146567B2 publication Critical patent/JP5146567B2/en
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide conductive ink of a low-temperature treatment type which continuously forms a conductive pattern, which is highly precise in the horizontal direction, also flat in the thickness direction, excellent in flexibility, little in warpage, and excellent in durability, by high-speed screen printing, and is excellent in resistance-value stability.SOLUTION: The conductive ink has two kinds of conductive particles of different tap density by a specific ratio, uses a specific bisphenol type epoxy resin with a specific acrylic elastomer as a binder resin by a specific ratio, and further has a specific amount of a metallic chelate and a curing agent.

Description

本発明は、導電性インキ、およびその導電性インキを用いて得られる導電パターン付き積層体とその製造方法に関する。   The present invention relates to a conductive ink, a laminate with a conductive pattern obtained using the conductive ink, and a method for producing the same.

電子部品、電磁波シールド用の薄膜形成手段あるいは導電回路の形成手段として、一般的に、エッチング法および印刷法が知られている。エッチング法とは、金属の表面や形状を、化学あるいは電気化学的に溶解除去し、その表面処理を含めた広義の加工技術の意である。エッチングは、化学加工の一種であり、主に金属膜に希望のパターン形状を得るために行われるが、一般的に工程が煩雑であり、また後工程で廃液処理が必要であるため、費用もかかり問題が多い。また、エッチング法によって形成された導電回路は、アルミニウムや銅など金属材料等で形成されたものであるため、折り曲げ等の物理的衝撃に対して弱いという問題がある。   In general, an etching method and a printing method are known as an electronic component, a thin film forming unit for electromagnetic wave shielding, or a conductive circuit forming unit. The etching method means a processing technique in a broad sense including a surface treatment of a metal by dissolving or removing the surface or shape of the metal chemically or electrochemically. Etching is a kind of chemical processing, and is mainly performed to obtain a desired pattern shape on a metal film. However, the process is generally complicated and waste liquid treatment is required in the subsequent process, so the cost is also high. There are many problems. In addition, since the conductive circuit formed by the etching method is formed of a metal material such as aluminum or copper, there is a problem that the conductive circuit is weak against physical impact such as bending.

そこで、これらの問題を解決してより安価に導電回路を形成するために、導電性インキが注目を集めている。導電性インキを印刷することにより、容易に導電回路を形成できる。さらに電子部品の小型軽量化、生産性の向上、低コスト化の実現が期待できるので、導電性インキについての研究開発が精力的になされ、多くの提案がなされている(例えば、特許文献1〜16)。   Therefore, in order to solve these problems and form a conductive circuit at a lower cost, conductive ink has attracted attention. A conductive circuit can be easily formed by printing conductive ink. Furthermore, since electronic components can be expected to be smaller and lighter, improve productivity, and reduce costs, research and development on conductive ink has been energetically performed, and many proposals have been made (for example, Patent Documents 1 to 3). 16).

特許文献1には、溶剤吸収層を形成し、その上層に導電ペーストをスクリーン印刷する熱圧着接続部材の製造方法が記載されている。
特許文献2には、表面を粗面化した基材に対して、特定の平均粒径と最大粒径を持つ球状または粒状の金属粒子を含む導電インキを用い、印刷することにより高精細導電回路を形成する技術が開示されている。
特許文献3には、高精細なカラーフィルター等を形成するために、TI値(チキソインデックス、チキソ指数)を制御するスクリーン印刷用インキが開示されている。
Patent Document 1 describes a method for manufacturing a thermocompression bonding member in which a solvent absorption layer is formed and a conductive paste is screen-printed thereon.
In Patent Document 2, a high-definition conductive circuit is printed by using a conductive ink containing spherical or granular metal particles having a specific average particle size and a maximum particle size on a substrate having a roughened surface. Techniques for forming the are disclosed.
Patent Document 3 discloses a screen printing ink that controls a TI value (thixo index, thixo index) in order to form a high-definition color filter or the like.

また、特許文献4には、タップ密度が2.5〜6g/cm3の範囲内であり、かつ、平均粒径が0.02〜1μmの範囲である導電性粉体を60〜90重量%の範囲で含有し、有機成分を10〜40重量%の範囲で含有する平版オフセット印刷用途の導体インキが開示されている。
特許文献5には、平均粒径が20μm以下の銅粉又は銀めっきした銅粉、熱可塑性樹脂、添加剤及び密着性向上剤としてシラン系カップリング剤を導電性塗料の固形分に対し0.001〜5.0重量%の範囲で含む有機溶媒中に分散させた導電性塗料が開示されている。
Patent Document 4 discloses that 60 to 90% by weight of conductive powder having a tap density in the range of 2.5 to 6 g / cm 3 and an average particle size in the range of 0.02 to 1 μm. A conductive ink for use in lithographic offset printing is disclosed that contains an organic component in the range of 10 to 40% by weight.
In Patent Document 5, a copper powder having an average particle diameter of 20 μm or less or a silver-plated copper powder, a thermoplastic resin, an additive, and a silane coupling agent as an adhesion improver are added to the solid content of the conductive paint. A conductive paint dispersed in an organic solvent contained in the range of 001 to 5.0% by weight is disclosed.

さらに、特許文献6には、ポリイミド基板に対して高い密着性を有し、耐折り曲げ性、耐溶剤性の良好な導電性ペーストを提供するために、アルミニウム化合物及びシランカップリング剤を1種又は2種以上含むバインダー樹脂を用いる導電性ペーストが開示されている。   Furthermore, in Patent Document 6, in order to provide a conductive paste having high adhesion to a polyimide substrate and good bending resistance and solvent resistance, an aluminum compound and a silane coupling agent are used. A conductive paste using a binder resin containing two or more types is disclosed.

特許文献7には、導電性、耐マイグレーション性及び高温多湿下で長時間電界を印加した後の導体の抵抗変化率に優れ、かつ銀色又は銀白色を呈し、基材がPETフィルムである場合にも基材の収縮・変形を惹起させない導電ペーストを提供するために、OH基を含む熱可塑性樹脂、鱗片状の複合導電粉、鱗片状の銀粉及び溶剤を含有する導電ペーストが開示されている。   In Patent Document 7, when the electric resistance, migration resistance, and resistance change rate of a conductor after applying an electric field for a long time under high temperature and high humidity, and exhibiting silver or silver white, the base material is a PET film. In order to provide a conductive paste that does not cause shrinkage / deformation of the base material, a conductive paste containing a thermoplastic resin containing OH groups, scaly composite conductive powder, scaly silver powder, and a solvent is disclosed.

また、特許文献8には、良好な導電性を付与できる導電ペーストを提供するために、扁平状導電紛、不定形状導電紛、熱可塑性合成樹脂及び溶剤を含む導電ペーストが開示されている。熱可塑性合成樹脂の例として、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、フェノキシ樹脂、エチルセルロース、ポリビニルブチラール等を使用することができることが開示されている。
さらに、特許文献9には、沸点が200〜250℃ の溶剤に、エポキシ当量が500を超えるとともに、分子量が10000を超えるエポキシ樹脂を溶解するとともに、導電性フィラーを分散した導電ペーストが開示されている。
Patent Document 8 discloses a conductive paste containing a flat conductive powder, an irregular shaped conductive powder, a thermoplastic synthetic resin, and a solvent in order to provide a conductive paste capable of imparting good conductivity. As examples of thermoplastic synthetic resins, it is disclosed that epoxy resins, acrylic resins, phenoxy resins, ethyl cellulose, polyvinyl butyral, and the like can be used.
Furthermore, Patent Document 9 discloses a conductive paste in which an epoxy equivalent exceeds 500 and an epoxy resin having a molecular weight exceeding 10,000 is dissolved in a solvent having a boiling point of 200 to 250 ° C. and a conductive filler is dispersed. Yes.

特許文献10には、導電粉、ポリエステル樹脂及びイソシアネート化合物から成る、耐熱衝撃性や耐屈曲性を付与した導電性ペーストが開示されている。
また、特許文献11には、導電性金属粉末、ウレタン変性ポリエステル樹脂、及びブロックイソシアネートを含有する、耐屈曲性に優れた導電性ペーストが開示されている。
Patent Document 10 discloses a conductive paste made of conductive powder, a polyester resin and an isocyanate compound and imparted with thermal shock resistance and bending resistance.
Patent Document 11 discloses a conductive paste having excellent bending resistance, which contains conductive metal powder, urethane-modified polyester resin, and blocked isocyanate.

特許文献12には、銀粉末と銀コート銅粉末を主成分とする導電性フィラーと、バインダー樹脂とを必須成分とし、銀コート銅粉末の含有量を導電性フィラー全体の1重量%〜40重量%とする組成が提案されている。
特許文献13には、導電フィラーと、エポキシ変性ポリエステル樹脂とフェノール樹脂との複合樹脂からなるバインダーと、溶剤とから構成されるものが開示されている。
特許文献14には、銅粉末と、フェノール系樹脂、エポキシ系樹脂およびアクリル系樹脂から選ばれた少なくもと1種の樹脂と、銅キレート化剤と、グリセリンとを特定の割合で含有する導電性ペーストが開示されている。
特許文献15には、銅粉末又は銅合金粉の表面が部分的に銀で被覆された金属粉と、エポキシ樹脂とイミダゾールとを特定の割合で含有する導電性接着ペーストが開示されている。
特許文献16には、X線回折法により特定される導電性フィラーと、バインダー樹脂とを含有する導電性ペーストが開示されている。
In Patent Document 12, a conductive filler mainly composed of silver powder and silver-coated copper powder and a binder resin are essential components, and the content of the silver-coated copper powder is 1% by weight to 40% by weight of the entire conductive filler. % Composition is proposed.
Patent Document 13 discloses a material composed of a conductive filler, a binder made of a composite resin of an epoxy-modified polyester resin and a phenol resin, and a solvent.
Patent Document 14 discloses a conductive material containing copper powder, at least one resin selected from phenolic resins, epoxy resins, and acrylic resins, a copper chelating agent, and glycerin in a specific ratio. A sex paste is disclosed.
Patent Document 15 discloses a conductive adhesive paste containing metal powder in which the surface of copper powder or copper alloy powder is partially coated with silver, and an epoxy resin and imidazole in a specific ratio.
Patent Document 16 discloses a conductive paste containing a conductive filler specified by an X-ray diffraction method and a binder resin.

特開平06−68924号公報Japanese Patent Application Laid-Open No. 06-68924 国際公開第2003/103352号International Publication No. 2003/103352 特開2003−238876号公報JP 2003-238876 A 特開2001−234106号公報JP 2001-234106 A 特開2005−29639号公報JP 2005-29639 A 特開2006−310022号公報JP 2006-310022 A 特開2003−68139号公報JP 2003-68139 A 特開2003−331648号公報JP 2003-331648 A 特開2005−183301号公報JP-A-2005-183301 特開2006−100081号公報JP 2006-100081 A 特開2010−118280号公報JP 2010-118280 A 特開2007−227156号公報JP 2007-227156 A 特開2003−68141号公報JP 2003-68141 A 特開昭62−160603号公報JP-A 62-160603 特開2009−245938号公報JP 2009-245938 A 特開2005−293851号公報JP 2005-293551 A

しかしながら、導電性インキに求められる特性、性能は厳しく、より優れた導電性インキが求められている。   However, the characteristics and performance required for conductive ink are severe, and more excellent conductive ink is required.

導電性インキは、上記特許文献4のような高温焼成型と、低温処理型に分類することができる。高温焼成型は、導電パターンを形成する際に基材や電子部品に高温を加えるので、電子部品にダメージを与えたり、熱収縮などによる問題が生じたりしやすい。このため、近年においては、低温処理型の需要が急速に高まっている。
また、製品の歩留まり向上、製造コスト低減の観点から、製造工程の簡便化が求められている。このため、上記特許文献1のように溶剤吸収層を設ける工程や、上記特許文献2のように基材の粗面化工程を行う工程を経ずに印刷できる導電性インキが求められている。
The conductive ink can be classified into a high-temperature firing type as in Patent Document 4 and a low-temperature treatment type. The high-temperature firing type applies a high temperature to the base material and the electronic component when forming the conductive pattern, and thus easily damages the electronic component and causes problems due to heat shrinkage. For this reason, in recent years, the demand for a low-temperature treatment type is rapidly increasing.
Moreover, simplification of a manufacturing process is calculated | required from a viewpoint of the product yield improvement and manufacturing cost reduction. For this reason, there is a need for a conductive ink that can be printed without the process of providing a solvent absorption layer as in Patent Document 1 or the process of roughening a substrate as in Patent Document 2.

また、近年においては、導電性インキの印刷の高精細化も求められている。例えば、導電回路パターンの高精細化に対応すべく、100μm以下の幅のライン/スペース(100μm以下/100μm以下)(以下、「L/S」と略記する)の形成が可能なパターン性能が求められている。また、携帯電話、ゲーム機等の携帯端末の小型化、タッチスクリーンパネルの導入等により、導電回路パターンの高精細化は更に進んでおり、より微細な60μm以下の幅のL/S(60μm以下/60μm以下)の形成が可能なパターン性能も求められている。   In recent years, high-definition printing of conductive ink is also required. For example, a pattern performance capable of forming a line / space with a width of 100 μm or less (100 μm or less / 100 μm or less) (hereinafter abbreviated as “L / S”) is required in order to cope with higher definition of conductive circuit patterns. It has been. In addition, due to the downsizing of mobile terminals such as mobile phones and game machines, the introduction of touch screen panels, etc., the definition of conductive circuit patterns has been further increased, and a finer L / S (60 μm or less) with a width of 60 μm or less. / 60 μm or less) is also required.

導電性インキの印刷方式には、特許文献4のような平版オフセット印刷法や、スクリーン印刷法などが知られている。このうち、スクリーン印刷法によれば、数μm以上の厚みの印刷パターンを確保することが可能である。一方、平版オフセット印刷法などの他の方法によれば、1〜2μm程度の厚みの印刷パターンを形成するのが限界となる。このため、スクリーン印刷法は、導電性回路等の導電パターンの低抵抗化を実現するために好適である。   As a printing method of conductive ink, a lithographic offset printing method as disclosed in Patent Document 4, a screen printing method, and the like are known. Among these, according to the screen printing method, it is possible to ensure a printing pattern having a thickness of several μm or more. On the other hand, according to other methods such as a planographic offset printing method, it is a limit to form a printing pattern having a thickness of about 1 to 2 μm. For this reason, the screen printing method is suitable for realizing a reduction in resistance of a conductive pattern such as a conductive circuit.

しかしながら、スクリーン印刷法は、特許文献4にも記載されているように、本来、高精細な印刷精度が求められる用途・分野には不向きではあるという問題がある。これは、スクリーン印刷法は、スクリーン刷版上にスクリーン印刷インキを盛り、スキージ等で押圧しながら、スクリーン刷版の開口部の網目を通して印刷インキを印刷する方法であることによる。つまり、スクリーン印刷法は、スキージ等で押圧することでスクリーン刷版を撓ませ、印刷する方法であることによる。このため、スクリーン印刷法によって、例えば、100μm以下のL/Sの配線パターンを形成しようとしても、目標とする線幅よりも印刷物の線幅が大きくなるのが実情である。その結果、隣り合う配線同士が接近したり、接触したりするという問題や、配線のエッジ部が滲んで境界線が不明瞭になる等の問題が生じてしまう。   However, as described in Patent Document 4, the screen printing method has a problem that it is not suitable for applications and fields where high-definition printing accuracy is originally required. This is because the screen printing method is a method in which the printing ink is printed on the screen printing plate through the mesh of the opening of the screen printing plate while being filled with the screen printing ink and pressed with a squeegee or the like. That is, the screen printing method is a method of bending and printing the screen printing plate by pressing with a squeegee or the like. For this reason, even if an L / S wiring pattern of, for example, 100 μm or less is formed by the screen printing method, the actual situation is that the line width of the printed material becomes larger than the target line width. As a result, problems such as adjacent wirings approaching or contacting each other and problems such as blurring of edge portions of wirings resulting in unclear borders are caused.

このような問題が生じる理由は、一般的な印刷インキに比して導電性インキに含有される導電性粒子の比重が大きく、かつその含有量が極めて多いためである。導電性インキをスクリーン版の開口部から通過させ、基材に転移後、乾燥・固化するまでの間に、導電性粒子自身の重量等によって、印刷領域よりも外側にはみ出すように流れて広がり易い。かかる問題は、L/Sの配線パターンが100μm以下に相当する高精細なパターンにおいて特に顕著となる。   The reason why such a problem occurs is that the specific gravity of the conductive particles contained in the conductive ink is larger than that of a general printing ink, and the content thereof is extremely large. The conductive ink passes through the opening of the screen plate, and after it is transferred to the base material, it is easy to flow and spread out from the printing area due to the weight of the conductive particles itself, etc., until it is dried and solidified. . Such a problem is particularly noticeable in a high-definition pattern in which the L / S wiring pattern corresponds to 100 μm or less.

また、高精細な導電パターン(回路パターン)を印刷するためには、微細なスクリーンメッシュを使用する必要がある。微細なスクリーンメッシュを使用するためには、できるだけ粒径の小さい導電性粒子を使用することが好ましい。しかし、粒径の小さい導電性粒子は、粒径の大きいものに比して、印刷後の乾燥・固化中の導電性インキに含まれる溶剤やバインダー樹脂の動きに乗って流動しやすい。このため、印刷領域より外側にはみ出す、線幅の「太り」現象がより生じ易くなる。   Further, in order to print a high-definition conductive pattern (circuit pattern), it is necessary to use a fine screen mesh. In order to use a fine screen mesh, it is preferable to use conductive particles having a particle size as small as possible. However, the conductive particles having a small particle size are more likely to flow on the movement of the solvent or binder resin contained in the conductive ink being dried and solidified after printing, as compared with those having a large particle size. For this reason, the “thickening” phenomenon of the line width that protrudes outside the printing region is more likely to occur.

また、近年において携帯電話、ゲーム機等の携帯端末、パーソナルコンピュター等に多く使用されているタッチスクリーンパネルに使用される導電回路パターンに要求される項目としては、前述の水平方向における高精細性のみならず、厚さ方向での平坦性も挙げられる。タッチスクリーンパネルの方式には各種あり、光学方式、超音波方式、抵抗膜方式、静電容量方式、圧電方式等が挙げられる。これらのうち、構造の単純さ等から抵抗膜方式が最も多く用いられている。抵抗膜方式のタッチパネルは、透明導電膜が形成された二枚の透明導電基板がおよそ10〜150μmの間隔を開けて対向配置されている。指、ペン等でタッチした部分において、両透明電極基板が接触してスイッチとして作動し、ディスプレイ画面上のメニューの選択、手書き文字の入力等を行うことが出来る。   In addition, the items required for the conductive circuit pattern used in touch screen panels that are frequently used in mobile terminals such as mobile phones and game machines in recent years, personal computers, etc., are only high-definition in the horizontal direction described above. In addition, flatness in the thickness direction is also mentioned. There are various types of touch screen panels, and examples include an optical method, an ultrasonic method, a resistive film method, a capacitance method, and a piezoelectric method. Of these, the resistive film method is most often used because of the simplicity of the structure. In the resistive film type touch panel, two transparent conductive substrates on which a transparent conductive film is formed are arranged to face each other with an interval of approximately 10 to 150 μm. In the part touched with a finger, a pen or the like, both transparent electrode substrates come into contact with each other and operate as a switch to select a menu on the display screen, input a handwritten character, and the like.

抵抗膜方式のタッチスクリーンパネルの構造を更に詳細に説明する。
例えば、透明なプラスチックフィルム上に錫をドープした酸化インジウム(以下、ITOという)によりプラスチックフィルムが部分的に露出するように透明導電膜が設けられ、このプラスチックフィルム及び透明導電膜の上に導電性インキを用いて導電性回路(導電パターンともいう)が形成される。そして、導電性回路の上に絶縁層が形成され、透明導電性基板となる。次いで、透明導電膜同士が直に接触ないような間隔を開け、向かい合うような状態で、2枚の透明導電性基板が、両面粘着剤で貼り合わされる。
The structure of the resistive film type touch screen panel will be described in more detail.
For example, a transparent conductive film is provided on a transparent plastic film so that the plastic film is partially exposed by indium oxide doped with tin (hereinafter referred to as ITO), and the conductive film is formed on the plastic film and the transparent conductive film. A conductive circuit (also referred to as a conductive pattern) is formed using ink. And an insulating layer is formed on a conductive circuit, and becomes a transparent conductive substrate. Next, two transparent conductive substrates are bonded together with a double-sided pressure-sensitive adhesive in a state where the transparent conductive films are not directly in contact with each other and are opposed to each other.

しかしながら、水平方向における高精細性が良好でも、厚さ方向で導電性回路に凹凸があると、導電性回路の上に設けられる絶縁層から導電性回路の凸部が突出するおそれがある。厚さ方向で導電性回路の凸部が絶縁層から突出すると、突出部分回路が酸化するなど、製品性能が著しく劣化しやすくなり、製品の歩留まりの低下、製造コスト高に直結する。導電性回路の絶縁層からの突出を回避するためには、絶縁層を十分厚くする方法があるが、「薄型化」という時代の要請に逆行する。従って、導電性回路には厚さ方向の平坦性(平滑性)が求められる。
しかも、生産性向上の観点から、水平方向での高精細性及び厚さ方向の平坦性に優れる導電性回路を、高速印刷で生産することが求められている。
However, even if high definition in the horizontal direction is good, if the conductive circuit is uneven in the thickness direction, the convex portion of the conductive circuit may protrude from the insulating layer provided on the conductive circuit. If the convex portion of the conductive circuit protrudes from the insulating layer in the thickness direction, the product performance is likely to deteriorate significantly, such as oxidation of the protruding partial circuit, which directly leads to a decrease in product yield and a high manufacturing cost. In order to avoid the protrusion of the conductive circuit from the insulating layer, there is a method of making the insulating layer sufficiently thick, but it goes against the demand of the age of “thinning”. Accordingly, the conductive circuit is required to have flatness (smoothness) in the thickness direction.
In addition, from the viewpoint of improving productivity, it is required to produce a conductive circuit excellent in high definition in the horizontal direction and flatness in the thickness direction by high-speed printing.

さらにプラスチックフィルムという基材の特性を活かし、長尺(web)状の中間製品や製品の巻き取り、巻き出し等の製造工程がタッチスクリーンパネルの製造に導入されることがある、従って、導電性回路には屈曲性(柔軟性)も求められる。   Furthermore, taking advantage of the characteristics of a plastic film substrate, manufacturing processes such as long web intermediate products and product winding and unwinding may be introduced into touch screen panel manufacturing. The circuit is also required to have flexibility (flexibility).

また、タッチスクリーンパネルには、高温環境下、高温高湿環境下、ヒートサイクル試験等、種々の条件での耐久性が求められる。
例えば、カーナビ等に用いられる車載用のタッチパネルは、寒冷地で使用されることも酷暑の中で使用されることもある。また、携帯電話に使用されるタッチパネルは、浴室等の高温高湿環境下で使用されることがある。
従って、導電性回路には、種々の条件での耐久性、具体的には種々の条件での抵抗値安定性、密着性維持等が求められる。特許文献10、11に開示されるようなポリエステル樹脂をバインダー樹脂とする場合、ポリエステル樹脂が加水分解されやすく、各種耐久性試験により導電性回路の抵抗値が低下したり、密着性が悪化したりする。
また、導電性回路を設けることによってプラスチックフィルムが反ると、積層印刷時の位置精度や、組み立て時の後工程における作業性の低下につながり、また、回路自信も密着性を損ない易く、抵抗値も不安定になり易いので、導電性回路を設けてもプラスチックフィルムができるだけ反らないことも望まれる。
Further, the touch screen panel is required to have durability under various conditions such as a high temperature environment, a high temperature and high humidity environment, and a heat cycle test.
For example, a vehicle-mounted touch panel used for a car navigation system or the like may be used in a cold region or in extreme heat. A touch panel used for a mobile phone may be used in a high-temperature and high-humidity environment such as a bathroom.
Therefore, the conductive circuit is required to have durability under various conditions, specifically resistance value stability and adhesion maintenance under various conditions. When the polyester resin as disclosed in Patent Documents 10 and 11 is used as the binder resin, the polyester resin is easily hydrolyzed, and the resistance value of the conductive circuit is lowered or the adhesion is deteriorated by various durability tests. To do.
Also, if the plastic film is warped by providing a conductive circuit, it will lead to a decrease in positional accuracy during laminating printing and workability in the subsequent process during assembly. Therefore, it is also desirable that the plastic film does not warp as much as possible even if a conductive circuit is provided.

本発明は、上記背景に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、いわゆる高温焼成型ではなく、低温処理型の導電性インキであって、かつ、高速のスクリーン印刷によって、水平方向おいて高精細な、且つ厚さ方向において平坦な、屈曲性に優れ、反りが少なく、耐久性に優れる導電性パターンを連続して形成することが可能であり、さらに、特殊な製造工程を必須とせず、かつ、抵抗値安定性に優れた導電性インキと、それを用いた導電パターン付き積層体およびその製造方法を提供することである。   The present invention has been made in view of the above-mentioned background, and its object is not a so-called high-temperature firing type, but a low-temperature treatment type conductive ink, and can be applied in a horizontal direction by high-speed screen printing. In addition, it is possible to continuously form a conductive pattern with high definition and flatness in the thickness direction, excellent flexibility, low warpage, and excellent durability, and a special manufacturing process is essential. In addition, the present invention provides a conductive ink excellent in resistance value stability, a laminate with a conductive pattern using the same, and a method for producing the same.

本発明は、タップ密度の異なる2種類の導電性粒子を特定の割合で含有すると共に、いわゆるバインダー樹脂として特定のビスフェノール型エポキシ樹脂とアクリル系エラストマーを特定の割合で併用し、さらに特定量の金属キレート及び硬化剤を含有することにより、上記目的を達成した。
即ち、本発明は、タップ密度が4.5〜7(g/cm3)であり、D50粒子径が0.1〜3μmの導電性粒子(A1)と、タップ密度が0.5〜3.5(g/cm3)であり、D50粒子径が0.1〜3μmの導電性粒子(A2)とを、0.25≦[(A1)/(A2)]≦4(重量比)の割合で含有し、
ポリスチレン換算の重量平均分子量(Mw)が10,000〜100,000であり、水酸基価2〜300(mgKOH/g)のビスフェノール型エポキシ樹脂(B1)と、ガラス転移温度が−50〜25℃、ムーニー粘度が10〜90のアクリル系エラストマー(B2)とを、9≧[(B1)/(B2)]≧0.1(重量比)の割合で含有し、
前記エポキシ樹脂(B1)と前記アクリル系エラストマー(B2)との合計100重量部に対して、金属キレート(C)を0.2〜20重量部含有し、
前記エポキシ樹脂(B1)と前記アクリル系エラストマー(B2)との合計100重量部に対して、前記エポキシ樹脂の有する水酸基又はエポキシ基の少なくともいずれか一方と反応し得る官能基を有する硬化剤(D)を1〜40重量部含有し、
有機溶剤を除く成分の合計100重量%中、(A1)及び(A2)の合計量が55〜97.5重量%である、導電性インキに関する。
The present invention contains two kinds of conductive particles having different tap densities in a specific ratio, and also uses a specific bisphenol type epoxy resin and an acrylic elastomer as a so-called binder resin in a specific ratio, and further a specific amount of metal The above object was achieved by containing a chelate and a curing agent.
That is, the present invention has a tap density of 4.5 to 7 (g / cm 3 ), a D50 particle diameter of 0.1 to 3 μm of conductive particles (A1), and a tap density of 0.5 to 3. 5 (g / cm 3 ) and D50 particle diameters of 0.1 to 3 μm of conductive particles (A2) in a ratio of 0.25 ≦ [(A1) / (A2)] ≦ 4 (weight ratio) Contained in
A polystyrene-reduced weight average molecular weight (Mw) of 10,000 to 100,000, a bisphenol type epoxy resin (B1) having a hydroxyl value of 2 to 300 (mgKOH / g), a glass transition temperature of −50 to 25 ° C., An acrylic elastomer (B2) having a Mooney viscosity of 10 to 90 in a ratio of 9 ≧ [(B1) / (B2)] ≧ 0.1 (weight ratio);
0.2 to 20 parts by weight of metal chelate (C) is contained with respect to 100 parts by weight of the total of the epoxy resin (B1) and the acrylic elastomer (B2),
A curing agent having a functional group capable of reacting with at least one of a hydroxyl group and an epoxy group of the epoxy resin with respect to a total of 100 parts by weight of the epoxy resin (B1) and the acrylic elastomer (B2) (D 1) to 40 parts by weight,
The present invention relates to a conductive ink in which the total amount of (A1) and (A2) is 55 to 97.5% by weight in 100% by weight of the components excluding the organic solvent.

前記発明において、前記導電性粒子(A1)及び(A2)は、銀ないし銀メッキ粉であることが好ましい。
前記発明において、前記金属キレート(C)は、アルミニウムキレート、チタンキレート及びジルコニウムキレートからなる群より選ばれる一種以上であることが好ましく、アルミニウムキレートであることがより好ましい。アルミニウムキレート(C)は、アセチルアセトネート基、メチルアセトアセテート基およびエチルアセトアセテート基からなる群より選ばれる基を有することが好ましい。
前記発明において、前記硬化剤(D)は、イソシアネート化合物、アミン化合物、酸無水物化合物、メルカプト化合物、イミダゾール化合物、ジシアンジアミド化合物及び有機酸ヒドラジド化合物からなる群より選ばれる一種以上であることが好ましい。
In the invention, the conductive particles (A1) and (A2) are preferably silver or silver plating powder.
In the invention, the metal chelate (C) is preferably at least one selected from the group consisting of an aluminum chelate, a titanium chelate and a zirconium chelate, and more preferably an aluminum chelate. The aluminum chelate (C) preferably has a group selected from the group consisting of an acetylacetonate group, a methylacetoacetate group and an ethylacetoacetate group.
In the present invention, the curing agent (D) is preferably at least one selected from the group consisting of isocyanate compounds, amine compounds, acid anhydride compounds, mercapto compounds, imidazole compounds, dicyandiamide compounds, and organic acid hydrazide compounds.

また、前記発明の導電性インキは、スクリーン印刷用であることが好ましい。   The conductive ink of the invention is preferably for screen printing.

さらに、本発明は、
基材と、前記基材上に形成された導電パターンと、を具備し、
前記導電パターンが、前記発明のいずれかに記載の導電性インキにより形成されている導電パターン付き積層体に関する。
Furthermore, the present invention provides
A base material, and a conductive pattern formed on the base material,
The said conductive pattern is related with the laminated body with a conductive pattern currently formed with the conductive ink in any one of the said invention.

前記発明の導電パターン付き積層体は、さらに前記導電パターンを被覆するように積層された絶縁層をさらに具備することが好ましい。   It is preferable that the laminated body with a conductive pattern of the invention further includes an insulating layer laminated so as to cover the conductive pattern.

さらに、本発明は、基材上に所望のパターン形状の導電パターンをスクリーン印刷により形成する工程を備え、
前記導電パターンが、前記発明のいずれかに記載の導電性インキを用いる導電パターン付き積層体の製造方法に関する。
Furthermore, the present invention comprises a step of forming a conductive pattern having a desired pattern shape on a substrate by screen printing,
The said conductive pattern is related with the manufacturing method of the laminated body with a conductive pattern using the conductive ink in any one of the said invention.

本発明の導電性インキにより、高速のスクリーン印刷によって、水平方向おいて高精細な、且つ厚さ方向において平坦な、屈曲性に優れ、反りが少なく、耐久性に優れる導電性パターンを連続して形成することができた。   With the conductive ink of the present invention, by conducting high-speed screen printing, a conductive pattern that is highly fine in the horizontal direction and flat in the thickness direction, excellent in flexibility, less warped, and excellent in durability is continuously provided. Could be formed.

導電性粒子(A1)及び(A2)
本発明の導電性インキは、前記したようにタップ密度の相違する導電性粒子(A1)と(A2)とを特定の割合で含有する。
Conductive particles (A1) and (A2)
As described above, the conductive ink of the present invention contains the conductive particles (A1) and (A2) having different tap densities in a specific ratio.

導電性粒子(A1)
導電性粒子(A1)は、タップ密度が4.5〜7(g/cm3)であり、好ましくは5〜6.5(g/cm3)である。
導電性粒子(A1)のタップ密度が4.5(g/cm3)より小さい場合、得られるインキの導電性が低下しやすくなり、導電性と微細印刷性との両立が困難になる。一方、導電性粒子(A1)のタップ密度が7(g/cm3)より大きい場合、後述する導電性粒子(A2)との密度差が大きすぎて、後述するエポキシ樹脂(A1)及びアクリル系エラストマー(A2)に均一に分散されにくくなり、結果的に得られるインキ中に導電性粒子由来の粗大粒子が残存し、粘弾性挙動や印刷適性に悪影響を及ぼすおそれがある。
Conductive particles (A1)
The conductive particles (A1) have a tap density of 4.5 to 7 (g / cm 3 ), preferably 5 to 6.5 (g / cm 3 ).
When the tap density of the conductive particles (A1) is smaller than 4.5 (g / cm 3 ), the conductivity of the obtained ink tends to be lowered, and it becomes difficult to achieve both conductivity and fine printability. On the other hand, when the tap density of the conductive particles (A1) is larger than 7 (g / cm 3 ), the density difference from the conductive particles (A2) described later is too large, and the epoxy resin (A1) and acrylic resin described later are used. It becomes difficult to uniformly disperse in the elastomer (A2), and coarse particles derived from conductive particles remain in the resulting ink, which may adversely affect the viscoelastic behavior and printability.

また、導電性粒子(A1)は、D50粒子径が0.1〜3μmであり、好ましくは0.2〜2μmである。
導電性粒子(A1)のD50粒子径が0.1μm未満の場合、粒子同士の接点の数が増え、粒子間で発生する接触抵抗の影響が大きくなるために、得られるインキの導電性が低下しやすくなる。一方、3μmより大きい場合、所望の微細印刷性が得られ難い。
The conductive particles (A1) have a D50 particle size of 0.1 to 3 μm, preferably 0.2 to 2 μm.
When the D50 particle diameter of the conductive particles (A1) is less than 0.1 μm, the number of contact points between the particles increases, and the influence of contact resistance generated between the particles increases, so that the conductivity of the obtained ink decreases. It becomes easy to do. On the other hand, when it is larger than 3 μm, it is difficult to obtain desired fine printability.

導電性粒子(A1)は、BET比表面積が0.1〜3(m2/g)であることが好ましく、0.5〜2(m2/g)であることがより好ましく、0.7〜1.5(m2/g)であることがさらに好ましい。
導電性粒子(A1)のBET比表面積が0.1(m2/g)未満の場合、所望の微細印刷性が得られ難く、3(m2/g)より大きい場合、所望の導電性が得られ難い。
The conductive particles (A1) preferably have a BET specific surface area of 0.1 to 3 (m 2 / g), more preferably 0.5 to 2 (m 2 / g), and 0.7 More preferably, it is -1.5 (m < 2 > / g).
When the BET specific surface area of the conductive particles (A1) is less than 0.1 (m 2 / g), the desired hard fine printability is obtained, 3 (m 2 / g) is greater than the desired conductivity It is difficult to obtain.

さらに、導電性粒子(A1)は、アスペクト比が1〜4であることが好ましく、1〜3.5であることがより好ましい。
導電性インキにおける導電性粒子のアスペクト比は、その値が大きいほど粒子が平面方向に配列しやすいため、形成された膜の導電性が向上する傾向にある。しかし、その値が大きすぎる場合は、スクリーン版に目詰まりが発生したり、スクリーン印刷できたとしても、導電性回路の形状が著しく乱れたりする。つまり、導電性粒子(A1)のアスペクト比が4.0より大きい場合、微細印刷性が著しく劣化し、本願のスクリーン印刷による微細配線形成に用いるには困難である。
Furthermore, the conductive particles (A1) preferably have an aspect ratio of 1 to 4, and more preferably 1 to 3.5.
As the aspect ratio of the conductive particles in the conductive ink is larger, the particles are more likely to be arranged in the plane direction, so that the conductivity of the formed film tends to be improved. However, when the value is too large, the screen plate is clogged, or even if screen printing can be performed, the shape of the conductive circuit is significantly disturbed. That is, when the aspect ratio of the conductive particles (A1) is larger than 4.0, the fine printability is remarkably deteriorated and it is difficult to use for forming fine wiring by screen printing of the present application.

導電性粒子(A2)
導電性粒子(A2)は、タップ密度が0.5〜3.5(g/cm3)であり、好ましくは1〜3(g/cm3)である。
導電性粒子(A2)のタップ密度が0.5(g/cm3)より小さい場合、前述の導電性粒子(A1)との密度差が大きすぎて、後述するエポキシ樹脂(A1)及びアクリル系エラストマー(A2)に均一に分散されにくくなり、結果的に得られるインキ中に導電性粒子由来の粗大粒子が残存し、粘弾性挙動や印刷適性に悪影響を及ぼすおそれがある。一方、導電性粒子(A2)のタップ密度が3.5(g/cm3)より大きい場合、得られるインキの微細印刷性が低下し、導電性と微細印刷性との両立が困難になる。
Conductive particles (A2)
The conductive particles (A2) have a tap density of 0.5 to 3.5 (g / cm 3 ), preferably 1 to 3 (g / cm 3 ).
When the tap density of the conductive particles (A2) is smaller than 0.5 (g / cm 3 ), the density difference from the conductive particles (A1) is too large, and the epoxy resin (A1) and acrylic system described later are used. It becomes difficult to uniformly disperse in the elastomer (A2), and coarse particles derived from conductive particles remain in the resulting ink, which may adversely affect the viscoelastic behavior and printability. On the other hand, when the tap density of the conductive particles (A2) is larger than 3.5 (g / cm 3 ), the fine printability of the obtained ink is lowered, and it is difficult to achieve both conductivity and fine printability.

また、導電性粒子(A2)のD50粒子径は、導電性粒子(A1)の場合と同様の理由により、0.1〜3μmであり、好ましくは0.2〜2μmである。   Moreover, the D50 particle diameter of electroconductive particle (A2) is 0.1-3 micrometers for the same reason as the case of electroconductive particle (A1), Preferably it is 0.2-2 micrometers.

導電性粒子(A2)は、BET比表面積が0.5〜3.5(m2/g)であることが好ましく、0.8〜3.5(m2/g)であることがより好ましく、1.5〜3(m2/g)であることがさらに好ましい。
導電性粒子(A1)のBET比表面積が0.5(m2/g)未満の場合、所望の微細印刷性が得られ難く、3.5(m2/g)より大きい場合、所望の導電性が得られ難い。
The conductive particles (A2) preferably have a BET specific surface area of 0.5 to 3.5 (m 2 / g), more preferably 0.8 to 3.5 (m 2 / g). 1.5 to 3 (m 2 / g) is more preferable.
When the BET specific surface area of the conductive particles (A1) is less than 0.5 (m 2 / g), the desired hard fine printability is obtained, 3.5 (m 2 / g) is greater than the desired conductive It is difficult to obtain sex.

さらに、導電性粒子(A2)のアスペクト比は、導電性粒子(A1)の場合と同様の理由により、1〜4であることが好ましく、1〜3.5であることがより好ましい。   Furthermore, the aspect ratio of the conductive particles (A2) is preferably 1 to 4 and more preferably 1 to 3.5 for the same reason as in the case of the conductive particles (A1).

前記の導電性粒子(A1)、(A2)としては、例えば、金、銀、銅、銀メッキ銅粉、銀−銅複合粉、銀−銅合金、アモルファス銅、ニッケル、クロム、パラジウム、ロジウム、ルテニウム、インジウム、ケイ素、アルミニウム、タングステン、モルブテン、白金等の金属粉、これらの金属で被覆した無機物粉体、酸化銀、酸化インジウム、酸化スズ、酸化亜鉛、酸化ルテニウム等の金属酸化物の粉末、これらの金属酸化物で被覆した無機物粉末、おとびカーボンブラック、グラファイト等を用いることができる。これらの導電性粒子(A1)、(A2)は、それぞれ1種または2種以上組み合わせて用いても良い。これらの導電性粒子のなかでも、導電性や安定性、酸化による抵抗率の上昇が少ない等の理由で、銀または銀メッキ粉を用いることが好ましい。   Examples of the conductive particles (A1) and (A2) include gold, silver, copper, silver-plated copper powder, silver-copper composite powder, silver-copper alloy, amorphous copper, nickel, chromium, palladium, rhodium, Metal powder such as ruthenium, indium, silicon, aluminum, tungsten, morphbutene, platinum, inorganic powder coated with these metals, powder of metal oxide such as silver oxide, indium oxide, tin oxide, zinc oxide, ruthenium oxide, Inorganic powders coated with these metal oxides, and carbon black, graphite and the like can be used. These conductive particles (A1) and (A2) may be used alone or in combination of two or more. Among these conductive particles, it is preferable to use silver or silver plating powder for reasons such as conductivity, stability, and a small increase in resistivity due to oxidation.

これら導電性粒子(A1)、(A2)の形状は、上記特性を満たしていれば特に限定されず、不定形、凝集状、鱗片状、微結晶状、球状、フレーク状等を適宜用いることができる。高精細パターンの印刷性の観点や導体パターンの基材への密着性の観点から、粒径の小さな球状のものや、凝集状のものであっても、凝集体として比較的小さいものが好ましい。   The shape of these conductive particles (A1) and (A2) is not particularly limited as long as the above properties are satisfied, and an irregular shape, agglomerated shape, a scale shape, a microcrystalline shape, a spherical shape, a flake shape, and the like are appropriately used. it can. From the viewpoint of the printability of the high-definition pattern and the adhesiveness of the conductor pattern to the substrate, a spherical or small aggregate having a small particle size is preferable as a relatively small aggregate.

タップ密度の相違する導電性粒子(A1)と(A2)とを特定の割合で併用することは、高速印刷時の高精細性と平坦性、高導電性の確保にとって重要である。
即ち、本発明において、導電性粒子(A1)と導電性粒子(B1)の配合比[(A1)/(A2)]は、0.25≦[(A1)/(A2)]≦4であり、好ましくは0.33≦[(A1)/(A2)]≦3である。
[(A1)/(A2)]が0.25より小さかったり、導電性粒子(A2)のみを用いたりすると、導電性回路の導電性及び平坦性が劣る。一方、[(A1)/(A2)]が4より大きかったり、導電性粒子(A1)のみを用いたりすると、導電性回路の高精細さが劣り、ヒートサイクル試験によって密着性が著しく悪化したりする。
Using the conductive particles (A1) and (A2) having different tap densities in a specific ratio is important for ensuring high definition, flatness, and high conductivity during high-speed printing.
That is, in the present invention, the blending ratio [(A1) / (A2)] of the conductive particles (A1) and the conductive particles (B1) is 0.25 ≦ [(A1) / (A2)] ≦ 4. Preferably, 0.33 ≦ [(A1) / (A2)] ≦ 3.
When [(A1) / (A2)] is smaller than 0.25 or only the conductive particles (A2) are used, the conductivity and flatness of the conductive circuit are inferior. On the other hand, if [(A1) / (A2)] is larger than 4 or only the conductive particles (A1) are used, the high definition of the conductive circuit is inferior, and the adhesion is significantly deteriorated by the heat cycle test. To do.

さらに、本発明の導電性インキは、導電性粒子(A1)、(A2)の含有量が重要である。
本発明の導電性インキは、有機溶剤を除く成分の合計100重量%中、(A1)及び(A2)の合計量が55〜97.5重量%であり、60〜95重量%であることが好ましく、80〜93重量%であることがより好ましい。導電性粒子が55重量%未満では導電性が十分ではなく、97.5重量%を越えると、導電性粒子にとって結着成分として機能するバインダー樹脂が少なくなり、導電性インキの基材への密着性、塗膜の機械強度が低下する恐れがあり、好ましくない。
なお、「有機溶剤を除く成分」とは、おおまかには導電性粒子(A1)、(A2)、後述するビスフェノール型エポキシ樹脂(B1)、アクリル系エラストマー(B2)、金属キレート(C)及び硬化剤(D)ということができる。
Further, in the conductive ink of the present invention, the content of the conductive particles (A1) and (A2) is important.
The conductive ink of the present invention has a total amount of (A1) and (A2) of 55 to 97.5% by weight and 60 to 95% by weight in a total of 100% by weight of the components excluding the organic solvent. Preferably, it is 80 to 93% by weight. If the conductive particles are less than 55% by weight, the conductivity is not sufficient, and if it exceeds 97.5% by weight, the binder resin that functions as a binder component for the conductive particles decreases, and the conductive ink adheres to the substrate. And the mechanical strength of the coating film may be lowered, which is not preferable.
The “component other than the organic solvent” roughly includes conductive particles (A1) and (A2), bisphenol type epoxy resin (B1), acrylic elastomer (B2), metal chelate (C), and curing described below. It can be called agent (D).

以下、タップ密度、D50粒子径、BET比表面積、アスペクト比について説明する。
<タップ密度>
タップ密度とは、一定容器中に一定量の粉体を上下に加振しながら入れた後の体積当たりの重量をいう。一般的には、この値が大きいほど粒子の充填密度が大きく、導電性粒子の場合、粒子同士の接触点が増えるため、良好な導電性を得ることができる。反面、タップ密度が大きすぎると、粒子同士の接触過多により、接触抵抗の影響が大きくなって導電性が低下したり、導電性インキとしての流動性が阻害されたり、形成した導電性回路の耐折り曲げ性が悪化したり、形成した導電性回路にクラックが発生したりし易くなる。
なお、本発明のタップ密度は、JIS Z 2512:2006法に基づいて測定した。
具体的には、目盛り付きガラス容器(容量100ml)に、導電性粒子(粉体量100g)を採取し、所定のタッチング装置にてタップストローク3mm、タップ回数100回/分の条件にてタップした。
Hereinafter, the tap density, the D50 particle diameter, the BET specific surface area, and the aspect ratio will be described.
<Tap density>
The tap density refers to the weight per volume after a certain amount of powder is placed in a certain container while being shaken up and down. In general, the larger the value, the larger the packing density of the particles, and in the case of conductive particles, the number of contact points between the particles increases, so that good conductivity can be obtained. On the other hand, if the tap density is too high, the influence of contact resistance increases due to excessive contact between particles, the conductivity is lowered, the fluidity as a conductive ink is hindered, or the resistance of the formed conductive circuit is deteriorated. The bendability is deteriorated and cracks are easily generated in the formed conductive circuit.
In addition, the tap density of this invention was measured based on JISZ2512: 2006 method.
Specifically, conductive particles (powder amount 100 g) were collected in a graduated glass container (capacity 100 ml) and tapped with a predetermined touching device under a tap stroke of 3 mm and a tap count of 100 times / minute. .

<D50粒子径>
本発明において、導電性粒子のD50粒子径は、島津製作所社製レーザー回折粒度分布測定装置「SALAD−3000」を用いて測定した体積粒度分布の累積粒度50%の値を「D50粒子径」とした。
<D50 particle size>
In the present invention, the D50 particle size of the conductive particles is the cumulative particle size 50% of the volume particle size distribution measured using a laser diffraction particle size distribution measuring device “SALAD-3000” manufactured by Shimadzu Corporation as “D50 particle size”. did.

<BET比表面積>
BET比表面積とは、不活性気体の低温低湿物理吸着を利用し、粉体粒子表面に吸着占有面積の判った分子を液体窒素の温度で吸着させ、その量から試料の比表面積を求めた値である。
本発明において、BET比表面積は、島津製作所製流動式比表面積測定装置「フローソーブII」を用いて測定した表面積より、以下の計算式により算出した値を比表面積と定義
し、記載した。
比表面積(m2/g)= 表面積(m2) / 粉末質量(g)
<BET specific surface area>
BET specific surface area is a value obtained by using low-temperature and low-humidity physical adsorption of inert gas, adsorbing molecules with a known adsorption area on the surface of powder particles at the temperature of liquid nitrogen, and obtaining the specific surface area of the sample from the amount. It is.
In the present invention, the BET specific surface area is described by defining the value calculated by the following calculation formula from the surface area measured using the flow type specific surface area measuring device “Flowsorb II” manufactured by Shimadzu Corporation.
Specific surface area (m 2 / g) = surface area (m 2 ) / powder mass (g)

<アスペクト比>
任意のバインダー樹脂に導電性粒子を分散してなる導電性インキをガラス板の上に適量を印刷し、乾燥ないし硬化反応が終了するのに必要な熱量を加え、導電性インキの固化した物ないし硬化物を得、その硬化物等の断面をSEM観察し、30個以上無作為に選択した粒子の長軸方向の長さと短軸方向の長さとを測定した。各粒子の長軸方向の長さを短軸方向の長さで除した値の、30個以上の平均値を求め、アスペクト比とした。
<Aspect ratio>
Print an appropriate amount of conductive ink in which conductive particles are dispersed in an arbitrary binder resin on a glass plate, add the amount of heat necessary to complete the drying or curing reaction, and solidify the conductive ink or A cured product was obtained, and the cross section of the cured product was observed with an SEM, and the length in the major axis direction and the length in the minor axis direction of 30 or more randomly selected particles were measured. An average value of 30 or more of values obtained by dividing the length in the major axis direction of each particle by the length in the minor axis direction was determined and used as the aspect ratio.

バインダー樹脂
本発明の導電性インキは、いわゆるバインダー樹脂として特定のビスフェノール型エポキシ樹脂(B1)とアクリル系エラストマー(B2)とを特定の割合で併用する。
ビスフェノール型エポキシ樹脂(B1)とアクリル系エラストマー(B2)と特定量の範囲で併用することで、転移後の導電パターンのダレ・太りと、ポリエステルフィルムなどの柔軟なフィルム基材への密着性と、良好な版離れという、それぞれ相反する性質を制御し、スクリーン版のパターンに対し微細線及び比較的大きな面積部分の正確な印刷性を確保し、厚さ方向の平坦性も確保できる。また、ポリエステル樹脂やポリウレタン樹脂等の他樹脂を用いて作成した導電性インキに比べ、ビスフェノール型エポキシ樹脂(B1)とアクリル系エラストマー(B2)と特定量の範囲で併用することで、より抵抗値が低い導電性回路を形成できる。
Binder Resin The conductive ink of the present invention uses a specific bisphenol type epoxy resin (B1) and an acrylic elastomer (B2) in combination at a specific ratio as a so-called binder resin.
By using bisphenol-type epoxy resin (B1) and acrylic elastomer (B2) in a specific amount range, the sagging / thickness of the conductive pattern after the transition and the adhesion to a flexible film substrate such as a polyester film In addition, it is possible to control the mutually contradictory properties of good plate separation, to ensure accurate printability of fine lines and relatively large area portions on the screen plate pattern, and to ensure flatness in the thickness direction. In addition, compared to conductive inks made using other resins such as polyester resin and polyurethane resin, the resistance value is increased by using bisphenol type epoxy resin (B1) and acrylic elastomer (B2) together in a specific amount range. Can form a conductive circuit with low current.

ビスフェノール型エポキシ樹脂(B1)
本発明でいうエポキシ樹脂とは、分子内に2つのフェノール性水酸基を有するビスフェノール類とエピクロルヒドリンとを所定の分子量まで縮合させてなるジグリシジルエーテルや、前記ビスフェノール類と前記ジグリシジルエーテルとを所定の分子量まで縮合させたりしてなるエポキシ樹脂を示す。
Bisphenol type epoxy resin (B1)
The epoxy resin as used in the present invention refers to diglycidyl ether obtained by condensing bisphenols having two phenolic hydroxyl groups in the molecule and epichlorohydrin to a predetermined molecular weight, or the bisphenols and diglycidyl ether having a predetermined value. An epoxy resin obtained by condensation to molecular weight is shown.

分子内に2つのフェノール性水酸基を有するビスフェノール類としては、例えばビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS、ビスフェノールAD、ビフェノール、ビスフェノールAP、ビスフェノールC、ビスフェノールE、ビスフェノールZ、ビスフェノールB、ビスフェノールIBTD、ビスフェノールCP、ビスフェノールBA、ビスフェノールIOTD、ビスフェノールDED、ビスフェノールPRD、ビスフェノールIPTD、ビスフェノールDEK、ビスフェノールMZ、ビスフェノールOT、ビスフェノールNO、ビスフェノールDE、ビスフェノールIPZ、ビスフェノールDE、ビスフェノールFL、ビスフェノールLAD、ビスフェノールPED、ビスフェノールDP、ビスフェノールnBZ、ビスフェノールFBA、ビスフェノールMPK、ビスフェノールTCD、ビスフェノール3MZ、ビスフェノールZ4Sが挙げられる。   Examples of bisphenols having two phenolic hydroxyl groups in the molecule include bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, bisphenol AD, biphenol, bisphenol AP, bisphenol C, bisphenol E, bisphenol Z, bisphenol B, bisphenol IBTD, and bisphenol CP. , Bisphenol BA, bisphenol IOTD, bisphenol DED, bisphenol PRD, bisphenol IPTD, bisphenol DEK, bisphenol MZ, bisphenol OT, bisphenol NO, bisphenol DE, bisphenol IPZ, bisphenol DE, bisphenol FL, bisphenol LAD, bisphenol PED, bisphenol DP, bisphenol nBZ, Bisfe Lumpur FBA, bisphenol MPK, bisphenol TCD, bisphenol 3mz, include bisphenol Z4S.

ビスフェノール型エポキシ樹脂(B1)としては、フェノキシ樹脂として市販されるものを使用することもでき、常法、例えば特開平07−109331号公報、特開平10−77329号公報、特開平11−147930号公報、特開2006−36801号公報等に記載されるように、アルカリ触媒の種類と量、用いる有機溶剤の種類と量、反応温度と時間等を適宜調整してなるものを用いることもできる。
本発明において用いられるビスフェノール型エポキシ樹脂(B1)としては、例えば三菱化学株式会社製「jERシリーズ」、新日鐵化学株式会社製「エポトートシリーズ」、「フェノトートシリーズ」、ナガセケムテックス株式会社製「デナコールシリーズ」、などを用いることができ、これらは単独で使用、あるいは複数を併用してもよい。
As the bisphenol type epoxy resin (B1), those commercially available as phenoxy resins can be used. For example, JP 07-109331 A, JP 10-77329 A, and JP 11-147930 A can be used. As described in Japanese Patent Laid-Open No. 2006-36801, etc., it is also possible to use a material obtained by appropriately adjusting the type and amount of an alkali catalyst, the type and amount of an organic solvent to be used, the reaction temperature and time, and the like.
Examples of the bisphenol type epoxy resin (B1) used in the present invention include "jER series" manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, "Epototo series" manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd., "Phenotote series", and Nagase ChemteX Corporation. “Denacol Series” manufactured by the Company can be used, and these may be used alone or in combination.

本発明に用いられるビスフェノール型エポキシ樹脂(B1)は、エポキシ基及び水酸基を有し、ポリスチレン換算の重量均分子量(Mw)が、5,000〜100,000であることが重要であり、好ましくは10,000〜80,000であり、より好ましくは30,000〜70,000である。エポキシ樹脂の重量平均分子量が5,000より小さい場合、後述するような金属キレートを適量用いても、スクリーン印刷による微細配線形成のための十分な貯蔵弾性率G’が得られず、一方、100,000より大きい場合、溶剤への溶解性が極端に悪化したり、貯蔵弾性率G’が高くなりすぎたりして、スクリーン印刷が不可能となる。
なお、本発明における重量平均分子量とは、THF(テトラヒドロフラン)に溶解した樹脂を、ゲルカラムとして昭和電工株式会社製「LF−604」(迅速分析用GPCカラム:6mmID×150mmサイズ)を直列に2本接続した、東ソー株式会社製GPC(ゲルパーミエーションクロマトグラフィー:溶媒に溶解した物質をその分子サイズの差によって分離定量する液体クロマトグラフィー)「HPLC−8020」を用い、流量0.6ml/min、カラム温度40℃の条件で測定したデータを、ポリスチレン換算で算出した値をいう。
The bisphenol type epoxy resin (B1) used in the present invention has an epoxy group and a hydroxyl group, and it is important that the weight average molecular weight (Mw) in terms of polystyrene is 5,000 to 100,000, preferably It is 10,000-80,000, More preferably, it is 30,000-70,000. When the weight average molecular weight of the epoxy resin is smaller than 5,000, even when an appropriate amount of a metal chelate as described later is used, a sufficient storage elastic modulus G ′ for forming fine wiring by screen printing cannot be obtained. If it is greater than 1,000, the solubility in the solvent is extremely deteriorated, or the storage elastic modulus G ′ becomes too high, and screen printing becomes impossible.
The weight average molecular weight in the present invention refers to two resins in series of “LF-604” (GPC column for rapid analysis: 6 mm ID × 150 mm size) manufactured by Showa Denko KK as a gel column using a resin dissolved in THF (tetrahydrofuran). Connected GPC (Gel Permeation Chromatography: Liquid Chromatography for Separating and Quantifying Substances Dissolved in Solvent by Difference in Molecular Size) “HPLC-8020”, Flow Rate 0.6 ml / min, Column It means a value calculated in terms of polystyrene based on data measured at a temperature of 40 ° C.

本発明に用いられるビスフェノール型エポキシ樹脂(B1)は、水酸基価2〜350(mgKOH/g)であることが重要であり、好ましくは水酸基価50〜300(mgKOH/g)であり、より好ましくは80〜250(mgKOH/g)である。
ここで、水酸基は、後述するように金属キレート(C)のアルコキシ基とアルコール交換反応し、スクリーン印刷法における高精細パターンの印刷性に貯蔵弾性率G’等の必要なレオロジー特性を付与させるための官能基として必要である。また、水酸基と反応し得る官能基を有する硬化剤(D)を用いる場合、金属キレートのアルコキシド基との反応に使用した後のビスフェノール型エポキシ樹脂(B1)の余剰の水酸基は、前記硬化剤(D)と反応することとなる。
本発明において、ビスフェノール型エポキシ樹脂(B1)の水酸基価が2(mgKOH/g)より小さい場合、金属キレート(C)を用いてもスクリーン印刷法による微細描画形成に必要な貯蔵弾性率G’が得られず、一方、水酸基価が350(mgKOH/g)より大きい場合、貯蔵弾性率G’が高くなりすぎて、スクリーン印刷が不可能となったり、硬化物のTgが上昇し、硬化後の塗膜に反りが発生するなどの問題が生じやすい。
It is important that the bisphenol type epoxy resin (B1) used in the present invention has a hydroxyl value of 2 to 350 (mgKOH / g), preferably a hydroxyl value of 50 to 300 (mgKOH / g), more preferably 80-250 (mg KOH / g).
Here, the hydroxyl group undergoes an alcohol exchange reaction with the alkoxy group of the metal chelate (C), as will be described later, to impart the necessary rheological properties such as storage elastic modulus G ′ to the printability of the high-definition pattern in the screen printing method. It is necessary as a functional group. Moreover, when using the hardening | curing agent (D) which has a functional group which can react with a hydroxyl group, the excess hydroxyl group of the bisphenol type epoxy resin (B1) after using for reaction with the alkoxide group of a metal chelate is the said hardening | curing agent ( D).
In the present invention, when the hydroxyl value of the bisphenol-type epoxy resin (B1) is smaller than 2 (mgKOH / g), the storage elastic modulus G ′ required for fine drawing formation by the screen printing method can be obtained even when the metal chelate (C) is used. On the other hand, when the hydroxyl value is larger than 350 (mgKOH / g), the storage elastic modulus G ′ becomes too high and screen printing becomes impossible or the Tg of the cured product increases, Problems such as warpage of the coating tend to occur.

本発明に用いられるビスフェノール型エポキシ樹脂(B1)は、エポキシ当量(以下、EPWともいう)が3,000〜100,000(g/eq)であることが好ましく、4,000〜50,000(g/eq)であることがより好ましい。
本発明において、ビスフェノール型エポキシ樹脂(B1)中のエポキシ基は、熱により重合し、あるいは、後述の硬化剤(D)や硬化促進剤と、直接的又は間接的に反応することで、得られる導電性インキの硬化塗膜の機械的強度、密着性等の物性向上に寄与する。
本発明において、ビスフェノール型エポキシ樹脂(B1)のエポキシ当量が100,000(g/eq)より大きい場合、エポキシ基の量が少なすぎて、物性向上の影響が見られない。
一方、エポキシ当量が3,000(g/eq)より小さい場合、反応点が増え過ぎて、反応による硬化収縮や、弾性率、Tgの上昇が激しくなり、硬化後の塗膜に反りやクラックが発生するなどの問題が生じやすい。
The bisphenol type epoxy resin (B1) used in the present invention preferably has an epoxy equivalent (hereinafter also referred to as EPW) of 3,000 to 100,000 (g / eq), and 4,000 to 50,000 ( g / eq) is more preferable.
In the present invention, the epoxy group in the bisphenol-type epoxy resin (B1) is obtained by polymerization by heat, or by reacting directly or indirectly with the curing agent (D) or curing accelerator described later. Contributes to improving physical properties such as mechanical strength and adhesion of the cured coating film of conductive ink.
In the present invention, when the epoxy equivalent of the bisphenol type epoxy resin (B1) is larger than 100,000 (g / eq), the amount of the epoxy group is too small, and the effect of improving the physical properties is not seen.
On the other hand, when the epoxy equivalent is smaller than 3,000 (g / eq), the reaction point increases too much, and the curing shrinkage due to the reaction, the modulus of elasticity, and the Tg increase sharply, and the cured coating film is warped and cracked. Problems such as occurrence are likely to occur.

また、本発明に用いられるビスフェノール型エポキシ樹脂(B1)は、ガラス転移温度(以下、Tgという)が40〜150℃であることが好ましく、50〜120℃であることがより好ましい。
Tgが40℃より低い場合は、導電性インキの硬化被膜の耐熱性が悪化するおそれがあり、Tgが150℃より高い場合は、硬化被膜の柔軟性が著しく損なわれるおそれがある。
なお、ビスフェノール型エポキシ樹脂(B1)のTgは、乾燥状態の樹脂(粉末または液滴または切片)を、示差熱量測定装置(DSC)を用い、昇温速度5℃/分にて−50℃〜300℃の条件で測定し、熱量カーブの変曲点により確定した。
Moreover, it is preferable that the glass transition temperature (henceforth Tg) is 40-150 degreeC, and, as for the bisphenol type epoxy resin (B1) used for this invention, it is more preferable that it is 50-120 degreeC.
When Tg is lower than 40 ° C., the heat resistance of the cured film of the conductive ink may be deteriorated, and when Tg is higher than 150 ° C., the flexibility of the cured film may be significantly impaired.
The Tg of the bisphenol-type epoxy resin (B1) is a dry resin (powder, droplet, or slice), which is −50 ° C. to 5 ° C./min using a differential calorimeter (DSC). The measurement was performed under the condition of 300 ° C., and the value was determined by the inflection point of the calorimetric curve.

また、本発明に用いられるビスフェノール型エポキシ樹脂(B1)は、40%MEK溶液とした場合に、ガードナーホルト法にて25℃で測定した粘度が、T〜Z10であることが好ましく、V〜Z5であることがより好ましい。
40%MEK溶液粘度が、Tより低いということは、ビスフェノール型エポキシ樹脂の分子量が小さく、そのようなビスフェノール型エポキシ樹脂を用いても導電性インキに充分な貯蔵弾性率G’を付与することができず、導電性回路が太り易い。一方、40%MEK溶液粘度が、Z10より高いということは、ビスフェノール型エポキシ樹脂の分子量が大きく、貯蔵弾性率G’が高くなりすぎ、導電性回路にカスレが生じ易い。
Moreover, when the bisphenol type epoxy resin (B1) used in the present invention is a 40% MEK solution, the viscosity measured at 25 ° C. by the Gardner-Holt method is preferably T to Z10, and V to Z5. It is more preferable that
A 40% MEK solution viscosity lower than T means that the molecular weight of the bisphenol type epoxy resin is small, and even when such a bisphenol type epoxy resin is used, a sufficient storage elastic modulus G ′ can be imparted to the conductive ink. This is not possible and the conductive circuit tends to be fat. On the other hand, the fact that the 40% MEK solution viscosity is higher than Z10 means that the molecular weight of the bisphenol type epoxy resin is large, the storage elastic modulus G ′ becomes too high, and the conductive circuit tends to be distorted.

アクリル系エラストマー(B2)
本発明で言う、アクリル系エラストマー(B2)とは、アクリル酸エステルの重合又はそれを主体とする共重合により得られるゴム状弾性体であり、主成分としてエチルアクリレート、ブチルアクリレート、メトキシエチルアクリレート、などが用いられ、必要に応じてビニル基、エポキシ基、カルボキシル基、アミノ基、ニトリル基等を有する反応性モノマーや、一分子内に2つ以上の重合性基を有する多官能モノマーが少量共重合されるものを言う。主に乳化重合で作られるため、分子量が大きく、通常の溶剤重合や塊状重合で得られる一般的なアクリル樹脂とは異なり、Tgを超えた温度領域にて高い貯蔵弾性率を示すものである。
Acrylic elastomer (B2)
The acrylic elastomer (B2) referred to in the present invention is a rubber-like elastic body obtained by polymerization of an acrylate ester or copolymerization of the acrylic ester, and ethyl acrylate, butyl acrylate, methoxyethyl acrylate, If necessary, a small amount of a reactive monomer having a vinyl group, an epoxy group, a carboxyl group, an amino group, a nitrile group, etc., or a polyfunctional monomer having two or more polymerizable groups in one molecule. Say what is polymerized. Since it is mainly produced by emulsion polymerization, it has a large molecular weight, and unlike a general acrylic resin obtained by ordinary solvent polymerization or bulk polymerization, it exhibits a high storage elastic modulus in a temperature range exceeding Tg.

本発明で用いられるアクリル系エラストマー(B2)は、Tgが−50〜25℃のものが好ましく、より好ましくは−40〜15℃である。
Tgが−50℃より低いアクリル系エラストマーを用いると、形成される導電パターンの耐熱性が著しく悪化し、Tgが25℃より高いものを用いると、得られる導電性パターンの折り曲げ性や、熱処理後の反りが著しく悪化する。
なお、アクリル系エラストマー(B2)のTgは、ビスフェノール型エポキシ樹脂(B1)と同様にして求めた。
The acrylic elastomer (B2) used in the present invention preferably has a Tg of −50 to 25 ° C., more preferably −40 to 15 ° C.
When an acrylic elastomer having a Tg lower than −50 ° C. is used, the heat resistance of the formed conductive pattern is remarkably deteriorated, and when a Tg higher than 25 ° C. is used, the bendability of the resulting conductive pattern or after heat treatment is increased. The warpage of the head is significantly worsened.
The Tg of the acrylic elastomer (B2) was determined in the same manner as the bisphenol type epoxy resin (B1).

本発明で用いられるアクリル系エラストマー(B2)のムーニー粘度は、10〜90(ML(1+4)100℃)であり、好ましくは20〜60(ML(1+4)100℃)である。ムーニー粘度は、JIS K6300に準拠したムーニー粘度計を用い、100℃にて予備加熱1分、2rpmで回転し4分経過後の粘度である。   The Mooney viscosity of the acrylic elastomer (B2) used in the present invention is 10 to 90 (ML (1 + 4) 100 ° C.), preferably 20 to 60 (ML (1 + 4) 100 ° C.). The Mooney viscosity is a viscosity after 4 minutes have passed after rotating at 100 ° C. for 1 minute and 2 rpm using a Mooney viscometer in accordance with JIS K6300.

ムーニー粘度が10(ML(1+4)100℃)より低いアクリル系エラストマーを用いた場合、得られる導電性インキの微細印刷性、印刷物の平坦性が悪化しやすくなり、90(ML(1+4)100℃)より高い場合、得られる導電性インキから形成される導電性回路の密着性、折り曲げ性が悪化しやすくなる。
アクリル系エラストマーのムーニー粘度は、高分子同士の絡み合いや架橋、層分離構造形成等により、それぞれ分子量、架橋度、層分離状態を制御することで変化させることができ、例えば、エマルジョン法による超高分子量ポリマーの合成、二官能以上のモノマーの共重合、ホモポリマーのTgが著しく異なるモノマー同士の重合など、合成条件により制御することができる。
When an acrylic elastomer having a Mooney viscosity lower than 10 (ML (1 + 4) 100 ° C.) is used, the fine printability of the resulting conductive ink and the flatness of the printed matter tend to deteriorate, and 90 (ML (1 + 4) 100 ° C. ) Higher, the adhesiveness and bendability of the conductive circuit formed from the resulting conductive ink are likely to deteriorate.
The Mooney viscosity of an acrylic elastomer can be changed by controlling the molecular weight, the degree of crosslinking, and the layer separation state by entanglement and crosslinking between polymers, formation of a layer separation structure, etc. The synthesis can be controlled by synthesis conditions such as synthesis of a molecular weight polymer, copolymerization of monomers having two or more functions, and polymerization of monomers having significantly different Tg of homopolymer.

本発明におけるアクリル系エラストマー(B2)としては、例えば日本ゼオン株式会社製「Nipol ARシリーズ」、JSR株式会社製「AREXシリーズ」、株式会社クラレ製「クラリティーシリーズ」、デュポンパフォーマンスエラストマー社製「ベイマックシリーズ」、Polimeri Europa社製「EUROPRENEシリーズ」などを用いることができ、これらは単独で使用、あるいは複数を併用してもよい。   Examples of the acrylic elastomer (B2) in the present invention include “Nipol AR series” manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd., “AREX series” manufactured by JSR Corporation, “Clarity Series” manufactured by Kuraray Co., Ltd., “Bay manufactured by DuPont Performance Elastomer Co., Ltd.” "Mac series", "EuroPRENE series" manufactured by Polymeri Europa, etc. can be used, and these may be used alone or in combination.

本発明において、ビスフェノール型エポキシ樹脂(B1)とアクリル系エラストマー(B2)とを併用するに当たり、両者の重量比[(B1)/(B2)]は、9≧[(B1)/(B2)]≧0.1であることが重要であり、好ましくは4≧[(B1)/(B2)]≧0.4である。
[(B1)/(B2)]が9より大きい場合、即ち、ビスフェノール型エポキシ樹脂(B1)が大過量の場合、ビスフェノール型エポキシ樹脂(B1)と金属キレート(C)との組合せによる導電性インキの貯蔵弾性率G’の大きさが顕著となり、導電性回路の屈曲性が悪くなり、反りも著しく大きくなる。導電性インキの貯蔵弾性率G’が大きくなると、乾燥・硬化前の導電性インキがプラスチックフィルム等の被印刷基材に強固に密着する(食いつく)。そのため、印刷時にスクリーン版がプラスチックフィルム等の被印刷基材に強く引き寄せられ、導電性インキの滑らかな転移が妨げられる、いわゆる版離れが悪いという現象が生じる。版離れが悪いと、厚さ方向の平坦性が損なわれると共に、比較的大きな面積の印刷部のエッジ部が荒れる。
一方、[(B1)/(B2)]が0.1より小さい場合、即ち、ビスフェノール型エポキシ樹脂(B1)の極めて少量だと、抵抗値が大きくなるばかりでなく、高精細印刷性が確保できない。
In the present invention, when the bisphenol type epoxy resin (B1) and the acrylic elastomer (B2) are used in combination, the weight ratio [(B1) / (B2)] of both is 9 ≧ [(B1) / (B2)]. It is important that ≧ 0.1, and preferably 4 ≧ [(B1) / (B2)] ≧ 0.4.
When [(B1) / (B2)] is larger than 9, that is, when the bisphenol type epoxy resin (B1) is in a large excess amount, the conductive ink by the combination of the bisphenol type epoxy resin (B1) and the metal chelate (C). Thus, the storage elastic modulus G ′ becomes remarkable, the flexibility of the conductive circuit is deteriorated, and the warp is remarkably increased. When the storage elastic modulus G ′ of the conductive ink is increased, the conductive ink before drying and curing is firmly adhered (bite) to a substrate to be printed such as a plastic film. For this reason, a phenomenon occurs in which the screen plate is strongly attracted to a substrate to be printed such as a plastic film at the time of printing, and the smooth transfer of the conductive ink is prevented, so-called plate separation is poor. When the plate separation is poor, the flatness in the thickness direction is impaired, and the edge portion of the printing portion having a relatively large area is roughened.
On the other hand, when [(B1) / (B2)] is smaller than 0.1, that is, when the amount of the bisphenol-type epoxy resin (B1) is extremely small, not only the resistance value increases but also high-definition printability cannot be ensured. .

金属キレート(C)
本発明において、金属キレート(C)は、導電性インキに使用されるビスフェノール型エポキシ樹脂(B1)中の水酸基と反応し、スクリーン印刷法における微細印刷性に必要なレオロジー特性を付与できる。前記反応は、エポキシ樹脂(B1)中の水酸基とのアルコール交換反応と考えられる。
かかる金属キレート(C)としては、金属アルコシドとβ−ジケトンやケトエステル(アセト酢酸エチル等)等のキレート化剤と反応したキレート化合物であり、アルミニウムキレート、ジルコニウムキレート、チタンキレート等が挙げられ、コスト、入手のし易さ等からアルミニウムキレートが好適に用いられる。
Metal chelate (C)
In the present invention, the metal chelate (C) reacts with a hydroxyl group in the bisphenol type epoxy resin (B1) used in the conductive ink, and can impart rheological characteristics necessary for fine printability in the screen printing method. The reaction is considered to be an alcohol exchange reaction with a hydroxyl group in the epoxy resin (B1).
The metal chelate (C) is a chelate compound obtained by reacting a metal alcoside with a chelating agent such as β-diketone or ketoester (such as ethyl acetoacetate), and examples thereof include an aluminum chelate, a zirconium chelate, and a titanium chelate. Aluminum chelate is preferably used because of its availability.

金属キレート(C)のうち本発明に用いられるアルミニウムキレートとしては、分子量が420以下のものであることが好ましく、アルミニウムのアセチルアセトネート錯体が好ましい。アセチルアセトネート錯体は、アセチルアセトネート基:−O−C(CH3)=CH−CO(CH3)や、メチルアセトアセトネート基:−O−C(CH3)=CH−CO−O−CH3や、エチルアセトアセトネート基:−O−C(CH3)=CH−CO−O−C25等を有する。本発明に用いられるアルミニウムキレートとしては、これらの基を1分子中に1〜3個有するものが好ましく、アセチルアセトネート基を1〜3個有するか、エチルアセトアセテート基を1〜3個有するアルミニウムキレートがより好ましい。
分子量が420より大きいアルミニウムキレートや、1分子中にアセチルアセトネート基を4個以上有するアルミニウムキレートや、エチルアセトアセテート基を4個以上有するアルミニウムキレートや、更に長鎖のアルキル基を有するアルミニウムキレートは導電性粒子との濡れが阻害されてしまい、抵抗率が上昇する恐れがある。
アルミニウムキレートの代表的なものとしては、エチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピオネート、アルミニウムトリス(エチルアセトアセテート)、アルキルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス(アセチルアセテート)、アルミニウムモノアセチルアセテートビス(エチルアセトアセテテート)、アルミニウムジ−n−ブトキシドモノメチルアセトアセテート、アルミニウムジイソブトキシドモノメチルアセトアセテート、アルミニウムジ−sec−ブトキシドモノメチルアセトアセテート等が挙げられる。
Of the metal chelates (C), the aluminum chelate used in the present invention preferably has a molecular weight of 420 or less, and is preferably an aluminum acetylacetonate complex. An acetylacetonate complex includes an acetylacetonate group: —O—C (CH 3 ) ═CH—CO (CH 3 ) and a methyl acetoacetonate group: —O—C (CH 3 ) ═CH—CO—O—. CH 3 or an ethyl acetoacetonate group: —O—C (CH 3 ) ═CH—CO—O—C 2 H 5 or the like. The aluminum chelate used in the present invention preferably has 1 to 3 of these groups in one molecule, and has 1 to 3 acetylacetonate groups or 1 to 3 ethylacetoacetate groups. Chelates are more preferred.
Aluminum chelates with a molecular weight greater than 420, aluminum chelates with 4 or more acetylacetonate groups in one molecule, aluminum chelates with 4 or more ethyl acetoacetate groups, and aluminum chelates with long chain alkyl groups There is a risk that wetting with the conductive particles is hindered and the resistivity is increased.
Typical aluminum chelates include ethyl acetoacetate aluminum diisopropionate, aluminum tris (ethyl acetoacetate), alkyl acetoacetate aluminum diisopropylate, aluminum tris (acetyl acetate), aluminum monoacetyl acetate bis (ethyl acetoacetate). Acetate), aluminum di-n-butoxide monomethyl acetoacetate, aluminum diisobutoxide monomethyl acetoacetate, aluminum di-sec-butoxide monomethyl acetoacetate and the like.

金属キレート(C)のうち本発明に用いられるジルコニウムキレートとしては分子量が350以上1,000以下のものが好ましい。更に、ジルコニウムキレートとしては、アセチルアセトネート錯体で、その1分子中にアセチルアセトネート基を1〜4個含み、エチルアセトアセテート基を0〜2個を含むジルコニウムキレートがより好ましい。分子量が350未満のジルコニウムキレートは導電性インキの分散状態が不安定になり、抵抗率が上昇する恐れがある。
ジルコニウムキレートの代表的なものとしては、ジルコニウムテトラアセチルアセトネート、ジルコニウムトリブトキシアセチルアセトネート、ジルコニウムモノブトキシアセチルアセトネートビス(エチルアセトアセテート)、ジルコニウムジブトキシビス(エチルアセトアセテート)、ジルコニウムテトラアセチルアセトネート等が挙げられる。
Of the metal chelates (C), the zirconium chelate used in the present invention preferably has a molecular weight of 350 or more and 1,000 or less. Further, the zirconium chelate is more preferably a zirconium chelate which is an acetylacetonate complex and contains 1 to 4 acetylacetonate groups and 0 to 2 ethylacetoacetate groups in one molecule. Zirconium chelates having a molecular weight of less than 350 may cause the dispersion state of the conductive ink to become unstable and increase the resistivity.
Typical zirconium chelates include zirconium tetraacetylacetonate, zirconium tributoxyacetylacetonate, zirconium monobutoxyacetylacetonate bis (ethylacetoacetate), zirconium dibutoxybis (ethylacetoacetate), zirconium tetraacetylacetate. And the like.

金属キレート(C)のうち本発明に用いられるチタンキレートとしては分子量が250以上1,500以下のものが好ましい。更に、(HOR1O)2Ti(OR2)2あるいは(H2NR1O)2Ti(OR2)2で表すことができるようなチタンキレートおよびアルコキシチタンである。ここで、R1およびR2は炭化水素基である。例えば、ジ−i−プロポキシビス(アセチルアセトナト)チタン、ジ−n−プトキシビス(トリエタノールアミナト)チタン、チタニウム−i−プロポキシオクチレングリコレート、チタニウムステアレート、チタンアセチルアセトナート、チタンテトラアセチルアセトナート、ポリチタンアセチルアセチルアセトナート、チタンオクチレングリコレート、チタンエチルアセトアセテート、チタンラクテート、チタントリエタノールアミネート等が挙げられる。分子量が250未満のジルコニウムキレートは導電インキの分散状態が不安定になり、抵抗率が上昇する恐れがある。 Of the metal chelates (C), the titanium chelate used in the present invention preferably has a molecular weight of 250 to 1,500. Further, titanium chelates and alkoxy titaniums that can be represented by (HOR1O) 2 Ti (OR2) 2 or (H 2 NR1O) 2 Ti (OR2) 2 . Here, R1 and R2 are hydrocarbon groups. For example, di-i-propoxybis (acetylacetonato) titanium, di-n-ptoxybis (triethanolaminato) titanium, titanium-i-propoxyoctylene glycolate, titanium stearate, titanium acetylacetonate, titanium tetraacetyl Examples include acetonate, polytitanium acetylacetylacetonate, titanium octylene glycolate, titanium ethyl acetoacetate, titanium lactate, and titanium triethanolamate. Zirconium chelates having a molecular weight of less than 250 may cause the dispersion state of the conductive ink to become unstable and increase the resistivity.

本発明に用いられる金属キレート(C)は、ビスフェノール型エポキシ樹脂(B1)とアクリル系エラストマー(B2)との合計100重量部に対して、0.2〜20重量部含有することが好ましく、3〜15重量部含有することがより好ましい。
金属キレート(C)が0.2重量部未満では、スクリーン印刷法における微細印刷性に必要な弾性的性質の付与効果が小さく、20重量部を越えると、導電性インキの弾性的性質の付与が大きくなりすぎ、スクリーン印刷が出来なくなるとともに、インキの導電性が悪化する恐れがある。
The metal chelate (C) used in the present invention is preferably contained in an amount of 0.2 to 20 parts by weight with respect to a total of 100 parts by weight of the bisphenol type epoxy resin (B1) and the acrylic elastomer (B2). It is more preferable to contain -15 weight part.
If the metal chelate (C) is less than 0.2 parts by weight, the effect of imparting the elastic properties necessary for fine printability in the screen printing method is small, and if it exceeds 20 parts by weight, the elastic properties of the conductive ink are imparted. It becomes too large and screen printing cannot be performed, and the conductivity of the ink may be deteriorated.

これまで、スクリーン印刷法における印刷精度は、粘度とチキソトロピー性を制御することによって向上できるとする考え方が一般的であり、チキソトロピー性はTI値(チキソインデックス、TI値)によって評価していた。
しかし、流動(粘性流動)と弾性的な性質(弾性変形)とを併せ持つ性質(粘弾性)を有する印刷インキの印刷時の挙動を、粘度とTI値で把握、評価することは不十分であった。
そこで、本発明では、ビスフェノール型エポキシ樹脂(B1)とアクリル系エラストマー(B2)に対し、特定量の金属キレート(C)を用いることによって、粘性的性質(粘度)に大きな影響を与えずに、弾性的性質(貯蔵弾性率G’)を制御し、高精細な印刷を可能とした。
Until now, the general idea that the printing accuracy in the screen printing method can be improved by controlling the viscosity and the thixotropy, and the thixotropy has been evaluated by the TI value (thixo index, TI value).
However, it is not sufficient to grasp and evaluate the behavior during printing of printing inks that have a property (viscoelasticity) that has both fluidity (viscous flow) and elastic properties (elastic deformation) by viscosity and TI value. It was.
Therefore, in the present invention, by using a specific amount of the metal chelate (C) for the bisphenol type epoxy resin (B1) and the acrylic elastomer (B2), the viscosity property (viscosity) is not greatly affected. The elastic property (storage modulus G ′) was controlled to enable high-definition printing.

本発明の導電性インキは、弾性的性質において、25℃、周波数1(Hz)、振動応力50(Pa)にて、貯蔵弾性率G’が1,000〜5万(Pa)であること、及び損失弾性率G’’を貯蔵弾性率G’で除した値、tanδが1以下であることが、高精細パターンの印刷性を付与するために好適である。
25℃、周波数1(Hz)、振動応力50(Pa)における貯蔵弾性率G’が1,000Pa未満では弾性が弱く、スクリーンの開口部をインキが通過し、基材に転移した後、所定のパターンの形状を維持することが難しくなり、パターン太りや蛇行が発生し、高精細なパターンの印刷性に劣る。
一方、導電性インキの貯蔵弾性率G’が5万Paを超えると弾性が強くなりすぎ、スクリーン刷版上にてインキがローリングできず、またスクリーンに設けられた所定のパターンに充填しづらくなるために、パターンのカスレやカケが発生し、スクリーン印刷ができない。
貯蔵弾性率G’は、1,000〜25,000であることが好ましく、6,000〜10,000であることがより好ましい。
また、導電性インキのtanδが1を超えると、弾性的性質が少なくなりパターン太りや蛇行が発生しやすくなり、高精細なパターン印刷性に劣る傾向がある。
導電性インキの粘弾性挙動評価は各方法があるが、正弦振動の周波数を固定し、振動応力を変化させた測定方法が、導電性インキ等の分散系の動的粘弾性を測定する場合には好ましい。
The conductive ink of the present invention has an elastic property that the storage elastic modulus G ′ is 1,000 to 50,000 (Pa) at 25 ° C., frequency 1 (Hz), vibration stress 50 (Pa), Further, a value obtained by dividing the loss elastic modulus G ″ by the storage elastic modulus G ′, tan δ, is preferably 1 or less in order to impart printability of a high-definition pattern.
When the storage elastic modulus G ′ at 25 ° C., frequency 1 (Hz), and vibration stress 50 (Pa) is less than 1,000 Pa, the elasticity is weak, and the ink passes through the opening of the screen and is transferred to the substrate. It becomes difficult to maintain the shape of the pattern, pattern thickening and meandering occur, and the printability of a high-definition pattern is poor.
On the other hand, when the storage elastic modulus G ′ of the conductive ink exceeds 50,000 Pa, the elasticity becomes too strong, the ink cannot be rolled on the screen printing plate, and it is difficult to fill a predetermined pattern provided on the screen. For this reason, pattern blurring or chipping occurs, and screen printing cannot be performed.
The storage elastic modulus G ′ is preferably 1,000 to 25,000, and more preferably 6,000 to 10,000.
On the other hand, when tan δ of the conductive ink exceeds 1, the elastic properties are reduced, pattern thickening and meandering are likely to occur, and high-definition pattern printability tends to be inferior.
There are various methods for evaluating the viscoelastic behavior of conductive ink, but the measurement method with fixed sine vibration frequency and changing vibration stress measures the dynamic viscoelasticity of dispersed systems such as conductive ink. Is preferred.

硬化剤(D)
本発明の導電性インキは硬化剤(D)を含有することにより、硬化後の被膜の耐熱性や、高温高湿環境下での抵抗値、密着性の劣化を、更に抑制することができる。
かかる硬化剤(D)としては、エポキシ基や水酸基と反応し得るものが用いられ、エポキシ基と反応するものが好ましい。硬化剤としては、イソシアネート化合物、アミン化合物、酸無水物化合物、メルカプト化合物、イミダゾール化合物、ジシアンジアミド化合物、有機酸ヒドラジド化合物等が挙げられる。
例えば、エポキシ樹脂の水酸基と反応させる場合は、硬化剤としてイソシアネート化合物を用いることができる。
エポキシ樹脂のエポキシ基と反応させる場合は、アミン化合物、酸無水物化合物、メルカプト化合物、イミダゾール化合物、ジシアンジアミド化合物、有機酸ヒドラジド化合物を硬化剤として用いることができる。
Curing agent (D)
By containing the hardening | curing agent (D), the electroconductive ink of this invention can further suppress the heat resistance of the film after hardening, the resistance value in a high-temperature, high-humidity environment, and adhesive deterioration.
As this hardening | curing agent (D), what can react with an epoxy group and a hydroxyl group is used, and what reacts with an epoxy group is preferable. Examples of the curing agent include isocyanate compounds, amine compounds, acid anhydride compounds, mercapto compounds, imidazole compounds, dicyandiamide compounds, organic acid hydrazide compounds, and the like.
For example, when making it react with the hydroxyl group of an epoxy resin, an isocyanate compound can be used as a hardening | curing agent.
When making it react with the epoxy group of an epoxy resin, an amine compound, an acid anhydride compound, a mercapto compound, an imidazole compound, a dicyandiamide compound, and an organic acid hydrazide compound can be used as a curing agent.

硬化剤(D)として用い得るイソシアネート化合物としては、非ブロック化イソシアネート、ブロック化イソシアネート等を挙げることができる。
イソシアネート化合物としては、ポリイソシアネート化合物が好ましい。ポリイソシアネート化合物としては、従来公知の芳香族ポリイソシアネート、脂肪族ポリイソシアネート、脂環族ポリイソシアネート、またはこれらのブロック体であるブロック化イソシアネートを使用でき、これらは単種および2種以上を使用してもよい。芳香族ポリイソシアネートとしては、トリレンジイソシアネートのトリメチロールプロパンアダクト体、トリレンジイソシアネートのイソシアヌレート体、4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネートのオリゴマーなどが挙げられる。
脂肪族ポリイシシアネートとしては、ヘキサメチレンジイソシアネートのビウレット体、ヘキサメチレンジイソシアネートのイソシアヌレート体、ヘキサメチレンジイソシアネートのウレトジオン、トリレンジイソシアネートとヘキサメチレンジイソシアネートからなるコポリマーのイソシアヌレート体が挙げられる。脂環族ポリイソシアネートとしては、イソホロンジイソシアネートのイソシアヌレート体が挙げられる。ブロック化イソシアネートとしては、ポリイソシアネートがε−カプロラクタム、ブタノンオキシム、フェノール、活性メチレン化合物等でブロックされた従来公知のものを使用することができる。
Examples of the isocyanate compound that can be used as the curing agent (D) include non-blocked isocyanate and blocked isocyanate.
As the isocyanate compound, a polyisocyanate compound is preferable. As the polyisocyanate compound, conventionally known aromatic polyisocyanate, aliphatic polyisocyanate, alicyclic polyisocyanate, or blocked isocyanate which is a block body thereof can be used, and these are used alone or in combination of two or more. May be. Examples of aromatic polyisocyanates include trimethylolpropane adducts of tolylene diisocyanate, isocyanurates of tolylene diisocyanate, oligomers of 4,4′-diphenylmethane diisocyanate, and the like.
Examples of the aliphatic polyisocyanates include biurets of hexamethylene diisocyanate, isocyanurates of hexamethylene diisocyanate, uretdiones of hexamethylene diisocyanate, and isocyanurates of copolymers composed of tolylene diisocyanate and hexamethylene diisocyanate. Examples of the alicyclic polyisocyanate include isocyanurates of isophorone diisocyanate. As the blocked isocyanate, a conventionally known one in which polyisocyanate is blocked with ε-caprolactam, butanone oxime, phenol, active methylene compound or the like can be used.

本発明の導電インキに用いられる硬化剤(D)のうちアミン化合物としては、例えば、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、ジプロピレンジアミン、ジエチルアミノプロピルアミン等の脂肪族アミン、N−アミノエチルピペラジン、メンゼンジアミン、イソホロンジアミン、水素添加m−キシレンジアミン等の脂環族アミン、m−キシリレンジアミン、m−フェニレンジアミン、ジアミノジフェニルメタン、ジアミノジフェニルソルフォン等の芳香族アミン等が挙げられる。また、これらアミンを変性した、アミンアダクト類、ケチミン類や、ダイマー酸とポリアミンの縮合により生成する、分子中に反応性の一級アミンと二級アミンを有するポリアミド樹脂等も挙げられる。   Examples of the amine compound in the curing agent (D) used in the conductive ink of the present invention include aliphatic amines such as diethylenetriamine, triethylenetetramine, tetraethylenepentamine, dipropylenediamine, and diethylaminopropylamine, and N-aminoethyl. Examples thereof include alicyclic amines such as piperazine, mensendiamine, isophoronediamine, hydrogenated m-xylenediamine, and aromatic amines such as m-xylylenediamine, m-phenylenediamine, diaminodiphenylmethane, and diaminodiphenylsorbone. Further, amine adducts and ketimines modified with these amines, polyamide resins having a reactive primary amine and secondary amine in the molecule, produced by condensation of dimer acid and polyamine, and the like are also included.

本発明の導電インキに用いられる硬化剤(D)のうち酸無水物化合物としては、例えば、無水フタル酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、無水ベンゾフェノンテトラカルボン酸、エチレングリコールビストリメリテート、グリセロールトリストリメリテート、無水マレイン酸、テトラヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、エンドメチレンテトラヒドロ無水フタル酸、メチルエンドメチレンテトラヒドロ無水フタル酸、メチルブテニルテトラヒドロ無水フタル酸、ドデセニル無水コハク酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、無水コハク酸、メチルシクロヘキセンジカルボン酸無水物、アルキルスチレン−無水マレイン酸共重合体、クロレンド酸無水物、ポリアゼライン酸無水物、無水メチルナジック酸等が挙げられる。   Of the curing agent (D) used in the conductive ink of the present invention, examples of the acid anhydride compound include phthalic anhydride, trimellitic anhydride, pyromellitic anhydride, benzophenone tetracarboxylic anhydride, ethylene glycol bistrimellitate, Glycerol trislimitate, maleic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride, endomethylenetetrahydrophthalic anhydride, methylendomethylenetetrahydrophthalic anhydride, methylbutenyltetrahydrophthalic anhydride, dodecenyl succinic anhydride, hexahydro Phthalic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, succinic anhydride, methylcyclohexene dicarboxylic acid anhydride, alkylstyrene-maleic anhydride copolymer, chlorendic anhydride, polyazeline acid anhydride, none And methyl nadic acid.

本発明の導電インキに用いられる硬化剤(D)のうちメルカプト化合物としては、液状ポリメルカプタン、ポリスルフィド樹脂等が挙げられる。   Among the curing agents (D) used in the conductive ink of the present invention, examples of the mercapto compound include liquid polymercaptan and polysulfide resin.

本発明の導電インキに用いられる硬化剤(D)のうちイミダゾール化合物としては、2−メチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾール、2,4−ジメチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール等のイミダゾール化合物、およびこれらイミダゾール化合物とエポキシ樹脂を反応させて溶剤に不溶化したタイプ、またはイミダゾール化合物をマイクロカプセルに封入したタイプ等の保存安定性を改良した潜在性硬化剤が挙げられる。   Among the curing agents (D) used in the conductive ink of the present invention, as imidazole compounds, 2-methylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, 2,4-dimethylimidazole, Examples include latent curing agents with improved storage stability such as imidazole compounds such as 2-phenylimidazole, and types in which these imidazole compounds and epoxy resins are reacted to insolubilize them, or types in which imidazole compounds are encapsulated in microcapsules. It is done.

本発明の導電インキに用いられる硬化剤(D)のうちジシアンジアミド化合物としては、ジシアンジアミド(DICY)等が挙げられる。   Of the curing agent (D) used in the conductive ink of the present invention, examples of the dicyandiamide compound include dicyandiamide (DICY).

本発明において、使用する硬化剤(D)としては、反応性および硬化後の塗膜の耐性の観点から、イミダゾール化合物やジシアンジアミド化合物がより好ましい。また、これら硬化剤は、単独で用いても良いし、複数を併用しても良い。   In this invention, as a hardening | curing agent (D) to be used, an imidazole compound and a dicyandiamide compound are more preferable from a viewpoint of the reactivity and the tolerance of the coating film after hardening. Moreover, these hardening | curing agents may be used independently and may use multiple together.

本発明の導電性インキは、前記エポキシ樹脂(B1)と前記アクリル系エラストマー(B2)との合計100重量部に対して、硬化剤(D)を1.0〜40重量部含有することが好ましく、10〜30重量部がより好ましい。
硬化剤(D)が1.0重量部より少ない場合、印刷物に十分な密着性、耐熱性等を付与することができず、40重量部を超えると、未反応の硬化剤が導電性インキに残りやすくなり、同様に十分な密着性、耐熱性等を付与することが難しい。
The conductive ink of the present invention preferably contains 1.0 to 40 parts by weight of the curing agent (D) with respect to 100 parts by weight in total of the epoxy resin (B1) and the acrylic elastomer (B2). 10 to 30 parts by weight is more preferable.
When the curing agent (D) is less than 1.0 part by weight, sufficient adhesion and heat resistance cannot be imparted to the printed matter, and when it exceeds 40 parts by weight, the unreacted curing agent becomes conductive ink. It tends to remain, and it is difficult to provide sufficient adhesion and heat resistance.

本発明の導電性インキには、硬化剤の熱硬化を促進する硬化促進剤等を含有させることができる。
係る硬化促進剤としては、エポキシ樹脂の水酸基とイソシアネート化合物との反応においては、有機錫化合物、アミン化合物等を用いることができる。有機錫化合物としては、例えばスタナスオクタエート(SO)、ジブチルチンジラウレート(DBTDL)等が挙げられる。アミン化合物としては、ジアザビシクロオクタン(DABCO)、N−エチルモルフォリン(NEM)、トリエチルアミン(TEA)、N,N,N’,N”,N”−ペンタメチルジエチルトリアミン(PMDETA)等が挙げられる。
The conductive ink of the present invention may contain a curing accelerator that accelerates the thermal curing of the curing agent.
As such a curing accelerator, an organic tin compound, an amine compound, or the like can be used in the reaction between the hydroxyl group of the epoxy resin and the isocyanate compound. Examples of organotin compounds include stannous octaate (SO) and dibutyltin dilaurate (DBTDL). Examples of the amine compound include diazabicyclooctane (DABCO), N-ethylmorpholine (NEM), triethylamine (TEA), N, N, N ′, N ″, N ″ -pentamethyldiethyltriamine (PMDETA) and the like. It is done.

また、エポキシ樹脂のエポキシ基と前述した硬化剤との反応においての硬化促進剤としては、ジシアンジアミド、3級アミン化合物、ホスフィン化合物、イミダゾール化合物、カルボン酸ヒドラジド、脂肪族または芳香族ジメチルウレアなどのジアルキルウレア類等が挙げられる。3級アミン化合物としては、トリエチルアミン、ベンジルジメチルアミン、1,8−ジアザビシクロ(5.4.0)ウンデセン−7、1,5−ジアザビシクロ(4.3.0)ノネン−5等を挙げることができる。ホスフィン化合物としては、トリフェニルホスフィン、トリブチルホスフィン等を挙げることができる。ミダゾール化合物としては、前述の硬化剤で挙げられたイミダゾール化合物を挙げることができる。例えば、2−メチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾール、2,4−ジメチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール等のイミダゾール化合物、およびこれらイミダゾール化合物とエポキシ樹脂を反応させて溶剤に不溶化したタイプ、またはイミダゾール化合物をマイクロカプセルに封入したタイプ等の保存安定性を改良した潜在性硬化促進剤を挙げることができる。カルボン酸ヒドラジドとしては、コハク酸ヒドラジド、アジピン酸ヒドラジド等を挙げることができる。   Further, as a curing accelerator in the reaction between the epoxy group of the epoxy resin and the curing agent described above, dialkyl such as dicyandiamide, tertiary amine compound, phosphine compound, imidazole compound, carboxylic acid hydrazide, aliphatic or aromatic dimethylurea. Examples include ureas. Examples of the tertiary amine compound include triethylamine, benzyldimethylamine, 1,8-diazabicyclo (5.4.0) undecene-7, 1,5-diazabicyclo (4.3.0) nonene-5, and the like. . Examples of the phosphine compound include triphenylphosphine and tributylphosphine. As a midazole compound, the imidazole compound mentioned by the above-mentioned hardening | curing agent can be mentioned. For example, imidazole compounds such as 2-methylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, 2,4-dimethylimidazole, 2-phenylimidazole, etc., and reacting these imidazole compounds with epoxy resins A latent curing accelerator with improved storage stability, such as a type insolubilized in a solvent or a type in which an imidazole compound is encapsulated in a microcapsule, can be mentioned. Examples of the carboxylic acid hydrazide include succinic acid hydrazide and adipic acid hydrazide.

本発明の導電性インキは、各種溶剤で溶解、希釈する事ができ、固形分として50〜90重量%となる範囲で使用することが好ましい。
固形分が50%より低い場合、スクリーン印刷法による微細配線描画に必要な貯蔵弾性率が得られ難くなり、一方、固形分が90%より高い場合、印刷時のカスレや断線等の描画不良の原因となる。
希釈用の溶剤は、使用する樹脂の溶解性や印刷方法等の種類に応じて、選択する事ができる。
例えば、エステル系溶剤、ケトン系溶剤、グリコールエーテル系溶剤、脂肪族系溶剤、脂環族系溶剤、芳香族系溶剤、アルコール系溶剤、水等の1種または2種以上を混合して用いる事ができるが、これらに限定されるものではない。
例えば、エステル系溶剤としては、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸−n−ブチル、酢酸イソブチル、酢酸アミル、乳酸エチル、炭酸ジメチル等が挙げられる。
ケトン系溶剤としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンベンゼン、ジイソブチルケトン、ジアセトンアルコール、イソホロン、シクロヘキサンノン等が挙げられる。
グリコールエーテル系溶剤としては、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル等、これらモノエーテル類の酢酸エステル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル等、これらモノエーテル類の酢酸エステル等が挙げられる。
脂肪族系溶剤としては、n−ヘプタン、n−ヘキサン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン等が挙げられる。
芳香族系溶剤としては、トルエン、キシレン、テトラリン等が挙げられる。
The conductive ink of the present invention can be dissolved and diluted with various solvents, and is preferably used in a range of 50 to 90% by weight as a solid content.
When the solid content is lower than 50%, it is difficult to obtain the storage elastic modulus necessary for fine wiring drawing by the screen printing method. On the other hand, when the solid content is higher than 90%, drawing defects such as blurring and disconnection at the time of printing are not obtained. Cause.
The solvent for dilution can be selected according to the solubility of the resin used and the type of printing method.
For example, an ester solvent, a ketone solvent, a glycol ether solvent, an aliphatic solvent, an alicyclic solvent, an aromatic solvent, an alcohol solvent, water or the like may be used in combination. However, it is not limited to these.
Examples of the ester solvent include ethyl acetate, isopropyl acetate, n-butyl acetate, isobutyl acetate, amyl acetate, ethyl lactate, and dimethyl carbonate.
Examples of the ketone solvent include acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone benzene, diisobutyl ketone, diacetone alcohol, isophorone, and cyclohexanenone.
Examples of glycol ether solvents include ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monoisopropyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, etc., acetates of these monoethers, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, propylene Examples include glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, and the like, and acetates of these mono ethers.
Examples of the aliphatic solvent include n-heptane, n-hexane, cyclohexane, methylcyclohexane, and ethylcyclohexane.
Examples of the aromatic solvent include toluene, xylene, tetralin and the like.

また、本発明の導電性インキは、必要に応じて分散剤、耐摩擦向上剤、赤外線吸収剤、紫外線吸収剤、芳香剤、酸化防止剤、有機顔料、無機顔料、消泡剤、シランカップリング剤、可塑剤、難燃剤、保湿剤等を添加することができる。   In addition, the conductive ink of the present invention includes a dispersant, an antifriction agent, an infrared absorber, an ultraviolet absorber, a fragrance, an antioxidant, an organic pigment, an inorganic pigment, an antifoaming agent, and a silane coupling as necessary. An agent, a plasticizer, a flame retardant, a humectant, and the like can be added.

本発明の導電性インキは、導電性粒子、ビスフェノール型エポキシ樹脂、アクリル系エラストマー、金属キレート、硬化剤及び溶剤等を、所望の割合で配合してディスパー等にて混合後、必要に応じて3本ロール等にて混合分散させることにより得ることができる。全成分を配合した後に混合したり混合分散したりして導電性インキを得ることもできるし、いくつかの成分を混合したり混合分散したりした後、各成分が所望の割合となるように混合して、導電性インキを得ることもできる。
例えば、2種類の導電性粒子、ビスフェノール型エポキシ樹脂、アクリル系エラストマー、金属キレート及び溶剤等を混合したり混合分散したりした後、硬化剤を加え、導電性インキを得ることができる。
あるいは、ビスフェノール型エポキシ樹脂又はアクリル系エラストマーの少なくとも何れか一方と溶剤を含有する樹脂溶液を得た後、2種類の導電性粒子をそれぞれ別々に前記の樹脂溶液に分散し、次いで2種類の導電性粒子分散体を混合することもできる。2種類の導電性粒子を別々に分散する場合、金属キレートや硬化剤は、それぞれの分散時に配合しておくこともできるし、一方の分散時に配合しておくこともできるし、2種類の導電性粒子分散体を混合する際に配合することもできるし、2種類の導電性粒子分散体を混合した後に配合することもできる。
本発明の導電性インキは、ビスフェノール型エポキシ樹脂及びアクリル系エラストマー、硬化剤、溶剤を含有する樹脂溶液を得た後、2種類の導電性粒子をそれぞれ別々に前記の樹脂溶液に分散し、次いで金属キレートを混合したものを分散し、次いで2種類の導電性粒子分散体を混合して得ることが好ましい。2種類の導電性粒子をそれぞれ別々に分散する方法で得られた導電性インキは、他の方法、例えば全成分を一度に配合し分散して得られた導電性インキよりもさらに高精細で厚み高低差もさらに小さい導電パターン、即ちシャープで細く平坦な導電パターンを形成することができる。
The conductive ink of the present invention comprises conductive particles, bisphenol-type epoxy resin, acrylic elastomer, metal chelate, curing agent, solvent and the like mixed in a desired ratio and mixed with a disper etc. It can be obtained by mixing and dispersing with a roll or the like. After blending all the ingredients, they can be mixed or mixed and dispersed to obtain a conductive ink. After mixing or mixing and dispersing several ingredients, each component has a desired ratio. It can also be mixed to obtain a conductive ink.
For example, after mixing or mixing and dispersing two kinds of conductive particles, bisphenol type epoxy resin, acrylic elastomer, metal chelate, solvent and the like, a curing agent is added to obtain a conductive ink.
Alternatively, after obtaining a resin solution containing at least one of a bisphenol-type epoxy resin or an acrylic elastomer and a solvent, two types of conductive particles are separately dispersed in the resin solution, and then two types of conductive particles are obtained. The active particle dispersion can also be mixed. When two kinds of conductive particles are dispersed separately, the metal chelate and the curing agent can be blended at the time of each dispersion, or can be blended at the time of one dispersion. It can also mix | blend when mixing an electroconductive particle dispersion, and can also mix | blend after mixing two types of electroconductive particle dispersions.
In the conductive ink of the present invention, after obtaining a resin solution containing a bisphenol type epoxy resin and an acrylic elastomer, a curing agent and a solvent, two kinds of conductive particles are separately dispersed in the resin solution, and then It is preferable to obtain by mixing a mixture of metal chelates and then mixing two types of conductive particle dispersions. Conductive ink obtained by dispersing two types of conductive particles separately is thicker and finer than other methods, for example, conductive ink obtained by mixing and dispersing all components at once. It is possible to form a conductive pattern having a smaller height difference, that is, a sharp, thin and flat conductive pattern.

本発明の導電性インキは、従来公知の種々の印刷法に適用することができ、特にスクリーン印刷に適用することが好ましい。
スクリーン印刷法においては、前述したように導電回路パターンの高精細化に対応すべく微細なメッシュ、特に好ましくは400〜840メッシュ程度の微細なメッシュのスクリーンを用いることが好ましい。この時のスクリーンの開放面積は約20〜70%が好ましい。スクリーン線径は約5〜70μmが好ましい。
スクリーン版の種類としては、ポリエステルスクリーン、ステンレスメッシュスクリーン、コンビネーションスクリーン、メタルスクリーン、ナイロンスクリーン等が挙げられる。また、高粘度なペースト状態のものを印刷する場合は、高張力ステンレススクリーンまたは、高張力コンビネーションスクリーンを使用することができる。
スクリーン印刷のスキージは丸形、長方形、正方形いずれの形状であっても良く、またアタック角度を(印刷時の版とスキージの角度)小さくするために研磨スキージも使用することができる。その他の印刷条件等は従来公知の条件でよいが、スクリーンやスキージの特性に応じて最適な条件を設定することが好ましい。
The conductive ink of the present invention can be applied to various conventionally known printing methods, and is particularly preferably applied to screen printing.
In the screen printing method, as described above, it is preferable to use a fine mesh screen, particularly preferably a fine mesh screen of about 400 to 840 mesh, in order to cope with high definition of the conductive circuit pattern. At this time, the open area of the screen is preferably about 20 to 70%. The screen wire diameter is preferably about 5 to 70 μm.
Examples of the screen plate include polyester screens, stainless mesh screens, combination screens, metal screens, and nylon screens. Moreover, when printing the thing of a highly viscous paste state, a high tension | tensile_strength stainless steel screen or a high tension | tensile_strength combination screen can be used.
The screen printing squeegee may be round, rectangular or square, and an abrasive squeegee can be used to reduce the attack angle (angle between printing plate and squeegee). Other printing conditions may be conventionally known conditions, but it is preferable to set optimum conditions according to the characteristics of the screen and squeegee.

本発明の導電性インキを用い、各種印刷法により基材上に印刷することにより、高精細な導電性回路パターンを形成することができる。
また、基材フィルムとしては特に限定されるものではなく、例えばポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、ポリパラフェニレンテレフタルアミドフィルム、ポリエーテルニトリルフィルム、ポリエーテルスルホンフィルム、ポリ塩化ビニルフィルム、アクリル樹脂フィルム、ポリカーボネートフィルム、等が挙げられる。
また、ITOなどの導電材料をスパッタリング、ウェットコート等によりポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートのポリエステルフィルム、ポリカーボネート、ポリエーテルサルホン、アクリル樹脂等の高分子フィルム上に形成したいわゆる導電フィルム、ガラス上に形成した導電ガラス等が挙げられる。また、セラミック、ガラス基材等も用いることができる。特にタッチスクリーンパネルにおいては、ポリエスエルフィルム上に導電層を形成したITOフィルムなどの導電性フィルム、ガラス上に導電層を形成したITOガラスなどの導電性ガラスが多く用いられる。
By using the conductive ink of the present invention and printing on a substrate by various printing methods, a high-definition conductive circuit pattern can be formed.
Further, the base film is not particularly limited. For example, polyethylene terephthalate film, polyethylene naphthalate film, polyparaphenylene terephthalamide film, polyether nitrile film, polyether sulfone film, polyvinyl chloride film, acrylic resin film , Polycarbonate film, and the like.
In addition, a conductive material such as ITO is formed on glass by sputtering, wet coating, etc. on a polymer film such as polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate polyester film, polycarbonate, polyethersulfone, acrylic resin, etc. Conductive glass and the like. In addition, ceramics, glass substrates and the like can be used. In particular, in a touch screen panel, a conductive film such as an ITO film having a conductive layer formed on a polyester film and a conductive glass such as ITO glass having a conductive layer formed on glass are often used.

基板上に印刷した導電回路パターンは、加熱して乾燥、固化させ、また、導電性インキに硬化剤を添加している場合はこれを硬化させる。加熱温度は80〜230℃、加熱時間としては10〜120分が好ましい。   The conductive circuit pattern printed on the substrate is heated to dry and solidify, and when a curing agent is added to the conductive ink, it is cured. The heating temperature is preferably 80 to 230 ° C., and the heating time is preferably 10 to 120 minutes.

必要に応じ、高精細パターン配線の印刷性をさらに向上させる目的で、基材にアンカーコート層を設け、更にアンカーコート層に導電性インキを印刷することもできる。
かかるアンカーコート層は、基材との密着性、更には導電性インキの密着性が良好であれば、特に限定させず、また樹脂ビーズ等の有機フィラーや金属酸化物等の無機フィラーも必要に応じ添加することができる。これらアンカーコート層を設ける方法も特に限定されず、従来公知の塗工方法にて塗布、乾燥、硬化して得ることができる。
If necessary, for the purpose of further improving the printability of the high-definition pattern wiring, an anchor coat layer can be provided on the substrate, and further conductive ink can be printed on the anchor coat layer.
Such an anchor coat layer is not particularly limited as long as it has good adhesion to the substrate and further good adhesion of the conductive ink, and also requires organic fillers such as resin beads and inorganic fillers such as metal oxides. Can be added accordingly. The method of providing these anchor coat layers is not particularly limited, and can be obtained by applying, drying and curing by a conventionally known coating method.

以下、本発明を実施例により具体的に説明する。なお、実施例中、「部」、「%」は、それぞれ「重量部」、「重量%」を、水酸基価はKOHmg/g、エポキシ当量はg/eqを、それぞれ意味する。   Hereinafter, the present invention will be specifically described by way of examples. In the examples, “parts” and “%” mean “parts by weight” and “% by weight”, respectively, the hydroxyl value means KOH mg / g, and the epoxy equivalent means g / eq.

[銀粉1]
DOWAエレクトロニクス社製球状銀粉(タップ密度5.2 g/cm3、D50粒子径0.9μm、アスペクト比1.2、比表面積0.94m2/g)を銀粉Aとした。
[Silver powder 1]
A spherical silver powder (tap density 5.2 g / cm 3 , D50 particle diameter 0.9 μm, aspect ratio 1.2, specific surface area 0.94 m 2 / g) manufactured by DOWA Electronics Co., Ltd. was used as silver powder A.

[銀粉2]
福田金属社製社製球状銀粉(タップ密度5.1g/cm3、D50粒子径1.4μm、 アスペクト比1.1、比表面積1.50m2/g)を銀粉Bとした。
[Silver powder 2]
Spherical silver powder (tap density 5.1 g / cm 3 , D50 particle size 1.4 μm, aspect ratio 1.1, specific surface area 1.50 m 2 / g) manufactured by Fukuda Metal Co., Ltd. was used as silver powder B.

[銀粉3]
福田金属社製社製球状銀粉(タップ密度4.2g/cm3、D50粒子径1.3μm、 アスペクト比1.3、比表面積0.93m2/g)を銀粉Cとした。
[Silver powder 3]
Spherical silver powder (tap density 4.2 g / cm 3 , D50 particle size 1.3 μm, aspect ratio 1.3, specific surface area 0.93 m 2 / g) manufactured by Fukuda Metal Co., Ltd. was used as silver powder C.

[銀粉4]
METALOR社製フレーク銀粉(タップ密度5.3g/cm3、D50粒子径6.8μm、アスペクト比2.5、比表面積0.29m2/g)を銀粉Dとした。
[Silver powder 4]
Metal powder Flake silver powder (tap density 5.3 g / cm 3 , D50 particle diameter 6.8 μm, aspect ratio 2.5, specific surface area 0.29 m 2 / g) was defined as silver powder D.

[銀粉5]
SINO−PLATINUM社製フレーク銀粉(タップ密度3.7g/cm3、D50 粒子径4.9μm、アスペクト比3.5、比表面積4.50m2/g)を銀粉Bとした 。
[Silver powder 5]
Flake silver powder (tap density 3.7 g / cm 3 , D50 particle size 4.9 μm, aspect ratio 3.5, specific surface area 4.50 m 2 / g) manufactured by SINO-PLATINUM was used as silver powder B.

[銀粉6]
METALOR社製フレーク銀粉(タップ密度2.8g/cm3、D50粒子径1.2 μm、アスペクト比1.2、比表面積1.50m2/g)を銀粉Fとした。
[Silver powder 6]
Metal powder Flake silver powder (tap density 2.8 g / cm 3 , D50 particle diameter 1.2 μm, aspect ratio 1.2, specific surface area 1.50 m 2 / g) was defined as silver powder F.

[銀粉7]
Johnson Matthey社製球状銀粉(タップ密度3.2g/cm3、D50 粒子径0.9μm、アスペクト比1.3、比表面積3.00m2/g)を銀粉Gとした。
[Silver powder 7]
Spherical silver powder (tap density: 3.2 g / cm 3 , D50 particle size: 0.9 μm, aspect ratio: 1.3, specific surface area: 3.00 m 2 / g) manufactured by Johnson Matthey was used as silver powder G.

[銀粉8]
DOWAエレクトロニクス社製球状銀粉(タップ密度3.7g/cm3、D50粒子径0.9μm、アスペクト比1.2、比表面積1.33m2/g)を銀粉Hとした。
[Silver powder 8]
A spherical silver powder (tap density 3.7 g / cm 3 , D50 particle diameter 0.9 μm, aspect ratio 1.2, specific surface area 1.33 m 2 / g) manufactured by DOWA Electronics Co., Ltd. was used as silver powder H.

[銀粉9]
三井金属社製球状銀粉(タップ密度0.9g/cm3、D50粒子径5.1μm、アス ペクト比1.4、比表面積1.91m2/g)を銀粉Iとした。
[Silver powder 9]
Spherical silver powder (tap density 0.9 g / cm 3 , D50 particle diameter 5.1 μm, aspect ratio 1.4, specific surface area 1.91 m 2 / g) manufactured by Mitsui Kinzoku Co., Ltd. was used as silver powder I.

[銀粉10]
DOWAエレクトロニクス社製箔状銀粉(タップ密度1.1g/cm3、D50粒子径8.9μm、アスペクト比22.0、比表面積2.14m2/g)を銀粉Jとした。
[Silver powder 10]
A foil-like silver powder (tap density 1.1 g / cm 3 , D50 particle diameter 8.9 μm, aspect ratio 22.0, specific surface area 2.14 m 2 / g) manufactured by DOWA Electronics Co., Ltd. was defined as silver powder J.

[銀粉11]
SINO−PLATINUM社製フレーク銀粉(タップ密度2.9g/cm3、D50 粒子径5.2μm、アスペクト比2.8、比表面積5.60m2/g)を銀粉Kとした 。
[Silver powder 11]
Flake silver powder (tap density 2.9 g / cm 3 , D50 particle diameter 5.2 μm, aspect ratio 2.8, specific surface area 5.60 m 2 / g) manufactured by SINO-PLATINUM was used as silver powder K.

<銀粉のタップ密度、D50粒子径、アスペクト比およびBET比表面積の測定>
1)タップ密度
JIS Z 2512:2006法に基づいて測定した。
2)D50粒子径
島津製作所社製レーザー回折粒度分布測定装置「SALAD−3000」を用いて測定した体積粒度分布の累積粒度(D50)を測定した。
3)アスペクト比
後述するバインダー樹脂(1)に各導電性粒子及び硬化剤(1)を加えたアスペクト比測定用の導電性インキを得、前記導電性インキの硬化物のサンプルを作成後、公知の装置でサンプルを切断し、断面を露出させた。その断面をSEM観察し、30個以上無作為に選択した粒子の、長軸方向の長さと短軸方向の長さを測定した。各粒子の長軸方向の長さを短軸方向の長さで除した値の、30個以上の平均値を求め、アスペクト比とした。
4)BET比表面積
島津製作所製流動式比表面積測定装置「フローソーブII」を用いて測定した表面積の値より、以下の計算式に基づき比表面積を求めた。
比表面積(m2/g)=表面積(m2)/粉末質量(g)
<Measurement of tap density, D50 particle diameter, aspect ratio and BET specific surface area of silver powder>
1) Tap density It measured based on JIS Z 2512: 2006 method.
2) D50 particle size The cumulative particle size (D50) of the volume particle size distribution measured using a laser diffraction particle size distribution measuring device “SALAD-3000” manufactured by Shimadzu Corporation was measured.
3) Aspect ratio A conductive ink for measuring an aspect ratio obtained by adding each conductive particle and a curing agent (1) to a binder resin (1), which will be described later, is prepared, and a sample of a cured product of the conductive ink is prepared. The sample was cut with the apparatus of 1 to expose the cross section. The cross section was observed by SEM, and the length in the major axis direction and the length in the minor axis direction of 30 or more randomly selected particles were measured. An average value of 30 or more of values obtained by dividing the length in the major axis direction of each particle by the length in the minor axis direction was determined and used as the aspect ratio.
4) BET specific surface area The specific surface area was calculated | required based on the following formula from the value of the surface area measured using the flow type specific surface area measuring apparatus "Flowsorb II" by Shimadzu Corporation.
Specific surface area (m 2 / g) = surface area (m 2 ) / powder mass (g)

(バインダー1)
三菱化学社製、jER1256(ビスフェノールA骨格から成るフェノキシ樹脂、重量平均分子量51,000、エポキシ当量7,800、水酸基価200、Tg95℃)40部を、γ−ブチロラクトン30部とエチルカルビトールアセテート30部との混合溶媒に溶解し、不揮発分40%のバインダー(1)溶液を得た。
(Binder 1)
40 parts by Mitsubishi Chemical Corporation, jER1256 (phenoxy resin comprising bisphenol A skeleton, weight average molecular weight 51,000, epoxy equivalent 7,800, hydroxyl value 200, Tg 95 ° C.), 30 parts γ-butyrolactone and ethyl carbitol acetate 30 To a binder (1) solution having a nonvolatile content of 40%.

(バインダー2)
三菱化学社製、jER4250(ビスフェノールAおよびビスフェノールF骨格から成るフェノキシ樹脂、重量平均分子量59,000、エポキシ当量8,200、水酸基価210、Tg70℃)40部を、γ−ブチロラクトン30部とエチルカルビトールアセテート30部との混合溶媒に溶解し、不揮発分40%のバインダー(2)溶液を得た。
(Binder 2)
40 parts of Mitsubishi Chemical Co., Ltd., jER4250 (phenoxy resin comprising bisphenol A and bisphenol F skeleton, weight average molecular weight 59,000, epoxy equivalent 8,200, hydroxyl value 210, Tg 70 ° C.), 30 parts of γ-butyrolactone and ethylcarby It was dissolved in a mixed solvent with 30 parts of tall acetate to obtain a binder (2) solution having a nonvolatile content of 40%.

(バインダー3)
三菱化学社製、jER1009(重量平均分子量4,000、エポキシ当量2,800、水酸基価196、Tg144℃)40部を、γ−ブチロラクトン30部とエチルカルビトールアセテート30部との混合溶媒に溶解し、不揮発分40%のバインダー(3)溶液を得た。
(Binder 3)
40 parts by Mitsubishi Chemical Corporation, jER1009 (weight average molecular weight 4,000, epoxy equivalent 2,800, hydroxyl value 196, Tg 144 ° C.) are dissolved in a mixed solvent of 30 parts of γ-butyrolactone and 30 parts of ethyl carbitol acetate. A binder (3) solution having a nonvolatile content of 40% was obtained.

(バインダー4)
攪拌機、温度計、精留管、窒素ガス導入管、減圧装置を備えた反応装置に、jER4250(ビスフェノールAおよびビスフェノールF骨格から成るフェノキシ樹脂、重量平均分子量59,000、エポキシ当量8,200、水酸基価210、Tg70℃)40部、フェニルイソシアネート17.8部、ラウリン酸ジブチル錫0.06部、γ−ブチロラクトン43.4部、エチルカルビトールアセテート43.4部を仕込み、120℃まで徐々に加熱し、ウレタン化反応を行った。IRにてイソシアネートの吸収ピークが消失したことを確認し、冷却。不揮発分が40%と成るように、γ−ブチロラクトン/エチルカルビトールアセテート=50/50の混合溶剤にて調整することで、バインダー(4)溶液を得た。
得られた溶液中の樹脂は、重量平均分子量65,000、エポキシ当量9,000、水酸基価1、Tg60℃であった。
(Binder 4)
A reactor equipped with a stirrer, a thermometer, a rectifying tube, a nitrogen gas introduction tube, and a pressure reducing device was added to jER4250 (phenoxy resin comprising bisphenol A and bisphenol F skeleton, weight average molecular weight 59,000, epoxy equivalent 8,200, hydroxyl group No. 210, Tg 70 ° C.) 40 parts, phenyl isocyanate 17.8 parts, dibutyltin laurate 0.06 parts, γ-butyrolactone 43.4 parts, ethyl carbitol acetate 43.4 parts, and gradually heated to 120 ° C. The urethanization reaction was performed. After confirming that the isocyanate absorption peak disappeared by IR, cooling. A binder (4) solution was obtained by adjusting with a mixed solvent of γ-butyrolactone / ethyl carbitol acetate = 50/50 so that the nonvolatile content was 40%.
The resin in the obtained solution had a weight average molecular weight of 65,000, an epoxy equivalent of 9,000, a hydroxyl value of 1, and a Tg of 60 ° C.

(バインダー5)
攪拌機、温度計、還流冷却管、窒素ガス導入管を備えた反応装置に、ジシクロペンタジエンジエポキシド、ビスフェノールAを、ジシクロペンタジエンジエポキシド中のエポキシ基1モルに対して、ビスフェノールAのフェノール性水酸基が0.96モルとなるように仕込み、触媒としてトリフェニルホスフィンを1%、不揮発分が40%と成るように、γ−ブチロラクトン/エチルカルビトールアセテート=50/50の混合溶剤を投入し、150℃まで徐々に昇温しながら、高Tgエポキシ樹脂の合成を行なった。
IRにてエポキシ基の吸収ピーク強度が収束したことを確認し、冷却。不揮発分が40%と成るように、γ−ブチロラクトン/エチルカルビトールアセテート=50/50の混合溶剤にて調整することで、バインダー(5)溶液を得た。
得られた溶液中の樹脂は、重量平均分子量15,000、エポキシ当量12,000、水酸基価175、Tg160℃であった。
(Binder 5)
In a reactor equipped with a stirrer, a thermometer, a reflux condenser, and a nitrogen gas introduction pipe, dicyclopentadiene diepoxide and bisphenol A are mixed with phenolic bisphenol A with respect to 1 mol of epoxy group in dicyclopentadiene diepoxide. The mixture was charged so that the hydroxyl group was 0.96 mol, and a mixed solvent of γ-butyrolactone / ethyl carbitol acetate = 50/50 was added so that triphenylphosphine was 1% and nonvolatile content was 40% as a catalyst. While gradually raising the temperature to 150 ° C., a high Tg epoxy resin was synthesized.
Confirmed that the absorption peak intensity of the epoxy group has converged by IR, then cooled. A binder (5) solution was obtained by adjusting with a mixed solvent of γ-butyrolactone / ethyl carbitol acetate = 50/50 so that the nonvolatile content was 40%.
The resin in the obtained solution had a weight average molecular weight of 15,000, an epoxy equivalent of 12,000, a hydroxyl value of 175, and a Tg of 160 ° C.

(バインダー6)
攪拌機、温度計、還流冷却管、窒素ガス導入管を備えた反応装置に、1,6−ヘキサンジエポキシド、ビスフェノールAを、1,6−ヘキサンジエポキシド中のエポキシ基1モルに対して、ビスフェノールAのフェノール性水酸基が0.96モルとなるように仕込み、触媒としてトリフェニルホスフィンを1%、不揮発分が40%と成るように、γ−ブチロラクトン/エチルカルビトールアセテート=50/50の混合溶剤を投入し、150℃まで徐々に昇温しながら、高Tgエポキシ樹脂の合成を行なった。
IRにてエポキシ基の吸収ピーク強度が収束したことを確認し、冷却。不揮発分が40%と成るように、γ−ブチロラクトン/エチルカルビトールアセテート=50/50の混合溶剤にて調整することで、バインダー(6)溶液を得た。
得られた溶液中の樹脂は、重量平均分子量18,000、エポキシ当量6,500、水酸基価230、Tg30℃であった。
(Binder 6)
In a reactor equipped with a stirrer, thermometer, reflux condenser, and nitrogen gas inlet tube, 1,6-hexane diepoxide and bisphenol A are added to bisphenol per 1 mol of epoxy group in 1,6-hexane diepoxide. A mixed solvent of γ-butyrolactone / ethyl carbitol acetate = 50/50 so that the phenolic hydroxyl group of A is 0.96 mol, triphenylphosphine is 1% and nonvolatile content is 40% as a catalyst. The Tg epoxy resin was synthesized while gradually raising the temperature to 150 ° C.
Confirmed that the absorption peak intensity of the epoxy group has converged by IR, then cooled. A binder (6) solution was obtained by adjusting with a mixed solvent of γ-butyrolactone / ethyl carbitol acetate = 50/50 so that the nonvolatile content was 40%.
The resin in the obtained solution had a weight average molecular weight of 18,000, an epoxy equivalent of 6,500, a hydroxyl value of 230, and a Tg of 30 ° C.

(バインダー7)ポリエステル樹脂の合成
攪拌機、温度計、精留管、窒素ガス導入管、減圧装置を備えた反応装置にテレフタル酸ジメチル20.3部、イソフタル酸ジメチル20.3部、エチレングリコール12.9部、ネオペンチルグリコール18.2部、及びテトラブチルチタネート0.03部を仕込み、窒素気流下で攪拌しながら180℃まで徐々に加熱し、180℃で3時間エステル交換反応を行なった。ついで、セバシン酸28.3部を仕込み180〜240℃まで徐々に加熱し、エステル化反応を行なった。240℃で2時間反応し、酸価を測定し、15以下になったら反応缶を徐々に1〜2トールまで減圧し、所定の粘度に達した時、反応を停止し取り出し、重量平均分子量が52,900、数平均分子量が23,000、水酸基価が5、酸価が1のポリエステル樹脂を得た。ポリエステル樹脂40部をイソホロン60部に溶解し、不揮発分40%のバインダー(7)溶液を得た。
(Binder 7) Synthesis of polyester resin A reactor equipped with a stirrer, a thermometer, a rectifying tube, a nitrogen gas introduction tube, and a decompression device, 20.3 parts of dimethyl terephthalate, 20.3 parts of dimethyl isophthalate, ethylene glycol 9 parts, 18.2 parts of neopentyl glycol, and 0.03 part of tetrabutyl titanate were charged, gradually heated to 180 ° C. while stirring under a nitrogen stream, and subjected to a transesterification reaction at 180 ° C. for 3 hours. Subsequently, 28.3 parts of sebacic acid was charged and gradually heated to 180 to 240 ° C. to carry out an esterification reaction. The reaction was carried out at 240 ° C. for 2 hours, the acid value was measured, and when it became 15 or less, the reaction vessel was gradually depressurized to 1 to 2 torr, and when the predetermined viscosity was reached, the reaction was stopped and taken out. A polyester resin having 52,900, a number average molecular weight of 23,000, a hydroxyl value of 5, and an acid value of 1 was obtained. 40 parts of the polyester resin was dissolved in 60 parts of isophorone to obtain a binder (7) solution having a nonvolatile content of 40%.

(バインダー8)ポリウレタン樹脂の合成
攪拌機、温度計、還流冷却管、窒素ガス導入管を備えた反応装置に、イソフタル酸と3−メチル−1,5ペンタンジオールとから得られるポリエステルポリオール((株)クラレ製「クラレポリオールP−2030」、Mn=2033)127.4部、ジメチロールブタン酸4.2部、イソホロンジイソシアネート19.2部、及びジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート32.5部を仕込み、窒素気流下にて90℃で3時間反応させ、ついでジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート115部を加えて、重量平均分子量が48,600、数平均分子量が18,000、水酸基価が4、酸価が10のポリウレタン樹脂の溶液を得た。ポリウレタン樹脂の溶液100部にイソホロン26部を加え、不揮発分40%のバインダー(8)溶液を得た。
(Binder 8) Synthesis of polyurethane resin Polyester polyol obtained from isophthalic acid and 3-methyl-1,5-pentanediol in a reactor equipped with a stirrer, a thermometer, a reflux condenser, and a nitrogen gas introduction tube (Corporation) Kuraray "Kuraray polyol P-2030", Mn = 2033) 127.4 parts, dimethylolbutanoic acid 4.2 parts, isophorone diisocyanate 19.2 parts, and diethylene glycol monoethyl ether acetate 32.5 parts, nitrogen stream The reaction is carried out at 90 ° C. for 3 hours, and then 115 parts of diethylene glycol monoethyl ether acetate is added. A polyurethane having a weight average molecular weight of 48,600, a number average molecular weight of 18,000, a hydroxyl value of 4, and an acid value of 10 A resin solution was obtained. 26 parts of isophorone was added to 100 parts of a polyurethane resin solution to obtain a binder (8) solution having a nonvolatile content of 40%.

(バインダー9)
日本ゼオン株式会社製、Nipol AR51(Tg−14℃、ムーニー粘度55)40部を、γ−ブチロラクトン30部とエチルカルビトールアセテート30部との混合溶媒に溶解し、不揮発分40%のバインダー(7)溶液を得た。
(Binder 9)
40 parts of Nipol AR51 (Tg-14 ° C., Mooney viscosity 55) manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd. is dissolved in a mixed solvent of 30 parts of γ-butyrolactone and 30 parts of ethyl carbitol acetate, and a binder having a nonvolatile content of 40% (7 ) A solution was obtained.

(バインダー10)
日本ゼオン株式会社製、Nipol AR53L(Tg−32℃、ムーニー粘度34)40部を、γ−ブチロラクトン30部とエチルカルビトールアセテート30部との混合溶媒に溶解し、不揮発分40%のバインダー(8)溶液を得た。
(Binder 10)
40 parts of Nipol AR53L (Tg-32 ° C., Mooney viscosity 34), manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd., is dissolved in a mixed solvent of 30 parts of γ-butyrolactone and 30 parts of ethyl carbitol acetate to give a binder (8 ) A solution was obtained.

(バインダー11)
日本ゼオン株式会社製、Nipol AR12(Tg−28℃、ムーニー粘度33)40部を、γ−ブチロラクトン30部とエチルカルビトールアセテート30部との混合溶媒に溶解し、不揮発分40%のバインダー(9)溶液を得た。
(Binder 11)
40 parts of Nipol AR12 (Tg-28 ° C., Mooney viscosity 33) manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd. is dissolved in a mixed solvent of 30 parts of γ-butyrolactone and 30 parts of ethyl carbitol acetate, and a binder having a nonvolatile content of 40% (9 ) A solution was obtained.

(バインダー12)
ブチルメタクリレート(BMA)85部、メチルメタクリレート(MMA)15部、アンモニア中和型アニオン性界面活性剤として、第一工業製薬株式会社製「アクアロンKH−10」2部をイオン交換水32部に溶解したものを加えて攪拌し、得られた乳化物を滴下槽に仕込んだ。
攪拌機、温度計、精留管、窒素ガス導入管、減圧装置、滴下槽を備えた反応装置に、イオン交換水を75部、日本乳化剤株式会社製「RA−9607」を0.2部仕込み、反応槽内部を窒素ガスで置換し、攪拌しながら液温を80℃まで昇温し、3%加硫酸カリウム水溶液を固形分として0.1部添加した。
5分後、上記滴下槽から乳化物の滴下を開始し、これと並行して3%過硫酸カリウム水溶液を固形分として0.35部を別の滴下口から3時間かけて滴下した。
液温を80℃に保ったまま、乳化物滴下終了後60分後に1%t−ブチルハイドロパーオキサイド水溶液、1%ロンガリット水溶液を固形分として0.02部を三回にわけて30分おきに添加し、さらに攪拌しながら80℃にて60分間熟成したのち冷却し、BMA/MMAの共重合体エマルジョンを得た。
このエマルジョンからエタノールと水で界面活性剤などの残存添加物を洗浄後、水分を蒸発乾固することで、固形分100%のアクリル樹脂乾固物を得た。
得られたアクリル樹脂乾固物は、Tg30℃、ムーニー粘度85であった。
このアクリル樹脂乾固物40部を、γ−ブチロラクトン30部とエチルカルビトールアセテート30部との混合溶媒に溶解し、不揮発分40%のバインダー(10)溶液を得た。
(Binder 12)
85 parts of butyl methacrylate (BMA), 15 parts of methyl methacrylate (MMA), and 2 parts of “Aqualon KH-10” manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd. are dissolved in 32 parts of ion-exchanged water as an ammonia neutralizing anionic surfactant. The obtained emulsion was added to the dropping tank and stirred.
In a reactor equipped with a stirrer, thermometer, rectifying tube, nitrogen gas introduction tube, decompression device, and dropping tank, 75 parts of ion-exchanged water and 0.2 part of “RA-9607” manufactured by Nippon Emulsifier Co., Ltd. were charged. The inside of the reaction vessel was replaced with nitrogen gas, the liquid temperature was raised to 80 ° C. while stirring, and 0.1 part of a 3% potassium sulfate aqueous solution was added as a solid content.
After 5 minutes, dropping of the emulsion was started from the dropping tank, and in parallel with this, 0.35 part of 3% potassium persulfate aqueous solution was added dropwise from another dropping port over 3 hours.
While maintaining the liquid temperature at 80 ° C., 60 minutes after the completion of the dropwise addition of the emulsion, 1% t-butyl hydroperoxide aqueous solution and 1% Rongalite aqueous solution are used as solids and 0.02 parts are divided into three portions every 30 minutes. The mixture was further aged at 80 ° C. for 60 minutes with stirring, and then cooled to obtain a BMA / MMA copolymer emulsion.
From this emulsion, residual additives such as surfactants were washed with ethanol and water, and then the water was evaporated to dryness to obtain an acrylic resin dry solid having a solid content of 100%.
The obtained acrylic resin dried product had a Tg of 30 ° C. and a Mooney viscosity of 85.
40 parts of this dried acrylic resin was dissolved in a mixed solvent of 30 parts of γ-butyrolactone and 30 parts of ethyl carbitol acetate to obtain a binder (10) solution having a nonvolatile content of 40%.

(バインダー13)
2−エチルヘキシルアクリレート(2EHA)100部、アンモニア中和型アニオン性界面活性剤として、第一工業製薬株式会社製「アクアロンKH−10」2部をイオン交換水32部に溶解したものを加えて攪拌し、得られた乳化物を滴下槽に仕込んだ。
攪拌機、温度計、精留管、窒素ガス導入管、減圧装置、滴下槽を備えた反応装置に、イオン交換水を75部、日本乳化剤株式会社製「RA−9607」を0.2部仕込み、反応槽内部を窒素ガスで置換し、攪拌しながら液温を80℃まで昇温し、3%加硫酸カリウム水溶液を固形分として0.1部添加した。
5分後、上記滴下槽から乳化物の滴下を開始し、これと平行して3%過硫酸カリウム水溶液を固形分として0.35部を別の滴下口から3時間かけて滴下した。
液温を80℃に保ったまま、乳化物滴下終了後60分後に1%t−ブチルハイドロパーオキサイド水溶液、1%ロンガリット水溶液を固形分として0.02部を三回にわけて30分おきに添加し、さらに攪拌しながら80℃にて60分間熟成したのち冷却し、BMA/MMAの共重合体エマルジョンを得た。
このエマルジョンからエタノールと水で界面活性剤などの残存添加物を洗浄後、水分を蒸発乾固することで、固形分100%のアクリル樹脂乾固物を得た。
得られたアクリル樹脂乾固物は、Tg−55℃、ムーニー粘度19であった。
このアクリル樹脂乾固物40部を、γ−ブチロラクトン30部とエチルカルビトールアセテート30部との混合溶媒に溶解し、不揮発分40%のバインダー(11)溶液を得た
(Binder 13)
100 parts of 2-ethylhexyl acrylate (2EHA) and 2 parts of "Aqualon KH-10" manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd. dissolved in 32 parts of ion-exchanged water as an ammonia-neutralized anionic surfactant were added and stirred. Then, the obtained emulsion was charged in a dropping tank.
In a reactor equipped with a stirrer, thermometer, rectifying tube, nitrogen gas introduction tube, decompression device, and dropping tank, 75 parts of ion-exchanged water and 0.2 part of “RA-9607” manufactured by Nippon Emulsifier Co., Ltd. were charged. The inside of the reaction vessel was replaced with nitrogen gas, the liquid temperature was raised to 80 ° C. while stirring, and 0.1 part of a 3% potassium sulfate aqueous solution was added as a solid content.
After 5 minutes, dropping of the emulsion was started from the dropping tank, and in parallel with this, 0.35 part of 3% potassium persulfate aqueous solution was added dropwise from another dropping port over 3 hours.
While maintaining the liquid temperature at 80 ° C., 60 minutes after the completion of the dropwise addition of the emulsion, 1% t-butyl hydroperoxide aqueous solution and 1% Rongalite aqueous solution are used as solids and 0.02 parts are divided into three portions every 30 minutes. The mixture was further aged at 80 ° C. for 60 minutes with stirring, and then cooled to obtain a BMA / MMA copolymer emulsion.
From this emulsion, residual additives such as surfactants were washed with ethanol and water, and then the water was evaporated to dryness to obtain an acrylic resin dry solid having a solid content of 100%.
The obtained acrylic resin dried product had a Tg of −55 ° C. and a Mooney viscosity of 19.
40 parts of this acrylic resin dried product was dissolved in a mixed solvent of 30 parts of γ-butyrolactone and 30 parts of ethyl carbitol acetate to obtain a binder (11) solution having a nonvolatile content of 40%.

(バインダー14)
攪拌機、温度計、還流冷却管、窒素ガス導入管、滴下槽を備えた反応装置に、γ−ブチロラクトン30部とエチルカルビトールアセテート30部を仕込み、攪拌機を備えた滴下槽に、ブチルアクリレート4部、エチルアクリレート36部、アゾビスイソブチロニトリル(AIBN)0.8部を仕込み、反応装置内に窒素を導入しながら100℃に昇温し、滴下槽の攪拌を開始した。
滴下槽が均一に溶解し、反応槽が100℃に達してから、滴下槽の溶液を2時間かけて徐々に滴下し、滴下終了後、AIBN 0.2部を、30分毎に4回にわけて反応槽に投入した。投入終了後、100℃のまま1.5時間攪拌し、冷却することで、不揮発分40%のバインダー(12)溶液を得た。
得られた溶液中の樹脂は、重量平均分子量25,000、Tg−23℃、ムーニー粘度3であった。
(Binder 14)
A reactor equipped with a stirrer, thermometer, reflux condenser, nitrogen gas inlet tube, and dropping tank was charged with 30 parts of γ-butyrolactone and 30 parts of ethyl carbitol acetate, and 4 parts of butyl acrylate in a dropping tank equipped with a stirrer. Then, 36 parts of ethyl acrylate and 0.8 part of azobisisobutyronitrile (AIBN) were charged, the temperature was raised to 100 ° C. while introducing nitrogen into the reaction apparatus, and stirring of the dropping tank was started.
After the dropping tank is uniformly dissolved and the reaction tank reaches 100 ° C., the solution in the dropping tank is gradually dropped over 2 hours. After the dropping is completed, 0.2 part of AIBN is added 4 times every 30 minutes. It was put into the reaction tank. After the completion of the addition, the mixture was stirred at 100 ° C. for 1.5 hours and cooled to obtain a binder (12) solution having a nonvolatile content of 40%.
The resin in the obtained solution had a weight average molecular weight of 25,000, Tg-23 ° C., and Mooney viscosity of 3.

(バインダー15)
ブチルアクリレート(BA)10部、エチルアクリレート(EA)90部、1,6−ヘキサンジアクリレート2部、アンモニア中和型アニオン性界面活性剤として、第一工業製薬株式会社製「アクアロンKH−10」2部をイオン交換水32部に溶解したものを加えて攪拌し、得られた乳化物を滴下槽に仕込んだ。
攪拌機、温度計、精留管、窒素ガス導入管、減圧装置、滴下槽を備えた反応装置に、イオン交換水を75部、日本乳化剤株式会社製「RA−9607」を0.2部仕込み、反応槽内部を窒素ガスで置換し、攪拌しながら液温を80℃まで昇温し、3%加硫酸カリウム水溶液を固形分として0.1部添加した。
5分後、上記滴下槽から乳化物の滴下を開始し、これと平行して3%過硫酸カリウム水溶液を固形分として0.35部を別の滴下口から3時間かけて滴下した。
液温を80℃に保ったまま、乳化物滴下終了後60分後に1%t−ブチルハイドロパーオキサイド水溶液、1%ロンガリット水溶液を固形分として0.02部を三回にわけて30分おきに添加し、さらに攪拌しながら80℃にて60分間熟成したのち冷却し、BMA/MMAの共重合体エマルジョンを得た。
このエマルジョンからエタノールと水で界面活性剤などの残存添加物を洗浄後、水分を蒸発乾固することで、固形分100%のアクリル樹脂乾固物を得た。
得られたアクリル樹脂乾固物は、Tg−18℃、ムーニー粘度100であった。
このアクリル樹脂乾固物40部を、γ−ブチロラクトン30部とエチルカルビトールアセテート30部との混合溶媒に溶解し、不揮発分40%のバインダー(13)溶液を得た
(Binder 15)
10 parts butyl acrylate (BA), 90 parts ethyl acrylate (EA), 2 parts 1,6-hexanediacrylate, “Aqualon KH-10” manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd. as an ammonia neutralizing anionic surfactant A solution obtained by dissolving 2 parts in 32 parts of ion-exchanged water was added and stirred, and the resulting emulsion was charged into a dropping tank.
In a reactor equipped with a stirrer, thermometer, rectifying tube, nitrogen gas introduction tube, decompression device, and dropping tank, 75 parts of ion-exchanged water and 0.2 part of “RA-9607” manufactured by Nippon Emulsifier Co., Ltd. were charged. The inside of the reaction vessel was replaced with nitrogen gas, the liquid temperature was raised to 80 ° C. while stirring, and 0.1 part of a 3% potassium sulfate aqueous solution was added as a solid content.
After 5 minutes, dropping of the emulsion was started from the dropping tank, and in parallel with this, 0.35 part of 3% potassium persulfate aqueous solution was added dropwise from another dropping port over 3 hours.
While maintaining the liquid temperature at 80 ° C., 60 minutes after the completion of the dropwise addition of the emulsion, 1% t-butyl hydroperoxide aqueous solution and 1% Rongalite aqueous solution are used as solids and 0.02 parts are divided into three portions every 30 minutes. The mixture was further aged at 80 ° C. for 60 minutes with stirring, and then cooled to obtain a BMA / MMA copolymer emulsion.
From this emulsion, residual additives such as surfactants were washed with ethanol and water, and then the water was evaporated to dryness to obtain an acrylic resin dry solid having a solid content of 100%.
The obtained acrylic resin dried product had a Tg of -18 ° C and a Mooney viscosity of 100.
40 parts of this acrylic resin dried product was dissolved in a mixed solvent of 30 parts of γ-butyrolactone and 30 parts of ethyl carbitol acetate to obtain a binder (13) solution having a nonvolatile content of 40%.

<各バインダーのMw、Tg、水酸基価、エポキシ当量、ムーニー粘度>
1)Mw
カラムとして「LF−604」(昭和電工株式会社製:迅速分析用GPCカラム:6mmID×150mmサイズ)を直列に2本接続した東ソー株式会社製GPC(ゲルパーミエーションクロマトグラフィー)「HPC−8020」を用い、溶媒(THF;テトラヒドロフラン)、流量0.6ml/min、カラム温度40℃の条件で測定しポリスチレン換算にて、重量平均分子量(Mw)の決定を行った。
2)Tg
SIIナノテクノロジー株式会社製「DSC220C」を用い、昇温速度5℃/分にて−50℃〜300℃の条件で測定し、熱量カーブの変曲点により確定した。
3)水酸基価
JIS K 0070に準じて測定した。
4)エポキシ当量
JIS K 7236に準じて測定した。
5)ムーニー粘度
JIS K6300に準拠した島津株式会社製ムーニー粘度計「SMV−300」を用い、100℃にて予備加熱1分、2rpmで回転し4分経過後の粘度を測定した。
<Mw, Tg, hydroxyl value, epoxy equivalent, Mooney viscosity of each binder>
1) Mw
Tosoh Corporation GPC (Gel Permeation Chromatography) “HPC-8020” in which two columns “LF-604” (Showa Denko KK: GPC column for rapid analysis: 6 mm ID × 150 mm size) were connected in series. The weight average molecular weight (Mw) was determined in terms of polystyrene using a solvent (THF; tetrahydrofuran), a flow rate of 0.6 ml / min, and a column temperature of 40 ° C.
2) Tg
Using “DSC220C” manufactured by SII NanoTechnology Co., Ltd., the temperature was measured at −50 ° C. to 300 ° C. at a rate of temperature increase of 5 ° C./min.
3) Hydroxyl value: Measured according to JIS K 0070.
4) Epoxy equivalent It measured according to JISK7236.
5) Mooney Viscosity Using a Mooney viscometer “SMV-300” manufactured by Shimadzu Corporation according to JIS K6300, preheating was performed at 100 ° C. for 1 minute and at 2 rpm, and the viscosity after 4 minutes was measured.

[金属キレートA1]
アルミキレートとして、川研ファインケミカル株式会社製ALCH(一般式(1)、固形分90%)を、ブチルカルビトールアセテートを用いて固形分が45%となるように調整し、金属キレートA1の溶液とした。
[Metal chelate A1]
As an aluminum chelate, ALCH (general formula (1), solid content 90%) manufactured by Kawaken Fine Chemical Co., Ltd. was adjusted to a solid content of 45% using butyl carbitol acetate, and a solution of metal chelate A1 and did.

一般式(1)

Figure 2012246433
General formula (1)
Figure 2012246433

[金属キレートA2]
チタンキレートとして、マツモトファインケミカル株式会社製オルガチックスTC−100(チタンアセチルアセトナート、固形分75%)を、ブチルカルビトールアセテートを用いて固形分が45%となるように調整し、金属キレートA2の溶液とした。
[Metal chelate A2]
As a titanium chelate, Matsugai Fine Chemical Co., Ltd. Olga Chics TC-100 (titanium acetylacetonate, solid content 75%) was adjusted using butyl carbitol acetate so that the solid content would be 45%. It was set as the solution.

[金属キレートA3]
ジルコニウムキレートとして、マツモトファインケミカル株式会社製オルガチックスZC−540(ジルコニウムトリブトキシモノアセチルアセトネート、固形分45%)を金属キレートA3の溶液とした。
[Metal chelate A3]
As a zirconium chelate, ORGATIZ ZC-540 (zirconium tributoxy monoacetylacetonate, solid content 45%) manufactured by Matsumoto Fine Chemical Co., Ltd. was used as the metal chelate A3 solution.

[硬化剤1]
イミダゾール型硬化剤、アデカハードナーEH−4346S(株式会社アデカ製、固形分100%)を硬化剤(1)とした。
[硬化剤2]
ブロック型ヘキサメチレンジイソシアネート硬化剤、デュラネートMF−K60X(旭化成ケミカルズ社製、固形分60%)を硬化剤(2)の溶液とした。
[硬化剤3]
ジシアンジアミド(固形100%)を硬化剤(3)とした。
[Curing agent 1]
An imidazole type curing agent, Adeka Hardener EH-4346S (manufactured by Adeka Co., Ltd., solid content 100%) was used as a curing agent (1).
[Curing agent 2]
A block type hexamethylene diisocyanate curing agent, Duranate MF-K60X (manufactured by Asahi Kasei Chemicals Corporation, solid content 60%) was used as a solution of the curing agent (2).
[Curing agent 3]
Dicyandiamide (solid 100%) was used as the curing agent (3).

実施例1<導電性インキの調製>
導電性粒子(A1)として銀粉1:39.1重量部と、
導電性粒子(A2)として銀粉6:39.1重量部と、
4.32重量部のエポキシ樹脂を含むバインダー(1)溶液:10.8重量部と、
2.2重量部のアクリル系エラストマーを含むバインダー(7)溶液:5.5重量部と、
0.54重量部のアルミニウムエチルアセトアセテートジイソプロピオネートを含む金属キレートC1の溶液:1.2重量部と、
硬化剤(1):1.7重量部と、
γ−ブチロラクトンとエチルカルビトールアセテートの1/1(重量比)の混合溶剤:2.3重量部と、
ブチルカルビトールアセテート:0.4重量部とを
ディスパーにて混合後、3本ロールにより分散し、導電性インキを調製した。
得られた導電性インキは、固形分(有機溶剤を除く成分)が約87重量%である。固形分約87重量部中の銀粉1と銀粉6の合計量は約78.2重量部であり、固形分100重量%中、約90重量%に当たる。導電性粒子(A1)と導電性粒子(A2)との重量比は、[(A1)/(A2)]=約1である。エポキシ樹脂(B1)とアクリル系エラストマー(B2)との重量比は、[(B1)/(B2)]=約2である。
そして、ティー・エイ・インスツルメント社製レーオメーター「AR−G2」を使用して、25℃の温度下で、周波数1Hzに固定し、振動応力1.0〜10,0000Paの範囲で貯蔵弾性率G’等の動的粘弾性特性を測定したところ、実施例1の導電性インキの振動応力50Paにおける貯蔵弾性率G’は5,400、tanδは0.73であった。
また、東機産業株式会社製E型粘度計「Viscometer TVH−22」を用い、25度、5rpmの条件で測定した粘度は、210(mPa・s)であり、TI値(2rpm/20rpm)は9.5であった。
得られた導電性インキについて、後述する種々の評価をした。結果を表1に示す。
Example 1 <Preparation of conductive ink>
1: 39.1 parts by weight of silver powder as conductive particles (A1);
Silver powder 6: 39.1 parts by weight as conductive particles (A2),
Binder (1) solution containing 4.32 parts by weight of epoxy resin: 10.8 parts by weight;
Binder (7) solution containing 2.2 parts by weight of acrylic elastomer: 5.5 parts by weight;
A solution of metal chelate C1 containing 0.54 parts by weight of aluminum ethyl acetoacetate diisopropionate: 1.2 parts by weight;
Curing agent (1): 1.7 parts by weight,
a mixed solvent of 1/1 (weight ratio) of γ-butyrolactone and ethyl carbitol acetate: 2.3 parts by weight;
Butyl carbitol acetate: 0.4 part by weight was mixed with a disper and dispersed with three rolls to prepare a conductive ink.
The obtained conductive ink has a solid content (a component excluding an organic solvent) of about 87% by weight. The total amount of silver powder 1 and silver powder 6 in about 87 parts by weight of solids is about 78.2 parts by weight, which corresponds to about 90% by weight in 100% by weight of solids. The weight ratio of the conductive particles (A1) to the conductive particles (A2) is [(A1) / (A2)] = about 1. The weight ratio of the epoxy resin (B1) to the acrylic elastomer (B2) is [(B1) / (B2)] = about 2.
Then, using a rheometer “AR-G2” manufactured by TA Instruments Inc., it is fixed at a frequency of 1 Hz at a temperature of 25 ° C., and has a storage elasticity in the range of vibration stress of 1.0 to 10,000,000 Pa. When the dynamic viscoelastic properties such as the modulus G ′ were measured, the storage elastic modulus G ′ of the conductive ink of Example 1 at a vibration stress of 50 Pa was 5,400, and tan δ was 0.73.
The viscosity measured under the conditions of 25 degrees and 5 rpm using an E-type viscometer “Viscometer TVH-22” manufactured by Toki Sangyo Co., Ltd. is 210 (mPa · s), and the TI value (2 rpm / 20 rpm) is It was 9.5.
The obtained conductive ink was subjected to various evaluations described later. The results are shown in Table 1.

実施例2〜23、比較例1〜27<導電性インキの調製>
表1〜6に示す配合比率にて銀粉、バインダー樹脂溶液、金属キレート、硬化剤、溶剤をディスパーにて混合後、3本ロールにより分散し、実施例1と同様にして導電性インキを調製し、同様に評価した。結果を表1〜6に示す。
Examples 2 to 23, Comparative Examples 1 to 27 <Preparation of conductive ink>
Silver powder, binder resin solution, metal chelate, curing agent, and solvent were mixed with a disper at the mixing ratio shown in Tables 1 to 6, and then dispersed with three rolls to prepare a conductive ink in the same manner as in Example 1. , Evaluated in the same way. The results are shown in Tables 1-6.

実施例24〜26<導電性インキの調製>
表3に示すように実施例1、7、4とそれぞれ同じ配合比率にてバインダー樹脂溶液、硬化剤、溶剤をディスパーにて混合し樹脂溶液を得て、得られた樹脂溶液を半量ずつにわけ、それぞれの樹脂溶液に表3に示す配合比率にて導電性粒子(A1)及び導電性粒子(A2)をディスパーにて混合後、それぞれの混合物を別々に3本ロールにより分散後、それぞれの分散体に表3に示す配合比率の半量の金属キレートをディスパーで混合後、3本ロールにて分散した後、それぞれの分散体をディスパーにて混合して導電性インキを調製し、実施例1と同様に評価した。結果を表3に示す。
Examples 24-26 <Preparation of conductive ink>
As shown in Table 3, a binder resin solution, a curing agent, and a solvent were mixed with a disper at the same blending ratio as in Examples 1, 7, and 4 to obtain a resin solution, and the resulting resin solution was divided into half amounts. After mixing the conductive particles (A1) and the conductive particles (A2) with a disper at the blending ratio shown in Table 3 in each resin solution, each mixture is separately dispersed with three rolls and then dispersed. After mixing a half amount of the metal chelate shown in Table 3 in the body with a disper and dispersing with three rolls, each dispersion was mixed with a disper to prepare a conductive ink. Evaluation was performed in the same manner. The results are shown in Table 3.

[導電性(体積抵抗率)及び密着性の評価]
高精度スクリーン印刷装置(東海精機株式会社製SERIA)によって、厚さ75μmのコロナ処理したポリエチレンテレフタレートフィルム(以下、PETフィルムという)のコロナ処理面に、各実施例、各比較例の導電インキを15mm×30mmのパターン形状にスクリーン印刷し、150℃オーブンにて30分乾燥させ、厚みが8〜10μmの導電性印刷物を複数得た。
得られた印刷物について、初期状態(常態)の膜厚、表面抵抗値を測定し、体積抵抗率を求め、さらに密着性を評価した。
次いで、各印刷物を、130℃の環境下に1000時間曝したり(高温保存試験)、60℃、90%RHの環境下に1000時間曝したり(耐湿熱性試験)、−50℃の環境下に30分間、次いで150℃の環境下に30分間曝すという工程を1サイクルとして1000サイクル繰り返したり(熱衝撃耐性(ヒートサイクル)試験)した後、体積抵抗率及び密着性を初期と同様に評価した。
評価方法および評価基準は下記の通りである。
[Evaluation of conductivity (volume resistivity) and adhesion]
On the corona-treated surface of a 75 μm thick corona-treated polyethylene terephthalate film (hereinafter referred to as “PET film”) using a high-precision screen printer (SERIA manufactured by Tokai Seiki Co., Ltd.), the conductive ink of each example and each comparative example was 15 mm. Screen printing was performed in a pattern shape of × 30 mm and dried in an oven at 150 ° C. for 30 minutes to obtain a plurality of conductive printed materials having a thickness of 8 to 10 μm.
About the obtained printed matter, the film thickness and surface resistance value of an initial state (normal state) were measured, the volume resistivity was calculated | required, and adhesiveness was evaluated further.
Next, each printed matter is exposed to an environment of 130 ° C. for 1000 hours (high-temperature storage test), exposed to an environment of 60 ° C. and 90% RH for 1000 hours (moisture and heat resistance test), and is exposed to an environment of −50 ° C. for 30 hours. The process of exposing for 30 minutes and then in an environment of 150 ° C. for 30 minutes was repeated as 1000 cycles (thermal shock resistance (heat cycle) test), and the volume resistivity and adhesion were evaluated in the same manner as in the initial stage.
Evaluation methods and evaluation criteria are as follows.

<膜厚の測定>
上記印刷物の膜厚は、仙台ニコン社製MH−15M型測定器を用いて測定した。
<表面抵抗値の測定>
上記印刷物の表面抵抗値は、25℃、湿度50%環境下にて三菱化学社製ロレスタAPMCP−T400測定器を用い、測定した。
<Measurement of film thickness>
The film thickness of the printed matter was measured using an MH-15M type measuring instrument manufactured by Sendai Nikon Corporation.
<Measurement of surface resistance value>
The surface resistance value of the printed matter was measured using a Loresta APMCP-T400 measuring instrument manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation in an environment of 25 ° C. and 50% humidity.

<体積抵抗率の評価>
上記方法で測定された表面抵抗値、および膜厚より、体積抵抗率を算出した。
体積抵抗率が8.0×10-5Ω・cm以下であれば、導電材料として、実用的に広く使用可能であるために好ましく、5.0×10-5Ω・cm以下であれば、より広い用途で使用可能であるため、より好ましい。一方、8.0×10-5より高い場合は、その利用範囲が限定されるため、好ましくない。
○:5.0×10-5Ω・cm以下
△:5.0×10-5Ω・cmより高く、8.0×10-5Ω・cm以下
×:8.0×10-5より高い
<Evaluation of volume resistivity>
The volume resistivity was calculated from the surface resistance value measured by the above method and the film thickness.
A volume resistivity of 8.0 × 10 −5 Ω · cm or less is preferable because it can be practically widely used as a conductive material, and a volume resistivity of 5.0 × 10 −5 Ω · cm or less is preferable. It is more preferable because it can be used in a wider range of applications. On the other hand, when it is higher than 8.0 × 10 −5 , the range of use is limited, which is not preferable.
○: 5.0 × 10 −5 Ω · cm or less Δ: higher than 5.0 × 10 −5 Ω · cm, 8.0 × 10 −5 Ω · cm or less ×: higher than 8.0 × 10 −5

<密着性の評価>
JIS K5600に準拠して、テープ密着試験を実施した。
印刷面に、幅1m間隔に10マス×10マスの計100マス目をカッターで入れ、ニチバン製セロハンテープ(25mm幅)を印刷面に貼り付け、急激に剥離し、残ったマス目の状態にて評価を行った。
○:剥離無し(密着性良好)
△:マスの端がわずかに欠ける(密着性やや不良だが、実用上使用可能)
×:1マス以上の剥離が観察される(密着性不良)
<Evaluation of adhesion>
A tape adhesion test was performed in accordance with JIS K5600.
Put a total of 100 squares of 10 squares x 10 squares at a 1 m width interval on the printed surface with a cutter, apply Nichiban cellophane tape (25 mm wide) to the printed surface, peel off rapidly, and leave the remaining squares And evaluated.
○: No peeling (good adhesion)
Δ: Slightly chipped edges of the mass (adhesion is slightly poor but can be used practically)
X: Peeling over 1 square is observed (adhesion failure)

[他の基材に対する密着性の評価]
上記コロナ処理PETフィルムの代わりに、ITO積層フィルム(日東電工社製、V270L−TEMP、75μm厚)、およびこのITO積層フィルムの全面を塩酸でエッチングしてITO層を除去して基材(ポリエチレンテレフタレートフィルム)を露出させたものを用いた以外はPETフィルムの場合と同様にして、各実施例、各比較例の導電インキを用い、印刷物を得、同様にして常態(初期)の密着性を評価した。
[Evaluation of adhesion to other substrates]
Instead of the corona-treated PET film, an ITO laminated film (manufactured by Nitto Denko Corporation, V270L-TEMP, 75 μm thickness), and the entire surface of this ITO laminated film are etched with hydrochloric acid to remove the ITO layer and a base material (polyethylene terephthalate) Using the conductive inks of each of the examples and comparative examples, a printed matter was obtained in the same manner as in the case of the PET film except that the film was exposed, and the normal (initial) adhesion was evaluated in the same manner. did.

[屈曲性の評価]
上記厚コロナ処理PETフィルムのコロナ処理面に、各実施例、各比較例の導電インキを用い、線幅300μm、線間の幅2mm(L/S=300μm/2000μm)、長さ50mmの配線パターンを10本、スクリーン印刷し、150℃オーブンにて30分乾燥させ、厚みが8〜10μmの屈曲性評価用の導電性印刷物を得た。
10本の配線パターンを中心にして、印刷領域の5mm外側を一周切り、60mm×31mmの試験片を切り出した。50mm長の10本のパターン線端間の抵抗値を測定し、その平均値を初期の抵抗値とした。
次いで、前記試験片の長軸方向の印刷パターン中央部を山折に180度に折り曲げ、折り曲げ部分に2.0kgの荷重を5秒間乗せ、その後、試験片をフラットに戻して折り曲げ部分に2.0kgの荷重を5秒間乗せるという作業を20回くり返した後、初期と同様に50mm長の10本のパターン線端間の抵抗値を測定し、平均値を求め、折り曲げ後の抵抗値とした。折り曲げ前後の抵抗値の上昇度合いを次の式で算出し、評価した。
抵抗値上昇度(倍)= 20回折り曲げ後の抵抗値/折り曲げ前の抵抗値
○:1.5倍以下。折り曲げによる抵抗値変動幅が小さく、良好。
△:1.5倍より大きく2.5倍以下。折り曲げによる抵抗値変動はあるものの、回路としての実用性は保持されており、使用可能。
×:2.5倍より大きい。折り曲げによる抵抗値変動が大きく、配線としての使用範囲が著しく制限されるため、好ましくない。
[Evaluation of flexibility]
For the corona-treated surface of the thick corona-treated PET film, using the conductive ink of each example and each comparative example, a wiring pattern having a line width of 300 μm, a line width of 2 mm (L / S = 300 μm / 2000 μm), and a length of 50 mm 10 were screen-printed and dried in an oven at 150 ° C. for 30 minutes to obtain a conductive printed material for evaluation of flexibility having a thickness of 8 to 10 μm.
A test piece of 60 mm × 31 mm was cut out with a circle of 5 mm outside of the print area around 10 wiring patterns. The resistance value between 10 pattern line ends of 50 mm length was measured, and the average value was used as the initial resistance value.
Next, the central portion of the print pattern in the major axis direction of the test piece is bent at 180 degrees in a mountain fold, and a load of 2.0 kg is applied to the bent portion for 5 seconds, and then the test piece is returned to a flat shape and 2.0 kg is applied to the bent portion. After repeating the work of applying the load of 5 seconds for 20 seconds, the resistance value between the ends of the 10 pattern lines having a length of 50 mm was measured in the same manner as in the initial stage, and the average value was obtained to obtain the resistance value after bending. The degree of increase in resistance value before and after bending was calculated and evaluated by the following formula.
Resistance value increase degree (times) = resistance value after bending 20 times / resistance value before bending ○: 1.5 times or less. The resistance fluctuation range by bending is small and good.
Δ: More than 1.5 times and less than 2.5 times. Although there is fluctuation in resistance value due to bending, the practicality as a circuit is maintained and it can be used.
X: It is larger than 2.5 times. Since the resistance value fluctuation due to bending is large and the use range as wiring is remarkably limited, it is not preferable.

[反りの評価]
上記コロナ処理PETフィルムのコロナ処理面に、各実施例、各比較例の導電インキを用い、50mm×50mmのベタ部をスクリーン印刷し、150℃オーブンにて30分乾燥させ、厚みが8〜10μmの反り評価用の導電性印刷物を得た。
次いで、上記ベタ部の5mm外側を一周切り、55mm×55mmの反り評価用の試験片を切り出した。前記試験片を180℃、1時間加熱し、25℃に戻した後、試験片を平坦な台に乗せ、台から浮き上がっている四隅の高さを測定し、その平均値を求め、以下の基準にて評価した。
○:反り高さ10mm以下。熱による反りの影響が小さく、良好。
△:反り高さ10mmより大きく、20mm以下。熱による反りの影響はあるものの、回路としての実用性は保持されており、使用可能。
×:反り高さ20mmより大きい。熱による反りの影響が大きく、配線としての使用範囲が著しく制限されるため、好ましくない。
[Evaluation of warpage]
On the corona-treated surface of the corona-treated PET film, using the conductive ink of each example and each comparative example, a 50 mm × 50 mm solid portion was screen-printed and dried in a 150 ° C. oven for 30 minutes, and the thickness was 8 to 10 μm. A conductive printed material for warpage evaluation was obtained.
Next, the test piece for warpage evaluation of 55 mm × 55 mm was cut out by making a round on the outer side of the solid part 5 mm. The test piece was heated at 180 ° C. for 1 hour and returned to 25 ° C., then the test piece was placed on a flat table, the heights of the four corners floating from the table were measured, and the average value was obtained. Evaluated.
○: Warpage height is 10 mm or less. The effect of warping due to heat is small and good.
(Triangle | delta): Warp height is larger than 10 mm and 20 mm or less. Despite the influence of warping due to heat, the practicality of the circuit is maintained and it can be used.
X: Warpage height is larger than 20 mm. Since the influence of the warp by heat is large and the use range as wiring is remarkably limited, it is not preferable.

[耐溶剤性の評価]
抵抗値測定及び密着性評価の場合と同様にしてコロナ処理PETフィルム上に設けた15mm×30mmのパターン部分を、メチルエチルケトンを含浸させた綿棒で、20回擦り、綿棒に付着した汚れ(銀ペースト成分)を目視で観察することで、耐溶剤性を評価した。
○:綿棒の汚れがほとんど無く、耐溶剤性は良好。
△:綿棒の汚れが若干観察されるが、回路としての実用性は保持されており、使用可能。
×:綿棒の汚れが著しく、配線が無くなる場合もあり、使用範囲が著しく制限されるため、好ましくない。
[Evaluation of solvent resistance]
As in the case of resistance measurement and adhesion evaluation, a 15 mm × 30 mm pattern portion provided on a corona-treated PET film was rubbed 20 times with a cotton swab impregnated with methyl ethyl ketone, and dirt (silver paste component) ) Was visually observed to evaluate the solvent resistance.
○: There is almost no dirt on the swab and the solvent resistance is good.
Δ: Some dirt on the cotton swab is observed, but the practicality as a circuit is maintained and it can be used.
X: The cotton swab is very dirty and the wiring may be lost.

[高速連続印刷時における、高精細印刷性及び平坦性の評価]
高精度スクリーン印刷装置(東海精機株式会社製SERIA)を用い、下記の条件にて、厚さ75μmのコロナ処理PETフィルムのコロナ処理面の200mm×200mmの領域に、各実施例、各比較例の導電インキを、以下に示す3つのパターンを、20枚連続印刷した後、150℃で30分間、乾燥させ、厚みが8〜10μmの導電性印刷物を得、5枚目と20枚目の印刷物について、印刷状態を評価した。
[Evaluation of high-definition printability and flatness during high-speed continuous printing]
Using a high-precision screen printing device (SERIA manufactured by Tokai Seiki Co., Ltd.), each of the examples and comparative examples was placed in a 200 mm × 200 mm region of the corona-treated surface of the corona-treated PET film having a thickness of 75 μm under the following conditions. After conducting 20 continuous printings of the following three patterns of conductive ink, drying was performed at 150 ° C. for 30 minutes to obtain a conductive printed material having a thickness of 8 to 10 μm. About the 5th and 20th printed materials The printing state was evaluated.

パターン1:線幅40μm、線間の幅60μm(L/S=40μm/60μm)の微細配線パターン100本
パターン2:線幅300μm、線間の幅2mm(L/S=300μm/2000μm)、線長50mmの微細配線パターン10本
パターン3:15mm×30mmのベタ部を2面
Pattern 1: 100 fine wiring patterns having a line width of 40 μm and a line width of 60 μm (L / S = 40 μm / 60 μm) Pattern 2: a line width of 300 μm, a line width of 2 mm (L / S = 300 μm / 2000 μm), a line 10 fine wiring patterns with a length of 50 mm Pattern 3: Two 15 mm x 30 mm solid parts

(スクリーン印刷条件)
・スクリーン:ステンレス版650メッシュ
・乳剤厚:15μm
・スクリーン枠:650×550mm
・スキージ研磨角度:90°(平スキージ)
・スキージアタック角度:70°
・スキージ硬度:80°
・スキージ速度:100mm/秒
・スキージ印圧:10kg
・クリアランス:3.5mm
(Screen printing conditions)
・ Screen: Stainless steel plate 650 mesh ・ Emulsion thickness: 15 μm
・ Screen frame: 650x550mm
・ Squeegee polishing angle: 90 ° (flat squeegee)
・ Ski Dia Attack Angle: 70 °
・ Squeegee hardness: 80 °
・ Squeegee speed: 100mm / sec ・ Squeegee printing pressure: 10kg
・ Clearance: 3.5mm

<パターン1の微細配線の太り度合い>
パターン1の微細配線部を、デジタルマイクロスコープ(株式会社キーエンス社製VHX−900)を用いて拡大写真(倍率500倍)を撮影した。撮影した拡大写真をニレコ社製小型汎用画像解析装置「LUZEX AP」を用いて印刷後の細線幅を読み取った。
具体的には、5枚目、20枚目の印刷物について、それぞれ任意の細線8本を選択し、1本につき460箇所、8本合計で3680箇所の線幅を測定し、平均線幅、および、細線の太りの度合い「(平均線幅−40μm)/40μm(%)」を求めた。
◎:10%未満。線幅の太りが認められず、細線印刷性は非常に良好。
○:10%以上〜20%未満。線幅の太りがほとんど認められず、細線印刷性は良好
△:20%以上〜40%未満。線幅の太りがやや認められるが、細線印刷性は実用上差し支えの無いレベル
×:40%以上。線幅の太りが認められ、細線印刷性は不良
<Thickness degree of fine wiring of pattern 1>
The fine wiring part of the pattern 1 was image | photographed the enlarged photograph (magnification 500 times) using the digital microscope (VHX-900 by Keyence Corporation). The fine line width after printing was read using the small-sized general-purpose image analyzer “LUZEX AP” manufactured by Nireco.
Specifically, for the printed matter on the fifth and twentieth sheets, 8 arbitrary thin lines are selected, the line widths at 460 points per line, total of 8680 are measured, the average line width, and The degree of thin line thickness “(average line width−40 μm) / 40 μm (%)” was determined.
A: Less than 10%. There is no thickening of the line width, and the fine line printability is very good.
○: 10% or more and less than 20%. There is almost no thickening of the line width, and fine line printability is good. Δ: 20% to less than 40%. A slight increase in the line width is recognized, but the fine line printability is practically satisfactory. X: 40% or more. Thickening of line width is recognized and thin line printability is poor

<パターン1の微細配線の形状>
さらに、パターン1の微細配線部分の形状を下記の基準で評価した
○:微細配線部分は、蛇行による太さのばらつき、にじみ、掠れを生じておらず、微細配線部分の境界線が明瞭で良好であった。
△:微細配線部分は、蛇行による太さのばらつきが多少見られたが、にじみ、掠れを生じておらず、実用上差し支えの無いレベルであった。
×:微細配線部分は、蛇行による太さのばらつきが見られ、にじみ、掠れがあり、境界線が不明瞭であった。
<Shape of fine wiring of pattern 1>
Furthermore, the shape of the fine wiring portion of pattern 1 was evaluated according to the following criteria: ○: The fine wiring portion did not vary in thickness due to meandering, bleed, or wrinkled, and the boundary line of the fine wiring portion was clear and good Met.
Δ: Some variation in thickness due to meandering was observed in the fine wiring part, but it did not bleed or wrinkle, and was practically satisfactory.
X: The fine wiring portion was found to have a variation in thickness due to meandering, bleed and wrinkle, and the boundary line was unclear.

<パターン3(ベタ部)の印刷状態>
パターン3のベタ部についても微細配線部同様、拡大写真(倍率500倍)を撮影し、下記の基準で評価した。
○:全面で掠れを生じておらず、パタンエッジ部分の直線性が良好であって、その境界線が明瞭であった。
△:全面で掠れは生じていないが、パタンエッジ部分が蛇行または欠けが発生しているなど直線性にかけていた。実用上差し支えの無いレベルではあった。
×:全面で掠れが激しく、パタンエッジ部分の蛇行または欠けが発生し、実用上使用不可能であった。
<Printed state of pattern 3 (solid portion)>
As with the fine wiring portion, an enlarged photograph (magnification 500 times) was taken for the solid portion of pattern 3 and evaluated according to the following criteria.
○: No blurring occurred on the entire surface, the linearity of the pattern edge portion was good, and the boundary line was clear.
(Triangle | delta): Although the wrinkle did not arise in the whole surface, the pattern edge part was applied to linearity, such as the meandering or the chip | tip having generate | occur | produced. It was a level where there was no problem in practical use.
X: Severe dripping on the entire surface, meandering or chipping of the pattern edge portion occurred, and it was not practically usable.

<パターン2を用いた表面の平坦性(厚み高低差(凹凸))の評価>
パターン2について、Zygo株式会社製 非接触三次元表面形状・粗さ測定機「New View 5032」を用い、印刷パターン表面のフィルム基材表面からの高さを、50mm長の印刷パターン1本につき10箇所、10本合計で100箇所ランダムに測定し、最高値と最低値との差(厚み高低差)求めた。
◎:高低差7μm以下。
厚み方向の平坦性に非常に優れており、積層する絶縁層の厚みをより薄くでき、幅広い用途に容易に適用可能なレベルであった。
○:高低差7μmより大きく、10μm以下。
厚み方向の平坦性に優れており、絶縁層の積層など、幅広い用途に適用可能なレベルであった。
△:高低差10μmより大きく、20μm以下。
絶縁層など他の被膜を積層する場合、絶縁層をある程度厚くすれば、実用的に使用可能なレベルであった。
×:高低差20μmより大きい。
絶縁層など他の被膜を積層する場合、実用可能な厚さの絶縁層等では、導電性印刷パターンの一部が絶縁層等から突き抜けてしまうので、実用的に使用不可能なレベルであった。
<Evaluation of surface flatness (thickness difference (unevenness)) using pattern 2>
For pattern 2, using a non-contact three-dimensional surface shape / roughness measuring machine “New View 5032” manufactured by Zygo Corporation, the height of the printed pattern surface from the film substrate surface is 10 per 50 mm long printed pattern. A total of 100 points and 100 points were measured randomly, and a difference (thickness difference) between the highest value and the lowest value was obtained.
A: The height difference is 7 μm or less.
The flatness in the thickness direction was very excellent, the thickness of the laminated insulating layer could be made thinner, and it was a level that could be easily applied to a wide range of uses.
○: The height difference is larger than 7 μm and 10 μm or less.
It was excellent in flatness in the thickness direction, and was a level applicable to a wide range of uses such as lamination of insulating layers.
Δ: The height difference is larger than 10 μm and 20 μm or less.
When laminating other coatings such as an insulating layer, if the insulating layer was thickened to some extent, it was at a level that could be used practically.
X: The height difference is larger than 20 μm.
When laminating other coatings such as an insulating layer, a part of the conductive print pattern penetrates the insulating layer etc. in an insulating layer having a practical thickness, etc. .

Figure 2012246433
Figure 2012246433

Figure 2012246433
Figure 2012246433

Figure 2012246433
Figure 2012246433

Figure 2012246433
Figure 2012246433

Figure 2012246433
Figure 2012246433

Figure 2012246433
Figure 2012246433

本発明に用いられるビスフェノール型エポキシ樹脂(B1)は、エポキシ基及び水酸基を有し、ポリスチレン換算の重量均分子量(Mw)が、10,000〜100,000であることが重要であり、好ましくは10,000〜80,000であり、より好ましくは30,000〜70,000である。エポキシ樹脂の重量平均分子量が10,000より小さい場合、後述するような金属キレートを適量用いても、スクリーン印刷による微細配線形成のための十分な貯蔵弾性率G’が得られず、一方、100,000より大きい場合、溶剤への溶解性が極端に悪化したり、貯蔵弾性率G’が高くなりすぎたりして、スクリーン印刷が不可能となる。
なお、本発明における重量平均分子量とは、THF(テトラヒドロフラン)に溶解した樹脂を、ゲルカラムとして昭和電工株式会社製「LF−604」(迅速分析用GPCカラム:6mmID×150mmサイズ)を直列に2本接続した、東ソー株式会社製GPC(ゲルパーミエーションクロマトグラフィー:溶媒に溶解した物質をその分子サイズの差によって分離定量する液体クロマトグラフィー)「HPLC−8020」を用い、流量0.6ml/min、カラム温度40℃の条件で測定したデータを、ポリスチレン換算で算出した値をいう。
The bisphenol type epoxy resin (B1) used in the present invention has an epoxy group and a hydroxyl group, and it is important that the weight average molecular weight (Mw) in terms of polystyrene is 10,000 to 100,000, preferably It is 10,000-80,000, More preferably, it is 30,000-70,000. When the weight average molecular weight of the epoxy resin is less than 10,000, even when an appropriate amount of a metal chelate as described later is used, a sufficient storage elastic modulus G ′ for forming fine wiring by screen printing cannot be obtained. If it is greater than 1,000, the solubility in the solvent is extremely deteriorated, or the storage elastic modulus G ′ becomes too high, and screen printing becomes impossible.
The weight average molecular weight in the present invention refers to two resins in series of “LF-604” (GPC column for rapid analysis: 6 mm ID × 150 mm size) manufactured by Showa Denko KK as a gel column using a resin dissolved in THF (tetrahydrofuran). Connected GPC (Gel Permeation Chromatography: Liquid Chromatography for Separating and Quantifying Substances Dissolved in Solvent by Difference in Molecular Size) “HPLC-8020”, Flow Rate 0.6 ml / min, Column It means a value calculated in terms of polystyrene based on data measured at a temperature of 40 ° C.

本発明は、タップ密度の異なる2種類の導電性粒子を特定の割合で含有すると共に、いわゆるバインダー樹脂として特定のビスフェノール型エポキシ樹脂とアクリル系エラストマーを特定の割合で併用し、さらに特定量の金属キレート及び硬化剤を含有することにより、上記目的を達成した。
即ち、本発明は、タップ密度が4.5〜7(g/cm3)であり、D50粒子径が0.1〜3μmの導電性粒子(A1)と、タップ密度が0.5〜3.5(g/cm3)であり、D50粒子径が0.1〜3μmの導電性粒子(A2)とを、0.25≦[(A1)/(A2)]≦4(重量比)の割合で含有し、
ポリスチレン換算の重量平均分子量(Mw)が10,000〜100,000であり、水酸基価2〜300(mgKOH/g)、ガラス転移温度が40〜150℃のビスフェノール型エポキシ樹脂(B1)と、ガラス転移温度が−50〜25℃、ムーニー粘度が10〜90のアクリル系エラストマー(B2)とを、9≧[(B1)/(B2)]≧0.1(重量比)の割合で含有し、
前記エポキシ樹脂(B1)と前記アクリル系エラストマー(B2)との合計100重量部に対して、金属キレート(C)を0.2〜20重量部含有し、
前記エポキシ樹脂(B1)と前記アクリル系エラストマー(B2)との合計100重量部に対して、前記エポキシ樹脂の有する水酸基又はエポキシ基の少なくともいずれか一方と反応し得る官能基を有する硬化剤(D)を1〜40重量部含有し、
有機溶剤を除く成分の合計100重量%中、(A1)及び(A2)の合計量が55〜97.5重量%である、導電性インキに関する。
The present invention contains two kinds of conductive particles having different tap densities in a specific ratio, and also uses a specific bisphenol type epoxy resin and an acrylic elastomer as a so-called binder resin in a specific ratio, and further a specific amount of metal The above object was achieved by containing a chelate and a curing agent.
That is, the present invention has a tap density of 4.5 to 7 (g / cm 3 ), a D50 particle diameter of 0.1 to 3 μm of conductive particles (A1), and a tap density of 0.5 to 3. 5 (g / cm 3 ) and D50 particle diameters of 0.1 to 3 μm of conductive particles (A2) in a ratio of 0.25 ≦ [(A1) / (A2)] ≦ 4 (weight ratio) Contained in
A polystyrene-reduced weight average molecular weight (Mw) of 10,000 to 100,000, a hydroxyl value of 2 to 300 (mgKOH / g) , a glass transition temperature of 40 to 150 ° C., a bisphenol type epoxy resin (B1), and glass An acrylic elastomer (B2) having a transition temperature of −50 to 25 ° C. and a Mooney viscosity of 10 to 90 in a ratio of 9 ≧ [(B1) / (B2)] ≧ 0.1 (weight ratio);
0.2 to 20 parts by weight of metal chelate (C) is contained with respect to 100 parts by weight of the total of the epoxy resin (B1) and the acrylic elastomer (B2),
A curing agent having a functional group capable of reacting with at least one of a hydroxyl group and an epoxy group of the epoxy resin with respect to a total of 100 parts by weight of the epoxy resin (B1) and the acrylic elastomer (B2) (D 1) to 40 parts by weight,
The present invention relates to a conductive ink in which the total amount of (A1) and (A2) is 55 to 97.5% by weight in 100% by weight of the components excluding the organic solvent.

また、本発明に用いられるビスフェノール型エポキシ樹脂(B1)は、ガラス転移温度(以下、Tgという)が40〜150℃であり、50〜120℃であることが好ましい。
Tgが40℃より低い場合は、導電性インキの硬化被膜の耐熱性が悪化するおそれがあり、Tgが150℃より高い場合は、硬化被膜の柔軟性が著しく損なわれるおそれがある。
なお、ビスフェノール型エポキシ樹脂(B1)のTgは、乾燥状態の樹脂(粉末または液滴または切片)を、示差熱量測定装置(DSC)を用い、昇温速度5℃/分にて−50℃〜300℃の条件で測定し、熱量カーブの変曲点により確定した。
Further, a bisphenol type epoxy resin used in the present invention (B1) has a glass transition temperature (hereinafter, Tg hereinafter) is is 40 to 150 ° C., it is favorable preferable is 50 to 120 ° C..
When Tg is lower than 40 ° C., the heat resistance of the cured film of the conductive ink may be deteriorated, and when Tg is higher than 150 ° C., the flexibility of the cured film may be significantly impaired.
The Tg of the bisphenol-type epoxy resin (B1) is a dry resin (powder, droplet, or slice), which is −50 ° C. to 5 ° C./min using a differential calorimeter (DSC). The measurement was performed under the condition of 300 ° C., and the value was determined by the inflection point of the calorimetric curve.

Claims (10)

タップ密度が4.5〜7(g/cm3)であり、D50粒子径が0.1〜3μmの導電性粒子(A1)と、タップ密度が0.5〜3.5(g/cm3)であり、D50粒子径が0.1〜3μmの導電性粒子(A2)とを、0.25≦[(A1)/(A2)]≦4(重量比)の割合で含有し、
ポリスチレン換算の重量平均分子量(Mw)が10,000〜100,000であり、水酸基価2〜300(mgKOH/g)のビスフェノール型エポキシ樹脂(B1)と、ガラス転移温度が−50〜25℃、ムーニー粘度が10〜90のアクリル系エラストマー(B2)とを、9≧[(B1)/(B2)]≧0.1(重量比)の割合で含有し、
前記エポキシ樹脂(B1)と前記アクリル系エラストマー(B2)との合計100重量部に対して、金属キレート(C)を0.2〜20重量部含有し、
前記エポキシ樹脂(B1)と前記アクリル系エラストマー(B2)との合計100重量部に対して、前記エポキシ樹脂の有する水酸基又はエポキシ基の少なくともいずれか一方と反応し得る官能基を有する硬化剤(D)を1〜40重量部含有し、
有機溶剤を除く成分の合計100重量%中、(A1)及び(A2)の合計量が55〜97.5重量%である、導電性インキ。
Conductive particles (A1) having a tap density of 4.5 to 7 (g / cm 3 ) and a D50 particle diameter of 0.1 to 3 μm, and a tap density of 0.5 to 3.5 (g / cm 3). And D50 conductive particles (A2) having a particle diameter of 0.1 to 3 μm in a ratio of 0.25 ≦ [(A1) / (A2)] ≦ 4 (weight ratio),
A polystyrene-reduced weight average molecular weight (Mw) of 10,000 to 100,000, a bisphenol type epoxy resin (B1) having a hydroxyl value of 2 to 300 (mgKOH / g), a glass transition temperature of −50 to 25 ° C., An acrylic elastomer (B2) having a Mooney viscosity of 10 to 90 in a ratio of 9 ≧ [(B1) / (B2)] ≧ 0.1 (weight ratio);
0.2 to 20 parts by weight of metal chelate (C) is contained with respect to 100 parts by weight of the total of the epoxy resin (B1) and the acrylic elastomer (B2),
A curing agent having a functional group capable of reacting with at least one of a hydroxyl group and an epoxy group of the epoxy resin with respect to a total of 100 parts by weight of the epoxy resin (B1) and the acrylic elastomer (B2) (D 1) to 40 parts by weight,
The electroconductive ink whose total amount of (A1) and (A2) is 55-97.5 weight% in the total 100 weight% of the components except an organic solvent.
前記導電性粒子(A1)及び(A2)が、銀ないし銀メッキ粉であることを特徴とする、請求項1記載の導電性インキ。   The conductive ink according to claim 1, wherein the conductive particles (A1) and (A2) are silver or silver-plated powder. 前記金属キレート(C)が、アルミニウムキレート、チタンキレート及びジルコニウムキレートからなる群より選ばれる一種以上である、請求項1又は2記載の導電性インキ。   The conductive ink according to claim 1 or 2, wherein the metal chelate (C) is at least one selected from the group consisting of an aluminum chelate, a titanium chelate and a zirconium chelate. 前記硬化剤(D)が、イソシアネート化合物、アミン化合物、酸無水物化合物、メルカプト化合物、イミダゾール化合物、ジシアンジアミド化合物及び有機酸ヒドラジド化合物からなる群より選ばれる一種以上である、請求項1〜3いずれか1項に記載の導電性インキ。   The hardener (D) is at least one selected from the group consisting of an isocyanate compound, an amine compound, an acid anhydride compound, a mercapto compound, an imidazole compound, a dicyandiamide compound, and an organic acid hydrazide compound. 2. The conductive ink according to item 1. 前記金属キレート(C)が、アルミニウムキレートであることを特徴とする、請求項3又は4記載の導電性インキ。   The conductive ink according to claim 3 or 4, wherein the metal chelate (C) is an aluminum chelate. 前記アルミニウムキレート(C)が、アセチルアセトネート基、メチルアセトアセテート基およびエチルアセトアセテート基からなる群より選ばれる基を有することを特徴とする、請求項5記載の導電性インキ。   The conductive ink according to claim 5, wherein the aluminum chelate (C) has a group selected from the group consisting of an acetylacetonate group, a methylacetoacetate group, and an ethylacetoacetate group. スクリーン印刷用であることを特徴とする請求項1〜6いずれか1項に記載の導電性インキ。   It is an object for screen printing, The electroconductive ink of any one of Claims 1-6 characterized by the above-mentioned. 基材と、
前記基材上に形成された導電パターンと、を具備し、
前記導電パターンが、請求項1〜7いずれか1項に記載の導電性インキにより形成されている導電パターン付き積層体。
A substrate;
A conductive pattern formed on the substrate,
The laminated body with a conductive pattern in which the said conductive pattern is formed with the conductive ink of any one of Claims 1-7.
前記導電パターンを被覆するように積層された絶縁層をさらに具備する、請求項8記載の導電パターン付き積層体。   The laminated body with a conductive pattern according to claim 8, further comprising an insulating layer laminated so as to cover the conductive pattern. 基材上に所望のパターン形状の導電パターンをスクリーン印刷により形成する工程を備え、
前記導電パターンは、請求項1〜7のいずれか1項に記載の導電性インキを用いる導電パターン付き積層体の製造方法。
Comprising a step of forming a conductive pattern having a desired pattern shape on a substrate by screen printing;
The said conductive pattern is a manufacturing method of the laminated body with a conductive pattern using the conductive ink of any one of Claims 1-7.
JP2011120602A 2011-05-30 2011-05-30 Conductive ink, laminate with conductive pattern and method for producing the same Expired - Fee Related JP5146567B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011120602A JP5146567B2 (en) 2011-05-30 2011-05-30 Conductive ink, laminate with conductive pattern and method for producing the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011120602A JP5146567B2 (en) 2011-05-30 2011-05-30 Conductive ink, laminate with conductive pattern and method for producing the same

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2012246433A true JP2012246433A (en) 2012-12-13
JP5146567B2 JP5146567B2 (en) 2013-02-20

Family

ID=47467202

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2011120602A Expired - Fee Related JP5146567B2 (en) 2011-05-30 2011-05-30 Conductive ink, laminate with conductive pattern and method for producing the same

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5146567B2 (en)

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20150109374A (en) * 2013-01-23 2015-10-01 헨켈 아이피 앤드 홀딩 게엠베하 Flexible conductive ink
JP2016100134A (en) * 2014-11-19 2016-05-30 株式会社ノリタケカンパニーリミテド Heat-curable conductive paste
JP2016521304A (en) * 2013-04-17 2016-07-21 エイブルスティック・(シャンハイ)・リミテッドAblestik(Shanghai)Ltd. Conductive ink
JP6110579B1 (en) * 2016-09-02 2017-04-05 帝国インキ製造株式会社 Conductive liquid composition
KR101753497B1 (en) 2012-12-27 2017-07-03 아라까와 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 Conductive paste for screen printing, method for producing wiring line, and method for producing electrode
JP2018041692A (en) * 2016-09-09 2018-03-15 東洋紡株式会社 Ductile conductive composition and method for manufacturing three-dimensional printed wiring board
US10208159B2 (en) 2015-03-30 2019-02-19 Noritake Co., Limited Flexible wiring board and use thereof
TWI670306B (en) * 2016-10-31 2019-09-01 Sumitomo Bakelite Co., Ltd. Heat conductive paste and electronic device
US11026298B2 (en) 2016-04-01 2021-06-01 Lg Chem, Ltd. Ink composition, cured patterns produced thereby, heating element including same, and manufacturing method therefor
WO2023163160A1 (en) * 2022-02-28 2023-08-31 タツタ電線株式会社 Electroconductive resin composition

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003147279A (en) * 2001-11-19 2003-05-21 Sumitomo Metal Mining Co Ltd Conductive adhesive and circuit board using the same for semiconductor, or the like
JP2007018884A (en) * 2005-07-07 2007-01-25 Noritake Co Ltd Conductive paste
JP2010235738A (en) * 2009-03-31 2010-10-21 Toyo Ink Mfg Co Ltd Conductive ink

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003147279A (en) * 2001-11-19 2003-05-21 Sumitomo Metal Mining Co Ltd Conductive adhesive and circuit board using the same for semiconductor, or the like
JP2007018884A (en) * 2005-07-07 2007-01-25 Noritake Co Ltd Conductive paste
JP2010235738A (en) * 2009-03-31 2010-10-21 Toyo Ink Mfg Co Ltd Conductive ink

Cited By (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101753497B1 (en) 2012-12-27 2017-07-03 아라까와 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 Conductive paste for screen printing, method for producing wiring line, and method for producing electrode
KR20150109374A (en) * 2013-01-23 2015-10-01 헨켈 아이피 앤드 홀딩 게엠베하 Flexible conductive ink
CN105103239A (en) * 2013-01-23 2015-11-25 汉高知识产权控股有限责任公司 Flexible conductive ink
JP2016513143A (en) * 2013-01-23 2016-05-12 ヘンケル アイピー アンド ホールディング ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング Flexible conductive ink
KR101962749B1 (en) * 2013-01-23 2019-03-28 헨켈 아이피 앤드 홀딩 게엠베하 Flexible conductive ink
US10995232B2 (en) 2013-01-23 2021-05-04 Henkel Ag & Co. Kgaa Flexible conductive ink
TWI640582B (en) * 2013-01-23 2018-11-11 德商漢高智慧財產控股公司 Flexible conductive ink
JP2016521304A (en) * 2013-04-17 2016-07-21 エイブルスティック・(シャンハイ)・リミテッドAblestik(Shanghai)Ltd. Conductive ink
JP2016100134A (en) * 2014-11-19 2016-05-30 株式会社ノリタケカンパニーリミテド Heat-curable conductive paste
US10208159B2 (en) 2015-03-30 2019-02-19 Noritake Co., Limited Flexible wiring board and use thereof
US11026298B2 (en) 2016-04-01 2021-06-01 Lg Chem, Ltd. Ink composition, cured patterns produced thereby, heating element including same, and manufacturing method therefor
TWI596172B (en) * 2016-09-02 2017-08-21 Teikoku Printing Inks Mfg Co Ltd Conductive liquid composition
WO2018042635A1 (en) * 2016-09-02 2018-03-08 帝国インキ製造株式会社 Electroconductive liquid composition
KR101766629B1 (en) 2016-09-02 2017-08-08 데이코쿠 잉키 세이조 가부시키가이샤 Conductive liquid composition
US10081735B1 (en) 2016-09-02 2018-09-25 Teikoku Printing Inks Mfg. Co. Ltd. Conductive liquid composition
JP6110579B1 (en) * 2016-09-02 2017-04-05 帝国インキ製造株式会社 Conductive liquid composition
JP2018041692A (en) * 2016-09-09 2018-03-15 東洋紡株式会社 Ductile conductive composition and method for manufacturing three-dimensional printed wiring board
JP7118582B2 (en) 2016-09-09 2022-08-16 東洋紡株式会社 Spreadable conductive composition and method for producing three-dimensional printed wiring board
TWI670306B (en) * 2016-10-31 2019-09-01 Sumitomo Bakelite Co., Ltd. Heat conductive paste and electronic device
WO2023163160A1 (en) * 2022-02-28 2023-08-31 タツタ電線株式会社 Electroconductive resin composition

Also Published As

Publication number Publication date
JP5146567B2 (en) 2013-02-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5146567B2 (en) Conductive ink, laminate with conductive pattern and method for producing the same
JP4702499B1 (en) Conductive ink, laminate with conductive pattern and method for producing the same
JP5699447B2 (en) Conductive ink
JP5854248B1 (en) Conductive adhesive, and conductive adhesive sheet and electromagnetic wave shielding sheet using the same
TWI621686B (en) Conductive adhesive, conductive adhesive sheet, and wiring element
JPWO2015046096A1 (en) Conductive paste, conductive coating film, conductive circuit, conductive laminate, and touch panel
KR101753497B1 (en) Conductive paste for screen printing, method for producing wiring line, and method for producing electrode
TWI579349B (en) Conductive ink composition, method for producing conductive pattern and conductive circuit
TWI596172B (en) Conductive liquid composition
JP6343903B2 (en) Conductive paste and printed circuit using the same
JP2012253172A (en) Manufacturing method of conductive circuit
JP6135687B2 (en) Conductive paste for laser processing
JP5767498B2 (en) Conductive paste
JP6094642B2 (en) Conductive paste for laser processing
JP6001265B2 (en) Conductive paste
JP6303367B2 (en) Conductive paste, conductive film and touch panel
JP6682938B2 (en) Conductive paste
JP2016204628A (en) Conductive adhesive, conductive adhesive sheet, and wiring device
JP2006059720A (en) Conductive paste and touch panel
JP6705346B2 (en) Conductive paste for laser processing
CN116848193A (en) Conductive composition

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20120927

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20121005

A911 Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

Effective date: 20121012

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20121030

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20121112

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5146567

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20151207

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20151207

Year of fee payment: 3

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113

R360 Written notification for declining of transfer of rights

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R360

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20151207

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20151207

Year of fee payment: 3

R370 Written measure of declining of transfer procedure

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R370

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313114

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20151207

Year of fee payment: 3

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees