JP2012229211A - Method for producing dialkyl aryl phosphate from aryl sulphonate - Google Patents

Method for producing dialkyl aryl phosphate from aryl sulphonate Download PDF

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Zhang Wanbin
万斌 張
Guoqiang Yang
国強 楊
Chaoren Shen
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for producing a dialkyl aryl phosphate from an aryl sulphonate.SOLUTION: In the method for producing a dialkyl aryl phosphate from an aryl sulphonate, the dialkyl aryl phosphate can be obtained by reacting the aryl sulphonate with a trialkyl phosphite represented by a general formula P(OR)and an additive in the presence of the catalyst of a nickel salt or a palladium salt. The reaction temperature is 100 to 240°C. The above additive is a halogenated metal salt selected from lithium chloride, sodium chloride, potassium chloride, cesium chloride, lithium bromide, sodium bromide, potassium bromide or others; the above nickel salt is selected from nickel chloride, nickel bromide or others; and the above palladium salt is selected from palladium chloride, palladium bromide or others.

Description

本発明は、アリールリン酸ジアルキルエステルの製造方法に関し、具体的には、スルホン酸アリールエステルからアリールリン酸ジアルキルエステルを製造する方法であり、さらに具体的には、ハロゲン化金属塩により促進される、ニッケル塩またはパラジウム塩触媒下における、スルホン酸アリールエステルと亜リン酸トリアルキルエステルとの反応によって、アリールリン酸ジアルキルエステルを製造する方法である。   The present invention relates to a method for producing an aryl phosphoric acid dialkyl ester, specifically, a method for producing an aryl phosphoric acid dialkyl ester from a sulfonic acid aryl ester, and more specifically, nickel promoted by a metal halide salt. In this method, aryl phosphoric acid dialkyl ester is produced by reaction of sulfonic acid aryl ester and phosphorous acid trialkyl ester in the presence of a salt or palladium salt catalyst.

有機ホスフィン化合物は、相間移動触媒、材料、医薬および有機金属において幅広く応用されている。一部の有機ホスフィン化合物は難燃材料とすることができる。一部のホスフィン含有化合物は潜在的な薬物である。有機金属化学において、ホスフィン配位子は取り替えのきかない作用があり、異なるホスフィン配位子は全く異なる触媒効果をもたらす可能性がある。これらのホスフィン配位子において、大部分の配位子のリン原子は、アリール基と互いに結合されるものであり、例えば有名なBuchwaldホスフィン配位子、Xantphos配位子、キラルBINAP配位子、キラルSegphos配位子等である。   Organophosphine compounds are widely applied in phase transfer catalysts, materials, pharmaceuticals and organometallics. Some organic phosphine compounds can be flame retardant materials. Some phosphine-containing compounds are potential drugs. In organometallic chemistry, phosphine ligands have an irreplaceable effect, and different phosphine ligands can have quite different catalytic effects. In these phosphine ligands, the phosphorus atom of most ligands is bonded to an aryl group, such as the famous Buchwald phosphine ligand, Xantphos ligand, chiral BINAP ligand, A chiral Segphos ligand.

アリールホスフィン化合物における炭素−リン結合の構築は、パラジウムまたは銅触媒の方法を使用してもよく、ニッケル触媒の方法を使用してもよい。ここで、ニッケルまたはパラジウム触媒のアルブゾフ(Arbuzov)反応は、操作が容易で、原料が安価なアリールホスフィン化合物における炭素−リン結合を構築する方法であり、かつ得られるアリールリン酸エステルはリン原子において各種の修飾を行うことが容易であるため、多くの化学者に好まれている。但し、従来の技術に対する検索により、非特許文献1および2が見出されたが、既に報告されているニッケルまたはパラジウム触媒のアルブゾフ反応に用いられる基質は、何れもハロ芳香族炭化水素化合物であり、スルホン酸基置換の芳香族炭化水素化合物を基質とする場合、所望の生成物が得られないことが分かる。スルホン酸アリールエステルの原料、即ちフェノールは容易に得られる原料であると共に、各種の、即ちヒドロキシ基保護のフェノールは保護基または配向基として他の置換基を導入することができ、合成において非常に有用な方法であり、スルホン酸アリールエステルのアルブゾフ反応を実現することは非常に意義があり、良好な応用可能性を有することが分かる。   For the construction of the carbon-phosphorus bond in the aryl phosphine compound, a palladium or copper catalyst method or a nickel catalyst method may be used. Here, the nickel or palladium-catalyzed Arbuzov reaction is a method for constructing a carbon-phosphorus bond in an aryl phosphine compound that is easy to operate and inexpensive, and the resulting aryl phosphate ester has various phosphorus atoms. It is preferred by many chemists because it can be easily modified. However, non-patent literatures 1 and 2 were found by a search for the prior art, but the substrates used in the Albuzov reaction of nickel or palladium catalysts already reported are haloaromatic hydrocarbon compounds. It can be seen that when a sulfonic acid group-substituted aromatic hydrocarbon compound is used as a substrate, a desired product cannot be obtained. The raw material of the sulfonic acid aryl ester, ie phenol, is an easily obtainable raw material, and various types, ie, hydroxy-protected phenols, can introduce other substituents as protective groups or orientation groups. It is a useful method and it can be seen that realizing the Arbuzov reaction of the sulfonic acid aryl ester is very significant and has good applicability.

Tavs、“Reaction of Aryl Halides With Trialkyl Phosphites and Dialkyl Benzenephosphonites to Aromatic Phosphonates and Phosphinates by Nickel Salt Catalysed Arylation(ハロ芳香族炭化水素と亜リン酸トリアルキルエステルおよびフェニルリン酸ジエチルエステルのニッケル塩触媒アリール化反応によるアリールリン酸エステルおよび亜リン酸エステルの生成)”、Chemische Berichte(化学報告)、1970年、No.103、pp2428−2436Tavs, “Reaction of Aryl Halides With Trialkylyl Phosphites and Dialkyl Benzene Phosphonites to Aromatic Phosphonates and Phosphonates By Nickel Acids Production of aryl phosphates and phosphites) ", Chemische Berichte (Chemical Report), 1970, No. 103, pp 2428-2436. Yuan等、“Studies on Organophosphorus Compounds XL. An One−Pot Procedure for the Mono−O−Alkylation of Phosphonic Acid: A Facile Synthesis of Alkyl Hydrogen p−Substituted Phenylphosphonates(有機ホスフィン化合物の研究XL。ワンポット法によるモノ−O−位アルキル化ホスホン酸の合成:簡単かつ便利なアルキル水素P−位置換フェニルホスホン酸エステルの合成方法)”、Synthesis(合成)、1990年、No.2、pp.140−141Yuan et al., “Studies on Organic Phosphorus Compounds XL. An One-Pot Procedure for the Phenolic Phosphoric Acid: A Facile Synthesized Phosphoric Acid. Synthesis of -position alkylated phosphonic acid: simple and convenient method of synthesizing alkyl hydrogen P-position substituted phenylphosphonic acid ester) ", Synthesis (synthesis), 1990, No. 2, pp. 140-141

本発明は、従来の技術に存在する上記空白に対して、スルホン酸アリールエステルからアリールリン酸ジアルキルエステルを製造する方法を提供し、具体的には、スルホン酸アリールエステルからアリールリン酸ジアルキルエステルを製造する方法を提供し、さらに具体的には、ハロゲン化金属塩により促進される、ニッケル塩またはパラジウム塩触媒スルホン酸アリールエステルが亜リン酸トリアルキルエステルと反応することで、アリールリン酸ジアルキルエステルを製造する方法を提供する。本発明は、現在のスルホン酸アリールエステルがニッケルまたはパラジウム触媒のアルブゾフ反応を行うことができないという問題を打開するものである。   The present invention provides a method for producing an aryl phosphate dialkyl ester from a sulfonic acid aryl ester, specifically, an aryl phosphate dialkyl ester from a sulfonic acid aryl ester, for the above-mentioned blank existing in the prior art. A method is provided, and more specifically, a nickel salt or palladium salt catalyzed sulfonic acid aryl ester promoted by a metal halide salt is reacted with a phosphite trialkyl ester to produce an aryl phosphate dialkyl ester Provide a method. The present invention overcomes the problem that current aryl sulfonic acid esters cannot perform nickel or palladium-catalyzed Arbuzov reactions.

本発明は、以下の技術方案により実現される。
本発明は、スルホン酸アリールエステルからアリールリン酸ジアルキルエステルを製造する方法であって、ニッケル塩またはパラジウム塩の触媒下で、スルホン酸アリールエステルを一般式(VII)で表される亜リン酸トリアルキルエステルおよび添加剤と反応させることで、アリールリン酸ジアルキルエステルが得られ、ここで、
前記スルホン酸アリールエステルが一般式(I)で表される化合物である場合、一般式(IV)で表されるアリールリン酸ジアルキルエステルが得られ、
前記スルホン酸アリールエステルが一般式(II)で表される化合物である場合、一般式(V)で表されるアリールリン酸ジアルキルエステルが得られ、
前記スルホン酸アリールエステルが一般式(III)で表される化合物である場合、一般式(VI)で表されるアリールリン酸ジアルキルエステルが得られ、
ここで、反応温度は100〜240℃であり、

Figure 2012229211
前記添加剤は、塩化リチウム、塩化ナトリウム、塩化カリウム、塩化セシウム、臭化リチウム、臭化ナトリウム、臭化カリウム、臭化セシウム、塩化亜鉛、臭化亜鉛、塩化マグネシウム、臭化マグネシウム、ヨウ化ナトリウムおよびヨウ化カリウムから選ばれる少なくとも1種のハロゲン化金属塩であり、
前記ニッケル塩は、塩化ニッケル、臭化ニッケル、ヨウ化ニッケル、酢酸ニッケル、トリフルオロメタンスルホン酸ニッケル、アセチルアセトンニッケル、ビス(トリフェニルホスフィン)塩化ニッケル、ビス(トリシクロヘキシルホスフィン)塩化ニッケル、1,2−ビス(ジフェニルホスフィノ)エタン塩化ニッケル、1,3−ビス(ジフェニルホスフィノ)プロパン塩化ニッケル、1,4−ビス(ジフェニルホスフィノ)ブタン塩化ニッケルおよび1,1'−ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン塩化ニッケルから選ばれる少なくとも1種の物質であり、
前記パラジウム塩は、塩化パラジウム、臭化パラジウム、ヨウ化パラジウム、酢酸パラジウム、トリフルオロ酢酸パラジウムおよびアセチルアセトンパラジウムから選ばれる少なくとも1種の物質であり、
一般式(I)において、Arはアリール基、置換アリール基または複素環アリール基であり、
一般式(II)において、2つのスルホン酸基の相対位置は、オルト位、メタ位またはパラ位であり、
一般式(I)、(II)および(III)において、R'はアルキル基、置換アルキル基、アリール基または置換アリール基であり、
一般式(IV)、(V)、(VI)および(VII)において、Rはアルキル基を示す、
ことを特徴とする。 The present invention is realized by the following technical scheme.
The present invention relates to a process for producing an aryl phosphate dialkyl ester from a sulfonic acid aryl ester, wherein the sulfonic acid aryl ester is represented by the general formula (VII) in the presence of a nickel salt or palladium salt catalyst. Reaction with an ester and an additive provides an aryl phosphate dialkyl ester, where:
When the sulfonic acid aryl ester is a compound represented by the general formula (I), an aryl phosphoric acid dialkyl ester represented by the general formula (IV) is obtained,
When the sulfonic acid aryl ester is a compound represented by the general formula (II), an aryl phosphoric acid dialkyl ester represented by the general formula (V) is obtained,
When the sulfonic acid aryl ester is a compound represented by the general formula (III), an aryl phosphoric acid dialkyl ester represented by the general formula (VI) is obtained,
Here, the reaction temperature is 100 to 240 ° C.
Figure 2012229211
The additive is lithium chloride, sodium chloride, potassium chloride, cesium chloride, lithium bromide, sodium bromide, potassium bromide, cesium bromide, zinc chloride, zinc bromide, magnesium chloride, magnesium bromide, sodium iodide. And at least one metal halide salt selected from potassium iodide,
The nickel salt is nickel chloride, nickel bromide, nickel iodide, nickel acetate, nickel trifluoromethanesulfonate, nickel acetylacetone, bis (triphenylphosphine) nickel chloride, bis (tricyclohexylphosphine) nickel chloride, 1,2- Bis (diphenylphosphino) ethane nickel chloride, 1,3-bis (diphenylphosphino) propane nickel chloride, 1,4-bis (diphenylphosphino) butane nickel chloride and 1,1′-bis (diphenylphosphino) ferrocene At least one substance selected from nickel chloride,
The palladium salt is at least one substance selected from palladium chloride, palladium bromide, palladium iodide, palladium acetate, palladium trifluoroacetate and palladium acetylacetone.
In the general formula (I), Ar is an aryl group, a substituted aryl group or a heterocyclic aryl group,
In the general formula (II), the relative positions of the two sulfonic acid groups are ortho-position, meta-position or para-position,
In the general formulas (I), (II) and (III), R ′ is an alkyl group, a substituted alkyl group, an aryl group or a substituted aryl group,
In the general formulas (IV), (V), (VI) and (VII), R represents an alkyl group,
It is characterized by that.

本発明の方法において、一般式(I)において、Arは、置換基がアルキル基、アルコキシ基、アシルオキシ基、アミド基、ヒドロキシ基、アシル基またはフェニル基である置換アリール基であることが好ましい。具体的には、一般式(I)において、Arとしてのアリール基、置換アリール基または複素環アリール基は、フェニル基、4−tert−ブチルフェニル基、4-メトキシフェニル基、4−フェニルフェニル基、4−ホルミルオキシフェニル基、4−アセチルフェニル基、4−アセトキシフェニル基、4−アセトアミドフェニル基、4−ヒドロキシフェニル基、4−メチルフェニル基、3−メチルフェニル基、3−メトキシフェニル基、2−メチルフェニル基、2−メトキシフェニル基、2−ホルミルオキシフェニル基、2−フェニルフェニル基、3,4−ジメチルフェニル基、3,4−ジメトキシフェニル基、3,5−ジメチルフェニル基、ベンゾ[d][1,3]ジオキソール−5−イル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基または3−ピリジル基であってもよい。   In the method of the present invention, in the general formula (I), Ar is preferably a substituted aryl group whose substituent is an alkyl group, an alkoxy group, an acyloxy group, an amide group, a hydroxy group, an acyl group or a phenyl group. Specifically, in the general formula (I), the aryl group, substituted aryl group or heterocyclic aryl group as Ar is a phenyl group, a 4-tert-butylphenyl group, a 4-methoxyphenyl group, or a 4-phenylphenyl group. 4-formyloxyphenyl group, 4-acetylphenyl group, 4-acetoxyphenyl group, 4-acetamidophenyl group, 4-hydroxyphenyl group, 4-methylphenyl group, 3-methylphenyl group, 3-methoxyphenyl group, 2-methylphenyl group, 2-methoxyphenyl group, 2-formyloxyphenyl group, 2-phenylphenyl group, 3,4-dimethylphenyl group, 3,4-dimethoxyphenyl group, 3,5-dimethylphenyl group, benzo [D] [1,3] dioxol-5-yl group, 1-naphthyl group, 2-naphthyl group or 3-pi It may be a lysyl group.

本発明の方法において、一般式(I)、(II)および(III)において、R’はトリフルオロメチル基、メチル基、フェニル基、p−トリル基、p−ニトロフェニル基またはp−クロロフェニル基であることが好ましい。   In the method of the present invention, in the general formulas (I), (II) and (III), R ′ is a trifluoromethyl group, a methyl group, a phenyl group, a p-tolyl group, a p-nitrophenyl group or a p-chlorophenyl group. It is preferable that

本発明の方法において、一般式(IV)、(V)、(VI)および(VII)において、Rは、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基またはn−ブチル基であることが好ましい。   In the method of the present invention, in the general formulas (IV), (V), (VI) and (VII), R may be a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group or an n-butyl group. preferable.

本発明の方法において、反応温度が130〜200℃であることが好ましく、反応温度が160〜185℃であることがより好ましい。   In the method of the present invention, the reaction temperature is preferably 130 to 200 ° C, and the reaction temperature is more preferably 160 to 185 ° C.

本発明の方法において、モル比で計算する場合、スルホン酸アリールエステル/亜リン酸トリアルキルエステル/ハロゲン化金属塩/ニッケル塩またはパラジウム塩=1.0/1.0〜100/1.0〜20.0/0.01〜1.0であることが好ましい。スルホン酸アリールエステル/亜リン酸トリアルキルエステル/ハロゲン化金属塩/ニッケル塩またはパラジウム塩=1.0/4.0〜20.0/3.0〜10.0/0.05〜0.5であることがより好ましい。   In the method of the present invention, when calculating by molar ratio, sulfonic acid aryl ester / phosphorous acid trialkyl ester / metal halide salt / nickel salt or palladium salt = 1.0 / 1.0 to 100 / 1.0 to It is preferable that it is 20.0 / 0.01-1.0. Sulfonic acid aryl ester / phosphorous acid trialkyl ester / metal halide salt / nickel salt or palladium salt = 1.0 / 4.0 to 20.0 / 3.0 to 10.0 / 0.05 to 0.5 It is more preferable that

また、本発明の方法において、反応時間は1〜100時間であることが好ましい。   In the method of the present invention, the reaction time is preferably 1 to 100 hours.

本発明によれば、容易に得られる原料からアリールリン酸ジアルキルエステルを製造でき、得られるアリールリン酸ジアルキルエステルは、医薬中間体および多種の有用なホスフィン配位子の合成に応用でき、これらの医薬中間体およびホスフィン配位子の合成が、容易で、低コストであり、立体および電子効果をより容易に変換するようにし、良好な応用可能性を有する。   According to the present invention, aryl phosphoric acid dialkyl esters can be produced from easily obtained raw materials, and the resulting aryl phosphoric acid dialkyl esters can be applied to the synthesis of pharmaceutical intermediates and various useful phosphine ligands. The synthesis of isomers and phosphine ligands is easy, low cost, makes it easier to convert steric and electronic effects, and has good applicability.

一般式(I)において、Arとしてのアリール基としては、単核または多核の芳香族環が挙げられる。単核の芳香族環としては、フェニル基が挙げられる。二核の芳香族環としては、ナフチル基が挙げられる。三核の芳香族環としては、アントラセニル基およびフェナントレニル基が挙げられる。Arとしての置換アリール基としては、前記で説明したアリール基における少なくとも1つの水素原子を、置換基で置換したものが挙げられる。置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、アシルオキシ基、アミド基、ヒドロキシ基、アシル基およびフェニル基が挙げられる。これらの置換基によってアリール基における複数の水素原子が置換されている場合、該アリール基における複数の置換基は同じであっても異なっていてもよい。   In the general formula (I), the aryl group as Ar includes a mononuclear or polynuclear aromatic ring. Examples of the mononuclear aromatic ring include a phenyl group. A naphthyl group is mentioned as a binuclear aromatic ring. Examples of the trinuclear aromatic ring include an anthracenyl group and a phenanthrenyl group. Examples of the substituted aryl group as Ar include those in which at least one hydrogen atom in the aryl group described above is substituted with a substituent. Examples of the substituent include an alkyl group, an alkoxy group, an acyloxy group, an amide group, a hydroxy group, an acyl group, and a phenyl group. When a plurality of hydrogen atoms in the aryl group are substituted by these substituents, the plurality of substituents in the aryl group may be the same or different.

前述した置換基のうち、アルキル基としては、炭素原子数が好ましくは1〜6、さらに好ましくは1〜3の分岐鎖または直鎖のものが挙げられる。炭素原子数が1〜3のものとしては、メチル基、エチル基、n−プロピル基およびイソプロピル基が挙げられる。炭素原子数が4〜6のものとしては、t−ブチル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、ペンチル基およびヘキシル基が挙げられる。アルコキシ基としては、炭素原子数が好ましくは1〜6、さらに好ましくは1〜4の分岐鎖または直鎖のものが挙げられる。炭素原子数が1〜4のものとしては、メトキシル基、エトキシル基、n−プロポキシル基、イソプロポキシル基、n−ブトキシル基、イソブトキシル基、sec−ブトキシル基およびt−ブトキシル基が挙げられる。炭素原子数が5または6のものとしてはn−ペントキシル基およびn−ヘキソキシル基が挙げられる。アシルオキシ基としては、炭素原子数が好ましくは1〜6、さらに好ましくは1〜5のものが挙げられる。炭素原子数が1〜5のものとしては、アセトキシ基、n−プロピオニルオキシ基、n−ブチリルオキシ基、イソブチリルオキシ基およびピバロイルオキシ基が挙げられる。炭素原子数が6のものとしては2−エチルブタノイルオキシ基が挙げられる。アミド基としては、炭素原子数が好ましくは1〜7、さらに好ましくは1〜3のものが挙げられ、例えばアセトアミド基が挙げられる。アシル基としては、炭素原子数が好ましくは1〜7、さらに好ましくは1〜3のものが挙げられる。炭素原子数が1〜3のものとしては、ホルミル基、アセチル基およびプロピオニル基が挙げられる。炭素原子数が4〜7のものとしては、n−ブチリル基、イソブチリル基およびピバロイル基が挙げられる。   Among the substituents described above, the alkyl group includes a branched or straight chain group having preferably 1 to 6, more preferably 1 to 3 carbon atoms. Examples of those having 1 to 3 carbon atoms include methyl, ethyl, n-propyl and isopropyl groups. Examples of those having 4 to 6 carbon atoms include t-butyl, n-butyl, isobutyl, sec-butyl, pentyl and hexyl groups. As the alkoxy group, a branched or straight chain having 1 to 6 carbon atoms, more preferably 1 to 4 carbon atoms is preferable. Examples of those having 1 to 4 carbon atoms include methoxyl group, ethoxyl group, n-propoxyl group, isopropoxyl group, n-butoxyl group, isobutoxyl group, sec-butoxyl group and t-butoxyl group. Examples of those having 5 or 6 carbon atoms include n-pentoxyl and n-hexoxyl groups. The acyloxy group preferably has 1 to 6 carbon atoms, more preferably 1 to 5 carbon atoms. Examples of those having 1 to 5 carbon atoms include an acetoxy group, an n-propionyloxy group, an n-butyryloxy group, an isobutyryloxy group, and a pivaloyloxy group. Examples of those having 6 carbon atoms include 2-ethylbutanoyloxy group. The amide group preferably has 1 to 7 carbon atoms, more preferably 1 to 3 carbon atoms, and examples thereof include an acetamido group. The acyl group preferably has 1 to 7 carbon atoms, more preferably 1 to 3 carbon atoms. Examples of those having 1 to 3 carbon atoms include formyl group, acetyl group and propionyl group. Examples of those having 4 to 7 carbon atoms include an n-butyryl group, an isobutyryl group, and a pivaloyl group.

Arとしての複素環アリール基としては、ヘテロ原子として窒素原子、硫黄原子または酸素原子を少なくとも1つ以上含む5員環または6員環のものが挙げられる。ヘテロ原子として窒素原子を含むものとしては、ピリジル基、キノリニル基およびイソキノリニル基が挙げられる。ヘテロ原子として硫黄原子を含むものとしては、チオフェニル基が挙げられる。ヘテロ原子として酸素原子を含むものとしては、フラニル基が挙げられる。   The heterocyclic aryl group as Ar includes a 5-membered or 6-membered ring containing at least one nitrogen atom, sulfur atom or oxygen atom as a hetero atom. Examples of the hetero atom containing a nitrogen atom include a pyridyl group, a quinolinyl group, and an isoquinolinyl group. A thing containing a sulfur atom as a hetero atom includes a thiophenyl group. A furanyl group is mentioned as what contains an oxygen atom as a hetero atom.

一般式(I)、(II)および(III)において、R’としてのアルキル基としては、炭素原子数が好ましくは1〜6、さらに好ましくは1〜4の分岐鎖または直鎖のものが挙げられる。
R’としての置換アルキル基としては、R’としてのアルキル基において、少なくとも1つの水素原子が置換基によって置換されたものが挙げられる。置換基としては、ハロゲン原子、アルコキシ基および芳香族基が挙げられる。ハロゲン原子としては、フッ素原子が挙げられる。アルコキシ基としては、炭素原子数が好ましくは1〜6、さらに好ましくは1〜4の分岐鎖または直鎖のものが挙げられる。芳香族基としては、単核または多核の芳香族環が挙げられる。
R’としてのアリール基としては、単核または多核の芳香族環が挙げられる。
R’としての置換アリール基としては、R’としてのアリール基において、少なくとも1つの水素原子が置換基によって置換されたものが挙げられる。置換基としては、アルキル基、ニトロ基、ハロゲン原子、アルコキシ基および芳香族基が挙げられる。アルキル基としては、炭素原子数が好ましくは1〜6、さらに好ましくは1〜3の分岐鎖または直鎖のものが挙げられ、例えばメチル基、n−プロピル基およびイソプロピル基が挙げられる。ハロゲン原子としては、塩素原子が挙げられる。アルコキシ基としては、炭素原子数が好ましくは1〜6、さらに好ましくは1〜4の分岐鎖または直鎖のものが挙げられる。芳香族基としては、単核または多核の芳香族環が挙げられる。一般式(I)、(II)および(III)におけるR’が、これらの置換基のうち1または2以上の置換基によって置換された置換フェニル基である場合、該1または2以上の置換基のうち何れかが、該フェニル基におけるスルホン酸基に対してパラ位の炭素原子に結合していることが好ましい。
In general formulas (I), (II) and (III), the alkyl group as R ′ is preferably a branched or straight chain having 1 to 6 carbon atoms, more preferably 1 to 4 carbon atoms. It is done.
Examples of the substituted alkyl group as R ′ include those in which at least one hydrogen atom is substituted with a substituent in the alkyl group as R ′. Examples of the substituent include a halogen atom, an alkoxy group, and an aromatic group. Examples of the halogen atom include a fluorine atom. As the alkoxy group, a branched or straight chain having 1 to 6 carbon atoms, more preferably 1 to 4 carbon atoms is preferable. Examples of the aromatic group include mononuclear or polynuclear aromatic rings.
Examples of the aryl group as R ′ include a mononuclear or polynuclear aromatic ring.
Examples of the substituted aryl group as R ′ include those in which at least one hydrogen atom is substituted with a substituent in the aryl group as R ′. Examples of the substituent include an alkyl group, a nitro group, a halogen atom, an alkoxy group, and an aromatic group. The alkyl group preferably has 1 to 6 carbon atoms, more preferably 1 to 3 branched or straight chain carbon atoms, and examples thereof include a methyl group, an n-propyl group, and an isopropyl group. Examples of the halogen atom include a chlorine atom. As the alkoxy group, a branched or straight chain having 1 to 6 carbon atoms, more preferably 1 to 4 carbon atoms is preferable. Examples of the aromatic group include mononuclear or polynuclear aromatic rings. When R ′ in the general formulas (I), (II) and (III) is a substituted phenyl group substituted by one or more substituents among these substituents, the one or more substituents Is preferably bonded to a carbon atom in the para position with respect to the sulfonic acid group in the phenyl group.

一般式(II)で表されるおよび(III)一の化合物Rとしてのアルキル基としては、炭素原子数が好ましくは1〜6、さらに好ましくは1〜3の分岐鎖または直鎖のものが挙げられる。炭素原子数が1〜3のものとしては、メチル基、エチル基、n−プロピル基およびイソプロピル基が挙げられる。炭素原子数が4〜6のものとしては、n−ブチル基、t−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、ペンチル基およびヘキシル基が挙げられる。   The alkyl group represented by the general formula (II) and (III) as one compound R is preferably a branched or straight chain having 1 to 6 carbon atoms, more preferably 1 to 3 carbon atoms. It is done. Examples of those having 1 to 3 carbon atoms include methyl, ethyl, n-propyl and isopropyl groups. Examples of those having 4 to 6 carbon atoms include n-butyl group, t-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, pentyl group and hexyl group.

尚、一般式(II)における2つのR’は、同じであっても異なっていても良い。一般式(III)における3つのR’は、同じであっても異なっていても良い。
一般式(VII)におけるリン原子に結合する3つのORは、同じであってもよく異なっていても良い。一般式(IV)、(V)および(VI)における、同一のリン原子に結合する2つのORは、同じであってもよく異なっていてもよい。
In addition, two R ′ in the general formula (II) may be the same or different. Three R ′ in the general formula (III) may be the same or different.
The three ORs bonded to the phosphorus atom in general formula (VII) may be the same or different. In the general formulas (IV), (V) and (VI), two ORs bonded to the same phosphorus atom may be the same or different.

上記のように、本発明において、スルホン酸アリールエステルが、一般式(II)で表される化合物である場合、一般式(V)で表されるアリールリン酸ジアルキルエステルが得られる。かつ、一般式(II)において、2つのスルホン酸基の相対位置は、オルト位、メタ位またはパラ位である。当然ながら、一般式(V)において、2つのリン酸基の相対位置も、オルト位、メタ位またはパラ位である。かつ、一般式(II)における2つのスルホン酸基の相対位置がオルト位である場合、得られた一般式(V)で表されるアリールリン酸ジアルキルエステルにおける2つのリン酸基の相対位置もオルト位であり、一般式(II)における2つのスルホン酸基の相対位置がメタ位である場合、得られた一般式(V)で表されるアリールリン酸ジアルキルエステルにおける2つのリン酸基の相対位置もメタ位であり、一般式(II)における2つのスルホン酸基の相対位置がパラ位である場合、得られた一般式(V)で表されるアリールリン酸ジアルキルエステルにおける2つのリン酸基の相対位置もパラ位である。   As described above, in the present invention, when the sulfonic acid aryl ester is a compound represented by the general formula (II), an aryl phosphoric acid dialkyl ester represented by the general formula (V) is obtained. And in general formula (II), the relative position of two sulfonic acid groups is an ortho position, a meta position, or a para position. Of course, in the general formula (V), the relative positions of the two phosphate groups are also in the ortho, meta or para position. In addition, when the relative position of the two sulfonic acid groups in the general formula (II) is the ortho position, the relative position of the two phosphoric acid groups in the obtained aryl phosphate dialkyl ester represented by the general formula (V) is also the ortho position. And when the relative position of the two sulfonic acid groups in the general formula (II) is the meta position, the relative position of the two phosphoric acid groups in the diaryl ester of an aryl phosphate represented by the general formula (V) obtained In the meta position and the relative position of the two sulfonic acid groups in the general formula (II) is in the para position, the two phosphate groups in the aryl phosphate dialkyl ester represented by the general formula (V) thus obtained The relative position is also para.

本発明のスルホン酸アリールエステルからアリールリン酸ジアルキルエステルを製造する方法は、具体的には、以下のようにして行うことが好ましい。
反応フラスコに、添加剤、ニッケル塩またはパラジウム塩、スルホン酸アリールエステルおよび亜リン酸トリアルキルエステルを加え、所定温度(反応温度)まで加熱した後、該温度を維持しつつ、所定時間(反応時間)、還流しながら攪拌し、スルホン酸アリールエステルと亜リン酸トリアルキルエステルとを反応させる。この反応は、窒素ガス等の不活性ガス雰囲気中で行うことが好ましい。
Specifically, the method for producing an aryl phosphate dialkyl ester from the sulfonic acid aryl ester of the present invention is preferably carried out as follows.
To the reaction flask, an additive, nickel salt or palladium salt, sulfonic acid aryl ester and phosphorous acid trialkyl ester are added, heated to a predetermined temperature (reaction temperature), and then maintained for a predetermined time (reaction time). ), While stirring under reflux, the sulfonic acid aryl ester is reacted with the phosphorous acid trialkyl ester. This reaction is preferably performed in an inert gas atmosphere such as nitrogen gas.

また、本発明において、反応効率から考慮して、反応温度は100〜240℃であり、反応温度が130〜220℃であることが好ましく、反応温度が130〜200℃であることがより好ましく、反応温度が150〜200℃であることがさらに好ましく、160〜185℃がさらに一層好ましい。
さらに、本発明において、反応効率から考慮して、反応時間は1〜100時間であり、反応時間が4〜80時間であることが好ましく、6〜50時間がより好ましく、20〜36時間がさらに好ましい。
本発明において、必要に応じて上記反応温度の範囲および上記反応時間の範囲を任意に組み合わせることができる。
In the present invention, considering reaction efficiency, the reaction temperature is 100 to 240 ° C, the reaction temperature is preferably 130 to 220 ° C, and the reaction temperature is more preferably 130 to 200 ° C, The reaction temperature is more preferably 150 to 200 ° C, further preferably 160 to 185 ° C.
Furthermore, in the present invention, considering reaction efficiency, the reaction time is 1 to 100 hours, the reaction time is preferably 4 to 80 hours, more preferably 6 to 50 hours, and further more preferably 20 to 36 hours. preferable.
In the present invention, the range of the reaction temperature and the range of the reaction time can be arbitrarily combined as necessary.

以下、本発明の実施例について詳しく説明し、本実施例は、本発明の技術方案を前提として実施し、詳しい実施方式および具体的な操作過程を提示しているが、本発明の保護範囲は、下記の実施例に限定されない。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail, and the embodiments will be carried out on the premise of the technical solution of the present invention, and a detailed implementation method and a specific operation process will be presented. The present invention is not limited to the following examples.

(実施例1)トリフルオロメタンスルホン酸フェニルエステルからのフェニルリン酸ジエチルエステル化合物の製造
乾燥反応フラスコに塩化ニッケル26mg(0.2mmol)、塩化ナトリウム468mg(8.0mmol)、トリフルオロメタンスルホン酸フェニルエステル452mg(2.0mmol)および亜リン酸トリエチルエステル1.66g(10mmol)を加える。窒素保護下で200℃まで加熱し、20時間攪拌しながら反応させる。攪拌を停止して室温まで下げ、蒸留してフェニルリン酸ジエチルエステル352mgが得られ、収率は82%である。
1H NMR(400MHz,CDCl3):δ=7.82(m,2H),7.55(tq,J=7.5,1.4Hz,1H),7.47(m,2H),4.12(m,4H),1.32(td,J=7.0,0.5Hz,6H)
(Example 1) Production of phenyl phosphoric acid diethyl ester compound from trifluoromethanesulfonic acid phenyl ester In a dry reaction flask, 26 mg (0.2 mmol) of nickel chloride, 468 mg (8.0 mmol) of sodium chloride, 452 mg of trifluoromethanesulfonic acid phenyl ester (2.0 mmol) and 1.66 g (10 mmol) of phosphorous acid triethyl ester are added. Heat to 200 ° C. under nitrogen protection and react with stirring for 20 hours. Stirring was stopped, the temperature was lowered to room temperature, and distillation was performed to obtain 352 mg of phenylphosphoric acid diethyl ester, and the yield was 82%.
1 H NMR (400 MHz, CDCl 3 ): δ = 7.82 (m, 2H), 7.55 (tq, J = 7.5, 1.4 Hz, 1H), 7.47 (m, 2H), 4 .12 (m, 4H), 1.32 (td, J = 7.0, 0.5 Hz, 6H)

(実施例2)トリフルオロメタンスルホン酸フェニルエステルからのフェニルリン酸ジエチルエステル化合物の製造
乾燥反応フラスコに臭化ニッケル44mg(0.2mmol)、塩化ナトリウム468mg(8.0mmol)、トリフルオロメタンスルホン酸フェニルエステル452mg(2.0mmol)および亜リン酸トリエチルエステル1.33g(8.0mmol)を加える。窒素保護下で185℃まで加熱し、20時間攪拌しながら反応させる。攪拌を停止して室温まで下げ、蒸留してフェニルリン酸ジエチルエステル420mgが得られ、収率は98%である。
(Example 2) Preparation of phenyl phosphoric acid diethyl ester compound from trifluoromethanesulfonic acid phenyl ester In a dry reaction flask, 44 mg (0.2 mmol) of nickel bromide, 468 mg (8.0 mmol) of sodium chloride, phenyl ester of trifluoromethanesulfonic acid 452 mg (2.0 mmol) and 1.33 g (8.0 mmol) of phosphorous acid triethyl ester are added. Heat to 185 ° C. under nitrogen protection and react with stirring for 20 hours. Stirring was stopped, the temperature was lowered to room temperature, and distillation was performed to obtain 420 mg of phenylphosphoric acid diethyl ester, and the yield was 98%.

(実施例3)トリフルオロメタンスルホン酸フェニルエステルからのフェニルリン酸ジエチルエステル化合物の製造
乾燥反応フラスコにヨウ化ニッケル63mg(0.2mmol)、塩化ナトリウム468mg(8.0mmol)、トリフルオロメタンスルホン酸フェニルエステル452mg(2.0mmol)および亜リン酸トリエチルエステル1.33g(8.0mmol)を加える。窒素保護下で180℃まで加熱し、20時間攪拌しながら反応させる。攪拌を停止して室温まで下げ、蒸留してフェニルリン酸ジエチルエステル422mgが得られ、収率は99%である。
(Example 3) Production of phenyl phosphoric acid diethyl ester compound from trifluoromethanesulfonic acid phenyl ester In a dry reaction flask, 63 mg (0.2 mmol) of nickel iodide, 468 mg (8.0 mmol) of sodium chloride, phenyl ester of trifluoromethanesulfonic acid 452 mg (2.0 mmol) and 1.33 g (8.0 mmol) of phosphorous acid triethyl ester are added. Heat to 180 ° C. under nitrogen protection and react with stirring for 20 hours. Stirring was stopped, the temperature was lowered to room temperature, and distillation was performed to obtain 422 mg of phenylphosphoric acid diethyl ester, and the yield was 99%.

(実施例4)トリフルオロメタンスルホン酸フェニルエステルからのフェニルリン酸ジエチルエステル化合物の製造
乾燥反応フラスコにトリフルオロメタンスルホン酸ニッケル71mg(0.2mmol)、塩化ナトリウム468mg(8.0mmol)、トリフルオロメタンスルホン酸フェニルエステル452mg(2.0mmol)および亜リン酸トリエチルエステル1.33g(8.0mmol)を加える。窒素保護下で185℃まで加熱し、20時間攪拌しながら反応させる。攪拌を停止して室温まで下げ、蒸留してフェニルリン酸ジエチルエステル410mgが得られ、収率は92%である。
(Example 4) Preparation of phenyl phosphoric acid diethyl ester compound from trifluoromethanesulfonic acid phenyl ester In a dry reaction flask, 71 mg (0.2 mmol) of nickel trifluoromethanesulfonate, 468 mg (8.0 mmol) of sodium chloride, trifluoromethanesulfonic acid Add 452 mg (2.0 mmol) of phenyl ester and 1.33 g (8.0 mmol) of phosphorous acid triethyl ester. Heat to 185 ° C. under nitrogen protection and react with stirring for 20 hours. Stirring was stopped, the temperature was lowered to room temperature, and distillation was performed to obtain 410 mg of phenylphosphoric acid diethyl ester, and the yield was 92%.

(実施例5)トリフルオロメタンスルホン酸フェニルエステルからのフェニルリン酸ジエチルエステル化合物の製造
乾燥反応フラスコにアセチルアセトンニッケル52mg(0.2mmol)、塩化ナトリウム1.17g(20mmol)、トリフルオロメタンスルホン酸フェニルエステル452mg(2.0mmol)および亜リン酸トリエチルエステル3.32g(20mmol)を加える。窒素保護下で240℃まで加熱し、20時間攪拌しながら反応させる。攪拌を停止して室温まで下げ、蒸留してフェニルリン酸ジエチルエステル310mgが得られ、収率は72%である。
(Example 5) Preparation of phenyl phosphoric acid diethyl ester compound from trifluoromethanesulfonic acid phenyl ester 52 mg (0.2 mmol) of acetylacetone nickel, 1.17 g (20 mmol) of sodium chloride, 452 mg of trifluoromethanesulfonic acid phenyl ester in a dry reaction flask (2.0 mmol) and 3.32 g (20 mmol) of phosphorous acid triethyl ester are added. Heat to 240 ° C. under nitrogen protection and react with stirring for 20 hours. Stirring was stopped, the temperature was lowered to room temperature, and distillation was performed to obtain 310 mg of phenylphosphoric acid diethyl ester, and the yield was 72%.

(実施例6)トリフルオロメタンスルホン酸フェニルエステルからのフェニルリン酸ジエチルエステル化合物の製造
乾燥反応フラスコにビス(トリフェニルホスフィン)塩化ニッケル131mg(0.2mmol)、塩化ナトリウム468mg(8.0mmol)、トリフルオロメタンスルホン酸フェニルエステル452mg(2.0mmol)および亜リン酸トリエチルエステル1.33g(8.0mmol)を加える。窒素保護下で165℃まで加熱し、20時間攪拌しながら反応させる。攪拌を停止して室温まで下げ、蒸留してフェニルリン酸ジエチルエステル360mgが得られ、収率は84%である。
(Example 6) Preparation of phenyl phosphoric acid diethyl ester compound from trifluoromethanesulfonic acid phenyl ester In a dry reaction flask, 131 mg (0.2 mmol) of bis (triphenylphosphine) nickel chloride, 468 mg (8.0 mmol) of sodium chloride, trifluoro Add 452 mg (2.0 mmol) of lomethanesulfonic acid phenyl ester and 1.33 g (8.0 mmol) of phosphorous acid triethyl ester. Heat to 165 ° C. under nitrogen protection and allow to react with stirring for 20 hours. Stirring was stopped, the temperature was lowered to room temperature, and distillation was performed to obtain 360 mg of phenylphosphoric acid diethyl ester, and the yield was 84%.

(実施例7)トリフルオロメタンスルホン酸フェニルエステルからのフェニルリン酸ジエチルエステル化合物の製造
乾燥反応フラスコに1,2−ビス(ジフェニルホスフィノ)エタン塩化ニッケル53mg(0.1mmol)、塩化ナトリウム468mg(8.0mmol)、トリフルオロメタンスルホン酸フェニルエステル452mg(2.0mmol)および亜リン酸トリエチルエステル1.33g(8.0mmol)を加える。窒素保護下で185℃まで加熱し、20時間攪拌しながら反応させる。攪拌を停止して室温まで下げ、蒸留してフェニルリン酸ジエチルエステル360mgが得られ、収率は84%である。
(Example 7) Preparation of phenylphosphoric acid diethyl ester compound from trifluoromethanesulfonic acid phenyl ester 53 mg (0.1 mmol) of 1,2-bis (diphenylphosphino) ethane nickel chloride, 468 mg of sodium chloride (8 0.0 mmol), 452 mg (2.0 mmol) of trifluoromethanesulfonic acid phenyl ester and 1.33 g (8.0 mmol) of phosphorous acid triethyl ester. Heat to 185 ° C. under nitrogen protection and react with stirring for 20 hours. Stirring was stopped, the temperature was lowered to room temperature, and distillation was performed to obtain 360 mg of phenylphosphoric acid diethyl ester, and the yield was 84%.

(実施例8)トリフルオロメタンスルホン酸フェニルエステルからのフェニルリン酸ジエチルエステル化合物の製造
乾燥反応フラスコに1,3−ビス(ジフェニルホスフィノ)プロパン塩化ニッケル108mg(0.2mmol)、塩化ナトリウム468mg(8.0mmol)、トリフルオロメタンスルホン酸フェニルエステル452mg(2.0mmol)および亜リン酸トリエチルエステル1.33g(8.0mmol)を加える。窒素保護下で185℃まで加熱し、20時間攪拌しながら反応させる。攪拌を停止して室温まで下げ、蒸留してフェニルリン酸ジエチルエステル350mgが得られ、収率は82%である。
(Example 8) Preparation of phenyl phosphoric acid diethyl ester compound from trifluoromethanesulfonic acid phenyl ester In a dry reaction flask, 1,3-bis (diphenylphosphino) propane nickel chloride 108 mg (0.2 mmol), sodium chloride 468 mg (8 0.0 mmol), 452 mg (2.0 mmol) of trifluoromethanesulfonic acid phenyl ester and 1.33 g (8.0 mmol) of phosphorous acid triethyl ester. Heat to 185 ° C. under nitrogen protection and react with stirring for 20 hours. Stirring was stopped, the temperature was lowered to room temperature, and distillation was performed to obtain 350 mg of phenylphosphoric acid diethyl ester, and the yield was 82%.

(実施例9)トリフルオロメタンスルホン酸フェニルエステルからのフェニルリン酸ジエチルエステル化合物の製造
乾燥反応フラスコに1,4−ビス(ジフェニルホスフィノ)ブタン塩化ニッケル111mg(0.2mmol)、塩化ナトリウム935mg(16mmol)、トリフルオロメタンスルホン酸フェニルエステル452mg(2.0mmol)および亜リン酸トリエチルエステル1.33g(8.0mmol)を加える。窒素保護下で185℃まで加熱し、20時間攪拌しながら反応させる。攪拌を停止して室温まで下げ、蒸留してフェニルリン酸ジエチルエステル365mgが得られ、収率は85%である。
(Example 9) Preparation of phenylphosphoric acid diethyl ester compound from trifluoromethanesulfonic acid phenyl ester In a dry reaction flask, 1,4-bis (diphenylphosphino) butane nickel chloride 111 mg (0.2 mmol), sodium chloride 935 mg (16 mmol) ), 452 mg (2.0 mmol) of trifluoromethanesulfonic acid phenyl ester and 1.33 g (8.0 mmol) of phosphorous acid triethyl ester. Heat to 185 ° C. under nitrogen protection and react with stirring for 20 hours. Stirring was stopped, the temperature was lowered to room temperature, and distillation was performed to obtain 365 mg of phenylphosphoric acid diethyl ester, and the yield was 85%.

(実施例10)トリフルオロメタンスルホン酸フェニルエステルからのフェニルリン酸ジエチルエステル化合物の製造
乾燥反応フラスコに1,1'−ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン塩化ニッケル136mg(0.2mmol)、塩化ナトリウム468mg(8.0mmol)、トリフルオロメタンスルホン酸フェニルエステル452mg(2.0mmol)および亜リン酸トリエチルエステル1.33g(8.0mmol)を加える。窒素保護下で185℃まで加熱し、20時間攪拌しながら反応させる。攪拌を停止して室温まで下げ、蒸留してフェニルリン酸ジエチルエステル365mgが得られ、収率は85%である。
(Example 10) Preparation of phenyl phosphoric acid diethyl ester compound from trifluoromethanesulfonic acid phenyl ester In a dry reaction flask, 1,1'-bis (diphenylphosphino) ferrocene nickel chloride 136 mg (0.2 mmol), sodium chloride 468 mg ( 8.0 mmol), 452 mg (2.0 mmol) of trifluoromethanesulfonic acid phenyl ester and 1.33 g (8.0 mmol) of phosphorous acid triethyl ester are added. Heat to 185 ° C. under nitrogen protection and react with stirring for 20 hours. Stirring was stopped, the temperature was lowered to room temperature, and distillation was performed to obtain 365 mg of phenylphosphoric acid diethyl ester, and the yield was 85%.

(実施例11)トリフルオロメタンスルホン酸フェニルエステルからのフェニルリン酸ジエチルエステル化合物の製造
乾燥反応フラスコに塩化ニッケル26mg(0.2mmol)、塩化リチウム1.7g(40.0mmol)、トリフルオロメタンスルホン酸フェニルエステル452mg(2.0mmol)および亜リン酸トリエチルエステル6.64g(40mmol)を加える。窒素保護下で185℃まで加熱し、100時間攪拌しながら反応させる。攪拌を停止して室温まで下げ、蒸留してフェニルリン酸ジエチルエステル56mgが得られ、収率は13%である。
(Example 11) Preparation of phenylphosphoric acid diethyl ester compound from trifluoromethanesulfonic acid phenyl ester In a dry reaction flask, 26 mg (0.2 mmol) of nickel chloride, 1.7 g (40.0 mmol) of lithium chloride, phenyl trifluoromethanesulfonate 452 mg (2.0 mmol) of ester and 6.64 g (40 mmol) of phosphorous acid triethyl ester are added. Heat to 185 ° C. under nitrogen protection and react with stirring for 100 hours. Stirring was stopped, the temperature was lowered to room temperature, and distillation was performed to obtain 56 mg of phenylphosphoric acid diethyl ester, and the yield was 13%.

(実施例12)トリフルオロメタンスルホン酸フェニルエステルからのフェニルリン酸ジエチルエステル化合物の製造
乾燥反応フラスコに塩化ニッケル26mg(0.2mmol)、塩化カリウム596mg(8.0mmol)、トリフルオロメタンスルホン酸フェニルエステル452mg(2.0mmol)および亜リン酸トリエチルエステル6.64g(40mmol)を加える。窒素保護下で185℃まで加熱し、20時間攪拌しながら反応させる。攪拌を停止して室温まで下げ、蒸留してフェニルリン酸ジエチルエステル335mgが得られ、収率は69%である。
(Example 12) Production of phenylphosphoric acid diethyl ester compound from trifluoromethanesulfonic acid phenyl ester In a dry reaction flask, nickel chloride 26 mg (0.2 mmol), potassium chloride 596 mg (8.0 mmol), trifluoromethanesulfonic acid phenyl ester 452 mg (2.0 mmol) and 6.64 g (40 mmol) of phosphorous acid triethyl ester are added. Heat to 185 ° C. under nitrogen protection and react with stirring for 20 hours. Stirring was stopped, the temperature was lowered to room temperature, and distillation was performed to obtain 335 mg of phenylphosphoric acid diethyl ester, and the yield was 69%.

(実施例13)トリフルオロメタンスルホン酸フェニルエステルからのフェニルリン酸ジエチルエステル化合物の製造
乾燥反応フラスコに塩化ニッケル26mg(0.2mmol)、塩化セシウム1.35g(8.0mmol)、トリフルオロメタンスルホン酸フェニルエステル452mg(2.0mmol)および亜リン酸トリエチルエステル6.64g(40mmol)を加える。窒素保護下で185℃まで加熱し、20時間攪拌しながら反応させる。攪拌を停止して室温まで下げ、蒸留してフェニルリン酸ジエチルエステル363mgが得られ、収率は86%である。
(Example 13) Preparation of phenylphosphoric acid diethyl ester compound from trifluoromethanesulfonic acid phenyl ester In a dry reaction flask, 26 mg (0.2 mmol) of nickel chloride, 1.35 g (8.0 mmol) of cesium chloride, phenyl trifluoromethanesulfonate 452 mg (2.0 mmol) of ester and 6.64 g (40 mmol) of phosphorous acid triethyl ester are added. Heat to 185 ° C. under nitrogen protection and react with stirring for 20 hours. Stirring was stopped, the temperature was lowered to room temperature, and distillation was performed to obtain 363 mg of phenylphosphoric acid diethyl ester, and the yield was 86%.

(実施例14)トリフルオロメタンスルホン酸フェニルエステルからのフェニルリン酸ジエチルエステル化合物の製造
乾燥反応フラスコに塩化ニッケル26mg(0.2mmol)、塩化亜鉛1.09g(8.0mmol)、トリフルオロメタンスルホン酸フェニルエステル452mg(2.0mmol)および亜リン酸トリエチルエステル6.64g(40mmol)を加える。窒素保護下で185℃まで加熱し、40時間攪拌しながら反応させる。攪拌を停止して室温まで下げ、蒸留してフェニルリン酸ジエチルエステル183mgが得られ、収率は43%である。
(Example 14) Preparation of phenylphosphoric acid diethyl ester compound from trifluoromethanesulfonic acid phenyl ester In a dry reaction flask, 26 mg (0.2 mmol) of nickel chloride, 1.09 g (8.0 mmol) of zinc chloride, phenyl trifluoromethanesulfonate 452 mg (2.0 mmol) of ester and 6.64 g (40 mmol) of phosphorous acid triethyl ester are added. Heat to 185 ° C. under nitrogen protection and react with stirring for 40 hours. Stirring was stopped, the temperature was lowered to room temperature, and distillation was performed to obtain 183 mg of phenylphosphoric acid diethyl ester, and the yield was 43%.

(実施例15)トリフルオロメタンスルホン酸フェニルエステルからのフェニルリン酸ジエチルエステル化合物の製造
乾燥反応フラスコに塩化ニッケル26mg(0.2mmol)、塩化マグネシウム1.9g(20.0mmol)、トリフルオロメタンスルホン酸フェニルエステル452mg(2.0mmol)および亜リン酸トリエチルエステル6.64g(40mmol)を加える。窒素保護下で185℃まで加熱し、100時間攪拌しながら反応させる。攪拌を停止して室温まで下げ、蒸留してフェニルリン酸ジエチルエステル110mgが得られ、収率は23%である。
(Example 15) Preparation of phenyl phosphoric acid diethyl ester compound from trifluoromethanesulfonic acid phenyl ester In a dry reaction flask, 26 mg (0.2 mmol) of nickel chloride, 1.9 g (20.0 mmol) of magnesium chloride, phenyl trifluoromethanesulfonic acid 452 mg (2.0 mmol) of ester and 6.64 g (40 mmol) of phosphorous acid triethyl ester are added. Heat to 185 ° C. under nitrogen protection and react with stirring for 100 hours. Stirring was stopped, the temperature was lowered to room temperature, and distillation was performed to obtain 110 mg of phenylphosphoric acid diethyl ester, and the yield was 23%.

(実施例16)トリフルオロメタンスルホン酸フェニルエステルからのフェニルリン酸ジエチルエステル化合物の製造
乾燥反応フラスコに塩化ニッケル26mg(0.2mmol)、臭化リチウム695mg(8.0mmol)、トリフルオロメタンスルホン酸フェニルエステル452mg(2.0mmol)および亜リン酸トリエチルエステル6.64g(40mmol)を加える。窒素保護下で185℃まで加熱し、40時間攪拌しながら反応させる。攪拌を停止して室温まで下げ、蒸留してフェニルリン酸ジエチルエステル63mgが得られ、収率は15%である。
(Example 16) Preparation of phenyl phosphoric acid diethyl ester compound from trifluoromethanesulfonic acid phenyl ester In a dry reaction flask, 26 mg (0.2 mmol) of nickel chloride, 695 mg (8.0 mmol) of lithium bromide, phenyl ester of trifluoromethanesulfonic acid 452 mg (2.0 mmol) and 6.64 g (40 mmol) of phosphorous acid triethyl ester are added. Heat to 185 ° C. under nitrogen protection and react with stirring for 40 hours. Stirring was stopped, the temperature was lowered to room temperature, and distillation was performed to obtain 63 mg of phenylphosphoric acid diethyl ester, and the yield was 15%.

(実施例17)トリフルオロメタンスルホン酸フェニルエステルからのフェニルリン酸ジエチルエステル化合物の製造
乾燥反応フラスコに塩化ニッケル26mg(0.2mmol)、臭化ナトリウム823mg(8.0mmol)、トリフルオロメタンスルホン酸フェニルエステル452mg(2.0mmol)および亜リン酸トリエチルエステル1.33g(8.0mmol)を加える。窒素保護下で185℃まで加熱し、20時間攪拌しながら反応させる。攪拌を停止して室温まで下げ、蒸留してフェニルリン酸ジエチルエステル423mgが得られ、収率は99%である。
(Example 17) Preparation of phenyl phosphoric acid diethyl ester compound from trifluoromethanesulfonic acid phenyl ester In a dry reaction flask, 26 mg (0.2 mmol) of nickel chloride, 823 mg (8.0 mmol) of sodium bromide, phenyl ester of trifluoromethanesulfonic acid 452 mg (2.0 mmol) and 1.33 g (8.0 mmol) of phosphorous acid triethyl ester are added. Heat to 185 ° C. under nitrogen protection and react with stirring for 20 hours. Stirring was stopped, the temperature was lowered to room temperature, and distillation was performed to obtain 423 mg of phenylphosphoric acid diethyl ester, and the yield was 99%.

(実施例18)トリフルオロメタンスルホン酸フェニルエステルからのフェニルリン酸ジエチルエステル化合物の製造
乾燥反応フラスコに塩化ニッケル26mg(0.2mmol)、臭化カリウム952mg(8.0mmol)、トリフルオロメタンスルホン酸フェニルエステル452mg(2.0mmol)および亜リン酸トリエチルエステル1.33g(8.0mmol)を加える。窒素保護下で185℃まで加熱し、20時間攪拌しながら反応させる。攪拌を停止して室温まで下げ、蒸留してフェニルリン酸ジエチルエステル425mgが得られ、収率は99%である。
(Example 18) Preparation of phenyl phosphoric acid diethyl ester compound from trifluoromethanesulfonic acid phenyl ester In a dry reaction flask, 26 mg (0.2 mmol) of nickel chloride, 952 mg (8.0 mmol) of potassium bromide, phenyl ester of trifluoromethanesulfonic acid 452 mg (2.0 mmol) and 1.33 g (8.0 mmol) of phosphorous acid triethyl ester are added. Heat to 185 ° C. under nitrogen protection and react with stirring for 20 hours. Stirring was stopped, the temperature was lowered to room temperature, and distillation was performed to obtain 425 mg of phenylphosphoric acid diethyl ester, and the yield was 99%.

(実施例19)トリフルオロメタンスルホン酸フェニルエステルからのフェニルリン酸ジエチルエステル化合物の製造
乾燥反応フラスコに塩化ニッケル26mg(0.2mmol)、臭化セシウム1.70g(8.0mmol)、トリフルオロメタンスルホン酸フェニルエステル452mg(2.0mmol)および亜リン酸トリエチルエステル1.33g(8.0mmol)を加える。窒素保護下で185℃まで加熱し、20時間攪拌しながら反応させる。攪拌を停止して室温まで下げ、蒸留してフェニルリン酸ジエチルエステル422mgが得られ、収率は98%である。
(Example 19) Preparation of phenyl phosphoric acid diethyl ester compound from trifluoromethanesulfonic acid phenyl ester In a dry reaction flask, 26 mg (0.2 mmol) of nickel chloride, 1.70 g (8.0 mmol) of cesium bromide, trifluoromethanesulfonic acid Add 452 mg (2.0 mmol) of phenyl ester and 1.33 g (8.0 mmol) of phosphorous acid triethyl ester. Heat to 185 ° C. under nitrogen protection and react with stirring for 20 hours. Stirring was stopped, the temperature was lowered to room temperature, and distillation was performed to obtain 422 mg of phenylphosphoric acid diethyl ester, and the yield was 98%.

(実施例20)トリフルオロメタンスルホン酸フェニルエステルからのフェニルリン酸ジエチルエステル化合物の製造
乾燥反応フラスコに塩化ニッケル130mg(1.0mmol)、臭化マグネシウム1.47g(8.0mmol)、トリフルオロメタンスルホン酸フェニルエステル452mg(2.0mmol)および亜リン酸トリエチルエステル33.2g(200.0mmol)を加える。窒素保護下で185℃まで加熱し、20時間攪拌しながら反応させる。攪拌を停止して室温まで下げ、蒸留してフェニルリン酸ジエチルエステル419mgが得られ、収率は98%である。
(Example 20) Preparation of phenylphosphoric acid diethyl ester compound from trifluoromethanesulfonic acid phenyl ester In a dry reaction flask, 130 mg (1.0 mmol) of nickel chloride, 1.47 g (8.0 mmol) of magnesium bromide, trifluoromethanesulfonic acid 452 mg (2.0 mmol) of phenyl ester and 33.2 g (200.0 mmol) of phosphorous acid triethyl ester are added. Heat to 185 ° C. under nitrogen protection and react with stirring for 20 hours. Stirring was stopped, the temperature was lowered to room temperature, and distillation was performed to obtain 419 mg of phenylphosphoric acid diethyl ester, and the yield was 98%.

(実施例21)トリフルオロメタンスルホン酸フェニルエステルからのフェニルリン酸ジエチルエステル化合物の製造
乾燥反応フラスコに塩化ニッケル26mg(0.2mmol)、臭化亜鉛450mg(2.0mmol)、トリフルオロメタンスルホン酸フェニルエステル452mg(2.0mmol)および亜リン酸トリエチルエステル1.33g(8.0mmol)を加える。窒素保護下で185℃まで加熱し、20時間攪拌しながら反応させる。攪拌を停止して室温まで下げ、蒸留してフェニルリン酸ジエチルエステル415mgが得られ、収率は97%である。
(Example 21) Production of phenyl phosphoric acid diethyl ester compound from trifluoromethanesulfonic acid phenyl ester In a dry reaction flask, 26 mg (0.2 mmol) of nickel chloride, 450 mg (2.0 mmol) of zinc bromide, phenyl ester of trifluoromethanesulfonic acid 452 mg (2.0 mmol) and 1.33 g (8.0 mmol) of phosphorous acid triethyl ester are added. Heat to 185 ° C. under nitrogen protection and react with stirring for 20 hours. Stirring was stopped, the temperature was lowered to room temperature, and distillation was performed to obtain 415 mg of phenylphosphoric acid diethyl ester, and the yield was 97%.

(実施例22)トリフルオロメタンスルホン酸フェニルエステルからのフェニルリン酸ジエチルエステル化合物の製造
乾燥反応フラスコに塩化ニッケル26mg(0.2mmol)、ヨウ化ナトリウム899mg(6.0mmol)、トリフルオロメタンスルホン酸フェニルエステル452mg(2.0mmol)および亜リン酸トリエチルエステル1.33g(8.0mmol)を加える。窒素保護下で185℃まで加熱し、20時間攪拌しながら反応させる。攪拌を停止して室温まで下げ、蒸留してフェニルリン酸ジエチルエステル420mgが得られ、収率は98%である。
(Example 22) Preparation of phenyl phosphoric acid diethyl ester compound from trifluoromethanesulfonic acid phenyl ester In a dry reaction flask, 26 mg (0.2 mmol) of nickel chloride, 899 mg (6.0 mmol) of sodium iodide, phenyl ester of trifluoromethanesulfonic acid 452 mg (2.0 mmol) and 1.33 g (8.0 mmol) of phosphorous acid triethyl ester are added. Heat to 185 ° C. under nitrogen protection and react with stirring for 20 hours. Stirring was stopped, the temperature was lowered to room temperature, and distillation was performed to obtain 420 mg of phenylphosphoric acid diethyl ester, and the yield was 98%.

(実施例23)トリフルオロメタンスルホン酸フェニルエステルからのフェニルリン酸ジエチルエステル化合物の製造
乾燥反応フラスコに塩化ニッケル26mg(0.2mmol)、ヨウ化カリウム1.33g(8.0mmol)、トリフルオロメタンスルホン酸フェニルエステル452mg(2.0mmol)および亜リン酸トリエチルエステル1.33g(8.0mmol)を加える。窒素保護下で185℃まで加熱し、1時間攪拌しながら反応させる。攪拌を停止して室温まで下げ、蒸留してフェニルリン酸ジエチルエステル73mgが得られ、収率は17%である。
(Example 23) Preparation of phenyl phosphoric acid diethyl ester compound from trifluoromethanesulfonic acid phenyl ester In a dry reaction flask, 26 mg (0.2 mmol) of nickel chloride, 1.33 g (8.0 mmol) of potassium iodide, trifluoromethanesulfonic acid Add 452 mg (2.0 mmol) of phenyl ester and 1.33 g (8.0 mmol) of phosphorous acid triethyl ester. Heat to 185 ° C. under nitrogen protection and react with stirring for 1 hour. Stirring was stopped, the temperature was lowered to room temperature, and distillation was performed to obtain 73 mg of phenylphosphoric acid diethyl ester, and the yield was 17%.

(実施例24)トリフルオロメタンスルホン酸フェニルエステルからのフェニルリン酸ジエチルエステル化合物の製造
乾燥反応フラスコに酢酸ニッケル35mg(0.2mmol)、臭化カリウム952mg(8.0mmol)、トリフルオロメタンスルホン酸フェニルエステル452mg(2.0mmol)および亜リン酸トリエチルエステル1.33g(8.0mmol)を加える。窒素保護下で185℃まで加熱し、20時間攪拌しながら反応させる。攪拌を停止して室温まで下げ、蒸留してフェニルリン酸ジエチルエステル425mgが得られ、収率は99%である。
(Example 24) Preparation of phenyl phosphoric acid diethyl ester compound from trifluoromethanesulfonic acid phenyl ester In a dry reaction flask, 35 mg (0.2 mmol) of nickel acetate, 952 mg (8.0 mmol) of potassium bromide, phenyl ester of trifluoromethanesulfonic acid 452 mg (2.0 mmol) and 1.33 g (8.0 mmol) of phosphorous acid triethyl ester are added. Heat to 185 ° C. under nitrogen protection and react with stirring for 20 hours. Stirring was stopped, the temperature was lowered to room temperature, and distillation was performed to obtain 425 mg of phenylphosphoric acid diethyl ester, and the yield was 99%.

(実施例25)トリフルオロメタンスルホン酸フェニルエステルからのフェニルリン酸ジエチルエステル化合物の製造
乾燥反応フラスコにビス(トリシクロヘキシルホスフィン)塩化ニッケル138mg(0.2mmol)、臭化カリウム952mg(8.0mmol)、トリフルオロメタンスルホン酸フェニルエステル452mg(2.0mmol)および亜リン酸トリエチルエステル1.33g(8.0mmol)を加える。窒素保護下で220℃まで加熱し、20時間攪拌しながら反応させる。攪拌を停止して室温まで下げ、蒸留してフェニルリン酸ジエチルエステル425mgが得られ、収率は99%である。
(Example 25) Preparation of phenyl phosphoric acid diethyl ester compound from trifluoromethanesulfonic acid phenyl ester 138 mg (0.2 mmol) of bis (tricyclohexylphosphine) nickel chloride, 952 mg (8.0 mmol) of potassium bromide in a dry reaction flask, Add 452 mg (2.0 mmol) of trifluoromethanesulfonic acid phenyl ester and 1.33 g (8.0 mmol) of phosphorous acid triethyl ester. Heat to 220 ° C. under nitrogen protection and react with stirring for 20 hours. Stirring was stopped, the temperature was lowered to room temperature, and distillation was performed to obtain 425 mg of phenylphosphoric acid diethyl ester, and the yield was 99%.

(実施例26)トリフルオロメタンスルホン酸フェニルエステルからのフェニルリン酸ジエチルエステル化合物の製造
乾燥反応フラスコに塩化パラジウム35mg(0.2mmol)、臭化カリウム952mg(8.0mmol)、トリフルオロメタンスルホン酸フェニルエステル452mg(2.0mmol)および亜リン酸トリエチルエステル1.33g(8.0mmol)を加える。窒素保護下で185℃まで加熱し、20時間攪拌しながら反応させる。攪拌を停止して室温まで下げ、蒸留してフェニルリン酸ジエチルエステル425mgが得られ、収率は99%である。
(Example 26) Preparation of phenylphosphoric acid diethyl ester compound from trifluoromethanesulfonic acid phenyl ester In a dry reaction flask, 35 mg (0.2 mmol) of palladium chloride, 952 mg (8.0 mmol) of potassium bromide, phenyl ester of trifluoromethanesulfonic acid 452 mg (2.0 mmol) and 1.33 g (8.0 mmol) of phosphorous acid triethyl ester are added. Heat to 185 ° C. under nitrogen protection and react with stirring for 20 hours. Stirring was stopped, the temperature was lowered to room temperature, and distillation was performed to obtain 425 mg of phenylphosphoric acid diethyl ester, and the yield was 99%.

(実施例27)トリフルオロメタンスルホン酸フェニルエステルからのフェニルリン酸ジエチルエステル化合物の製造
乾燥反応フラスコに臭化パラジウム53mg(0.2mmol)、臭化カリウム952mg(8.0mmol)、トリフルオロメタンスルホン酸フェニルエステル452mg(2.0mmol)および亜リン酸トリエチルエステル1.33g(8.0mmol)を加える。窒素保護下で185℃まで加熱し、6時間攪拌しながら反応させる。攪拌を停止して室温まで下げ、蒸留してフェニルリン酸ジエチルエステル278mgが得られ、収率は65%である。
(Example 27) Preparation of phenyl phosphoric acid diethyl ester compound from trifluoromethanesulfonic acid phenyl ester 53 mg (0.2 mmol) of palladium bromide, 952 mg (8.0 mmol) of potassium bromide, phenyl trifluoromethanesulfonic acid in a dry reaction flask 452 mg (2.0 mmol) of ester and 1.33 g (8.0 mmol) of phosphorous acid triethyl ester are added. Heat to 185 ° C. under nitrogen protection and react with stirring for 6 hours. Stirring was stopped, the temperature was lowered to room temperature, and distillation was performed to obtain 278 mg of phenylphosphoric acid diethyl ester, and the yield was 65%.

(実施例28)トリフルオロメタンスルホン酸フェニルエステルからのフェニルリン酸ジエチルエステル化合物の製造
乾燥反応フラスコにヨウ化パラジウム72mg(0.2mmol)、臭化カリウム952mg(8.0mmol)、トリフルオロメタンスルホン酸フェニルエステル452mg(2.0mmol)および亜リン酸トリエチルエステル1.33g(8.0mmol)を加える。窒素保護下で125℃まで加熱し、40時間攪拌しながら反応させる。攪拌を停止して室温まで下げ、蒸留してフェニルリン酸ジエチルエステル159mgが得られ、収率は37%である。
(Example 28) Preparation of phenyl phosphoric acid diethyl ester compound from trifluoromethanesulfonic acid phenyl ester In a dry reaction flask, 72 mg (0.2 mmol) of palladium iodide, 952 mg (8.0 mmol) of potassium bromide, phenyl trifluoromethanesulfonic acid 452 mg (2.0 mmol) of ester and 1.33 g (8.0 mmol) of phosphorous acid triethyl ester are added. Heat to 125 ° C. under nitrogen protection and react with stirring for 40 hours. Stirring was stopped, the temperature was lowered to room temperature, and distillation was performed to obtain 159 mg of phenylphosphoric acid diethyl ester, and the yield was 37%.

(実施例29)トリフルオロメタンスルホン酸フェニルエステルからのフェニルリン酸ジエチルエステル化合物の製造
乾燥反応フラスコに酢酸パラジウム45mg(0.2mmol)、臭化カリウム952mg(8.0mmol)、トリフルオロメタンスルホン酸フェニルエステル452mg(2.0mmol)および亜リン酸トリエチルエステル1.33g(8.0mmol)を加える。窒素保護下で185℃まで加熱し、4時間攪拌しながら反応させる。攪拌を停止して室温まで下げ、蒸留してフェニルリン酸ジエチルエステル206mgが得られ、収率は48%である。
(Example 29) Preparation of phenylphosphoric acid diethyl ester compound from trifluoromethanesulfonic acid phenyl ester 45 mg (0.2 mmol) of palladium acetate, 952 mg (8.0 mmol) of potassium bromide, phenyl ester of trifluoromethanesulfonic acid in a dry reaction flask 452 mg (2.0 mmol) and 1.33 g (8.0 mmol) of phosphorous acid triethyl ester are added. Heat to 185 ° C. under nitrogen protection and react with stirring for 4 hours. Stirring was stopped, the temperature was lowered to room temperature, and distillation was performed to obtain 206 mg of phenylphosphoric acid diethyl ester, and the yield was 48%.

(実施例30)トリフルオロメタンスルホン酸フェニルエステルからのフェニルリン酸ジエチルエステル化合物の製造
乾燥反応フラスコにトリフルオロ酢酸パラジウム66mg(0.2mmol)、臭化カリウム952mg(8.0mmol)、トリフルオロメタンスルホン酸フェニルエステル452mg(2.0mmol)および亜リン酸トリエチルエステル1.33g(8.0mmol)を加える。窒素保護下で185℃まで加熱し、20時間攪拌しながら反応させる。攪拌を停止して室温まで下げ、蒸留してフェニルリン酸ジエチルエステル425mgが得られ、収率は99%である。
Example 30 Preparation of phenylphosphoric acid diethyl ester compound from trifluoromethanesulfonic acid phenyl ester In a dry reaction flask, 66 mg (0.2 mmol) of palladium trifluoroacetate, 952 mg (8.0 mmol) of potassium bromide, trifluoromethanesulfonic acid Add 452 mg (2.0 mmol) of phenyl ester and 1.33 g (8.0 mmol) of phosphorous acid triethyl ester. Heat to 185 ° C. under nitrogen protection and react with stirring for 20 hours. Stirring was stopped, the temperature was lowered to room temperature, and distillation was performed to obtain 425 mg of phenylphosphoric acid diethyl ester, and the yield was 99%.

(実施例31)トリフルオロメタンスルホン酸フェニルエステルからのフェニルリン酸ジエチルエステル化合物の製造
乾燥反応フラスコにアセチルアセトンパラジウム61mg(0.2mmol)、臭化カリウム952mg(8.0mmol)、トリフルオロメタンスルホン酸フェニルエステル452mg(2.0mmol)および亜リン酸トリエチルエステル1.33g(8.0mmol)を加える。窒素保護下で185℃まで加熱し、20時間攪拌しながら反応させる。攪拌を停止して室温まで下げ、蒸留してフェニルリン酸ジエチルエステル279mgが得られ、収率は65%である。
(Example 31) Preparation of phenyl phosphoric acid diethyl ester compound from trifluoromethanesulfonic acid phenyl ester In a dry reaction flask, 61 mg (0.2 mmol) of acetylacetone palladium, 952 mg (8.0 mmol) of potassium bromide, phenyl ester of trifluoromethanesulfonic acid 452 mg (2.0 mmol) and 1.33 g (8.0 mmol) of phosphorous acid triethyl ester are added. Heat to 185 ° C. under nitrogen protection and react with stirring for 20 hours. Stirring was stopped, the temperature was lowered to room temperature, and distillation was performed to obtain 279 mg of phenylphosphoric acid diethyl ester, and the yield was 65%.

(実施例32)メタンスルホン酸フェニルエステルからのフェニルリン酸ジエチルエステル化合物の製造
乾燥反応フラスコに塩化ニッケル26mg(0.2mmol)、臭化カリウム952mg(8.0mmol)、メタンスルホン酸フェニルエステル344mg(2.0mmol)および亜リン酸トリエチルエステル1.33g(8.0mmol)を加える。窒素保護下で185℃まで加熱し、20時間攪拌しながら反応させる。攪拌を停止して室温まで下げ、蒸留してフェニルリン酸ジエチルエステル325mgが得られ、収率は76%である。
(Example 32) Production of phenyl phosphoric acid diethyl ester compound from methanesulfonic acid phenyl ester In a dry reaction flask, 26 mg (0.2 mmol) of nickel chloride, 952 mg (8.0 mmol) of potassium bromide, 344 mg of methanesulfonic acid phenyl ester ( 2.0 mmol) and 1.33 g (8.0 mmol) of phosphorous acid triethyl ester are added. Heat to 185 ° C. under nitrogen protection and react with stirring for 20 hours. Stirring was stopped, the temperature was lowered to room temperature, and distillation was performed to obtain 325 mg of phenylphosphoric acid diethyl ester, and the yield was 76%.

(実施例33)ベンゼンスルホン酸フェニルエステルからのフェニルリン酸ジエチルエステル化合物の製造
乾燥反応フラスコに塩化ニッケル26mg(0.2mmol)、臭化カリウム952mg(8.0mmol)、ベンゼンスルホン酸フェニルエステル469mg(2.0mmol)および亜リン酸トリエチルエステル1.33g(8.0mmol)を加える。窒素保護下で185℃まで加熱し、20時間攪拌しながら反応させる。攪拌を停止して室温まで下げ、蒸留してフェニルリン酸ジエチルエステル320mgが得られ、収率は75%である。
(Example 33) Preparation of phenylphosphoric acid diethyl ester compound from benzenesulfonic acid phenyl ester In a dry reaction flask, 26 mg (0.2 mmol) of nickel chloride, 952 mg (8.0 mmol) of potassium bromide, 469 mg of benzenesulfonic acid phenyl ester ( 2.0 mmol) and 1.33 g (8.0 mmol) of phosphorous acid triethyl ester are added. Heat to 185 ° C. under nitrogen protection and react with stirring for 20 hours. Stirring was stopped, the temperature was lowered to room temperature, and distillation was performed to obtain 320 mg of phenylphosphoric acid diethyl ester, and the yield was 75%.

(実施例34)p−トルエンスルホン酸フェニルエステルからのフェニルリン酸ジエチルエステル化合物の製造
乾燥反応フラスコに塩化ニッケル26mg(0.2mmol)、臭化カリウム952mg(8.0mmol)、p−トルエンスルホン酸フェニルエステル497mg(2.0mmol)および亜リン酸トリエチルエステル1.33g(8.0mmol)を加える。窒素保護下で185℃まで加熱し、30時間攪拌しながら反応させる。攪拌を停止して室温まで下げ、蒸留してフェニルリン酸ジエチルエステル365mgが得られ、収率は86%である。
(Example 34) Preparation of phenyl phosphoric acid diethyl ester compound from p-toluenesulfonic acid phenyl ester In a dry reaction flask, 26 mg (0.2 mmol) of nickel chloride, 952 mg (8.0 mmol) of potassium bromide, p-toluenesulfonic acid 497 mg (2.0 mmol) of phenyl ester and 1.33 g (8.0 mmol) of phosphorous acid triethyl ester are added. Heat to 185 ° C. under nitrogen protection and react with stirring for 30 hours. Stirring was stopped, the temperature was lowered to room temperature, and distillation was performed to obtain 365 mg of phenyl phosphoric acid diethyl ester, and the yield was 86%.

(実施例35)p−クロロベンゼンスルホン酸フェニルエステルからのフェニルリン酸ジエチルエステル化合物の製造
乾燥反応フラスコに塩化ニッケル26mg(0.2mmol)、臭化カリウム952mg(8.0mmol)、p−クロロベンゼンスルホン酸フェニルエステル537mg(2.0mmol)および亜リン酸トリエチルエステル1.33g(8.0mmol)を加える。窒素保護下で185℃まで加熱し、20時間攪拌しながら反応させる。攪拌を停止して室温まで下げ、蒸留してフェニルリン酸ジエチルエステル240mgが得られ、収率は56%である。
(Example 35) Preparation of phenylphosphoric acid diethyl ester compound from p-chlorobenzenesulfonic acid phenyl ester In a dry reaction flask, 26 mg (0.2 mmol) of nickel chloride, 952 mg (8.0 mmol) of potassium bromide, p-chlorobenzenesulfonic acid 537 mg (2.0 mmol) of phenyl ester and 1.33 g (8.0 mmol) of phosphorous acid triethyl ester are added. Heat to 185 ° C. under nitrogen protection and react with stirring for 20 hours. Stirring was stopped, the temperature was lowered to room temperature, and distillation was performed to obtain 240 mg of phenylphosphoric acid diethyl ester, and the yield was 56%.

(実施例36)トリフルオロメタンスルホン酸(4−メチルフェニル)エステルからの4−メチルフェニルリン酸ジエチルエステル化合物の製造
乾燥反応フラスコに塩化ニッケル26mg(0.2mmol)、臭化カリウム952mg(8.0mmol)、トリフルオロメタンスルホン酸(4−メチルフェニル)エステル452mg(2.0mmol)および亜リン酸トリエチルエステル1.33g(8.0mmol)を加える。窒素保護下で185℃まで加熱し、20時間攪拌しながら反応させる。攪拌を停止して室温まで下げ、蒸留して4−メチルフェニルリン酸ジエチルエステル450mgが得られ、収率は99%である。
1H NMR(400 MHz,CDCl3):δ=7.68−7.73(m,2H),7.26−7.29(m,2H),4.04−4.18(m,4H),2.41(s,3H),1.31(t,J=6.9Hz,6H)
(Example 36) Preparation of 4-methylphenyl phosphoric acid diethyl ester compound from trifluoromethanesulfonic acid (4-methylphenyl) ester In a dry reaction flask, 26 mg (0.2 mmol) of nickel chloride and 952 mg (8.0 mmol) of potassium bromide ), 452 mg (2.0 mmol) of trifluoromethanesulfonic acid (4-methylphenyl) ester and 1.33 g (8.0 mmol) of phosphorous acid triethyl ester. Heat to 185 ° C. under nitrogen protection and react with stirring for 20 hours. Stirring was stopped, the temperature was lowered to room temperature, and distillation was performed to obtain 450 mg of 4-methylphenylphosphoric acid diethyl ester, and the yield was 99%.
1 H NMR (400 MHz, CDCl 3 ): δ = 7.68-7.73 (m, 2H), 7.26-7.29 (m, 2H), 4.04-4.18 (m, 4H) ), 2.41 (s, 3H), 1.31 (t, J = 6.9 Hz, 6H)

(実施例37)トリフルオロメタンスルホン酸(4−tert−ブチルフェニル)エステルからの4−tert−ブチルフェニルリン酸ジエチルエステル化合物の製造
乾燥反応フラスコに塩化ニッケル26mg(0.2mmol)、臭化カリウム952mg(8.0mmol)、トリフルオロメタンスルホン酸(4−tert−ブチルフェニル)エステル559mg(2.0mmol)および亜リン酸トリエチルエステル1.33g(8.0mmol)を加える。窒素保護下で185℃まで加熱し、20時間攪拌しながら反応させる。攪拌を停止して室温まで下げ、蒸留して4−tert−ブチルフェニルリン酸ジエチルエステル535mgが得られ、収率は99%である。
1H NMR(400 MHz,CDCl3):δ=7.80−7.86(m,2H),7.62−7.66(m,2H),4.04−4.18(m,4H),2.41(s,3H),1.31(t,J=6.9Hz,6H)
Example 37 Production of 4-tert-butylphenyl phosphoric acid diethyl ester compound from trifluoromethanesulfonic acid (4-tert-butylphenyl) ester In a dry reaction flask, 26 mg (0.2 mmol) of nickel chloride and 952 mg of potassium bromide (8.0 mmol), 559 mg (2.0 mmol) of trifluoromethanesulfonic acid (4-tert-butylphenyl) ester and 1.33 g (8.0 mmol) of phosphorous acid triethyl ester are added. Heat to 185 ° C. under nitrogen protection and react with stirring for 20 hours. Stirring was stopped, the temperature was lowered to room temperature, and distillation was performed to obtain 535 mg of 4-tert-butylphenyl phosphate diethyl ester, and the yield was 99%.
1 H NMR (400 MHz, CDCl 3 ): δ = 7.80-7.86 (m, 2H), 7.62-7.66 (m, 2H), 4.04-4.18 (m, 4H) ), 2.41 (s, 3H), 1.31 (t, J = 6.9 Hz, 6H)

(実施例38)トリフルオロメタンスルホン酸(4−メトキシフェニル)エステルからの4−メトキシフェニルリン酸ジエチルエステル化合物の製造
乾燥反応フラスコに塩化ニッケル26mg(0.2mmol)、臭化カリウム952mg(8.0mmol)、トリフルオロメタンスルホン酸(4−メトキシフェニル)エステル512mg(2.0mmol)および亜リン酸トリエチルエステル1.33g(8.0mmol)を加える。窒素保護下で185℃まで加熱し、20時間攪拌しながら反応させる。攪拌を停止して室温まで下げ、蒸留して4−メトキシフェニルリン酸ジエチルエステル366mgが得られ、収率は75%である。
1H NMR(400 MHz,CDCl3):δ=7.72−7.77(m,2H),6.96−6.98(m,2H),4.04−4.13(m,4H),3.85(s,3H),1.31(t,J=7.4Hz,6H)
Example 38 Production of 4-methoxyphenyl phosphoric acid diethyl ester compound from trifluoromethanesulfonic acid (4-methoxyphenyl) ester In a dry reaction flask, 26 mg (0.2 mmol) of nickel chloride and 952 mg (8.0 mmol) of potassium bromide ), 512 mg (2.0 mmol) of trifluoromethanesulfonic acid (4-methoxyphenyl) ester and 1.33 g (8.0 mmol) of phosphorous acid triethyl ester. Heat to 185 ° C. under nitrogen protection and react with stirring for 20 hours. Stirring was stopped, the temperature was lowered to room temperature, and distillation was performed to obtain 366 mg of 4-methoxyphenyl phosphoric acid diethyl ester, and the yield was 75%.
1 H NMR (400 MHz, CDCl 3 ): δ = 7.72-7.77 (m, 2H), 6.96-6.98 (m, 2H), 4.04-4.13 (m, 4H) ), 3.85 (s, 3H), 1.31 (t, J = 7.4 Hz, 6H)

(実施例39)トリフルオロメタンスルホン酸(4−フェニルフェニル)エステルからの4−フェニルフェニルリン酸ジエチルエステル化合物の製造
乾燥反応フラスコに塩化ニッケル26mg(0.2mmol)、臭化カリウム952mg(8.0mmol)、トリフルオロメタンスルホン酸(4−フェニルフェニル)エステル605mg(2.0mmol)および亜リン酸トリエチルエステル1.33g(8.0mmol)を加える。窒素保護下で185℃まで加熱し、20時間攪拌しながら反応させる。攪拌を停止して室温まで下げ、蒸留して4−フェニルフェニルリン酸ジエチルエステル551mgが得られ、収率は95%である。
1H NMR(400 MHz,CDCl3):δ=7.86−7.91(m,2H),7.67−7.70(m,2H),7.59−7.62(m,2H),7.44−7.48(m,2H),7.37−7.41(m,1H),4.09−4.22(m,4H),1.35(t,J=7.3Hz,6H)
(Example 39) Preparation of 4-phenylphenyl phosphoric acid diethyl ester compound from trifluoromethanesulfonic acid (4-phenylphenyl) ester In a dry reaction flask, 26 mg (0.2 mmol) of nickel chloride and 952 mg (8.0 mmol) of potassium bromide ), 605 mg (2.0 mmol) of trifluoromethanesulfonic acid (4-phenylphenyl) ester and 1.33 g (8.0 mmol) of phosphorous acid triethyl ester. Heat to 185 ° C. under nitrogen protection and react with stirring for 20 hours. Stirring was stopped, the temperature was lowered to room temperature, and distillation was performed to obtain 551 mg of 4-phenylphenylphosphoric acid diethyl ester, and the yield was 95%.
1 H NMR (400 MHz, CDCl 3 ): δ = 7.86-7.91 (m, 2H), 7.67-7.70 (m, 2H), 7.59-7.62 (m, 2H) ), 7.44-7.48 (m, 2H), 7.37-7.41 (m, 1H), 4.09-4.22 (m, 4H), 1.35 (t, J = 7) .3Hz, 6H)

(実施例40)トリフルオロメタンスルホン酸(4−ホルミルオキシフェニル)エステルからの4−ホルミルオキシフェニルリン酸ジエチルエステル化合物の製造
乾燥反応フラスコに塩化ニッケル26mg(0.2mmol)、臭化カリウム952mg(8.0mmol)、トリフルオロメタンスルホン酸(4−ホルミルオキシフェニル)エステル568mg(2.0mmol)および亜リン酸トリエチルエステル1.33g(8.0mmol)を加える。窒素保護下で185℃まで加熱し、20時間攪拌しながら反応させる。攪拌を停止して室温まで下げ、蒸留して4−ホルミルオキシフェニルリン酸ジエチルエステル540mgが得られ、収率は99%である。
1H NMR(CDCl3,400 MHz):δ=8.12(dd,J=3.8,=8.2Hz,2H),7.89(dd,J=8.2,12.9 Hz,2H),4.14(m,4H),3.95(s,3H),1.33(t,J=7.1Hz,6H)
Example 40 Production of 4-formyloxyphenyl phosphoric acid diethyl ester compound from trifluoromethanesulfonic acid (4-formyloxyphenyl) ester In a dry reaction flask, 26 mg (0.2 mmol) of nickel chloride and 952 mg of potassium bromide (8 0.0 mmol), 568 mg (2.0 mmol) of trifluoromethanesulfonic acid (4-formyloxyphenyl) ester and 1.33 g (8.0 mmol) of phosphorous acid triethyl ester are added. Heat to 185 ° C. under nitrogen protection and react with stirring for 20 hours. Stirring was stopped, the temperature was lowered to room temperature, and distillation was performed to obtain 540 mg of 4-formyloxyphenyl phosphoric acid diethyl ester, and the yield was 99%.
1 H NMR (CDCl 3 , 400 MHz): δ = 8.12 (dd, J = 3.8, = 8.2 Hz, 2H), 7.89 (dd, J = 8.2, 12.9 Hz, 2H), 4.14 (m, 4H), 3.95 (s, 3H), 1.33 (t, J = 7.1 Hz, 6H)

(実施例41)トリフルオロメタンスルホン酸(4−アセチルフェニル)エステルからの4−アセチルフェニルリン酸ジエチルエステル化合物の製造
乾燥反応フラスコに塩化ニッケル26mg(0.2mmol)、臭化カリウム952mg(8.0mmol)、トリフルオロメタンスルホン酸(4−アセチルフェニル)エステル536mg(2.0mmol)および亜リン酸トリエチルエステル1.33g(8.0mmol)を加える。窒素保護下で185℃まで加熱し、20時間攪拌しながら反応させる。攪拌を停止して室温まで下げ、蒸留して4−アセチルフェニルリン酸ジエチルエステル440mgが得られ、収率は86%である。
1H NMR(CDCl3,400 MHz):δ=8.01−8.04(m,2H),7.90−7.95(m,2H),4.12−4.17(m,4H),2.65(s,3H),1.34(t,J=6.8Hz,6H)
(Example 41) Preparation of 4-acetylphenyl phosphoric acid diethyl ester compound from trifluoromethanesulfonic acid (4-acetylphenyl) ester 26 mg (0.2 mmol) of nickel chloride and 952 mg (8.0 mmol) of potassium bromide in a dry reaction flask. ), 536 mg (2.0 mmol) of trifluoromethanesulfonic acid (4-acetylphenyl) ester and 1.33 g (8.0 mmol) of phosphorous acid triethyl ester. Heat to 185 ° C. under nitrogen protection and react with stirring for 20 hours. Stirring was stopped, the temperature was lowered to room temperature, and distillation was performed to obtain 440 mg of 4-acetylphenyl phosphate diethyl ester, and the yield was 86%.
1 H NMR (CDCl 3 , 400 MHz): δ = 8.01-8.04 (m, 2H), 7.90-7.95 (m, 2H), 4.12-4.17 (m, 4H) ), 2.65 (s, 3H), 1.34 (t, J = 6.8 Hz, 6H)

(実施例42)トリフルオロメタンスルホン酸(4−アセトキシフェニル)エステルからの4−アセトキシフェニルリン酸ジエチルエステル化合物の製造
乾燥反応フラスコに塩化ニッケル26mg(0.2mmol)、臭化カリウム952mg(8.0mmol)、トリフルオロメタンスルホン酸(4−アセトキシフェニル)エステル568mg(2.0mmol)および亜リン酸トリエチルエステル1.33g(8.0mmol)を加える。窒素保護下で185℃まで加熱し、20時間攪拌しながら反応させる。攪拌を停止して室温まで下げ、蒸留して4−アセトキシフェニルリン酸ジエチルエステル430mgが得られ、収率は79%である。
1H NMR(CDCl3,400 MHz):δ=7.66−7.73(m,2H),6.96−7.00(m,2H),4.02−4.15(m,4H),2.28(s,3H),1.31(t,J=7.2Hz,6H)
Example 42 Production of 4-acetoxyphenyl phosphoric acid diethyl ester compound from trifluoromethanesulfonic acid (4-acetoxyphenyl) ester In a dry reaction flask, 26 mg (0.2 mmol) of nickel chloride and 952 mg (8.0 mmol) of potassium bromide ), 568 mg (2.0 mmol) of trifluoromethanesulfonic acid (4-acetoxyphenyl) ester and 1.33 g (8.0 mmol) of phosphorous acid triethyl ester. Heat to 185 ° C. under nitrogen protection and react with stirring for 20 hours. Stirring was stopped, the temperature was lowered to room temperature, and distillation was performed to obtain 430 mg of 4-acetoxyphenyl phosphoric acid diethyl ester, and the yield was 79%.
1 H NMR (CDCl 3 , 400 MHz): δ = 7.66-7.73 (m, 2H), 6.96-7.00 (m, 2H), 4.02-4.15 (m, 4H) ), 2.28 (s, 3H), 1.31 (t, J = 7.2 Hz, 6H)

(実施例43)トリフルオロメタンスルホン酸(4−ヒドロキシフェニル)エステルからの4−ヒドロキシフェニルリン酸ジエチルエステル化合物の製造
乾燥反応フラスコに塩化ニッケル26mg(0.2mmol)、臭化カリウム952mg(8.0mmol)、トリフルオロメタンスルホン酸(4−ヒドロキシフェニル)エステル484mg(2.0mmol)および亜リン酸トリエチルエステル1.33g(8.0mmol)を加える。窒素保護下で185℃まで加熱し、20時間攪拌しながら反応させる。攪拌を停止して室温まで下げ、蒸留して4−ヒドロキシフェニルリン酸ジエチルエステル317mgが得られ、収率は69%である。
1H NMR(CDCl3,400 MHz):δ=7.59−7.68(m,2H),6.96−7.01(m,2H),4.00−4.17(m,4H),1.31(t,J=7.0Hz,6H)
(Example 43) Preparation of 4-hydroxyphenyl phosphoric acid diethyl ester compound from trifluoromethanesulfonic acid (4-hydroxyphenyl) ester 26 mg (0.2 mmol) of nickel chloride and 952 mg (8.0 mmol) of potassium bromide in a dry reaction flask ), 484 mg (2.0 mmol) of trifluoromethanesulfonic acid (4-hydroxyphenyl) ester and 1.33 g (8.0 mmol) of phosphorous acid triethyl ester. Heat to 185 ° C. under nitrogen protection and react with stirring for 20 hours. Stirring was stopped, the temperature was lowered to room temperature, and distillation was performed to obtain 317 mg of 4-hydroxyphenylphosphoric acid diethyl ester, and the yield was 69%.
1 H NMR (CDCl 3 , 400 MHz): δ = 7.59-7.68 (m, 2H), 6.96-7.01 (m, 2H), 4.00-4.17 (m, 4H) ), 1.31 (t, J = 7.0 Hz, 6H)

(実施例44)トリフルオロメタンスルホン酸(4−アセトアミドフェニル)エステルからの4−アセトアミドフェニルリン酸ジエチルエステル化合物の製造
乾燥反応フラスコに塩化ニッケル26mg(0.2mmol)、臭化カリウム952mg(8.0mmol)、トリフルオロメタンスルホン酸(4−アセトアミドフェニル)エステル566mg(2.0mmol)および亜リン酸トリエチルエステル1.33g(8.0mmol)を加える。窒素保護下で185℃まで加熱し、20時間攪拌しながら反応させる。攪拌を停止して室温まで下げ、蒸留して4−アセトアミドフェニルリン酸ジエチルエステル441mgが得られ、収率は78%である。
1H NMR(CDCl3,400 MHz):δ=7.68(m,4H),4.06(m,4H),2.17(s,3H),1.29(t,J=7.2Hz,6H)
(Example 44) Preparation of 4-acetamidophenyl phosphate diethyl ester compound from trifluoromethanesulfonic acid (4-acetamidophenyl) ester In a dry reaction flask, 26 mg (0.2 mmol) of nickel chloride and 952 mg (8.0 mmol) of potassium bromide ), 566 mg (2.0 mmol) of trifluoromethanesulfonic acid (4-acetamidophenyl) ester and 1.33 g (8.0 mmol) of phosphorous acid triethyl ester. Heat to 185 ° C. under nitrogen protection and react with stirring for 20 hours. Stirring was stopped, the temperature was lowered to room temperature, and distillation was performed to obtain 441 mg of 4-acetamidophenyl phosphate diethyl ester, and the yield was 78%.
1 H NMR (CDCl 3 , 400 MHz): δ = 7.68 (m, 4H), 4.06 (m, 4H), 2.17 (s, 3H), 1.29 (t, J = 7. 2Hz, 6H)

(実施例45)トリフルオロメタンスルホン酸(3−メチルフェニル)エステルからの3−メチルフェニルリン酸ジエチルエステル化合物の製造
乾燥反応フラスコに塩化ニッケル26mg(0.2mmol)、臭化カリウム952mg(8.0mmol)、トリフルオロメタンスルホン酸(3−メチルフェニル)エステル452mg(2.0mmol)および亜リン酸トリエチルエステル1.33g(8.0mmol)を加える。窒素保護下で185℃まで加熱し、20時間攪拌しながら反応させる。攪拌を停止して室温まで下げ、蒸留して3−メチルフェニルリン酸ジエチルエステル383mgが得られ、収率は84%である。
1H NMR(400 MHz,CDCl3):δ=8.05−8.02(m,2H),7.98−7.91(m,2H),4.19−4.10(m,4H),2.66(s,3H),1.35(t,J=6.8Hz,6H)
Example 45 Production of 3-methylphenyl phosphoric acid diethyl ester compound from trifluoromethanesulfonic acid (3-methylphenyl) ester In a dry reaction flask, 26 mg (0.2 mmol) of nickel chloride and 952 mg (8.0 mmol) of potassium bromide ), 452 mg (2.0 mmol) of trifluoromethanesulfonic acid (3-methylphenyl) ester and 1.33 g (8.0 mmol) of phosphorous acid triethyl ester. Heat to 185 ° C. under nitrogen protection and react with stirring for 20 hours. Stirring was stopped, the temperature was lowered to room temperature, and distillation was performed to obtain 383 mg of 3-methylphenylphosphoric acid diethyl ester, and the yield was 84%.
1 H NMR (400 MHz, CDCl 3 ): δ = 8.05-8.02 (m, 2H), 7.98-7.91 (m, 2H), 4.19-4.10 (m, 4H) ), 2.66 (s, 3H), 1.35 (t, J = 6.8 Hz, 6H)

(実施例46)トリフルオロメタンスルホン酸(3−メトキシフェニル)エステルからの3−メトキシフェニルリン酸ジエチルエステル化合物の製造
乾燥反応フラスコに塩化ニッケル26mg(0.2mmol)、臭化カリウム952mg(8.0mmol)、トリフルオロメタンスルホン酸(3−メトキシフェニル)エステル512mg(2.0mmol)および亜リン酸トリエチルエステル1.33g(8.0mmol)を加える。窒素保護下で185℃まで加熱し、20時間攪拌しながら反応させる。攪拌を停止して室温まで下げ、蒸留して3−メトキシフェニルリン酸ジエチルエステル357mgが得られ、収率は73%である。
1H NMR(400 MHz,CDCl3):δ=7.32−7.40(m,3H),7.07−7.10(m,1H),4.05−4.18(m,4H),3.87(s,3H),1.33(t,J=6.9Hz,6H)
Example 46 Production of 3-methoxyphenyl phosphoric acid diethyl ester compound from trifluoromethanesulfonic acid (3-methoxyphenyl) ester In a dry reaction flask, 26 mg (0.2 mmol) of nickel chloride and 952 mg (8.0 mmol) of potassium bromide ), 512 mg (2.0 mmol) of trifluoromethanesulfonic acid (3-methoxyphenyl) ester and 1.33 g (8.0 mmol) of phosphorous acid triethyl ester. Heat to 185 ° C. under nitrogen protection and react with stirring for 20 hours. Stirring was stopped, the temperature was lowered to room temperature, and distillation was performed to obtain 357 mg of 3-methoxyphenyl phosphoric acid diethyl ester, and the yield was 73%.
1 H NMR (400 MHz, CDCl 3 ): δ = 7.32-7.40 (m, 3H), 7.07-7.10 (m, 1H), 4.05-4.18 (m, 4H) ), 3.87 (s, 3H), 1.33 (t, J = 6.9 Hz, 6H)

(実施例47)トリフルオロメタンスルホン酸(2−メチルフェニル)エステルからの2−メチルフェニルリン酸ジエチルエステル化合物の製造
乾燥反応フラスコに塩化ニッケル26mg(0.2mmol)、臭化カリウム952mg(8.0mmol)、トリフルオロメタンスルホン酸(2−メチルフェニル)エステル452mg(2.0mmol)および亜リン酸トリエチルエステル1.33g(8.0mmol)を加える。窒素保護下で185℃まで加熱し、40時間攪拌しながら反応させる。攪拌を停止して室温まで下げ、蒸留して2−メチルフェニルリン酸ジエチルエステル183mgが得られ、収率は40%である。
1H NMR(400 MHz,CDCl3):δ=7.92(dd,1H,J=7.6,14.2Hz),7.43(t,J=7.3Hz,1H),7.26(m,1H),4.12(m,4H),2.57(s,3H),1.33(t,J=6.9Hz,6H)
(Example 47) Preparation of 2-methylphenylphosphoric acid diethyl ester compound from trifluoromethanesulfonic acid (2-methylphenyl) ester In a dry reaction flask, 26 mg (0.2 mmol) of nickel chloride and 952 mg (8.0 mmol) of potassium bromide ), 452 mg (2.0 mmol) of trifluoromethanesulfonic acid (2-methylphenyl) ester and 1.33 g (8.0 mmol) of phosphorous acid triethyl ester. Heat to 185 ° C. under nitrogen protection and react with stirring for 40 hours. Stirring was stopped, the temperature was lowered to room temperature, and distillation was performed to obtain 183 mg of 2-methylphenylphosphoric acid diethyl ester, and the yield was 40%.
1 H NMR (400 MHz, CDCl 3 ): δ = 7.92 (dd, 1H, J = 7.6, 14.2 Hz), 7.43 (t, J = 7.3 Hz, 1H), 7.26 (M, 1H), 4.12 (m, 4H), 2.57 (s, 3H), 1.33 (t, J = 6.9 Hz, 6H)

(実施例48)トリフルオロメタンスルホン酸(2−メトキシフェニル)エステルからの2−メトキシフェニルリン酸ジエチルエステル化合物の製造
乾燥反応フラスコに塩化ニッケル26mg(0.2mmol)、臭化カリウム952mg(8.0mmol)、トリフルオロメタンスルホン酸(2−メトキシフェニル)エステル512mg(2.0mmol)および亜リン酸トリエチルエステル1.33g(8.0mmol)を加える。窒素保護下で185℃まで加熱し、36時間攪拌しながら反応させる。攪拌を停止して室温まで下げ、蒸留して2−メトキシフェニルリン酸ジエチルエステル215mgが得られ、収率は44%である。
1H NMR(CDCl3,400 MHz):δ=7.82(dd,1H,J=7.5,14.9Hz),7.51(t,1H,J=7.9Hz),7.02(m,1H),6.95(t,1H,J=7.6Hz),4.16(m,4H),3.90(s,1H),1.33(t,J=7.1Hz,6H)
Example 48 Production of 2-methoxyphenyl phosphoric acid diethyl ester compound from trifluoromethanesulfonic acid (2-methoxyphenyl) ester 26 mg (0.2 mmol) of nickel chloride and 952 mg (8.0 mmol) of potassium bromide in a dry reaction flask. ), 512 mg (2.0 mmol) of trifluoromethanesulfonic acid (2-methoxyphenyl) ester and 1.33 g (8.0 mmol) of phosphorous acid triethyl ester. Heat to 185 ° C. under nitrogen protection and react with stirring for 36 hours. Stirring was stopped, the temperature was lowered to room temperature, and distillation was performed to obtain 215 mg of 2-methoxyphenylphosphoric acid diethyl ester, and the yield was 44%.
1 H NMR (CDCl 3 , 400 MHz): δ = 7.82 (dd, 1H, J = 7.5, 14.9 Hz), 7.51 (t, 1H, J = 7.9 Hz), 7.02 (M, 1H), 6.95 (t, 1H, J = 7.6 Hz), 4.16 (m, 4H), 3.90 (s, 1H), 1.33 (t, J = 7.1 Hz) , 6H)

(実施例49)トリフルオロメタンスルホン酸(2−ホルミルオキシフェニル)エステルからの2−ホルミルオキシフェニルリン酸ジエチルエステル化合物の製造
乾燥反応フラスコに塩化ニッケル26mg(0.2mmol)、臭化カリウム952mg(8.0mmol)、トリフルオロメタンスルホン酸(2−ホルミルオキシフェニル)エステル568mg(2.0mmol)および亜リン酸トリエチルエステル1.33g(8.0mmol)を加える。窒素保護下で185℃まで加熱し、30時間攪拌しながら反応させる。攪拌を停止して室温まで下げ、蒸留して2−ホルミルオキシフェニルリン酸ジエチルエステル540mgが得られ、収率は99%である。
1H NMR(CDCl3,400 MHz):δ=7.97(m,1H),7.72(m,1H),7.57(m,1H),4.16(m,4H),3.93(s,3H),1.35(t,J=7.1Hz,6H)
Example 49 Production of 2-formyloxyphenyl phosphoric acid diethyl ester compound from trifluoromethanesulfonic acid (2-formyloxyphenyl) ester In a dry reaction flask, 26 mg (0.2 mmol) of nickel chloride and 952 mg of potassium bromide (8 0.0 mmol), 568 mg (2.0 mmol) of trifluoromethanesulfonic acid (2-formyloxyphenyl) ester and 1.33 g (8.0 mmol) of phosphorous acid triethyl ester are added. Heat to 185 ° C. under nitrogen protection and react with stirring for 30 hours. Stirring was stopped, the temperature was lowered to room temperature, and distillation was performed to obtain 540 mg of 2-formyloxyphenyl phosphate diethyl ester, and the yield was 99%.
1 H NMR (CDCl 3 , 400 MHz): δ = 7.97 (m, 1H), 7.72 (m, 1H), 7.57 (m, 1H), 4.16 (m, 4H), 3 .93 (s, 3H), 1.35 (t, J = 7.1 Hz, 6H)

(実施例50)トリフルオロメタンスルホン酸(2−フェニルフェニル)エステルからの2−フェニルフェニルリン酸ジエチルエステル化合物の製造
乾燥反応フラスコに塩化ニッケル260mg(2.0mmol)、臭化カリウム952mg(8.0mmol)、トリフルオロメタンスルホン酸(2−フェニルフェニル)エステル605mg(2.0mmol)および亜リン酸トリエチルエステル3.32g(20mmol)を加える。窒素保護下で185℃まで加熱し、30時間攪拌しながら反応させる。攪拌を停止して室温まで下げ、蒸留して2−フェニルフェニルリン酸ジエチルエステル482mgが得られ、収率は83%である。
1H NMR(400 MHz,CDCl3):δ=8.02(ddd,J=14.3,7.7,1.4Hz,1H),7.52(tt,J=7.6,1.5Hz,1H),7.45−7.26(m,7H),3.96−3.74(m,4H),1.09(t,J=7.1Hz,6H)
(Example 50) Preparation of 2-phenylphenyl phosphoric acid diethyl ester compound from trifluoromethanesulfonic acid (2-phenylphenyl) ester 260 mg (2.0 mmol) of nickel chloride and 952 mg (8.0 mmol) of potassium bromide in a dry reaction flask ), 605 mg (2.0 mmol) of trifluoromethanesulfonic acid (2-phenylphenyl) ester and 3.32 g (20 mmol) of phosphorous acid triethyl ester. Heat to 185 ° C. under nitrogen protection and react with stirring for 30 hours. Stirring was stopped, the temperature was lowered to room temperature, and distillation was performed to obtain 482 mg of 2-phenylphenyl phosphoric acid diethyl ester, and the yield was 83%.
1 H NMR (400 MHz, CDCl 3 ): δ = 8.02 (ddd, J = 14.3, 7.7, 1.4 Hz, 1H), 7.52 (tt, J = 7.6, 1.. 5 Hz, 1H), 7.45-7.26 (m, 7H), 3.96-3.74 (m, 4H), 1.09 (t, J = 7.1 Hz, 6H)

(実施例51)トリフルオロメタンスルホン酸(3,4−ジメチルフェニル)エステルからの3,4−ジメチルフェニルリン酸ジエチルエステル化合物の製造
乾燥反応フラスコに塩化ニッケル26mg(0.2mmol)、臭化カリウム952mg(8.0mmol)、トリフルオロメタンスルホン酸(3,4−ジメチルフェニル)エステル508mg(2.0mmol)および亜リン酸トリエチルエステル1.33g(8.0mmol)を加える。窒素保護下で185℃まで加熱し、20時間攪拌しながら反応させる。攪拌を停止して室温まで下げ、蒸留して3,4−ジメチルフェニルリン酸ジエチルエステル422mgが得られ、収率は87%である。
1H NMR(400 MHz,CDCl3):δ=7.30−6.95(m,3H),4.10(m,4H),2.28(s,3H),2.26(s,3H),1.33(t,J=7.2Hz,6H)
Example 51 Production of 3,4-dimethylphenyl phosphoric acid diethyl ester compound from trifluoromethanesulfonic acid (3,4-dimethylphenyl) ester In a dry reaction flask, 26 mg (0.2 mmol) of nickel chloride and 952 mg of potassium bromide (8.0 mmol), 508 mg (2.0 mmol) of trifluoromethanesulfonic acid (3,4-dimethylphenyl) ester and 1.33 g (8.0 mmol) of phosphorous acid triethyl ester are added. Heat to 185 ° C. under nitrogen protection and react with stirring for 20 hours. Stirring was stopped, the temperature was lowered to room temperature, and distillation was performed to obtain 422 mg of 3,4-dimethylphenylphosphoric acid diethyl ester, and the yield was 87%.
1 H NMR (400 MHz, CDCl 3 ): δ = 7.30-6.95 (m, 3H), 4.10 (m, 4H), 2.28 (s, 3H), 2.26 (s, 3H), 1.33 (t, J = 7.2 Hz, 6H)

(実施例52)トリフルオロメタンスルホン酸(3,4−ジメトキシフェニル)エステルからの3,4−ジメトキシフェニルリン酸ジエチルエステル化合物の製造
乾燥反応フラスコに塩化ニッケル26mg(0.2mmol)、臭化カリウム952mg(8.0mmol)、トリフルオロメタンスルホン酸(3,4−ジメチルフェニル)エステル572mg(2.0mmol)および亜リン酸トリエチルエステル1.33g(8.0mmol)を加える。窒素保護下で185℃まで加熱し、36時間攪拌しながら反応させる。攪拌を停止して室温まで下げ、蒸留して3,4−ジメチルフェニルリン酸ジエチルエステル389mgが得られ、収率は71%である。
1H NMR(CDCl3,400 MHz):δ=7.41(dd,1H,J=13.41,4.5Hz),7.27(d,J=14.0Hz,1H),6.94(dd,J=4.51,8.19Hz,1H),4.13(m,J=7.1,7.42Hz,4H),3.93(s,6H),1.35(t,J=7.1Hz,6H)
(Example 52) Production of 3,4-dimethoxyphenyl phosphoric acid diethyl ester compound from trifluoromethanesulfonic acid (3,4-dimethoxyphenyl) ester In a dry reaction flask, 26 mg (0.2 mmol) of nickel chloride and 952 mg of potassium bromide (8.0 mmol), 572 mg (2.0 mmol) of trifluoromethanesulfonic acid (3,4-dimethylphenyl) ester and 1.33 g (8.0 mmol) of phosphorous acid triethyl ester are added. Heat to 185 ° C. under nitrogen protection and react with stirring for 36 hours. Stirring was stopped, the temperature was lowered to room temperature, and distillation was performed to obtain 389 mg of 3,4-dimethylphenylphosphoric acid diethyl ester, and the yield was 71%.
1 H NMR (CDCl 3 , 400 MHz): δ = 7.41 (dd, 1H, J = 13.41, 4.5 Hz), 7.27 (d, J = 14.0 Hz, 1H), 6.94 (Dd, J = 4.51, 8.19 Hz, 1H), 4.13 (m, J = 7.1, 7.42 Hz, 4H), 3.93 (s, 6H), 1.35 (t, J = 7.1Hz, 6H)

(実施例53)トリフルオロメタンスルホン酸(3,5−ジメチルフェニル)エステルからの3,5−ジメチルフェニルリン酸ジエチルエステル化合物の製造
乾燥反応フラスコに塩化ニッケル26mg(0.2mmol)、臭化カリウム952mg(8.0mmol)、トリフルオロメタンスルホン酸(3,5−ジメチルフェニル)エステル508mg(2.0mmol)および亜リン酸トリエチルエステル1.33g(8.0mmol)を加える。窒素保護下で185℃まで加熱し、20時間攪拌しながら反応させる。攪拌を停止して室温まで下げ、蒸留して3,5−ジメチルフェニルリン酸ジエチルエステル373mgが得られ、収率は77%である。
1H NMR(400 MHz,CDCl3):δ=7.42(s,1H),7.38(s,1H),7.15(s,1H),4.15−4.02(m,4H),2.33(s,6H),1.31(t,J=6.8Hz,6H)
Example 53 Production of 3,5-dimethylphenylphosphoric acid diethyl ester compound from trifluoromethanesulfonic acid (3,5-dimethylphenyl) ester 26 mg (0.2 mmol) of nickel chloride and 952 mg of potassium bromide in a dry reaction flask (8.0 mmol), 508 mg (2.0 mmol) of trifluoromethanesulfonic acid (3,5-dimethylphenyl) ester and 1.33 g (8.0 mmol) of phosphorous acid triethyl ester are added. Heat to 185 ° C. under nitrogen protection and react with stirring for 20 hours. Stirring was stopped, the temperature was lowered to room temperature, and distillation was performed to obtain 373 mg of 3,5-dimethylphenylphosphoric acid diethyl ester, and the yield was 77%.
1 H NMR (400 MHz, CDCl 3 ): δ = 7.42 (s, 1H), 7.38 (s, 1H), 7.15 (s, 1H), 4.15-4.02 (m, 4H), 2.33 (s, 6H), 1.31 (t, J = 6.8 Hz, 6H)

(実施例54)5−トリフルオロメタンスルホン酸ベンゾ[d][1,3]ジオキソールからのベンゾ[d][1,3]ジオキソール−5−リン酸ジエチルエステル化合物の製造
乾燥反応フラスコに塩化ニッケル26mg(0.2mmol)、臭化カリウム952mg(8.0mmol)、5−トリフルオロメタンスルホン酸ベンゾ[d][1,3]ジオキソール540mg(2.0mmol)および亜リン酸トリエチルエステル1.33g(8.0mmol)を加える。窒素保護下で185℃まで加熱し、36時間攪拌しながら反応させる。攪拌を停止して室温まで下げ、蒸留してベンゾ[d][1,3]ジオキソール−5−リン酸ジエチルエステル444mgが得られ、収率は86%である。
1H NMR(CDCl3,400 MHz):δ=7.38(dd,J=8.3,13.6Hz,1H),7.21(d,J=12.9Hz,1H),6.89(dd,J=3.4,7.9Hz,1H),6.02(s,2H),4.10(m,4H),1.32(t,J=7.1Hz,6H)
Example 54 Preparation of benzo [d] [1,3] dioxole-5-phosphate diethyl ester compound from benzo [d] [1,3] dioxole 5-trifluoromethanesulfonate 26 mg nickel chloride in a dry reaction flask (0.2 mmol), 952 mg (8.0 mmol) of potassium bromide, 540 mg (2.0 mmol) of benzo [d] [1,3] dioxole 5-trifluoromethanesulfonate and 1.33 g (8. 0 mmol) is added. Heat to 185 ° C. under nitrogen protection and react with stirring for 36 hours. The stirring was stopped, the temperature was lowered to room temperature, and distillation was performed to obtain 444 mg of benzo [d] [1,3] dioxole-5-phosphate diethyl ester, and the yield was 86%.
1 H NMR (CDCl 3 , 400 MHz): δ = 7.38 (dd, J = 8.3, 13.6 Hz, 1H), 7.21 (d, J = 12.9 Hz, 1H), 6.89 (Dd, J = 3.4, 7.9 Hz, 1H), 6.02 (s, 2H), 4.10 (m, 4H), 1.32 (t, J = 7.1 Hz, 6H)

(実施例55)トリフルオロメタンスルホン酸(2−ナフチル)エステルからの2−ナフチルリン酸ジエチルエステル化合物の製造
乾燥反応フラスコに塩化ニッケル26mg(0.2mmol)、臭化カリウム952mg(8.0mmol)、トリフルオロメタンスルホン酸(2−ナフチル)エステル552mg(2.0mmol)および亜リン酸トリエチルエステル1.33g(8.0mmol)を加える。窒素保護下で185℃まで加熱し、20時間攪拌しながら反応させる。攪拌を停止して室温まで下げ、蒸留して2−ナフチルリン酸ジエチルエステル386mgが得られ、収率は73%である。
1H NMR(400 MHz,CDCl3):δ=8.44(d,J=15.6Hz,1H),7.87−7.95(m,3H),7.74−7.78(m,1H),7.55−7.62(m,2H),4.19−4.25(m,4H),1.34(t,J=7.3Hz,6H)
Example 55 Production of 2-naphthyl phosphoric acid diethyl ester compound from trifluoromethanesulfonic acid (2-naphthyl) ester In a dry reaction flask, 26 mg (0.2 mmol) of nickel chloride, 952 mg (8.0 mmol) of potassium bromide, trifluoro Add 552 mg (2.0 mmol) of lomethanesulfonic acid (2-naphthyl) ester and 1.33 g (8.0 mmol) of triethyl phosphite. Heat to 185 ° C. under nitrogen protection and react with stirring for 20 hours. Stirring was stopped, the temperature was lowered to room temperature, and distillation was performed to obtain 386 mg of 2-naphthyl phosphoric acid diethyl ester, and the yield was 73%.
1 H NMR (400 MHz, CDCl 3 ): δ = 8.44 (d, J = 15.6 Hz, 1H), 7.87-7.95 (m, 3H), 7.74-7.78 (m , 1H), 7.55-7.62 (m, 2H), 4.19-4.25 (m, 4H), 1.34 (t, J = 7.3 Hz, 6H)

(実施例56)トリフルオロメタンスルホン酸(1−ナフチル)エステルからの1−ナフチルリン酸ジエチルエステル化合物の製造
乾燥反応フラスコに塩化ニッケル26mg(0.2mmol)、臭化カリウム952mg(8.0mmol)、トリフルオロメタンスルホン酸(1−ナフチル)エステル552mg(2.0mmol)および亜リン酸トリエチルエステル1.33g(8.0mmol)を加える。窒素保護下で185℃まで加熱し、36時間攪拌しながら反応させる。攪拌を停止して室温まで下げ、蒸留して1−ナフチルリン酸ジエチルエステル217mgが得られ、収率は41%である。
1H NMR(400 MHz,CDCl3):δ=8.52(d,J=8.7Hz,1H),8.22−8.28(m,1H),8.04(d,J=8.3Hz,1H),7.89(d,J=7.8Hz,1H),7.51−7.63(m,3H),4.17−4.26(m,2H),4.04−4.13(m,2H),1.31(t,J=7.3Hz,6H)
Example 56 Production of 1-naphthyl phosphoric acid diethyl ester compound from trifluoromethanesulfonic acid (1-naphthyl) ester In a dry reaction flask, 26 mg (0.2 mmol) of nickel chloride, 952 mg (8.0 mmol) of potassium bromide, trifluoro Add 552 mg (2.0 mmol) of lomethanesulfonic acid (1-naphthyl) ester and 1.33 g (8.0 mmol) of triethyl phosphite. Heat to 185 ° C. under nitrogen protection and react with stirring for 36 hours. Stirring was stopped, the temperature was lowered to room temperature, and distillation was performed to obtain 217 mg of 1-naphthyl phosphoric acid diethyl ester, and the yield was 41%.
1 H NMR (400 MHz, CDCl 3 ): δ = 8.52 (d, J = 8.7 Hz, 1H), 8.22-8.28 (m, 1H), 8.04 (d, J = 8 .3 Hz, 1H), 7.89 (d, J = 7.8 Hz, 1H), 7.51-7.63 (m, 3H), 4.17-4.26 (m, 2H), 4.04 -4.13 (m, 2H), 1.31 (t, J = 7.3 Hz, 6H)

(実施例57)トリフルオロメタンスルホン酸(3−ピリジル)エステルからの3−ピリジルリン酸ジエチルエステル化合物の製造
乾燥反応フラスコに塩化ニッケル26mg(0.2mmol)、臭化カリウム952mg(8.0mmol)、トリフルオロメタンスルホン酸(3−ピリジル)エステル454mg(2.0mmol)および亜リン酸トリエチルエステル1.33g(8.0mmol)を加える。窒素保護下で185℃まで加熱し、20時間攪拌しながら反応させる。攪拌を停止して室温まで下げ、蒸留して3−ピリジルリン酸ジエチルエステル425mgが得られ、収率は99%である。
1H NMR(400 MHz,CDCl3):δ=8.94(dd,1H),8.74(m,1H),8.06(ddt,1H),7.37(m,1H),4.13(m,4H),1.31(t,J=7.0Hz,6H)
Example 57 Production of 3-pyridylphosphoric acid diethyl ester compound from trifluoromethanesulfonic acid (3-pyridyl) ester In a dry reaction flask, 26 mg (0.2 mmol) of nickel chloride, 952 mg (8.0 mmol) of potassium bromide, trifluoro 454 mg (2.0 mmol) of lomethanesulfonic acid (3-pyridyl) ester and 1.33 g (8.0 mmol) of phosphorous acid triethyl ester are added. Heat to 185 ° C. under nitrogen protection and react with stirring for 20 hours. Stirring was stopped, the temperature was lowered to room temperature, and distillation was performed to obtain 425 mg of 3-pyridyl phosphoric acid diethyl ester, and the yield was 99%.
1 H NMR (400 MHz, CDCl 3 ): δ = 8.94 (dd, 1H), 8.74 (m, 1H), 8.06 (ddt, 1H), 7.37 (m, 1H), 4 .13 (m, 4H), 1.31 (t, J = 7.0 Hz, 6H)

(実施例58)トリフルオロメタンスルホン酸フェニルエステルからのフェニルリン酸ジメチルエステル化合物の製造
乾燥反応フラスコに塩化ニッケル26mg(0.2mmol)、臭化カリウム952mg(8.0mmol)、トリフルオロメタンスルホン酸フェニルエステル452mg(2.0mmol)および亜リン酸トリメチルエステル1.98g(16.0mmol)を加える。窒素保護下で100℃まで加熱し、50時間攪拌しながら反応させる。攪拌を停止して室温まで下げ、蒸留してフェニルリン酸ジメチルエステル233mgが得られ、収率は49%である。
1H NMR(400 MHz,CDCl3):δ=7.80(dd,2H),7.64(m,1H),7.54(m,2H),3.76(d,J=11.0Hz,6H)
(Example 58) Preparation of phenylphosphoric acid dimethyl ester compound from trifluoromethanesulfonic acid phenyl ester In a dry reaction flask, 26 mg (0.2 mmol) of nickel chloride, 952 mg (8.0 mmol) of potassium bromide, phenyl ester of trifluoromethanesulfonic acid 452 mg (2.0 mmol) and 1.98 g (16.0 mmol) phosphorous acid trimethyl ester are added. Heat to 100 ° C. under nitrogen protection and react with stirring for 50 hours. Stirring was stopped, the temperature was lowered to room temperature, and distillation was performed to obtain 233 mg of phenylphosphoric acid dimethyl ester, and the yield was 49%.
1 H NMR (400 MHz, CDCl 3 ): δ = 7.80 (dd, 2H), 7.64 (m, 1H), 7.54 (m, 2H), 3.76 (d, J = 11.1. 0Hz, 6H)

(実施例59)トリフルオロメタンスルホン酸フェニルエステルからのフェニルリン酸ジn−プロピルエステル化合物の製造
乾燥反応フラスコに塩化ニッケル26mg(0.2mmol)、臭化カリウム952mg(8.0mmol)、トリフルオロメタンスルホン酸フェニルエステル452mg(2.0mmol)および亜リン酸トリn−プロピルエステル3.31g(16.0mmol)を加える。窒素保護下で180℃まで加熱し、20時間攪拌しながら反応させる。攪拌を停止して室温まで下げ、蒸留してフェニルリン酸ジn−プロピルエステル378mgが得られ、収率は78%である。
1H NMR(400 MHz,CDCl3):δ=7.91(m,2H),7.62(m,3H),3.89(m,4H),1.61(m,4H),0.89(t,J=6.6Hz,6H)
(Example 59) Preparation of phenyl phosphoric acid di-n-propyl ester compound from trifluoromethanesulfonic acid phenyl ester In a dry reaction flask, 26 mg (0.2 mmol) of nickel chloride, 952 mg (8.0 mmol) of potassium bromide, trifluoromethanesulfone 452 mg (2.0 mmol) of acid phenyl ester and 3.31 g (16.0 mmol) of phosphorous acid tri-n-propyl ester are added. Heat to 180 ° C. under nitrogen protection and react with stirring for 20 hours. Stirring was stopped, the temperature was lowered to room temperature, and distillation was performed to obtain 378 mg of phenylphosphoric acid di-n-propyl ester, and the yield was 78%.
1 H NMR (400 MHz, CDCl 3 ): δ = 7.91 (m, 2H), 7.62 (m, 3H), 3.89 (m, 4H), 1.61 (m, 4H), 0 .89 (t, J = 6.6 Hz, 6H)

(実施例60)トリフルオロメタンスルホン酸フェニルエステルからのフェニルリン酸ジイソプロピルエステル化合物の製造
乾燥反応フラスコに塩化ニッケル26mg(0.2mmol)、臭化カリウム952mg(8.0mmol)、トリフルオロメタンスルホン酸フェニルエステル452mg(2.0mmol)および亜リン酸トリイソプロピルエステル3.31g(16.0mmol)を加える。窒素保護下で180℃まで加熱し、20時間攪拌しながら反応させる。攪拌を停止して室温まで下げ、蒸留してフェニルリン酸ジイソプロピルエステル320mgが得られ、収率は66%である。
1H NMR(400 MHz,CDCl3):δ=7.79(ddd,J=13.5,7.3,1.6Hz,2H),7.50(tq,J=7.6,1.6Hz,1H)7.42(m,2H),4.66(m,2H),1.35 and 1.20(2×d,J=6.20Hz,12H)
(Example 60) Preparation of phenylphosphoric acid diisopropyl ester compound from trifluoromethanesulfonic acid phenyl ester In a dry reaction flask, 26 mg (0.2 mmol) of nickel chloride, 952 mg (8.0 mmol) of potassium bromide, phenyl ester of trifluoromethanesulfonic acid 452 mg (2.0 mmol) and 3.31 g (16.0 mmol) of phosphorous acid triisopropyl ester are added. Heat to 180 ° C. under nitrogen protection and react with stirring for 20 hours. Stirring was stopped, the temperature was lowered to room temperature, and distillation was performed to obtain 320 mg of phenylphosphoric acid diisopropyl ester with a yield of 66%.
1 H NMR (400 MHz, CDCl 3 ): δ = 7.79 (ddd, J = 13.5, 7.3, 1.6 Hz, 2H), 7.50 (tq, J = 7.6, 1.. 6 Hz, 1H) 7.42 (m, 2H), 4.66 (m, 2H), 1.35 and 1.20 (2 × d, J = 6.20 Hz, 12H)

(実施例61)トリフルオロメタンスルホン酸フェニルエステルからのフェニルリン酸ジn−ブチルエステル化合物の製造
乾燥反応フラスコに塩化ニッケル26mg(0.2mmol)、臭化カリウム952mg(8.0mmol)、トリフルオロメタンスルホン酸フェニルエステル452mg(2.0mmol)および亜リン酸トリn−ブチルエステル2.0g(8.0mmol)を加える。窒素保護下で185℃まで加熱し、20時間攪拌しながら反応させる。攪拌を停止して室温まで下げ、蒸留してフェニルリン酸ジn−ブチルエステル540mgが得られ、収率は99%である。
1H NMR(400 MHz,CDCl3):δ=7.78(2H,dd),7.63(m,1H),7.50(m,2H),4.07(m,4H),1.71(m,4H),1.45(m,4H),0.94(d,J=8.0Hz,6H)
(Example 61) Preparation of phenyl phosphoric acid di-n-butyl ester compound from trifluoromethanesulfonic acid phenyl ester In a dry reaction flask, 26 mg (0.2 mmol) of nickel chloride, 952 mg (8.0 mmol) of potassium bromide, trifluoromethanesulfone 452 mg (2.0 mmol) of acid phenyl ester and 2.0 g (8.0 mmol) of phosphorous acid tri-n-butyl ester are added. Heat to 185 ° C. under nitrogen protection and react with stirring for 20 hours. Stirring was stopped, the temperature was lowered to room temperature, and distillation was performed to obtain 540 mg of phenylphosphoric acid di-n-butyl ester, and the yield was 99%.
1 H NMR (400 MHz, CDCl 3 ): δ = 7.78 (2H, dd), 7.63 (m, 1H), 7.50 (m, 2H), 4.07 (m, 4H), 1 .71 (m, 4H), 1.45 (m, 4H), 0.94 (d, J = 8.0 Hz, 6H)

(実施例62)1,4−ビストリフルオロメタンスルホン酸フェニルからの1,4−ジメトキシホスホリルフェニル化合物の製造
乾燥反応フラスコに塩化ニッケル26mg(0.2mmol)、臭化カリウム1.90mg(16.0mmol)、1,4−ビストリフルオロメタンスルホン酸フェニル0.748g(2.0mmol)および亜リン酸トリメチルエステル3.0g(24.0mmol)を加える。窒素保護下で130℃まで加熱し、36時間攪拌しながら反応させる。攪拌を停止して室温まで下げ、蒸留して1,4−ジメトキシホスホリルフェニル346mgが得られ、収率は59%である。
1H NMR(400 MHz,CDCl3):δ=7.65〜7.75(m,4H),3.78(d,J=11.0Hz,12H)
Example 62 Production of 1,4-dimethoxyphosphorylphenyl compound from phenyl 1,4-bistrifluoromethanesulfonate In a dry reaction flask, 26 mg (0.2 mmol) of nickel chloride and 1.90 mg (16.0 mmol) of potassium bromide ), 0.748 g (2.0 mmol) of phenyl 1,4-bistrifluoromethanesulfonate and 3.0 g (24.0 mmol) of trimethyl phosphite. Heat to 130 ° C. under nitrogen protection and react with stirring for 36 hours. Stirring was stopped, the temperature was lowered to room temperature, and distillation was performed to obtain 346 mg of 1,4-dimethoxyphosphorylphenyl, and the yield was 59%.
1 H NMR (400 MHz, CDCl 3 ): δ = 7.65 to 7.75 (m, 4H), 3.78 (d, J = 11.0 Hz, 12H)

(実施例63)1,3−ビストリフルオロメタンスルホン酸フェニルからの1,3−ジメトキシホスホリルフェニル化合物の製造
乾燥反応フラスコに塩化ニッケル26mg(0.2mmol)、臭化カリウム1.90mg(16.0mmol)、1,3−ビストリフルオロメタンスルホン酸フェニル0.748g(2.0mmol)および亜リン酸トリメチルエステル3.0g(24.0mmol)を加える。窒素保護下で160℃まで加熱し、36時間攪拌しながら反応させる。攪拌を停止して室温まで下げ、蒸留して1,3−ジメトキシホスホリルフェニル547mgが得られ、収率は93%である。
1H NMR(400 MHz,CDCl3):δ=7.90〜8.11(m,3H),7.75(m,1H),3.80(d,J=11.2Hz,12H)
(Example 63) Production of 1,3-dimethoxyphosphorylphenyl compound from phenyl 1,3-bistrifluoromethanesulfonate 26 mg (0.2 mmol) of nickel chloride and 1.90 mg (16.0 mmol) of potassium bromide were placed in a dry reaction flask. ), 0.748 g (2.0 mmol) of phenyl 1,3-bistrifluoromethanesulfonate and 3.0 g (24.0 mmol) of trimethyl phosphite. Heat to 160 ° C. under nitrogen protection and react with stirring for 36 hours. Stirring was stopped, the temperature was lowered to room temperature, and distillation was performed to obtain 547 mg of 1,3-dimethoxyphosphorylphenyl, and the yield was 93%.
1 H NMR (400 MHz, CDCl 3 ): δ = 7.90-8.11 (m, 3H), 7.75 (m, 1H), 3.80 (d, J = 11.2 Hz, 12H)

(実施例64)1,2−ビストリフルオロメタンスルホン酸フェニルからの1,2−ジメトキシホスホリルフェニル化合物の製造
乾燥反応フラスコに塩化ニッケル26mg(0.2mmol)、臭化カリウム1.90mg(16.0mmol)、1,2−ビストリフルオロメタンスルホン酸フェニル0.748g(2.0mmol)および亜リン酸トリメチルエステル3.0g(24.0mmol)を加える。窒素保護下で180℃まで加熱し、36時間攪拌しながら反応させる。攪拌を停止して室温まで下げ、蒸留して1,2−ジメトキシホスホリルフェニル118mgが得られ、収率は20%である。
1H NMR(400 MHz,CDCl3):δ=7.75〜7.90(m,3H),7.55〜7.65(m,2H),3.77(d,J=11.5Hz,12H)
(Example 64) Production of 1,2-dimethoxyphosphorylphenyl compound from phenyl 1,2-bistrifluoromethanesulfonate 26 mg (0.2 mmol) of nickel chloride and 1.90 mg (16.0 mmol) of potassium bromide were placed in a dry reaction flask. ), 0.748 g (2.0 mmol) of phenyl 1,2-bistrifluoromethanesulfonate and 3.0 g (24.0 mmol) of trimethyl phosphite. Heat to 180 ° C. under nitrogen protection and react with stirring for 36 hours. Stirring was stopped, the temperature was lowered to room temperature, and distillation was performed to obtain 118 mg of 1,2-dimethoxyphosphorylphenyl, and the yield was 20%.
1 H NMR (400 MHz, CDCl 3 ): δ = 7.75-7.90 (m, 3H), 7.55-7.65 (m, 2H), 3.77 (d, J = 11.5 Hz) , 12H)

(実施例65)1,3,5−トリストリフルオロメタンスルホン酸フェニルからの1,3,5−トリスジエトキシホスホリルフェニル化合物の製造
乾燥反応フラスコに塩化ニッケル26mg(0.2mmol)、臭化カリウム1.90mg(16.0mmol)、1,3,5−トリストリフルオロメタンスルホン酸フェニル1.04g(2.0mmol)および亜リン酸トリエチルエステル6.65g(40.0mmol)を加える。窒素保護下で180℃まで加熱し、40時間攪拌しながら反応させる。攪拌を停止して室温まで下げ、蒸留して1,3,5−トリスジエトキシホスホリルフェニル233mgが得られ、収率は24%である。
1H NMR(400 MHz,CDCl3):δ=8.42〜8.28(m,3H),4.24〜4.00(m,12H),1.31(t,J=7.0Hz,18H)
Example 65 Preparation of 1,3,5-trisdiethoxyphosphorylphenyl compound from phenyl 1,3,5-tristrifluoromethanesulfonate 26 mg (0.2 mmol) of nickel chloride and potassium bromide 1 in a dry reaction flask .90 mg (16.0 mmol), 1.04 g (2.0 mmol) of phenyl 1,3,5-tristrifluoromethanesulfonate and 6.65 g (40.0 mmol) of phosphorous acid triethyl ester are added. Heat to 180 ° C. under nitrogen protection and react with stirring for 40 hours. Stirring was stopped, the temperature was lowered to room temperature, and distillation was performed to obtain 233 mg of 1,3,5-trisdiethoxyphosphorylphenyl, and the yield was 24%.
1 H NMR (400 MHz, CDCl 3 ): δ = 8.42 to 8.28 (m, 3H), 4.24 to 4.00 (m, 12H), 1.31 (t, J = 7.0 Hz) , 18H)

(実施例66)1,3,5−トリストリフルオロメタンスルホン酸フェニルからの1,3,5−トリスジイソプロポキシホスホリルフェニル化合物の製造
乾燥反応フラスコに塩化ニッケル26mg(0.2mmol)、臭化カリウム1.90mg(16.0mmol)、1,3,5−トリストリフルオロメタンスルホン酸フェニル1.04g(2.0mmol)および亜リン酸トリイソプロピルエステル8.33g(40.0mmol)を加える。窒素保護下で150℃まで加熱し、40時間攪拌しながら反応させる。攪拌を停止して室温まで下げ、蒸留して1,3,5−トリスジエチルイソプロポキシホスホリルフェニル160mgが得られ、収率は14%である。
1H NMR(400 MHz,CDCl3):δ=8.44〜8.33(m,3H),4.82〜4.67(m,6H),1.39(d,J=6.2Hz,18H),1.25(d,J=6.2Hz,18H)
Example 66 Production of 1,3,5-trisdiisopropoxyphosphorylphenyl compound from phenyl 1,3,5-tristrifluoromethanesulfonate Nickel chloride 26 mg (0.2 mmol), potassium bromide in a dry reaction flask 1.90 mg (16.0 mmol), 1.03 g (2.0 mmol) of phenyl 1,3,5-tristrifluoromethanesulfonate and 8.33 g (40.0 mmol) of phosphorous acid triisopropyl ester are added. Heat to 150 ° C. under nitrogen protection and react with stirring for 40 hours. Stirring was stopped, the temperature was lowered to room temperature, and distillation was performed to obtain 160 mg of 1,3,5-trisdiethylisopropoxyphosphorylphenyl, and the yield was 14%.
1 H NMR (400 MHz, CDCl 3 ): δ = 8.44 to 8.33 (m, 3H), 4.82 to 4.67 (m, 6H), 1.39 (d, J = 6.2 Hz) , 18H), 1.25 (d, J = 6.2 Hz, 18H)

(実施例67)1,3,5−トリメタンスルホン酸フェニルからの1,3,5−トリスジエトキシホスホリルフェニル化合物の製造
乾燥反応フラスコに塩化ニッケル26mg(0.2mmol)、臭化カリウム1.90mg(16.0mmol)、1,3,5−トリメタンスルホン酸フェニル721mg(2.0mmol)および亜リン酸トリエチルエステル6.65g(40.0mmol)を加える。窒素保護下で180℃まで加熱し、80時間攪拌しながら反応させる。攪拌を停止して室温まで下げ、蒸留して1,3,5−トリスジエトキシホスホリルフェニル33mgが得られ、収率は3%である。
1H NMR(400 MHz,CDCl3):δ=8.42〜8.28(m,3H),4.24〜4.00(m,12H),1.31(t,J=7.0Hz,18H)
(Example 67) Production of 1,3,5-trisdiethoxyphosphorylphenyl compound from phenyl 1,3,5-trimethanesulfonate 26 mg (0.2 mmol) of nickel chloride, potassium bromide 1. 90 mg (16.0 mmol), 721 mg (2.0 mmol) of phenyl 1,3,5-trimethanesulfonate and 6.65 g (40.0 mmol) of phosphorous acid triethyl ester are added. Heat to 180 ° C. under nitrogen protection and react with stirring for 80 hours. Stirring was stopped, the temperature was lowered to room temperature, and distillation was performed to obtain 33 mg of 1,3,5-trisdiethoxyphosphorylphenyl, and the yield was 3%.
1 H NMR (400 MHz, CDCl 3 ): δ = 8.42 to 8.28 (m, 3H), 4.24 to 4.00 (m, 12H), 1.31 (t, J = 7.0 Hz) , 18H)

以上の実施例は、操作が容易で、収率が高い。実現されるスルホン酸アリールエステルのアルブゾフ反応は、アリールリン酸エステルを製造でき、さらに医薬中間体の合成、ホスフィン配位子等の有用化合物の合成に応用でき、良好な応用可能性を有する。   The above examples are easy to operate and have a high yield. The realized Arbuzov reaction of sulfonic acid aryl ester can produce aryl phosphate ester, and can be applied to synthesis of pharmaceutical intermediates and useful compounds such as phosphine ligands, and has good applicability.

Claims (10)

スルホン酸アリールエステルからアリールリン酸ジアルキルエステルを製造する方法であって、
ニッケル塩またはパラジウム塩の触媒下で、スルホン酸アリールエステルを一般式(VII)で表される亜リン酸トリアルキルエステルおよび添加剤と反応させることで、アリールリン酸ジアルキルエステルが得られ、ここで、
前記スルホン酸アリールエステルが一般式(I)で表される化合物である場合、一般式(IV)で表されるアリールリン酸ジアルキルエステルが得られ、
前記スルホン酸アリールエステルが一般式(II)で表される化合物である場合、一般式(V)で表されるアリールリン酸ジアルキルエステルが得られ、
前記スルホン酸アリールエステルが一般式(III)で表される化合物である場合、一般式(VI)で表されるアリールリン酸ジアルキルエステルが得られ、
ここで、反応温度は100〜240℃であり、
Figure 2012229211

前記添加剤は、塩化リチウム、塩化ナトリウム、塩化カリウム、塩化セシウム、臭化リチウム、臭化ナトリウム、臭化カリウム、臭化セシウム、塩化亜鉛、臭化亜鉛、塩化マグネシウム、臭化マグネシウム、ヨウ化ナトリウムおよびヨウ化カリウムから選ばれる1種のハロゲン化金属塩であり、
前記ニッケル塩は、塩化ニッケル、臭化ニッケル、ヨウ化ニッケル、酢酸ニッケル、トリフルオロメタンスルホン酸ニッケル、アセチルアセトンニッケル、ビス(トリフェニルホスフィン)塩化ニッケル、ビス(トリシクロヘキシルホスフィン)塩化ニッケル、1,2−ビス(ジフェニルホスフィノ)エタン塩化ニッケル、1,3−ビス(ジフェニルホスフィノ)プロパン塩化ニッケル、1,4−ビス(ジフェニルホスフィノ)ブタン塩化ニッケルおよび1,1'−ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン塩化ニッケルから選ばれる1種の物質であり、
前記パラジウム塩は、塩化パラジウム、臭化パラジウム、ヨウ化パラジウム、酢酸パラジウム、トリフルオロ酢酸パラジウムおよびアセチルアセトンパラジウムから選ばれる1種の物質であり、
一般式(I)において、Arはアリール基、置換アリール基または複素環アリール基であり、
一般式(II)において、2つのスルホン酸基の相対位置は、オルト位、メタ位またはパラ位であり、
一般式(I)、(II)および(III)において、R'はアルキル基、置換アルキル基、アリール基または置換アリール基であり、
一般式(IV)、(V)、(VI)および(VII)において、Rはアルキル基を示す、
ことを特徴とするスルホン酸アリールエステルからアリールリン酸ジアルキルエステルを製造する方法。
A process for producing an aryl phosphate dialkyl ester from a sulfonic acid aryl ester comprising:
Reaction of a sulfonic acid aryl ester with a trialkyl phosphite represented by the general formula (VII) and an additive under a catalyst of a nickel salt or a palladium salt, gives an aryl phosphoric acid dialkyl ester,
When the sulfonic acid aryl ester is a compound represented by the general formula (I), an aryl phosphoric acid dialkyl ester represented by the general formula (IV) is obtained,
When the sulfonic acid aryl ester is a compound represented by the general formula (II), an aryl phosphoric acid dialkyl ester represented by the general formula (V) is obtained,
When the sulfonic acid aryl ester is a compound represented by the general formula (III), an aryl phosphoric acid dialkyl ester represented by the general formula (VI) is obtained,
Here, the reaction temperature is 100 to 240 ° C.
Figure 2012229211

The additive is lithium chloride, sodium chloride, potassium chloride, cesium chloride, lithium bromide, sodium bromide, potassium bromide, cesium bromide, zinc chloride, zinc bromide, magnesium chloride, magnesium bromide, sodium iodide. And a metal halide salt selected from potassium iodide,
The nickel salt is nickel chloride, nickel bromide, nickel iodide, nickel acetate, nickel trifluoromethanesulfonate, nickel acetylacetone, bis (triphenylphosphine) nickel chloride, bis (tricyclohexylphosphine) nickel chloride, 1,2- Bis (diphenylphosphino) ethane nickel chloride, 1,3-bis (diphenylphosphino) propane nickel chloride, 1,4-bis (diphenylphosphino) butane nickel chloride and 1,1′-bis (diphenylphosphino) ferrocene A substance selected from nickel chloride,
The palladium salt is one substance selected from palladium chloride, palladium bromide, palladium iodide, palladium acetate, palladium trifluoroacetate and palladium acetylacetone,
In the general formula (I), Ar is an aryl group, a substituted aryl group or a heterocyclic aryl group,
In the general formula (II), the relative positions of the two sulfonic acid groups are ortho-position, meta-position or para-position,
In the general formulas (I), (II) and (III), R ′ is an alkyl group, a substituted alkyl group, an aryl group or a substituted aryl group,
In the general formulas (IV), (V), (VI) and (VII), R represents an alkyl group,
A method for producing an aryl phosphoric acid dialkyl ester from a sulfonic acid aryl ester.
一般式(I)において、Arは、置換基がアルキル基、アルコキシ基、アシルオキシ基、アミド基、ヒドロキシ基、アシル基またはフェニル基である置換アリール基であることを特徴とする請求項1に記載のスルホン酸アリールエステルからアリールリン酸ジアルキルエステルを製造する方法。   2. The general formula (I), wherein Ar is a substituted aryl group whose substituent is an alkyl group, an alkoxy group, an acyloxy group, an amide group, a hydroxy group, an acyl group, or a phenyl group. A process for producing an aryl phosphate dialkyl ester from a sulfonic acid aryl ester of 一般式(I)において、Arは、フェニル基、4−tert−ブチルフェニル基、4-メトキシフェニル基、4−フェニルフェニル基、4−ホルミルオキシフェニル基、4−アセチルフェニル基、4−アセトキシフェニル基、4−アセトアミドフェニル基、4−ヒドロキシフェニル基、4−メチルフェニル基、3−メチルフェニル基、3−メトキシフェニル基、2−メチルフェニル基、2−メトキシフェニル基、2−ホルミルオキシフェニル基、2−フェニルフェニル基、3,4−ジメチルフェニル基、3,4−ジメトキシフェニル基、3,5−ジメチルフェニル基、ベンゾ[d][1,3]ジオキソール−5−イル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基または3−ピリジル基であることを特徴とする請求項1に記載のスルホン酸アリールエステルからアリールリン酸ジアルキルエステルを製造する方法。   In the general formula (I), Ar is a phenyl group, 4-tert-butylphenyl group, 4-methoxyphenyl group, 4-phenylphenyl group, 4-formyloxyphenyl group, 4-acetylphenyl group, 4-acetoxyphenyl. Group, 4-acetamidophenyl group, 4-hydroxyphenyl group, 4-methylphenyl group, 3-methylphenyl group, 3-methoxyphenyl group, 2-methylphenyl group, 2-methoxyphenyl group, 2-formyloxyphenyl group 2-phenylphenyl group, 3,4-dimethylphenyl group, 3,4-dimethoxyphenyl group, 3,5-dimethylphenyl group, benzo [d] [1,3] dioxol-5-yl group, 1-naphthyl The sulfonic acid aryl ester according to claim 1, which is a group, 2-naphthyl group or 3-pyridyl group. A method for producing an aryl phosphate dialkyl ester from tellurium. 一般式(I)、(II)および(III)において、R’はトリフルオロメチル基、メチル基、フェニル基、p−トリル基、p−ニトロフェニル基またはp−クロロフェニル基であることを特徴とする請求項1ないし3の何れか一項に記載のスルホン酸アリールエステルからアリールリン酸ジアルキルエステルを製造する方法。   In the general formulas (I), (II) and (III), R ′ is a trifluoromethyl group, a methyl group, a phenyl group, a p-tolyl group, a p-nitrophenyl group or a p-chlorophenyl group, A method for producing an aryl phosphoric acid dialkyl ester from the sulfonic acid aryl ester according to any one of claims 1 to 3. 一般式(IV)、(V)、(VI)および(VII)において、Rは、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基またはn−ブチル基を示すことを特徴とする請求項1ないし4の何れか一項に記載のスルホン酸アリールエステルからアリールリン酸ジアルキルエステルを製造する方法。   2. In the general formulas (IV), (V), (VI) and (VII), R represents a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group or an n-butyl group. A method for producing an aryl phosphoric acid dialkyl ester from the sulfonic acid aryl ester according to any one of 1 to 4. 反応温度が130〜200℃であることを特徴とする請求項1ないし5の何れか一項に記載のスルホン酸アリールエステルからアリールリン酸ジアルキルエステルを製造する方法。   The method for producing an arylphosphoric dialkyl ester from the sulfonic acid aryl ester according to any one of claims 1 to 5, wherein the reaction temperature is 130 to 200 ° C. 反応温度が160〜185℃であることを特徴とする請求項1ないし6の何れか一項に記載のスルホン酸アリールエステルからアリールリン酸ジアルキルエステルを製造する方法。   The method for producing an arylphosphoric dialkyl ester from a sulfonic acid aryl ester according to any one of claims 1 to 6, wherein the reaction temperature is 160 to 185 ° C. モル比で計算する場合、スルホン酸アリールエステル/亜リン酸トリアルキルエステル/ハロゲン化金属塩/ニッケル塩またはパラジウム塩=1.0/1.0〜100/1.0〜20.0/0.01〜1.0であることを特徴とする請求項1ないし7の何れか一項に記載のスルホン酸アリールエステルからアリールリン酸ジアルキルエステルを製造する方法。   When calculating by molar ratio, sulfonic acid aryl ester / phosphorous acid trialkyl ester / metal halide salt / nickel salt or palladium salt = 1.0 / 1.0 to 100 / 1.0 to 20.0 / 0. The method for producing an aryl phosphoric acid dialkyl ester from the sulfonic acid aryl ester according to any one of claims 1 to 7, which is 01 to 1.0. モル比で計算する場合、スルホン酸アリールエステル/亜リン酸トリアルキルエステル/ハロゲン化金属塩/ニッケル塩またはパラジウム塩=1.0/4.0〜20.0/3.0〜10.0/0.05〜0.5であることを特徴とする請求項1ないし8の何れか一項に記載のスルホン酸アリールエステルからアリールリン酸ジアルキルエステルを製造する方法。   When calculating by molar ratio, sulfonic acid aryl ester / phosphorous acid trialkyl ester / metal halide salt / nickel salt or palladium salt = 1.0 / 4.0 to 20.0 / 3.0 to 10.0 / The method for producing an aryl phosphoric acid dialkyl ester from the sulfonic acid aryl ester according to any one of claims 1 to 8, which is 0.05 to 0.5. 反応時間が1〜100時間であることを特徴とする請求項1ないし9の何れか一項に記載のスルホン酸アリールエステルからアリールリン酸ジアルキルエステルを製造する方法。   The method for producing an aryl phosphoric acid dialkyl ester from the sulfonic acid aryl ester according to any one of claims 1 to 9, wherein the reaction time is 1 to 100 hours.
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