JP2012227373A - Imprint apparatus, mold, and jig for imprint - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an imprint apparatus which obtains a desired pattern shape with good reproductivity.SOLUTION: An imprint apparatus includes: a first stage 1 enabling a mold 10 having a protruding part 12 to be placed thereon; a second stage 2 facing the first stage and enabling a resin layer 20, in which the protruding part 12 is press-fitted, to be mounted thereon; and guides 3, each of which is disposed in at least one of the first and second stages 1, 2, is positioned at an outer periphery of a pattern transfer region of the resin layer 20 when the protruding part 12 of the mold 10 is press-fitted into the resin layer 20, and has a gap part 4 pushing out an extra part of the resin layer 20 to the exterior with a pressure applied to the resin layer 20 by the mold 10.

Description

本発明は、インプリント装置、モールド及びインプリント用治具に関する。   The present invention relates to an imprint apparatus, a mold, and an imprint jig.

電子機器の小型化、薄型化及び高機能化に伴って、電子機器に組み込まれる電子部品も小型化が進み、電子部品を実装する配線板(プリント配線板)のパターンも微細化されてきている。   As electronic devices become smaller, thinner, and more functional, electronic components incorporated in electronic devices are also becoming smaller, and the patterns of printed circuit boards (printed wiring boards) on which electronic components are mounted have also been miniaturized. .

転写によるパターン形成方法として、ナノインプリント(NIL)等のインプリント法、射出成形又はホットエンボス等がある。射出成形やホットエンボスでは樹脂が厚いためモールドに加えられた力は樹脂にのみ伝わる。一方、NILではステージ上に通常数十nm〜数μmの厚さの樹脂を載置し、樹脂にモールドを押し付けるため、ほとんどモールドとステージが接触した状態(換言すると、樹脂をモールドがほとんど貫いた状態、又は樹脂が薄く残った状態)になる。このように薄い樹脂に転写する点でNILは他の形成方法に比べて技術難易度が高いと言える。   As a pattern formation method by transfer, there are imprint methods such as nanoimprint (NIL), injection molding, hot embossing, and the like. In injection molding and hot embossing, since the resin is thick, the force applied to the mold is transmitted only to the resin. On the other hand, in NIL, a resin with a thickness of several tens of nanometers to several μm is usually placed on a stage, and the mold is pressed against the resin, so that the mold and the stage are almost in contact (in other words, the mold almost penetrates the resin). State, or a state in which the resin remains thin). It can be said that NIL is more technically difficult than other forming methods in that it is transferred to a thin resin.

インプリント法で大面積を均一に転写するには、モールド及びステージの平行及び平滑性、並びに樹脂にかかる圧力が均一であることが必要である。一方、これらが適切に管理されていても、樹脂周縁部の形状は、樹脂の粘度や表面張力によるところが大きいため、毎回均一な形状に成形することが難しく、転写パターン形状にも影響を及ぼす虞がある。   In order to uniformly transfer a large area by the imprint method, it is necessary that the parallelism and smoothness of the mold and the stage and the pressure applied to the resin are uniform. On the other hand, even if these are properly managed, the shape of the resin peripheral part is largely due to the viscosity and surface tension of the resin, so it is difficult to form a uniform shape every time, and the transfer pattern shape may be affected. There is.

所望の樹脂パターン形状を得るため、モールドのベース基材の材料として、樹脂の線膨張係数と近いものを用いることにより、転写パターンの位置ずれを防止する手法が知られている(例えば、特許文献1参照。)。しかし、この手法を用いても、特に樹脂周縁部において所望のパターン形状を再現性良く得ることは困難である。   In order to obtain a desired resin pattern shape, a technique for preventing the displacement of the transfer pattern by using a material that is close to the linear expansion coefficient of the resin as the material of the base material of the mold is known (for example, Patent Documents). 1). However, even if this method is used, it is difficult to obtain a desired pattern shape with good reproducibility, particularly in the resin peripheral portion.

特開2005−26412号公報JP 2005-26412 A

上述したように、従来のインプリント法では、大面積を均一に転写するときに所望のパターン形状を再現性良く得ることが困難であった。   As described above, in the conventional imprint method, it is difficult to obtain a desired pattern shape with good reproducibility when transferring a large area uniformly.

上記問題点を鑑み、本発明の目的は、所望のパターン形状を再現性良く得ることができるインプリント装置、モールド及びインプリント用治具を提供することである。   In view of the above problems, an object of the present invention is to provide an imprint apparatus, a mold, and an imprint jig that can obtain a desired pattern shape with good reproducibility.

本発明の一態様によれば、凸部を有するモールドを載置可能な第1ステージと、第1ステージと対向し、凸部が圧入される樹脂層を載置可能な第2ステージと、第1及び第2ステージの少なくともいずれか一方に配置され、モールドの凸部を樹脂層に圧入したときに樹脂層のパターン転写領域の外周に位置し、モールドから樹脂層にかかる圧力により樹脂層の余分な一部を外部へ押し出す空隙部を有するガイドとを備えるインプリント装置が提供される。   According to one aspect of the present invention, a first stage capable of placing a mold having a convex portion, a second stage facing the first stage and capable of placing a resin layer into which the convex portion is press-fitted, It is disposed on at least one of the first stage and the second stage, and is located on the outer periphery of the pattern transfer region of the resin layer when the convex portion of the mold is press-fitted into the resin layer. There is provided an imprint apparatus including a guide having a gap portion for extruding a part of the image to the outside.

本発明の一態様において、ガイドが、板状の部材、棒状の部材及び球状の部材の少なくともいずれかを有していても良い。   In one embodiment of the present invention, the guide may include at least one of a plate-shaped member, a rod-shaped member, and a spherical member.

本発明の一態様において、ガイドが、均一の高さを有していても良い。   In one embodiment of the present invention, the guide may have a uniform height.

本発明の一態様において、第2ステージ上に配置され、樹脂層を形成可能な基板を更に備えていても良い。   One embodiment of the present invention may further include a substrate that is disposed on the second stage and can form a resin layer.

本発明の一態様において、第2ステージ上に配置され、樹脂層を載置可能であり、モールドの凸部を樹脂層に圧入したときに樹脂層を貫通した凸部が達する犠牲層を更に備えていても良い。   In one aspect of the present invention, a sacrificial layer that is disposed on the second stage, can be mounted with a resin layer, and reaches a convex portion that penetrates the resin layer when the convex portion of the mold is press-fitted into the resin layer. May be.

本発明の一態様において、ガイドが第2ステージに配置されており、凸部を樹脂層に圧入したときにガイドの第1ステージ側の端部が第1ステージの表面又はモールドの表面と接触しても良い。   In one embodiment of the present invention, the guide is disposed on the second stage, and when the convex portion is press-fitted into the resin layer, the end portion on the first stage side of the guide contacts the surface of the first stage or the surface of the mold. May be.

本発明の一態様において、ガイドが第1ステージに配置されており、凸部を樹脂層に圧入したときにガイドの第2ステージ側の端部が第2ステージ表面と接触しても良い。   In one aspect of the present invention, the guide may be disposed on the first stage, and the end portion of the guide on the second stage side may contact the second stage surface when the convex portion is press-fitted into the resin layer.

本発明の他の態様によれば、第1ステージ上に載置可能な支持部と、支持部上に配置され、第1ステージと対向する第2ステージ上に載置された樹脂層に圧入する凸部と、支持部上の凸部の外周に配置され、モールドの凸部を樹脂層に圧入したときに樹脂層のパターン転写領域の外周に位置し、凸部から樹脂層にかかる圧力により樹脂層の余分な一部を外部へ押し出す空隙部を有するガイドとを備えるモールドが提供される。   According to another aspect of the present invention, a support part that can be placed on the first stage and a resin layer that is placed on the support part and placed on the second stage facing the first stage are press-fitted. It is arranged on the outer periphery of the convex part and the convex part on the support part, and is located on the outer periphery of the pattern transfer region of the resin layer when the convex part of the mold is press-fitted into the resin layer. A mold is provided that includes a guide having a void that pushes an extra portion of the layer out.

本発明の更に他の態様によれば、第1ステージに載置可能であり、凸部を有するモールドを固定する固定部と、固定部のモールドが固定される領域の外周に配置され、第1ステージと対向する第2ステージ上に載置された樹脂層にモールドを圧入したときに樹脂層のパターン転写領域の外周に位置し、モールドから樹脂層にかかる圧力により樹脂層の余分な一部を外部へ押し出す空隙部を有するガイドとを備えるインプリント用治具が提供される。   According to still another aspect of the present invention, the first portion can be placed on the first stage, and is disposed on the outer periphery of the fixing portion for fixing the mold having the convex portion, and the region where the mold of the fixing portion is fixed. When the mold is press-fitted into the resin layer placed on the second stage facing the stage, it is positioned on the outer periphery of the pattern transfer region of the resin layer, and an extra part of the resin layer is removed by the pressure applied from the mold to the resin layer. There is provided an imprinting jig including a guide having a gap portion to be pushed out.

本発明によれば、所望のパターン形状を再現性良く得ることができるインプリント装置、モールド及びインプリント用治具を提供することができる。   According to the present invention, it is possible to provide an imprint apparatus, a mold, and an imprint jig that can obtain a desired pattern shape with good reproducibility.

本発明の第1の実施の形態に係るインプリント装置の一例を示す概略図である。It is the schematic which shows an example of the imprint apparatus which concerns on the 1st Embodiment of this invention. 図2(a)は、本発明の第1の実施の形態に係るガイドの一例を示す上面図である。図2(b)は、図2(a)のA−A線に沿った断面図である。FIG. 2A is a top view showing an example of a guide according to the first embodiment of the present invention. FIG.2 (b) is sectional drawing along the AA line of Fig.2 (a). 本発明の第1の実施の形態に係るインプリント方法の一例を説明するための断面図である。It is sectional drawing for demonstrating an example of the imprint method which concerns on the 1st Embodiment of this invention. 本発明の第1の実施の形態に係るインプリント方法の一例を説明するための図3に引き続く断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view subsequent to FIG. 3 for explaining an example of the imprint method according to the first embodiment of the present invention. 本発明の第1の実施の形態に係るインプリント方法の一例を説明するための図4に引き続く断面図である。FIG. 5 is a cross-sectional view subsequent to FIG. 4 for describing an example of the imprint method according to the first embodiment of the present invention. 本発明の第1の実施の形態の第1の変形例に係るインプリント方法の一例を説明するための断面図である。It is sectional drawing for demonstrating an example of the imprint method which concerns on the 1st modification of the 1st Embodiment of this invention. 本発明の第1の実施の形態の第1の変形例に係るインプリント方法の一例を説明するための図6に引き続く断面図である。FIG. 7 is a cross-sectional view subsequent to FIG. 6 for describing an example of an imprint method according to a first modification of the first embodiment of the present invention. 図8(a)は、本発明の第1の実施の形態の第2の変形例に係るガイドの一例を示す正面図である。図8(b)は、図8(a)に示したガイドを示す上面図である。図8(c)は、図8(b)のA−A線に沿った断面図である。Fig.8 (a) is a front view which shows an example of the guide which concerns on the 2nd modification of the 1st Embodiment of this invention. FIG. 8B is a top view showing the guide shown in FIG. FIG.8 (c) is sectional drawing along the AA line of FIG.8 (b). 図9(a)は、本発明の第1の実施の形態の第2の変形例に係るガイドの他の一例を示す正面図である。図9(b)は、図9(a)に示したガイドを示す上面図である。図9(c)は、図9(b)のA−A線に沿った断面図である。Fig.9 (a) is a front view which shows another example of the guide which concerns on the 2nd modification of the 1st Embodiment of this invention. FIG. 9B is a top view showing the guide shown in FIG. FIG.9 (c) is sectional drawing along the AA line of FIG.9 (b). 本発明の第1の実施の形態の第2の変形例に係るガイドの更に他の一例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows another example of the guide which concerns on the 2nd modification of the 1st Embodiment of this invention. 本発明の第1の実施の形態の第3の変形例に係るインプリント装置の一例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows an example of the imprint apparatus which concerns on the 3rd modification of the 1st Embodiment of this invention. 本発明の第2の実施の形態に係るインプリント装置の一例を示す概略図である。It is the schematic which shows an example of the imprint apparatus which concerns on the 2nd Embodiment of this invention. 図13(a)は、本発明の第2の実施の形態に係るモールドの一例を示す下面図である。図13(b)は、図13(a)のA−A線に沿った断面図である。FIG. 13A is a bottom view showing an example of a mold according to the second embodiment of the present invention. FIG.13 (b) is sectional drawing along the AA line of Fig.13 (a). 本発明の第2の実施の形態に係るインプリント方法の一例を説明するための断面図である。It is sectional drawing for demonstrating an example of the imprint method which concerns on the 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第2の実施の形態に係るインプリント方法の一例を説明するための図14に引き続く断面図である。FIG. 15 is a cross-sectional view subsequent to FIG. 14 for explaining an example of the imprint method according to the second embodiment of the present invention. 本発明の第2の実施の形態に係るインプリント方法の他の一例を説明するための工程断面図である。It is process sectional drawing for demonstrating another example of the imprint method which concerns on the 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第2の実施の形態に係るインプリント方法の他の一例を説明するための図16に引き続く工程断面図である。FIG. 17 is a process cross-sectional view subsequent to FIG. 16 for describing another example of the imprint method according to the second embodiment of the present invention. 本発明の第3の実施の形態に係るインプリント装置の一例を示す概略図である。It is the schematic which shows an example of the imprint apparatus which concerns on the 3rd Embodiment of this invention. 図19(a)は、本発明の第3の実施の形態に係るインプリント用治具の一例を示す下面図である。図19(b)は、図19(a)のA−A線に沿った断面図である。FIG. 19A is a bottom view showing an example of an imprinting jig according to the third embodiment of the present invention. FIG. 19B is a cross-sectional view taken along the line AA in FIG. 本発明の第3の実施の形態に係るインプリント方法の一例を説明するための工程断面図である。It is process sectional drawing for demonstrating an example of the imprint method which concerns on the 3rd Embodiment of this invention. 本発明の第3の実施の形態に係るインプリント方法の一例を説明するための図20に引き続く工程断面図である。FIG. 21 is a process cross-sectional view subsequent to FIG. 20 for describing an example of the imprint method according to the third embodiment of the present invention. 本発明のその他の実施の形態に係るガイドの一例を示す上面図である。It is a top view which shows an example of the guide which concerns on other embodiment of this invention. 比較例に係るインプリント方法の一例を説明するための断面図である。It is sectional drawing for demonstrating an example of the imprint method which concerns on a comparative example. 比較例に係るインプリント方法の他の一例を説明するための断面図である。It is sectional drawing for demonstrating another example of the imprint method which concerns on a comparative example.

次に、図面を参照して、本発明の第1〜第3の実施の形態を説明する。以下の図面の記載において、同一又は類似の部分には同一又は類似の符号を付している。ただし、図面は模式的なものであり、厚みと平面寸法との関係、各層の厚みの比率等は現実のものとは異なることに留意すべきである。したがって、具体的な厚みや寸法は以下の説明を参酌して判断すべきものである。又、図面相互間においても互いの寸法の関係や比率が異なる部分が含まれていることはもちろんである。   Next, first to third embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In the following description of the drawings, the same or similar parts are denoted by the same or similar reference numerals. However, it should be noted that the drawings are schematic, and the relationship between the thickness and the planar dimensions, the ratio of the thickness of each layer, and the like are different from the actual ones. Therefore, specific thicknesses and dimensions should be determined in consideration of the following description. Moreover, it is a matter of course that portions having different dimensional relationships and ratios are included between the drawings.

又、以下に示す第1〜第3の実施の形態は、この発明の技術的思想を具体化するための装置や方法を例示するものであって、この発明の技術的思想は、構成部品の材質、形状、構造、配置等を下記のものに特定するものでない。この発明の技術的思想は、特許請求の範囲において、種々の変更を加えることができる。   The first to third embodiments described below exemplify apparatuses and methods for embodying the technical idea of the present invention, and the technical idea of the present invention is the component parts. The material, shape, structure, arrangement, etc. are not specified below. The technical idea of the present invention can be variously modified within the scope of the claims.

(第1の実施の形態)
本発明の第1の実施の形態に係るインプリント装置は、図1に示すように、凸部12を有するモールド(インプリントモールド)10を載置可能な第1ステージ1と、第1ステージ1と対向し、凸部12が圧入される樹脂層20を載置可能な第2ステージ2と、第2ステージ2に配置され、モールド10の凸部12を樹脂層20に圧入したときに樹脂層20のパターン転写領域の外周に位置し、モールド10から樹脂層20にかかる圧力により樹脂層20の余分な一部を外部へ押し出す空隙部4を有するガイド3とを備える。
(First embodiment)
As shown in FIG. 1, the imprint apparatus according to the first embodiment of the present invention includes a first stage 1 on which a mold (imprint mold) 10 having a convex portion 12 can be placed, and a first stage 1. And the second stage 2 on which the resin layer 20 into which the convex portion 12 is press-fitted can be placed, and the resin layer when the convex portion 12 of the mold 10 is press-fitted into the resin layer 20. And a guide 3 having a gap portion 4 which is located on the outer periphery of the pattern transfer region 20 and pushes an extra part of the resin layer 20 to the outside by pressure applied to the resin layer 20 from the mold 10.

ここで、「パターン転写領域」とは、樹脂層20の表面のうちモールド10の凸部12が圧入されてパターンが転写される領域を意味する。本発明の第1の実施の形態においては「パターン転写領域」が樹脂層20の全面と一致する場合を説明するが、必ずしも樹脂層20の全面と一致していなくても良い。例えば、樹脂層20の表面の中央部が「パターン転写領域」であり、その外周部にパターンが転写されない領域が存在しても良い。   Here, the “pattern transfer region” means a region of the surface of the resin layer 20 where the convex portion 12 of the mold 10 is press-fitted and the pattern is transferred. In the first embodiment of the present invention, a case where the “pattern transfer region” coincides with the entire surface of the resin layer 20 will be described, but it does not necessarily have to coincide with the entire surface of the resin layer 20. For example, the central portion of the surface of the resin layer 20 may be a “pattern transfer region”, and a region where the pattern is not transferred may exist on the outer peripheral portion thereof.

第1ステージ1は、ステージ保持部5により上部を保持されている。ステージ保持部5は、駆動軸6により上部を保持されており駆動部7により昇降される。駆動部7の上部には駆動軸8が接続されている。一方、第2ステージ2は、基台9により下部を保持されている。第2ステージ2上には基板21が配置され、基板21上に樹脂層20が載置されている。なお、基板21がなく第2ステージ2上に樹脂層20が直接載置されていても良い。   The upper part of the first stage 1 is held by a stage holding unit 5. The stage holding unit 5 is held at the upper part by the drive shaft 6 and is moved up and down by the drive unit 7. A drive shaft 8 is connected to the upper portion of the drive unit 7. On the other hand, the lower part of the second stage 2 is held by the base 9. A substrate 21 is disposed on the second stage 2, and the resin layer 20 is placed on the substrate 21. Note that the resin layer 20 may be directly placed on the second stage 2 without the substrate 21.

第1ステージ1及び第2ステージ2にはヒータがそれぞれ内蔵されていても良く、第1ステージ1の上部及び第2ステージ2の下部にヒータがそれぞれ配置されていても良い。又、第1ステージ1に樹脂層20を配置し、第2ステージ2にモールド10を配置する構成であっても良い。又、第2ステージ2が昇降する構成や、第1ステージ1及び第2ステージ2の双方が昇降する構成であっても良い。   The first stage 1 and the second stage 2 may each have a built-in heater, and the heater may be disposed above the first stage 1 and below the second stage 2, respectively. Alternatively, the resin layer 20 may be disposed on the first stage 1 and the mold 10 may be disposed on the second stage 2. Moreover, the structure which the 2nd stage 2 raises / lowers, and the structure which both the 1st stage 1 and the 2nd stage 2 raise / lower may be sufficient.

モールド10は、支持部11と、支持部11上に配置され、樹脂層20に圧入する凸部12とを備える。モールド10の材料としては、例えばシリコン(Si)、ニッケル(Ni)、銅(Cu)等が使用可能で、表層に離型剤を塗布したりダイヤモンドライクカーボン(DLC)膜を形成したりして離型性を向上させても良い。   The mold 10 includes a support portion 11 and a convex portion 12 that is disposed on the support portion 11 and press-fitted into the resin layer 20. As a material of the mold 10, for example, silicon (Si), nickel (Ni), copper (Cu) or the like can be used, and a mold release agent is applied to the surface layer or a diamond-like carbon (DLC) film is formed. Release properties may be improved.

一例としてモールド10の支持部11の高さHmは600μm程度、凸部12の高さHpは10μm程度、幅は3〜50μm程度に設定できる。凸部12の高さHp、幅、形状、位置及び数は特に限定されるものではない。又、凸部12が互いに同じ高さHpを有する場合を説明するが、互いに異なる高さを有していても良い。   As an example, the height Hm of the support portion 11 of the mold 10 can be set to about 600 μm, the height Hp of the convex portion 12 can be set to about 10 μm, and the width can be set to about 3 to 50 μm. The height Hp, width, shape, position, and number of the protrusions 12 are not particularly limited. Moreover, although the case where the convex part 12 has the mutually same height Hp is demonstrated, you may have a mutually different height.

樹脂層20としては、例えば熱可塑性ポリイミドや液晶ポリマー等の熱可塑性樹脂等が使用可能である。なお、樹脂層20の種類は特に限定されず、それに応じて樹脂層20の硬化方法も熱硬化、室温硬化又は紫外線(UV)硬化等であって良い。   As the resin layer 20, for example, a thermoplastic resin such as a thermoplastic polyimide or a liquid crystal polymer can be used. In addition, the kind of resin layer 20 is not specifically limited, According to it, the hardening method of the resin layer 20 may also be thermosetting, room temperature hardening, or ultraviolet-ray (UV) hardening.

樹脂層20の厚さTr1はモールド10の凸部12の高さHpと同じであっても良く、凸部12の高さHpより厚くても良い。又、樹脂層20のパターン転写前の厚さTr1はパターン転写後の所望の膜厚と同じであっても良く、パターン転写後の所望の膜厚より厚くても良い。   The thickness Tr1 of the resin layer 20 may be the same as the height Hp of the convex portion 12 of the mold 10, or may be thicker than the height Hp of the convex portion 12. In addition, the thickness Tr1 of the resin layer 20 before pattern transfer may be the same as the desired film thickness after pattern transfer, or may be thicker than the desired film thickness after pattern transfer.

ガイド3の第2ステージ2上の高さHgは、樹脂層20が所望の膜厚となるように任意に設定できる。例えば、樹脂層20のパターン転写前の厚さTr1がパターン転写後の所望の膜厚と同じ場合、ガイド3の第2ステージ2上の高さHgを、樹脂層20の厚さTr1と基板21の厚さTsとモールド10の支持部11の高さHmの和と一致させて良い。この場合、樹脂層20の厚さTr1が25μm、基板21の厚さTsが100μm、モールド10の支持部11の高さHmが600μmであれば、ガイド3の高さHgは725μmである。   The height Hg of the guide 3 on the second stage 2 can be arbitrarily set so that the resin layer 20 has a desired film thickness. For example, when the thickness Tr1 of the resin layer 20 before pattern transfer is the same as the desired film thickness after pattern transfer, the height Hg of the guide 3 on the second stage 2 is set to the thickness Tr1 of the resin layer 20 and the substrate 21. And the sum of the thickness Ts and the height Hm of the support portion 11 of the mold 10 may be made to coincide with each other. In this case, if the thickness Tr1 of the resin layer 20 is 25 μm, the thickness Ts of the substrate 21 is 100 μm, and the height Hm of the support portion 11 of the mold 10 is 600 μm, the height Hg of the guide 3 is 725 μm.

又、樹脂層20のパターン転写前の厚さTr1とパターン転写後の所望の厚さが異なる場合、ガイド3の第2ステージ2上の高さHgを、樹脂層20のパターン転写後の所望の厚さと基板21の厚さTsとモールド10の支持部11の高さHmの和と一致させて良い。   When the thickness Tr1 of the resin layer 20 before pattern transfer is different from the desired thickness after pattern transfer, the height Hg of the guide 3 on the second stage 2 is set to the desired height after pattern transfer of the resin layer 20. The thickness, the thickness Ts of the substrate 21, and the sum of the height Hm of the support portion 11 of the mold 10 may be made to coincide with each other.

又、基板21がない場合、ガイド3の第2ステージ2上の高さHgを、樹脂層20の厚さTr1(又はパターン転写後の所望の厚さ)とモールド10の支持部11の高さHmの和と一致させて良い。   When the substrate 21 is not provided, the height Hg of the guide 3 on the second stage 2 is set to the thickness Tr1 of the resin layer 20 (or a desired thickness after pattern transfer) and the height of the support portion 11 of the mold 10. You may make it correspond with the sum of Hm.

ガイド3の材料としては、銀(Ag)、金(Au)、パラジウム(Pd)、白金(Pt)、銅(Cu)、ニッケル(Ni)又はアルミニウム(Al)等又はその合金等が使用可能である。銅(Cu)、ニッケル(Ni)又はアルミニウム(Al)等の場合、防錆処理を施していることが好ましい。   As a material of the guide 3, silver (Ag), gold (Au), palladium (Pd), platinum (Pt), copper (Cu), nickel (Ni), aluminum (Al), or an alloy thereof can be used. is there. In the case of copper (Cu), nickel (Ni), aluminum (Al) or the like, it is preferable that rust prevention treatment is performed.

ガイド3は、図2(a)に示すように、均一の高さを有する複数(4つ)の板状の部材を有する。上面視においてガイド3は全体として略正方形の枠状をなし、各部材は「く」の字形状を有する。   As shown in FIG. 2A, the guide 3 has a plurality of (four) plate-like members having a uniform height. When viewed from above, the guide 3 has a substantially square frame shape as a whole, and each member has a “<” shape.

ガイド3の各辺の中央部にはスリット状の空隙部4が形成されている。空隙部4は、モールド10の凸部12を樹脂層20に圧入したときに余分な樹脂層20を外部に排出できるように任意の数、任意の位置に設けられ、任意のサイズを有する。空隙部4の形状はスリット状に特に限定されず、円形又は矩形の開口部等の種々の形状が採用可能である。   A slit-like gap 4 is formed at the center of each side of the guide 3. The voids 4 are provided at an arbitrary number and at arbitrary positions so that the excess resin layer 20 can be discharged to the outside when the convex portion 12 of the mold 10 is press-fitted into the resin layer 20 and has an arbitrary size. The shape of the gap 4 is not particularly limited to a slit shape, and various shapes such as a circular or rectangular opening can be employed.

図2(b)に示すように、第2ステージ2にはガイド3を固定するための溝部22が設けられている。ガイド3はエポキシ樹脂等の接着剤を用いて溝部22に接着されていても良い。なお、第2ステージ2に溝部22を設けず、第2ステージ2表面にガイド3を直接接着しても良い。   As shown in FIG. 2 (b), the second stage 2 is provided with a groove 22 for fixing the guide 3. The guide 3 may be bonded to the groove 22 using an adhesive such as an epoxy resin. The guide 3 may be directly bonded to the surface of the second stage 2 without providing the groove 22 in the second stage 2.

なお、ガイド3は第1ステージ1及び第2ステージ2の少なくとも一方に設ければ良い。例えば、第1ステージ1に設けても良いし、ガイド3の一部を第1ステージ1に設け、ガイド3の他の一部を第2ステージ2に設けても良い。   The guide 3 may be provided on at least one of the first stage 1 and the second stage 2. For example, the first stage 1 may be provided, a part of the guide 3 may be provided on the first stage 1, and the other part of the guide 3 may be provided on the second stage 2.

次に、本発明の第1の実施の形態に係るインプリント装置を用いたインプリント方法を含む配線板の製造方法の一例を、図3〜図5を用いて説明する。   Next, an example of a method for manufacturing a wiring board including an imprint method using the imprint apparatus according to the first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.

(イ)図3に示すように、まず、第2ステージ2に溝部22を形成し、溝部22に別途作製したガイド3を設けておく。   (A) As shown in FIG. 3, first, a groove portion 22 is formed in the second stage 2, and a separately prepared guide 3 is provided in the groove portion 22.

(ロ)第1ステージ1に凸部12を有するモールド10を取り付ける。又、第2ステージ2上に基板21を載置し、基板21上に樹脂層20を載置する。   (B) A mold 10 having a convex portion 12 is attached to the first stage 1. Further, the substrate 21 is placed on the second stage 2, and the resin layer 20 is placed on the substrate 21.

(ハ)図4に示すように、第1ステージ1を降下させ、例えば樹脂層20が熱可塑性樹脂の場合、ガラス転移温度以上に加熱し軟化させ、モールド10の凸部12を樹脂層20に圧入する。このとき、ガイド3の上端が第1ステージ1に接触し、ガイド3が樹脂層20のパターン転写領域の外周に位置する。ガイド3を備えることにより、モールド10から樹脂層20に均一に圧力が加わり、樹脂層20の余分な一部が図1及び図2(a)に示した空隙部4から外部に押し出される。この結果、図4に示すように樹脂層20が所望の膜厚Tr2となり、樹脂層20に凹部23が形成される。その後、冷却して樹脂層20を硬化させる。   (C) As shown in FIG. 4, the first stage 1 is lowered. For example, when the resin layer 20 is a thermoplastic resin, the first stage 1 is heated to a glass transition temperature or higher and softened, and the convex portion 12 of the mold 10 is formed on the resin layer 20. Press fit. At this time, the upper end of the guide 3 is in contact with the first stage 1, and the guide 3 is positioned on the outer periphery of the pattern transfer region of the resin layer 20. By providing the guide 3, pressure is uniformly applied from the mold 10 to the resin layer 20, and an extra part of the resin layer 20 is pushed out from the gap portion 4 shown in FIGS. 1 and 2A. As a result, as shown in FIG. 4, the resin layer 20 has a desired film thickness Tr <b> 2 and a recess 23 is formed in the resin layer 20. Thereafter, the resin layer 20 is cured by cooling.

(ニ)図5に示すように、第1ステージ1を上昇させ、モールド10を樹脂層20から離型する。必要に応じてプラズマアッシング等により凹部23の底部の樹脂残渣を除去する。引き続き、めっき等により凹部23に銅(Cu)又は銀(Ag)等の導電材料を充填し、配線等の導電パターンが形成される。その後、めっき等により樹脂層20の上面及び下面に配線パターンを適宜形成することで配線板が作製される。   (D) As shown in FIG. 5, the first stage 1 is raised and the mold 10 is released from the resin layer 20. If necessary, the resin residue at the bottom of the recess 23 is removed by plasma ashing or the like. Subsequently, the recess 23 is filled with a conductive material such as copper (Cu) or silver (Ag) by plating or the like to form a conductive pattern such as a wiring. Then, a wiring board is produced by appropriately forming a wiring pattern on the upper and lower surfaces of the resin layer 20 by plating or the like.

ここで、ガイド3がない場合のインプリント方法を比較例として説明する。図23に示すように、比較例に係るインプリント方法において、第1ステージ101に固定したモールド110の支持部111上の凸部112を、第2ステージ102に載置した樹脂層120に圧入する。このとき、樹脂層120が不規則に流れ出し、樹脂層120のパターン形状が変形する場合がある。これに対して、本発明の第1の実施の形態に係るインプリント装置によれば、図4に示すように、ガイド3を備えることにより、モールド10の凸部12を樹脂層20に圧入したときに樹脂層20の余分な一部が空隙部4から外部に押し出され、樹脂層20が不規則に流れ出すことを防止することができ、所望の樹脂層20のパターン形状を再現性良く得ることができる。   Here, an imprint method when the guide 3 is not provided will be described as a comparative example. As shown in FIG. 23, in the imprint method according to the comparative example, the convex portion 112 on the support portion 111 of the mold 110 fixed to the first stage 101 is press-fitted into the resin layer 120 placed on the second stage 102. . At this time, the resin layer 120 may flow irregularly, and the pattern shape of the resin layer 120 may be deformed. On the other hand, according to the imprint apparatus according to the first embodiment of the present invention, the convex portion 12 of the mold 10 is press-fitted into the resin layer 20 by providing the guide 3 as shown in FIG. Sometimes it is possible to prevent an excessive part of the resin layer 20 from being pushed out of the gap 4 and flow out irregularly, and to obtain a desired pattern shape of the resin layer 20 with good reproducibility. Can do.

又、図24に示すように、ガイド3がない場合であって、モールド110の凸部112に高さばらつきがあるときや、転写圧力に面内ばらつきがあるとき、凸部112を樹脂層120に圧入したときにモールド110が傾き、樹脂層120のパターン形状が変形する場合がある。これに対して、本発明の第1の実施の形態に係るインプリント装置によれば、図4に示すように、ガイド3が均一の高さを有することにより、モールド10の凸部12に高さばらつきがあるときや、転写圧力に面内ばらつきがあるときであっても、樹脂層20の高さを均一化し、且つその膜厚Tr2を均一化することができる。   Further, as shown in FIG. 24, when there is no guide 3 and the convex portion 112 of the mold 110 has a variation in height, or when there is an in-plane variation in the transfer pressure, the convex portion 112 is replaced with the resin layer 120. In some cases, the mold 110 is tilted when the resin layer 120 is press-fitted, and the pattern shape of the resin layer 120 is deformed. On the other hand, according to the imprint apparatus according to the first embodiment of the present invention, the guide 3 has a uniform height, as shown in FIG. Even when there is a variation in thickness or when there is an in-plane variation in the transfer pressure, the height of the resin layer 20 can be made uniform and the film thickness Tr2 can be made uniform.

(第1の変形例)
本発明の第1の実施の形態では、図4に示すように、モールド10の凸部12を樹脂層20に圧入したときに、ガイド3の上端が第1ステージ1に接触する場合を説明した。本発明の第1の実施の形態の第1の変形例として、モールド10の凸部12を樹脂層20に圧入したときに、ガイド3の上端がモールド10の支持部11に接触する場合を説明する。
(First modification)
In the first embodiment of the present invention, as shown in FIG. 4, the case where the upper end of the guide 3 contacts the first stage 1 when the convex portion 12 of the mold 10 is press-fitted into the resin layer 20 has been described. . As a first modification of the first embodiment of the present invention, the case where the upper end of the guide 3 contacts the support portion 11 of the mold 10 when the convex portion 12 of the mold 10 is press-fitted into the resin layer 20 will be described. To do.

図6に示すように、樹脂層20の厚さTr1は、パターン転写後の所望の膜厚と同じ厚さとする。ガイド3の第2ステージ2上の高さHgを、樹脂層20の厚さTr1と基板21の厚さTsとの和と一致するよう設定する。例えば、樹脂層20の厚さTr1が25μm、基板21の厚さTsが100μmの場合、ガイド3の高さHgは125μmである。なお、基板21がない場合には、ガイド3の第2ステージ2上の高さHgを樹脂層20の厚さTr1と一致させても良い。   As shown in FIG. 6, the thickness Tr1 of the resin layer 20 is the same as the desired film thickness after pattern transfer. The height Hg of the guide 3 on the second stage 2 is set to coincide with the sum of the thickness Tr1 of the resin layer 20 and the thickness Ts of the substrate 21. For example, when the thickness Tr1 of the resin layer 20 is 25 μm and the thickness Ts of the substrate 21 is 100 μm, the height Hg of the guide 3 is 125 μm. If there is no substrate 21, the height Hg of the guide 3 on the second stage 2 may be made to coincide with the thickness Tr 1 of the resin layer 20.

図7に示すように、モールド10の凸部12を樹脂層20に圧入したときに、ガイド3の上端がモールド10の支持部11に接触する。この場合も、ガイド3の上端が第1ステージ1に接触する場合と同様の効果が得られる。更に、ガイド3の上端と第1ステージ1との接触による第1ステージ1の損傷を防止することができる。   As shown in FIG. 7, when the convex portion 12 of the mold 10 is press-fitted into the resin layer 20, the upper end of the guide 3 comes into contact with the support portion 11 of the mold 10. In this case, the same effect as that obtained when the upper end of the guide 3 is in contact with the first stage 1 can be obtained. Furthermore, damage to the first stage 1 due to contact between the upper end of the guide 3 and the first stage 1 can be prevented.

(第2の変形例)
本発明の第1の実施の形態の第2の変形例として、ガイド3の形状の他の例を説明する。
(Second modification)
Another example of the shape of the guide 3 will be described as a second modification of the first embodiment of the present invention.

例えば、図2(a)に示したガイド3は上面視において直線状の各辺を有するが、ガイド3の形状は曲線状も良く、蛇腹状でも良い。   For example, the guide 3 shown in FIG. 2A has straight sides when viewed from above, but the shape of the guide 3 may be curved or bellows.

又、図8(a)〜図8(c)に示すように、ガイド3は、複数の棒状の部材であっても良い。各部材は、パターン転写領域の外周に配列し、第2ステージ2の表面に対して垂直方向に延伸し、それぞれの間隔が空隙部4をなす。図8(c)に示すように、第2ステージ2には、ガイド3をそれぞれ固定する溝部22が形成されていても良い。   Further, as shown in FIGS. 8A to 8C, the guide 3 may be a plurality of rod-shaped members. Each member is arranged on the outer periphery of the pattern transfer region, extends in the direction perpendicular to the surface of the second stage 2, and the gaps 4 form the gaps between the members. As shown in FIG. 8C, the second stage 2 may be formed with groove portions 22 for fixing the guides 3 respectively.

又、図9(a)〜図9(c)に示すように、ガイド3は、パターン転写領域の外周に配列した、半田や銅等のマイクロボール等からなる複数の球状の部材であっても良い。図9(b)に示すように上面視において「く」の字状である溝部22に各部材が配置されている。ガイド3は全体として正方形の枠状を有し、各辺の中央に空隙部4を有する。又、隣接する球状の部材の隙間からも樹脂層20の余分な一部を排出することができる。なお、ガイド3を構成する複数の球状の部材を個別に配置する複数の溝部が形成されていても良い。又、第2ステージ2に溝部22がなく、ガイド3が第2ステージ2上に配置された複数の半球状の部材であっても良い。   Moreover, as shown in FIGS. 9A to 9C, the guide 3 may be a plurality of spherical members made of microballs such as solder and copper, which are arranged on the outer periphery of the pattern transfer region. good. As shown in FIG. 9B, each member is disposed in the groove portion 22 that has a “<” shape in a top view. The guide 3 has a square frame shape as a whole, and has a gap 4 at the center of each side. Further, an excessive part of the resin layer 20 can be discharged also from the gap between adjacent spherical members. In addition, the some groove part which arrange | positions the some spherical member which comprises the guide 3 separately may be formed. The second stage 2 may be a plurality of hemispherical members in which the groove 22 is not provided and the guide 3 is disposed on the second stage 2.

又、図10に示すように、ガイド3が、第2ステージ2上のパターン転写領域の端部から第2ステージ2端部にわたって覆っていても良い。又、図10に示したガイド3が第2ステージ2の一部であり、第2ステージ2の中央部が窪んでいることと等価であっても良い。   As shown in FIG. 10, the guide 3 may cover the end of the second stage 2 from the end of the pattern transfer region on the second stage 2. Further, the guide 3 shown in FIG. 10 may be equivalent to a part of the second stage 2 and the central part of the second stage 2 being depressed.

又、図示を省略するが、ガイドがパターン転写領域の全周を覆う1つの板状の部材からなり、その部材の下側が全周にわたり空隙部をなしていても良い。   Although not shown, the guide may be formed of a single plate-like member that covers the entire periphery of the pattern transfer region, and the lower side of the member may form a gap over the entire periphery.

又、ガイド3が、板状の部材、棒状の部材及び球状の部材を組み合わせることにより構成されていても良い。   Moreover, the guide 3 may be comprised by combining a plate-shaped member, a rod-shaped member, and a spherical member.

又、ガイド3が均一の高さを有する場合を説明したが、最上部の高さと一部の高さが異なっていても良い。   Moreover, although the case where the guide 3 has a uniform height has been described, the height of the uppermost part and a part of the height may be different.

このように、本発明の第1の実施の形態の第2の変形例によれば、モールド10のサイズ、樹脂層20の種類やサイズ等に応じて、ガイド3の部材の材料、形状、構成部材の数、又はサイズ等を適宜選択することができ、空隙部4の形状、数、位置又はサイズ等も適宜選択することができる。   Thus, according to the second modification of the first embodiment of the present invention, the material, shape, and configuration of the members of the guide 3 according to the size of the mold 10 and the type and size of the resin layer 20. The number, size, or the like of the member can be selected as appropriate, and the shape, number, position, size, or the like of the gap 4 can also be selected as appropriate.

(第3の変形例)
本発明の第1の実施の形態では、図1に示すように第2ステージ2上に基板21を配置した場合を説明した。本発明の第1の実施の形態の第3の変形例として、図11に示すように、インプリント装置が、基板21の代わりに、第2ステージ2上に配置された犠牲層24を更に備える場合を説明する。
(Third Modification)
In the first embodiment of the present invention, the case where the substrate 21 is arranged on the second stage 2 as shown in FIG. 1 has been described. As a third modification of the first embodiment of the present invention, as shown in FIG. 11, the imprint apparatus further includes a sacrificial layer 24 disposed on the second stage 2 instead of the substrate 21. Explain the case.

犠牲層24の材料としては、例えばポリイミドやポリテトラフルオロエチレン(PTFE)等からなるフィルムや多孔質部材等が使用可能である。   As a material of the sacrificial layer 24, for example, a film or a porous member made of polyimide, polytetrafluoroethylene (PTFE), or the like can be used.

図11に示すように、モールド10の凸部12を樹脂層20に圧入したときに、樹脂層20を貫通し、犠牲層24に達する(突出する)。樹脂層20のパターン転写後の厚さTr2は、凸部12の高さHpと同じかそれ以下に設定されている。その後、モールド10を樹脂層20から離型すると同時に、犠牲層24を樹脂層20から剥離する。   As shown in FIG. 11, when the convex portion 12 of the mold 10 is press-fitted into the resin layer 20, it penetrates the resin layer 20 and reaches the sacrificial layer 24 (projects). The thickness Tr2 after the pattern transfer of the resin layer 20 is set to be equal to or less than the height Hp of the convex portion 12. Thereafter, the mold 10 is released from the resin layer 20, and at the same time, the sacrificial layer 24 is peeled from the resin layer 20.

図24に示すように、ガイド3がない場合であって、特にモールド110の凸部112に高さばらつきがあるときや転写圧力に面内ばらつきがあるとき、凹部123の底部の樹脂残渣のばらつきが大きくなり、灰化(アッシング)処理をしても部分的に樹脂残渣が残存する虞がある。   As shown in FIG. 24, in the case where there is no guide 3, especially when the convex portion 112 of the mold 110 has a height variation or when the transfer pressure has an in-plane variation, the resin residue variation at the bottom of the concave portion 123. The resin residue may partially remain even after ashing (ashing).

これに対して、本発明の第1の実施の形態の第3の変形例によれば、図11に示すように樹脂層20の下面に配置された犠牲層24を備えることにより、凸部12が樹脂層20を貫通し、樹脂層20の凹部23において樹脂残渣をなくすことができる。よって、樹脂残渣を除去するための灰化(アッシング)処理を不要とすることができる。   On the other hand, according to the 3rd modification of the 1st Embodiment of this invention, as shown in FIG. 11, by providing the sacrificial layer 24 arrange | positioned at the lower surface of the resin layer 20, the convex part 12 is provided. Can penetrate through the resin layer 20 and eliminate resin residues in the recesses 23 of the resin layer 20. Therefore, the ashing (ashing) process for removing the resin residue can be eliminated.

なお、犠牲層24が第2ステージ2上に直接配置される場合を説明したが、第2ステージ2上に基板が配置され、基板上に犠牲層24が配置されていても良い。   Although the case where the sacrificial layer 24 is directly disposed on the second stage 2 has been described, a substrate may be disposed on the second stage 2 and the sacrificial layer 24 may be disposed on the substrate.

(第2の実施の形態)
本発明の第2の実施の形態に係るインプリント装置は、図12に示すように、モールド10xがガイド3を有する点が、本発明の第1の実施の形態と異なる。
(Second Embodiment)
The imprint apparatus according to the second embodiment of the present invention is different from the first embodiment of the present invention in that the mold 10x has a guide 3 as shown in FIG.

モールド10xは、図12、図13(a)及び図13(b)に示すように、支持部11と、支持部11上に配置され、樹脂層20に圧入する凸部12と、支持部11上の凸部12の外周に配置され、モールド10xの凸部12を樹脂層20に圧入したときに樹脂層20のパターン転写領域の外周に位置し、モールド10xから樹脂層20にかかる圧力により樹脂層20の余分な一部を外部へ押し出す空隙部4を有するガイド3とを備える。   As shown in FIGS. 12, 13 (a) and 13 (b), the mold 10 x includes a support portion 11, a convex portion 12 that is disposed on the support portion 11 and press-fitted into the resin layer 20, and the support portion 11. It is arranged on the outer periphery of the upper convex portion 12 and is located on the outer periphery of the pattern transfer region of the resin layer 20 when the convex portion 12 of the mold 10x is press-fitted into the resin layer 20, and the resin is applied by the pressure applied to the resin layer 20 from the mold 10x. And a guide 3 having a gap 4 that pushes an extra portion of the layer 20 to the outside.

ガイド3の高さHgは、図12に示した基板21の厚さTsと樹脂層20の厚さTr1との和と一致させている。   The height Hg of the guide 3 is matched with the sum of the thickness Ts of the substrate 21 and the thickness Tr1 of the resin layer 20 shown in FIG.

なお、本発明の第2の実施の形態ではガイド3の下端が第2ステージ2と接触する場合を説明するが、ガイド3の下端が基板21に接触する場合や、基板21がない場合には、ガイド3の高さHgを樹脂層20の厚さTr1と一致させても良い。   In the second embodiment of the present invention, the case where the lower end of the guide 3 is in contact with the second stage 2 will be described. However, when the lower end of the guide 3 is in contact with the substrate 21 or when the substrate 21 is not present. The height Hg of the guide 3 may be matched with the thickness Tr1 of the resin layer 20.

本発明の第2の実施の形態に係るインプリント装置の他の構成は、本発明の第1の実施の形態と実質的に同様であるので、重複した説明を省略する。   Since the other configuration of the imprint apparatus according to the second embodiment of the present invention is substantially the same as that of the first embodiment of the present invention, a duplicate description is omitted.

次に、本発明の第2の実施の形態に係るインプリント装置を用いたインプリント方法を含む配線板の製造方法の一例を、図14及び図15を用いて説明する。   Next, an example of a method for manufacturing a wiring board including an imprint method using the imprint apparatus according to the second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.

(イ)図14に示すように、ガイド3付きのモールド10xを作製しておく。例えば、支持部11上に凸部12を形成した後、銅(Cu)、ニッケル(Ni)等を用いためっき等によりガイド3を形成する。支持部11上を樹脂で埋め、研磨等によりガイド3の高さを均一にする。その後、樹脂を剥離することによりモールド10xを作製可能である。   (A) As shown in FIG. 14, a mold 10x with a guide 3 is prepared. For example, after the convex portion 12 is formed on the support portion 11, the guide 3 is formed by plating using copper (Cu), nickel (Ni), or the like. The support 11 is filled with resin, and the height of the guide 3 is made uniform by polishing or the like. Thereafter, the mold 10x can be manufactured by peeling the resin.

(ロ)インプリント装置の第1ステージ1にモールド10xを取り付ける。一方、第2ステージ2に基板21を載置し、基板21上にパターン転写対象となる樹脂層20を載置する。   (B) The mold 10x is attached to the first stage 1 of the imprint apparatus. On the other hand, the substrate 21 is placed on the second stage 2, and the resin layer 20 to be a pattern transfer target is placed on the substrate 21.

(ハ)図15に示すように、第1ステージ1を降下させ、モールド10xの凸部12を樹脂層20に圧入する。ガイド3の下端は第2ステージ2に接触し、ガイド3は樹脂層20のパターン転写領域の外周に位置する。このとき、モールド10xから樹脂層20に均一に圧力がかかり、樹脂層20の余分な一部が図12及び図13(a)に示した空隙部4から外部に押し出される。この結果、図15に示すように樹脂層20が所望の膜厚となり、樹脂層20に凹部23が形成される。その後の工程は本発明の第1の実施の形態と実質的に同様であるので、重複した説明を省略する。   (C) As shown in FIG. 15, the first stage 1 is lowered, and the convex portion 12 of the mold 10 x is press-fitted into the resin layer 20. The lower end of the guide 3 is in contact with the second stage 2, and the guide 3 is located on the outer periphery of the pattern transfer region of the resin layer 20. At this time, pressure is uniformly applied from the mold 10x to the resin layer 20, and an extra part of the resin layer 20 is pushed out from the gap portion 4 shown in FIGS. 12 and 13A. As a result, as shown in FIG. 15, the resin layer 20 has a desired thickness, and the recess 23 is formed in the resin layer 20. Subsequent steps are substantially the same as those in the first embodiment of the present invention, and thus redundant description is omitted.

本発明の第2の実施の形態に係るインプリント装置によれば、モールド10xがガイド3を備えることにより、ガイド3をインプリント装置に設けた場合と同様に、モールド10xの凸部12を樹脂層20に圧入したときに樹脂層20が不規則に流れ出すことを防止することができ、樹脂層20に所望のパターン形状を再現性良く得ることができる。   According to the imprint apparatus according to the second embodiment of the present invention, since the mold 10x includes the guide 3, the convex portion 12 of the mold 10x is made of resin as in the case where the guide 3 is provided in the imprint apparatus. The resin layer 20 can be prevented from flowing out irregularly when pressed into the layer 20, and a desired pattern shape can be obtained in the resin layer 20 with good reproducibility.

更に、モールド10xがガイド3を有することにより、モールド10x及び樹脂層20のサイズに合わせた設定ができ、且つ効率よくメンテナンスすることができる。   Furthermore, since the mold 10x has the guide 3, it can be set according to the size of the mold 10x and the resin layer 20, and can be efficiently maintained.

なお、図16に示すように、樹脂層20のパターン転写領域の周囲にパターンが転写されないダミー領域を設けても良い。図17に示すように凸部12を樹脂層20に圧入したときに、ガイド3の先端を樹脂層20のダミー領域に圧入しても良い。   In addition, as shown in FIG. 16, you may provide the dummy area | region where a pattern is not transferred around the pattern transfer area | region of the resin layer 20. As shown in FIG. As shown in FIG. 17, when the convex portion 12 is press-fitted into the resin layer 20, the tip of the guide 3 may be press-fitted into the dummy region of the resin layer 20.

(第3の実施の形態)
本発明の第3の実施の形態に係るインプリント装置は、図18に示すようにガイド3を有するインプリント用治具16を備える点が、本発明の第1の実施の形態と異なる。
(Third embodiment)
The imprint apparatus according to the third embodiment of the present invention is different from the first embodiment of the present invention in that it includes an imprint jig 16 having a guide 3 as shown in FIG.

インプリント用治具16は、図18、図19(a)及び図19(b)に示すように、第1ステージ1に載置可能であり、凸部12を有するモールド10を固定する固定部15と、固定部15のモールド10が固定される領域の外周に配置され、モールド10を第2ステージ2上に載置された樹脂層20に圧入したときに樹脂層20のパターン転写領域の外周に位置し、モールド10から樹脂層20にかかる圧力により樹脂層20の余分な一部を外部へ押し出す空隙部4を有するガイド3とを備える。   As shown in FIGS. 18, 19A and 19B, the imprint jig 16 can be placed on the first stage 1, and is a fixing portion for fixing the mold 10 having the convex portion 12. 15 and the outer periphery of the pattern transfer region of the resin layer 20 when the mold 10 is press-fitted into the resin layer 20 placed on the second stage 2. And a guide 3 having a gap 4 that pushes an extra part of the resin layer 20 to the outside by the pressure applied to the resin layer 20 from the mold 10.

ガイド3は固定部15の溝部17に設けられている。なお、溝部17がなくガイド3が固定部15の表面に設けられていても良い。又、固定部15のモールド10が固定される領域に溝部を設けていても良い。   The guide 3 is provided in the groove portion 17 of the fixed portion 15. Note that the guide 3 may be provided on the surface of the fixed portion 15 without the groove portion 17. Moreover, you may provide the groove part in the area | region where the mold 10 of the fixing | fixed part 15 is fixed.

本発明の第3の実施の形態に係るインプリント装置の他の構成は、本発明の第1の実施の形態と実質的に同様であるので、重複した説明を省略する。   Since the other configuration of the imprint apparatus according to the third embodiment of the present invention is substantially the same as that of the first embodiment of the present invention, a duplicate description is omitted.

次に、本発明の第3の実施の形態に係るインプリント装置を用いたインプリント方法を含む配線板の製造方法の一例を、図20及び図21を用いて説明する。   Next, an example of a method for manufacturing a wiring board including an imprint method using the imprint apparatus according to the third embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.

(イ)図20に示すように、シリコン(Si)、ステンレス又は銅(Cu)等の板状の固定部15にガイド3を設ける。なお、固定部15の中央部に、例えばエッチング等により、モールド10を固定するための溝部を設けても良い。   (A) As shown in FIG. 20, a guide 3 is provided on a plate-like fixing portion 15 such as silicon (Si), stainless steel, or copper (Cu). In addition, you may provide the groove part for fixing the mold 10 in the center part of the fixing | fixed part 15 by etching etc., for example.

(ロ)固定部15にモールド10を固定し、固定部15のモールド10を固定したのと反対側の面をステージに取り付ける。又、第2ステージ2上に基板21を載置し、基板21上に樹脂層20を載置する。   (B) The mold 10 is fixed to the fixing portion 15, and the surface of the fixing portion 15 opposite to the side where the mold 10 is fixed is attached to the stage. Further, the substrate 21 is placed on the second stage 2, and the resin layer 20 is placed on the substrate 21.

(ハ)図21に示すように、第1ステージ1を降下させ、モールド10の凸部12を樹脂層20に圧入する。ガイド3の下端は基板21と接触し、ガイド3は樹脂層20のパターン転写領域の外周に位置する。このとき、モールド10から樹脂層20に均一に圧力が加わり、樹脂層20の余分な一部が図18及び図19(a)に示した空隙部4から外部に押し出される。この結果、樹脂層20が所望の膜厚となり、樹脂層20に凹部23が形成される。その後の工程は本発明の第1の実施の形態と実質的に同様であるので、重複した説明を省略する。   (C) As shown in FIG. 21, the first stage 1 is lowered and the convex portion 12 of the mold 10 is press-fitted into the resin layer 20. The lower end of the guide 3 is in contact with the substrate 21, and the guide 3 is located on the outer periphery of the pattern transfer region of the resin layer 20. At this time, pressure is uniformly applied from the mold 10 to the resin layer 20, and an extra part of the resin layer 20 is pushed out from the gap portion 4 shown in FIGS. 18 and 19A. As a result, the resin layer 20 has a desired thickness, and the recess 23 is formed in the resin layer 20. Subsequent steps are substantially the same as those in the first embodiment of the present invention, and thus redundant description is omitted.

本発明の第3の実施の形態に係るインプリント用治具16によれば、ガイド3をインプリント装置に設けた場合と同様に、モールド10の凸部12を樹脂層20に圧入したときに樹脂層20が不規則に流れ出すことを防止することができ、樹脂層20に所望のパターン形状を再現性良く得ることができる。   According to the imprint jig 16 according to the third embodiment of the present invention, when the convex portion 12 of the mold 10 is press-fitted into the resin layer 20 as in the case where the guide 3 is provided in the imprint apparatus. The resin layer 20 can be prevented from flowing out irregularly, and a desired pattern shape can be obtained on the resin layer 20 with good reproducibility.

更に、インプリント用治具16がガイド3を有することにより、インプリント用治具16に載置されるモールド10及び樹脂層20のサイズに合わせた設定ができ、且つ効率よくメンテナンスすることができる。   Furthermore, since the imprint jig 16 has the guide 3, it can be set according to the size of the mold 10 and the resin layer 20 placed on the imprint jig 16, and can be efficiently maintained. .

(その他の実施の形態)
上記のように、本発明は第1〜第3の実施の形態によって記載したが、この開示の一部をなす論述及び図面はこの発明を限定するものであると理解すべきではない。この開示から当業者には様々な代替実施の形態、実施例及び運用技術が明らかとなろう。
(Other embodiments)
As described above, the present invention has been described according to the first to third embodiments. However, it should not be understood that the description and drawings constituting a part of this disclosure limit the present invention. From this disclosure, various alternative embodiments, examples and operational techniques will be apparent to those skilled in the art.

例えば、ガイド3は樹脂層20の余分な一部を外部へ排出する空隙部4を有する代わりに、図22に示すようにパターン転写領域の外周に設けられ、樹脂層20の余分な一部を溜め込む空間4xを有していても良い。   For example, the guide 3 is provided on the outer periphery of the pattern transfer region as shown in FIG. 22 instead of having the gap 4 that discharges an extra part of the resin layer 20 to the outside, and the extra part of the resin layer 20 is removed. You may have the space 4x to accumulate.

又、図4に示した第1ステージ1のガイド3の上端と接触する部分に溝部を設け、凸部12を樹脂層20に圧入したときにガイド3の上端が第1ステージ1の溝部にはまるようにしても良い。   Further, a groove is provided in a portion that contacts the upper end of the guide 3 of the first stage 1 shown in FIG. 4, and the upper end of the guide 3 fits into the groove of the first stage 1 when the convex portion 12 is press-fitted into the resin layer 20. You may do it.

このように、本発明はここでは記載していない様々な実施の形態等を含むことは勿論である。したがって、本発明の技術的範囲は上記の説明から妥当な特許請求の範囲に係る発明特定事項によってのみ定められるものである。   As described above, the present invention naturally includes various embodiments not described herein. Therefore, the technical scope of the present invention is defined only by the invention specifying matters according to the scope of claims reasonable from the above description.

1…第1ステージ
2…第2ステージ
3…ガイド
4…空隙部
4x…空間
5…ステージ保持部
6,8…駆動軸
7…駆動部
9…基台
10,10x…モールド
11…支持部
12…凸部
15…固定部
16…インプリント用治具
17,22…溝部
20…樹脂層
21…基板
23…凹部
24…犠牲層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... 1st stage 2 ... 2nd stage 3 ... Guide 4 ... Gap part 4x ... Space 5 ... Stage holding part 6, 8 ... Drive shaft 7 ... Drive part 9 ... Base 10, 10x ... Mold 11 ... Support part 12 ... Convex part 15 ... Fixing part 16 ... Imprint jig 17, 22 ... Groove part 20 ... Resin layer 21 ... Substrate 23 ... Concave part 24 ... Sacrificial layer

Claims (9)

凸部を有するモールドを載置可能な第1ステージと、
前記第1ステージと対向し、前記凸部が圧入される樹脂層を載置可能な第2ステージと、
前記第1及び第2ステージの少なくともいずれか一方に配置され、前記凸部を前記樹脂層に圧入したときに前記樹脂層のパターン転写領域の外周に位置し、前記モールドから前記樹脂層にかかる圧力により前記樹脂層の余分な一部を外部へ押し出す空隙部を有するガイド
とを備えることを特徴とするインプリント装置。
A first stage on which a mold having a convex portion can be placed;
A second stage facing the first stage and capable of placing a resin layer into which the convex portion is press-fitted,
Pressure placed on at least one of the first and second stages, located on the outer periphery of the pattern transfer region of the resin layer when the convex portion is press-fitted into the resin layer, and applied to the resin layer from the mold An imprinting apparatus comprising: a guide having a gap portion that pushes an extra portion of the resin layer to the outside.
前記ガイドが、板状の部材、棒状の部材及び球状の部材の少なくともいずれかを有することを特徴とする請求項1に記載のインプリント装置。   The imprint apparatus according to claim 1, wherein the guide includes at least one of a plate-shaped member, a rod-shaped member, and a spherical member. 前記ガイドが、均一の高さを有することを特徴とする請求項1又は2に記載のインプリント装置。   The imprint apparatus according to claim 1, wherein the guide has a uniform height. 前記第2ステージ上に配置され、前記樹脂層を載置可能な基板を更に備えることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載のインプリント装置。   The imprint apparatus according to claim 1, further comprising a substrate that is disposed on the second stage and on which the resin layer can be placed. 前記第2ステージ上に配置され、前記樹脂層を載置可能であり、前記モールドの凸部を樹脂層に圧入したときに前記樹脂層を貫通した前記凸部が達する犠牲層を更に備えることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載のインプリント装置。   A sacrificial layer that is disposed on the second stage, is capable of placing the resin layer, and reaches the convex portion penetrating the resin layer when the convex portion of the mold is press-fitted into the resin layer; The imprint apparatus according to any one of claims 1 to 3, wherein the apparatus is an imprint apparatus. 前記ガイドが前記第2ステージに配置されており、
前記凸部を前記樹脂層に圧入したときに前記ガイドの前記第1ステージ側の端部が前記第1ステージの表面又は前記モールドの表面と接触することを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載のインプリント装置。
The guide is disposed on the second stage;
The end of the guide on the first stage side is in contact with the surface of the first stage or the surface of the mold when the convex portion is press-fitted into the resin layer. The imprint apparatus according to claim 1.
前記ガイドが前記第1ステージに配置されており、
前記凸部を前記樹脂層に圧入したときに前記ガイドの前記第2ステージ側の端部が前記第2ステージ表面と接触することを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載のインプリント装置。
The guide is disposed on the first stage;
The end portion on the second stage side of the guide is in contact with the surface of the second stage when the convex portion is press-fitted into the resin layer. Imprint device.
第1ステージ上に載置可能な支持部と、
支持部上に配置され、前記第1ステージと対向する第2ステージ上に載置された樹脂層に圧入する凸部と、
前記支持部上の前記凸部の外周に配置され、前記凸部を樹脂層に圧入したときに前記樹脂層のパターン転写領域の外周に位置し、前記凸部から前記樹脂層にかかる圧力により前記樹脂層の余分な一部を外部へ押し出す空隙部を有するガイド
とを備えることを特徴とするモールド。
A support that can be placed on the first stage;
A convex portion arranged on a support portion and press-fitted into a resin layer placed on a second stage facing the first stage;
It is arranged on the outer periphery of the convex part on the support part, and is located on the outer periphery of the pattern transfer region of the resin layer when the convex part is press-fitted into the resin layer, and the pressure applied to the resin layer from the convex part A mold comprising: a guide having a gap that pushes an extra part of the resin layer to the outside.
第1ステージ上に載置可能であり、凸部を有するモールドを固定する固定部と、
前記固定部のモールドが固定される領域の外周に配置され、前記第1ステージと対向する第2ステージ上に載置された樹脂層に前記モールドを圧入したときに前記樹脂層のパターン転写領域の外周に位置し、前記モールドから前記樹脂層にかかる圧力により前記樹脂層の余分な一部を外部へ押し出す空隙部を有するガイド
とを備えることを特徴とするインプリント用治具。
A fixing portion that can be placed on the first stage and fixes a mold having a convex portion;
When the mold is press-fitted into the resin layer placed on the second stage that is disposed on the outer periphery of the area where the mold of the fixing part is fixed and is opposed to the first stage, the pattern transfer area of the resin layer An imprinting jig comprising: a guide that is located on an outer periphery and has a gap that pushes an extra part of the resin layer to the outside by pressure applied to the resin layer from the mold.
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