JP2012214053A - Tablet molding die, tablet, method for manufacturing optical semiconductor element-mounting substrate, and optical semiconductor device - Google Patents

Tablet molding die, tablet, method for manufacturing optical semiconductor element-mounting substrate, and optical semiconductor device Download PDF

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a tablet molding die appropriate to prevent the surface of a tablet from colored black when a thermosetting light reflecting resin composition is molded into the tablet.SOLUTION: This tablet molding die is provided to mold the thermosetting light reflecting resin composition, containing at least a filling material and a thermosetting resin, into the tablet. An inner surface of the molding die which is brought into contact with at least the resin composition is constituted by a ceramic material or a fluorine material to have a Rockwell hardness R scale of ≥50.

Description

本発明は、タブレット成形金型に関し、特に、熱硬化性光反射用樹脂組成物をタブレット成形するのに好適なタブレット成形金型に関する。さらに本発明は、当該成形金型を用いてなるタブレット、当該タブレットを用いた光半導体素子搭載用基板の製造方法および当該製法により得られる光半導体素子搭載用基板を用いてなる光半導体装置に関する。   The present invention relates to a tablet molding die, and more particularly to a tablet molding die suitable for tableting a thermosetting resin composition for light reflection. Furthermore, the present invention relates to a tablet using the molding die, a method for manufacturing an optical semiconductor element mounting substrate using the tablet, and an optical semiconductor device using the optical semiconductor element mounting substrate obtained by the manufacturing method.

光半導体装置の製造方法として、熱硬化性光反射用樹脂組成物を使用しパッケージ(光半導体素子搭載用基板)を製造する方法が開示されている(特許文献1、2)。この製造方法は、熱硬化性光反射用樹脂組成物を室温においてタブレット成形機(打錠機)を用いて加圧成形して得られた円柱形や角柱形のタブレットをトランスファー成形機のポットに挿入した後、プランジャーを加圧することによってタブレットを溶融させ、当該溶融物(樹脂組成物)を金型内のランナーおよびゲートを介して、リードフレームが予めセットされたキャビティに充填し、これを硬化するものである。   As a method for manufacturing an optical semiconductor device, a method of manufacturing a package (substrate for mounting an optical semiconductor element) using a thermosetting light reflecting resin composition is disclosed (Patent Documents 1 and 2). In this manufacturing method, a cylindrical or prismatic tablet obtained by pressure-molding a thermosetting light reflecting resin composition at room temperature using a tablet molding machine (tablet press) is used as a pot of a transfer molding machine. After insertion, the tablet is melted by pressurizing the plunger, and the melt (resin composition) is filled into the cavity in which the lead frame is set in advance through the runner and gate in the mold. It cures.

特開2006−140207号公報JP 2006-140207 A 特開2006−156704号公報JP 2006-156704 A 特開2002−1733号公報JP 2002-1733 A

上記熱硬化性光反射用樹脂組成物は、通常、熱硬化性樹脂に加えて、光反射率や成形性を確保するために白色顔料や無機充填材等の充填材を含有している。そのため、このような組成物を従来のタブレット成形機によってタブレット成形すると、充填材成分がタブレット成形機の金型表面を削り、その結果、得られるタブレット表面が黒く着色してしまう場合がある。着色したタブレットは光反射率の低下を招くため、これを光半導体装置用のパッケージとして用いることは望ましくない。上記のような問題は、タブレット成形機の成形金型の内面に形成されているハードクロムめっき等の保護膜の強度が弱いために発生していると考えられる。一方、樹脂との接触面にフッ素を含む非晶質の炭素被膜を設けることによって、離型性と耐磨耗性とを兼備した、半導体封止用樹脂のタブレット成形用金型が開示されている(特許文献3)。しかし、開示された金型は、基材を衝撃に弱いWC基超硬合金から構成されており、金型に欠けなどの破損が生じやすい傾向がある。   The thermosetting light reflecting resin composition usually contains a filler such as a white pigment and an inorganic filler in order to ensure light reflectance and moldability in addition to the thermosetting resin. Therefore, when such a composition is tablet-molded by a conventional tablet molding machine, the filler component may scrape the mold surface of the tablet molding machine, and as a result, the resulting tablet surface may be colored black. Since a colored tablet causes a decrease in light reflectance, it is not desirable to use it as a package for an optical semiconductor device. The above problems are considered to occur because the strength of the protective film such as hard chrome plating formed on the inner surface of the molding die of the tablet molding machine is weak. On the other hand, by providing an amorphous carbon film containing fluorine on the contact surface with the resin, a mold for tableting of a resin for semiconductor encapsulation, which has both mold release and wear resistance, is disclosed. (Patent Document 3). However, the disclosed mold is made of a WC-based cemented carbide that is weak against impact on the base material, and the mold tends to be damaged such as chipping.

上記を鑑みて、本発明は、熱硬化性光反射用樹脂組成物をタブレットに成形する際に、タブレット表面が着色することを防止するのに適切なタブレット成形金型を提供することを目的とする。また、本発明は、上記成形金型を用いてなるタブレット、当該タブレットを用いた光半導体素子搭載用基板の製造方法および当該製法により得られる光半導体素子搭載用基板を用いてなる光半導体装置を提供することを目的とする。   In view of the above, an object of the present invention is to provide a tablet mold suitable for preventing the tablet surface from being colored when the thermosetting light reflecting resin composition is molded into a tablet. To do. The present invention also provides a tablet using the molding die, an optical semiconductor element mounting substrate manufacturing method using the tablet, and an optical semiconductor device using the optical semiconductor element mounting substrate obtained by the manufacturing method. The purpose is to provide.

すなわち、本発明は、以下(1)〜(13)に記載の事項をその特徴とする。
(1)少なくとも充填材と熱硬化性樹脂とを含有する熱硬化性光反射用樹脂組成物をタブレットに成形するためのタブレット成形金型であって、少なくとも上記樹脂組成物と接する成形金型の内表面がセラミック系材料またはフッ素系材料から構成され、特定の硬度を有することを特徴とするタブレット成形金型。
That is, the present invention is characterized by the following items (1) to (13).
(1) A tablet molding die for molding a thermosetting light reflecting resin composition containing at least a filler and a thermosetting resin into a tablet, wherein the molding die is in contact with at least the resin composition. A tablet mold having an inner surface made of a ceramic material or a fluorine material and having a specific hardness.

(2)上記内表面がセラミックス系材料から構成され、ロックウェル硬度Cスケールで70以上の硬度を有することを特徴とする上記(1)に記載のタブレット成形金型。 (2) The tablet molding die according to (1), wherein the inner surface is made of a ceramic material and has a hardness of 70 or more on a Rockwell hardness C scale.

(3)上記内表面がフッ素系樹脂材料から構成され、ロックウェル硬度Rスケールで50以上の硬度を有することを特徴とする上記(1)に記載のタブレット成形金型。 (3) The tablet molding die according to (1), wherein the inner surface is made of a fluororesin material and has a Rockwell hardness R scale of 50 or more.

(4)上記(1)〜(3)のいずれかに記載のタブレット成形金型を用いて、少なくとも充填材と熱硬化性樹脂とを含有する熱硬化性光反射用樹脂組成物を成形して得られるタブレット。 (4) A thermosetting light reflecting resin composition containing at least a filler and a thermosetting resin is molded using the tablet mold according to any one of (1) to (3) above. The resulting tablet.

(5)上記充填材が、無機充填材および白色顔料の少なくとも一方を含む上記(4)に記載のタブレット。 (5) The tablet according to (4), wherein the filler contains at least one of an inorganic filler and a white pigment.

(6)上記熱硬化性光反射用樹脂組成物が、エポキシ樹脂、硬化剤、無機充填材、白色顔料及びカップリング剤を含む上記(4)に記載のタブレット。 (6) The tablet according to (4), wherein the thermosetting light reflecting resin composition contains an epoxy resin, a curing agent, an inorganic filler, a white pigment, and a coupling agent.

(7)上記無機充填材が、シリカ、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、硫酸バリウム、炭酸マグネシウム、炭酸バリウムからなる群の中から選ばれる少なくとも1種であることを特徴とする上記(5)または(6)に記載のタブレット。 (7) The above inorganic filler (5) or (5), wherein the inorganic filler is at least one selected from the group consisting of silica, aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, barium sulfate, magnesium carbonate, and barium carbonate. The tablet according to (6).

(8)上記白色顔料が、アルミナ、酸化マグネシウム、酸化アンチモン、酸化チタン、酸化ジルコニウム、中空粒子からなる群の中から選ばれる少なくとも1種である上記(5)〜(7)のいずれかに記載のタブレット。 (8) The white pigment is any one of (5) to (7), wherein the white pigment is at least one selected from the group consisting of alumina, magnesium oxide, antimony oxide, titanium oxide, zirconium oxide, and hollow particles. Tablet.

(9)上記白色顔料の平均粒径が、1〜50μmの範囲である上記(5)〜(8)のいずれかに記載のタブレット。 (9) The tablet according to any one of (5) to (8), wherein the white pigment has an average particle size in the range of 1 to 50 μm.

(10)上記無機充填材と上記白色顔料との合計量が、上記樹脂組成物全体に対して、10体積%〜95体積%の範囲である上記(5)〜(9)のいずれかに記載のタブレット。 (10) The total amount of the inorganic filler and the white pigment is in the range of 10% by volume to 95% by volume with respect to the entire resin composition. Tablet.

(11)波長800nm〜350nmにおける光反射率が80%以上である上記(4)〜(10)のいずれかに記載のタブレット。 (11) The tablet according to any one of (4) to (10), wherein the light reflectance at a wavelength of 800 nm to 350 nm is 80% or more.

(12)光半導体素子搭載領域となる凹部が1つ以上形成されている光半導体素子搭載用基板の製造方法であって、少なくとも上記凹部側壁を、上記(4)〜(11)のいずれかに記載のタブレットを用いたトランスファー成形により形成することを特徴とする光半導体素子搭載用基板の製造方法。 (12) A method of manufacturing a substrate for mounting an optical semiconductor element in which one or more recesses to be an optical semiconductor element mounting region are formed, wherein at least the recess side wall is any one of the above (4) to (11) A method for producing a substrate for mounting an optical semiconductor element, which is formed by transfer molding using the tablet described above.

(13)上記(12)に記載の製造方法により製造された光半導体素子搭載用基板と、
上記光半導体素子搭載用基板の凹部底面に搭載された光半導体素子と、
上記光半導体素子を覆うように上記凹部内に形成される蛍光体含有透明封止樹脂層とを備える光半導体装置。
(13) An optical semiconductor element mounting substrate manufactured by the manufacturing method according to (12) above,
An optical semiconductor element mounted on the bottom surface of the recess of the optical semiconductor element mounting substrate;
An optical semiconductor device comprising: a phosphor-containing transparent sealing resin layer formed in the recess so as to cover the optical semiconductor element.

本発明によれば、熱硬化性光反射用樹脂組成物をタブレットに成形する際に、タブレット表面の着色を抑制するタブレット成形金型を提供することが可能となる。さらに、当該タブレット成形金型を用いて製造されたタブレットをトランスファー成形により成形することで、優れた光学特性、特に光反射率を有する光半導体素子搭載用基板および光半導体装置を得ることが可能となる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, when shape | molding the thermosetting light reflection resin composition to a tablet, it becomes possible to provide the tablet molding die which suppresses coloring of the tablet surface. Furthermore, it is possible to obtain an optical semiconductor element mounting substrate and an optical semiconductor device having excellent optical characteristics, particularly light reflectance, by molding a tablet produced using the tablet molding die by transfer molding. Become.

本発明のタブレット成形金型の構造を示す模式的断面図であるIt is typical sectional drawing which shows the structure of the tablet molding die of this invention. 本発明の光半導体素子搭載用基板の製造方法を説明する概略図であり、(a)〜(c)はトランスファーモールド成形により基板を製造する各工程に対応する。It is the schematic explaining the manufacturing method of the board | substrate for optical semiconductor element mounting of this invention, (a)-(c) respond | corresponds to each process of manufacturing a board | substrate by transfer molding. 本発明の光半導体装置の一実施形態を示す図であり、(a)および(b)はそれぞれ装置の構造を模式的に示す側面断面図である。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is a figure which shows one Embodiment of the optical semiconductor device of this invention, (a) And (b) is side sectional drawing which shows the structure of an apparatus typically, respectively.

以下、本発明の詳細を説明する。
(タブレット成形金型)
本発明のタブレット成形金型は、少なくとも充填材と熱硬化性樹脂とを含有する熱硬化性光反射用樹脂組成物をタブレットに成形するためのものであり、臼と杵の一対または凹部を有する上金型と下金型の一対等からなる構造を有し、樹脂組成物と接触する金型の内表面がセラミック系材料またはフッ素系材料から構成され、かつ特定の硬度を有することを特徴とする。
Details of the present invention will be described below.
(Tablet mold)
The tablet molding die of the present invention is for molding a thermosetting light reflecting resin composition containing at least a filler and a thermosetting resin into a tablet, and has a pair of a mortar and a ridge or a recess. It has a structure consisting of a pair of upper mold and lower mold, etc., and the inner surface of the mold that comes into contact with the resin composition is composed of a ceramic material or a fluorine material and has a specific hardness. To do.

本発明のタブレット成形金型の一実施形態を図1に示す。図1に示すように、タブレット成形金型10は、臼10aと、上杵10bおよび下杵10cから構成され、少なくとも樹脂組成物20と接触する臼と杵の各内表面は、充填材の硬度を上回るか、またはタブレット成型時に変形しない程度の硬度を有するようにセラミック系材料またはフッ素系材料から構成される。   One embodiment of the tablet molding die of the present invention is shown in FIG. As shown in FIG. 1, the tablet molding die 10 is composed of a mortar 10a, an upper barb 10b, and a lower barb 10c, and at least the inner surfaces of the mortar and the barb that are in contact with the resin composition 20 are filled with a filler hardness. Or a ceramic-based material or a fluorine-based material so as to have a hardness that does not deform during tablet molding.

上記セラミックス系材料としては、特に限定されないが、例えば、アルミニウム、ケイ素、チタン、タングステン、タンタル、ニオブ、モリブデン、ジルコニウム、バナジウム等の酸化物、炭化物または窒化物、これらにコバルトやニッケル等を添加した材料など、公知の高硬度セラミックス系材料を用いることができる。   The ceramic material is not particularly limited. For example, oxides, carbides or nitrides such as aluminum, silicon, titanium, tungsten, tantalum, niobium, molybdenum, zirconium, and vanadium, and cobalt or nickel are added to these. Known high-hardness ceramic materials such as materials can be used.

上記フッ素系樹脂材料としては、特に限定されないが、例えば、4フッ化エチレン−エチレン共重合体、3フッ化塩化エチレン樹脂、フッ化ビニリデン樹脂等の比較的高い強度を示すフッ素系樹脂が挙げられ、また、これらフッ素系樹脂に補強材としてガラス繊維やウィスカなどの繊維状の無機材料を添加したものでも良い。   The fluorine-based resin material is not particularly limited, and examples thereof include fluorine-based resins exhibiting relatively high strength such as a tetrafluoroethylene-ethylene copolymer, a trifluorinated ethylene chloride resin, and a vinylidene fluoride resin. Further, a material obtained by adding a fibrous inorganic material such as glass fiber or whisker as a reinforcing material to these fluorine-based resins may be used.

また、本発明のタブレット成形金型は、例えば、公知の金属、合金、超硬合金等からなる臼と杵の少なくとも熱硬化性光反射用樹脂組成物と接する内表面に上記セラミックス系材料やフッ素系樹脂材料等の被膜を形成した構造であってよい。また、別の実施形態として、成形金型の全てを上記セラミック系材料またはフッ素系樹脂材料から構成してもよい。使用するセラミック系材料またはフッ素系樹脂材料は特に限定されないが、タブレットを着色する恐れのない白色の材料として調製されることが好ましい。   In addition, the tablet molding die of the present invention includes, for example, the above ceramic material and fluorine on the inner surface of a mortar and heel made of a known metal, alloy, cemented carbide, etc., in contact with at least the thermosetting light reflecting resin composition. It may be a structure in which a coating of a resin material or the like is formed. As another embodiment, all of the molding dies may be made of the ceramic material or the fluorine resin material. The ceramic-based material or the fluorine-based resin material to be used is not particularly limited, but it is preferably prepared as a white material that has no fear of coloring the tablet.

本発明のタブレット成形金型の一実施形態として、成形時に樹脂組成物と接触する金型の内表面をセラミックス系材料から構成する場合、その内表面はロックウェル硬度Cスケールで70以上の硬度を有することが好ましい。また、別の実施形態として、金型の内表面をフッ素系樹脂材料から構成する場合、その内表面はロックウェル硬度Rスケールで50以上の硬度を有することが好ましい。   As one embodiment of the tablet molding die of the present invention, when the inner surface of the mold that comes into contact with the resin composition at the time of molding is made of a ceramic material, the inner surface has a hardness of 70 or more on the Rockwell hardness C scale. It is preferable to have. As another embodiment, when the inner surface of the mold is made of a fluororesin material, the inner surface preferably has a hardness of 50 or more on the Rockwell hardness R scale.

なお、本発明で記載する「ロックウェル硬度」は、金型の内表面を以下に示す方法に従って試験することによって得られた値を意味している。
(ロックウェル硬度スケールC)
頂角120°、先端半径0.2mmのダイヤモンド円錐圧子を用いて、金型の内表面に10kgfの加重を加え、次に150kgfの加重を加え、再度10kgfの加重に戻し、この前後2回の加重によって内表面に進入した圧子の深さをリニアゲージで用いて測定した値である。
(ロックウェル硬度スケールR)
直径1/2インチ鋼球を用いて、金型の内表面に10kgfの加重を加え、次に60kgfの加重を加え、再度10kgfの加重に戻し、この前後2回の加重によって内表面に進入した圧子の深さをリニアゲージで測定した値である。
The “Rockwell hardness” described in the present invention means a value obtained by testing the inner surface of a mold according to the following method.
(Rockwell hardness scale C)
Using a diamond conical indenter with an apex angle of 120 ° and a tip radius of 0.2 mm, a weight of 10 kgf was applied to the inner surface of the mold, then a weight of 150 kgf was added, and the weight was again returned to a weight of 10 kgf. This is a value measured by using a linear gauge to determine the depth of the indenter that has entered the inner surface by weighting.
(Rockwell hardness scale R)
Using a 1/2 inch diameter steel ball, a weight of 10 kgf was applied to the inner surface of the mold, then a weight of 60 kgf was applied, and the weight was returned to 10 kgf again. This is a value obtained by measuring the depth of the indenter with a linear gauge.

(熱硬化性光反射用樹脂組成物)
本発明のタブレット成形金型の成形対象としては、特に限定されないが、本発明のタブレット成形金型は、少なくとも充填材と熱硬化性樹脂を含む熱硬化性光反射用樹脂組成物をタブレット成形するのに好適である。なお、この熱硬化性光反射用樹脂組成物は、熱硬化前、室温(0〜35℃)で、0.5〜2MPa、1〜5秒程度の条件下において加圧成形、具体的にはタブレット成形可能なものであることが望まれる。また、この熱硬化性光反射用樹脂組成物の熱硬化後の、波長350nm〜800nmにおける光反射率は、80%以上であることが望ましい。この光反射率が80%未満であると、光半導体装置の輝度向上に十分寄与できない傾向がある。また、この熱硬化性光反射用樹脂組成物の硬化後の熱伝導率は、1〜10W/mKの範囲であることが望ましい。この熱伝導率が1W/mK未満であると光半導体素子から発生する熱を十分に逃がすことができず、封止樹脂等を劣化させてしまう恐れがある。
(Thermosetting resin composition for light reflection)
Although it does not specifically limit as a shaping | molding object of the tablet molding die of this invention, The tablet molding die of this invention tablet-molds the thermosetting light reflection resin composition containing a filler and a thermosetting resin at least. It is suitable for. In addition, this thermosetting resin composition for light reflection is pressure-molded under conditions of 0.5 to 2 MPa for about 1 to 5 seconds at room temperature (0 to 35 ° C.) before thermosetting. It is desired that the tablet can be formed. Further, it is desirable that the light reflectance at a wavelength of 350 nm to 800 nm after the thermosetting of the thermosetting light reflecting resin composition is 80% or more. If the light reflectance is less than 80%, there is a tendency that it cannot sufficiently contribute to the improvement in luminance of the optical semiconductor device. Moreover, as for the heat conductivity after hardening of this thermosetting light reflecting resin composition, it is desirable that it is the range of 1-10 W / mK. If the thermal conductivity is less than 1 W / mK, the heat generated from the optical semiconductor element cannot be sufficiently released, and the sealing resin or the like may be deteriorated.

以下、上記熱硬化性光反射用樹脂組成物を構成する各成分について詳述する。
熱硬化性樹脂としては、例えば、エポキシ樹脂、変性エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、変性シリコーン樹脂、アクリレート樹脂、ウレタン樹脂などがあるが、特にエポキシ樹脂であることが好ましい。エポキシ樹脂としては、電子部品封止用エポキシ樹脂成形材料で一般に使用されているものを用いることができ、特に限定されないが、例えば、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂をはじめとするフェノール類とアルデヒド類のノボラック樹脂をエポキシ化したもの、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS、アルキル置換ビフェノール等のジグリシジエーテル、ジアミノジフェニルメタン、イソシアヌル酸等のポリアミンとエピクロルヒドリンの反応により得られるグリシジルアミン型エポキシ樹脂、オレフィン結合を過酢酸等の過酸で酸化して得られる線状脂肪族エポキシ樹脂、及び脂環族エポキシ樹脂等があり、これらは単独でも、2種以上併用してもよい。また、使用するエポキシ樹脂は比較的着色のないものであることが好ましく、そのようなエポキシ樹脂としては、例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、トリグリシジルイソシアヌレートを挙げることができる。
Hereinafter, each component which comprises the said thermosetting light reflection resin composition is explained in full detail.
Examples of the thermosetting resin include an epoxy resin, a modified epoxy resin, a silicone resin, a modified silicone resin, an acrylate resin, and a urethane resin, and an epoxy resin is particularly preferable. As the epoxy resin, those generally used for epoxy resin molding materials for electronic component sealing can be used, and are not particularly limited. Examples thereof include phenol novolac epoxy resins and orthocresol novolac epoxy resins. Epoxidized phenol and aldehyde novolak resin, glycidylamine type obtained by reaction of polychlorinated diglycidyl ether such as bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, alkyl-substituted biphenol, diaminodiphenylmethane, isocyanuric acid and epichlorohydrin There are epoxy resins, linear aliphatic epoxy resins obtained by oxidizing olefinic bonds with peracids such as peracetic acid, and alicyclic epoxy resins, and these may be used alone or in combination of two or more. In addition, it is preferable that the epoxy resin used is relatively uncolored, and examples of such an epoxy resin include bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, bisphenol S type epoxy resin, and triglycidyl isocyanate. Nurate can be mentioned.

また、上記熱硬化性樹脂がエポキシ樹脂である場合、硬化剤や硬化促進剤を併用してもよい。硬化剤としては、エポキシ樹脂と反応するものであれば、特に制限なく使用することができるが、比較的着色のないものが好ましい。例えば、酸無水物系硬化剤、フェノール系硬化剤などが挙げられる。酸無水物系硬化剤としては、例えば、無水フタル酸、無水マレイン酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、無水メチルナジック酸、無水ナジック酸、無水グルタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸などが挙げられ、単独で用いても、二種以上併用しても良い。これら酸無水物系硬化剤の中では、無水フタル酸、へキサヒドロ無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸を用いることが好ましい。また、酸無水物系硬化剤は、その分子量が140〜200程度のものが好ましく、また、無色ないし淡黄色の酸無水物が好ましい。   Moreover, when the said thermosetting resin is an epoxy resin, you may use a hardening | curing agent and a hardening accelerator together. Any curing agent can be used without particular limitation as long as it reacts with the epoxy resin. For example, an acid anhydride curing agent, a phenol curing agent, and the like can be given. Examples of the acid anhydride curing agent include phthalic anhydride, maleic anhydride, trimellitic anhydride, pyromellitic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, methyl nadic anhydride, nadic anhydride, glutaric anhydride. Examples thereof include acid, methylhexahydrophthalic anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride, and the like. These may be used alone or in combination of two or more. Among these acid anhydride curing agents, phthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, and methylhexahydrophthalic anhydride are preferably used. The acid anhydride curing agent preferably has a molecular weight of about 140 to 200, and is preferably a colorless or light yellow acid anhydride.

また、上記硬化剤は、エポキシ樹脂中のエポキシ基1当量に対して、硬化剤におけるエポキシ基と反応可能な活性基(酸無水基または水酸基)が0.5〜1.5当量となるように配合することが好ましく、0.7〜1.2当量となるように配合することがより好ましい。活性基が0.5当量未満の場合には、エポキシ樹脂組成物の硬化速度が遅くなるとともに、得られる硬化体のガラス転移温度が低くなる場合があり、一方、1.5当量を超える場合には、耐湿性が低下する場合がある。   Moreover, the said hardening | curing agent is set so that the active group (an acid anhydride group or a hydroxyl group) which can react with the epoxy group in a hardening | curing agent will be 0.5-1.5 equivalent with respect to 1 equivalent of epoxy groups in an epoxy resin. It is preferable to mix | blend and it is more preferable to mix | blend so that it may become 0.7-1.2 equivalent. When the active group is less than 0.5 equivalent, the curing rate of the epoxy resin composition is slowed, and the glass transition temperature of the resulting cured product may be lowered. The moisture resistance may be reduced.

上記硬化促進剤としては、特に限定されるものではなく、例えば、1,8−ジアザ−ビシクロ(5,4,0)ウンデセン−7、トリエチレンジアミン、トリ−2,4,6−ジメチルアミノメチルフェノールなどの3級アミン類、2−エチル−4−メチルイミダゾール、2−メチルイミダゾールなどのイミダゾール類、トリフェニルホスフィン、テトラフェニルホスホニウムテトラフェニルボレート、テトラ−n−ブチルホスホニウム−o,o−ジエチルホスホロジチオエートなどのリン化合物、4級アンモニウム塩、有機金属塩類、およびこれらの誘導体などが挙げられる。これらは単独で使用してもよく、あるいは、併用してもよい。これら硬化促進剤の中では、3級アミン類、イミダゾール類、リン化合物を用いることが好ましい。   The curing accelerator is not particularly limited. For example, 1,8-diaza-bicyclo (5,4,0) undecene-7, triethylenediamine, tri-2,4,6-dimethylaminomethylphenol Tertiary amines such as 2-ethyl-4-methylimidazole, imidazoles such as 2-methylimidazole, triphenylphosphine, tetraphenylphosphonium tetraphenylborate, tetra-n-butylphosphonium-o, o-diethylphosphoro Examples thereof include phosphorus compounds such as dithioate, quaternary ammonium salts, organometallic salts, and derivatives thereof. These may be used alone or in combination. Among these curing accelerators, it is preferable to use tertiary amines, imidazoles, and phosphorus compounds.

また、硬化促進剤の含有率は、エポキシ樹脂に対して、0.01〜8.0重量%であることが好ましく、より好ましくは、0.1〜3.0重量%である。硬化促進剤の含有率が、0.01重量%未満では、充分な硬化促進効果を得られない場合があり、また、8.0重量%を超えると、得られる硬化体に変色が見られる場合がある。   Moreover, it is preferable that the content rate of a hardening accelerator is 0.01 to 8.0 weight% with respect to an epoxy resin, More preferably, it is 0.1 to 3.0 weight%. When the content of the curing accelerator is less than 0.01% by weight, a sufficient curing acceleration effect may not be obtained. When the content exceeds 8.0% by weight, discoloration is observed in the obtained cured product. There is.

充填材としては、特に限定されないが、例えば、無機充填材や光反射率を向上させるための白色顔料を用いることができる。   Although it does not specifically limit as a filler, For example, a white pigment for improving an inorganic filler and light reflectivity can be used.

上記無機充填材としては、例えば、シリカ、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、硫酸バリウム、炭酸マグネシウム、炭酸バリウムからなる群の中から選ばれる少なくとも1種を用いることができるが、熱伝導性、光反射特性、成形性、難燃性の点からは、水酸化アルミニウムを組合せて使用することが好ましい。また、無機充填材の平均粒径は、特に限定されるものではないが、白色顔料とのパッキング効率を考慮すると1〜100μmの範囲であることが好ましい。   As the inorganic filler, for example, at least one selected from the group consisting of silica, aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, barium sulfate, magnesium carbonate, and barium carbonate can be used. In view of reflection characteristics, moldability, and flame retardancy, it is preferable to use aluminum hydroxide in combination. The average particle diameter of the inorganic filler is not particularly limited, but is preferably in the range of 1 to 100 μm in consideration of packing efficiency with the white pigment.

上記白色顔料としては、例えば、アルミナ、酸化マグネシウム、酸化アンチモン、酸化チタン、酸化ジルコニウム、中空粒子などを挙げることができ、単独で使用しても、併用しても構わない。中空粒子としては、例えば、珪酸ソーダガラス、アルミ珪酸ガラス、硼珪酸ソーダガラス、シラス等が挙げられる。熱伝導性、光反射特性の点からは、少なくともアルミナまたは酸化マグネシウムを使用するか、またはそれらを組合せて使用することが好ましい。また、白色顔料の平均粒径は、中心粒径が0.1〜50μmの範囲にあることが好ましい。平均粒径が0.1μm未満であると粒子が凝集しやすく、分散性が悪くなる傾向があり、50μmを超えると反射特性が十分に得られなくなる傾向がある。   Examples of the white pigment include alumina, magnesium oxide, antimony oxide, titanium oxide, zirconium oxide, and hollow particles, and these may be used alone or in combination. Examples of the hollow particles include sodium silicate glass, aluminum silicate glass, borosilicate soda glass, and shirasu. From the viewpoint of thermal conductivity and light reflection characteristics, it is preferable to use at least alumina or magnesium oxide or a combination thereof. Moreover, it is preferable that the average particle diameter of a white pigment has a center particle diameter in the range of 0.1-50 micrometers. If the average particle size is less than 0.1 μm, the particles tend to aggregate and the dispersibility tends to deteriorate, and if it exceeds 50 μm, the reflection characteristics tend not to be sufficiently obtained.

上記無機充填材と上記白色顔料との合計配合量は、樹脂組成物全体に対して、10体積%〜95体積%の範囲であることが好ましく、85重量%〜95重量%の範囲であることがより好ましい。この配合量が、10体積%未満であると硬化物の光反射特性が不十分になる恐れがある。一方、95体積%を超えると樹脂組成物の成形性が悪くなり、光半導体素子搭載用基板の作製が困難となる。   The total amount of the inorganic filler and the white pigment is preferably in the range of 10% by volume to 95% by volume, and in the range of 85% by weight to 95% by weight with respect to the entire resin composition. Is more preferable. If this blending amount is less than 10% by volume, the light reflection characteristics of the cured product may be insufficient. On the other hand, if it exceeds 95% by volume, the moldability of the resin composition deteriorates, making it difficult to produce a substrate for mounting an optical semiconductor element.

上記熱硬化性光反射用樹脂組成物には、必要に応じて、カップリング剤、酸化防止剤、離型剤、イオン補足剤等の添加剤を添加してもよい。   You may add additives, such as a coupling agent, antioxidant, a mold release agent, and an ion supplement agent, to the said thermosetting resin composition for light reflections as needed.

上記カップリング剤としては、特に限定されないが、例えば、シラン系カップリング剤やチタネート系カップリング剤等を用いることができ、シランカップリング剤としては、例えば、エポキシシラン系、アミノシラン系、カチオニックシラン系、ビニルシラン系、アクリルシラン系、メルカプトシラン系、およびこれらの複合系等を用いることができる。カップリング剤の種類や処理条件は特に限定しないが、カップリング剤の配合量は樹脂組成物全体に対して、5重量以下であることが好ましい。   The coupling agent is not particularly limited, and for example, a silane coupling agent or a titanate coupling agent can be used. Examples of the silane coupling agent include epoxy silane, amino silane, and cationic. A silane system, a vinyl silane system, an acrylic silane system, a mercapto silane system, a composite system thereof, or the like can be used. The type of the coupling agent and the treatment conditions are not particularly limited, but the amount of the coupling agent is preferably 5% by weight or less with respect to the entire resin composition.

上記熱硬化性光反射用樹脂組成物は、上記した各種成分を均一に分散混合することで得ることができ、その手段や条件等は特に限定されない。一般的な手法として、所定配合量の成分をミキサー等によって十分均一に撹拌、混合した後、ミキシングロール、押出機、ニーダー、ロール、エクストルーダー等によって混練し、必要に応じて、冷却、粉砕する方法を挙げることができる。   The thermosetting light reflecting resin composition can be obtained by uniformly dispersing and mixing the various components described above, and means and conditions thereof are not particularly limited. As a general method, a predetermined amount of ingredients are sufficiently uniformly stirred and mixed by a mixer or the like, then kneaded by a mixing roll, an extruder, a kneader, a roll, an extruder, etc., and cooled and pulverized as necessary. A method can be mentioned.

本発明のタブレットは、上記のような熱硬化性光反射用樹脂組成物等の成形材料を本発明のタブレット成形金型を用いて成形してなるものである。成形の際の各種条件は、成形材料の組成等に応じて適宜決定すればよく、特に制限されないが、室温において、0.5〜2MPa、1〜5秒程度の条件下で行うことが好ましい。また、タブレットの形状やサイズは、用途等に応じて適宜決定すればよく、特に制限されない。例えば、一般的なトランスファー成形機のポットにセットして使用するタブレットの場合、代表的には円柱状に成形され、そのサイズはφ13mm、厚みは成形体積によって変化するが10〜50mmの範囲であることが望ましい。   The tablet of the present invention is formed by molding a molding material such as the thermosetting light reflecting resin composition as described above using the tablet molding die of the present invention. Various conditions for molding may be appropriately determined according to the composition of the molding material and the like, and are not particularly limited, but are preferably performed at room temperature under conditions of about 0.5 to 2 MPa and about 1 to 5 seconds. Further, the shape and size of the tablet may be determined as appropriate according to the application and the like, and are not particularly limited. For example, in the case of a tablet used by setting it in a pot of a general transfer molding machine, it is typically formed into a cylindrical shape, the size is φ13 mm, and the thickness varies depending on the molding volume, but is in the range of 10 to 50 mm. It is desirable.

本発明の光半導体素子搭載用基板は、光半導体素子搭載領域となる1つ以上の凹部と配線パターン(リードフレーム)とが一体化された構成を有し、少なくとも凹部側壁部が本発明のタブレットを用いたトランスファー成形によって形成されたものである。図2は、本発明の光半導体素子搭載用基板の製造方法を説明する概略図であり、(a)〜(c)はトランスファーモールド成形により基板を製造する各工程に対応する。より具体的には、光半導体素子搭載用基板は、例えば、図2(a)に示すように、金属箔から打ち抜きやエッチング等の公知の方法により金属配線105を形成し、次いで該金属配線105を所定形状の金型301に配置し(図2(b))、金型301の樹脂注入口300から熱硬化性光反射用樹脂組成物を注入する。次いで、注入した樹脂組成物を、好ましくは金型温度170〜190℃、成形圧力2〜8MPaで60〜120秒にわたって硬化させた後に金型301を外し、アフターキュア温度120℃〜180℃で1〜3時間にわたって熱硬化させる。次いで、硬化した熱硬化性光反射用樹脂組成物からなるリフレクター103に周囲を囲まれてなる、光半導体素子搭載領域となる凹部200の所定位置に、電気めっきによってNi/銀めっき104を施すことによって製造することが可能である(図2(c))。   The substrate for mounting an optical semiconductor element according to the present invention has a configuration in which one or more recesses to be an optical semiconductor element mounting region and a wiring pattern (lead frame) are integrated, and at least the recess side walls are tablets of the present invention. It is formed by transfer molding using FIG. 2 is a schematic diagram for explaining a method for producing a substrate for mounting an optical semiconductor element according to the present invention, wherein (a) to (c) correspond to respective steps for producing a substrate by transfer molding. More specifically, for example, as shown in FIG. 2A, the substrate for mounting an optical semiconductor element is formed with a metal wiring 105 by a known method such as punching or etching from a metal foil, and then the metal wiring 105. Is placed in a mold 301 having a predetermined shape (FIG. 2B), and a thermosetting light reflecting resin composition is injected from a resin injection port 300 of the mold 301. Subsequently, the injected resin composition is preferably cured at a mold temperature of 170 to 190 ° C. and a molding pressure of 2 to 8 MPa for 60 to 120 seconds, then the mold 301 is removed, and the after cure temperature is 120 to 180 ° C. Heat cure for ~ 3 hours. Next, the Ni / silver plating 104 is applied by electroplating to a predetermined position of the concave portion 200 which is surrounded by the reflector 103 made of the cured thermosetting light reflecting resin composition and becomes the optical semiconductor element mounting region. (Fig. 2 (c)).

本発明の光半導体素子搭載用基板を用いた光半導体装置は、例えば、本発明の光半導体素子搭載用基板と、光半導体素子搭載用基板の凹部底面に搭載される光半導体素子と、光半導体素子を覆うように凹部内に形成される蛍光体含有透明封止樹脂層とを少なくとも備える。図3(a)および図3(b)は、それぞれ本発明の光半導体装置の一実施形態を示す側面断面図である。より具体的には、図3に示した光半導体装置は、本発明の光半導体素子搭載用基板110の光半導体素子搭載領域となる凹部(図2の参照符号200)の底部所定位置に光半導体素子100が搭載され、該光半導体素子100と金属配線105とがボンディングワイヤ102やはんだバンプ107などの公知の方法によってNi/銀メッキ104を介して電気的に接続され、該光半導体素子100が公知の蛍光体106を含む透明封止樹脂101により覆われている。   An optical semiconductor device using the optical semiconductor element mounting substrate of the present invention includes, for example, the optical semiconductor element mounting substrate of the present invention, an optical semiconductor element mounted on the bottom surface of the recess of the optical semiconductor element mounting substrate, and an optical semiconductor. And a phosphor-containing transparent sealing resin layer formed in the recess so as to cover the element. FIG. 3A and FIG. 3B are side sectional views showing an embodiment of the optical semiconductor device of the present invention. More specifically, the optical semiconductor device shown in FIG. 3 has an optical semiconductor at a predetermined position at the bottom of a concave portion (reference numeral 200 in FIG. 2) which is an optical semiconductor element mounting region of the optical semiconductor element mounting substrate 110 of the present invention. An element 100 is mounted, and the optical semiconductor element 100 and the metal wiring 105 are electrically connected through a Ni / silver plating 104 by a known method such as a bonding wire 102 or a solder bump 107, and the optical semiconductor element 100 is It is covered with a transparent sealing resin 101 containing a known phosphor 106.

以下、本発明を実施例により詳述するが、本発明の範囲はこれらの実施例に限定されるものではない。
(実施例1)
本実施例1は本発明のタブレットの作製に関する。最初に、下記に示した各成分を、混練温度20〜30℃、混練時間10分の条件でロール混練することによって、熱硬化性光反射用樹脂組成物を調製した。
(硬化性光反射用樹脂組成物)
エポキシ樹脂:
トリグリシジルイソシアヌレート 100重量部
(エポキシ当量100)
硬化剤:
ヘキサヒドロ無水フタル酸 140重量部
硬化促進剤:
テトラ−n−ブチルホスホニウム− 2.4重量部
o,o−ジエチルホスホロジチオエート
無機充填材:
溶融シリカ(平均粒径20μm) 600重量部
アルミナ(平均粒径1μm) 890重量部
白色顔料:
中空粒子(平均粒径27μm) 185重量部
(3M社製「グラスバブルズS60HS(商品名)」)
カップリング剤:
エポキシシラン 19重量部
酸化防止剤:
9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10− 1重量部
ホスファフェナントレン−10−オキシド
次いで、アルミナからなる成形金型を用い、上記熱硬化性光反射用樹脂組成物を、室温(25℃)、成形圧力2MPa、3秒間の条件で成形し、φ13mm、厚さ15mmの円柱状のタブレットを作製した。なお、成形金型は杵と臼の一対から構成される構造を有し(図1を参照されたい)、成形時に樹脂組成物と接する表面の硬度(以下、「表面硬度」と称す)はロックウェル硬度Cスケールで80.0であった。
EXAMPLES Hereinafter, although an Example explains in full detail this invention, the scope of the present invention is not limited to these Examples.
Example 1
Example 1 relates to the production of the tablet of the present invention. First, a thermosetting light reflecting resin composition was prepared by roll kneading the components shown below under conditions of a kneading temperature of 20 to 30 ° C. and a kneading time of 10 minutes.
(Curable resin composition for light reflection)
Epoxy resin:
100 parts by weight of triglycidyl isocyanurate
(Epoxy equivalent 100)
Curing agent:
Hexahydrophthalic anhydride 140 parts by weight Curing accelerator:
Tetra-n-butylphosphonium 2.4 parts by weight
o, o-Diethyl phosphorodithioate Inorganic filler:
Fused silica (average particle size 20 μm) 600 parts by weight Alumina (average particle size 1 μm) 890 parts by weight White pigment:
185 parts by weight of hollow particles (average particle size 27 μm) (“Glass Bubbles S60HS (trade name)” manufactured by 3M)
Coupling agent:
19 parts by weight of epoxy silane Antioxidant:
9,10-dihydro-9-oxa-10-1 part by weight phosphaphenanthrene-10-oxide Next, the above thermosetting light reflecting resin composition was used at room temperature (25 ° C.) using a molding die made of alumina. Molding was performed under conditions of a molding pressure of 2 MPa for 3 seconds to produce a cylindrical tablet having a diameter of 13 mm and a thickness of 15 mm. The molding die has a structure composed of a pair of pestle and mortar (see FIG. 1), and the hardness of the surface in contact with the resin composition during molding (hereinafter referred to as “surface hardness”) is a lock. It was 80.0 on the well hardness C scale.

(実施例2)
アルミナ製の成形金型の代わりに、4フッ化エチレン−エチレン共重合体からなる成形金型を用いた以外は、実施例1と同様にしてタブレットを作製した。なお、成形金型の表面硬度は、ロックウェル硬度Rスケールで50であった。
(Example 2)
A tablet was produced in the same manner as in Example 1 except that a molding die made of a tetrafluoroethylene-ethylene copolymer was used instead of the molding die made of alumina. The surface hardness of the molding die was 50 on the Rockwell hardness R scale.

(実施例3)
アルミナ製の成形金型の代わりに、3フッ化塩化エチレン樹脂からなる成形金型を用いた以外は、実施例1と同様にしてタブレットを作製した。なお、成形金型の表面硬度は、ロックウェル硬度Rスケールで93であった。
(Example 3)
A tablet was produced in the same manner as in Example 1 except that a molding die made of a trifluoroethylene chloride resin was used instead of the molding die made of alumina. The surface hardness of the molding die was 93 on the Rockwell hardness R scale.

(実施例4)
アルミナ製の成形金型の代わりに、フッ化ビニリデン樹脂からなる成形金型を用いた以外は、実施例1と同様にしてタブレットを作製した。なお、成形金型の表面硬度は、ロックウェル硬度Rスケールで110であった。
Example 4
A tablet was produced in the same manner as in Example 1 except that a molding die made of vinylidene fluoride resin was used instead of the molding die made of alumina. The surface hardness of the molding die was 110 on the Rockwell hardness R scale.

(比較例1)
アルミナ製の成形金型の代わりに、本体が鉄−ニッケル合金からなり、樹脂組成物と接する表面がクロームめっきされた成形金型を用いた以外は、実施例1と同様にしてタブレットを作製した。なお、成形金型の表面硬度は、ロックウェル硬度Rスケールで65であった。
(Comparative Example 1)
A tablet was produced in the same manner as in Example 1 except that a molding die whose main body was made of an iron-nickel alloy and whose surface in contact with the resin composition was chrome-plated was used instead of the molding die made of alumina. . The surface hardness of the molding die was 65 on the Rockwell hardness R scale.

(比較例2)
アルミナ製の成形金型の代わりに、本体が鉄−ニッケル合金からなり、樹脂組成物と接する表面がダイクロンめっきされた成形金型を用いた以外は、実施例1と同様にしてタブレットを作製した。なお、成形金型の表面硬度は、ロックウェル硬度Rスケールで68であった。
(Comparative Example 2)
A tablet was produced in the same manner as in Example 1 except that a molding die whose main body was made of an iron-nickel alloy and whose surface in contact with the resin composition was die-chromon plated was used instead of the molding die made of alumina. . The surface hardness of the molding die was 68 on the Rockwell hardness R scale.

(比較例3)
アルミナ製の成形金型の代わりに、4フッ化エチレン樹脂からなる成形金型を用いた以外は、実施例1と同様にしてタブレットを作製した。しかし、成形金型が軟質で、成形時に成形金型の杵部が変形してしまい、タブレットを作製することができなかった。なお、成形金型の表面硬度は、ロックウェル硬度Rスケールで18であった。
(Comparative Example 3)
A tablet was produced in the same manner as in Example 1 except that a molding die made of tetrafluoroethylene resin was used instead of the molding die made of alumina. However, the molding die is soft, and the collar portion of the molding die is deformed at the time of molding, so that a tablet cannot be produced. The surface hardness of the molding die was 18 on the Rockwell hardness R scale.


<タブレットの評価試験>
各実施例及び各比較例で作製したタブレットの表面着色および光反射率について、下記に従って評価した。その結果を表1に示す。
(表面着色)
○:目視にて着色が確認できない
×:目視にて着色が認められる
(光反射率)
各タブレットをトランスファー成形機のポットにセットし、プランジャーにて加圧溶融させた後、これを金型温度180℃、成形圧力6.9MPa、硬化時間90秒の条件で硬化成形し、さらに150℃、2時間で後硬化を行い、厚み1.0mmの光反射率測定用試験片を作製した。作製した各試験片について、積分球型分光光度計V−750型(日本分光株式会社製)を用いて、波長350〜800nmにおける光反射率をそれぞれ測定し、下記に従って評価した。その結果を表1に示す。
光反射率の評価基準
○:光反射率80%以上
△:光反射率70%以上80%未満
×:光反射率70%未満

Figure 2012214053

<Tablet evaluation test>
The surface coloring and light reflectance of the tablets prepared in each Example and each Comparative Example were evaluated as follows. The results are shown in Table 1.
(Surface coloring)
○: Coloring cannot be confirmed visually
X: Coloration is observed visually (light reflectance)
Each tablet was set in a pot of a transfer molding machine and melted under pressure with a plunger. Then, this tablet was cured and molded under conditions of a mold temperature of 180 ° C., a molding pressure of 6.9 MPa, and a curing time of 90 seconds, and 150 Post-curing was performed at 2 ° C. for 2 hours to prepare a test piece for light reflectance measurement having a thickness of 1.0 mm. About each produced test piece, the light reflectivity in wavelength 350-800 nm was each measured using the integrating sphere type spectrophotometer V-750 type (made by JASCO Corporation), and it evaluated according to the following. The results are shown in Table 1.
Evaluation criteria for light reflectance
○: Light reflectance of 80% or more
Δ: Light reflectance 70% or more and less than 80%
×: Less than 70% light reflectance
Figure 2012214053

表1に示したように、各実施例のタブレットは、その表面(側壁)が着色しておらず、また、各実施例のタブレットで作製した成形品(試験片)の光反射率は、すべて80%以上であった。   As shown in Table 1, the surface (side wall) of the tablet of each example is not colored, and the light reflectance of the molded product (test piece) produced from the tablet of each example is all It was 80% or more.

10 タブレット成形金型
10a 臼
10b 上杵
10c 下杵
20 樹脂組成物
100 光半導体素子(LED素子)
101 透明封止樹脂
102 ボンディングワイヤ
103 リフレクター(熱硬化性光反射用樹脂組成物)
104 Ni/Agめっき
105 金属配線
106 蛍光体
107 はんだバンプ
110 光半導体素子搭載用基板
200 光半導体素子搭載領域(凹部)
300 樹脂注入口
301 金型
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Tablet shaping | molding die 10a Mortar 10b Upper gutter 10c Lower gutter 20 Resin composition 100 Optical semiconductor element (LED element)
101 transparent sealing resin 102 bonding wire 103 reflector (thermosetting resin composition for light reflection)
104 Ni / Ag plating 105 Metal wiring 106 Phosphor 107 Solder bump 110 Optical semiconductor element mounting substrate 200 Optical semiconductor element mounting region (recess)
300 Resin inlet 301 Mold

Claims (11)

少なくとも白色顔料と熱硬化性樹脂とを含有する熱硬化性光反射用樹脂組成物をタブレットに成形するためのタブレット成形金型であって、少なくとも前記樹脂組成物と接する成形金型の内表面がフッ素系材料から構成され、ロックウェル硬度Rスケールで50以上の硬度を有することを特徴とするタブレット成形金型。   A tablet molding die for molding a thermosetting light reflecting resin composition containing at least a white pigment and a thermosetting resin into a tablet, wherein at least the inner surface of the molding die in contact with the resin composition is A tablet molding die comprising a fluorine material and having a Rockwell hardness R scale of 50 or more. 請求項1に記載のタブレット成形金型を用いて、少なくとも白色顔料と熱硬化性樹脂とを含有する熱硬化性光反射用樹脂組成物を成形して得られるタブレット。   A tablet obtained by molding a thermosetting light reflecting resin composition containing at least a white pigment and a thermosetting resin, using the tablet molding die according to claim 1. 前記前記熱硬化性光反射用樹脂組成物が、さらに無機充填材を含む請求項2に記載のタブレット。   The tablet according to claim 2, wherein the thermosetting light reflecting resin composition further contains an inorganic filler. 前記熱硬化性光反射用樹脂組成物が、エポキシ樹脂、硬化剤、無機充填材、白色顔料及びカップリング剤を含む請求項2に記載のタブレット。   The tablet according to claim 2, wherein the thermosetting light reflecting resin composition contains an epoxy resin, a curing agent, an inorganic filler, a white pigment, and a coupling agent. 前記無機充填材が、シリカ、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、硫酸バリウム、炭酸マグネシウム、炭酸バリウムからなる群の中から選ばれる少なくとも1種であることを特徴とする請求項3または4に記載のタブレット。   The inorganic filler is at least one selected from the group consisting of silica, aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, barium sulfate, magnesium carbonate, and barium carbonate. Tablet. 前記白色顔料が、アルミナ、酸化マグネシウム、酸化アンチモン、酸化チタン、酸化ジルコニウム、中空粒子からなる群の中から選ばれる少なくとも1種である請求項2〜5のいずれか1項に記載のタブレット。   The tablet according to any one of claims 2 to 5, wherein the white pigment is at least one selected from the group consisting of alumina, magnesium oxide, antimony oxide, titanium oxide, zirconium oxide, and hollow particles. 前記白色顔料の平均粒径が、1〜50μmの範囲である請求項2〜6のいずれか1項に記載のタブレット。   The tablet according to any one of claims 2 to 6, wherein an average particle diameter of the white pigment is in a range of 1 to 50 µm. 前記無機充填材と前記白色顔料との合計量が、前記樹脂組成物全体に対して、10体積%〜95体積%の範囲である請求項3〜7のいずれか1項に記載のタブレット。   The tablet according to any one of claims 3 to 7, wherein a total amount of the inorganic filler and the white pigment is in a range of 10% by volume to 95% by volume with respect to the entire resin composition. 波長800nm〜350nmにおける光反射率が80%以上である請求項2〜8のいずれか1項に記載のタブレット。   The tablet according to any one of claims 2 to 8, wherein the light reflectance at a wavelength of 800 nm to 350 nm is 80% or more. 光半導体素子搭載領域となる凹部が1つ以上形成されている光半導体素子搭載用基板の製造方法であって、少なくとも前記凹部側壁を、請求項2〜9のいずれか1項に記載のタブレットを用いたトランスファー成形により形成することを特徴とする光半導体素子搭載用基板の製造方法。   It is a manufacturing method of the board | substrate for optical semiconductor element mounting in which one or more recessed parts used as an optical semiconductor element mounting area | region are formed, Comprising: At least the said recessed part side wall WHEREIN: A method for producing a substrate for mounting an optical semiconductor element, wherein the substrate is formed by transfer molding used. 請求項10に記載の製造方法により製造された光半導体素子搭載用基板と、
前記光半導体素子搭載用基板の凹部底面に搭載された光半導体素子と、
前記光半導体素子を覆うように前記凹部内に形成される蛍光体含有透明封止樹脂層と
を備える光半導体装置。
An optical semiconductor element mounting substrate manufactured by the manufacturing method according to claim 10;
An optical semiconductor element mounted on the bottom of the recess of the optical semiconductor element mounting substrate;
An optical semiconductor device comprising: a phosphor-containing transparent sealing resin layer formed in the recess so as to cover the optical semiconductor element.
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