JP2012198431A - 表示体 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】表示体1は、基材20と剥離層21と凹凸構造形成層である光透過層22と光反射層23と接着層24の積層体を含んで構成される。
【選択図】 図2
Description
本発明に係る第1の領域について説明するにあたり、まず、回折格子のピッチ及び照明光の波長と、照明光入射角及び回折光の射出角との関係について説明する。
凹凸構造31は被転写体30の表面形状を拡大して表示している。ここでは被転写体30に、接着層24、光反射層23、光透過層22、剥離層21が積層されている。つまり、接着層24によって表示体1が転写された状態である。
図14と同様に被転写体30に、接着層24、光反射層23、光透過層22、剥離層21が積層されている。ここで、被転写体30の凹凸構造31の、JIS B0601−1994に基づく算術平均粗さRaは、3.3μm、凹凸の平均間隔Smは、390μmとなっている。また、光透過層22は領域35と領域36に分かれ、それぞれの領域での凹凸構造33と凹凸構造34は、長辺及び短辺の長さがそれぞれ異なり、凹凸構造33は1μmで、凹凸構造34は2μmである。
図15と同様に被転写体30に、接着層24、光反射層23、光透過層22、剥離層21が積層されている。ここで、被転写体30の凹凸構造31は領域38と領域39に分かれ、領域38でのJIS B0601−1994に基づく算術平均粗さRaは、3.3μm、凹凸の平均間隔Smは、390μmであり、領域39でのJIS B0601−1994に基づく算術平均粗さRaは、0.5μm、凹凸の平均間隔Smは、70μmとなっている。また、光透過層22の凹凸構造37の、長辺及び短辺の長さが2μmである。
次に、第2の領域について説明する。
第2の領域15は第1の領域14とはその構造や光学的な性質が異なる領域である。第2の領域15は第1の領域14とは異なる凹凸構造が形成されていてもよいし、構造が形成されていない平坦面であってもよい。また、第2の領域15は表示体1に複数存在していてもよい。
次に、本発明の表示体の原版の作製方法を説明する。
本発明の表示体の原版は、従来のレリーフ型回折格子の作製プロセスと同様に、フォトリソグラフィの工程を利用して作製することができる。電子線やレーザー等の荷電粒子ビームによって平面状の基板(ガラス基板が一般的に用いられる)に略均一に塗布された感光性レジストを露光し、現像することで所望の凹凸形状を得る。感光性レジストがポジ型レジストと呼ばれるものであれば、荷電粒子ビームが照射された部分が現像後溶解し、ネガ型レジストと呼ばれるもので有れば、荷電粒子ビームが照射された部分が現像後に残り、照射されていない部分が溶解する。基板は、高精度に位置調整が可能なXYステージ上に載置され、コンピュータ制御のもとでステージを移動させながら荷電粒子ビームが照射される位置が決定される。
Claims (5)
- 基材と、前記基材の一方の面側に設けられた光透過性の剥離層と、
前記剥離層の基材と反対側の面上に設けられた光透過性の凹凸構造形成層と、
前記凹凸構造形成層の少なくとも一部を被覆する光反射層と、
前記光反射層の凹凸構造形成層が設けられた面と反対側に設けられた接着層と
を備えた表示体であって、
前記凹凸構造形成層は、上面が前記基材面と略平行である複数の凸部、または底面が前記基材面と略平行である複数の凹部と、前記基材面と略平行な平坦部が配置されて構成された第1の領域を少なくとも一つ備えており、
前記複数の凸部または凹部は、前記第1の領域内に整然配置され、前記凸部または凹部の長辺及び短辺の長さがそれぞれ0.3μm以上且つ10μm以下であり、前記凸部または凹部の高さは、0.1μm以上且つ0.5μm以下であり、前記第1の領域内における凸部または凹部の占有面積が20%以上且つ80%以下、であることを特徴とする表示体。 - 前記接着層を、被転写体に接触させ、加熱加圧することで熱転写し、前記基材と前記剥離層との界面で前記基材を剥離する表示体であって、前記被転写体の表面のJIS B0601−1994に基づく算術平均粗さRaが2.0μmを超え且つ10.0μm以下であり、且つ、JIS B0601−1994に基づく凹凸の平均間隔Smが130μmを超え且つ1300μm以下であり、前記凸部または凹部の長辺及び短辺の長さがそれぞれ0.3μm以上且つ1.5μm未満であることを特徴とする請求項1に記載の表示体。
- 前記第1の領域を二つ以上備えており、前記二つ以上の領域のうち少なくとも一つの領域において、前記凸部または凹部の長辺及び短辺の長さがそれぞれ1.5μm以上且つ10μm以下であり、且つ、その他の領域において、前記凸部または凹部の長辺及び短辺の長さがそれぞれ0.3μm以上且つ1.5μm未満であることを特徴とする請求項2に記載の表示体。
- 前記接着層を、被転写体に接触させ、加熱加圧することで熱転写し、前記基材と前記剥離層との界面で前記基材を剥離する表示体であって、前記被転写体が領域を二つ以上備えており、前記二つ以上の領域のうち少なくとも一つの領域において、前記被転写体の表面のJIS B0601−1994に基づく算術平均粗さRaが2.0μmを超え且つ10.0μm以下であり、且つ、JIS B0601−1994に基づく凹凸の平均間隔Smが130μmを超え且つ1300μm以下であり、且つ、その他の領域において、前記被転写体の表面のJIS B0601−1994に基づく算術平均粗さRaが0.02μmを超え且つ2.0μm以下であり、且つ、JIS B0601−1994に基づく凹凸の平均間隔Smが130μmを超え且つ1300μm以下であることを特徴とする請求項1記載の表示体。
- 前記第1の領域と構造や光学的な性質が異なる第2の領域に、回折格子、反射防止構造体、光散乱構造体、平坦部のうち少なくとも一つが形成されていることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の表示体。
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