JP2012113802A - Method of manufacturing glass substrate for magnetic disk - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To improve circularity of glass substrates to a necessary level when a plurality of glass substrates for magnetic disk are manufactured from a stack of a plurality of plate-like glasses.SOLUTION: The method of manufacturing the glass substrates for magnetic disk includes a stack preparation process of preparing the stack of a plurality of plate-like glasses; and a grinding process of grinding the stack by moving an integrated core drill, having a large-diameter cylindrical outer peripheral grinding grindstone and a small-diameter cylindrical inner peripheral grinding grindstone arranged coaxially, in the stacking direction of the stack while rotating the integrated core drill on its axis and supplying a grinding liquid to an outer peripheral grinding surface formed as the outer peripheral grinding grindstone and plate-like glasses come into contact with each other and an inner peripheral grinding surface formed as the inner-peripheral grinding grindstone and plate-like glasses come into contact with each other, the rotating direction of the core drill and the supply direction of the grinding liquid to the outer peripheral grinding surface being adjusted so as to draw in the grinding liquid to the outer peripheral grinding surface.

Description

本発明は、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法に関する。   The present invention relates to a method for manufacturing a glass substrate for a magnetic disk.

今日、パーソナルコンピュータ、あるいはDVD(Digital Versatile Disc)記録装置等には、データ記録のためにハードディスク装置(HDD:Hard Disk Drive)が内蔵されている。特に、ノート型パーソナルコンピュータ等の可搬性を前提とした機器に用いられるハードディスク装置では、ガラス基板に磁性層が設けられた磁気ディスクが用いられ、磁気ディスクの面上を僅かに浮上させた磁気ヘッド(DFH(Dynamic Flying Height)ヘッド)で磁性層に磁気記録情報が記録され、あるいは読み取られる。この磁気ディスクの基板として、金属基板(アルミニウム基板)等に比べて塑性変形し難い性質を持つことから、ガラス基板が好適に用いられる。   2. Description of the Related Art Today, a personal computer, a DVD (Digital Versatile Disc) recording device, or the like has a built-in hard disk device (HDD: Hard Disk Drive) for data recording. In particular, in a hard disk device used in a portable computer such as a notebook personal computer, a magnetic disk in which a magnetic layer is provided on a glass substrate is used, and the magnetic head slightly floats above the surface of the magnetic disk. Magnetic recording information is recorded on or read from the magnetic layer by a (DFH (Dynamic Flying Height) head). As a substrate for this magnetic disk, a glass substrate is preferably used because it has a property that it is less likely to be plastically deformed than a metal substrate (aluminum substrate) or the like.

また、ハードディスク装置における記憶容量の増大の要請を受けて、磁気記録の高密度化が図られている。例えば、磁性層における磁化方向を基板の面に対して垂直方向にする垂直磁気記録方式を用いて、磁気記録情報エリアの微細化が行われている。これにより、1枚のディスク基板における記憶容量を増大させることができる。さらに、記憶容量の一層の増大化のために、磁気ヘッドの磁気記録面からの浮上距離を極めて短くすることにより、情報の記録再生の精度をより高める(S/N比を向上させる)ことも行われている。このような磁気ディスクの基板においては、磁性層の磁化方向が基板面に対して略垂直方向に向くように、磁性層が平らに形成される。このために、磁気ディスクの基板の表面凹凸は可能な限り小さく作製されている。   Further, in response to a request for an increase in storage capacity in a hard disk device, the density of magnetic recording has been increased. For example, the magnetic recording information area is miniaturized by using a perpendicular magnetic recording method in which the magnetization direction in the magnetic layer is perpendicular to the surface of the substrate. Thereby, the storage capacity of one disk substrate can be increased. Furthermore, in order to further increase the storage capacity, the flying distance from the magnetic recording surface of the magnetic head can be made extremely short to further improve the accuracy of information recording / reproduction (improve the S / N ratio). Has been done. In such a magnetic disk substrate, the magnetic layer is formed flat so that the magnetization direction of the magnetic layer is substantially perpendicular to the substrate surface. For this reason, the surface irregularities of the substrate of the magnetic disk are made as small as possible.

磁気ディスク用ガラス基板を作製する工程には、例えば、板状ガラスを円環状に成形するコアリング工程と、円環状の板状ガラスの内周端面と外周端面の面取りを行うチャンファリング工程と、内周端面と外周端面の鏡面仕上げを行うエッジポリッシング工程とが含まれる。
従来、コアリング工程においては、一枚一枚個別に行なっていたが(枚葉式加工)、複数の板状ガラスを同時に研削加工することで複数の円環状の板状ガラスを一度に作製し、これにより製造のタクトタイムを短縮するようにした加工方法が知られている(特許文献1)。この従来の方法によれば、板状ガラスの積層体に対して、内径円筒刃と外径円筒刃とが同軸に一体的に構成されたコアリングカッターを回転させつつ積層体の積層方向に移動させることによって、積層体の内周面及び外周面を加工する。
In the process of producing the glass substrate for magnetic disk, for example, a coring process for forming a sheet glass into an annular shape, a chamfering process for chamfering the inner peripheral end face and the outer peripheral end face of the annular plate glass, And an edge polishing step of performing mirror finishing of the inner peripheral end face and the outer peripheral end face.
Conventionally, the coring process was performed individually one by one (single-wafer processing), but multiple annular glass sheets were produced at the same time by grinding multiple glass sheets at the same time. A processing method is known in which the tact time of manufacturing is shortened (Patent Document 1). According to this conventional method, an inner diameter cylindrical blade and an outer diameter cylindrical blade move in the laminating direction of the laminated body while rotating a coring cutter in which the inner diameter cylindrical blade and the outer diameter cylindrical blade are integrally formed on the same axis. By processing, the inner peripheral surface and the outer peripheral surface of the laminate are processed.

特開2007−283651号公報JP 2007-283651 A

ところで、近年、磁気ディスク用ガラス基板の内孔の真円度の更なる向上に対する要請が高まっているが、これは以下の理由による。
上述したように、ハードディスク装置用の磁気ディスクでは、垂直磁気記録方式を用いた磁気記録情報エリアの微細化が行われており、1ビットの記録に用いる領域(磁区)の幅が極めて狭く、また磁気ディスクの内孔から外縁に向けて同心円状に形成されている複数のトラック(記憶領域)の幅も極めて狭くなってきている。そのため、ハードディスク装置内で磁気ディスクの内孔がスピンドルに取り付けられたときに内孔とスピンドルの間の遊びが大きいと、隣接するトラック間で読み取り誤り(いわゆるTMR:Track Miss-Read)が生ずる虞がある。よって、磁気ディスク用ガラス基板の内孔の真円度として、例えば2μm以下という高い精度が求められてきている。
By the way, in recent years, there is an increasing demand for further improvement in the roundness of the inner hole of the glass substrate for magnetic disks, for the following reason.
As described above, in the magnetic disk for the hard disk device, the magnetic recording information area using the perpendicular magnetic recording method is miniaturized, and the width of the area (magnetic domain) used for 1-bit recording is extremely narrow. The width of a plurality of tracks (storage areas) formed concentrically from the inner hole to the outer edge of the magnetic disk is also becoming extremely narrow. Therefore, if the play between the inner hole and the spindle is large when the inner hole of the magnetic disk is attached to the spindle in the hard disk device, a read error (so-called TMR: Track Miss-Read) may occur between adjacent tracks. There is. Therefore, high accuracy of, for example, 2 μm or less is required as the roundness of the inner hole of the magnetic disk glass substrate.

その一方で、磁気ディスク用ガラス基板の内孔の真円度として、例えば2μm以下という高い精度の真円度を実現するためには、コアリング工程(研削工程)において高精度で研削加工を行うことが必要であるが、これは以下の理由による。
すなわち、コアリング工程において成形された内孔の真円度が良好でない場合には、後のチャンファリング工程において例えば研削砥石の砥粒を粗いものにする等して取り代を大きくしなければならないが、チャンファリング工程での取り代を大きくすると内周端面にクラックが入りやすい。そこで、チャンファリング工程において内周端面の取り代を小さくしてクラックを極力生じさせないようにするため、その前工程であるコアリング工程において高精度で研削加工を行うことが求められているのである。なお、チャンファリング工程においては、総型砥石を用いた端部形状加工、すなわち、端面および面取り面の研削を同時に行うことで、内径・外径の寸法あわせと面取り面の形成を行うことが一般的に知られている。
On the other hand, as a roundness of the inner hole of the glass substrate for magnetic disks, for example, in order to realize a high accuracy roundness of 2 μm or less, grinding is performed with high accuracy in the coring process (grinding process). This is necessary for the following reason.
That is, when the roundness of the inner hole formed in the coring process is not good, the machining allowance must be increased in the subsequent chamfering process, for example, by making the abrasive grains rough. However, if the machining allowance in the chamfering process is increased, the inner peripheral end face is likely to crack. Therefore, in order to reduce the allowance of the inner peripheral end face in the chamfering process so as not to generate cracks as much as possible, it is required to perform grinding with high accuracy in the coring process, which is the preceding process. . In the chamfering process, it is common to adjust the inner and outer diameters and form a chamfered surface by simultaneously processing the end shape using a general-purpose grindstone, that is, grinding the end surface and the chamfered surface. Known.

ここで、ハードディスクが組み込まれた機器を落下させると、磁気ディスクが内周部から破壊されやすいということが明らかになってきており、内周部のクラックをできるだけ存在させないことにより一定の強度を保つ必要がある。
また、上述した磁気ディスク用ガラス基板に対するクラックの低減は、ハードディスク装置の落下試験における強度を所要の強度を確保することだけでなく、磁気ディスクのより一層の高密度記録化を図る近年の以下の技術からも要請されている。
Here, it has become clear that if a device with a built-in hard disk is dropped, the magnetic disk is likely to be destroyed from the inner periphery, and a certain strength is maintained by eliminating cracks in the inner periphery as much as possible. There is a need.
In addition, the above-described reduction of cracks on the glass substrate for magnetic disk not only ensures the required strength in the drop test of the hard disk device, but also the following recent attempts to achieve higher density recording of the magnetic disk. It is also requested by technology.

すなわち、近年、磁気ディスクのより一層の高密度記録化を図ることを目的として、Fe−Pt系、Co−Pt系等の磁気異方性エネルギーが高い磁性材料(高Ku磁性材料)を使用することが検討されている。高密度記録化のために磁性粒子の粒径を小さくする必要があるが、一方で、粒径が小さくなると、熱揺らぎによる磁気特性の劣化が問題となる。高Ku磁性材料は熱揺らぎの影響を受けにくいため、高密度記録化に寄与すると期待されている。
しかし上記高Ku磁性材料は、高Kuを実現するために特定の結晶配向状態を得る必要があり、そのため、高温での成膜、あるいは成膜後に高温で熱処理を行う必要がある。そこで、これらの高Ku磁性材料からなる磁気記録層を形成するためには、ガラス基板には上記高温処理に耐え得る高い耐熱性、即ち高いガラス転移温度(例えば摂氏600〜700度)を有することが求められる。ここで、ガラス基板の端面にクラックが生じていた場合には、上記熱処理の過程でクラックが進行し、目標とする強度を確保できない可能性がある。そこで、高Ku磁性材料を使用して高密度記録化を図ることの前提として、従来よりも一層のクラックの低減が求められている。
That is, in recent years, a magnetic material (high Ku magnetic material) having a high magnetic anisotropy energy such as an Fe—Pt system or a Co—Pt system is used for the purpose of achieving higher density recording of a magnetic disk. It is being considered. In order to achieve high-density recording, it is necessary to reduce the particle size of the magnetic particles. On the other hand, when the particle size is reduced, deterioration of magnetic properties due to thermal fluctuation becomes a problem. High Ku magnetic materials are less susceptible to thermal fluctuations and are expected to contribute to high density recording.
However, the high Ku magnetic material needs to obtain a specific crystal orientation state in order to realize a high Ku. Therefore, it is necessary to perform film formation at a high temperature or heat treatment at a high temperature after film formation. Therefore, in order to form a magnetic recording layer made of these high Ku magnetic materials, the glass substrate must have high heat resistance that can withstand the above high temperature processing, that is, high glass transition temperature (for example, 600 to 700 degrees Celsius). Is required. Here, when the crack has arisen in the end surface of a glass substrate, a crack progresses in the process of the said heat processing, and there exists a possibility that target intensity | strength cannot be ensured. Therefore, as a premise for achieving high density recording by using a high Ku magnetic material, there is a demand for further reduction of cracks than in the past.

磁気ディスク用ガラス基板に対するクラックの低減のために、高精度でコアリング工程を行うことが求められているのは上述したとおりである。ここで、上記特許文献1に開示されている研削装置では、外周研削面に研削液(クーラント)が均一に供給されにくい。そのため、研削面においてクーラントが供給されやすい部分とクーラントが供給されにくい部分とで、研削抵抗及びガラススラッジの排出度合いが不均一になることで積層体の外周研削面の研削度合いが不均一となり、加工後の円環状ガラスの外周研削面の真円度が低下する。   As described above, the coring process is required to be performed with high accuracy in order to reduce cracks in the magnetic disk glass substrate. Here, in the grinding apparatus disclosed in Patent Document 1, it is difficult to uniformly supply the grinding liquid (coolant) to the outer peripheral grinding surface. For this reason, the grinding resistance and the discharge rate of glass sludge are non-uniform between the portion where the coolant is easily supplied and the portion where the coolant is difficult to be supplied on the grinding surface, and the grinding degree of the outer peripheral grinding surface of the laminate becomes non-uniform, The roundness of the outer peripheral ground surface of the annular glass after processing decreases.

なお、以下の説明において、外周研削面とは、研削刃によって研削中あるいは研削済み(加工後)の円筒状の板状ガラスの積層体の外周側の面、もしくは積層体を形成する個々の円環状ガラスの外周側の面を意味する。内周研削面とは、研削刃によって研削中あるいは研削済み(加工後)の円筒状の板状ガラスの積層体の内周側の面、もしくは積層体を形成する個々の円環状ガラスの内周側の面を意味する。
以下の説明において、コアドリル(コアリングカッター)の外周研削面とは、コアドリルの外周面、つまりコアドリルの円筒状の外周研削砥石の外側の面を意味する。仮に外周研削砥石の厚みがないとすれば、コアドリルの外周研削面と積層体の外周研削面とは同一面になるが、実際には、コアドリルの外周研削面は、コアドリルの外周研削砥石の厚み(例えば、1〜10mm程度)の分だけ、積層体の外周研削面よりも外側に位置することになる。
以下の説明において、外周研削面の真円度、あるいは外周研削面と内周研削面との同心度について言及しているときには、積層体、あるいは積層体を構成する個々の板状ガラスの外周研削面について言及しているものとする。
In the following description, the outer peripheral grinding surface refers to the outer peripheral surface of a laminate of cylindrical plate glass that is being ground or ground (after processing) by a grinding blade, or individual circles forming the laminate. It means the outer peripheral surface of the annular glass. The inner peripheral grinding surface refers to the inner peripheral surface of a laminated sheet of cylindrical plate glass that is being ground or ground (after processing) by a grinding blade, or the inner circumference of each annular glass forming the laminated body Means the side face.
In the following description, the outer peripheral grinding surface of the core drill (coring cutter) means the outer peripheral surface of the core drill, that is, the outer surface of the cylindrical outer peripheral grinding wheel of the core drill. If there is no thickness of the outer peripheral grinding wheel, the outer peripheral grinding surface of the core drill and the outer peripheral grinding surface of the laminate are the same surface, but the outer peripheral grinding surface of the core drill is actually the thickness of the outer peripheral grinding wheel of the core drill. It is located outside the outer peripheral grinding surface of the laminate by an amount (for example, about 1 to 10 mm).
In the following description, when referring to the roundness of the outer peripheral grinding surface or the concentricity between the outer peripheral grinding surface and the inner peripheral grinding surface, the outer peripheral grinding of the laminated body or the individual sheet glass constituting the laminated body Suppose you are referring to a face.

板状ガラスの積層体に対して、内周研削砥石(内径円筒刃)と外周研削砥石(外径円筒刃)とが同軸に一体的に構成されたコアドリルを回転させつつ積層体の積層方向に移動させる場合、コアドリルが積層体の積層方向に進行するに伴って、研削位置(コアドリルの先端)への研削液の供給が不足し、加工精度が悪化しやすい。これは、研削液の供給位置と研削位置の距離が離れてしまうこと、及び、研削液の供給路(コアドリルの刃と積層体の研削面との間の領域)が狭いことによるものであり、上記距離が離れるほど板状ガラスの真円度が悪化する傾向がある。   While rotating a core drill in which an inner peripheral grinding wheel (inner diameter cylindrical blade) and an outer peripheral grinding wheel (outer diameter cylindrical blade) are coaxially integrated with each other in the laminated direction of the laminated glass, When moving, as the core drill advances in the stacking direction of the laminated body, supply of the grinding liquid to the grinding position (tip of the core drill) is insufficient, and the processing accuracy tends to deteriorate. This is because the distance between the grinding fluid supply position and the grinding position is increased, and the grinding fluid supply path (the region between the core drill blade and the grinding surface of the laminate) is narrow. As the distance increases, the roundness of the sheet glass tends to deteriorate.

コアリング工程における研削加工後の板状ガラスの外周研削面の真円度が良好でない場合、その内周研削面との同心度を向上させづらくなる。加工後の板状ガラスの外周研削面の真円度が良好でない場合、外周研削面と内周研削面との同心度の精度を高めつつ、外周研削面の真円度を向上させるため、後のチャンファリング工程において積層体または個々の円環状ガラスの内外周研削面の取り代を大きくしなければならない。特に、チャンファリング工程で内周研削面の取り代を大きくすると内周端面にクラックが入りやすい。そこで、チャンファリング工程における取り代を小さくしてクラックを極力生じさせないようにするため、その前工程であるコアリング工程において高精度で研削加工を行うことが求められる。また、近年ハードディスクにおける磁気ディスクの回転速度が高回転となる中、外周研削面の真円度が良好でない場合、フラッタリングが発生するという問題もある。   If the roundness of the outer peripheral grinding surface of the sheet glass after grinding in the coring process is not good, it is difficult to improve the concentricity with the inner peripheral grinding surface. If the roundness of the outer peripheral grinding surface of the flat glass after processing is not good, the roundness of the outer peripheral grinding surface is improved while improving the accuracy of concentricity between the outer peripheral grinding surface and the inner peripheral grinding surface. In this chamfering process, the machining allowance of the inner and outer peripheral grinding surfaces of the laminated body or individual annular glass must be increased. In particular, if the machining allowance of the inner peripheral grinding surface is increased in the chamfering process, cracks are likely to occur on the inner peripheral end surface. Therefore, in order to reduce the machining allowance in the chamfering process and prevent the generation of cracks as much as possible, it is required to perform grinding with high accuracy in the coring process, which is the preceding process. Further, in recent years, when the rotational speed of the magnetic disk in the hard disk becomes high, there is a problem that fluttering occurs when the roundness of the outer peripheral ground surface is not good.

そこで、本発明は、複数の板状ガラスが積層された積層体から複数の磁気ディスク用ガラス基板を作製するときに、外周研削面の真円度を所要のレベルまで向上させることを可能とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供することを目的とする。   Therefore, the present invention makes it possible to improve the roundness of the outer peripheral ground surface to a required level when producing a plurality of glass substrates for magnetic disks from a laminate in which a plurality of plate glasses are laminated. It aims at providing the manufacturing method of the glass substrate for magnetic discs.

上記課題を解決するため、本実施形態の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法は、複数の板状ガラスが積層された積層体を準備する積層体準備工程と、大径の円筒状の外周研削砥石と小径の円筒状の内周研削砥石とが同軸に配置される一体型コアドリルを軸を中心に回転させると共に、前記外周研削砥石と前記板状ガラスとが接触してなる外周研削面及び前記内周研削砥石と前記板状ガラスとが接触してなる内周研削面に研削液を供給させつつ、前記積層体の積層方向に移動させることで、前記積層体を研削加工する研削工程と、を有し、前記研削液が前記外周研削面に引き込まれるべく、前記コアドリルの回転方向と、前記外周研削面に対する研削液の供給方向とを調整することを特徴とする。   In order to solve the above problems, a method for manufacturing a glass substrate for a magnetic disk according to the present embodiment includes a laminate preparation step for preparing a laminate in which a plurality of plate glasses are laminated, and a large-diameter cylindrical outer peripheral grinding wheel. And an inner peripheral grinding surface in which the outer peripheral grinding wheel and the plate glass are in contact with each other, and an integral core drill in which a small-diameter cylindrical inner peripheral grinding wheel is coaxially disposed. A grinding step of grinding the laminate by moving the laminate in the laminating direction while supplying a grinding liquid to an inner peripheral grinding surface formed by contacting the peripheral grinding wheel and the plate glass. And adjusting the rotation direction of the core drill and the supply direction of the grinding liquid to the outer peripheral grinding surface so that the grinding liquid is drawn into the outer peripheral grinding surface.

上記磁気ディスク用ガラス基板の製造方法において、前記外周研削面に対する研削液の供給方向は、前記研削液を供給するノズルから前記外周研削面上の点へ向かうベクトルの方向であって、平面視で見て前記点における前記コアドリルの速度ベクトルとのなす角度が0〜15度の範囲内であり、前記ベクトルは、前記積層体の積層方向下向きの成分を有することが好ましい。   In the method for manufacturing a glass substrate for a magnetic disk, the supply direction of the grinding liquid to the outer peripheral grinding surface is a vector direction from a nozzle that supplies the grinding liquid to a point on the outer peripheral grinding surface, and is a plan view. It is preferable that an angle formed with the velocity vector of the core drill at the point is within a range of 0 to 15 degrees, and the vector has a downward component in the stacking direction of the stacked body.

また、前記外周研削面に対する研削液の供給方向は、前記研削液を供給するノズルから前記外周研削面へ向かう接線方向のベクトルの方向であって、前記ベクトルは、前記コアドリルの回転方向に向かうベクトルと、前記積層体の積層方向下向きのベクトルと、を合わせたものであることが好ましい。   Further, the supply direction of the grinding liquid to the outer peripheral grinding surface is a tangential vector direction from the nozzle for supplying the grinding liquid to the outer peripheral grinding surface, and the vector is a vector toward the rotation direction of the core drill. And a vector downward in the stacking direction of the stacked body.

また、前記研削工程において、前記外周研削砥石の全周に亘って実質的に均等に配置された複数本のノズルを用いて、前記外周研削面に前記研削液を供給することが好ましい。   Further, in the grinding step, it is preferable to supply the grinding fluid to the outer peripheral grinding surface using a plurality of nozzles arranged substantially evenly over the entire circumference of the outer peripheral grinding wheel.

また、前記研削工程において、前記外周研削砥石に向けて配置された1又は複数本のノズルを前記外周研削砥石の回転軸と同軸回りに回転させつつ、前記ノズルから前記外周研削面に前記研削液を供給することが好ましい。   Further, in the grinding step, the grinding liquid is supplied from the nozzle to the outer peripheral grinding surface while rotating one or more nozzles arranged toward the outer peripheral grinding wheel around the axis of rotation of the outer peripheral grinding wheel. Is preferably supplied.

また、外周の真円度が5μm以下であることが好ましい。さらに、2μm以下であるとより好ましい。   Moreover, it is preferable that the roundness of the outer periphery is 5 μm or less. Furthermore, it is more preferable in it being 2 micrometers or less.

本発明の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法によれば、複数の板状ガラスが積層された積層体から複数の磁気ディスク用ガラス基板を作成するときに、外周研削面の真円度を所要のレベルまで向上させることができる。   According to the method for manufacturing a glass substrate for a magnetic disk of the present invention, when a plurality of glass substrates for a magnetic disk are created from a laminate in which a plurality of plate glasses are laminated, the roundness of the outer peripheral grinding surface is required. It can be improved to the level.

複数の板状ガラスと接着剤が積層された積層体の断面の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the cross section of the laminated body on which the some plate glass and the adhesive agent were laminated | stacked. 実施形態のコアリング工程において板状ガラスの積層体を研削加工するときの研削装置の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the grinding apparatus when grind | pulverizing the laminated body of sheet glass in the coring process of embodiment. 実施形態のコアリング工程で使用される一体型コアドリルの一例の断面図である。It is sectional drawing of an example of the integrated core drill used at the coring process of embodiment. 積層方向に直交する面内におけるクーラントの供給方向を示す図である。It is a figure which shows the supply direction of the coolant in the surface orthogonal to a lamination direction. 平面視で見たクーラントの供給についての目標位置を説明する図である。It is a figure explaining the target position about supply of the coolant seen by plane view. 変形例のコアリング工程において板状ガラスの積層体を研削加工するときの研削装置の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of a grinding device when grinding the laminated body of sheet glass in the coring process of a modification.

以下、本実施形態の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法について詳細に説明する。   Hereinafter, the manufacturing method of the glass substrate for magnetic disks of this embodiment is demonstrated in detail.

[磁気ディスク用ガラス基板]
本実施形態における磁気ディスク用ガラス基板の材料として、アルミノシリケートガラス、ソーダライムガラス、ボロシリケートガラスなどを用いることができる。特に、化学強化を施すことができ、また主表面の平坦度及び基板の強度において優れた磁気ディスク用ガラス基板を作製することができるという点で、アルミノシリケートガラスを好適に用いることができる。
[Magnetic disk glass substrate]
Aluminosilicate glass, soda lime glass, borosilicate glass, or the like can be used as the material for the magnetic disk glass substrate in the present embodiment. In particular, aluminosilicate glass can be suitably used in that it can be chemically strengthened and a glass substrate for a magnetic disk excellent in the flatness of the main surface and the strength of the substrate can be produced.

本実施形態の磁気ディスク用ガラス基板の組成を限定するものではないが、好ましいガラス基板の組成は以下のとおりである。
例えば、本実施形態のガラス基板は好ましくは、SiO:58〜75重量%、Al:5〜23重量%、LiO:3〜10重量%、NaO:4〜13重量%を主成分として含むガラスである。
Although the composition of the glass substrate for magnetic disks of this embodiment is not limited, the composition of a preferable glass substrate is as follows.
For example, a glass substrate of this embodiment is preferably, SiO 2: 58-75 wt%, Al 2 O 3: 5~23 wt%, Li 2 O: 3~10 wt%, Na 2 O: 4~13 weight % As a main component.

本実施形態のガラス基板は特に好ましくは、SiO:62〜75重量%、Al:5〜15重量%、LiO:4〜10重量%、NaO:4〜12重量%、ZrO:5.5〜15重量%を主成分として含有するとともに、NaO/ZrOの重量比が0.5〜2.0、Al/ZrOの重量比が0.4〜2.5であるアルミノシリケートガラスである。 Glass substrate of the present embodiment is particularly preferred, SiO 2: 62~75 wt%, Al 2 O 3: 5~15 wt%, Li 2 O: 4~10 wt%, Na 2 O: 4~12 wt% ZrO 2 : 5.5 to 15% by weight as a main component, the Na 2 O / ZrO 2 weight ratio is 0.5 to 2.0, and the Al 2 O 3 / ZrO 2 weight ratio is 0.8. It is aluminosilicate glass which is 4-2.5.

また、別の好適なガラスとしては、重量%で表して、SiO:61〜70%、Al:9〜18%、LiO:2〜3.9%、NaO:6〜13%、KO:0〜5%、RO:10〜16%、(ただし、RO=LiO+NaO+KO)、MgO:0〜3.5%、CaO:1〜7%、SrO:0〜2%、BaO:0〜2%、RO:2〜10%、(ただし、RO=MgO+CaO+SrO+BaO)、TiO:0〜2%、CeO:0〜2%、Fe:0〜2%、MnO:0〜1%、TiO+CeO+Fe+MnO=0.01〜3%を含有するアルミノシリケートガラスを挙げることができる。 As another suitable glass, expressed in terms of weight%, SiO 2: 61~70%, Al 2 O 3: 9~18%, Li 2 O: 2~3.9%, Na 2 O: 6 ˜13%, K 2 O: 0 to 5%, R 2 O: 10 to 16% (provided that R 2 O = Li 2 O + Na 2 O + K 2 O), MgO: 0 to 3.5%, CaO: 1 ~7%, SrO: 0~2%, BaO: 0~2%, RO: 2~10%, ( provided that, RO = MgO + CaO + SrO + BaO), TiO 2: 0~2%, CeO 2: 0~2%, Fe Mention may be made of aluminosilicate glasses containing 2 O 3 : 0 to 2%, MnO: 0 to 1%, TiO 2 + CeO 2 + Fe 2 O 3 + MnO = 0.01 to 3%.

本実施形態における磁気ディスク用ガラス基板は、円環状の薄板のガラス基板である。磁気ディスク用ガラス基板のサイズは問わないが、例えば、公称直径2.5インチ、あるいは更に小径(例えば1インチ)の磁気ディスク用ガラス基板として好適である。   The glass substrate for a magnetic disk in the present embodiment is an annular thin glass substrate. The size of the glass substrate for the magnetic disk is not limited, but is suitable as a glass substrate for a magnetic disk having a nominal diameter of 2.5 inches or a smaller diameter (for example, 1 inch), for example.

[磁気ディスク用ガラス基板の製造方法]
以下、本実施形態の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法について、工程毎に説明する。ただし、各工程の順番は適宜入れ替えてもよい。
[Method of manufacturing glass substrate for magnetic disk]
Hereinafter, the manufacturing method of the glass substrate for magnetic disks of this embodiment is demonstrated for every process. However, the order of each step may be changed as appropriate.

(1)フロート法による板状ガラスの成形およびラッピング工程
フロート法による板状ガラスの成形工程では、錫などの溶融金属の満たされた浴槽内に、例えば上述した組成の溶融ガラスを連続的に流し入れることで板状ガラスを得る。溶融ガラスは厳密な温度操作が施された浴槽内で進行方向に沿って流れ、最終的に所望の厚さ、幅に調整された板状ガラスが形成される。この板状ガラスから、磁気ディスク用ガラス基板の元となる所定形状の板状ガラスが切り出される。浴槽内の溶融錫の表面は水平であるために、フロート法により得られる板状ガラスは、その表面の平坦度が十分に高いものとなる。上記方法により得られる板状ガラスの厚さは、0.6〜1.4mmであり、その表面粗さRa(算術平均粗さ)が0.01μm以下である。
なお、板状ガラスは、フロート法に限らず、プレス成形、ダウンドロー法、リドロー法、フュージョン法などの公知の製造方法を用いて製造することができる。
(1) Forming and lapping process of sheet glass by float method In the process of forming sheet glass by float process, for example, molten glass having the above-described composition is continuously poured into a bath filled with molten metal such as tin. A plate-like glass is obtained. The molten glass flows along the traveling direction in a bathtub that has been subjected to a strict temperature operation, and finally a plate-like glass adjusted to a desired thickness and width is formed. From this plate-like glass, a plate-shaped glass having a predetermined shape that is the basis of the glass substrate for magnetic disks is cut out. Since the surface of the molten tin in the bath is horizontal, the flat glass obtained by the float process has a sufficiently high flatness. The plate-like glass obtained by the above method has a thickness of 0.6 to 1.4 mm and a surface roughness Ra (arithmetic average roughness) of 0.01 μm or less.
In addition, plate glass can be manufactured using well-known manufacturing methods, such as a press molding, a down draw method, a redraw method, a fusion method, not only a float glass method.

次に、所定形状に切り出された板状ガラスの両主表面に対して、必要に応じて、アルミナ系遊離砥粒を用いたラッピング加工を行う。具体的には、板状ガラスの両面に上下からラップ定盤を押圧させ、遊離砥粒を含む研削液(スラリー)を板状ガラスの主表面上に供給し、これらを相対的に移動させてラッピング加工を行う。なお、フロート法で板状ガラスを成形した場合には、成形後の主表面の粗さの精度が高いため、このラッピング加工を省略してもよい。   Next, lapping processing using alumina-based loose abrasive grains is performed on both main surfaces of the sheet glass cut into a predetermined shape, if necessary. Specifically, the lapping platen is pressed on both sides of the plate glass from above and below, a grinding liquid (slurry) containing free abrasive grains is supplied onto the main surface of the plate glass, and these are moved relatively. Perform lapping. In addition, when plate glass is molded by the float process, the lapping process may be omitted because the accuracy of the roughness of the main surface after molding is high.

(2)積層体準備工程
(1)の工程で切り出された板状ガラスは、例えば、目標とする磁気ディスク用ガラス基板のサイズよりも少し大きい所定の矩形形状(例えば、正方形)の板状ガラスである。例えば、2.5インチの磁気ディスク用ガラス基板を作製する場合には、75mm×75mmの矩形形状の板状ガラスが切り出される。
(2) Laminate Preparation Step The plate-like glass cut out in the step (1) is, for example, a plate-like glass having a predetermined rectangular shape (for example, a square shape) slightly larger than the size of the target magnetic disk glass substrate. It is. For example, in the case of producing a 2.5-inch magnetic disk glass substrate, a 75 mm × 75 mm rectangular plate glass is cut out.

積層体準備工程では、2枚の板状ガラスの間に接着剤及び/またはスペーサを順次塗布または貼付することによって、複数の板状ガラスが積層された積層体を準備する。この積層体は、複数の板状ガラスを後述するコアリング工程にて一体的に加工するために作製される。また、この積層体は、コアリング工程後に行われるチャンファリング工程、エッジポリッシング工程においても一体的に加工してもよい。   In the laminate preparation step, a laminate in which a plurality of plate glasses are laminated is prepared by sequentially applying or sticking an adhesive and / or a spacer between two plate glasses. This laminated body is produced in order to integrally process a plurality of plate glasses in a coring process described later. Further, this laminate may be integrally processed in a chamfering process and an edge polishing process performed after the coring process.

ここで、図1を参照して、本実施形態の積層体の構成を説明する。図1は、本実施形態の積層体の一例を示す断面図である。図1に示されるように、本実施形態の積層体5は、複数の板状ガラス5aと接着剤5bとが交互に積層されて構成される。積層体5は、板状ガラス5a同士の間に接着剤5bを塗布または貼付して作製される。   Here, with reference to FIG. 1, the structure of the laminated body of this embodiment is demonstrated. FIG. 1 is a cross-sectional view showing an example of a laminated body of the present embodiment. As shown in FIG. 1, the laminate 5 of the present embodiment is configured by laminating a plurality of plate glasses 5a and adhesives 5b alternately. The laminated body 5 is produced by applying or sticking an adhesive 5b between the plate-like glasses 5a.

接着剤5bは、板状ガラス5a同士を接着または分離可能であれば如何なるものでも構わない。例えば、紫外線硬化樹脂は、所定の波長の紫外線の照射で容易に固化するため接着作業が容易である。また、紫外線硬化樹脂として、温水あるいは有機溶媒により接着した板状ガラスを容易に剥離させることができるものが好ましい。接着剤としては紫外線硬化樹脂のほか、ワックス、光硬化樹脂、可視光線硬化樹脂等も使用しうる。ワックスは、所定の温度で軟化して液状になり常温で固形状となるので、接着・分離作業が容易である。
接着剤の代わりにスペーサを貼付する場合には、樹脂材料、繊維材料、ゴム材料、金属材料、セラミック材料の薄厚のスペーサを使用しうる。接着剤またはスペーサの厚さは、例えば0.01〜2mm程度である。
As long as the adhesive 5b can adhere | attach or isolate | separate sheet glass 5a, what kind of thing may be sufficient as it. For example, since the ultraviolet curable resin is easily solidified by irradiation with ultraviolet rays having a predetermined wavelength, the bonding operation is easy. Further, as the ultraviolet curable resin, a resin that can easily peel off the glass sheet bonded with warm water or an organic solvent is preferable. As the adhesive, in addition to the UV curable resin, wax, photo curable resin, visible light curable resin, or the like can be used. Since the wax softens at a predetermined temperature to become a liquid and becomes a solid at room temperature, it is easy to bond and separate.
When a spacer is attached instead of the adhesive, a thin spacer made of a resin material, a fiber material, a rubber material, a metal material, or a ceramic material can be used. The thickness of the adhesive or the spacer is, for example, about 0.01 to 2 mm.

(3)コアリング工程
コアリング工程は、複数の板状ガラスが積層された積層体5を一体型コアドリルを用いて研削加工して、内孔が形成された円環状板状ガラスの積層体とする工程である。以下、図2および図3を参照して本実施形態のコアリング工程(研削工程)について説明する。図2は、本実施形態のコアリング工程において、積層体5を研削加工するときの研削装置を示す図である。図3は、本実施形態のコアリング工程で使用される一体型コアドリルの断面を示す図である。
(3) Coring step The coring step includes grinding a laminated body 5 in which a plurality of plate glasses are laminated using an integrated core drill, and a laminated body of annular plate glasses in which inner holes are formed. It is a process to do. Hereinafter, the coring process (grinding process) of this embodiment will be described with reference to FIGS. FIG. 2 is a diagram showing a grinding device for grinding the laminated body 5 in the coring step of the present embodiment. FIG. 3 is a view showing a cross section of the integrated core drill used in the coring step of the present embodiment.

図2に示されるように、研削装置は、主装置10と、シャフト12と、クーラント供給ホース15と、一体型コアドリル20と、を備える。主装置10は、一体型コアドリル20を駆動する。また、主装置10は、一体型コアドリル20の内部にクーラントを供給する。
一体型コアドリル20は全体として実質的に円筒形である。一体型コアドリル20は、例えば高剛性のステンレス材料のシャフト12に支持されている。円筒形のシャフト12は主装置10に対して自転可能に支持されており、主装置10内のスピンドルモータ(図示せず)によって所望の回転数で回転駆動される。
As shown in FIG. 2, the grinding device includes a main device 10, a shaft 12, a coolant supply hose 15, and an integrated core drill 20. The main device 10 drives the integrated core drill 20. The main device 10 supplies coolant to the interior of the integrated core drill 20.
The integral core drill 20 is substantially cylindrical as a whole. The integrated core drill 20 is supported by a shaft 12 made of, for example, a highly rigid stainless material. The cylindrical shaft 12 is supported so as to be able to rotate with respect to the main device 10 and is driven to rotate at a desired number of rotations by a spindle motor (not shown) in the main device 10.

シャフト12と一体型コアドリル20は同心であり、シャフト12の自転運動によって一体型コアドリル20は、軸心ブレがほとんど無い状態で高速回転することが可能である。そのため、積層体5を、内孔を備えた円環状板状ガラスの積層体に高精度に研削加工することができるとともに、一体型コアドリル20の先端が積層体5の表面に当接する加工初期段階において積層体5の表面のガラスが破損することがない。   The shaft 12 and the integrated core drill 20 are concentric, and the integrated core drill 20 can rotate at high speed with almost no axial center shake due to the rotation of the shaft 12. Therefore, the laminated body 5 can be ground with high precision into an annular plate-like glass laminated body having an inner hole, and the initial stage of processing in which the tip of the integrated core drill 20 contacts the surface of the laminated body 5. The glass on the surface of the laminate 5 is not damaged.

図2に示されるように、載置台30に載置された積層体5の上方に、一体型コアドリル20が配置される。なお、図示していないが、載置台30は、研削加工中において積層体5が載置台30の載置面上で横方向に変位することが無いように、積層体5に対するストッパを設けておくことが好ましい。
本実施形態の研削装置は、図示しないサーボ機構によって主装置10を昇降させることが可能であり、これにより、一体型コアドリル20、シャフト12、クーラント供給ホース15を一体的に昇降させることが可能となっている。
As shown in FIG. 2, the integrated core drill 20 is disposed above the stacked body 5 mounted on the mounting table 30. Although not shown, the mounting table 30 is provided with a stopper for the stacked body 5 so that the stacked body 5 is not displaced laterally on the mounting surface of the mounting table 30 during the grinding process. It is preferable.
The grinding apparatus of the present embodiment can move the main apparatus 10 up and down by a servo mechanism (not shown), and thereby can integrally lift the integrated core drill 20, the shaft 12, and the coolant supply hose 15. It has become.

ここで、図3に示されるように、一体型コアドリル20は、大径の円筒状の外周研削砥石20aと、小径の円筒状の内周研削砥石20bとが同軸に配置されている。
また、図2に示されるように、積層体5を載置する載置台30には、外周研削砥石逃がし用溝30aと内周研削砥石逃がし用溝30bとが設けられている。外周研削砥石逃がし用溝30a、内周研削砥石逃がし用溝30bは、一体型コアドリル20の外周研削砥石20a、内周研削砥石20bが載置台30の載置面に衝突することを防止するための溝である。
Here, as shown in FIG. 3, in the integrated core drill 20, a large-diameter cylindrical outer peripheral grinding stone 20a and a small-diameter cylindrical inner peripheral grinding stone 20b are arranged coaxially.
Further, as shown in FIG. 2, the mounting table 30 on which the stacked body 5 is mounted is provided with an outer peripheral grinding wheel escape groove 30 a and an inner peripheral grinding wheel escape groove 30 b. The outer peripheral grinding wheel escape groove 30a and the inner peripheral grinding wheel escape groove 30b are used to prevent the outer peripheral grinding wheel 20a and the inner peripheral grinding wheel 20b of the integrated core drill 20 from colliding with the mounting surface of the mounting table 30. It is a groove.

また、図2に示されるように、シャフト12の内部にはクーラント供給管17が設置されている。クーラント供給管17の先端のノズル17aにより、一体型コアドリル20の内周研削砥石20bと積層体5とが接触してなる内周研削面にクーラントが供給される。   As shown in FIG. 2, a coolant supply pipe 17 is installed inside the shaft 12. The coolant is supplied to the inner peripheral grinding surface formed by the contact between the inner peripheral grinding wheel 20b of the integrated core drill 20 and the laminated body 5 by the nozzle 17a at the tip of the coolant supply pipe 17.

また、図2に示されるように、主装置10には複数のクーラント供給ホース15が取り付けられている。図2に示される例では、主装置10が2本のクーラント供給ホース15a、15bを備える例について説明するが、クーラント供給ホース15の本数はこれに限定されるものではない。クーラント供給ホース15の本数は2本でもよいが、円筒状の一体型コアドリル20の外縁に沿って3本以上の任意の本数のクーラント供給ホース15を設けることが好ましい。
なお、複数のクーラント供給ホース15は、外周研削砥石20aの全周に亘って実質的に均等に配置されることが好ましい。
As shown in FIG. 2, a plurality of coolant supply hoses 15 are attached to the main device 10. In the example shown in FIG. 2, an example in which the main apparatus 10 includes two coolant supply hoses 15a and 15b will be described, but the number of coolant supply hoses 15 is not limited to this. Although the number of coolant supply hoses 15 may be two, it is preferable that three or more coolant supply hoses 15 of three or more are provided along the outer edge of the cylindrical integrated core drill 20.
The plurality of coolant supply hoses 15 are preferably arranged substantially evenly over the entire circumference of the outer peripheral grinding wheel 20a.

各クーラント供給ホース15は可撓性ホースである。また、各クーラント供給ホース15の先端のノズル16は、一体型コアドリル20の外周研削砥石20aと積層体5とが接触してなる一体型コアドリル20の外周研削面にクーラントが引き込まれるように、所定の方向からクーラントを供給できる位置に予め調整されている。
クーラントは、径、速度(流速)、及び指向性が適切に調整された噴出流あるいはジェットとして供給することが好ましい。こうすることで、クーラントを供給する位置(クーラントとコアドリルとが接触する位置)を制御することや、一体型コアドリル20及び/又はクーラント供給ホースが運動している場合に、クーラントと、外周研削砥石20a及び/又は積層体との間の相対速度を制御することが可能となる。
Each coolant supply hose 15 is a flexible hose. Further, the nozzle 16 at the tip of each coolant supply hose 15 is predetermined so that the coolant is drawn into the outer peripheral grinding surface of the integrated core drill 20 formed by the contact between the outer peripheral grinding wheel 20a of the integrated core drill 20 and the laminate 5. It is adjusted in advance to a position where coolant can be supplied from the direction.
The coolant is preferably supplied as an ejected flow or jet whose diameter, speed (flow velocity), and directivity are appropriately adjusted. In this way, when the coolant supply position (the position where the coolant and the core drill come into contact) is controlled, or when the integrated core drill 20 and / or the coolant supply hose is moving, the coolant and the peripheral grinding wheel It becomes possible to control the relative speed between 20a and / or the laminate.

ここで、図2および図4を参照して、一体型コアドリル20の外周研削面に対するクーラントの供給方向について説明する。図4は、積層方向に直交する面内におけるクーラントの供給方向を概念的に示す図である。
図4に示されるように、積層体5の積層方向に直交する面内において、ノズル16から、一体型コアドリル20の外周研削面32へ向かう接線方向のベクトルであって、一体型コアドリル20の回転方向に向かうベクトルの方向に、クーラントが供給される。具体的には、ノズル16aから外周研削面32へ向かう接線方向のベクトルは、図4に示されるベクトルaとベクトルa’の2つのベクトルがあるが、このうち一体型コアドリル20の回転方向に向かうベクトルaの方向に、ノズル16aからクーラントが供給される。同様に、ベクトルbの方向にノズル16bからクーラントが供給される。
Here, with reference to FIG. 2 and FIG. 4, the supply direction of the coolant with respect to the outer peripheral grinding surface of the integrated core drill 20 will be described. FIG. 4 is a diagram conceptually illustrating a coolant supply direction in a plane orthogonal to the stacking direction.
As shown in FIG. 4, a vector in a tangential direction from the nozzle 16 toward the outer peripheral grinding surface 32 of the integrated core drill 20 in a plane orthogonal to the stacking direction of the stacked body 5, and the rotation of the integrated core drill 20. Coolant is supplied in the direction of the vector toward the direction. Specifically, there are two vectors in the tangential direction from the nozzle 16a toward the outer peripheral grinding surface 32, which are the vector a and the vector a ′ shown in FIG. Coolant is supplied from the nozzle 16a in the direction of the vector a. Similarly, coolant is supplied from the nozzle 16b in the direction of the vector b.

また、図2に示されるように、積層体5の積層方向において、一体型コアドリル20が移動する方向(図2の下方向)に、ノズル16からクーラントが供給される。具体的には、図2に示されるベクトルzの成分を含む方向に、ノズル16aからクーラントが供給される。ノズル16bについても同様である。   Further, as shown in FIG. 2, the coolant is supplied from the nozzle 16 in the direction in which the integrated core drill 20 moves (downward in FIG. 2) in the stacking direction of the stacked body 5. Specifically, the coolant is supplied from the nozzle 16a in the direction including the component of the vector z shown in FIG. The same applies to the nozzle 16b.

なお、図2に示される研削装置では、外周研削面および内周研削面に対して供給されるクーラントを貯蔵するためのタンク、および当該タンクからクーラントを吐出してクーラント供給ホース15およびクーラント供給管17へ導くためのポンプおよび配管については、図示を省略している。
また、上記説明では、ノズル16からのクーラントの供給方向を、一体型コアドリル20の外周研削面32へ向かう接線方向のベクトルの方向としたが、一体型コアドリル20の外周研削砥石20aの厚さは積層体の径と比して小さいため、積層体の外周研削面へ向かう接線方向のベクトルの方向と考えてもよい。
In the grinding apparatus shown in FIG. 2, a tank for storing the coolant supplied to the outer peripheral grinding surface and the inner peripheral grinding surface, and a coolant supply hose 15 and a coolant supply pipe by discharging the coolant from the tank. The pump and piping for guiding to 17 are not shown.
In the above description, the coolant supply direction from the nozzle 16 is the tangential vector direction toward the outer peripheral grinding surface 32 of the integrated core drill 20, but the thickness of the outer peripheral grinding wheel 20a of the integrated core drill 20 is as follows. Since it is smaller than the diameter of the laminated body, it may be considered as a tangential vector direction toward the outer peripheral grinding surface of the laminated body.

本実施形態のコアリング工程では、図2に示される研削装置を用いて以下のとおり積層体5に対する研削加工が行われる。
先ず図2に示されるように、載置台30に載置された積層体5の上方に、一体型コアドリル20を配置する。次に、主装置10を下降させつつ、シャフト12を回転させる。シャフト12の回転速度は、例えば1500〜15000rpm程度である。これにより、一体型コアドリル20を、シャフト12の中心軸回りに回転させつつ、積層体5の積層方向に(つまり、下方に)移動させる。
In the coring process of the present embodiment, grinding is performed on the laminated body 5 as follows using the grinding apparatus shown in FIG.
First, as shown in FIG. 2, the integrated core drill 20 is disposed above the stacked body 5 placed on the placing table 30. Next, the shaft 12 is rotated while the main device 10 is lowered. The rotational speed of the shaft 12 is, for example, about 1500 to 15000 rpm. Accordingly, the integrated core drill 20 is moved in the stacking direction of the stacked body 5 (that is, downward) while rotating around the central axis of the shaft 12.

一体型コアドリル20の下降は、一体型コアドリル20が載置台30の外周研削砥石逃がし用溝30aおよび内周研削砥石逃がし用溝30bに当接するまで行われる。一体型コアドリル20による積層体5の研削加工中には、クーラント供給ホース15のノズル16、およびクーラント供給管17のノズル17aからクーラントを供給する。   The lowering of the integrated core drill 20 is performed until the integrated core drill 20 comes into contact with the outer peripheral grinding wheel escape groove 30a and the inner peripheral grinding wheel escape groove 30b of the mounting table 30. During grinding of the laminate 5 by the integrated core drill 20, coolant is supplied from the nozzle 16 of the coolant supply hose 15 and the nozzle 17 a of the coolant supply pipe 17.

一体型コアドリル20による積層体5の研削加工中において、外周研削面と内周研削面にクーラントを十分に浸透させるため、一定量加工が進行する度に少し(例えば数100μm程度)一体型コアドリル20を上昇させてクーラントを積層体5の研削面(特に内周研削面)に引き込み、再度加工を進行させてもよい。また、研削加工効率を上げるために、研削加工中において一体型コアドリル20を上下方向に超音波振動子(図示せず)により微振動させることが好ましい。超音波振動の一例としては、周波数が20kHz、振幅が5〜7μm程度である。   During grinding of the laminated body 5 by the integrated core drill 20, the coolant is sufficiently penetrated into the outer peripheral grinding surface and the inner peripheral grinding surface. And the coolant may be drawn into the grinding surface (especially the inner peripheral grinding surface) of the laminate 5 and the processing may proceed again. In order to increase the grinding efficiency, it is preferable that the integral core drill 20 is vibrated slightly by an ultrasonic vibrator (not shown) in the vertical direction during the grinding process. As an example of the ultrasonic vibration, the frequency is 20 kHz and the amplitude is about 5 to 7 μm.

ここで、本実施形態の一体型コアドリル20の外周研削砥石20aおよび内周研削砥石20bについてさらに説明する。
外周研削砥石20aおよび内周研削砥石20bは、例えば、砥粒としてダイヤモンド、結合材として青銅または鋳鉄を含むメタルボンド砥石であるが、これに限られない。メタルボンド砥石に限らず、樹脂を基礎とした結合材を含むレジンボンド砥石、セラミックス質(ガラス質)の結合材を含むビドリファイドボンド砥石、電解めっきを利用した電着ボンド砥石でもよい。外周研削砥石20aの先端の厚さは1〜10mmであり、内周研削砥石20bの先端の厚さは1〜10mmである。
Here, the outer peripheral grinding wheel 20a and the inner peripheral grinding wheel 20b of the integrated core drill 20 of this embodiment will be further described.
The outer peripheral grinding stone 20a and the inner peripheral grinding stone 20b are, for example, metal bond grindstones including diamond as abrasive grains and bronze or cast iron as a binder, but are not limited thereto. Not only a metal bond grindstone, but also a resin bond grindstone containing a resin-based binder, a vitrified bond grindstone containing a ceramic (glassy) binder, or an electrodeposited bond grindstone using electrolytic plating may be used. The thickness of the tip of the outer peripheral grinding stone 20a is 1 to 10 mm, and the thickness of the tip of the inner peripheral grinding stone 20b is 1 to 10 mm.

本実施形態の一体型コアドリル20において、内周研削砥石20bの番手は、外周研削砥石20aの番手と実質的に同一か、あるいはそれよりも大きく設定することが好ましい。なお、内周研削砥石20bの番手は、外周研削砥石20aの番手よりも大きく設定するとなお好ましい。つまり、内周研削砥石の砥粒は、外周研削砥石の砥粒と実質的に同一か、あるいはそれよりも細かくすることが好ましい。
内周研削砥石の番手の範囲は、その下限値が磁気ディスク用ガラス基板の内孔の真円度の要求仕様に基づいて決定され、その上限値が加工時間(加工のタクトタイム)によって決定される。例えば、磁気ディスク用ガラス基板の内孔の真円度として、2μm以下という高い精度の真円度を実現するためには、コアリング工程において上記真円度に極力近付けた表面粗さにしておくことが必要である。後のチャンファリング工程において内周端面の取り代を小さくしてクラックを極力生じさせないようにするためである。かかる観点から内周研削砥石の番手は150以上とすることが好ましい。また、コアリング工程全体の加工時間の制約から内周研削砥石の番手は800以下とすることが好ましい。
なお、内周研削砥石の砥粒を細かくすることによって積層体5の内周研削面の方が外周研削面よりも研削抵抗が大きくなるが、内周研削面は加工長が短いため研削抵抗の増大は問題となるレベルにはならない。
In the integrated core drill 20 of the present embodiment, the count of the inner peripheral grinding wheel 20b is preferably set to be substantially the same as or larger than the count of the outer peripheral grinding wheel 20a. In addition, it is still more preferable that the count of the inner peripheral grinding stone 20b is set larger than the count of the outer peripheral grinding stone 20a. That is, it is preferable that the abrasive grains of the inner peripheral grinding wheel are substantially the same as or finer than the abrasive grains of the outer peripheral grinding wheel.
As for the range of the count of the inner grinding wheel, the lower limit value is determined based on the required specification of the roundness of the inner hole of the glass substrate for magnetic disks, and the upper limit value is determined by the processing time (processing tact time). The For example, in order to realize a roundness with a high accuracy of 2 μm or less as the roundness of the inner hole of the glass substrate for a magnetic disk, the surface roughness is set as close as possible to the roundness in the coring process. It is necessary. This is to reduce the allowance of the inner peripheral end face in the subsequent chamfering process so that cracks are not generated as much as possible. From this viewpoint, the count of the inner peripheral grinding wheel is preferably 150 or more. Moreover, it is preferable that the count of the inner peripheral grinding wheel is 800 or less because of the limitation of the processing time of the entire coring process.
In addition, grinding resistance of the inner peripheral grinding surface of the laminate 5 becomes larger than that of the outer peripheral grinding surface by making the abrasive grains of the inner peripheral grinding wheel finer. However, since the inner peripheral grinding surface has a shorter processing length, the grinding resistance is reduced. Increase is not at a problematic level.

一方、外周研削砥石の番手の範囲は、全体的に内周研削砥石よりも砥粒が粗いものでよいが、磁気ディスク用ガラス基板として内周と外周の目標となる同心度(例えば、5μm以下)を実現するため、120以上とすることが好ましい。また、外周研削面は加工長が長いため研削抵抗の増大によって研削加工に支障を来たさないように、外周研削砥石の番手は600以下とすることが好ましい。   On the other hand, the range of the count of the outer peripheral grinding wheel may be generally coarser than that of the inner peripheral grinding wheel. ) Is preferably set to 120 or more. Further, since the outer peripheral grinding surface has a long processing length, it is preferable that the outer peripheral grinding wheel has a count of 600 or less so as not to hinder the grinding process due to an increase in grinding resistance.

本実施形態の一体型コアドリル20では、内周研削砥石20bの先端が、外周研削砥石20aの先端より突出していることが好ましい。これにより、外周部よりも内周部を先に加工することとなり、加工軸が安定しやすくなる。その結果、加工後の積層体を構成する個々の板状ガラスの外周研削面の真円度を小さくしやすくなるため、板状ガラスの外周研削面と内周研削面との同心度をも小さくしやすくなる。   In the integrated core drill 20 of this embodiment, it is preferable that the tip of the inner peripheral grinding stone 20b protrudes from the tip of the outer peripheral grinding stone 20a. Thereby, an inner peripheral part will be processed ahead of an outer peripheral part, and a process axis will become easy to stabilize. As a result, it becomes easy to reduce the roundness of the outer peripheral grinding surface of each sheet glass constituting the laminated body after processing, so the concentricity between the outer peripheral grinding surface and the inner peripheral grinding surface of the sheet glass is also reduced. It becomes easy to do.

上述したように、本実施形態のコアリング工程では、回転する一体型コアドリル20の外周研削砥石20aと積層体との隙間に引き込まれるように、クーラントが供給される位置、クーラント流の流速及び径などを制御する。例えば、クーラントが外周研削面32に引き込まれるべく、一体型コアドリル20の回転方向と、外周研削面32に対するクーラントの供給方向とが調整される。より具体的には、クーラントを供給するノズル16から外周研削面32へ向かう接線方向のベクトルであって、一体型コアドリル20の回転方向に向かう積層方向と直交する面上のベクトルと、積層体5の積層方向下向きのベクトルと、を合わせたベクトルの方向に、ノズル16からクーラントが供給されることが好ましい。このとき、外周研削砥石の外側面(つまり、一体型コアドリル20の外周研削面)と積層体の最上面との接点の位置に向けてクーラントを供給する(つまり、クーラントを当てるようにする)ことが好ましい。
なお、上記説明では、ノズル16からのクーラントの供給方向を、一体型コアドリル20の外周研削面32へ向かう接線方向のベクトルの方向としたが、一体型コアドリル20の外周研削砥石20aの厚さは積層体の径と比して小さいため、積層体の外周研削面へ向かう接線方向のベクトルの方向と考えてもよい。
As described above, in the coring process of the present embodiment, the position at which the coolant is supplied, the flow velocity and the diameter of the coolant flow so as to be drawn into the gap between the outer peripheral grinding wheel 20a of the rotating integrated core drill 20 and the laminate. Control etc. For example, the rotation direction of the integrated core drill 20 and the supply direction of the coolant to the outer peripheral grinding surface 32 are adjusted so that the coolant is drawn into the outer peripheral grinding surface 32. More specifically, a vector in a tangential direction from the nozzle 16 for supplying the coolant to the outer peripheral grinding surface 32, and a vector on a surface orthogonal to the lamination direction toward the rotation direction of the integrated core drill 20, and the laminate 5 It is preferable that the coolant is supplied from the nozzle 16 in the direction of a vector obtained by combining the downward vector in the stacking direction. At this time, coolant is supplied toward the position of the contact point between the outer surface of the peripheral grinding wheel (that is, the peripheral ground surface of the integrated core drill 20) and the uppermost surface of the laminate (that is, the coolant is applied). Is preferred.
In the above description, the coolant supply direction from the nozzle 16 is the tangential vector direction toward the outer peripheral grinding surface 32 of the integrated core drill 20, but the thickness of the outer peripheral grinding stone 20a of the integrated core drill 20 is as follows. Since it is smaller than the diameter of the laminated body, it may be considered as a tangential vector direction toward the outer peripheral grinding surface of the laminated body.

なお、コアドリルの回転速度やクーラントの流速に応じて、クーラントを当てる狙いの位置(所定の径のクーラント流の中心が当たる位置;以下、「クーラントの目標位置」という。)を、1)前記接点より若干手前側(つまり、積層体の中心側)としたり、2)一体型コアドリル20とクーラント流との接触を維持させながら前記接点よりも若干上方にしたりするようにしてもよい。こうすることで、研削が進むにつれて一体型コアドリル20の外周研削砥石の先端が積層体の内部へ進行した場合においても、クーラントを外周研削砥石の先端に積極的に引き込むことが可能となり、研削によって生じるスラッジの排出及び研削部位の冷却をクーラントによって良好に維持し、加工後の積層体を構成する板状ガラスの外周研削面の真円度の悪化を防止することが可能となる。   Note that the target position for applying the coolant (the position where the center of the coolant flow with a predetermined diameter hits; hereinafter referred to as the “target position of the coolant”) according to the rotational speed of the core drill and the coolant flow velocity is referred to as 1) the contact point. It may be a little more on the front side (that is, the center side of the laminated body), or 2) slightly above the contact point while maintaining the contact between the integrated core drill 20 and the coolant flow. In this way, even when the tip of the outer peripheral grinding wheel of the integrated core drill 20 advances into the laminated body as the grinding progresses, the coolant can be actively drawn into the tip of the outer peripheral grinding wheel. The discharge of the generated sludge and the cooling of the grinding part can be maintained satisfactorily by the coolant, and the roundness of the outer peripheral grinding surface of the sheet glass constituting the laminated body after processing can be prevented.

上記クーラントの目標位置に関し、さらに図5を参照して説明する。図5は、平面視で見たクーラントの供給についての目標位置を説明する図である。図5は、クーラントを供給するノズルの位置と、コアドリルの外周研削面32(コアドリルの外周面;平面視では円)とを示してある。図5において、ノズルからコアドリルの外周研削面32上の点(クーラントの目標位置)を結ぶ線と、その点におけるコアドリルの外周研削面32の円の接線とがなす角度をα度とする。換言すると、平面視で見て、ノズルからコアドリルの外周研削面上の点(クーラントの目標位置)へ向かうベクトルと、その点におけるコアドリルの速度ベクトルとのなす角度がα度である。例えば、ノズルからコアドリルの外周研削面32に接する方向にクーラントが供給される場合はα=0(図5のd1)であり、ノズルから外周研削面32の中心に向かってクーラントが供給される場合はα=90(図5のd0)である。このとき、平面視で見たノズルからのクーラントの供給方向は、αが0〜15度の範囲内となる方向に向けられていることが好ましい。つまり、クーラントの供給方向は、α=0(コアドリルの外周研削面32と接する方向)でなくてもよい。ノズルからのクーラント流には所定の径があるため、α=0の場合より若干積層体の中心側(α=0〜15)であっても、クーラントは十分に外周研削面32に引き込まれやすくなる。なお、図5は平面視で見た場合であるが、ノズルからのクーラントの供給方向は、図5に示す水平面上の一体型コアドリル20の回転方向に向かうベクトル(α=0〜15)と積層体の積層方向下向きのベクトルとを合わせたベクトルの方向である。つまり、ノズルからコアドリルの外周研削面上の点(クーラントの目標位置)へ向かうベクトルは、積層体の積層方向下向きの成分を有する。
また、上記説明では、ノズル16からのクーラントの供給方向の範囲を、一体型コアドリル20の外周研削面32を基準としたが、一体型コアドリル20の外周研削砥石20aの厚さは積層体の径と比して小さいため、積層体の外周研削面を基準として考えてもよい。つまり、クーラントの目標位置を積層体の外周研削面上の点と考えてもよい。
The target position of the coolant will be further described with reference to FIG. FIG. 5 is a diagram illustrating a target position for coolant supply as viewed in a plan view. FIG. 5 shows the position of the nozzle for supplying the coolant and the outer peripheral grinding surface 32 of the core drill (the outer peripheral surface of the core drill; a circle in plan view). In FIG. 5, an angle formed by a line connecting a point on the outer peripheral grinding surface 32 of the core drill (target position of the coolant) from the nozzle and a tangent to the circle of the outer peripheral grinding surface 32 of the core drill at that point is α degrees. In other words, when viewed in a plan view, the angle formed by the vector from the nozzle toward the point on the outer peripheral grinding surface of the core drill (target position of the coolant) and the velocity vector of the core drill at that point is α degrees. For example, when the coolant is supplied from the nozzle in a direction in contact with the outer peripheral grinding surface 32 of the core drill, α = 0 (d1 in FIG. 5), and when the coolant is supplied from the nozzle toward the center of the outer peripheral grinding surface 32. Is α = 90 (d0 in FIG. 5). At this time, it is preferable that the coolant supply direction from the nozzle viewed in a plan view is directed to a direction in which α is in the range of 0 to 15 degrees. That is, the coolant supply direction may not be α = 0 (the direction in contact with the outer peripheral grinding surface 32 of the core drill). Since the coolant flow from the nozzle has a predetermined diameter, the coolant can be sufficiently drawn into the outer peripheral grinding surface 32 even if it is slightly closer to the center side of the laminate (α = 0 to 15) than when α = 0. Become. Note that FIG. 5 is a plan view, but the coolant supply direction from the nozzle is laminated with a vector (α = 0 to 15) directed in the rotation direction of the integrated core drill 20 on the horizontal plane shown in FIG. This is the direction of a vector that is combined with the downward vector of the body stacking direction. That is, the vector from the nozzle to the point on the outer peripheral grinding surface of the core drill (the target position of the coolant) has a downward component in the stacking direction of the stacked body.
In the above description, the range of the coolant supply direction from the nozzle 16 is based on the outer peripheral grinding surface 32 of the integrated core drill 20, but the thickness of the outer peripheral grinding wheel 20a of the integrated core drill 20 is the diameter of the laminate. Therefore, the outer peripheral grinding surface of the laminate may be considered as a reference. That is, the coolant target position may be considered as a point on the outer peripheral grinding surface of the laminate.

クーラントの流速については、その速度を、積層体の積層方向に直行する平面内における横向きの速度と、積層体の積層方向下向きとの速度、とに分解したときに、前記横向きの速度を、クーラントの目標位置における一体型コアドリル20の外周研削砥石の線速度と概ね同じとすることが好ましい。こうすることで、クーラントの流速と外周研削砥石の線速度が概ね一致するため、クーラントがコアドリルの回転によって反射されにくくなる(弾かれにくくなる)結果、外周研削砥石と積層体の間を通してクーラントが下方へ移動しやすくなる(引き込まれやすくなる)。なお、クーラントの速度は、コアドリルの回転によってクーラントが反射されない(弾かれない)程度に適宜調節してもよい。すなわち、外周研削砥石の先端が積層体の積層方向下方に進行した場合であっても、クーラントが研削部位(つまり、外周研削砥石の先端)へ到達しやすくなる。その結果、積層体に対する研削が進行しても、研削によって生じるスラッジの排出及び研削部位の冷却をクーラントによって良好に維持することができる。それによって、加工後の積層体を構成する板状ガラスの外周研削面の真円度の悪化を防止することが可能となる。
なお、ノズル径については、2mm〜8mm程度とすることが好ましい。また、噴出後のクーラント流の径が広がらないようなノズル形状とすることが好ましい。
Regarding the flow rate of the coolant, when the speed is decomposed into a lateral speed in a plane perpendicular to the stacking direction of the laminate and a downward speed in the stacking direction of the stack, the lateral speed is reduced to the coolant. The linear velocity of the outer peripheral grinding wheel of the integrated core drill 20 at the target position is preferably substantially the same. By doing so, the coolant flow rate and the linear velocity of the outer peripheral grinding wheel are almost the same, so that the coolant is less likely to be reflected (hard to be repelled) by the rotation of the core drill. As a result, the coolant passes between the outer peripheral grinding wheel and the laminate. It becomes easy to move downward (it becomes easy to be pulled in). The coolant speed may be adjusted as appropriate so that the coolant is not reflected (does not repel) by the rotation of the core drill. That is, even when the front end of the outer peripheral grinding wheel advances downward in the stacking direction of the laminate, the coolant easily reaches the grinding site (that is, the front end of the outer peripheral grinding wheel). As a result, even when the grinding of the laminated body proceeds, the discharge of sludge caused by grinding and the cooling of the grinding part can be favorably maintained by the coolant. Thereby, it becomes possible to prevent the roundness of the outer peripheral ground surface of the sheet glass constituting the processed laminated body from deteriorating.
The nozzle diameter is preferably about 2 mm to 8 mm. Moreover, it is preferable to make it a nozzle shape so that the diameter of the coolant flow after jetting does not widen.

以上説明したように本コアリング工程では、ノズル16から供給されたクーラントが高速で回転する一体型コアドリル20により反射されにくくなり、クーラントが外周研削面32に引き込まれやすくなる。そのため、外周研削面の周上において均一にスラッジが除去(排出)され、積層体の外周研削面における研削度合いがより均一となり、積層体を構成する個々の板状ガラスの外周研削面の真円度が向上する。また、加工の進行によって外周研削砥石の先端が積層体の内部に入った状態においても、研削によって生じるスラッジの排出及び研削部位の冷却をクーラントによって良好に維持することが可能となり、加工後の積層体を構成する個々の板状ガラスの外周研削面の真円度の悪化を防止することが可能となる。   As described above, in the coring step, the coolant supplied from the nozzle 16 is less likely to be reflected by the integrated core drill 20 that rotates at high speed, and the coolant is easily drawn into the outer peripheral grinding surface 32. Therefore, sludge is uniformly removed (discharged) on the circumference of the outer peripheral grinding surface, the degree of grinding on the outer peripheral grinding surface of the laminate becomes more uniform, and the roundness of the outer peripheral grinding surfaces of the individual glass sheets constituting the laminate is increased. The degree is improved. In addition, even when the tip of the outer peripheral grinding wheel enters the inside of the laminate as processing progresses, it is possible to maintain the discharge of sludge generated by grinding and the cooling of the grinding part well with the coolant, so that lamination after processing is possible. It becomes possible to prevent the roundness of the outer peripheral grinding surface of each sheet glass constituting the body from deteriorating.

(4)チャンファリング工程
コアリング工程の後、端部(外周端面及び内周端面)に面取り面を形成するチャンファリング工程が行われる。チャンファリング工程では、コアリング工程によって円筒状に加工された積層体の外周面および内周面に対して、例えば、ダイヤモンド砥粒を用いたメタルボンド砥石や電着砥石等によって面取りが施される。
(4) Chamfering step After the coring step, a chamfering step of forming a chamfered surface at the ends (outer peripheral end surface and inner peripheral end surface) is performed. In the chamfering process, the outer peripheral surface and the inner peripheral surface of the laminated body processed into a cylindrical shape by the coring process are chamfered by, for example, a metal bond grindstone or an electrodeposition grindstone using diamond abrasive grains. .

(5)端面研磨工程(機械加工工程)
次に、円環状板状ガラスの端面研磨(エッジポリッシング)が行われる。
端面研磨では、円環状板状ガラスの内周端面及び外周端面をブラシ研磨により鏡面仕上げを行う。このとき、酸化セリウム等の微粒子を遊離砥粒として含むスラリーが用いられる。端面研磨を行うことにより、円環状板状ガラスの端面での塵等が付着した汚染、ダメージあるいはキズ等の損傷の除去を行うことにより、サーマルアスペリティの発生の防止や、ナトリウムやカリウム等のコロージョンの原因となるイオン析出の発生を防止することができる。
(5) End face polishing process (machining process)
Next, end face polishing (edge polishing) of the annular plate glass is performed.
In the end face polishing, the inner peripheral end face and the outer peripheral end face of the annular plate glass are mirror-finished by brush polishing. At this time, a slurry containing fine particles such as cerium oxide as free abrasive grains is used. By polishing the end face, removal of contamination such as dust, damage or scratches attached to the end face of the annular plate glass prevents the occurrence of thermal asperity and corrosion such as sodium and potassium. It is possible to prevent the occurrence of ion precipitation causing the above.

(6)積層体分離工程
コアリング工程、チャンファリング工程及びエッジポリッシング工程により積層体5が加工され、その後、積層体5を1枚ごとの円環状板状ガラスに分離するための積層体分離工程が行われる。例えば、接着剤5bの種類によっては、積層体を温水(摂氏80〜90度)に浸漬させることで接着剤5bが軟化し、積層体5を1枚ごとの円環状板状ガラスに分離することができる。
(6) Laminate Separation Process The laminate 5 is processed by the coring process, the chamfering process, and the edge polishing process, and then the laminate 5 is separated into each annular plate-like glass. Is done. For example, depending on the type of the adhesive 5b, the adhesive 5b is softened by immersing the laminate in warm water (80 to 90 degrees Celsius), and the laminate 5 is separated into each annular plate-like glass. Can do.

(7)固定砥粒による研削工程
固定砥粒による研削工程では、両面研削装置を用いて円環状板状ガラスの主表面に対して研削加工を行う。研削による取り代は、例えば数μm〜100μm程度である。両面研削装置は、上下一対の定盤(上定盤および下定盤)を有しており、上定盤および下定盤の間に円環状板状ガラスが狭持される。そして、上定盤または下定盤のいずれか一方、または、双方を移動操作することにより、円環状板状ガラスと各定盤とを相対的に移動させることで、この円環状板状ガラスの両主表面を研削することができる。
(7) Grinding process with fixed abrasive In the grinding process with fixed abrasive, grinding is performed on the main surface of the annular plate-shaped glass using a double-sided grinding device. The machining allowance by grinding is, for example, about several μm to 100 μm. The double-sided grinding apparatus has a pair of upper and lower surface plates (upper surface plate and lower surface plate), and an annular plate glass is sandwiched between the upper surface plate and the lower surface plate. Then, by moving either the upper surface plate or the lower surface plate, or both, by moving the annular plate glass and each surface plate relatively, both of the annular plate glasses can be moved. The main surface can be ground.

(8)第1研磨(主表面研磨)工程
次に、研削された円環状板状ガラスの主表面に第1研磨が施される。第1研磨による取り代は、例えば数μm〜50μm程度である。第1研磨は、固定砥粒による研削により主表面に残留したキズ、歪みの除去を目的とする。第1研磨では例えば、固定砥粒による研削工程で用いた両面研削装置を用いる。このとき、固定砥粒による研削と異なる点は、研削パッドの代わりにスラリーに混濁した遊離砥粒を用いることと、樹脂ポリッシャを用いることである。
第1研磨に用いる遊離砥粒として、例えば、スラリーに混濁させた酸化セリウム等の微粒子(粒子サイズ:直径1〜2μm程度)が用いられる。
(8) First Polishing (Main Surface Polishing) Step Next, first polishing is performed on the main surface of the ground annular plate glass. The machining allowance by the first polishing is, for example, about several μm to 50 μm. The purpose of the first polishing is to remove scratches and distortions remaining on the main surface by grinding with fixed abrasive grains. In the first polishing, for example, a double-side grinding apparatus used in a grinding process using fixed abrasive grains is used. At this time, the point different from the grinding by the fixed abrasive is that a free abrasive that is turbid in the slurry is used instead of the grinding pad and a resin polisher is used.
As the free abrasive grains used for the first polishing, for example, fine particles (particle size: about 1 to 2 μm in diameter) such as cerium oxide suspended in the slurry are used.

(9)化学強化工程
次に、第1研磨後の円環状板状ガラスは化学強化される。
化学強化液として、例えば硝酸カリウム(60重量%)と硫酸ナトリウム(40重量%)の混合液等を用いることができる。化学強化では、化学強化液が、例えば300℃〜400℃に加熱され、洗浄した円環状板状ガラスが、例えば200℃〜300℃に予熱された後、円環状板状ガラスが化学強化液中に、例えば3時間〜4時間浸漬される。この浸漬の際には、円環状板状ガラスの両主表面全体が化学強化されるように、複数の円環状板状ガラスが端面で保持されるように、ホルダに収納した状態で行うことが好ましい。
このように、円環状板状ガラスを化学強化液に浸漬することによって、円環状板状ガラスの表層のリチウムイオン及びナトリウムイオンが、化学強化液中のイオン半径が相対的に大きいナトリウムイオン及びカリウムイオンにそれぞれ置換され、円環状板状ガラスが強化される。なお、化学強化処理された円環状板状ガラスは洗浄される。例えば、硫酸で洗浄された後に、純水、IPA(イソプロピルアルコール)等で洗浄される。
(9) Chemical Strengthening Step Next, the annular plate glass after the first polishing is chemically strengthened.
As the chemical strengthening solution, for example, a mixed solution of potassium nitrate (60% by weight) and sodium sulfate (40% by weight) can be used. In the chemical strengthening, the chemical strengthening liquid is heated to, for example, 300 ° C. to 400 ° C., and the washed annular plate glass is preheated to, for example, 200 ° C. to 300 ° C., and then the annular plate glass is in the chemical strengthening solution. For example, 3 hours to 4 hours. In the case of this immersion, it can be performed in a state of being housed in a holder so that a plurality of annular plate glasses are held at the end faces so that both main surfaces of the annular plate glasses are chemically strengthened. preferable.
Thus, by immersing the annular plate glass in a chemical strengthening solution, lithium ions and sodium ions on the surface layer of the annular plate glass are sodium ions and potassium having a relatively large ion radius in the chemical strengthening solution. Each is replaced by an ion to strengthen the annular plate-like glass. The chemically strengthened annular plate glass is washed. For example, after washing with sulfuric acid, washing with pure water, IPA (isopropyl alcohol), or the like.

(10)第2研磨(最終研磨)工程
次に、化学強化されて十分に洗浄された円環状板状ガラスに第2研磨が施される。第2研磨による取り代は、例えば1μm程度である。第2研磨は、主表面の鏡面研磨を目的とする。第2研磨では例えば、固定砥粒による研削および第1研磨で用いた両面研削装置を用いる。このとき、第1研磨と異なる点は、遊離砥粒の種類及び粒子サイズが異なることと、樹脂ポリッシャの硬度が異なることである。
第2研磨に用いる遊離砥粒として、例えば、スラリーに混濁させたコロイダルシリカ等の微粒子(粒子サイズ:例えば、直径0.01〜0.1μm)が用いられる。
研磨された円環状板状ガラスを中性洗剤、純水、IPA等を用いて洗浄することで、磁気ディスク用ガラス基板が得られる。
(10) Second Polishing (Final Polishing) Step Next, the annular polishing plate glass that has been chemically strengthened and sufficiently cleaned is subjected to second polishing. The machining allowance by the second polishing is, for example, about 1 μm. The second polishing is intended for mirror polishing of the main surface. In the second polishing, for example, the double-side grinding apparatus used in the grinding with the fixed abrasive and the first polishing is used. At this time, the difference from the first polishing is that the type and particle size of the free abrasive grains are different and the hardness of the resin polisher is different.
As the free abrasive grains used for the second polishing, for example, fine particles (particle size: for example, 0.01 to 0.1 μm in diameter) such as colloidal silica made turbid in the slurry are used.
The polished annular plate glass is washed with a neutral detergent, pure water, IPA or the like to obtain a glass substrate for a magnetic disk.

[磁気ディスク]
磁気ディスクは、磁気ディスク用ガラス基板(以下、ガラス基板)を用いて以下のようにして得られる。
磁気ディスクは、例えばガラス基板の主表面上に、主表面に近いほうから順に、少なくとも付着層、下地層、磁性層(磁気記録層)、保護層、潤滑層が積層された構成になっている。
例えば基板を真空引きを行った成膜装置内に導入し、DCマグネトロンスパッタリング法にてAr雰囲気中で、基板主表面上に付着層から磁性層まで順次成膜する。付着層としては例えばCrTi、下地層としては例えばCrRuを用いることができる。上記成膜後、例えばCVD法によりCを用いて保護層を成膜し、同一チャンバ内で、表面に窒素を導入する窒化処理を行うことにより、磁気記録媒体を形成することができる。その後、例えばPFPE(ポリフルオロポリエーテル)をディップコート法により保護層上に塗布することにより、潤滑層を形成することができる。
[Magnetic disk]
A magnetic disk is obtained as follows using a glass substrate for magnetic disk (hereinafter, glass substrate).
A magnetic disk has a configuration in which, for example, at least an adhesion layer, an underlayer, a magnetic layer (magnetic recording layer), a protective layer, and a lubricating layer are laminated on the main surface of a glass substrate in order from the side closer to the main surface. .
For example, the substrate is introduced into a film forming apparatus that has been evacuated, and a film is sequentially formed from an adhesion layer to a magnetic layer on the main surface of the substrate in an Ar atmosphere by a DC magnetron sputtering method. For example, CrTi can be used as the adhesion layer, and CrRu can be used as the underlayer. After the film formation, a magnetic recording medium can be formed by forming a protective layer using, for example, C 2 H 4 by CVD and performing nitriding treatment in which nitrogen is introduced into the surface in the same chamber. . Thereafter, for example, PFPE (polyfluoropolyether) is applied on the protective layer by a dip coating method, whereby a lubricating layer can be formed.

(変形例)
次に、上述した磁気ディスク用ガラス基板の製造方法の変形例について説明する。本変形例の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法は、コアリング工程が上述した実施形態と異なる。コアリング工程以外の工程は上述した実施形態と同様である。以下、図6を参照して、本変形例のコアリング工程について説明する。
(Modification)
Next, a modified example of the above-described method for manufacturing a magnetic disk glass substrate will be described. The manufacturing method of the magnetic disk glass substrate of this modification is different from the embodiment described above in the coring process. Steps other than the coring step are the same as in the above-described embodiment. Hereinafter, the coring process of this modification will be described with reference to FIG.

図6は、本変形例のコアリング工程において、積層体5を研削加工するときの研削装置を示す図である。図6に示されるように、研削装置は、主装置10と、シャフト12と、回転部14と、クーラント供給ホース15と、一体型コアドリル20と、を備える。シャフト12、クーラント供給ホース15、一体型コアドリル20は上述した実施形態と同様である。
本変形例の研削装置は、主装置10の外周部に回転部14が設けられている。また、回転部14には、クーラント供給ホース15が設けられている。主装置10は、一体型コアドリル20と独立して、回転部14を外周研削砥石の回転軸と同軸回りに回転駆動することができる。回転部14は、一体型コアドリル20の回転方向と同じ方向に回転することが好ましい。
外周研削面に対するクーラントの供給方向は、上述した実施形態と同様である。
FIG. 6 is a diagram showing a grinding device for grinding the laminated body 5 in the coring process of this modification. As shown in FIG. 6, the grinding apparatus includes a main device 10, a shaft 12, a rotating unit 14, a coolant supply hose 15, and an integrated core drill 20. The shaft 12, the coolant supply hose 15, and the integrated core drill 20 are the same as those in the above-described embodiment.
In the grinding device of this modification, a rotating portion 14 is provided on the outer peripheral portion of the main device 10. The rotating unit 14 is provided with a coolant supply hose 15. The main apparatus 10 can drive the rotary unit 14 to rotate about the same axis as the rotation axis of the outer peripheral grinding wheel independently of the integrated core drill 20. The rotating unit 14 preferably rotates in the same direction as the direction of rotation of the integrated core drill 20.
The coolant supply direction with respect to the outer peripheral grinding surface is the same as in the above-described embodiment.

本変形例のコアリング工程では、図6に示される研削装置を用いて以下のとおり積層体5に対する研削加工が行われる。
先ず図6に示されるように、載置台30に載置された積層体5の上方に、一体型コアドリル20を配置する。次に、主装置10を下降させつつ、シャフト12を回転させる。シャフト12の回転速度は、例えば1500〜15000rpm程度である。これにより、一体型コアドリル20を、シャフト12の中心軸回りに回転させつつ、積層体5の積層方向に(つまり、下方に)移動させる。
また、主装置10は回転部14を回転させる。回転部14の回転速度は、例えば、10〜100rpm程度である。これにより、回転部14に設けられているクーラント供給ホース15が外周研削砥石の回転軸と同軸回りに回転する。
In the coring process of the present modification, grinding is performed on the laminate 5 as follows using the grinding apparatus shown in FIG.
First, as shown in FIG. 6, the integrated core drill 20 is arranged above the stacked body 5 placed on the placing table 30. Next, the shaft 12 is rotated while the main device 10 is lowered. The rotational speed of the shaft 12 is, for example, about 1500 to 15000 rpm. Accordingly, the integrated core drill 20 is moved in the stacking direction of the stacked body 5 (that is, downward) while rotating around the central axis of the shaft 12.
The main device 10 rotates the rotating unit 14. The rotation speed of the rotation unit 14 is, for example, about 10 to 100 rpm. Thereby, the coolant supply hose 15 provided in the rotation part 14 rotates coaxially with the rotating shaft of the outer peripheral grinding wheel.

一体型コアドリル20の下降は、一体型コアドリル20が載置台30の外周研削砥石逃がし用溝30aおよび内周研削砥石逃がし用溝30bに当接するまで行われる。一体型コアドリル20による積層体5の研削加工中には、クーラント供給ホース15のノズル16、およびクーラント供給管17のノズル17aからクーラントを供給する。   The lowering of the integrated core drill 20 is performed until the integrated core drill 20 comes into contact with the outer peripheral grinding wheel escape groove 30a and the inner peripheral grinding wheel escape groove 30b of the mounting table 30. During grinding of the laminate 5 by the integrated core drill 20, coolant is supplied from the nozzle 16 of the coolant supply hose 15 and the nozzle 17 a of the coolant supply pipe 17.

本変形例のコアリング工程では、外周研削砥石に向けて配置されたノズルを外周研削砥石の回転軸と同軸回りに回転させつつ、ノズルから一体型コアドリル20の外周研削面にクーラントが供給される。これにより、外周研削面の周上おいてより均一にスラッジが除去され、外周研削面における研削度合いがより均一となり、外周研削面の真円度が向上する。   In the coring process of this modification, the coolant is supplied from the nozzle to the outer peripheral grinding surface of the integrated core drill 20 while rotating the nozzle disposed toward the outer peripheral grinding wheel about the rotation axis of the outer peripheral grinding wheel. . Thereby, sludge is removed more uniformly on the periphery of the outer peripheral grinding surface, the degree of grinding on the outer peripheral grinding surface becomes more uniform, and the roundness of the outer peripheral grinding surface is improved.

以下に、本発明を実施例によりさらに説明する。但し、本発明は実施例に示す態様に限定されるものではない。   In the following, the present invention is further illustrated by examples. However, this invention is not limited to the aspect shown in the Example.

(1)溶融ガラスの作製
以下の組成のガラスが得られるように原料を秤量し、混合して調合原料とした。この原料を熔融容器に投入して加熱、熔融し、清澄、攪拌して泡、未熔解物を含まない均質な熔融ガラスを作製した。得られたガラス中には泡や未熔解物、結晶の析出、熔融容器を構成する耐火物や白金の混入物は認められなかった。
[ガラスの組成]
SiO:58〜75重量%、Al:5〜23重量%、LiO:3〜10重量%、NaO:4〜13重量%を主成分として含むガラス
(1) Production of molten glass The raw materials were weighed and mixed to obtain a compounded raw material so that a glass having the following composition was obtained. This raw material was put into a melting vessel, heated and melted, clarified and stirred to produce a homogeneous molten glass free from bubbles and unmelted materials. In the obtained glass, bubbles, undissolved material, crystal precipitation, refractory constituting the melting vessel and platinum contamination were not recognized.
[Glass composition]
Glass containing SiO 2 : 58 to 75 wt%, Al 2 O 3 : 5 to 23 wt%, Li 2 O: 3 to 10 wt%, Na 2 O: 4 to 13 wt% as main components.

(2)積層体の作製
錫を含む溶融金属の満たされた浴槽内に、上述した組成の溶融ガラスを連続的に流し入れるフロート法により厚さ1.0mmの板状ガラスを得た。この板状ガラスの表面粗さRaは厚さ0.01μmであった。この板状ガラスを切り出し、切り出した板状ガラスを、その表面に接着剤としての可視光線硬化樹脂材を均一に塗布した上で積層して積層体を作製した。さらに積層体を両面から圧縮させながら可視光線を照射させて樹脂材を硬化させ、積層された板状ガラスが分離しないようにした。
[実施例の積層体]
・板状ガラスの大きさ:75mm×75mm
・積層枚数:25枚
・接着剤:可視光線硬化樹脂材(株式会社アーデル、クリアプレスト(登録商標)CP4022)
・接着層の厚さ:30μm
(2) Production of Laminate A plate-like glass having a thickness of 1.0 mm was obtained by a float method in which molten glass having the above-described composition was continuously poured into a bath filled with molten metal containing tin. The surface roughness Ra of the plate glass was 0.01 μm. The plate-like glass was cut out, and the cut-out plate-like glass was laminated on the surface after uniformly applying a visible light curable resin material as an adhesive to produce a laminate. Further, the resin material was cured by irradiating visible light while compressing the laminated body from both sides, so that the laminated glass sheets were not separated.
[Laminated body of Example]
-Size of plate glass: 75mm x 75mm
-Number of layers: 25-Adhesive: Visible light curable resin (Adel, Clearpresto (registered trademark) CP4022)
-Adhesive layer thickness: 30 μm

(3)積層体の加工
図2に示した配置のとおり積層体を載置台上に固定し、コアリングの研削加工を行った。このときの一体型コアドリルの回転速度を5000rpmとし、上下方向に超音波振動(20kHz,振幅5〜7μm)させながら研削加工を行い、2.5インチの円環状板状ガラス(内孔の径φ20mm、外径φ65mm)を作製した。ここで、一体型コアドリルの内周研削砥石及び外周研削砥石の径は、コアリングの研削加工及びその後のチャンファリング加工後に、円環状板状ガラスの内孔の径がφ20mm、外径がφ65mmとなるように設定した。なお、各研削砥石(研削ドリル)の厚みは、ともに2mmとした。
(3) Processing of laminated body The laminated body was fixed on the mounting table as in the arrangement shown in Fig. 2, and the coring was ground. At this time, the rotation speed of the integrated core drill was set to 5000 rpm, and grinding was performed while ultrasonic vibration (20 kHz, amplitude 5 to 7 μm) in the vertical direction, and 2.5 inch circular plate-like glass (inner hole diameter φ20 mm) , Outer diameter φ65 mm). Here, the diameter of the inner peripheral grinding wheel and the outer peripheral grinding wheel of the integrated core drill is such that the diameter of the inner hole of the annular plate glass is φ20 mm and the outer diameter is φ65 mm after the grinding of the core ring and the subsequent chamfering process. Was set to be. The thickness of each grinding wheel (grinding drill) was 2 mm.

研削加工中において、内周研削面には、ノズル17aから毎分17リットルの量のクーラントを供給した。クーラントとしては、ケミクール(登録商標)C−798S(ケミック社製)を用いた。また、外周研削面へのクーラントの供給は、図4に示されるように、一体型コアドリルの回転軸を中心として対象に配置された2本のノズル16a、16bによってなされる。外周研削面には、積層体の積層方向に直交する面内において、ノズルから外周研削面へ向かう接線方向のベクトルであって、一体型コアドリルの回転方向に向かうベクトルの方向に、ノズル16a、16bから毎分20リットルの量のクーラントを供給した。より具体的には、ノズルからコアドリルの外周研削面へ向かう接線方向かつ一体型コアドリルの回転方向に向かうベクトルと、積層体の積層方向下向きのベクトルとを合成したベクトルの方向であって、コアドリルの外周研削砥石の外側面と積層体の最上面との接点の位置に、積層体の積層方向に直交する平面内における速度(横向き成分)が18m/secとなるような流速にてクーラントを供給し、研削加工が進行してもクーラントが十分引き込まれるようにした。
ここで、コアドリルの外周研削砥石の線速度は、69(mm)×π×5000(rpm)÷60(sec/min)≒18(m/sec)と計算される。なお、69(mm)としたのは、コアドリルの厚み分を考慮したものである。つまり、クーラントの流速と外周研削砥石の線速度を概ね同一とした。
外周研削砥石および内周研削砥石は、ダイヤモンド砥粒を用いたメタルボンド砥石(結合材:鋳鉄)とした。内周研削砥石の番手は600とし、外周研削砥石の番手は300とした。
During the grinding process, an amount of 17 liters of coolant per minute was supplied from the nozzle 17a to the inner peripheral ground surface. As the coolant, Chemicool (registered trademark) C-798S (manufactured by Chemic Co., Ltd.) was used. Further, as shown in FIG. 4, the coolant is supplied to the outer peripheral grinding surface by two nozzles 16a and 16b arranged on the object around the rotation axis of the integrated core drill. In the outer peripheral grinding surface, nozzles 16a and 16b are arranged in a tangential direction vector from the nozzle toward the outer peripheral grinding surface in a plane orthogonal to the stacking direction of the laminate, and in the vector direction toward the rotation direction of the integrated core drill. The coolant was supplied in an amount of 20 liters per minute. More specifically, it is a vector direction obtained by synthesizing a vector tangential from the nozzle toward the outer peripheral grinding surface of the core drill and a rotation direction of the integrated core drill and a downward vector in the stacking direction of the laminate. Coolant is supplied to the position of the contact point between the outer surface of the outer peripheral grinding wheel and the uppermost surface of the laminate at a flow rate such that the speed (lateral component) in the plane perpendicular to the lamination direction of the laminate is 18 m / sec. Even if the grinding process progressed, the coolant was drawn sufficiently.
Here, the linear velocity of the outer peripheral grinding wheel of the core drill is calculated as 69 (mm) × π × 5000 (rpm) ÷ 60 (sec / min) ≈18 (m / sec). Note that 69 (mm) is taken into account the thickness of the core drill. That is, the coolant flow rate and the outer peripheral grinding wheel linear velocity were made substantially the same.
The outer peripheral grinding wheel and the inner peripheral grinding wheel were metal bond wheels (bonding material: cast iron) using diamond abrasive grains. The count of the inner grinding wheel was 600, and the count of the outer grinding wheel was 300.

コアリングの研削加工の後、円筒状に加工された積層体の外周面および内周面に対して、ダイヤモンド砥粒を用いた電着砥石を用いたチャンファリング加工によって面取りを施した。このときの砥石の番手は800とした。   After the coring grinding, the outer peripheral surface and the inner peripheral surface of the laminate processed into a cylindrical shape were chamfered by chamfering using an electrodeposition grindstone using diamond abrasive grains. The count of the grindstone at this time was 800.

(4)積層体分離および端面研磨
次に、円筒状の積層体を温水(摂氏80〜90度)に浸漬させて複数の円環状板状ガラスに分離した。このとき、各円環状板状ガラスの表面に異常は見られなかった。その後、酸化セリウムの微粒子を遊離砥粒として含むスラリーが用いて、円環状板状ガラスの内周端面および外周端面をブラシ研磨により鏡面仕上げを行ってガラス基板を得た。
(4) Separation of laminated body and end face polishing Next, the cylindrical laminated body was immersed in warm water (80 to 90 degrees Celsius) and separated into a plurality of annular plate glasses. At this time, no abnormality was found on the surface of each annular plate glass. Thereafter, a slurry containing fine particles of cerium oxide as free abrasive grains was used, and the inner peripheral end face and outer peripheral end face of the annular plate glass were mirror-finished by brush polishing to obtain a glass substrate.

コアリングの研削加工の後、一部のサンプルについて、チャンファリング加工を行わずに複数の円環状板状ガラスに分離した。これにより得られた円環状板状ガラスを実施例1の円環状板状ガラスとする。
また、積層体の積層方向に直交する面内において、ノズルから外周研削面へ向かう接線方向の成分を持たず、ノズルから外周研削面の円の中心に向かってクーラントを供給しながらコアリングの研削加工を行い、チャンファリング加工を行わずに複数の円環状板状ガラスに分離した。これにより得られた円環状板状ガラスを比較例1の円環状板状ガラスとする。
さらに、クーラントを供給する位置は積層体の最上面とコアドリルの外周研削砥石の外側面との接点としたまま、クーラントが供給される目標位置を実施例1と比較例1の間になるように変化させたサンプルを作成した。このサンプルによって得られた円環状板状ガラスを参考例1〜3とする。具体的には、参考例1〜3では、積層体の積層方向に直交する面内において、ノズルからクーラントの目標位置へ向かう方向と、その目標位置におけるコアドリルの外周研削面によって形成される円の接線とのなす角α(図5参照)が、それぞれ15、30、60度となるような位置とした。図5において、実施例1でのクーラントの供給方向はd1であり、比較例1でのクーラントの供給方向はd0である。
なお、上記の実施例、比較例及び参考例においてはいずれも、クーラントが供給される目標位置は、積層体の最上面とコアドリルの外周研削砥石の外側面との接点とし、クーラントの流速は、積層体の積層方向に直交する平面内における速度(横向き成分)が18m/secで一定となるようにした。
After the coring grinding, some samples were separated into a plurality of annular plate glasses without chamfering. The annular plate glass thus obtained is referred to as the annular plate glass of Example 1.
Also, in the plane perpendicular to the stacking direction of the laminate, there is no tangential component from the nozzle to the outer peripheral grinding surface, and the coring is ground while supplying the coolant from the nozzle toward the circle center of the outer peripheral grinding surface. It processed and isolate | separated into the some annular | circular shaped plate glass, without performing a chamfering process. The annular plate glass thus obtained is referred to as the annular plate glass of Comparative Example 1.
Further, the coolant is supplied at a position between the uppermost surface of the laminate and the outer surface of the outer peripheral grinding wheel of the core drill so that the target position at which the coolant is supplied is between Example 1 and Comparative Example 1. Modified samples were made. Let the annular plate-like glass obtained by this sample be Reference Examples 1-3. Specifically, in Reference Examples 1 to 3, a circle formed by the direction from the nozzle toward the target position of the coolant and the outer peripheral grinding surface of the core drill at the target position in a plane orthogonal to the stacking direction of the stacked body. The angle α (see FIG. 5) formed with the tangent line was set at 15, 30, and 60 degrees, respectively. In FIG. 5, the coolant supply direction in Example 1 is d1, and the coolant supply direction in Comparative Example 1 is d0.
In any of the above examples, comparative examples, and reference examples, the target position where the coolant is supplied is a contact point between the uppermost surface of the laminate and the outer surface of the outer peripheral grinding wheel of the core drill, and the flow rate of the coolant is The speed (lateral component) in a plane perpendicular to the stacking direction of the stacked body was made constant at 18 m / sec.

(5)真円度及びクラックの評価
それぞれ25枚の実施例、比較例、参考例の円環状板状ガラスについて、チャンファリング加工前に、外周の真円度及び外周円と内周円の同心度を測定し、最も大きな値を各例の真円度及び同心度とした。実施例1と比較例1の円環状板状ガラスの外周の真円度を測定すると、実施例1の外周の真円度は2.0μmであり、比較例1の外周の真円度は6.0μmであった。これより、実施例1のように、積層体の積層方向に直交する面内において、ノズルからコアドリルの外周研削面へ向かう接線方向のベクトルであって、一体型コアドリルの回転方向に向かうベクトルの方向に、ノズルからクーラントを外周研削面に供給することにより、コアリングの研削加工終了時における外周の真円度が向上することが分かる。なお、実施例1の同心度は1.5μmと良好な値が得られた。
また、参考例1〜3の外周の真円度は、それぞれ2.0μm、3.3μm、5.2μmであった。参考例1において実施例1と同等の真円度が得られたのは、クーラントのジェットがある程度の大きさの径を持つため、ノズルからコアドリルの外周研削面に向かう接線方向に対して積層体の中心側へクーラント流の方向が多少ずれたとしても外周研削面へ引き込まれるクーラントの量が同等であるためと推測される。
(5) Evaluation of roundness and crack For each of the 25 annular plates in the examples, comparative examples and reference examples, the roundness of the outer circumference and the concentricity of the outer and inner circles before chamfering. The degree was measured, and the largest values were taken as the roundness and concentricity in each case. When the roundness of the outer periphery of the annular plate glass of Example 1 and Comparative Example 1 was measured, the roundness of the outer periphery of Example 1 was 2.0 μm, and the roundness of the outer periphery of Comparative Example 1 was 6 μm. 0.0 μm. Thus, as in Example 1, in the plane orthogonal to the stacking direction of the stacked body, the vector of the tangential direction from the nozzle toward the outer peripheral grinding surface of the core drill and the vector direction toward the rotation direction of the integrated core drill In addition, it can be seen that the roundness of the outer periphery at the end of grinding of the core ring is improved by supplying the coolant from the nozzle to the outer peripheral grinding surface. The concentricity of Example 1 was as good as 1.5 μm.
Moreover, the roundness of the outer periphery of Reference Examples 1 to 3 was 2.0 μm, 3.3 μm, and 5.2 μm, respectively. In Reference Example 1, the roundness equivalent to that in Example 1 was obtained because the coolant jet had a certain size in diameter, so that the laminated body with respect to the tangential direction from the nozzle toward the outer peripheral grinding surface of the core drill. Even if the direction of the coolant flow slightly deviates toward the center side, it is assumed that the amount of coolant drawn into the outer peripheral grinding surface is the same.

(6)その他の実施例
また、上記(1)〜(5)の工程により得られたガラス基板(25枚)の内周の真円度を測定するとともに、ガラス基板の内周端面のクラックの有無についてレーザー顕微鏡により観測した。上記(1)〜(5)の工程により得られたガラス基板を実施例2のガラス基板とする。
実施例2のガラス基板(25枚)の内周の真円度は、最大のもので1.3μmであった。また、実施例2のガラス基板の内周及び外周の端面をレーザー顕微鏡により観測した結果、クラックは観測されなかった。このように、本実施例によれば、クラックを発生させることなく、内周、外周ともに目標の真円度(2μm)を達成させることができた。
(6) Other Examples In addition to measuring the roundness of the inner periphery of the glass substrate (25 sheets) obtained by the steps (1) to (5) above, the cracks on the inner peripheral end face of the glass substrate are measured. The presence or absence was observed with a laser microscope. Let the glass substrate obtained by the process of said (1)-(5) be the glass substrate of Example 2. FIG.
The roundness of the inner circumference of the glass substrate (25 sheets) of Example 2 was 1.3 μm at the maximum. Moreover, as a result of observing the inner peripheral and outer peripheral end faces of the glass substrate of Example 2 with a laser microscope, no cracks were observed. Thus, according to the present Example, the target roundness (2 μm) could be achieved on both the inner and outer circumferences without generating cracks.

さらに、コアリングの研削加工を、図6に示したように、2本のノズルを一体型コアドリルの回転方向と同じ方向に回転させながら積層体のサンプルを作成した。なお、ノズルの回転速度は10rpmとした。このサンプルによって得られた円環状板状ガラスを実施例3とする。実施例3の円環状板状ガラスについて外周の真円度の値(25枚の最大値)を測定したところ、1.5μmとなった。つまり、実施例3の円環状板状ガラスの真円度は、実施例1のそれよりもさらに改善した。   Furthermore, as shown in FIG. 6, the core ring was ground, and a sample of the laminate was prepared while rotating the two nozzles in the same direction as the rotation direction of the integrated core drill. The rotation speed of the nozzle was 10 rpm. An annular plate glass obtained by this sample is referred to as Example 3. When the roundness value (25 maximum values) of the outer periphery of the annular plate-like glass of Example 3 was measured, it was 1.5 μm. That is, the roundness of the annular plate glass of Example 3 was further improved than that of Example 1.

以上、本発明の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法について詳細に説明したが、本発明は上記実施形態に限定されず、本発明の主旨を逸脱しない範囲において、種々の改良や変更をしてもよいのは勿論である。   As mentioned above, although the manufacturing method of the glass substrate for magnetic discs of this invention was demonstrated in detail, this invention is not limited to the said embodiment, In the range which does not deviate from the main point of this invention, even if various improvement and a change are carried out. Of course it is good.

5 積層体
5a 板状ガラス
5b 接着剤
10 主装置
12 シャフト
14 回転部
15 クーラント供給ホース
16 ノズル
17 クーラント供給管
17a ノズル
20 一体型コアドリル
20a 外周研削砥石
20b 内周研削砥石
30 載置台
30a 外周研削砥石逃がし用溝
30b 内周研削砥石逃がし用溝
32 外周研削面
DESCRIPTION OF SYMBOLS 5 Laminated body 5a Sheet glass 5b Adhesive 10 Main apparatus 12 Shaft 14 Rotating part 15 Coolant supply hose 16 Nozzle 17 Coolant supply pipe 17a Nozzle 20 Integrated core drill 20a Outer grinding wheel 20b Inner grinding wheel 30 Mounting base 30a Outer grinding wheel Escape groove 30b Inner peripheral grinding wheel escape groove 32 Outer peripheral grinding surface

Claims (6)

複数の板状ガラスが積層された積層体を準備する積層体準備工程と、
大径の円筒状の外周研削砥石と小径の円筒状の内周研削砥石とが同軸に配置される一体型コアドリルを軸を中心に回転させると共に、前記外周研削砥石と前記板状ガラスとが接触してなる外周研削面及び前記内周研削砥石と前記板状ガラスとが接触してなる内周研削面に研削液を供給させつつ、前記積層体の積層方向に移動させることで、前記積層体を研削加工する研削工程と、を有し、
前記研削液が前記外周研削面に引き込まれるべく、前記コアドリルの回転方向と、前記外周研削面に対する研削液の供給方向とを調整することを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
A laminate preparation step of preparing a laminate in which a plurality of plate-like glasses are laminated;
An integral core drill in which a large-diameter cylindrical outer peripheral grinding wheel and a small-diameter cylindrical inner peripheral grinding wheel are arranged coaxially is rotated around an axis, and the outer peripheral grinding wheel and the plate glass are in contact with each other. The laminate is moved in the laminating direction of the laminate while supplying the grinding liquid to the outer peripheral grinding surface and the inner peripheral grinding surface formed by contacting the inner peripheral grinding wheel and the plate glass. A grinding process for grinding,
A method of manufacturing a glass substrate for a magnetic disk, comprising adjusting a rotation direction of the core drill and a supply direction of the grinding liquid with respect to the outer peripheral grinding surface so that the grinding liquid is drawn into the outer peripheral grinding surface.
前記外周研削面に対する研削液の供給方向は、前記研削液を供給するノズルから前記外周研削面上の点へ向かうベクトルの方向であって、平面視で見て前記点における前記コアドリルの速度ベクトルとのなす角度が0〜15度の範囲内であり、
前記ベクトルは、前記積層体の積層方向下向きの成分を有することを特徴とする請求項1に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
The direction in which the grinding fluid is supplied to the outer peripheral grinding surface is the direction of a vector from the nozzle that supplies the grinding fluid to a point on the outer peripheral grinding surface, and the velocity vector of the core drill at the point when seen in plan view Is within the range of 0 to 15 degrees,
2. The method of manufacturing a glass substrate for a magnetic disk according to claim 1, wherein the vector has a downward component in the stacking direction of the stacked body.
前記外周研削面に対する研削液の供給方向は、前記研削液を供給するノズルから前記外周研削面へ向かう接線方向のベクトルの方向であって、前記ベクトルは、前記コアドリルの回転方向に向かうベクトルと、前記積層体の積層方向下向きのベクトルと、を合わせたものであることを特徴とする請求項1に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。   The direction in which the grinding fluid is supplied to the outer peripheral grinding surface is a vector direction in a tangential direction from the nozzle that supplies the grinding fluid to the outer peripheral grinding surface, and the vector is a vector in the rotation direction of the core drill; The method for manufacturing a glass substrate for a magnetic disk according to claim 1, wherein the laminated body is combined with a downward vector in the stacking direction. 前記研削工程において、前記外周研削砥石の全周に亘って実質的に均等に配置された複数本のノズルを用いて、前記外周研削面に前記研削液を供給することを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。   The grinding liquid is supplied to the outer peripheral grinding surface in the grinding step using a plurality of nozzles arranged substantially uniformly over the entire circumference of the outer peripheral grinding wheel. The manufacturing method of the glass substrate for magnetic discs in any one of -3. 前記研削工程において、前記外周研削砥石に向けて配置された1又は複数本のノズルを前記外周研削砥石の回転軸と同軸回りに回転させつつ、前記ノズルから前記外周研削面に前記研削液を供給することを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。   In the grinding step, the grinding liquid is supplied from the nozzle to the outer peripheral grinding surface while rotating one or a plurality of nozzles arranged toward the outer peripheral grinding wheel coaxially with the rotation axis of the outer peripheral grinding wheel. The method for producing a glass substrate for a magnetic disk according to any one of claims 1 to 4, wherein: 外周の真円度が5μm以下であることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。   6. The method for producing a glass substrate for a magnetic disk according to claim 1, wherein the roundness of the outer periphery is 5 [mu] m or less.
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