JP2012061832A - Method of manufacturing laminated body, stamper, and transfer device - Google Patents

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Kazuya Hayashibe
Hiroshi Tazawa
和弥 林部
洋志 田澤
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ソニー株式会社
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method of manufacturing a laminated body having a non-permeable base and a transfer region without inconsistency.SOLUTION: The method of manufacturing the laminated body includes: applying an energy-ray curable resin-composition on the base; causing a rotation surface of a rotation stamper to come into close contact with the energy-ray curable resin-composition applied on the base during rotation; and irradiating the energy-ray curable resin-composition with energy rays emitted from one or a plurality of energy ray sources prepared in the rotation stamper via the rotation surface so as to cure the energy-ray curable resin-composition. Thus, a shape layer onto which uneven shapes of the rotation surface are transferred is formed on the base.

Description

本発明は、積層体の製造方法、原盤および転写装置に関する。 The present invention relates to a method for manufacturing a laminated body, to master and transfer device. 詳しくは、基体上に形状層を形成する積層体の製造方法に関する。 Specifically, a method of manufacturing a laminate for forming a shaped layer on the substrate.

従来より、基体上に凹凸形状を付与する方法として、熱可塑性材料を用いる方法(以下熱転写方式と称する。)、および光硬化性材料を用いる方法(以下光転写方式と称する。)が用いられている(例えば特許文献1、2参照)。 Conventionally, as a method for imparting an uneven shape on the substrate, a method of using a thermoplastic material (hereinafter referred to as thermal transfer method.), And a method using a photocurable material (hereinafter referred to as optical transfer system.) Is used are (for example, see Patent documents 1 and 2). 熱転写方式では、ガラス転移温度以上まで加熱した状態の基体に対して原盤をプレスし、冷却した後に、原盤を基体から剥離することにより、基体上に凹凸形状を有する積層体を得ることができる。 The thermal transfer system, the master was pressed against the substrate while heating to a temperature higher than the glass transition temperature, after cooling, by separating the master from the substrate, it is possible to obtain a laminate having an uneven shape on the substrate. 光転写方式では、基体を加熱する必要がなく、基体上に塗布された未硬化の光硬化性材料に対して原盤を押し当て、原盤または基体を通して光照射を行い、光硬化性材料を硬化させることにより、基体上に凹凸形状を有する積層体を得ることができる。 In the light transfer method, it is not necessary to heat the substrate, pressing a master to light curable material uncured coated on a substrate, subjected to light irradiation through a master or substrate, thereby curing the photocurable material it is thus possible to obtain a laminate having an uneven shape on the substrate.

光硬化方式は、熱転写方式よりもスループットを向上できるという利点を有しているため、近年特に注目されている。 Photocuring method, since it has the advantage of improved throughput than thermal transfer system have been recently particularly noted. 光転写方式では、一般的に金属原盤またはガラス原盤が用いられる。 In the light transfer method, generally metal master or glass master is used. 金属原盤の作製技術としては、平坦または回転周期的な原盤を作製する技術が報告されているが、原盤側から光を照射できないため、光硬化性材料の硬化に寄与する波長の光を透過する基体だけが使用可能であり、光を透過しない基体は使用することができない。 As the manufacturing technology of metal master is technology for producing flat or rotary cyclic master has been reported, can not be irradiated with light from the master side, transmits light contributing wavelength for curing the light curable material only the base is available, a substrate that does not transmit light can not be used.

ガラス原盤では、原盤側から光を照射できるため、光硬化性材料の硬化に寄与する波長の光を透過しない基体を使用して、凹凸形状を有した積層体を得ることが可能である。 The glass master, it is possible to irradiate the light from the master side, using a substrate which does not transmit light contributing wavelength for curing the light-curable material, it is possible to obtain a laminate having an irregular shape. 従来のガラス原盤の作製技術では、数インチサイズの円盤状または板状の大きさが限られた原盤しか作製することができないため、原盤の成形面の面積以上の大きいサイズの積層体を作製する場合には、ステップ&リピート方式が採用される。 The techniques for making conventional glass master disk, since only the master of a disk-shaped or plate-like dimensions of several inches size is limited can not be produced, to produce a stack of larger size than the area of ​​the molding surface of the master in this case, the step-and-repeat method is adopted. しかし、ステップ&リピート方式では、各ステップにて転写した転写領域の境界部において不整合性が生じてしまう。 However, in the step-and-repeat method, inconsistencies will occur at the boundary of the transcribed region was transcribed in each step. かかる境界部の不整合性は、積層体の種類によっては、積層体の特性の低下を招くことがある。 Inconsistencies such boundary, depending on the type of laminate, resulting in deterioration of the properties of the laminate.

特開2006−26873号公報 JP 2006-26873 JP

特開2006−216836号公報 JP 2006-216836 JP

したがって、本発明の目的は、非透過性の基体を有し、かつ、不整合性のない転写領域を有する積層体の製造方法、原盤および転写装置を提供することにある。 Accordingly, an object of the present invention has a non-permeable substrate, and a method for manufacturing a laminate having a free transfer regions inconsistencies is to provide a master disk and a transfer device.

上述の課題を解決するために、第1の発明は、 To solve the problems described above, the first invention,
基体上にエネルギー線硬化性樹脂組成物を塗布する工程と、 A step of applying an energy ray-curable resin composition on a substrate,
基体上に塗布されたエネルギー線硬化性樹脂組成物に対して回転原盤の回転面を回転密着させながら、回転原盤内に設けられた1または複数のエネルギー線源から放射されたエネルギー線を回転面を介して照射し、エネルギー線硬化性樹脂組成物を硬化させることにより、回転面の凹凸形状が転写された形状層を基体上に形成する工程と を備える積層体の製造方法である。 While rotating in close contact with the rotating surface of the rotating master relative energy ray-curable resin composition applied onto the substrate, rotating surface the emitted energy beam from one or more energy beam source provided in the rotary master irradiating through, by curing the energy ray-curable resin composition, the uneven surface of revolution is transferred shaped layer is a method for producing a laminate comprising a step of forming on a substrate.

第2の発明は、 The second aspect of the present invention,
凹凸形状を有する回転面と、 A rotating surface having an uneven shape,
回転面の内側に設けられた1または複数のエネルギー線源と を有する回転原盤を備え、 A rotating master having a one or more energy beam sources provided on the inside of the rotating surface,
回転原盤は、エネルギー線源から放射されたエネルギー線に対して透過性を有し、 Rotation master has transparent to the radiated energy beam from the energy beam source,
基体上に塗布されたエネルギー線硬化性樹脂組成物に対して回転原盤の回転面を回転密着させながら、エネルギー線源から放射されたエネルギー線を回転面を介して照射し、エネルギー線硬化性樹脂組成物を硬化させることにより、回転面の凹凸形状が転写された形状層を基体上に形成する転写装置である。 While rotating in close contact with the rotating surface of the rotating master relative energy ray-curable resin composition applied onto the substrate, the emitted energy beam is irradiated via the rotating surface from the energy radiation source, radiation-curable resin by curing the composition, the irregularities of the rotating surface is transferred shaped layer is a transfer device for forming on a substrate.

第3の発明は、 A third aspect of the invention is,
凹凸形状を有する回転面を備え、 A rotating surface having an uneven shape,
エネルギー線源から放射されたエネルギー線に対して透過性を有し、 Has transparent to the radiated energy beam from the energy beam source,
エネルギー線源から放射されたエネルギー線を、回転面を介してエネルギー線硬化性樹脂組成物に対して照射し硬化可能とし得る原盤である。 The emitted energy beam from the energy beam source, a master disc may allow the cured irradiated with energy ray-curable resin composition through the rotating surface.

エネルギー線に対して不透過性とは、エネルギー線硬化性樹脂組成物を硬化させることが困難である程度の不透過性を意味する。 The impermeable to the energy ray, is possible to cure the energy ray curable resin composition means impermeable degree is difficult.

構造体の配列は、規則配列、不規則配列、およびそれらの組み合わせであることが好ましい。 Array of structures, ordered, irregularly arranged, and is preferably a combination thereof. 構造体の配列は、1次元配列または2次元配列であることが好ましい。 Array of structures is preferably a one-dimensional or two-dimensional array. 基体の形状としては、2つの主面を有するフィルム状または板状などの形状、3つ以上の主面を有する多面体形状、球面および自由曲面などの曲面を有する曲面形状、平面および球面を有する多面体形状を用いることが好ましい。 The shape of the substrate, the shape such as a film-like or plate having two major surfaces, polyhedral shape having three or more main surfaces, a curved surface shape having a curved surface, such as spherical and free-form surface, a polyhedron having a planar and spherical it is preferable to use a shape. これらの基体の有する複数の主面のうちの少なくとも1つに形状層を形成することが好ましい。 It is preferable to form a shaped layer on at least one of a plurality of main surfaces possessed by these substrates. 基体が、少なくとも1つの平面または曲面を有し、平面または曲面に形状層が形成されることが好ましい。 Base has at least one flat or curved, preferably shaped layer is formed on flat or curved.

以上説明したように、この発明によれば、非透過性の基体を有し、かつ、不整合性のない転写領域を有する積層体を作製することができる。 As described above, according to the present invention, it has a non-permeable substrate, and can be produced a laminate having a free transfer regions inconsistencies.

図1Aは、本発明の第1の実施形態に係る積層体の構成の一例を示す平面図である。 Figure 1A is a plan view showing an example of a configuration of a laminated body according to the first embodiment of the present invention. 図1Bは、図1Aに示した積層体の一部を拡大して表す斜視図である。 Figure 1B is a perspective view illustrating an enlarged part of the stacked body illustrated in FIG. 1A. 図1Cは、図1Aに示した積層体の一部を拡大して表す平面図である。 Figure 1C is a plan view illustrating an enlarged part of the stacked body illustrated in FIG. 1A. 図1Dは、図1Cに示した積層体のトラック延在方向の断面図である。 Figure 1D is a cross-sectional view of a track extending direction of the stacked body illustrated in FIG. 1C. 図2A〜図2Eは、本発明の第1の実施形態に係る積層体に備えられた基体の第1〜第5の例を示す断面図である。 Figure 2A~ 2E are cross-sectional views showing the first of the first to fifth example of a provided substrate in the laminate according to the embodiment of the present invention. 図3は、本発明の第1の実施形態に係る転写装置の構成の一例を示す概略図である。 Figure 3 is a schematic diagram showing an example of the configuration of a transfer apparatus according to the first embodiment of the present invention. 図4は、ロール原盤の構成の一例を示す斜視図である。 Figure 4 is a perspective view showing an example of the configuration of a roll master. 図4Bは、図4Aに示したロール原盤の一部を拡大して表す平面図である。 Figure 4B is a plan view illustrating an enlarged portion of the roll base as shown in Figure 4A. 図5は、ロール原盤露光装置の構成の一例を示す概略図である。 Figure 5 is a schematic diagram showing an example of the configuration of a roll master exposure apparatus. 図6A〜図6Dは、本発明の第1の実施形態に係る積層体の製造方法の一例を説明するための工程図である。 Figure 6A~ 6D are process drawings for explaining an example of a method for manufacturing a laminated body according to the first embodiment of the present invention. 図7A〜図7Eは、本発明の第1の実施形態に係る積層体の製造方法の一例を説明するための工程図である。 Figure 7A~ Figure 7E is a process diagram for explaining an example of a method for manufacturing a laminated body according to the first embodiment of the present invention. 図8は、本発明の第2の実施形態に係る転写装置の構成の一例を示す概略図である。 Figure 8 is a schematic diagram showing an example of the configuration of a transfer apparatus according to a second embodiment of the present invention. 図9は、本発明の第3の実施形態に係る転写装置の構成の一例を示す概略図である。 Figure 9 is a schematic diagram showing an example of the configuration of a transfer apparatus according to a third embodiment of the present invention. 図10は、本発明の第4の実施形態に係る積層体の構成の一例を示す平面図である。 Figure 10 is a plan view showing an example of a fourth laminate according to the embodiment of the configuration of the present invention. 図11Aは、本発明の第5の実施形態に係る積層体の構成の一例を示す断面図である。 Figure 11A is a cross-sectional view showing an example of a configuration of a laminated body according to a fifth embodiment of the present invention. 図11Bは、図11Aに示した積層体の一部を拡大して表す平面図である。 Figure 11B is a plan view illustrating an enlarged part of the stacked body illustrated in FIG. 11A. 図11Cは、図11Bに示した積層体の断面図である。 Figure 11C is a cross-sectional view of the stack shown in FIG. 11B. 図12は、本発明の第6の実施形態に係る積層体の構成の一例示す斜視図である。 Figure 12 is a sixth perspective view showing an example of a configuration of a laminate according to an embodiment of the present invention. 図13A〜図13Eは、本発明の第7の実施形態に係る積層体に備えられた基体の第1〜第5の例を示す断面図である。 Figure 13A~ Figure 13E is a cross-sectional view showing a seventh first to fifth example of a provided substrate in the laminate according to the embodiment of the present invention. 図14A、図14Bは、本発明の第8の実施形態に係る積層体に備えられた基体の第1、第2の例を示す断面図である。 Figure 14A, Figure 14B, the first eighth substrate provided in the laminated body according to the embodiment of the present invention, is a cross-sectional view showing a second example.

本発明の実施形態について図面を参照しながら以下の順序で説明する。 It explained in the following order with reference to the accompanying drawings, embodiments of the present invention.
1. 1. 第1の実施形態(基体の一主面に複数の構造体が2次元配列された積層体の例) First Embodiment (example of a laminate in which a plurality of structures on one main surface of the substrate are two-dimensionally arranged)
2. 2. 第2の実施形態(積層体をステージにより搬送する転写装置の例) Second Embodiment (Example of a transfer device for transporting the stage laminate)
3. 3. 第3の実施形態(円環状のベルト原盤を備えた転写装置の例) Third Embodiment (example of a transfer device provided with an annular belt master)
5. 5. 第4の実施形態(基体の一主面に複数の構造体がランダム配列させた積層体の例) Fourth Embodiment (Example of a laminate in which a plurality of structures on one main surface of the substrate was random sequence)
6. 6. 第5の実施形態(基体の一主面に複数の構造体が1次元配列させた積層体の例) Fifth embodiment (example of a laminate in which a plurality of structures were arranged one-dimensionally on one main surface of the substrate)
7. 7. 第7の実施形態(基体の両主面に複数の構造体が2次元配列させた例) Seventh Embodiment (example in which a plurality of structures were arranged two-dimensionally on both main surfaces of the substrate)
8. 8. 第8の実施形態(非透過性を有する複数の構造体が2次元配列された積層体の例) Eighth embodiment (example of a laminate in which a plurality of structures having impermeability are two-dimensionally arranged)

<1. <1. 第1の実施形態> The first embodiment>
[積層体の構成] Configuration of the stack]
図1Aは、本発明の第1の実施形態に係る積層体の構成の一例を示す断面図である。 Figure 1A is a cross-sectional view showing an example of a configuration of a laminated body according to the first embodiment of the present invention. 図1Bは、図1Aに示した積層体の一部を拡大して表す斜視図である。 Figure 1B is a perspective view illustrating an enlarged part of the stacked body illustrated in FIG. 1A. 図1Cは、図1Aに示した積層体の一部を拡大して表す平面図である。 Figure 1C is a plan view illustrating an enlarged part of the stacked body illustrated in FIG. 1A. 図1Dは、図1Cに示した積層体のトラック延在方向の断面図である。 Figure 1D is a cross-sectional view of a track extending direction of the stacked body illustrated in FIG. 1C. 積層体は、第1の主面および第2の主面を有する基体1と、これらの主面の一方に形成された、凹凸形状を有する形状層2とを備える。 Laminate comprises a substrate 1 having a first main surface and a second main surface, formed on one of these main surfaces, and a shaped layer 2 having a concavo-convex shape. 以下では、形状層2が形成される第1の面を表面と称し、それとは反対側の第2の面を裏面と称する。 Hereinafter, referred the first face shaped layer 2 is formed with a surface, is referred to as a rear surface of the second surface opposite to it.

積層体は、シボ表面加工体、デザイン体、機械素子および医療素子などの成型素子、反射防止素子、偏光素子、周期光学素子、回折素子、結像素子および導波素子などの光学素子に対して適用して好適なものである。 Laminate, the texturing processed surface body design body, molding elements such as mechanical elements and medical devices, antireflection elements, polarization elements, periodic optical elements, diffractive elements, the optical elements such as focusing elements and the waveguide elements apply and is suitable. 具体的には、積層体は、NDフィルタ、シャープカットフィルタおよび干渉フィルタなどの各種光量調整フィルタ、偏光板、携帯電話および自動車のインストルメントパネルの前面板、携帯電話などのシボ加工、樹脂成形品、ガラス成形品に適用して好適なものである。 Specifically, the laminate, ND filter, various light quantity adjusting filters such as sharp cut filters and interference filters, polarizers, cellular phones and the front plate of the motor vehicle instrument panel, embossing, such as a mobile phone, a resin molded article , and it is preferably applied to the glass molded article.

積層体は、例えば、帯状の形状を有し、ロール状に巻回されて、いわゆる原反とされる。 Laminate, for example, has a band-like shape, is wound into a roll, is a so-called raw fabric. 積層体は、可撓性を有していることが好ましい。 Laminate preferably has a flexibility. これにより、帯状の積層体をロール状に巻回して原反とすることができ、搬送性や取り扱い性などが向上するからである。 Thus, by winding the strip-like laminate into a roll can be a raw, are improved and transportability and handling properties.

図1Aに示すように、積層体は、例えば、少なくとも1周期以上の転写領域を有している。 As shown in Figure 1A, the laminate, for example, has at least one cycle or more of the transcribed region. ここで、1周期の転写領域T Eは、後述するロール原盤を1回転することにより転写される領域である。 Here, the transfer region T E of one cycle is a region to be transferred by one rotation of the roll master to be described later. すなわち、1周期の転写領域T Eの長さは、ロール原盤の周面の長さに相当する。 That is, the length of the transfer area T E of one cycle is equivalent to the length of the peripheral surface of the roll master. 隣接する2つの転写領域T Eの境界部において、形状層2の凹凸形状に不整合性が存在しなく、2つの転写領域T Eがシームレスに接続されていることが好ましい。 At the boundary of two adjacent transfer area T E, without the presence of inconsistencies in the irregular shape of the shaped layer 2, it is preferable that two transfer regions T E is connected seamlessly. ここで、不整合性とは、構造体21による凹凸形状等の物理的な構成が不連続であることを意味する。 Here, the inconsistencies means that the physical configuration of the unevenness due structure 21 is discontinuous.

(基体) (Substrate)
基体1の材料は特に限定はされものではなく用途によって適宜選択可能であり、例えば石英、メチルメタクリレート(共)重合体、ポリカーボネート、スチレン(共)重合体、メチルメタクリレート−スチレン共重合体、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートブチレート、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアセタール、ポリエーテルケトン、ポリウレタン、シクロオレフィンポリマー、シクロオレフィンコポリマーなどのプラスチック、ガラス、金属、セラミックス、磁性体、半導体を用いることができる。 Can be appropriately selected depending on the application material of the substrate 1 is not particularly limited, for example, quartz, methyl methacrylate (co) polymer, polycarbonate, styrene (co) polymers, methyl methacrylate - styrene copolymers, cellulose di acetate, cellulose triacetate, cellulose acetate butyrate, polyesters, polyamides, polyimides, polyether sulfone, polysulfone, polypropylene, polymethylpentene, polyvinyl chloride, polyvinyl acetal, polyether ketone, polyurethane, cycloolefin polymer, cycloolefin copolymer, etc. be plastic, glass, metal, ceramics, magnetic, be a semiconductor. 基体2の形状としては、例えば、シート状、プレート状、ブロック状を挙げることができるが、特にこれらの形状に限定されるものではない。 The shape of the substrate 2, for example, a sheet shape, a plate shape, can be cited block shape, but is not limited to these shapes. ここで、シートにはフィルムが含まれるものと定義する。 Here, the sheet defined to include films.

基体1は、形状層2を形成するためのエネルギー線硬化性樹脂組成物を硬化するためのエネルギー線に対して不透過性を有している。 Substrate 1 has a opaque to energy rays for curing the energy ray-curable resin composition for forming the shaped layer 2. 本明細書中にて、エネルギー線とは、形状層2を形成するためのエネルギー線硬化性樹脂組成物を硬化するためエネルギー線を示すものとする。 In this specification, and the energy ray, it denotes the energy beam for curing the energy ray-curable resin composition for forming the shaped layer 2. 基体1の表面に対して、例えば、印刷、塗布、真空成膜などにより装飾層または機能層を形成するようにしてもよい。 To the surface of the substrate 1, for example, printing, coating, by vacuum deposition may be formed decorative layer or the functional layer.

基体2は、単層構造または積層構造を有している。 Substrate 2 has a single-layer structure or a stacked structure. ここで、積層構造は、2以上の層を積層してなる積層構造であり、積層構造中の少なくとも1層は、エネルギー線に対して不透過性を有する不透過層である。 Here, the laminated structure is a laminated structure obtained by laminating two or more layers, at least one layer in the layered structure, is opaque layer that is impermeable to the energy beam. 積層体を形成する方法としては、例えば、融着や表面処理などにより層間を直接的に貼合する方法、接着層や粘着層などの貼合層を介して層間を貼合する方法が挙げられるが、特に限定されるものではない。 As a method of forming a laminate, for example, a method of directly bonding the interlayer due fusion and surface treatment include a method of bonding the interlayer through the lamination coupling layer such as an adhesive layer or an adhesive layer but it is not particularly limited. 貼合層が、エネルギー線を吸収する顔料などの材料を含むようにしてもよい。 Bonding layer may also include a material such as a pigment that absorbs energy ray. また、基体2を積層構造とする場合、エネルギー線に対して不透過性を有する不透過層と、エネルギー線に対して透過性を有する透過層とを組み合わせるようにしてもよい。 In the case of the the substrate 2 laminated structure, the opaque layer that is impermeable to the energy beam, it may be combined with the permeation layer permeable to the energy beam. また、基体が2以上の不透過層を備える場合には、それらが互いに異なる吸収特性を有していてもよい。 Further, when the substrate comprises two or more impermeable layer may they have different absorption properties from each other.

透過層の材料としては、例えば、アクリル樹脂コーティング材等の透明な有機膜や、透明な金属膜、無機膜、金属化合物膜またはそれらの積層体を用いることができるが、特に限定されるものではない。 As the material of the transparent layer, for example, a transparent organic film such as an acrylic resin coating material, a transparent metal film, an inorganic film, it is possible to use a metal compound film or laminates thereof, are not particularly limited Absent. 不透過層の材料としては、例えば、顔料を含んだアクリル樹脂コーティング材等の有機膜や、金属膜、金属化合物膜またはそれらの積層体を用いることができるが、特に限定されるものではない。 As the material of the opaque layer, for example, an organic film such as an acrylic resin coating material containing a pigment, a metal film, but may be a metal compound film or laminates thereof, are not particularly limited.

図2A〜図2Eは、基体の第1〜第5の例を示す断面図である。 Figure 2A~ 2E are cross-sectional views showing the first to fifth embodiment of the substrate.

(第1の例) (The first example)
図2Aに示すように、基体1は、単層の構造を有し、基体全体がエネルギー線に対して不透過性を有する不透過層である。 As shown in FIG. 2A, the substrate 1 has a structure of a single layer, is opaque layer having an impermeable entire substrate against the energy beam.

(第2の例) (Second example)
図2Bに示すように、基体1は、2層構造を有し、エネルギー線に対して不透過性を有する不透過層11aと、エネルギー線に対して透過性を有する透過層11bとを備える。 As shown in Figure 2B, the substrate 1 is provided has a two-layer structure, the opaque layer 11a that is impermeable to the energy beam, and a transparent layer 11b permeable to energy radiation. 不透過層11aが裏面側に配置され、透過層11bが表面側に配置される。 Impermeable layer 11a is disposed on the back side, the transmission layer 11b is disposed on the surface side.

(第3の例) (Third example)
図2Cに示すように、基体1は、2層構造を有し、エネルギー線に対して不透過性を有する不透過層11aと、エネルギー線に対して透過性を有する透過層11bとを備える。 As shown in Figure 2C, the substrate 1 is provided has a two-layer structure, the opaque layer 11a that is impermeable to the energy beam, and a transparent layer 11b permeable to energy radiation. 不透過層11aが表面側に配置され、透過層11bが裏面側に配置される。 Impermeable layer 11a is disposed on the surface side, the transmission layer 11b is disposed on the back side.

(第4の例) (Fourth example)
図2Dに示すように、基体1は、3層構造を有し、エネルギー線に対して透過性を有する透過層11bと、この透過層11bの両主面に形成された、エネルギー線に対して不透過性を有する不透過層11a、11aとを備える。 As shown in FIG. 2D, the substrate 1 has a three-layer structure, the transparent layer 11b permeable to energy radiation, which is formed on both main surfaces of the transparent layer 11b, with respect to energy ray impermeable layer 11a having impermeability, and a 11a. 一方の不透過層11aが裏面側に配置され、他方の不透過層11aが表面側に配置される。 One impermeable layer 11a is disposed on the back side, the other impermeable layer 11a is disposed on the surface side.

(第5の例) (Fifth example)
図2Eに示すように、基体1は、3層構造を有し、エネルギー線に対して不透過性を有する不透過層11aと、この不透過層11aの両主面に形成された、エネルギー線に対して透過性を有する透過層11b、11bとを備える。 As shown in FIG. 2E, the substrate 1 has a three-layer structure, the opaque layer 11a that is impermeable to the energy ray, it is formed on both main surfaces of the opaque layer 11a, the energy beam It comprises transmitting layer 11b having a permeability, and 11b against. 一方の透過層11bが裏面側に配置され、他方の透過層11bが表面側に配置される。 One transparent layer 11b is disposed on the back side, the other transparent layer 11b is disposed on the surface side.

(形状層) (Shape layer)
形状層2は、例えば、複数の構造体21が2次元配列されてなる層であり、必要に応じて複数の構造体21と基体1との間に基底層22を備えるようにしてもよい。 Shaped layer 2, for example, a layer in which a plurality of structures 21 are arranged two-dimensionally, may be provided with a base layer 22 between the plurality of structures 21 and the substrate 1 as required. 基底層22は、構造体3の底面側に構造体3と一体成形された層であり、構造体3と同様のエネルギー線硬化性樹脂組成物を硬化してなる。 Basal layer 22 is a layer which is integrally molded with the structures 3 on the bottom side of the structure 3, formed by curing a similar radiation-curable resin composition and the structure 3. 基底層22の厚さは、特に限定されるものではなく、必要に応じて適宜選択することができる。 The thickness of the base layer 22 is not particularly limited, it can be appropriately selected as necessary. 複数の構造体21が、例えば、基体2の表面において複数列のトラックTをなすように配列されている。 A plurality of structures 21, for example, are arranged to form a track T of the plurality of rows on the surface of the substrate 2. 複数例のトラックをなすように配列された複数の構造体21が、例えば、四方格子状または六方格子状などの規則的な所定の配置パターンをなすようにしてもよい。 A plurality of structures 21 which are arranged to form a track of a plurality example, for example, may be form a regular predetermined arrangement pattern, such as a tetragonal lattice pattern or a hexagonal lattice. 構造体21の高さが基体1の表面において規則的または不規則的に変化するようにしてもよい。 The height of the structure 21 may be changed regularly or irregularly on the surface of the substrate 1.

構造体21は、基体1の表面に対して凸状または凹状の形状を有し、基体1の表面に凸状および凹状の構造体21が両方存在していてもよい。 Structure 21 has a convex or concave shape with respect to the surface of the substrate 1, may be convex and concave structures 21 on the surface of the substrate 1 is not both exist. 構造体21の具体的な形状としては、例えば、錐体状、柱状、針状、半球状、半楕円球状、多角形状などが挙げられるが、これらの形状に限定されるものではなく、他の形状を採用するようにしてもよい。 The specific shape of the structure 21, for example, cone-shaped, columnar, needle-like, semi-spherical, semi-ellipsoidal shape, the like polygonal shape and the like, is not limited to these shapes, the other it is also possible to adopt a shape. 錐体状としては、例えば、頂部が尖った錐体形状、頂部が平坦な錐体形状、頂部に凸状または凹状の曲面を有する錐体形状が挙げられるが、これらの形状に限定されるものではない。 The cone-shaped, for example, those cone shape with apex pointed, top flat cone shape and cone-shaped and the like having a convex or concave curved surface at the top, to be limited to these shapes is not. また、錐体状の錐面を凹状または凸状に湾曲させるようにしてもよい。 It is also possible to bend the cone-shaped conical surface in a concave or convex. 後述するロール原盤露光装置(図5参照)を用いてロール原盤を作製する場合には、構造体21の形状として、頂部に凸状の曲面を有する楕円錐形状、または頂部が平坦な楕円錐台形状を採用し、それらの底面を形成する楕円形の長軸方向をトラックの延在方向と一致させることが好ましい。 In the case of manufacturing a roll master by using the roll master exposure apparatus described later (see FIG. 5), the shape of the structure 21, elliptical cone shape or top flat elliptical cone, having a convex curved surface at the top the shape adopted, is to be preferably coincides with the extending direction of the track length direction of the ellipse that forms their bottom.

構造体3のピッチは、積層体の種類によって適宜選択される。 Pitch of the structures 3 is appropriately selected depending on the type of laminate. 例えば、積層体が、光の反射防止を目的とするサブ波長構造体などの光学素子である場合には、構造体3は、反射の低減を目的とする光の波長帯域以下の短い配置ピッチ、例えば可視光の波長と同程度の配置ピッチで周期的に2次元配置される。 For example, laminate, when the anti-reflection of light is an optical element, such as a sub-wavelength structure of interest, the structure 3, the wavelength band following a short arrangement pitch of the light for the purpose of reducing the reflection, for example, periodically arranged two-dimensionally in the arrangement pitch of the same level as the wavelength of visible light. 反射の低減を目的とする光の波長帯域は、例えば、紫外光の波長帯域、可視光の波長帯域または赤外光の波長帯域である。 Wavelength band of light for the purpose of reducing the reflection, for example, the wavelength band of ultraviolet light, a wavelength band in the wavelength band or infrared light of visible light. ここで、紫外光の波長帯域とは10nm〜400nmの波長帯域、可視光の波長帯域とは400nm〜830nmの波長帯域、赤外光の波長帯域とは830nm〜1mmの波長帯域をいう。 Here, the wavelength band of 10nm~400nm the wavelength band of ultraviolet light, the wavelength band of visible light wavelength band of 400Nm~830nm, and the wavelength band of infrared light refers to a wavelength band of 830Nm~1mm.

形状層2は、エネルギー線硬化性樹脂組成物を硬化することにより形成される。 Shaped layer 2 is formed by curing the energy ray-curable resin composition. エネルギー線硬化性樹脂組成物とは、エネルギー線を照射することによって硬化させることができる樹脂組成物を意味する。 The energy ray curable resin composition means a resin composition which can be cured by irradiation of energy rays. エネルギー線とは、電子線、紫外線、赤外線、レーザー光線、可視光線、電離放射線(X線、α線、β線、γ線など)、マイクロ波、高周波などのラジカル、カチオン、アニオンなどの重合反応の引き金と成りうるエネルギー線を示す。 The energy beam, an electron beam, ultraviolet rays, infrared rays, laser, visible light, ionizing radiation (X-rays, alpha rays, beta rays, gamma rays, etc.), microwave, radicals such as radio frequency, cationic, the polymerization reaction such as anion It shows an energy ray which can be a trigger. エネルギー線硬化性樹脂組成物は、必要に応じて、他の樹脂と混合して用いるようにしてもよく、例えば熱硬化性樹脂などの他の硬化性樹脂と混合して用いてもよい。 Energy ray curable resin composition, if necessary, may also be used as a mixture with other resins, may be mixed with other curable resins such as thermosetting resin. また、エネルギー線硬化性樹脂組成物は、有機無機ハイブリッド材料であってもよい。 The energy ray-curable resin composition may be an organic-inorganic hybrid material. また、2種以上のエネルギー線硬化性樹脂組成物を混合して用いるようにしてもよい。 It is also possible to use a mixture of two or more of the energy ray curable resin composition. エネルギー線硬化性樹脂組成物としては、紫外線により硬化する紫外線硬化樹脂を用いることが好ましい。 As the energy ray curable resin composition, it is preferable to use an ultraviolet curable resin which is cured by ultraviolet radiation.

紫外線硬化樹脂は、例えば、単官能モノマー、二官能モノマー、多官能モノマー、開始剤などからなり、具体的には、以下に示す材料を単独または、複数混合したものである。 UV curable resin, for example, monofunctional monomers, bifunctional monomers, polyfunctional monomers, made such initiators, specifically, a material described below either alone or, in which a plurality mixed.
単官能モノマーとしては、例えば、カルボン酸類(アクリル酸)、ヒドロキシ類(2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、4−ヒドロキシブチルアクリレート)、アルキル、脂環類(イソブチルアクリレート、t−ブチルアクリレート、イソオクチルアクリレート、ラウリルアクリレート、ステアリルアクリレート、イソボニルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート)、その他機能性モノマー(2−メトキシエチルアクリレート、メトキシエチレンクリコールアクリレート、2−エトキシエチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、ベンジルアクリレート、エチルカルビトールアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、N,N-ジメチルアミノエチルアクリレート、N,N- Examples of the monofunctional monomer include carboxylic acids (acrylic acid), hydroxy compounds (2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 4-hydroxybutyl acrylate), alkyl, alicyclic compounds (isobutyl acrylate, t- butyl acrylate , isooctyl acrylate, lauryl acrylate, stearyl acrylate, isobornyl acrylate, cyclohexyl acrylate), other functional monomers (2-methoxyethyl acrylate, methoxyethylene glycol acrylate, 2-ethoxyethyl acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, benzyl acrylate, ethyl carbitol acrylate, phenoxyethyl acrylate, N, N-dimethylaminoethyl acrylate, N, N- メチルアミノプロピルアクリルアミド、N,N−ジメチルアクリルアミド、アクリロイルモルホリン、N−イソプロピルアクリルアミド、N,N−ジエチルアクリルアミド、N−ビニルピロリドン、2−(パーフルオロオクチル)エチル アクリレート、3−パーフルオロヘキシル−2−ヒドロキシプロピルアクリレート、3−パーフルオロオクチルー2−ヒドロキシプロピル アクリレート、2−(パーフルオロデシル)エチル アクリレート、2−(パーフルオロー3−メチルブチル)エチル アクリレート)、2,4,6−トリブロモフェノールアクリレート、2,4,6−トリブロモフェノールメタクリレート、2−(2,4,6−トリブロモフェノキシ)エチルアクリレート)、2−エチルヘキシルアクリレートなどを挙げることがで Methylamino propyl acrylamide, N, N- dimethylacrylamide, acryloyl morpholine, N- isopropylacrylamide, N, N- diethyl-acrylamide, N- vinylpyrrolidone, 2- (perfluorooctyl) ethyl acrylate, 3-perfluorohexyl-2- hydroxypropyl acrylate, 3-perfluorooctyl-2-hydroxypropyl acrylate, 2- (perfluoro decyl) ethyl acrylate, 2- (perfluoro-3-methylbutyl) ethyl acrylate), 2,4,6-tribromophenol acrylate, 2 , 4,6 tribromophenol methacrylate, 2- (2,4,6-tribromophenoxy) ethyl acrylate), and the like of 2-ethylhexyl acrylate る。 That.

二官能モノマーとしては、例えば、トリ(プロピレングリコール)ジアクリレート、トリメチロールプロパン ジアリルエーテル、ウレタンアクリレートなどを挙げることができる。 The bifunctional monomers include, for example, tri (propylene glycol) diacrylate, trimethylolpropane diallyl ether, and urethane acrylate.

多官能モノマーとしては、例えば、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ及びヘキサアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレートなどを挙げることができる。 Examples of the polyfunctional monomers include, for example, trimethylolpropane triacrylate, dipentaerythritol penta and hexaacrylate, and ditrimethylolpropane tetraacrylate.

開始剤としては、例えば、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン、1−ヒドロキシ−シクロヘキシルフェニルケトン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オンなどを挙げることができる。 Examples of the initiator include 2,2-dimethoxy-1-hydroxy - cyclohexyl phenyl ketone, and 2-hydroxy-2-methyl- it can be mentioned.

また、エネルギー線硬化性樹脂組成物が、必要に応じてフィラー、機能性添加剤、溶剤、無機材料、顔料、帯電防止剤、増感色素などを含んでいてもよい。 The energy ray-curable resin composition, a filler if necessary, functional additives, solvents, inorganic materials, pigments, antistatic agents, may include such a sensitizing dye. フィラーとしては、例えば、無機微粒子および有機微粒子のいずれも用いることができる。 As the filler, for example, it may be any of inorganic fine particles and organic fine particles. 無機微粒子としては、例えば、SiO 2 、TiO 2 、ZrO 2 、SnO 2 、Al 23などの金属酸化物微粒子を挙げることができる。 Examples of the inorganic fine particles include metal oxide particles such as SiO 2, TiO 2, ZrO 2 , SnO 2, Al 2 O 3. 機能性添加剤としては、例えば、レベリング剤、表面調整剤、吸収剤、消泡剤などを挙げることができる。 The functional additive, for example, leveling agents, surface modifiers, absorbents, and the like defoamer.

[転写装置の構成] [Configuration of the transfer device]
図3は、本発明の第1の実施形態に係る転写装置の構成の一例を示す概略図である。 Figure 3 is a schematic diagram showing an example of the configuration of a transfer apparatus according to the first embodiment of the present invention. この転写装置は、ロール原盤101と、基体供給ロール111と、巻き取りロール112と、ガイドロール113、114と、ニップロール115、剥離ロール116と、塗布装置117と、光源110とを備える。 The transfer device includes a roll master 101, a base supply roll 111, a take-up roll 112, a guide roll 113 and 114, nip roll 115, a stripping roll 116, a coating device 117, a light source 110.

基体供給ロール111には、シート状などの基体1がロール状に巻かれ、ガイドロール113を介して基体1を連続的に送出できるように配置されている。 The substrate supply roll 111, the substrate 1, such as sheet is wound into a roll, are arranged so as to be continuously delivered to base 1 through the guide roll 113. 巻き取りロール112は、この転写装置により凹凸形状が転写された形状層2を有する積層体を巻き取りできるように配置されている。 Take-up roll 112, the uneven shape is disposed so as to be wound a laminate having a shape layer 2 transferred by the transfer device. ガイドロール113、114は、帯状の基体1および帯状の積層体を搬送できるように、この転写置内の搬送路に配置されている。 Guide rolls 113 and 114, so that it can carry the band-shaped substrate 1 and the strip of the laminate are arranged in the conveying path of the transfer 置内. ニップロール115は、基体供給ロール111から送出され、エネルギー線硬化性樹脂組成物が塗布された基体1を、ロール原盤101とニップできるように配置されている。 Nip roll 115 is delivered from the substrate supply roll 111, the substrate 1 on which energy ray curable resin composition is applied, it is arranged so as to be nipped and roll master 101. ロール原盤110は、形状層2を形成するための転写面を有し、その内部には1個または複数個のエネルギー線源110を備える。 Roll master 110 has a transfer surface for forming the shaped layer 2, inside thereof comprises one or more energy beam sources 110. ロール原盤110の詳細について後述する。 Later the details of the roll base 110. 剥離ロール116は、エネルギー線硬化性樹脂組成物118を硬化することにより得られた形状層2を、ロール原盤110の転写面から剥離可能に配置されている。 Peeling roll 116, the shaped layer 2 obtained by curing the energy ray-curable resin composition 118, it is releasably arranged from the transfer surface of the roll master 110.

基体供給ロール111、巻き取りロール112、ガイドロール113、114、ニップロール115、および剥離ロール116の材質は特に限定されるものではなく、所望とするロール特性に応じてステンレスなどの金属、ゴム、シリコーンなどを適宜選択して用いることができる。 Substrate supply roll 111, the take-up roll 112, guide rolls 113, 114, nip rolls 115, and the material of the peeling roll 116 is not particularly limited, metal such as stainless steel, depending on the roll characteristics as desired, rubber, silicone it can be selected and used as appropriate. 塗布装置117としては、例えば、コーターなどの塗布手段を備える装置を用いることができる。 The coating apparatus 117, for example, may be used an apparatus comprising a coating means such as a coater. コーターとしては、例えば、塗布するエネルギー線硬化性樹脂組成物の物性などを考慮して、グラビア、ワイヤバー、およびダイなどのコーターを適宜使用することができる。 The coater, for example, in consideration of the physical properties of the radiation-curable resin composition for coating, gravure, can be appropriately used wire bar, and a coater such as a die.

[ロール原盤の構成] [Configuration of a roll master]
図4Aは、ロール原盤の構成の一例を示す斜視図である。 Figure 4A is a perspective view showing an example of the configuration of a roll master. 図4Bは、図4Aに示したロール原盤の一部を拡大して表す平面図である。 Figure 4B is a plan view illustrating an enlarged portion of the roll base as shown in Figure 4A. ロール原盤101は、例えば、円筒状の形状を有する原盤であり、その表面に形成された転写面Spと、それとは反対の内側に形成された内周面である裏面Siとを有する。 Roll master 101 has, e.g., a master having a cylindrical shape, the transfer surface Sp formed on its surface and a back surface Si is an inner peripheral surface formed inside the contrary. ロール原盤101の内部には、例えば、裏面Siにより形成される円柱状の空洞部が形成されており、この空洞部に1個または複数個のエネルギー線源110が備えられる。 Inside the roll master 101, for example, a cylindrical cavity formed by the rear surface Si are formed, one or more energy beam sources 110 is provided in the cavity. 転写面Spには、例えば、凹状または凸状の複数の構造体102が形成され、これらの構造体102の形状を基体1上に塗布されたエネルギー線硬化性樹脂組成物に対して転写することにより、積層体の形状層2が形成される。 The transfer surface Sp, for example, a plurality of structures 102 of concave or convex is formed, to be transferred to these structures 102 shape is coated on the substrate 1 the energy ray-curable resin composition Accordingly, the shape layer 2 of the laminate is formed. すなわち、転写面Spには、積層体の形状層2の有する凹凸形状を反転したパターンが形成されている。 That is, the transfer surface Sp, reversed pattern is formed irregularities having a shape layer 2 of the laminate.

ロール原盤101は、エネルギー線源110から放射されたエネルギー線に対して透過性を有し、エネルギー線源110から放射されて裏面Siに入射したエネルギー線を転写面Spから放出可能に構成されている。 Roll master 101 has a transparent to the radiated energy beam from the energy beam source 110, it is configured to releasably energy rays incident on the rear surface Si is radiated from the energy beam source 110 from the transfer surface Sp there. この転写面Spから放出されたエネルギー線により、基体1上に塗布されたエネルギー線硬化性樹脂組成物118が硬化される。 The energy beam emitted from the transfer surface Sp, the substrate 1 energy ray curable resin composition 118 coated on is cured. ロール原盤101の材料は、エネルギー線に対して透過性を有するものであればよく特に限定されるものではない。 Material roll master 101 is not well be particularly limited as long as it has a transparent to energy beam. 紫外線に対して透過性を有する材料としては、ガラス、石英、透明樹脂、有機無機ハイブリッド材料などを用いることが好ましい。 As a material permeable to ultraviolet rays, glass, quartz, transparent resin, be used as the organic-inorganic hybrid materials preferred. 透明樹脂としては、例えば、ポリメチルメタアクリレート(PMMA)、ポリカーボネート(PC)などが挙げられる。 As the transparent resin, e.g., polymethyl methacrylate (PMMA), and the like polycarbonate (PC). 有機無機ハイブリッド材料としては、例えば、ポリジメチルシロキサン(PDMS)などが挙げられる。 The organic-inorganic hybrid materials, such as polydimethylsiloxane (PDMS). ロール原盤101の転写面Spおよび裏面Siの少なくとも一方に、透明性を有する金属膜、金属化合物膜または有機膜を形成するようにしてもよい。 At least one of the transfer surface Sp and the back surface Si of the roll master 101, a metal film having transparency, may be formed of the metal compound film or an organic film.

1個または複数個のエネルギー線源110は、基体1上に塗布されたエネルギー線硬化性樹脂組成物118に向けてエネルギー線を照射可能にロール原盤101の空洞部内に支持されている。 One or more energy beam sources 110 is irradiated movably supported in the cavity of the roll master 101 with an energy beam towards the radiation-curable resin composition 118 coated on the substrate 1. ロール原盤101が複数個のエネルギー線源110を備える場合には、これらのエネルギー線源110は、1列または2列以上の列をなすように配置されることが好ましい。 When the roll master 101 comprises a plurality of energy beam source 110, these energy beam source 110 is preferably arranged to form one or two rows or columns. エネルギー線源としては、電子線、紫外線、赤外線、レーザー光線、可視光線、電離放射線(X線、α線、β線、γ線など)、マイクロ波、または高周波などエネルギー線を放出可能なものであればよく、特に限定されるものではない。 The energy beam source, an electron beam, ultraviolet light, infrared light, laser, visible light, ionizing radiation (X-rays, alpha rays, beta rays, gamma rays, etc.), long as it can emit an energy beam such as microwave or radio frequency, Bayoku, but it is not particularly limited. エネルギー線源の形態としては、例えば、点状光源、線状光源を用いることができるが、特に限定されるものではなく、点状光源と線状光源とを組み合わせて用いるようにしてもよい。 The form of the energy radiation source, for example, point light source, it is possible to use a linear light source, is not particularly limited, may be used in combination with a point light source and the linear light source. エネルギー線源として点状光源を用いる場合には、複数の点状光源を直線状に配列するなどして線状光源を構成することが好ましい。 In the case of using a point light source as the energy beam source, it is preferable to constitute the linear light source, for example, by arranging a plurality of point light sources in a straight line. 線状光源は、ロール原盤101の回転軸と平行に配置することが好ましい。 Linear light source is preferably arranged parallel to the rotation axis of the roll master 101. 紫外線を放出するエネルギー線源としては、例えば、低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、ショートアーク放電ランプ、紫外線発光ダイオード、半導体レーザー、蛍光灯、有機エレクトロルミネッセンス、無機エレクトロルミネッセンス、発光ダイオード、光ファイバなどが挙げられるが、特にこれらに限定されるものではない。 As the energy ray source emitting ultraviolet rays, for example, low pressure mercury lamp, high pressure mercury lamps, short arc discharge lamps, ultraviolet light emitting diodes, semiconductor lasers, fluorescent lamp, organic electroluminescence, an inorganic electroluminescence, light emitting diodes, such as an optical fiber including but not particularly limited thereto. また、ロール原盤101の内部にスリットをさらに設け、このスリットを介してエネルギー線源110から放射されたエネルギー線がエネルギー線硬化性樹脂組成物118に対して照射されるようにしてもよい。 Moreover, further slits in the interior of the roll master 101, may be energy rays emitted from the energy beam source 110 through the slit is irradiated with energy ray curable resin composition 118. このとき、エネルギー線硬化性樹脂組成物118はエネルギー線を吸収することにより発生する熱によって硬化させても良い。 In this case, the energy ray-curable resin composition 118 may be cured by heat generated by absorbing the energy beam.

[ロール原盤露光装置の構成] [Configuration of a roll master exposure apparatus]
図5は、ロール原盤を作製するためのロール原盤露光装置の構成の一例を示す概略図である。 Figure 5 is a schematic diagram showing an example of the configuration of a roll master exposure apparatus for producing a roll master. このロール原盤露光装置は、光学ディスク記録装置をベースとして構成されている。 This roll master exposure apparatus is constituted of the optical disc recording apparatus as a base.

レーザー光源21は、記録媒体としてのロール原盤101の表面に着膜されたレジストを露光するための光源であり、例えば波長λ=266nmの記録用のレーザー光104を発振するものである。 Laser light source 21 is a light source for exposing the surface to-deposit resist the roll master 101 as a recording medium, such as those for oscillating a laser beam 104 for recording wavelength lambda = 266 nm. レーザー光源21から出射されたレーザー光104は、平行ビームのまま直進し、電気光学素子(EOM:Electro Optical Modulator)22へ入射する。 Laser beam 104 emitted from the laser light source 21 goes straight while the parallel beam, the electro-optical element: entering the (EOM Electro Optical Modulator) 22. 電気光学素子22を透過したレーザー光104は、ミラー23で反射され、変調光学系25に導かれる。 Laser beam 104 passed through the electro optical modulator 22 is reflected by the mirror 23, and is led to a modulation optical system 25.

ミラー23は、偏光ビームスプリッタで構成されており、一方の偏光成分を反射し他方の偏光成分を透過する機能をもつ。 Mirror 23 is constituted by a polarization beam splitter and has a function of transmitting the reflected other polarized light component one polarization component. ミラー23を透過した偏光成分はフォトダイオード24で受光され、その受光信号に基づいて電気光学素子22を制御してレーザー光104の位相変調を行う。 Polarized component transmitted through the mirror 23 is received by a photodiode 24 performs phase modulation of the laser light 104 by controlling the electro-optical element 22 on the basis of the received light signal.

変調光学系25において、レーザー光104は、集光レンズ26により、ガラス(SiO 2 )などからなる音響光学素子(AOM:Acoust-Optic Modulator)27に集光される。 In the modulation optical system 25, the laser beam 104, the condenser lens 26, a glass (SiO 2) acoustooptic element made of (AOM: Acoust-Optic Modulator) 27 is focused. レーザー光104は、音響光学素子27により強度変調され発散した後、レンズ28によって平行ビーム化される。 Laser beam 104, after intensity-modulated diverging by the acoustic optical element 27, is a parallel beam by a lens 28. 変調光学系25から出射されたレーザー光104は、ミラー31によって反射され、移動光学テーブル32上に水平かつ平行に導かれる。 Laser beam 104 emitted from the modulation optical system 25 is reflected by a mirror 31 and guided horizontally and in parallel on the moving optical table 32.

移動光学テーブル32は、ビームエキスパンダ33、および対物レンズ34を備えている。 Moving optical table 32 includes a beam expander 33 and an objective lens 34,. 移動光学テーブル32に導かれたレーザー光104は、ビームエキスパンダ33により所望のビーム形状に整形された後、対物レンズ34を介して、ロール原盤101上のレジスト層へ照射される。 Laser beam 104 guided to the moving optical table 32 is shaped into a desired beam shape by the beam expander 33, via the objective lens 34, it is applied to the resist layer on the roll master 101. ロール原盤101は、スピンドルモータ35に接続されたターンテーブル36の上に載置されている。 Roll master 101 is placed on a turntable 36 connected to a spindle motor 35. そして、ロール原盤101を回転させるとともに、レーザー光104をロール原盤101の高さ方向に移動させながら、レジスト層へレーザー光104を間欠的に照射することにより、レジスト層の露光工程が行われる。 Then, to rotate the roll master 101, while moving the laser beam 104 in the height direction of the roll master 101, by intermittently irradiating the laser beam 104 to the resist layer, the exposure step of the resist layer is performed. 形成された潜像は、円周方向に長軸を有する略楕円形になる。 The formed latent image takes the shape of nearly an ellipse having a major axis in the circumferential direction. レーザー光104の移動は、移動光学テーブル32の矢印R方向への移動によって行われる。 Movement of the laser beam 104 is performed by movement in the arrow R direction of the moving optical table 32.

露光装置は、例えば、図1Cに示した六方格子または準六方格子などの2次元パターンに対応する潜像をレジスト層に形成するための制御機構37を備えている。 Exposure apparatus, for example, a control mechanism 37 for forming a latent image that corresponds to a two dimensional pattern such as a hexagonal lattice or quasi-hexagonal lattice shown in FIG. 1C in the resist layer. 制御機構37は、フォマッター29とドライバ30とを備える。 Control mechanism 37 includes a formatter 29 and a driver 30. フォマッター29は、極性反転部を備え、この極性反転部が、レジスト層に対するレーザー光104の照射タイミングを制御する。 Formatter 29 is provided with a polarity inversion portion, the polarity inversion unit controls the irradiation timing of the laser beam 104 to the resist layer. ドライバ30は、極性反転部の出力を受けて、音響光学素子27を制御する。 The driver 30 receives the output from the polarity inversion portion and controls the acousto-optic element 27.

このロール原盤露光装置では、2次元パターンが空間的にリンクするように1トラック毎に極性反転フォマッター信号と記録装置の回転コントロラーを同期させ信号を発生し、音響光学素子27により強度変調している。 In this roll master exposure apparatus, two-dimensional pattern is generated a signal to synchronize the rotation controller of the polarity inversion formatter signal and the recording device for each track so as to spatially link and intensity modulation by the acousto-optic element 27 there. 角速度一定(CAV)で適切な回転数と適切な変調周波数と適切な送りピッチでパターニングすることにより、六方格子または準六方格子パターンを記録することができる。 By patterning with appropriate speed and appropriate modulation frequency and an appropriate feed pitch in constant angular velocity (CAV), the can record a hexagonal lattice or a quasi-hexagonal lattice pattern. 例えば、円周方向の周期を315nm、円周方向に対して約60度方向(約−60度方向)の周期を300nmにするには、送りピッチを251nmにすればよい(ピタゴラスの法則)。 For example, the period of the circumferentially 315 nm, a period of about 60 degree direction (about -60 degree direction) with respect to the circumferential direction to be 300nm may be a feeding pitch to 251 nm (Pythagorean law). 極性反転フォマッター信号の周波数はロールの回転数(例えば1800rpm、900rpm、450rpm、225rpm)により変化させる。 Frequency of the polarity inversion formatter signal is the rotational speed of the roll (e.g. 1800rpm, 900rpm, 450rpm, 225rpm) varied by. 例えば、ロールの回転数1800rpm、900rpm、450rpm、225rpmそれぞれに対向する極性反転フォマッター信号の周波数は、37.70MHz、18.85MHz、9.34MHz、4、71MHzとなる。 For example, the frequency of the polarity inversion formatter signal opposite rotation speed 1800rpm rolls, 900 rpm, 450 rpm, respectively 225rpm becomes 37.70MHz, 18.85MHz, 9.34MHz, and 4,71MHz. 所望の記録領域に空間周波数(円周315nm周期、円周方向約60度方向(約−60度方向)300nm周期)が一様な準六方格子パターンは、遠紫外線レーザー光を移動光学テーブル32上のビームエキスパンダ(BEX)33により5倍のビーム径に拡大し、開口数(NA)0.9の対物レンズ34を介してロール原盤101上のレジスト層に照射し、微細な潜像を形成することにより得られる。 Desired recording area on the spatial frequency (circumference 315nm cycle, circumferentially about 60 degrees (direction about -60 degrees) 300 nm period) uniform quasi-hexagonal lattice pattern, a far ultraviolet laser beam moving optical table 32 above beam expander by expander (BEX) 33 enlarged in beam diameter of 5 times, and irradiating the resist layer on the roll master 101 through the objective lens 34 of the numerical aperture (NA) 0.9, forming a fine latent image It can be obtained by.

[積層体の製造方法] [Method for producing a laminate]
図6A〜図7Eは、本発明の第1の実施形態に係る積層体の製造方法の一例を説明するための工程図である。 Figure 6A~ Figure 7E is a process diagram for explaining an example of a method for manufacturing a laminated body according to the first embodiment of the present invention.

(レジスト成膜工程) (Resist film forming process)
まず、図6Aに示すように、円筒状のロール原盤101を準備する。 First, as shown in FIG. 6A, is prepared a cylindrical roll master 101. 次に、図6Bに示すように、ロール原盤101の表面にレジスト層103を形成する。 Next, as shown in FIG. 6B, a resist layer 103 on the surface of the roll master 101. レジスト層103の材料としては、例えば、有機系レジスト、および無機系レジストのいずれを用いてもよい。 The material of the resist layer 103, for example, may be used any of organic resist, and an inorganic resist. 有機系レジストとしては、例えば、ノボラック系レジスト、化学増幅型レジストなどを用いることができる。 Examples of the organic resist can be used, for example, novolac resist, a chemical amplification resist. また、無機系レジストとしては、例えば、1種または2種以上の遷移金属からなる金属化合物を用いることができる。 Examples of the inorganic resist, for example, it is possible to use a metal compound comprising one or more transition metals.

(露光工程) (Exposure step)
次に、図6Cに示すように、ロール原盤101の表面に形成されたレジスト層103に、レーザー光(露光ビーム)104を照射する。 Next, as shown in FIG 6C, the resist layer 103 formed on the surface of the roll master 101, it is irradiated with a laser beam (exposure beam) 104. 具体的には、図5に示したロール原盤露光装置のターンテーブル36上に載置し、ロール原盤101を回転させると共に、レーザー光(露光ビーム)104をレジスト層103に照射する。 Specifically, placed on the turntable 36 of the roll master exposure apparatus shown in FIG. 5, to rotate the roll master 101, is irradiated with a laser beam (exposure beam) 104 in the resist layer 103. このとき、レーザー光104をロール原盤101の高さ方向(円柱状または円筒状のロール原盤101の中心軸に平行な方向)に移動させながら、レーザー光104を間欠的に照射することで、レジスト層103を全面にわたって露光する。 At this time, while moving the laser beam 104 in the height direction of the roll master 101 (cylindrical or cylindrical in a direction parallel to the central axis of the roll master 101), by intermittently irradiating the laser beam 104, the resist exposing the layer 103 over the entire surface. これにより、レーザー光104の軌跡に応じた潜像105が、可視光波長と同程度のピッチでレジスト層103の全面にわたって形成される。 Thus, the latent image 105 corresponding to the trajectory of the laser beam 104 is formed on the entire surface of the resist layer 103 in the visible light wavelength about the same pitch.

潜像105は、例えば、原盤表面において複数列のトラックをなすように配置されるとともに、六方格子パターンまたは準六方格子パターンを形成する。 Latent image 105 is, for example, while being arranged so as to form a plurality of rows of tracks on the surface of the master to form a hexagonal lattice pattern or a quasi-hexagonal lattice pattern. 潜像105は、例えば、トラックの延在方向に長軸方向を有する楕円形状である。 Latent image 105 is, for example, an elliptical shape having a major axis direction in the extension direction of the track.

(現像工程) (Developing step)
次に、ロール原盤101を回転させながら、レジスト層103上に現像液を滴下して、図6Dに示すように、レジスト層103を現像処理する。 Next, while rotating the roll master 101, and a developing solution is dropped on the resist layer 103, as shown in FIG. 6D, a resist layer 103 is developed. 図示するように、レジスト層103をポジ型のレジストにより形成した場合には、レーザー光104で露光した露光部は、非露光部と比較して現像液に対する溶解速度が増すので、潜像(露光部)105に応じたパターンがレジスト層103に形成される。 As shown, when the resist layer 103 was formed by a positive type resist, the exposed portions exposed with the laser beam 104, because the dissolution rate increases with respect to the developer as compared with unexposed portion, a latent image (exposure pattern corresponding to the portion) 105 is formed on the resist layer 103.

(エッチング工程) (Etching step)
次に、ロール原盤101の上に形成されたレジスト層103のパターン(レジストパターン)をマスクとして、ロール原盤101の表面をエッチング処理する。 Next, the pattern of the resist layer 103 formed on the roll master 101 (resist pattern) as a mask, the surface of the roll master 101 is etched. これにより、図7Aに示すように、トラックの延在方向に長軸方向をもつ楕円錐形状または楕円錐台形状の凹部、すなわち構造体102を得ることができる。 This makes it possible to obtain, as shown in FIG. 7A, elliptical cone shape or a concave portion of the elliptical cone shape having a major axis direction in the extension direction of the track, i.e. the structure 102. エッチングとしては、例えばドライエッチングやウエットエッチングを用いることができる。 The etching may be, for example, dry etching or wet etching.

(線源配置工程) (Source placement step)
次に、図7Bに示すように、ロール原盤101内の収容空間(空洞部)に、1または複数のエネルギー線源110を配置する。 Next, as shown in FIG. 7B, the housing space of the roll master 101 (cavity), placing one or more energy beam sources 110. エネルギー線源110は、ロール原盤101の幅方向Dwまたは回転軸lの軸方向と平行に配置することが好ましい。 Energy beam source 110 is preferably disposed parallel to the axial direction in the width direction Dw or rotational axis l of the roll master 101.

(転写工程) (Transfer process)
次に、必要に応じて、エネルギー線硬化性樹脂組成物118が塗布される基体1の表面に対して、コロナ処理、プラズマ処理、火炎処理、UV処理、オゾン処理、ブラスト処理などの表面処理を施す。 Then, if necessary, with respect to energy ray-curable resin composition 118 is a substrate 1 of the surface to be coated, corona treatment, plasma treatment, flame treatment, UV treatment, ozone treatment, a surface treatment such as blasting applied. 次に、図7Cに示すように、長尺の基体1またはロール原盤101上にエネルギー線硬化性樹脂組成物118を塗布または印刷する。 Next, as shown in FIG. 7C, it is coated or printed with an energy ray curable resin composition 118 onto the substrate 1 or the roll master 101 long. 塗布方法は特に限定されるものではないが、例えば、基体上または原盤上へのポッティング、スピンコート法、グラビアコート法、ダイコート法、バーコート法などを用いることができる。 Although the coating method is not particularly limited, for example, can be used potting onto a substrate or on the master, a spin coating method, a gravure coating method, die coating method, bar coating method and the like. 印刷方法としては、例えば、凸版印刷法、オフセット印刷法、グラビア印刷法、凹版印刷法、ゴム版印刷法、スクリーン印刷法などを用いることができる。 As the printing method, for example, a relief printing method, offset printing method, gravure printing method, intaglio printing method, rubber plate printing method, a screen printing method can be used. 次に、必要に応じて、溶剤除去やプリベークなどの加熱処理を行う。 Then, if necessary, subjected to heat treatment such as solvent removal and pre-baking.

次に、ロール原盤101を回転させながら、その転写面Spをエネルギー線硬化性樹脂組成物118に密着させるとともに、ロール原盤101内のエネルギー線源110から出射されたエネルギー線を、ロール原盤101の転写面Spの側からエネルギー線硬化性樹脂組成物118に対して照射する。 Next, while rotating the roll master 101, causes intimate contact the transfer surface Sp energy ray curable resin composition 118, the energy beam emitted from the energy beam source 110 in the roll master 101, the roll master 101 irradiated against the energy ray-curable resin composition 118 from the side of the transfer surface Sp. これにより、エネルギー線硬化性樹脂組成物118が硬化し、形状層2が形成される。 Thus, the energy ray-curable resin composition 118 is cured, shaped layer 2 is formed. 具体的には、エネルギー線硬化性樹脂組成物118の硬化反応が、ロール原盤101の転写面Sp側から基体1の表面側に向けて順次進行し、塗布または印刷されたエネルギー線硬化性樹脂組成物118の全体が硬化することで、形状層2が形成される。 Specifically, the curing reaction of the radiation-curable resin composition 118 is sequentially advanced toward the surface side of the substrate 1 from the transfer surface Sp side of the roll master 101, coating or printing energy ray-curable resin composition by entire object 118 is cured, shaped layer 2 is formed. 基底層22の有無、または基底層22の厚さは、例えば、基体1の表面に対するロール原盤101の圧力を調整することにより選択可能である。 The presence or absence of base layer 22 or the thickness of the base layer 22, is, for example, be selected by adjusting the pressure of the roll master 101 relative to the surface of the substrate 1. 次に、基体1上に形成された形状層2をロール原盤101の転写面Spから剥離する。 Then, to peel the shaped layer 2 formed on the substrate 1 from the transfer surface Sp of the roll master 101. これにより、図6Eに示すように、基体1の表面に形状層2が形成された積層体が得られる。 Thus, as shown in FIG. 6E, laminate shaped layer 2 is formed on the surface of the substrate 1 is obtained. この転写工程では、上述のようにして、帯状を有する基体1の長手方向をロール原盤101の回転進行方向として凹凸形状が転写される。 In this transfer process, as described above, unevenness is transferred in the longitudinal direction of the base 1 having a strip as the rotation direction of travel of the roll master 101.

ここで、図3に示す転写装置を用いた転写工程について具体的に説明する。 Here it will be specifically described transfer process using the transfer device shown in FIG.
まず、基体供給ロール111から長尺の基体1を送出し、送出された基体1は、塗布装置117の下を通過する。 First, it sends the base 1 elongated from the substrate supply roll 111, the sent substrate 1, passes under the coating device 117. 次に、塗布装置117の下を通過する基体1上に、塗布装置117によりエネルギー線硬化性樹脂組成物118を塗布する。 Next, on the substrate 1 to pass under the coating device 117, applying a radiation-curable resin composition 118 by applying apparatus 117. 次に、エネルギー線硬化性樹脂組成物118が塗布された基体1をガイドロール113を経てロール原盤101に向けて搬送する。 Next, the substrate 1 on which energy ray curable resin composition 118 is applied through the guide roll 113 conveys the roll master 101.

次に、基体1とエネルギー線硬化性樹脂組成物118との間に気泡が入らないように、搬入された基体1をロール原盤101とニップロール115とにより挟み合わる。 Next, the substrate 1 and so as to prevent bubbles from entering between the energy ray-curable resin composition 118, Awaru sandwiching the loaded substrate 1 by a roll master 101 and nip roll 115. その後、エネルギー線硬化性樹脂組成物118をロール原盤101の転写面Spに密着させながら、基体1をロール原盤101の転写面Spに沿わせて搬送するとともに、1または複数のエネルギー線源110から放射されたエネルギー線を、ロール原盤101の転写面Spを介してエネルギー線硬化性樹脂組成物118に対して照射する。 Then, an energy ray curable resin composition 118 while in close contact with the transfer surface Sp of the roll master 101, conveys it and along the base 1 to the transfer surface Sp of the roll master 101, from one or more energy beam sources 110 the emitted energy beam is irradiated to the energy ray-curable resin composition 118 via the transfer surface Sp of the roll master 101. これにより、エネルギー線硬化性樹脂組成物118が硬化し、形状層2が形成さる。 Thus, it cured energy ray-curable resin composition 118, shaped layer 2 is formed monkey. 次に、剥離ロール116により、ロール原盤101の転写面Spから形状層2が剥離されて、長尺の積層体が得られる。 Next, the peeling roll 116, shaped layer 2 from the transfer surface Sp of the roll master 101 is peeled off, the laminate long is obtained. 次に、得られた積層体を、ガイドロール114を介して巻き取り112に向けて搬送し、長尺の積層体を巻き取りロール112により巻き取る。 Then, the resultant laminate was conveyed to the winding 112 via the guide roll 114, wound by a winding roll 112 the laminate long. これにより、長尺の積層体が巻回された原反が得られる。 Thus, raw fabric of laminate long is wound is obtained.

<2. <2. 第2の実施形態> The second embodiment>
図8は、本発明の第2の実施形態に係る転写装置の構成の一例を示す概略図である。 Figure 8 is a schematic diagram showing an example of the configuration of a transfer apparatus according to a second embodiment of the present invention. この転写装置は、ロール原盤101と、塗布装置117と、搬送ステージ121とを備える。 The transfer device includes a roll master 101, a coating device 117, and a transfer stage 121. 第2の実施形態において、第1の実施形態と同一の箇所には同一の符号を付して説明を省略する。 In the second embodiment, the same portions as the first embodiment will not be described are denoted by the same reference numerals. 搬送ステージ121は、この搬送ステージ121上に載置された基体1を矢印aの方向に向けて搬送可能に構成されている。 Transfer stage 121 are transportable configured the placed substrate 1 on the transfer stage 121 in the direction of arrow a.

次に、上述の構成を有する転写装置の動作の一例について説明する。 Next, an example of operation of the transfer apparatus having the above-described configuration.
まず、塗布装置117の下を通過する基体1上に、塗布装置117によりエネルギー線硬化性樹脂組成物118を塗布する。 First, on a substrate 1 passes beneath the coating apparatus 117, for applying the energy ray-curable resin composition 118 by applying apparatus 117. 次に、エネルギー線硬化性樹脂組成物118が塗布された基体1をロール原盤101に向けて搬送する。 Next, the substrate 1 on which energy ray curable resin composition 118 is applied to transported toward the roll master 101. 次に、エネルギー線硬化性樹脂組成物118をロール原盤101の転写面Spに密着させながら搬送するとともに、ロール原盤101内に設けられた1または複数のエネルギー線源110から放射されたエネルギー線を、ロール原盤101の転写面Spを介してエネルギー線硬化性樹脂組成物118に対して照射する。 Then, an energy ray curable resin composition 118 conveys while in close contact with the transfer surface Sp of the roll master 101, the energy beam emitted from one or more energy beam sources 110 provided in the roll master 101 and irradiating the energy ray curable resin composition 118 via the transfer surface Sp of the roll master 101. これにより、エネルギー線硬化性樹脂組成物118が硬化し、形状層2が形成さる。 Thus, it cured energy ray-curable resin composition 118, shaped layer 2 is formed monkey. 次に、搬送ステージを矢印aの方向に搬送することにより、ロール原盤101の転写面Spから形状層2を剥離する。 Then, by conveying the carrier stage in the direction of arrow a, to peel the shaped layer 2 from the transfer surface Sp of the roll master 101. これにより、長尺の積層体が得られる。 Thus, the laminate long is obtained. 次に、必要に応じて、得られた積層体を所定の大きさまたは形状に裁断する。 Then, if necessary, to cut the obtained laminate into a predetermined size or shape. 以上により、目的とする積層体が得られる。 Thus, the laminate of interest are obtained.

<3. <3. 第3の実施形態> Third Embodiment>
図9は、本発明の第3の実施形態に係る転写装置の構成の一例を示す概略図である。 Figure 9 is a schematic diagram showing an example of the configuration of a transfer apparatus according to a third embodiment of the present invention. この転写装置は、ロール131、132、134、135と、ベルト原盤であるエンボスベルト133と、平坦ベルト136と、1個または複数個のエネルギー線源110と、塗布装置117とを備える。 The transfer device includes a roll 131,132,134,135, and embossing belt 133 is a belt master, the flat belt 136, and one or more energy beam sources 110, and a coating device 117. 第3の実施形態において、第1の実施形態と同一の箇所には同一の符号を付して説明を省略する。 In a third embodiment, the same portions as the first embodiment will not be described are denoted by the same reference numerals.

エンボスベルト133は、環状の形状を有し、その外周面には複数の構造体102が、例えば2次元配列されている。 Embossing belt 133 has an annular shape, and its outer peripheral surface a plurality of structures 102 are arranged, for example, a two-dimensional. エンボスベルト133は、エネルギー線に対して透過性を有している。 Embossing belt 133 has a transparent to energy beam. 平坦ベルト136は、環状の形状を有し、その外周面は平坦面とされている。 Flat belt 136 has an annular shape, the outer peripheral surface thereof is a flat surface. エンボスベルト133と平坦ベルト136との間には、基体2の厚さ程度の間隙が形成され、これらのベルトの間を、エネルギー線硬化性樹脂組成物118が塗布された基体1が走行可能となっている。 Between the embossing belt 133 and the flat belt 136 is formed a gap of about the substrate 2 thickness, between these belts, the substrate 1 the energy ray curable resin composition 118 is applied is the travelable going on.

ロール131とロール132とは離間して配置され、これらのロール131とロール132とにより、エンボスベルト133がその内周面により支持されて、エンボスベルト133が細長い長円形状などに形状保持されている。 Is spaced from the roller 131 and the roller 132, by these roller 131 and roller 132, the emboss belt 133 is supported by the inner peripheral surface thereof, is shape-retaining, such as the embossed belt 133 elongated oval there. エンボスベルト133の内側に配置されたロール131とロール132とを回転駆動させることにより、エンボスベルト133が回転走行されるようになっている。 By the roll 131 and the roll 132 disposed inside the embossing belt 133 is driven to rotate, emboss belt 133 is adapted to be rotated travel.

ロール134およびロール135はそれぞれ、ロール131およびロール132に対向して配置されている。 Each roll 134 and roll 135 is disposed to face the roller 131 and roller 132. これらのロール134とロール135とにより、平坦ベルト136がその内周面により支持されて、平坦ベルト136が細長い長円形状などに形状保持されている。 By these rolls 134 and rolls 135, flat belt 136 is the inner is supported by the peripheral surface, and is shape-retaining, such as an elongated oval shape flat belt 136. 平坦ベルト136の内側に配置されたロール134とロール135とを回転駆動させることにより、平坦ベルト136が回転走行されるようになっている。 By rotationally driving the roll 134 and the roll 135 disposed inside the flat belt 136, so that the flat belt 136 is rotated travel.

エンボスベルト133の内側には、1または複数のエネルギー線源110が配置されている。 Inside the embossing belt 133, one or more energy beam sources 110 are disposed. 1または複数のエネルギー線源110は、エンボスベルト133と平坦ベルト136との間を走行する基体1に対して、エネルギー線を照射可能に保持されている。 One or more energy beam sources 110, to the substrate 1 running between the embossing belt 133 and the flat belt 136, and is irradiated can hold the energy beam. 線状光源などのエネルギー線源110は、エンボスベルト133の幅方向と平行に配置することが好ましい。 The energy radiation source, such as the linear light source 110 is preferably parallel to the width direction of the embossing belt 133. エネルギー線源110の配置位置はエンボスベルト133の内周面により形成される空間内であればよく特に限定されるものではない。 Position of the energy beam source 110 is not particularly limited as long a space formed by the inner peripheral surface of the embossing belt 133. 例えば、ロール131およびロール132の少なくとも一方の内部に配置するようにしてもよい。 For example, it may be disposed within the at least one roll 131 and roll 132. この場合、ロール131およびロール132をエネルギー線に対して透過性を有する材料により形成することが好ましい。 In this case, it is preferable to form a material having a permeability to roll 131 and roll 132 relative to the energy beam.

次に、上述の構成を有する転写装置の動作の一例について説明する。 Next, an example of operation of the transfer apparatus having the above-described configuration.
まず、塗布装置117の下を通過する基体1上に、塗布装置117によりエネルギー線硬化性樹脂組成物118を塗布する。 First, on a substrate 1 passes beneath the coating apparatus 117, for applying the energy ray-curable resin composition 118 by applying apparatus 117. 次に、回転するエンボスベルト133と平坦ベルト136との間の間隙に、ロール131、134の側からエネルギー線硬化性樹脂組成物118が塗布された基材11を搬入する。 Then, the gap between the embossing belt 133 and the flat belt 136 which rotates and carries the substrate 11 to the energy ray curable resin composition 118 from the side of the roll 131 and 134 is applied. これにより、エンボスベルト133の転写面とエネルギー線硬化性樹脂組成物118とが密着する。 Thereby, the transfer surface and the energy beam curable resin composition 118 of the embossing belt 133 are brought into close contact. 次に、この密着状態を維持しながら、エネルギー線源110から放射されたエネルギー線を、エンボスベルト133を介してエネルギー線硬化性樹脂組成物118に対して照射する。 Then, while maintaining this contact state, an energy ray emitted from the energy beam source 110 is irradiated with energy ray curable resin composition 118 through the embossing belt 133. これにより、エネルギー線硬化性樹脂組成物118が硬化され、基体1上に形状層2が形成される。 Thus, the energy ray-curable resin composition 118 is cured, shaped layer 2 is formed on the substrate 1. 次に、エンボスベルト133を形状層2から剥離する。 Then, to peel the embossed belt 133 from the shaped layer 2. これにより、目的とする積層体が得られる。 Thus, the laminate of interest are obtained.

<4. <4. 第4の実施形態> Fourth Embodiment>
図10Aは、本発明の第4の実施形態に係る積層体の構成の一例を示す平面図である。 Figure 10A is a plan view showing an example of a fourth laminate according to the embodiment of the configuration of the present invention. 図10Bは、図10Aに示した積層体の一部を拡大して表す平面図である。 Figure 10B is a plan view illustrating an enlarged part of the stacked body illustrated in FIG. 10A. 第4の実施形態に係る積層体は、構造体3を蛇行するトラック(以下ウォブルトラックと称する。)上に配列している点において、第1の実施形態に係る積層体とは異なっている。 Laminate according to the fourth embodiment, in that it is arranged on the track (hereinafter referred to as a wobble track.) Meandering structures 3 is different from the laminate according to the first embodiment. 基体2上における各トラックのウォブルは、同期していることが好ましい。 Wobble of the tracks on the substrate 2 are preferably synchronized. すなわち、ウォブルは、シンクロナイズドウォブルであることが好ましい。 That is, the wobbles are preferably synchronized wobbles. このようにウォブルを同期させることで、六方格子または準六方格子などの単位格子形状を保持し、充填率を高く保つことができる。 By thus synchronizing the wobbles, holding the unit lattice shape such as a hexagonal lattice or a quasi-hexagonal lattice, it is possible to keep the fill ratio high. ウォブルトラックの波形としては、例えば、サイン波、三角波などを挙げることができるが、これに限定されるものではない。 The waveform of the wobble tracks, for example, sine wave, there may be mentioned a triangular wave, but is not limited thereto. ウォブルトラックの波形は、周期的な波形に限定されるものではなく、非周期的な波形としてもよい。 Waveform of the wobble tracks is not limited to a periodic waveform may be aperiodic waveform.
この第4の実施形態において、上記以外のことは、第1の実施形態と同様である。 In this fourth embodiment, the items other than the above is similar to the first embodiment.

<5. <5. 第5の実施形態> Fifth Embodiment>
図11Aは、本発明の第5の実施形態に係る積層体の構成の一例を示す断面図である。 Figure 11A is a cross-sectional view showing an example of a configuration of a laminated body according to a fifth embodiment of the present invention. 図11Bは、図11Aに示した積層体の一部を拡大して表す平面図である。 Figure 11B is a plan view illustrating an enlarged part of the stacked body illustrated in FIG. 11A. 図11Cは、図11Bに示した積層体の断面図である。 Figure 11C is a cross-sectional view of the stack shown in FIG. 11B. 第4の実施形態に係る積層体は、複数の構造体21がランダムに2次元配列されている点において、第1の実施形態とは異なっている。 Laminate according to the fourth embodiment, in that a plurality of structures 21 are arranged two-dimensionally at random, it is different from the first embodiment. また、構造体21の大きさおよび/または高さもランダムに変化させるようにしてもよい。 The size of the structures 21 and / or the height may also be varied randomly.
この第5の実施形態において、上記以外のことは、第1の実施形態と同様である。 In this fifth embodiment, the items other than the above is similar to the first embodiment.

<6. <6. 第6の実施形態> The sixth embodiment>
図12は、本発明の第6の実施形態に係る積層体の構成の一例示す斜視図である。 Figure 12 is a sixth perspective view showing an example of a configuration of a laminate according to an embodiment of the present invention. 図12に示すように、第6の実施形態に係る積層体は、基体表面にて一方向に延在された柱状の構造体21を有し、この構造体21が基体1上に1次元配列されている点において、第1の実施形態のものとは異なっている。 As shown in FIG. 12, the laminate according to the sixth embodiment has a columnar structure 21 which extends in one direction at the substrate surface, one-dimensional array to the structure 21 on the substrate 1 in that it is, it is different from that of the first embodiment.

構造体21の断面形状は、例えば三角形状、頂部に曲率Rが付された三角形状、多角形状、半円形状、半楕円形状、放物線状、トロイダル形状などを挙げることができるが、特に限定されるものではない。 Sectional shape of the structure 21, for example triangular, triangular curvature R has been added at the top, polygonal, semicircular, semi-elliptical, parabolic, there may be mentioned a toroidal shape, limited not shall. また、構造体21をウォブルさせながら一方向に延在させるようにしてもよい。 It is also possible to extend in one direction while wobbling the structure 21.
この第6の実施形態において、上記以外のことは、第1の実施形態と同様である。 In the sixth embodiment, it is otherwise the same as in the first embodiment.

<7. <7. 第7の実施形態> Seventh embodiment>
図13A〜図13Eは、本発明の第7の実施形態に係る積層体に備えられた基体の第1〜第5の例を示す断面図である。 Figure 13A~ Figure 13E is a cross-sectional view showing a seventh first to fifth example of a provided substrate in the laminate according to the embodiment of the present invention. 第7の実施形態に係る積層体は、基体1の両主面に複数の構造体21が2次元配列されている点において、第1の実施形態に係る積層体とは異なっている。 Laminate according to the seventh embodiment in that a plurality of structures 21 on both main surfaces of the substrate 1 are arranged two-dimensionally, it is different from the laminate according to the first embodiment. 具体的には、第1〜第5の例の積層体はそれぞれ、基体1の両主面に複数の構造体21が2次元配列されている点以外のことは、上述の第1の実施形態に係る積層体の第1〜第5の例と同様である(図2参照)。 Specifically, each of the laminate of the first to fifth examples, it except that a plurality of structures 21 on both main surfaces of the substrate 1 are arranged two-dimensionally, the first embodiment described above it is similar to the first to fifth examples of the multilayer body according to (see FIG. 2).
この第7の実施形態において、上記以外のことは、第1の実施形態と同様である。 In the seventh embodiment, it is otherwise the same as in the first embodiment.

<8. <8. 第8の実施形態> The eighth embodiment>
図14Aは、本発明の第8の実施形態に係る積層体に備えられた基体の第1の例を示す断面図である。 Figure 14A is a cross-sectional view showing a first example of the eighth a provided substrate in the laminate according to the embodiment of the present invention. 図14Bは、本発明の第8の実施形態に係る積層体に備えられた基体の第2の例を示す断面図である。 Figure 14B is a cross-sectional view illustrating an eighth second example of a provided substrate in the laminate according to the embodiment of the present invention. 第8の実施形態に係る積層体は、構造体21がエネルギー線に対して不透過性を有している点において、第1の実施形態または第7の実施形態に係る積層体とは異なっている。 Laminate according to the eighth embodiment in that the structure 21 has a opaque to energy radiation, the laminate according to the first embodiment or the seventh embodiment different there. このような不透過性を有する構造体21は、例えば、エネルギー線を吸収する顔料などの材料をエネルギー線硬化性樹脂組成物に添加することにより形成することが可能である。 Structure 21 having such impermeability, for example, it can be formed by adding a material such as a pigment that absorbs energy ray energy ray curable resin composition.
この第8の実施形態において、上記以外のことは、第1の実施形態と同様である。 In this eighth embodiment, it is otherwise the same as in the first embodiment.

以上、この発明の実施形態について具体的に説明したが、この発明は、上述の実施形態に限定されるものではなく、この発明の技術的思想に基づく各種の変形が可能である。 Has been specifically described embodiments of the invention, the invention is not limited to the embodiments described above but can be modified in various ways based on the technical idea of ​​the present invention.

例えば、上述の実施形態において挙げた構成、工程、方法、形状、材料および数値などはあくまでも例に過ぎず、必要に応じてこれと異なる構成、工程、方法、形状、材料および数値などを用いてもよい。 For example, structures described in the above embodiments, steps, methods, shapes, are merely examples such materials, numerical values, and different configurations as needed, using processes, methods, shapes, and materials, numerical values it may be.

また、上述の実施形態の各構成、工程、方法、形状、材料および数値などは、この発明の主旨を逸脱しない限り、互いに組み合わせることが可能である。 The constituent of the above-described embodiments, steps, methods, shapes, etc. materials and numerical values, without departing from the gist of the present invention, can be combined with each other.

1 基体 2 構造体 11a 不透過層 11b 透過層 21 構造体 22 基底層 101 ロール原盤 102 構造体 110 エネルギー線源 118 エネルギー線硬化性樹脂組成物 133 エンボスベルト 136 平坦ベルト Sp 成形面 Si 裏面 1 substrate 2 structure 11a opaque layer 11b transmissive layer 21 structure 22 basal layer 101 roll master 102 structure 110 energy beam source 118 energy ray curable resin composition 133 embossing belt 136 flat belt Sp forming surface Si back surface

Claims (11)

  1. 基体上にエネルギー線硬化性樹脂組成物を塗布する工程と、 A step of applying an energy ray-curable resin composition on a substrate,
    上記基体上に塗布されたエネルギー線硬化性樹脂組成物に対して回転原盤の回転面を回転密着させながら、上記回転原盤内に設けられた1または複数のエネルギー線源から放射されたエネルギー線を上記回転面を介して照射し、上記エネルギー線硬化性樹脂組成物を硬化させることにより、上記回転面の凹凸形状が転写された形状層を上記基体上に形成する工程と を備える積層体の製造方法。 While rotating in close contact with the rotating surface of the rotating master with respect to the base energy ray-curable resin composition applied onto the energy rays emitted from one or more energy beam sources provided within the rotating master irradiated via the rotating surface, by curing the energy ray-curable resin composition, production of a laminate and forming a shaped layer in which concave-convex shape is transferred above the rotating surface onto said substrate Method.
  2. 上記基体は、上記エネルギー線に対して不透過性を有する請求項1記載の積層体の製造方法。 It said substrate is a manufacturing method of the laminate according to claim 1 wherein that is impermeable to the energy beam.
  3. 上記回転面の凹凸形状は、凸状または凹状の複数の構造体を1次元配列または2次元配列することにより形成される請求項1記載の積層体の製造方法。 The uneven shape of the surface of revolution, the production method according to claim 1 laminate according formed by arranging the convex or concave of the plurality of structures one-dimensional array or two-dimensional.
  4. 上記複数の構造体は、規則的または不規則的に配置されている請求項3記載の積層体の製造方法。 It said plurality of structures, regularly or irregularly arranged to have claim 3 method for producing a laminate according.
  5. 上記複数の構造体が、サブ波長構造体である請求項3記載の積層体の製造方法。 It said plurality of structures, method for producing a laminate according to claim 3, wherein the sub-wavelength structures.
  6. 上記回転原盤は、ロール原盤またはベルト原盤である請求項1記載の積層体の製造方法。 The rotating master disk method for manufacturing a laminate according to claim 1, wherein the roll stamper or belt master.
  7. 上記1または複数のエネルギー線源は、上記回転原盤の幅方向に配置されている請求項1記載の積層体の製造方法。 The one or more energy-ray source, method for producing a laminate according to claim 1, wherein arranged in the width direction of the rotating master disk.
  8. 上記基体は、帯状の形状を有し、 Said substrate has a belt-like shape,
    上記形状層の形成工程では、上記基体の長手方向を回転進行方向として上記凹凸形状が転写される請求項1記載の積層体の製造方法。 In the step of forming the shaped layer, method for producing a laminate according to claim 1, wherein the uneven shape is transferred in the longitudinal direction of the substrate as a rotation direction of travel.
  9. 上記基体が、少なくとも1つの平面または曲面を有し、 It said substrate has at least one flat or curved,
    上記平面または曲面に上記形状層が形成される請求項1記載の積層体の製造方法。 The method for manufacturing a laminate according to claim 1, wherein said shaped layer in the flat or curved surface is formed.
  10. 凹凸形状を有する回転面と、 A rotating surface having an uneven shape,
    上記回転面の内側に設けられた1または複数のエネルギー線源と を有する回転原盤を備え、 A rotating master having a one or more energy beam sources provided on the inside of the rotating surface,
    上記回転原盤は、上記エネルギー線源から放射されたエネルギー線に対して透過性を有し、 The rotating master has transparent to the radiated energy beam from the energy beam source,
    基体上に塗布されたエネルギー線硬化性樹脂組成物に対して上記回転原盤の回転面を回転密着させながら、上記エネルギー線源から放射されたエネルギー線を上記回転面を介して照射し、上記エネルギー線硬化性樹脂組成物を硬化させることにより、上記回転面の凹凸形状が転写された形状層を上記基体上に形成する転写装置。 While rotating in close contact with the rotating surface of the rotating master relative energy ray-curable resin composition applied onto the substrate, the emitted energy beam is irradiated via the rotating surface from the energy ray source, the energy by curing line curable resin composition, a transfer device for forming on said substrate a shape layer irregularities is transferred above the rotating surface.
  11. 凹凸形状を有する回転面を備え、 A rotating surface having an uneven shape,
    エネルギー線源から放射されたエネルギー線に対して透過性を有し、 Has transparent to the radiated energy beam from the energy beam source,
    上記エネルギー線源から放射されたエネルギー線を、上記回転面を介してエネルギー線硬化性樹脂組成物に対して照射し硬化可能とし得る原盤。 Master the energy beam emitted from the energy beam source may be irradiated with curable with respect to the rotating surface through an energy ray curable resin composition.
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