JP2012017405A - Epoxy resin composition, molding, varnish, film adhesive, and film adhesive-coated copper foil - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an epoxy resin composition excellent in thermal conductivity and heat resistance; to provide a cured material, a varnish, and a film adhesive, which are obtained by using the epoxy resin composition; and to provide a film adhesive-coated copper foil.SOLUTION: The epoxy resin composition contains an epoxy resin, a curing agent and an inorganic filler. As the epoxy resin component, 50 wt.% or more of an epoxy resin obtained by epoxidizing dihydroxydiphenyl ether is used in the epoxy resin component. As the curing agent, 50 wt.% or more of a phenolic compound comprised of tris(4-hydroxyphenyl)methanes or 1,1,2,2-tetrakis(4-hydroxyphenyl)ethanes is used in the curing resin composition. The epoxy resin composition is obtained by adding 50-96 wt.% of the inorganic filler thereto.

Description

本発明は、信頼性に優れた半導体封止、積層板、放熱基板等の電気・電子材料用絶縁材料として有用なエポキシ樹脂組成物及びそれを用いて得た成形物、ワニス、フィルム状接着剤及びフィルム状接着剤付き銅箔に関する。   The present invention relates to an epoxy resin composition useful as an insulating material for electrical and electronic materials such as semiconductor sealing, laminate, and heat dissipation board having excellent reliability, and a molded product, varnish, and film adhesive obtained using the same. And a copper foil with a film adhesive.

従来、ダイオード、トランジスタ、集積回路等の電気、電子部品や、半導体装置等の封止方法として、例えばエポキシ樹脂やシリコーン樹脂等による封止方法やガラス、金属、セラミック等を用いたハーメチックシール法が採用されていたが、近年では信頼性の向上と共に大量生産が可能で、コストメリットのあるトランスファー成形による樹脂封止が主流を占めている。   Conventionally, as a sealing method for electrical and electronic parts such as diodes, transistors, and integrated circuits, and semiconductor devices, for example, a sealing method using an epoxy resin or a silicone resin, or a hermetic sealing method using glass, metal, ceramic, etc. In recent years, resin sealing by transfer molding, which can be mass-produced with improved reliability and cost-effective, has been the mainstream in recent years.

トランスファー成形による樹脂封止に用いられる樹脂組成物においては、エポキシ樹脂と、硬化剤としてフェノール樹脂を主成分とする樹脂組成物からなる封止材料が一般的に使用されている。   In a resin composition used for resin sealing by transfer molding, a sealing material composed of an epoxy resin and a resin composition mainly composed of a phenol resin as a curing agent is generally used.

パワーデバイスなどの素子を保護する目的で使用されるエポキシ樹脂組成物は、素子が放出する多量の熱に対応するため、結晶シリカなどの無機充填材を高密度に充填している。   Epoxy resin compositions used for the purpose of protecting elements such as power devices are filled with an inorganic filler such as crystalline silica at a high density in order to cope with a large amount of heat released from the element.

パワーデバイスには、ICの技術を組み込んだワンチップで構成されるものやモジュール化されたものなどがあり、封止材料に対する放熱性、耐熱性、熱膨張性の更なる向上が望まれている。   Power devices include one-chip devices that incorporate IC technology and those that are modularized, and further improvements in heat dissipation, heat resistance, and thermal expansion for sealing materials are desired. .

一方、絶縁基板においては、搭載される電子部品からの発熱を無視することができなくなっており、特に、高電流、高電圧で使用する電子部品においてはこの発熱が顕著である。そこで、高発熱性の電子部品を搭載する絶縁基板については高い放熱性が要求されるようになっている。   On the other hand, in the insulating substrate, heat generation from the mounted electronic component cannot be ignored, and this heat generation is particularly remarkable in the electronic component used at a high current and high voltage. Therefore, high heat dissipation is required for an insulating substrate on which highly exothermic electronic components are mounted.

絶縁基板に高い放熱性を付与するために、絶縁基板材料において高熱伝導性を有するアルミナ等の無機充填材を充填する方法が行われている。   In order to impart high heat dissipation to an insulating substrate, a method of filling an insulating substrate material with an inorganic filler such as alumina having high thermal conductivity has been performed.

これらの要求に対応するべく、封止材料においては、熱伝導率を向上するために熱伝導率の大きい結晶シリカ、窒化珪素、窒化アルミニウム、球状アルミナ粉末等の無機充填材を含有させるなどの試みがなされている(特許文献1、2)が、無機充填材の含有率を上げていくと成形時の粘度上昇とともに流動性が低下し、成形性が損なわれるという問題が生じる。   In order to meet these requirements, the sealing material contains an inorganic filler such as crystalline silica, silicon nitride, aluminum nitride, and spherical alumina powder having a high thermal conductivity in order to improve the thermal conductivity. (Patent Documents 1 and 2), however, when the content of the inorganic filler is increased, there is a problem in that the fluidity decreases with increasing viscosity during molding, and the moldability is impaired.

一方、絶縁基板材料においては、熱伝導率を向上するために平均粒子径が所定の分布を有する熱伝導率の大きい無機充填材を用いて、比較的高い割合で配合した熱伝導性樹脂組成物が提案されている(特許文献3)が、熱伝導率の大きい無機充填材を多量に充填することによって高熱伝導性を達成できても、絶縁接着層としての加工性が低下したり、得られる絶縁接着層の表面状態が悪化したりして、耐電圧特性や接着性が劣るという問題が生じる。従って、単に無機充填材の含有率を高める方法には限界があった。   On the other hand, in the insulating substrate material, in order to improve the thermal conductivity, a thermally conductive resin composition blended at a relatively high ratio using an inorganic filler having a predetermined distribution of average particle diameter and a large thermal conductivity. Is proposed (Patent Document 3), but even if high thermal conductivity can be achieved by filling a large amount of an inorganic filler having a high thermal conductivity, the workability as an insulating adhesive layer is reduced or obtained. The surface condition of the insulating adhesive layer deteriorates, resulting in a problem that the withstand voltage characteristic and the adhesiveness are inferior. Therefore, there is a limit to the method of simply increasing the content of the inorganic filler.

上記背景から、マトリックス樹脂自体の高熱伝導率化によって組成物の熱伝導率を向上する方法も検討されている。例えば、特許文献4、特許文献5および特許文献6には、剛直なメソゲン基を有する液晶性のエポキシ樹脂およびそれを用いたエポキシ樹脂組成物が提案されている。しかし、これらのエポキシ樹脂組成物においては硬化物の液晶性は確認できるものの、硬化物の結晶化度は低く、高熱伝導性、低熱膨張性、低吸湿性等の点で十分ではなかった。さらには液晶性発現のために、強力な磁場をかけて分子を配向させる必要があり、工業的に広く利用するためには設備的にも大きな制約があった。また、無機充填材との配合系では、マトリックス樹脂の熱伝導率に比べて無機充填材の熱伝導率が圧倒的に大きく、マトリックス樹脂自体の熱伝導率を高くしても、複合材料としての熱伝導率向上には大きく寄与しないという現実があり、十分な熱伝導率向上効果は得られていなかった。また、特許文献7にはジフェニルエーテル基を持つエポキシ樹脂と硬化剤にもジフェニルエーテル構造を持つフェノール性化合物の組成物が開示されているが、耐熱性が若干低く、さらに高い耐熱性の樹脂が求められていた。   From the above background, a method for improving the thermal conductivity of the composition by increasing the thermal conductivity of the matrix resin itself has been studied. For example, Patent Document 4, Patent Document 5 and Patent Document 6 propose a liquid crystalline epoxy resin having a rigid mesogenic group and an epoxy resin composition using the same. However, in these epoxy resin compositions, although the liquid crystallinity of the cured product can be confirmed, the crystallinity of the cured product is low, which is not sufficient in terms of high thermal conductivity, low thermal expansion, low hygroscopicity, and the like. Furthermore, in order to exhibit liquid crystallinity, it is necessary to orient the molecules by applying a strong magnetic field, and there are significant restrictions in terms of equipment for wide industrial use. In addition, in the compounding system with the inorganic filler, the thermal conductivity of the inorganic filler is overwhelmingly larger than that of the matrix resin, and even if the thermal conductivity of the matrix resin itself is increased, There is a reality that it does not greatly contribute to the improvement of thermal conductivity, and a sufficient effect of improving thermal conductivity has not been obtained. Patent Document 7 discloses a composition of an epoxy resin having a diphenyl ether group and a phenolic compound having a diphenyl ether structure as a curing agent. However, a slightly lower heat resistance and a higher heat resistance resin are required. It was.

特開平11−147936号公報JP-A-11-147936 特開2002−309067号公報JP 2002-309067 A 特開2001−348488号公報JP 2001-348488 A 特開平11−323162号公報JP-A-11-323162 特開平2004−331811号公報JP-A-2004-331811 特開平9−118673号公報JP-A-9-118673 WO2006/120993号公報WO2006 / 120993

従って、本発明の目的は、上記問題点を解消し、熱伝導性に優れると共に、かつ耐熱性に優れたエポキシ樹脂組成物を提供することである。また、本発明の別の目的は、熱伝導性に優れると共に、かつ耐熱性に優れた硬化成形物、ワニス、フィルム状接着剤、及びフィルム状接着剤付き銅箔を提供することにある。   Accordingly, an object of the present invention is to provide an epoxy resin composition that solves the above-described problems, is excellent in thermal conductivity, and is excellent in heat resistance. Another object of the present invention is to provide a cured molded article, a varnish, a film adhesive, and a copper foil with a film adhesive having excellent thermal conductivity and excellent heat resistance.

本発明者らは、ジフェニルエーテル基を持つエポキシ樹脂及び特定のフェノール性化合物に、無機充填材を50〜96wt%の含有率で加えることによって、熱伝導率、耐熱性等の物性が特異的に向上することを見出し、本発明に到達した。   The present inventors specifically improved physical properties such as thermal conductivity and heat resistance by adding an inorganic filler to the epoxy resin having a diphenyl ether group and a specific phenolic compound at a content of 50 to 96 wt%. The present invention has been found.

本発明は、エポキシ樹脂、硬化剤、及び無機充填材を含有するエポキシ樹脂組成物において、エポキシ樹脂の50wt%以上が下記式(1)で表されるジフェニルエーテル基を持つエポキシ樹脂であり、硬化剤の50wt%以上が下記式(2)又は式(3)で表されるフェノール性化合物であり、無機充填材の含有率が50〜96wt%であることを特徴とするエポキシ樹脂組成物である。   The present invention is an epoxy resin composition containing an epoxy resin, a curing agent, and an inorganic filler, wherein 50 wt% or more of the epoxy resin is an epoxy resin having a diphenyl ether group represented by the following formula (1): The epoxy resin composition is characterized in that 50 wt% or more of the above is a phenolic compound represented by the following formula (2) or formula (3), and the content of the inorganic filler is 50 to 96 wt%.

Figure 2012017405
(但し、n1は0〜10の数を示す。)
Figure 2012017405
(但し、R1及びR2は同一又は異なっていても良く、水素原子、ハロゲン原子又は炭素数1〜6の炭化水素基を示し、n2は0〜5の数を示す。)
Figure 2012017405
(但し、R3〜R5は同一又は異なっていても良く、水素原子、ハロゲン原子又は炭素数1〜6の炭化水素基を示し、n3は0〜5の数を示す。)
Figure 2012017405
(However, n 1 is a number of 0.)
Figure 2012017405
(However, R 1 and R 2 may be the same or different and each represents a hydrogen atom, a halogen atom, or a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, and n 2 represents a number from 0 to 5)
Figure 2012017405
(However, R 3 to R 5 may be the same or different, represent a hydrogen atom, a halogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, n 3 is a number of 0-5.)

上記無機充填材としては、アルミナ、窒化ホウ素、及び窒化アルミニウムからなる群より選ばれる少なくとも1種の無機充填材であることが有利である。   The inorganic filler is advantageously at least one inorganic filler selected from the group consisting of alumina, boron nitride, and aluminum nitride.

また、本発明は上記のエポキシ樹脂組成物を成形硬化させて得られる硬化成形物である。更に、本発明は上記のエポキシ樹脂組成物を溶剤に溶解又は分散させて得られるワニスである。   Further, the present invention is a cured molded product obtained by molding and curing the above epoxy resin composition. Furthermore, the present invention is a varnish obtained by dissolving or dispersing the above epoxy resin composition in a solvent.

また、本発明は上記のエポキシ樹脂組成物をフィルム状に形成してなるフィルム状接着剤であり、また上記のワニスを支持体上に塗布して乾燥または部分的に硬化させてフィルム状に形成したことを特徴とするフィルム状接着剤である。更に、本発明は上記のフィルム状接着剤が、銅箔上に積層して設けられていることを特徴とするフィルム状接着剤付き銅箔である。   In addition, the present invention is a film-like adhesive formed by forming the above epoxy resin composition into a film, and the above varnish is applied on a support and dried or partially cured to form a film. This is a film-like adhesive. Furthermore, the present invention is a copper foil with a film adhesive, characterized in that the above-mentioned film adhesive is laminated on a copper foil.

本発明のエポキシ樹脂組成物は、熱伝導性に優れると共に、かつ耐熱性に優れた硬化成形物、ワニス、フィルム状接着剤及びフィルム状接着剤付き銅箔を与え、半導体封止、積層板、放熱基板等の電気・電子材料用絶縁材料として好適に応用され、優れた高放熱性、高耐熱性及び高寸法安定性が発揮される。   The epoxy resin composition of the present invention gives a cured molded article, varnish, film adhesive and film adhesive copper foil with excellent thermal conductivity and heat resistance, semiconductor encapsulation, laminate, It is suitably applied as an insulating material for electrical and electronic materials such as a heat dissipation board, and exhibits excellent high heat dissipation, high heat resistance and high dimensional stability.

以下、本発明を詳細に説明する。   Hereinafter, the present invention will be described in detail.

本発明のエポキシ樹脂組成物に用いるエポキシ樹脂は、上記式(1)で表されるジフェニルエーテル基を持つエポキシ樹脂を50wt%以上含む。式(1)において、n1は0〜10の数を示すが、エポキシ樹脂が分子量分布を有する場合は平均(数平均)の繰り返し数が上記範囲にあることがよい。 The epoxy resin used for the epoxy resin composition of the present invention contains 50 wt% or more of an epoxy resin having a diphenyl ether group represented by the above formula (1). In Formula (1), n 1 represents a number of 0 to 10, but when the epoxy resin has a molecular weight distribution, the average (number average) number of repetitions is preferably in the above range.

1の数平均値を0.1〜1.0の範囲とすれば、硬化物とした際の熱伝導率等の物性向上効果が大きい。これは、ジフェニルエーテル基を持つエポキシ樹脂のn1の値が小さいものほど、成形物としての配向度が高くなるためである。 When the number average value of n 1 is in the range of 0.1 to 1.0, the effect of improving physical properties such as thermal conductivity when cured is large. This is because the smaller the n 1 value of the epoxy resin having a diphenyl ether group, the higher the degree of orientation as a molded product.

本発明に用いるエポキシ樹脂の製法は、特に限定されるものではないが、下記式(4)のジフェニルエーテル基を持つフェノール性化合物とエピクロルヒドリンを反応させることにより製造することができる。この反応は、通常のエポキシ化反応と同様に行うことができる。

Figure 2012017405
Although the manufacturing method of the epoxy resin used for this invention is not specifically limited, It can manufacture by making the phenolic compound which has the diphenyl ether group of following formula (4), and epichlorohydrin react. This reaction can be performed in the same manner as a normal epoxidation reaction.
Figure 2012017405

フェノール性化合物とエピクロルヒドリンとの反応は、例えば、フェノール性化合物を過剰のエピクロルヒドリンに溶解した後、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物の存在下に、50〜150℃、好ましくは、60〜100℃の範囲で1〜10時間反応させる方法が挙げられる。この際の、アルカリ金属水酸化物の使用量は、ジヒドロキシ体中の水酸基1モルに対して、0.8〜2.0モル、好ましくは、0.9〜1.5モルの範囲である。エピクロルヒドリンは、フェノール性化合物中の水酸基に対して過剰量が用いられ、通常は、フェノール性化合物中の水酸基1モルに対して、1.5から15モルである。反応終了後、過剰のエピクロルヒドリンを留去し、残留物をトルエン、メチルイソブチルケトン等の溶剤に溶解し、濾過し、水洗して無機塩を除去し、次いで溶剤を留去することにより目的のエポキシ樹脂を得ることができる。   The reaction between the phenolic compound and epichlorohydrin is, for example, after dissolving the phenolic compound in excess epichlorohydrin and then in the presence of an alkali metal hydroxide such as sodium hydroxide or potassium hydroxide, preferably at 50 to 150 ° C., preferably The method of making it react for 1 to 10 hours in the range of 60-100 degreeC is mentioned. In this case, the amount of the alkali metal hydroxide used is in the range of 0.8 to 2.0 mol, preferably 0.9 to 1.5 mol, with respect to 1 mol of the hydroxyl group in the dihydroxy body. The epichlorohydrin is used in an excess amount with respect to the hydroxyl group in the phenolic compound, and is usually 1.5 to 15 mol with respect to 1 mol of the hydroxyl group in the phenolic compound. After completion of the reaction, excess epichlorohydrin is distilled off, the residue is dissolved in a solvent such as toluene, methyl isobutyl ketone, filtered, washed with water to remove inorganic salts, and then the target epoxy is removed by distilling off the solvent. A resin can be obtained.

本発明のエポキシ樹脂組成物に用いるエポキシ樹脂は、ジフェニルエーテル基を持つフェノール性化合物とジフェニルエーテル基を持たない他のフェノール性化合物と混合させたものを用いて合成することもできる。この場合のジフェニルエーテル基を持つフェノール性化合物の混合比率は50wt%以上である。また、他のフェノール性化合物には特に制約はなく、一分子中に水酸基を2個以上有するものの中から選択される。   The epoxy resin used in the epoxy resin composition of the present invention can also be synthesized using a mixture of a phenolic compound having a diphenyl ether group and another phenolic compound having no diphenyl ether group. In this case, the mixing ratio of the phenolic compound having a diphenyl ether group is 50 wt% or more. Other phenolic compounds are not particularly limited and are selected from those having two or more hydroxyl groups in one molecule.

本発明のエポキシ樹脂組成物に用いるエポキシ樹脂のエポキシ当量は、通常120から400の範囲であるが、無機充填材の高充填率化および加工性向上の観点からは低粘度性のものが良く、エポキシ当量が120から200の範囲のものが好ましい。   The epoxy equivalent of the epoxy resin used in the epoxy resin composition of the present invention is usually in the range of 120 to 400, but from the viewpoint of increasing the filling rate of the inorganic filler and improving the workability, the one having a low viscosity is good. The epoxy equivalent is preferably in the range of 120 to 200.

このジフェニルエーテル基を持つエポキシ樹脂は、通常、常温で結晶性を有するものが好適に使用される。好ましい融点の範囲は70℃〜250℃であり、より好ましくは、80〜200℃の範囲である。これより低いとブロッキング等が起こりやすくなり固体としての取扱い性に劣り、これより高いと硬化剤等との相溶性、溶剤への溶解性等が低下する。   As the epoxy resin having a diphenyl ether group, a resin having crystallinity at normal temperature is preferably used. The range of preferable melting | fusing point is 70 to 250 degreeC, More preferably, it is the range of 80 to 200 degreeC. If it is lower than this, blocking and the like are likely to occur, resulting in poor handling as a solid, and if it is higher than this, compatibility with a curing agent or the like, solubility in a solvent, and the like are reduced.

このジフェニルエーテル基を持つエポキシ樹脂の純度、特に加水分解性塩素量は、適用する電子部品の信頼性向上の観点より少ない方がよい。特に限定するものではないが、好ましくは1000ppm以下、さらに好ましくは500ppm以下である。なお、本発明でいう加水分解性塩素とは、以下の方法により測定された値をいう。すなわち、試料0.5gをジオキサン30mlに溶解後、1N−KOH、10mlを加え30分間煮沸還流した後、室温まで冷却し、さらに80%アセトン水100mlを加え、0.002N−AgNO3水溶液で電位差滴定を行い得られる値である。 The purity of the epoxy resin having a diphenyl ether group, in particular, the amount of hydrolyzable chlorine, is preferably smaller than the viewpoint of improving the reliability of the applied electronic component. Although it does not specifically limit, Preferably it is 1000 ppm or less, More preferably, it is 500 ppm or less. In addition, the hydrolyzable chlorine as used in the field of this invention means the value measured by the following method. That is, the potential difference the sample 0.5g were dissolved in dioxane 30 ml, 1N-KOH, after the added boiled under reflux for 30 minutes 10 ml, cooled to room temperature, 80% aqueous acetone 100ml was added, with 0.002 N-AgNO 3 aqueous solution This is a value obtained by titration.

本発明のエポキシ樹脂組成物には、必須成分として使用されるジフェニルエーテル基を持つエポキシ樹脂以外に、エポキシ樹脂成分として分子中にエポキシ基を2個以上有する他のエポキシ樹脂を併用してもよい。例を挙げれば、ビスフェノールA、ビスフェノールF、3,3’,5,5’−テトラメチル−4,4’−ジヒドロキシジフェニルメタン、4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルホン、4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルフィド、フルオレンビスフェノール、2,2’−ビフェノール、レゾルシン、カテコール、t‐ブチルカテコール、t‐ブチルハイドロキノン、アリル化ビスフェノールA、アリル化ビスフェノールF、アリル化フェノールノボラック等の2価のフェノール類、あるいは、フェノールノボラック、ビスフェノールAノボラック、o‐クレゾールノボラック、m‐クレゾールノボラック、p‐クレゾールノボラック、キシレノールノボラック、ポリ‐p‐ヒドロキシスチレン、トリス−(4−ヒドロキシフェニル)メタン、1,1,2,2−テトラキス(4−ヒドロキシフェニル)エタン、フルオログリシノール、ピロガロール、t‐ブチルピロガロール、アリル化ピロガロール、ポリアリル化ピロガロール、1,2,4‐ベンゼントリオール、2,3,4‐トリヒドロキシベンゾフェノン、フェノールアラルキル樹脂、ナフトールアラルキル樹脂、ジシクロペンタジエン系樹脂等の3価以上のフェノール類、または、テトラブロモビスフェノールA等のハロゲン化ビスフェノール類から誘導されるグリシジルエーテル化物等がある。これらのエポキシ樹脂は、1種または2種以上を用いることができる。また、メソゲン基を持つエポキシ樹脂についても、1種または2種以上を用いることができる。   In addition to the epoxy resin having a diphenyl ether group used as an essential component, the epoxy resin composition of the present invention may be used in combination with another epoxy resin having two or more epoxy groups in the molecule as an epoxy resin component. Examples include bisphenol A, bisphenol F, 3,3 ′, 5,5′-tetramethyl-4,4′-dihydroxydiphenylmethane, 4,4′-dihydroxydiphenylsulfone, 4,4′-dihydroxydiphenyl sulfide, Divalent phenols such as fluorene bisphenol, 2,2'-biphenol, resorcin, catechol, t-butylcatechol, t-butylhydroquinone, allylated bisphenol A, allylated bisphenol F, allylated phenol novolak, or phenol novolak Bisphenol A novolak, o-cresol novolak, m-cresol novolak, p-cresol novolak, xylenol novolak, poly-p-hydroxystyrene, tris- (4-hydroxyphenyl) meta 1,1,2,2-tetrakis (4-hydroxyphenyl) ethane, fluoroglycinol, pyrogallol, t-butyl pyrogallol, allylated pyrogallol, polyallylated pyrogallol, 1,2,4-benzenetriol, 2,3, There are glycidyl ethers derived from 4-trihydroxybenzophenone, phenol aralkyl resins, naphthol aralkyl resins, trivalent or higher phenols such as dicyclopentadiene resins, or halogenated bisphenols such as tetrabromobisphenol A. . These epoxy resins can be used alone or in combination of two or more. Moreover, 1 type, or 2 or more types can be used also about the epoxy resin which has a mesogenic group.

本発明のエポキシ樹脂組成物に用いる式(1)で表されるジフェニルエーテル基を持つエポキシ樹脂の配合割合は、全エポキシ樹脂の50wt%以上であり、好ましくは70wt%以上、より好ましくは90wt%以上である。さらには、二官能性エポキシ樹脂の合計量が90wt%以上、好ましくは95wt%以上であることが望ましい。これより少ないと硬化物とした際の熱伝導率等の物性向上効果が小さい。これは、ジフェニルエーテル基を持つエポキシ樹脂の含有率が高く、かつ二官能性エポキシ樹脂の含有率が高いものほど、成形物としての配向度が高くなるためである。   The blending ratio of the epoxy resin having a diphenyl ether group represented by the formula (1) used in the epoxy resin composition of the present invention is 50 wt% or more of the total epoxy resin, preferably 70 wt% or more, more preferably 90 wt% or more. It is. Furthermore, it is desirable that the total amount of the bifunctional epoxy resin is 90 wt% or more, preferably 95 wt% or more. If it is less than this, the effect of improving physical properties such as thermal conductivity when cured is small. This is because the higher the content of the epoxy resin having a diphenyl ether group and the higher the content of the bifunctional epoxy resin, the higher the degree of orientation as a molded product.

ジフェニルエーテル基を持つエポキシ樹脂以外のエポキシ樹脂としては、下記一般式(5)で表されるビスフェノール系エポキシ樹脂が好ましい。

Figure 2012017405
(但し、Zは単結合、メチレン基又は硫黄原子を示し、rは0〜1の数を示す。) As an epoxy resin other than an epoxy resin having a diphenyl ether group, a bisphenol-based epoxy resin represented by the following general formula (5) is preferable.
Figure 2012017405
(However, Z shows a single bond, a methylene group, or a sulfur atom, and r shows the number of 0-1.)

これらのエポキシ樹脂は、例えば、ヒドロキノン、4,4’−ジヒドロキシジフェニルメタン、または4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルフィドを原料として、通常のエポキシ化反応を行うことで合成することができる。これらのエポキシ樹脂は、原料段階でメソゲン基を持つジヒドロキシ化合物と混合させたものを用いて合成してもよい。   These epoxy resins can be synthesized, for example, by performing a normal epoxidation reaction using hydroquinone, 4,4'-dihydroxydiphenylmethane, or 4,4'-dihydroxydiphenyl sulfide as a raw material. You may synthesize | combine these epoxy resins using what was mixed with the dihydroxy compound which has a mesogen group in a raw material stage.

本発明のエポキシ樹脂組成物に用いる硬化剤は、上記式(2)又は式(3)で表されるフェノール性化合物を50wt%以上含む。上記式(2)又は式(3)で表されるフェノール性化合物の両者を含む場合はその合計が50wt%以上であればよい。   The hardening | curing agent used for the epoxy resin composition of this invention contains 50 wt% or more of phenolic compounds represented by the said Formula (2) or Formula (3). When both of the phenolic compounds represented by the above formula (2) or formula (3) are included, the total may be 50 wt% or more.

上記式(2)又は式(3)において、R1及びR2、及びR3〜R5は同一又は異なっていても良い水素原子、ハロゲン原子又は炭素数1〜6の炭化水素基を示す。n2及びn3は独立に0〜5の数を示す。上記式(2)又は式(3)で表されるフェノール性化合物が分子量分布を有する場合は、n2及びn3は平均(数平均)の繰り返し数を示し、0〜5の範囲にあることがよい。 In the above formula (2) or formula (3), R 1 and R 2 , and R 3 to R 5 represent the same or different hydrogen atom, halogen atom, or hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms. n 2 and n 3 indicate the number of independently 0-5. When the phenolic compound represented by the formula (2) or formula (3) has a molecular weight distribution, n 2 and n 3 represent an average (number average) number of repetitions and are in the range of 0 to 5. Is good.

2及びn3は数平均値で、0〜1.0の範囲であることが熱伝導率等の物性向上効果が大きい。これは、式(2)で表される硬化剤のn2、式(3)で表される硬化剤のn3の値が小さいものほど、成形物としての配向度が高くなるためである。 In n 2 and n 3 is a number average value, it is large property enhancement effect such as the thermal conductivity in the range of 0 to 1.0. This is because the smaller the n 2 value of the curing agent represented by the formula (2) and the n 3 value of the curing agent represented by the formula (3), the higher the degree of orientation as a molded product.

本発明のエポキシ樹脂組成物に用いる硬化剤としては、トリス(4−ヒドロキシフェニル)メタン、1,1,2,2−テトラキス(4−ヒドロキシフェニル)エタンが好ましく挙げられる。   Preferred examples of the curing agent used in the epoxy resin composition of the present invention include tris (4-hydroxyphenyl) methane and 1,1,2,2-tetrakis (4-hydroxyphenyl) ethane.

硬化剤として用いる式(2)又は式(3)で表されるフェノール性化合物の使用量は全硬化剤の50wt%以上、好ましくは70wt%以上、より好ましくは80wt%以上である。これより少ないと硬化物とした際の熱伝導率等の物性向上効果が小さい。これは、式(2)又は式(3)で表されるフェノール性化合物の含有率が高いものほど、成形物としての配向度が高くなるためである。   The amount of the phenolic compound represented by the formula (2) or formula (3) used as the curing agent is 50 wt% or more of the total curing agent, preferably 70 wt% or more, more preferably 80 wt% or more. If it is less than this, the effect of improving physical properties such as thermal conductivity when cured is small. This is because the higher the content of the phenolic compound represented by the formula (2) or the formula (3), the higher the degree of orientation as a molded product.

本発明のエポキシ樹脂組成物に用いる硬化剤としては、上記式(2)又は式(3)で表されるフェノール性化合物以外に、硬化剤として一般的に知られている他の硬化剤を併用して用いることができる。例を挙げれば、本発明で使用するフェノール化合物以外のフェノール系硬化剤、アミン系硬化剤、酸無水物系硬化剤、ポリメルカプタン系硬化剤、ポリアミノアミド系硬化剤、イソシアネート系硬化剤、ブロックイソシアネート系硬化剤等が挙げられる。これら他の硬化剤の配合量は、配合する硬化剤の種類や得られる熱伝導性エポキシ樹脂成形体の物性を考慮して適宜設定すればよい。しかし、全硬化剤の50wt%未満の範囲で使用する必要がある。   As the curing agent used in the epoxy resin composition of the present invention, in addition to the phenolic compound represented by the above formula (2) or formula (3), other curing agents generally known as curing agents are used in combination. Can be used. Examples include phenolic curing agents other than the phenolic compounds used in the present invention, amine curing agents, acid anhydride curing agents, polymercaptan curing agents, polyaminoamide curing agents, isocyanate curing agents, and block isocyanates. System curing agent and the like. What is necessary is just to set the compounding quantity of these other hardening | curing agents suitably considering the kind of hardening | curing agent to mix | blend and the physical property of the heat conductive epoxy resin molded object obtained. However, it is necessary to use it in a range of less than 50 wt% of the total curing agent.

本発明のエポキシ樹脂組成物では、エポキシ樹脂と硬化剤の配合比率は、エポキシ樹脂/硬化剤の官能基が当量比で、0.8〜1.5の範囲であることが好ましい。この範囲外では硬化後も未反応のエポキシ基、または硬化剤中の官能基が残留し、電子部品用絶縁材料に関しての信頼性が低下する。   In the epoxy resin composition of the present invention, the mixing ratio of the epoxy resin and the curing agent is preferably in the range of 0.8 to 1.5 in terms of the equivalent ratio of the functional group of the epoxy resin / curing agent. Outside this range, unreacted epoxy groups or functional groups in the curing agent remain after curing, and the reliability of the insulating material for electronic parts is lowered.

本発明のエポキシ樹脂組成物には、50〜96wt%の含有率で無機充填材が配合される。無機充填材の含有量は、エポキシ樹脂組成物中85〜95wt%が好ましい。これより少ないと高熱伝導性、高耐熱性、低熱膨張性等の効果が十分に発揮されない。これらの効果は、無機充填材の添加量が多いほど向上するが、その体積分率に応じて向上するものではなく、特定の添加量以上となった時点から飛躍的に向上する。これらの物性は、高分子状態での高次構造が制御された効果によるものであり、この高次構造が主に無機充填材表面で達成されることから、特定量の無機充填材を必要とするものであると考えられる。一方、無機充填材の添加量がこれより多いと粘度が高くなり、加工性が低下する。   An inorganic filler is blended in the epoxy resin composition of the present invention at a content of 50 to 96 wt%. The content of the inorganic filler is preferably 85 to 95 wt% in the epoxy resin composition. If it is less than this, effects such as high thermal conductivity, high heat resistance, and low thermal expansion will not be sufficiently exhibited. These effects are improved as the added amount of the inorganic filler is increased, but are not improved in accordance with the volume fraction, and are drastically improved from the point when the added amount exceeds the specific amount. These physical properties are due to the effect of controlling the higher order structure in the polymer state, and since this higher order structure is achieved mainly on the surface of the inorganic filler, a specific amount of inorganic filler is required. It is thought to be. On the other hand, when the added amount of the inorganic filler is larger than this, the viscosity becomes high and the workability is lowered.

無機充填材は球状のものが好ましく、断面が楕円上であるものも含めて球状であれば特に限定されるものではないが、加工性改善の観点からは、極力真球状に近いものであることが特に好ましい。これにより、面心立方構造や六方稠密構造等の最密充填構造をとり易く、充分な充填量を得ることができる。球形でない場合、充填量が増えると充填材同士の摩擦が増え、上記の上限に達する前に粘度が高くなり加工性が低下する。   The inorganic filler is preferably spherical and is not particularly limited as long as it has a spherical shape including those having a cross section on an ellipse, but from the viewpoint of improving workability, it should be as close to a true sphere as possible. Is particularly preferred. Thereby, it is easy to take a close-packed structure such as a face-centered cubic structure or a hexagonal close-packed structure, and a sufficient filling amount can be obtained. When the amount is not spherical, the friction between the fillers increases as the filling amount increases, and the viscosity increases before the upper limit is reached, resulting in a decrease in workability.

熱伝導率向上の観点からは、無機充填材の50wt%以上、好ましくは80wt%以上を、熱伝導率が20W/m・K以上のものとすることがよい。かかる無機充填材としては、アルミナ、窒化ホウ素、窒化アルミニウムが好適である。これらの中でも、球状アルミナが優れる。その他、必要に応じて形状に関係なく無定形無機充填材、例えば溶融シリカ、結晶シリカなどを併用しても良い。   From the viewpoint of improving the thermal conductivity, it is preferable that 50 wt% or more, preferably 80 wt% or more of the inorganic filler has a thermal conductivity of 20 W / m · K or more. As such an inorganic filler, alumina, boron nitride, and aluminum nitride are suitable. Among these, spherical alumina is excellent. In addition, an amorphous inorganic filler such as fused silica or crystalline silica may be used in combination, if necessary, regardless of the shape.

また、無機充填材の平均粒径、最大粒径については、適用する対象によって好ましい最大粒径、平均粒径が異なるので一概には言えないが、高熱伝導化の観点からは、最大粒径、平均粒径ともに大きい方が有利である。しかし、最大粒子径が大きくなり過ぎると加工性が低下し、成形物の外観が悪くなったり、強度が低下したりする。   In addition, the average particle size and the maximum particle size of the inorganic filler can not be said unconditionally because the preferred maximum particle size and the average particle size vary depending on the target to be applied, but from the viewpoint of high thermal conductivity, the maximum particle size, A larger average particle size is advantageous. However, if the maximum particle size is too large, the workability is lowered, the appearance of the molded product is deteriorated, and the strength is lowered.

本発明のエポキシ樹脂組成物には、従来より公知の硬化促進剤を用いることができる。例を挙げれば、アミン類、イミダゾール類、有機ホスフィン類、ルイス酸等があり、具体的には、1,8−ジアザビシクロ(5,4,0)ウンデセン−7、トリエチレンジアミン、ベンジルジメチルアミン、トリエタノールアミン、ジメチルアミノエタノール、トリス(ジメチルアミノメチル)フェノールなどの三級アミン、2−メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾール、2−へプタデシルイミダゾールなどのイミダゾール類、トリブチルホスフィン、メチルジフェニルホスフイン、トリフェニルホスフィン、ジフェニルホスフィン、フェニルホスフィンなどの有機ホスフィン類、テトラフェニルホスホニウム・テトラフェニルボレート、テトラフェニルホスホニウム・エチルトリフェニルボレート、テトラブチルホスホニウム・テトラブチルボレートなどのテトラ置換ホスホニウム・テトラ置換ボレート、2−エチル−4−メチルイミダゾール・テトラフェニルポレート、N−メチルモルホリン・テトラフェニルポレートなどのテトラフェニルボロン塩などがある。これらは単独で用いても良く、併用しても良い。   A conventionally well-known hardening accelerator can be used for the epoxy resin composition of this invention. Examples include amines, imidazoles, organic phosphines, Lewis acids, etc., specifically 1,8-diazabicyclo (5,4,0) undecene-7, triethylenediamine, benzyldimethylamine, Tertiary amines such as ethanolamine, dimethylaminoethanol, tris (dimethylaminomethyl) phenol, imidazoles such as 2-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, 2-heptadecylimidazole, Organic phosphines such as tributylphosphine, methyldiphenylphosphine, triphenylphosphine, diphenylphosphine, phenylphosphine, tetraphenylphosphonium / tetraphenylborate, tetraphenylphosphonium / ethyltriphenyl Rate, tetra-substituted phosphonium tetra-substituted borate such as tetrabutylphosphonium-tetrabutyl borate, 2-ethyl-4-methylimidazole · tetraphenyl port rate, and the like tetraphenyl boron salts such as N- methylmorpholine-tetraphenyl port rate. These may be used alone or in combination.

上記硬化促進剤の添加量は、エポキシ樹脂と硬化剤の合計に対して、0.1〜10.0wt%が好ましい。0.1wt%未満ではゲル化時間が遅くなって加熱反応時の剛性低下による作業性の低下をもたらし、逆に10.0wt%を超えると加工途中で反応が進んでしまい、外観不良が発生し易くなる。   As for the addition amount of the said hardening accelerator, 0.1-10.0 wt% is preferable with respect to the sum total of an epoxy resin and a hardening | curing agent. If it is less than 0.1 wt%, the gelation time will be delayed, resulting in a decrease in workability due to a decrease in rigidity during heating reaction. Conversely, if it exceeds 10.0 wt%, the reaction will progress during processing, resulting in poor appearance. It becomes easy.

本発明のエポキシ樹脂組成物においては、上記成分の他に、カップリング剤、熱可塑性のオリゴマー類、離型剤、その他の一般的にエポキシ樹脂組成物に使用可能なものを適宜配合して用いることができる。例えば、リン系難燃剤、ブロム化合物や三酸化アンチモン等の難燃剤、及びカーボンブラックや有機染料等の着色剤等を使用することができる。   In the epoxy resin composition of the present invention, in addition to the above components, a coupling agent, a thermoplastic oligomer, a release agent, and other components that can be generally used for an epoxy resin composition are appropriately blended and used. be able to. For example, phosphorus-based flame retardants, flame retardants such as bromine compounds and antimony trioxide, and colorants such as carbon black and organic dyes can be used.

カップリング剤としては、例えばエポキシシランが使用可能である。カップリング剤の添加量は、エポキシ樹脂組成物に対して、0.1〜2.0wt%が好ましい。0.1wt%未満では樹脂と基材のなじみが悪く加工性が悪くなり、逆に2.0wt%を超えるとブリードアウトにより加工品に汚れが生じる。カップリング剤は無機充填材と樹脂成分の接着力を向上させるために用いられる。   As the coupling agent, for example, epoxy silane can be used. The addition amount of the coupling agent is preferably 0.1 to 2.0 wt% with respect to the epoxy resin composition. If it is less than 0.1 wt%, the resin and the base material are not well-matched and the processability is deteriorated. On the other hand, if it exceeds 2.0 wt%, the processed product is soiled by bleeding out. The coupling agent is used to improve the adhesion between the inorganic filler and the resin component.

熱可塑性のオリゴマー類としては、C5系およびC9系の石油樹脂、スチレン樹脂、インデン樹脂、インデン・スチレン共重合樹脂、インデン・スチレン・フェノール共重合樹脂、インデン・クマロン共重合樹脂、インデン・ベンゾチオフェン共重合樹脂等が例示さえる。添加量としては、通常、エポキシ樹脂100重量部に対して、2〜30重量部の範囲である。熱可塑性のオリゴマー類は、エポキシ樹脂組成物の加工時の流動性改良および基材との密着性向上のために用いられる。   Thermoplastic oligomers include C5 and C9 petroleum resins, styrene resins, indene resins, indene / styrene copolymer resins, indene / styrene / phenol copolymer resins, indene / coumarone copolymer resins, indene / benzothiophene. Examples thereof include copolymer resins. As addition amount, it is the range of 2-30 weight part normally with respect to 100 weight part of epoxy resins. Thermoplastic oligomers are used to improve fluidity during processing of the epoxy resin composition and to improve adhesion to the substrate.

本発明のエポキシ樹脂組成物は、例えば封止材用として適用する場合には、エポキシ樹脂、硬化剤及び無機充填材等の成分を含む配合成分(カップリング剤を除く)をミキサー等によって均一に混合した後、カップリング剤を添加し、加熱ロール、ニーダー等によって混練して製造することができる。これらの成分の配合順序にはカップリング剤を除き特に制限はない。更に、混練後に溶融混練物の粉砕を行い、パウダー化することやタブレット化することも可能である。   When the epoxy resin composition of the present invention is applied, for example, as a sealing material, the blending components (excluding the coupling agent) including components such as an epoxy resin, a curing agent and an inorganic filler are uniformly mixed with a mixer or the like. After mixing, a coupling agent can be added and kneaded by a heated roll, a kneader or the like. There is no restriction | limiting in particular in the mixing | blending order of these components except a coupling agent. Further, after kneading, the melt-kneaded material can be pulverized to be powdered or tableted.

本発明のエポキシ樹脂組成物は、例えば絶縁基板用として適用する場合には、組成物を構成する成分を、所定の溶剤、例えばN,N-ジメチルホルムアミド(DMF)、N,N-ジメチルアセトアミド、N-メチル-2-ピロリドン(NMP)等のアミド系溶剤、1−メトキシ−2−プロパノ−ル等のエーテル系溶剤、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン等のケトン系溶剤、トルエン、キシレン等の芳香族系溶剤等の1種又は2種以上を混合したものに溶解又は分散させてワニスを形成した後に製造に用いることができる。組成物を構成する成分は、溶剤中に均一分散していれば、必ずしも溶剤に溶解していなくてもよい。   When the epoxy resin composition of the present invention is applied, for example, for an insulating substrate, the components constituting the composition are changed to a predetermined solvent such as N, N-dimethylformamide (DMF), N, N-dimethylacetamide, Amide solvents such as N-methyl-2-pyrrolidone (NMP), ether solvents such as 1-methoxy-2-propanol, ketone solvents such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone and cyclopentanone, toluene, It can be used for production after forming a varnish by dissolving or dispersing it in a mixture of one or more aromatic solvents such as xylene. The components constituting the composition are not necessarily dissolved in the solvent as long as they are uniformly dispersed in the solvent.

このワニスは、ガラス繊維等の繊維状基材と複合させて複合材とすることができる。例えば、本発明のエポキシ樹脂組成物を溶剤に溶解又は分散させて得たワニスを、シート状繊維基材に含浸し加熱乾燥して、エポキシ樹脂を部分反応させて、プリプレグとすることができる。   This varnish can be combined with a fibrous base material such as glass fiber to form a composite material. For example, a varnish obtained by dissolving or dispersing the epoxy resin composition of the present invention in a solvent can be impregnated into a sheet-like fiber base material, dried by heating, and partially reacted with the epoxy resin to obtain a prepreg.

またこのワニスを支持材としてのベースフィルム上に塗布し、乾燥させることでフィルム状接着剤を形成してもよく、あるいはこのワニスを銅箔上に塗布し、乾燥させることによってフィルム状接着剤付き銅箔を形成してもよい。ここで、フィルム状接着剤、又はフィルム状接着剤付き銅箔における硬化前のフィルム支持性については、溶剤残存率が高いほどフィルム支持性が良好な傾向にあるが、溶剤残存率が高すぎると、フィルム状接着剤、又はフィルム状接着剤付き銅箔にタックが発生したり、硬化時に発泡が発生したりする。したがって、溶剤残存率は5重量%以下が好ましい。なお、ここでの溶剤残存率は、180℃雰囲気にて60分乾燥した際の、フィルム状接着剤部分の正味重量減少率の測定により求めた値である。また、上記フィルム状接着剤及びフィルム状接着剤付き銅箔については、溶剤を含まない本発明のエポキシ樹脂組成物を支持材としてのベースフィルム上に加熱溶融状態で塗布した後、冷却するようにして得てもよい。   In addition, a film-like adhesive may be formed by applying this varnish on a base film as a support and drying it, or by applying this varnish on a copper foil and drying it. A copper foil may be formed. Here, as for the film support before curing in the film-like adhesive or the copper foil with the film-like adhesive, the higher the solvent residual rate, the better the film support, but the solvent residual rate is too high The film-like adhesive or the copper foil with the film-like adhesive is tacked or foamed during curing. Therefore, the solvent residual ratio is preferably 5% by weight or less. In addition, the solvent residual rate here is the value calculated | required by the measurement of the net weight decreasing rate of a film adhesive part at the time of drying for 60 minutes in 180 degreeC atmosphere. Moreover, about the said film adhesive and copper foil with a film adhesive, after apply | coating the epoxy resin composition of this invention which does not contain a solvent on the base film as a support material in a heat-melting state, it is made to cool. May be obtained.

フィルム状接着剤又はフィルム状接着剤付き銅箔を形成する際に用いる支持材としては、例えばポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレン、銅箔、アルミ箔、離型紙等を挙げることができ、この支持材の厚みについては10〜100μmとするのが一般的である。   Examples of the support material used when forming the film adhesive or the copper foil with the film adhesive include polyethylene terephthalate (PET), polyethylene, copper foil, aluminum foil, release paper, and the like. The thickness is generally 10 to 100 μm.

支持材として、銅箔、アルミ箔等の金属箔を用いる場合、金属箔の製造方法は電解法のものでも圧延法のものであってもよい。なお、これらの金属箔においては絶縁層との接着性の観点から、絶縁層と接する側の面が粗化処理されているのが好ましい。   When a metal foil such as a copper foil or an aluminum foil is used as the support material, the method for producing the metal foil may be an electrolytic method or a rolling method. In these metal foils, the surface on the side in contact with the insulating layer is preferably roughened from the viewpoint of adhesion to the insulating layer.

また、フィルム状接着剤又はフィルム状接着剤付き銅箔は、支持材としてのベースフィルム上に貼り合わされた後、貼り合わされていないもう一方の面を、保護材としてのフィルムで覆い、ロール状に巻き取って保存することもできる。この際に用いられる保護材としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、離型紙等が挙げられ、この保護材の厚みについては10〜100μmとするのが一般的である。フィルム状接着剤付き銅箔の場合は、支持材として銅箔が使用される。   In addition, the film-like adhesive or the copper foil with film-like adhesive is laminated on the base film as the support material, and then the other surface that is not bonded is covered with a film as the protective material to form a roll. It can also be wound and stored. Examples of the protective material used at this time include polyethylene terephthalate, polyethylene, release paper, and the like. The thickness of the protective material is generally 10 to 100 μm. In the case of a copper foil with a film adhesive, a copper foil is used as a support material.

本発明のエポキシ樹脂組成物は、特に電子部品封止用および放熱基板用として優れるので、電子材料用のエポキシ樹脂組成物として適する。   The epoxy resin composition of the present invention is particularly suitable as an epoxy resin composition for electronic materials because it is excellent for electronic component sealing and heat dissipation substrates.

本発明のエポキシ樹脂組成物を用いて硬化成形物を得るためには、例えば、トランスファー成形、プレス成形、注型成形、射出成形、押出成形等の加熱成形方法が適用されるが、量産性の観点からは、封止材用にはトランスファー成形、絶縁基板用にはプレス成形が好ましい。   In order to obtain a cured molded product using the epoxy resin composition of the present invention, for example, a heat molding method such as transfer molding, press molding, cast molding, injection molding, extrusion molding or the like is applied. From the viewpoint, transfer molding is preferable for the sealing material, and press molding is preferable for the insulating substrate.

本発明のエポキシ樹脂組成物は、エポキシ樹脂および硬化剤がともに二官能性のもののみから構成された場合においても、加熱反応させた場合、エポキシ樹脂と硬化剤が反応して生成する水酸基の一部がさらにエポキシ樹脂中のエポキシ基と反応するため、通常は三次元硬化物を与えるが、場合により有機溶剤の使用、硬化促進剤種の選択、および反応温度等の加熱反応条件の制御により、実質的に二次元高分子のみで構成された熱可塑性の成形物とすることができる。   Even when the epoxy resin composition of the present invention is composed only of a bifunctional epoxy resin and a curing agent, when the epoxy resin and the curing agent are heated and reacted, the epoxy resin and the curing agent react with each other. Since this part further reacts with the epoxy group in the epoxy resin, it usually gives a three-dimensional cured product, but in some cases, by use of an organic solvent, selection of a curing accelerator type, and control of heating reaction conditions such as reaction temperature, It can be set as the thermoplastic molding substantially comprised only by the two-dimensional polymer.

本発明の硬化成形物は、高熱伝導性、高耐熱性及び低熱膨張性の観点から結晶性を有するものであることが好ましい。成形物の結晶性の発現は、示差走査熱量分析で結晶の融解に伴う吸熱ピークを融点として観測することにより確認することができる。好ましい融点は120℃から280℃の範囲であり、より好ましくは150℃から250℃の範囲である。   The cured molded product of the present invention preferably has crystallinity from the viewpoints of high thermal conductivity, high heat resistance, and low thermal expansion. The expression of crystallinity of the molded product can be confirmed by observing an endothermic peak accompanying melting of the crystal as a melting point by differential scanning calorimetry. A preferred melting point is in the range of 120 ° C. to 280 ° C., more preferably in the range of 150 ° C. to 250 ° C.

ここで結晶性発現の効果を簡単に説明する。一般的に、エポキシ樹脂硬化物においては耐熱性の指標としてガラス転移点が用いられる。これは、通常のエポキシ樹脂硬化物が結晶性を持たないアモルファス状(ガラス状)の成形物でありガラス転移点を境として物性が大きく変化するためである。従って、エポキシ樹脂硬化物の耐熱性を高くするため、すなわちガラス転移点を高くするためには架橋密度を高くする必要があるが、逆に可撓性が低下し脆くなる欠点があった。これに対して、本発明の硬化成形物は、結晶性を発達させる点に特徴があるが、融点まで物性変化が少ないことから融点を耐熱性の指標とすることができる。高分子物質は、融点の方がガラス転移点よりも高い温度にあるため、本発明の硬化成形物は、低い架橋密度により高い可撓性を維持しつつ、高い耐熱性を確保できる。また、結晶性発現は、高い分子間力を意味しており、これにより分子の運動が抑制され、低熱膨張性の達成とともに、高い熱拡散率が発揮され熱伝導率が向上する。   Here, the effect of crystallinity will be briefly described. Generally, in a cured epoxy resin, a glass transition point is used as an index of heat resistance. This is because a normal epoxy resin cured product is an amorphous (glassy) molded product having no crystallinity, and the physical properties greatly change at the glass transition point. Therefore, in order to increase the heat resistance of the cured epoxy resin, that is, to increase the glass transition point, it is necessary to increase the crosslink density. On the other hand, the cured molded product of the present invention is characterized in that crystallinity is developed, but since the change in physical properties is small up to the melting point, the melting point can be used as an index of heat resistance. Since the polymer material has a melting point higher than the glass transition point, the cured molded product of the present invention can ensure high heat resistance while maintaining high flexibility due to low crosslink density. In addition, the expression of crystallinity means a high intermolecular force, which suppresses the movement of molecules, achieves low thermal expansibility, exhibits high thermal diffusivity, and improves thermal conductivity.

従って、本発明の硬化成形物の結晶化度は高いものほどよい。ここで結晶化の程度は示差走査熱量分析での結晶の融解に伴う吸熱量から評価することができる。好ましい吸熱量は、充填材を除いた樹脂成分の単位重量あたり10J/g以上である。より好ましくは30J/g以上であり、特に好ましくは50J/g以上である。これより小さいと成形物としての熱伝導率、耐熱性及び低熱膨張性の向上効果が小さい。なお、ここでいう吸熱量は、示差走査熱量分析計により、約10mgを精秤した試料を用いて、窒素気流下、昇温速度10℃/分の条件で測定して得られる吸熱量を指す。また、結晶化した本発明の硬化成形物は、広角X線回折においても、明確なピークとして観察することができる。この場合、結晶化度は、全体のピーク面積から結晶化していないアモルファス状樹脂のピークを差引いた面積を全体のピーク面積で除することにより求めることができる。このようにして求めた望ましい結晶化度は、充填材を除いた樹脂成分において15%以上、より望ましくは30%以上、特に望ましくは50%以上である。   Accordingly, the higher the degree of crystallinity of the cured molded product of the present invention, the better. Here, the degree of crystallization can be evaluated from the endothermic amount accompanying the melting of the crystal in the differential scanning calorimetry. A preferable endothermic amount is 10 J / g or more per unit weight of the resin component excluding the filler. More preferably, it is 30 J / g or more, Most preferably, it is 50 J / g or more. If it is smaller than this, the effect of improving the thermal conductivity, heat resistance and low thermal expansion as a molded product is small. The endothermic amount referred to here refers to the endothermic amount obtained by measuring with a differential scanning calorimeter using a sample accurately weighed about 10 mg under a nitrogen stream under a temperature rising rate of 10 ° C./min. . Further, the crystallized cured molded product of the present invention can be observed as a clear peak even in wide-angle X-ray diffraction. In this case, the crystallinity can be obtained by dividing the area obtained by subtracting the peak of the amorphous resin that is not crystallized from the entire peak area by the entire peak area. The desired crystallinity thus obtained is 15% or more, more preferably 30% or more, and particularly preferably 50% or more in the resin component excluding the filler.

本発明の硬化成形物は、上記成形方法により加熱反応させることにより得ることができるが、通常、成形温度としては80℃から250℃であるが、成形物の結晶化度を上げるためには、成形物の融点よりも低い温度で反応させることが望ましい。好ましい成形温度は100℃から200℃の範囲であり、より好ましくは130℃から180℃である。また、好ましい成形時間は30秒から2時間であり、より好ましくは1分から1時間である。さらに成形後、ポストキュアにより、さらに結晶化度を上げることができる。通常、ポストキュア温度は130℃から250℃であり、時間は1時間から20時間の範囲であるが、示差走査熱量分析における吸熱ピーク温度よりも5℃から40℃低い温度で、1時間から24時間かけてポストキュアを行うことが望ましい。   The cured molded product of the present invention can be obtained by heat reaction by the above molding method. Usually, the molding temperature is 80 ° C. to 250 ° C. In order to increase the crystallinity of the molded product, It is desirable to react at a temperature lower than the melting point of the molded product. A preferable molding temperature is in the range of 100 ° C to 200 ° C, more preferably 130 ° C to 180 ° C. The preferable molding time is 30 seconds to 2 hours, more preferably 1 minute to 1 hour. Further, after molding, the crystallinity can be further increased by post-cure. Usually, the post-cure temperature is 130 ° C. to 250 ° C. and the time is in the range of 1 hour to 20 hours, but the temperature is 5 ° C. to 40 ° C. lower than the endothermic peak temperature in the differential scanning calorimetry, and it is 1 to 24 hours. It is desirable to post-cure over time.

以下、実施例及び比較例に基づいて本発明をより具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
実施例及び比較例の樹脂組成物を得るために使用した原料とその略号は以下の通りである。
EXAMPLES Hereinafter, although this invention is demonstrated more concretely based on an Example and a comparative example, this invention is not limited to a following example.
The raw materials used to obtain the resin compositions of Examples and Comparative Examples and their abbreviations are as follows.

1.エポキシ樹脂
エポキシ樹脂A:4,4'−ジヒドロキシジフェニルエーテルのグルシジルエーテル化物(YSLV−80DE 新日鐵化学製、エポキシ当量163、融点83℃)
エポキシ樹脂B:3,3',5,5'−テトラメチル−4,4'−ジヒドロキシビフェニルのグルシジルエーテル化物(YX4000H 三菱化学製、エポキシ当量192、融点105℃)
エポキシ樹脂C:o−クレゾールノボラック型エポキシ樹脂(EOCN−1020−65 日本化薬製、エポキシ当量200、軟化点65℃ )
1. Epoxy resin Epoxy resin A: Glucidyl etherified product of 4,4′-dihydroxydiphenyl ether (YSLV-80DE, manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd., epoxy equivalent 163, melting point 83 ° C.)
Epoxy resin B: glycidyl etherified product of 3,3 ′, 5,5′-tetramethyl-4,4′-dihydroxybiphenyl (YX4000H manufactured by Mitsubishi Chemical, epoxy equivalent 192, melting point 105 ° C.)
Epoxy resin C: o-cresol novolac type epoxy resin (EOCN-1020-65 Nippon Kayaku, epoxy equivalent 200, softening point 65 ° C.)

2.硬化剤
硬化剤A:トリス(4−ヒドロキシフェニル)メタン(旭有機材工業製、OH当量97)
硬化剤B:1,1,2,2−テトラキス(4−ヒドロキシフェニル)エタン(旭有機材工業製、OH当量100)
硬化剤C:フェノールノボラック(軟化点80℃)(タマノル758 荒川化学工業製、OH当量107、軟化点80℃)
硬化剤D:4,4’−ジヒドロキシジフェニルエーテル(試薬、OH当量101)
2. Curing agent Curing agent A: Tris (4-hydroxyphenyl) methane (manufactured by Asahi Organic Materials Co., Ltd., OH equivalent 97)
Curing agent B: 1,1,2,2-tetrakis (4-hydroxyphenyl) ethane (manufactured by Asahi Organic Materials Co., Ltd., OH equivalent 100)
Curing agent C: Phenol novolak (softening point 80 ° C.) (Tamanol 758 Arakawa Chemical Industries, OH equivalent 107, softening point 80 ° C.)
Curing agent D: 4,4′-dihydroxydiphenyl ether (reagent, OH equivalent 101)

3.無機充填材
アルミナA:球状、最大粒子径 100μm、D50 45.9μm
アルミナB:球状、最大粒子径 68μm、D50 11.1μm
アルミナC:球状、最大粒子径 7μm、D50 0.40μm
無機充填材については全て市販の球状アルミナを用いた。アルミナの粒度分布に関するパラメータは以下の方法により測定した。
測定対象のアルミナ粉末を、分散媒である0.2wt%ヘキサメタりん酸ナトリウム溶液に試料濃度が0.04wt%になるように計量して混合し、超音波ホモジナイザーを用いて3分間分散させた。このアルミナ分散液を、粒度分布測定装置マイクロトラックMT3300EX(日機装製)を用いて、波長780nmの半導体レーザの照射により得られた散乱光から粒子径分布を測定した。
最大粒子径は、前記測定法により得られた粒子径分布において、粒子の全体積を100%としたとき、粒子径の体積分率の分布カーブにおいて、ある粒子径以上で粒子の分布確率が全て0となるときの粒子径の最小値を示す。
平均粒子径D50は、前記測定法により得られた粒子径分布において、粒子の全体積を100%としたとき、粒子径の体積分率の累積カーブにおいて50%累積となるときの粒子径を示す。
3. Inorganic filler alumina A: spherical, maximum particle size 100 μm, D 50 45.9 μm
Alumina B: spherical, maximum particle size 68 μm, D 50 11.1 μm
Alumina C: spherical, maximum particle size 7 μm, D 50 0.40 μm
Commercially available spherical alumina was used for all inorganic fillers. Parameters relating to the particle size distribution of alumina were measured by the following method.
The alumina powder to be measured was weighed and mixed in a 0.2 wt% sodium hexametaphosphate solution as a dispersion medium so that the sample concentration was 0.04 wt%, and dispersed using an ultrasonic homogenizer for 3 minutes. The particle size distribution of this alumina dispersion was measured from scattered light obtained by irradiation with a semiconductor laser having a wavelength of 780 nm, using a particle size distribution measuring apparatus Microtrac MT3300EX (manufactured by Nikkiso).
The maximum particle size is a particle size distribution obtained by the above measurement method. When the total particle volume is 100%, the distribution curve of the volume fraction of the particle size has all the particle distribution probabilities above a certain particle size. The minimum value of the particle diameter when 0 is shown.
The average particle diameter D50 indicates the particle diameter when the particle volume distribution obtained by the measurement method is 50% cumulative in the cumulative curve of the volume fraction of the particle diameter when the total volume of the particles is 100%. .

4.硬化促進剤
硬化促進剤A:トリフェニルホスフィン(試薬)
4). Curing accelerator Curing accelerator A: Triphenylphosphine (reagent)

上記で示した原料を用いて配合を実施した。エポキシ樹脂と硬化剤の配合比率は全て、エポキシ樹脂/硬化剤の官能基が当量比で1.0とした。   Compounding was performed using the raw materials shown above. The mixing ratio of the epoxy resin and the curing agent was 1.0 for the epoxy resin / curing agent functional group equivalent ratio.

配合においては、溶剤としてシクロペンタノンを使用し、エポキシ樹脂、硬化剤のみを攪拌装置付きの容器中にて、常温で攪拌、溶解した。その後、アルミナ粉末を配合して、攪拌、分散させた。最後に、硬化促進剤を配合して、攪拌、溶解し、エポキシ樹脂組成物ワニスを作製した。また表1の全ての例において溶剤はシクロペンタノンを使用したので、記載を省略している。このエポキシ樹脂組成物ワニスを、厚さ31μmのPETフィルム上に、乾燥後の樹脂厚さが120〜180μmになるように塗布し、90℃で7分乾燥させることによりフィルム状接着剤を得た。さらにこのフィルム状接着剤を180℃にて1時間の硬化をすることにより各試験片を得て、その物性を評価した。結果をまとめて表1に示す。なお、表1中の各成分の数字は重量部を表す。   In blending, cyclopentanone was used as a solvent, and only an epoxy resin and a curing agent were stirred and dissolved at room temperature in a container equipped with a stirrer. Thereafter, alumina powder was blended and stirred and dispersed. Finally, a curing accelerator was blended, stirred and dissolved to prepare an epoxy resin composition varnish. In all the examples in Table 1, since the solvent used is cyclopentanone, the description is omitted. This epoxy resin composition varnish was applied onto a PET film having a thickness of 31 μm so that the resin thickness after drying would be 120 to 180 μm, and dried at 90 ° C. for 7 minutes to obtain a film adhesive. . Furthermore, each test piece was obtained by hardening this film adhesive for 1 hour at 180 degreeC, and the physical property was evaluated. The results are summarized in Table 1. In addition, the number of each component in Table 1 represents parts by weight.

[評価]
(1)熱伝導率
熱伝導率は、NETZSCH製キセノンフラッシュアナライザーLFA447型熱伝導率計を用いてレーザフラッシュ法により測定した。
(2)ガラス転移温度
熱機械的分析装置(TMA測定装置、セイコーインスツル製)を用い、試験片の幅3mm、チャック間距離20mmにて、引張モードにおいて、200ml/分の窒素気流下、昇温速度10℃/分で300℃まで昇温、スキャンすることにより求めた。
[Evaluation]
(1) Thermal conductivity Thermal conductivity was measured by a laser flash method using a xenon flash analyzer LFA447 type thermal conductivity meter manufactured by NETZSCH.
(2) Glass transition temperature Using a thermomechanical analyzer (TMA measuring device, manufactured by Seiko Instruments Inc.), the specimen is 3 mm wide and the distance between chucks is 20 mm. The temperature was determined by scanning up to 300 ° C. at a temperature rate of 10 ° C./min.

Figure 2012017405
Figure 2012017405

実施例1及び2で得た試験片は、熱伝導性に優れると共に、耐熱性に優れたエポキシ樹脂組成物を与えることが確認できた。   It was confirmed that the test pieces obtained in Examples 1 and 2 were excellent in thermal conductivity and gave an epoxy resin composition excellent in heat resistance.

一方、本発明で規定した条件を満たしていない比較例1〜4は、実施例ほどこれらの特性が同時に優れてはいない。すなわち、比較例1は本発明で規定した硬化剤を含んでいないため、熱伝導性及び耐熱性が劣る。比較例2は本発明で規定した硬化剤を含んでいないため、耐熱性が劣る。比較例3及び比較例4は本発明で規定したジフェニルエーテル基を持つエポキシ樹脂を含んでいないため、熱伝導性が劣る。   On the other hand, Comparative Examples 1 to 4 that do not satisfy the conditions defined in the present invention are not as excellent in these characteristics as the examples. That is, since Comparative Example 1 does not contain the curing agent defined in the present invention, the thermal conductivity and heat resistance are inferior. Since Comparative Example 2 does not contain the curing agent defined in the present invention, the heat resistance is inferior. Since the comparative example 3 and the comparative example 4 do not contain the epoxy resin which has the diphenyl ether group prescribed | regulated by this invention, thermal conductivity is inferior.

Claims (7)

エポキシ樹脂、硬化剤、及び無機充填材を含有するエポキシ樹脂組成物において、エポキシ樹脂の50wt%以上が下記式(1)で表されるジフェニルエーテル基を持つエポキシ樹脂であり、硬化剤の50wt%以上が下記式(2)又は式(3)で表されるフェノール性化合物であり、無機充填材の含有率が50〜96wt%であることを特徴とするエポキシ樹脂組成物。
Figure 2012017405
(但し、n1は0〜10の数を示す。)
Figure 2012017405
(但し、R1及びR2は同一又は異なっていても良く、水素原子、ハロゲン原子又は炭素数1〜6の炭化水素基を示し、n2は0〜5の数を示す。)
Figure 2012017405
(但し、R3〜R5は同一又は異なっていても良く、水素原子、ハロゲン原子又は炭素数1〜6の炭化水素基を示し、n3は0〜5の数を示す。)
In an epoxy resin composition containing an epoxy resin, a curing agent, and an inorganic filler, 50 wt% or more of the epoxy resin is an epoxy resin having a diphenyl ether group represented by the following formula (1), and 50 wt% or more of the curing agent. Is a phenolic compound represented by the following formula (2) or formula (3), and the content of the inorganic filler is 50 to 96 wt%.
Figure 2012017405
(However, n 1 is a number of 0.)
Figure 2012017405
(However, R 1 and R 2 may be the same or different and each represents a hydrogen atom, a halogen atom, or a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, and n 2 represents a number from 0 to 5)
Figure 2012017405
(However, R 3 to R 5 may be the same or different, represent a hydrogen atom, a halogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, n 3 is a number of 0-5.)
無機充填材が、アルミナ、窒化ホウ素、及び窒化アルミニウムからなる群より選ばれる少なくとも1種の無機充填材である請求項1に記載のエポキシ樹脂組成物。   The epoxy resin composition according to claim 1, wherein the inorganic filler is at least one inorganic filler selected from the group consisting of alumina, boron nitride, and aluminum nitride. 請求項1又は2に記載のエポキシ樹脂組成物を成形硬化させて得られる硬化成形物。   A cured molded product obtained by molding and curing the epoxy resin composition according to claim 1. 請求項1又は2に記載のエポキシ樹脂組成物を溶剤に溶解又は分散させて得られるワニス。   A varnish obtained by dissolving or dispersing the epoxy resin composition according to claim 1 or 2 in a solvent. 請求項4に記載のワニスを支持体上に塗布して乾燥または部分的に硬化させてフィルム状に形成したことを特徴とするフィルム状接着剤。   A film adhesive, wherein the varnish according to claim 4 is applied on a support and dried or partially cured to form a film. 請求項1又は2に記載のエポキシ樹脂組成物をフィルム状に形成してなるフィルム状接着剤。   The film adhesive formed by forming the epoxy resin composition of Claim 1 or 2 in a film form. 請求項5又は6に記載のフィルム状接着剤が、銅箔上に積層して設けられていることを特徴とするフィルム状接着剤付き銅箔。   A film-like adhesive-attached copper foil, wherein the film-like adhesive according to claim 5 or 6 is laminated on a copper foil.
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