JP2011209517A - 位相差フィルムの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】鹸化処理の前後における光学特性の変動が軽減された、液晶組成物の配向を固定してなる光学異方性層を有する位相差フィルムの提供。
【解決手段】支持体及び光学異方性層を少なくとも有する位相差フィルムの製造方法であって、重合性液晶組成物の配向を、該組成物の重合反応を光照射下で進行させて固定して、光学異方性層を形成する工程を含み、前記工程において、波長１８５ｎｍの光に対する透過率が１％以下であるフィルタを介して光照射すること；及び／又は前記工程において、オゾンレスランプにより光照射すること；及び／又は前記工程において、酸素濃度10,000ppm以下の雰囲気中で重合反応を進行させることを特徴とする位相差フィルムの製造方法である。
【選択図】なし
【解決手段】支持体及び光学異方性層を少なくとも有する位相差フィルムの製造方法であって、重合性液晶組成物の配向を、該組成物の重合反応を光照射下で進行させて固定して、光学異方性層を形成する工程を含み、前記工程において、波長１８５ｎｍの光に対する透過率が１％以下であるフィルタを介して光照射すること；及び／又は前記工程において、オゾンレスランプにより光照射すること；及び／又は前記工程において、酸素濃度10,000ppm以下の雰囲気中で重合反応を進行させることを特徴とする位相差フィルムの製造方法である。
【選択図】なし
Description
本発明は、液晶組成物の配向を固定してなる光学異方性層を有する位相差フィルムの製造方法に関する。
従来、セルロースアシレートフィルムを支持体とし、その上に、液晶組成物の配向を固定して形成された光学異方性層を有する位相差フィルム、及び当該位相差フィルムの製造方法が種々提案されている（例えば、特許文献１〜３）。
ところで、前記構成の位相差フィルムを液晶表示装置の光学補償フィルムとして用いる場合には、偏光膜と貼合させた状態で、液晶表示装置に組み込む場合が多い。偏光膜と当該位相差フィルムとを貼合する際は、セルロースアシレートフィルムの裏面（光学異方性層が形成されていない側の表面）を偏光膜に貼合するので、偏光膜との接着性を確保するために、セルロースアシレートフィルムに対して、通常、鹸化処理を行っている。
この鹸化処理では、位相差フィルムを鹸化液に浸漬するため、光学異方性層が形成されている側の表面も鹸化処理され、鹸化処理の前後で、光学異方性層の光学特性が変化するために、位相差フィルムの光学特性が変動してしまうという問題があった。
ところで、前記構成の位相差フィルムを液晶表示装置の光学補償フィルムとして用いる場合には、偏光膜と貼合させた状態で、液晶表示装置に組み込む場合が多い。偏光膜と当該位相差フィルムとを貼合する際は、セルロースアシレートフィルムの裏面（光学異方性層が形成されていない側の表面）を偏光膜に貼合するので、偏光膜との接着性を確保するために、セルロースアシレートフィルムに対して、通常、鹸化処理を行っている。
この鹸化処理では、位相差フィルムを鹸化液に浸漬するため、光学異方性層が形成されている側の表面も鹸化処理され、鹸化処理の前後で、光学異方性層の光学特性が変化するために、位相差フィルムの光学特性が変動してしまうという問題があった。
本発明は、上記問題点に鑑みなされたものであって、鹸化処理の前後における光学特性の変動が軽減された、液晶組成物の配向を固定してなる光学異方性層を有する位相差フィルムを提供することを課題とする。
本発明者が、鹸化処理の前後で、位相差フィルムの光学特性が変動してしまう原因について種々検討した結果、鹸化処理時に、液晶組成物からなる光学異方性層も鹸化液に曝されてしまうことで、該層の膜厚が減少し、その結果、光学特性も顕著に変動してしいることがわかった。さらに、前記光学異方性層の膜厚の変動の原因について検討した結果、大気下での光重合により液晶組成物の配向状態を固定化して得られる光学異方性層では、重合性液晶が、ラジカル重合の際に大気中に含まれる酸素で酸化され、更に光重合時の光照射によって発生する活性酸素種により酸化され、光学異方性層が親水化し、鹸化処理の際に光学異方性層内に鹸化液が浸透しやすくなる。その結果、重合性液晶が鹸化液による加水分解を受け、鹸化液に溶出することが原因であることがわかった。この知見に基づきさらに検討した結果、活性酸素種を発生させない条件下で、及び／又は酸素濃度を低下させた条件下で、光重合反応を進行させることで、前記課題を解決し得るとの知見を得、本発明を完成するに至った。
即ち、前記課題を解決するための手段は、以下の通りである。
［１］ 支持体及び光学異方性層を少なくとも有する位相差フィルムの製造方法であって、
重合性液晶組成物の配向を、該組成物の重合反応を光照射下で進行させて固定して、光学異方性層を形成する工程を含み、
前記工程において、波長１８５ｎｍの光に対する透過率が１％以下であるフィルタを介して光照射することを特徴とする位相差フィルムの製造方法。
［２］ 前記フィルタの波長２５４ｎｍの光に対する透過率が、１０％以下であることを特徴とする［１］の方法。
［３］ 前記重合性液晶組成物が紫外領域に極大吸収波長λmaxを有する重合開始剤を含有し、前記フィルタの波長λmaxの光に対する透過率が、３０％以上であることを特徴とする［１］又は［２］の方法。
［４］ 前記フィルタの波長３００ｎｍの光に対する透過率が、３０％以上であることを特徴とする［１］〜［３］のいずれかの方法。
［５］ 前記工程において、オゾンレスランプを用いて光照射することを特徴とする［１］〜［４］のいずれかの方法。
［１］ 支持体及び光学異方性層を少なくとも有する位相差フィルムの製造方法であって、
重合性液晶組成物の配向を、該組成物の重合反応を光照射下で進行させて固定して、光学異方性層を形成する工程を含み、
前記工程において、波長１８５ｎｍの光に対する透過率が１％以下であるフィルタを介して光照射することを特徴とする位相差フィルムの製造方法。
［２］ 前記フィルタの波長２５４ｎｍの光に対する透過率が、１０％以下であることを特徴とする［１］の方法。
［３］ 前記重合性液晶組成物が紫外領域に極大吸収波長λmaxを有する重合開始剤を含有し、前記フィルタの波長λmaxの光に対する透過率が、３０％以上であることを特徴とする［１］又は［２］の方法。
［４］ 前記フィルタの波長３００ｎｍの光に対する透過率が、３０％以上であることを特徴とする［１］〜［３］のいずれかの方法。
［５］ 前記工程において、オゾンレスランプを用いて光照射することを特徴とする［１］〜［４］のいずれかの方法。
［６］ 支持体及び光学異方性層を少なくとも有する位相差フィルムの製造方法であって、
重合性液晶組成物の配向を、該組成物の重合反応を光照射下で進行させて固定して、光学異方性層を形成する工程を含み、
前記工程において、オゾンレスランプにより光照射することを特徴とする位相差フィルムの製造方法。
［７］ 前記オゾンレスランプを構成するガラス部材が、波長１８５ｎｍの光に対する透過率が１％以下で、且つ波長３００ｎｍの光に対する透過率が８０％以上であることを特徴とする［５］又は［６］の方法。
［８］ 前記工程において、酸素濃度10,000ppm以下の雰囲気中で重合反応を進行させることを特徴とする［１］〜［７］のいずれかの方法。
［９］ 支持体及び光学異方性層を少なくとも有する位相差フィルムの製造方法であって、
重合性液晶組成物の配向を、該組成物の重合反応を光照射下で進行させて固定して、光学異方性層を形成する工程を含み、
前記工程において、酸素濃度10,000ppm以下の雰囲気中で重合反応を進行させることを特徴とする位相差フィルムの製造方法。
［１０］ 前記工程において、酸素濃度1,000ppm以下の雰囲気下で重合反応を進行させることを特徴とする［８］又は［９］の方法。
［１１］ 不活性ガスで置換された雰囲気中で重合反応を進行させることを特徴とする［８］〜［１０］のいずれかの方法。
［１２］ 前記重合性液晶組成物が、円盤状液晶化合物及び棒状液晶化合物の少なくとも１種を含有することを特徴とする［１］〜［１1］のいずれかの方法。
［１３］ 前記重合性液晶組成物が、１以上のエステル基を分子内に有する液晶化合物の少なくとも１種を含有することを特徴とする［１］〜［１２］のいずれかの方法。
［１４］ 前記重合性組成物の重合反応を、重合開始剤を含有する配向膜上で進行させることを特徴とする［１］〜［１３］のいずれかの方法。
重合性液晶組成物の配向を、該組成物の重合反応を光照射下で進行させて固定して、光学異方性層を形成する工程を含み、
前記工程において、オゾンレスランプにより光照射することを特徴とする位相差フィルムの製造方法。
［７］ 前記オゾンレスランプを構成するガラス部材が、波長１８５ｎｍの光に対する透過率が１％以下で、且つ波長３００ｎｍの光に対する透過率が８０％以上であることを特徴とする［５］又は［６］の方法。
［８］ 前記工程において、酸素濃度10,000ppm以下の雰囲気中で重合反応を進行させることを特徴とする［１］〜［７］のいずれかの方法。
［９］ 支持体及び光学異方性層を少なくとも有する位相差フィルムの製造方法であって、
重合性液晶組成物の配向を、該組成物の重合反応を光照射下で進行させて固定して、光学異方性層を形成する工程を含み、
前記工程において、酸素濃度10,000ppm以下の雰囲気中で重合反応を進行させることを特徴とする位相差フィルムの製造方法。
［１０］ 前記工程において、酸素濃度1,000ppm以下の雰囲気下で重合反応を進行させることを特徴とする［８］又は［９］の方法。
［１１］ 不活性ガスで置換された雰囲気中で重合反応を進行させることを特徴とする［８］〜［１０］のいずれかの方法。
［１２］ 前記重合性液晶組成物が、円盤状液晶化合物及び棒状液晶化合物の少なくとも１種を含有することを特徴とする［１］〜［１1］のいずれかの方法。
［１３］ 前記重合性液晶組成物が、１以上のエステル基を分子内に有する液晶化合物の少なくとも１種を含有することを特徴とする［１］〜［１２］のいずれかの方法。
［１４］ 前記重合性組成物の重合反応を、重合開始剤を含有する配向膜上で進行させることを特徴とする［１］〜［１３］のいずれかの方法。
本発明によれば、鹸化処理の前後における光学特性の変動が軽減された、液晶組成物の配向を固定してなる光学異方性層を有する位相差フィルムを提供することができる。
以下、本発明について詳細に説明する。なお、本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
本明細書において、Ｒｅ(λ)、Ｒｔｈ(λ)は各々、波長λにおける面内のリターデーションおよび厚さ方向のリターデーションを表す。Ｒｅ(λ)はKOBRA 21ADHまたはWR（王子計測機器（株）製）において波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定される。測定波長λｎｍの選択にあたっては、波長選択フィルタをマニュアルで交換するか、または測定値をプログラム等で変換して測定することができる。
本明細書において、Ｒｅ(λ)、Ｒｔｈ(λ)は各々、波長λにおける面内のリターデーションおよび厚さ方向のリターデーションを表す。Ｒｅ(λ)はKOBRA 21ADHまたはWR（王子計測機器（株）製）において波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定される。測定波長λｎｍの選択にあたっては、波長選択フィルタをマニュアルで交換するか、または測定値をプログラム等で変換して測定することができる。
測定されるフィルムが1軸または2軸の屈折率楕円体で表されるものである場合には、以下の方法によりRth（λ）は算出される。
Ｒｔｈ（λ）は前記Ｒｅ（λ）を、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨまたはＷＲにより判断される）を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合にはフィルム面内の任意の方向を回転軸とする）のフィルム法線方向に対して法線方向から片側５０度まで１０度ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて全部で６点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨまたはＷＲが算出する。
Ｒｔｈ（λ）は前記Ｒｅ（λ）を、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨまたはＷＲにより判断される）を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合にはフィルム面内の任意の方向を回転軸とする）のフィルム法線方向に対して法線方向から片側５０度まで１０度ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて全部で６点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨまたはＷＲが算出する。
上記において、法線方向から面内の遅相軸を回転軸として、ある傾斜角度にレターデーションの値がゼロとなる方向をもつフィルムの場合には、その傾斜角度より大きい傾斜角度でのレターデーション値はその符号を負に変更した後、ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨまたはＷＲが算出する。
尚、遅相軸を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合にはフィルム面内の任意の方向を回転軸とする）、任意の傾斜した２方向からレターデーション値を測定し、その値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基に、以下の式（１）及び式（２）よりＲｔｈを算出することもできる。
尚、遅相軸を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合にはフィルム面内の任意の方向を回転軸とする）、任意の傾斜した２方向からレターデーション値を測定し、その値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基に、以下の式（１）及び式（２）よりＲｔｈを算出することもできる。
式におけるｎｘは面内における遅相軸方向の屈折率を表し、ｎｙは面内においてｎｘに直交する方向の屈折率を表し、ｎｚはｎｘ及びｎｙに直交する方向の屈折率を表す。ｄは膜厚である。
測定されるフィルムが1軸や2軸の屈折率楕円体で表現できないもの、いわゆる光学軸（optic axis)がないフィルムの場合には、以下の方法によりRth（λ）は算出される。
Ｒｔｈ(λ)は前記Ｒｅ(λ)を、面内の遅相軸（KOBRA 21ADHまたはWRにより判断される）を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して−50度から＋50度まで10度ステップで各々その傾斜した方向から波長λnｍの光を入射させて11点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基にKOBRA 21ADHまたはWRが算出する。
Ｒｔｈ(λ)は前記Ｒｅ(λ)を、面内の遅相軸（KOBRA 21ADHまたはWRにより判断される）を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して−50度から＋50度まで10度ステップで各々その傾斜した方向から波長λnｍの光を入射させて11点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基にKOBRA 21ADHまたはWRが算出する。
上記の測定において、平均屈折率の仮定値は ポリマーハンドブック（ＪＯＨＮ ＷＩＬＥＹ＆ＳＯＮＳ，ＩＮＣ）、各種光学フィルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについてはアッベ屈折計で測定することができる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する： セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）である。
これら平均屈折率の仮定値と膜厚を入力することで、ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨまたはＷＲはｎｘ、ｎｙ、ｎｚを算出する。この算出されたｎｘ，ｎｙ，ｎｚよりＮｚ＝（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）が更に算出される。
これら平均屈折率の仮定値と膜厚を入力することで、ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨまたはＷＲはｎｘ、ｎｙ、ｎｚを算出する。この算出されたｎｘ，ｎｙ，ｎｚよりＮｚ＝（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）が更に算出される。
本発明は、支持体及び光学異方性層を少なくとも有する位相差フィルムの製造方法であって、重合性液晶組成物の配向を、該組成物の重合反応を光照射下で進行させて固定して、光学異方性層を形成する工程を含み、該工程において、活性酸素種の発生を抑制した条件下で、及び／又は酸素濃度を低下させた条件下で、重合反応を進行させることを特徴とする位相差フィルムの製造方法に関する。
光学異方性層中の成分である重合性液晶を、大気下でラジカル重合反応させると、重合性液晶中に過酸化物や水酸基が生成し、光学異方性層が親水化すると推測される。一方、大気下で紫外線照射すると、以下の式で示されるように、紫外線によって空気中の酸素がオゾンに変化し、さらに活性酸素種に変化する。発生した活性酸素種は、以下に示す通り、光学異方性層中の成分である重合性液晶から生成したラジカル種Ｒ・を酸化し、光学異方性層が親水化すると推測される。
大気下での光重合反応によって親水化した光学異方性層内へは、アルカリ性の鹸化液が容易に浸透し、重合性液晶中の加水分解されやすい部位（たとえば、エステル基）が加水分解され、重合性液晶が鹸化液中に溶出し、その結果、前記光学異方性層の膜厚が減少すると考えられる。膜厚の減少は、位相差フィルムの光学特性を変動させ、具体的にはレターデーションを減少させてしまう。本発明では、前記重合性液晶組成物の光重合時に、活性酸素種の発生を抑制する条件下で、及び／又は酸素濃度を低下させた条件下で光重合反応を進行させているので、前記光学異方性層の親水化が抑制され、その結果、鹸化処理時の膜厚の減少、ひいては光学特性の変動を抑制することができる。
・第１の態様
本発明の第１の態様は、重合性液晶組成物の配向を、該組成物の重合反応を光照射下で進行させて固定して、光学異方性層を形成する工程において、波長１８５ｎｍの光に対する透過率が１％以下であるフィルタを介して光照射することを特徴とする位相差フィルムの製造方法である。本態様では、オゾンを発生させる波長１８５ｎｍの光をフィルタで除去しているので、重合反応進行時にオゾンの発生が抑制され、その結果、活性酸素種の発生が抑制される。本態様に用いるフィルタは、オゾンを発生する波長１８５ｎｍの光を遮蔽するものであり、その透過率を１％以下とするフィルタである。波長１８５ｎｍの光の透過率は、理想的には０％である。この特性を満足する紫外線カットフィルタとしては、市販されている「ＷＧ２８０」（ＳＣＨＯＴＴ社製）、「Ｍ２３５」（信越石英（株）製）、「Ｓ−ＦＰＬ５１Ｙ」（（株）オハラ製）、及び「ＢＳＭ５１Ｙ」（（株）オハラ製）があり、これらはいずれも波長１８５ｎｍの光に対する透過率が０％である。いずれのフィルタも本発明に用いることができる。
本発明の第１の態様は、重合性液晶組成物の配向を、該組成物の重合反応を光照射下で進行させて固定して、光学異方性層を形成する工程において、波長１８５ｎｍの光に対する透過率が１％以下であるフィルタを介して光照射することを特徴とする位相差フィルムの製造方法である。本態様では、オゾンを発生させる波長１８５ｎｍの光をフィルタで除去しているので、重合反応進行時にオゾンの発生が抑制され、その結果、活性酸素種の発生が抑制される。本態様に用いるフィルタは、オゾンを発生する波長１８５ｎｍの光を遮蔽するものであり、その透過率を１％以下とするフィルタである。波長１８５ｎｍの光の透過率は、理想的には０％である。この特性を満足する紫外線カットフィルタとしては、市販されている「ＷＧ２８０」（ＳＣＨＯＴＴ社製）、「Ｍ２３５」（信越石英（株）製）、「Ｓ−ＦＰＬ５１Ｙ」（（株）オハラ製）、及び「ＢＳＭ５１Ｙ」（（株）オハラ製）があり、これらはいずれも波長１８５ｎｍの光に対する透過率が０％である。いずれのフィルタも本発明に用いることができる。
前記フィルタを介しての光照射でも生じてしまうわずかなオゾン、又は空気中に微量に存在するオゾンが、光照射によって活性酸素種に変化しないように、前記フィルタが、オゾンを活性酸素種に変化させる波長２５４ｎｍの光も遮蔽するのが好ましく、具体的には、波長２５４ｎｍの光の透過率が１０％以下であるのが好ましく、８％以下であるのがより好ましく、６％以下であるのがさらに好ましい。理想的には０％である。上記例示した市販品のうち、「ＷＧ２８０」（ＳＣＨＯＴＴ社製）、「Ｓ−ＦＰＬ５１Ｙ」（（株）オハラ製）、及び「ＢＳＭ５１Ｙ」（（株）オハラ製）は、この特性を満足する。一方、「Ｍ２３５」（信越石英（株）製）は、波長２５４ｎｍの光の透過率が大きい（８０％以上）が、波長１８５ｎｍの光に対する透過率が０％であるので、そもそもオゾンの発生がほとんどなく、その結果、波長２５４ｎｍの光が照射されても、活性酸素種の発生は多くはない。
一方、前記重合工程では、重合反応を開始させるのに適する波長の光を照射することも重要である。即ち、前記重合性液晶組成物が含有する重合開始剤を励起させてラジカル等を発生させるのに必要な波長の光を照射する必要がある。また、後述する様に、前記光学異方性層の支持体（支持体上に形成される配向層等も含む）との接着性を改善することを目的として、光学異方性層の下層（例えば、配向層）中に、重合開始剤を含有させておく場合がある。下層に含有される重合開始剤は、上層である光学異方性層が形成される際の重合反応時に、下層と光学異方性層との間での架橋反応や重合反応等の反応を進行させ、接着性の改善に寄与する。よって、本態様において用いるフィルタは、前記重合性液晶組成物が含有する重合開始剤、及び場合によっては、光学異方性層の下層（例えば配向層）が含有する重合開始剤の重合開始能を妨げないのが好ましい。
上記観点では、前記重合性液晶組成物が紫外領域に極大吸収波長λmaxを有する重合開始剤を含有する態様では、前記フィルタの波長λmaxの光に対する透過率は、３０％以上であるのが好ましく、５０％以上であるのがより好ましく、８０％以上であるのがさらに好ましい。また、市販されているα−アミノケトン型重合開始剤（例えば、「イルガキュア９０７」（チバ・ジャパン（株）製）、「イルガキュア３６９」（チバ・ジャパン（株）製））、α−ヒドロキシルケトン型重合開始剤（例えば、「イルガキュア２９５９」（チバ・ジャパン（株）製）、「イルガキュア１８４」（チバ・ジャパン（株）製、「ダロキュア１１７３」（チバ・ジャパン（株）製））およびチオキサントン型重合開始剤（例えば、「カヤキュアーＤＥＴＸ」（日本化薬（株）製）の多くは、波長２６０ｎｍ〜３４０ｎｍに吸収極大を示し、波長３００ｎｍにも大きな吸収を示す。よって、本態様で使用する前記フィルタの波長３００ｎｍの光に対する透過率が大きければ、重合開始剤の重合能を低下させることなく、本発明の効果を得ることができるであろう。前記フィルタの波長３００ｎｍの光に対する透過率は、３０％以上であるのがより好ましく、５０％以上であるのがさらに好ましい。
本態様は、後述する第２の態様及び／又は第３の態様の条件を満足していると、さらに高い効果が得られるので好ましく、後述する第２及び第３の態様の条件を満足していると、特に効果が高いので好ましい。
・第２の態様
本発明の第２の態様は、重合性液晶組成物の配向を、該組成物の重合反応を大気下で、光照射により進行させて固定して、光学異方性層を形成する工程において、オゾンレスランプにより光照射することを特徴とする位相差フィルムの製造方法である。本態様では、オゾンレスランプを用いることで、光照射によりオゾンの発生が抑制され、その結果、活性酸素種の発生が抑制される。オゾンレスランプは、一般的には、メタルハライドランプ等の光源ランプと、オゾンレス石英からなる発光管とを備えていて、光源ランプからの光を、当該オゾンレス石英ガラスを介して発光させることで、２００ｎｍ以下の波長の光を除去したランプである。本態様には、市販されている種々のオゾンレスランプを用いることができる。１８５ｎｍでの透過率が１％以下であるオゾンレスガラス部材によって構成されたオゾンレスランプを使用するのが好ましく、理想的には１８５ｎｍでの透過率が０％である。かかる特性を満足するオゾンレスランプとしては、商品名「Ｍ２３５」のオゾンレス石英からなる発光管を備えたメタルハライドランプが挙げられる。
本発明の第２の態様は、重合性液晶組成物の配向を、該組成物の重合反応を大気下で、光照射により進行させて固定して、光学異方性層を形成する工程において、オゾンレスランプにより光照射することを特徴とする位相差フィルムの製造方法である。本態様では、オゾンレスランプを用いることで、光照射によりオゾンの発生が抑制され、その結果、活性酸素種の発生が抑制される。オゾンレスランプは、一般的には、メタルハライドランプ等の光源ランプと、オゾンレス石英からなる発光管とを備えていて、光源ランプからの光を、当該オゾンレス石英ガラスを介して発光させることで、２００ｎｍ以下の波長の光を除去したランプである。本態様には、市販されている種々のオゾンレスランプを用いることができる。１８５ｎｍでの透過率が１％以下であるオゾンレスガラス部材によって構成されたオゾンレスランプを使用するのが好ましく、理想的には１８５ｎｍでの透過率が０％である。かかる特性を満足するオゾンレスランプとしては、商品名「Ｍ２３５」のオゾンレス石英からなる発光管を備えたメタルハライドランプが挙げられる。
一方、上記した通り、前記重合工程では、重合反応を開始させるのに適する波長の光を照射することも重要である。よって、本態様においても、用いるオゾンレスランプは、前記重合性液晶組成物が含有する重合開始剤、及び場合によっては、光学異方性層の下層（例えば配向層）が含有する重合開始剤を励起されるのに適する波長の光を照射可能であるのが好ましい。この観点では、前記重合性液晶組成物が紫外領域に極大吸収波長λmaxを有する重合開始剤を含有する態様では、オゾンレスランプを構成しているガラス部材は、波長λmaxの光に対する透過率が高いのが好ましく、８０％以上であるのがより好ましく、９０％以上であるのがさらに好ましい。また、上記した通り、市販されているα−アミノケトン型重合開始剤、α−ヒドロキシルケトン型重合開始剤、およびチオキサントン型重合開始剤の多くは、波長３００ｎｍに大きな吸収を示す。よって、本態様で使用する前記オゾンレスランプを構成するガラス部材の波長３００ｎｍの光に対する透過率が大きければ、重合開始剤の重合能を低下させることなく、本発明の効果を得ることができるであろう。前記ガラス部材の波長３００ｎｍの光に対する透過率は、８０％以上であるのがより好ましく、９０％以上であるのがさらに好ましい。上記商品名「Ｍ２３５」のオゾンレス石英は、波長３００ｎｍの透過率が大きく（８４％程度）、発光管の材料として好ましい。
本態様は、前述の第１の態様及び／又は後述の第３の態様の条件を満足していると、さらに高い効果が得られるので好ましく、前述の第１の態様の条件及び後述の第３の態様の条件を満足していると、特に効果が高いので好ましい。
・第３の態様
本発明の第３の態様は、重合性液晶組成物の配向を、該組成物の重合反応を光照射下で進行させて固定して、光学異方性層を形成する工程において、酸素濃度10,000ppm以下の雰囲気中で重合反応を進行させることを特徴とする位相差フィルムの製造方法である。本態様では、重合反応を進行させる雰囲気中の酸素濃度を低減し、それによって重合反応進行時の大気中に含まれる酸素による酸化、及びオゾンの発生、ひいては活性酸素種の発生が抑制される。本態様では、酸素濃度酸素濃度10,000ppm以下の雰囲気下で重合反応を進行させるのが好ましく、1,000ppm以下であるのが好ましい。なお、「ｐｐｍ」は、体積百万分率とする。また、酸素による酸化、及び活性酸素種の発生の抑制という観点では、酸素濃度は低いほど好ましく、理想的には０である。一方、酸素濃度が低すぎると、酸素濃度を当該濃度まで低下させるのに時間を要し、生産効率が悪化するという問題が生じる場合がある。当該観点では、重合反応を進行させる雰囲気の酸素濃度は、100ppm以上であるのが好ましく、例えば、重合反応進行時の雰囲気の酸素濃度は10,000〜1,000ppmであるのが好ましく、1,000ppm〜100ppmであるのがより好ましい。
本発明の第３の態様は、重合性液晶組成物の配向を、該組成物の重合反応を光照射下で進行させて固定して、光学異方性層を形成する工程において、酸素濃度10,000ppm以下の雰囲気中で重合反応を進行させることを特徴とする位相差フィルムの製造方法である。本態様では、重合反応を進行させる雰囲気中の酸素濃度を低減し、それによって重合反応進行時の大気中に含まれる酸素による酸化、及びオゾンの発生、ひいては活性酸素種の発生が抑制される。本態様では、酸素濃度酸素濃度10,000ppm以下の雰囲気下で重合反応を進行させるのが好ましく、1,000ppm以下であるのが好ましい。なお、「ｐｐｍ」は、体積百万分率とする。また、酸素による酸化、及び活性酸素種の発生の抑制という観点では、酸素濃度は低いほど好ましく、理想的には０である。一方、酸素濃度が低すぎると、酸素濃度を当該濃度まで低下させるのに時間を要し、生産効率が悪化するという問題が生じる場合がある。当該観点では、重合反応を進行させる雰囲気の酸素濃度は、100ppm以上であるのが好ましく、例えば、重合反応進行時の雰囲気の酸素濃度は10,000〜1,000ppmであるのが好ましく、1,000ppm〜100ppmであるのがより好ましい。
酸素濃度を低下させる方法としては、不活性ガスで置換する方法が挙げられる。使用可能な不活性ガスの例は、窒素ガス、ヘリウムガス、及びアルゴンガスが含まれる。
本態様は、前述の第１の態様及び／又は第２の態様の条件を満足していると、さらに高い効果が得られるので好ましく、前述の第１及び第２の態様の条件を満足していると、特に効果が高いので好ましい。
本発明の方法の好ましい態様は以下の通りである。
第１及び第２の態様の組合せであり、
支持体及び光学異方性層を少なくとも有する位相差フィルムの製造方法であって、
重合性液晶組成物の配向を、該組成物の重合反応を大気下で、光照射により進行させて固定して、光学異方性層を形成する工程を含み、
前記工程において、波長１８５ｎｍの光に対する透過率が１％以下であるフィルタを介して、オゾンレスランプを用いて光照射することを特徴とする位相差フィルムの製造方法である。
また、第２及び第３の態様の組合せであり、
支持体及び光学異方性層を少なくとも有する位相差フィルムの製造方法であって、
重合性液晶組成物の配向を、該組成物の重合反応を光照射下で進行させて固定して、光学異方性層を形成する工程を含み、
前記工程において、オゾンレスランプを用いて光照射し、及び酸素濃度10,000ppm以下の雰囲気中で重合反応を進行させることを特徴とする位相差フィルムの製造方法である。
また、第１、第２及び第３の組合せであり、
支持体及び光学異方性層を少なくとも有する位相差フィルムの製造方法であって、
重合性液晶組成物の配向を、該組成物の重合反応を光照射下で進行させて固定して、光学異方性層を形成する工程を含み、
前記工程において、波長１８５ｎｍの光に対する透過率が１％以下であるフィルタを介して、オゾンレスランプを用いて光照射し、及び酸素濃度10,000ppm以下の雰囲気中で重合反応を進行させることを特徴とする位相差フィルムの製造方法である。
第１及び第２の態様の組合せであり、
支持体及び光学異方性層を少なくとも有する位相差フィルムの製造方法であって、
重合性液晶組成物の配向を、該組成物の重合反応を大気下で、光照射により進行させて固定して、光学異方性層を形成する工程を含み、
前記工程において、波長１８５ｎｍの光に対する透過率が１％以下であるフィルタを介して、オゾンレスランプを用いて光照射することを特徴とする位相差フィルムの製造方法である。
また、第２及び第３の態様の組合せであり、
支持体及び光学異方性層を少なくとも有する位相差フィルムの製造方法であって、
重合性液晶組成物の配向を、該組成物の重合反応を光照射下で進行させて固定して、光学異方性層を形成する工程を含み、
前記工程において、オゾンレスランプを用いて光照射し、及び酸素濃度10,000ppm以下の雰囲気中で重合反応を進行させることを特徴とする位相差フィルムの製造方法である。
また、第１、第２及び第３の組合せであり、
支持体及び光学異方性層を少なくとも有する位相差フィルムの製造方法であって、
重合性液晶組成物の配向を、該組成物の重合反応を光照射下で進行させて固定して、光学異方性層を形成する工程を含み、
前記工程において、波長１８５ｎｍの光に対する透過率が１％以下であるフィルタを介して、オゾンレスランプを用いて光照射し、及び酸素濃度10,000ppm以下の雰囲気中で重合反応を進行させることを特徴とする位相差フィルムの製造方法である。
本発明では、前記重合性液晶組成物を、配向状態とし、上述の第１〜第３の態様の少なくとも１つの条件下で重合反応を進行させ、当該配向状態を固定して、光学異方性層を形成する。
以下に、本発明の製造方法の一例について説明するが、この方法に限定されるものではない。
まず、前記重合性液晶組成物を透明支持体の表面上（配向膜を有する場合は配向膜表面）に塗布する。所望により加熱等して、所望の配向状態で配向させる。次に、上述の第１〜第３の態様の少なくとも１つの条件下で重合反応を進行させ、当該配向状態を固定して、光学異方性層を形成する。
以下に、本発明の製造方法の一例について説明するが、この方法に限定されるものではない。
まず、前記重合性液晶組成物を透明支持体の表面上（配向膜を有する場合は配向膜表面）に塗布する。所望により加熱等して、所望の配向状態で配向させる。次に、上述の第１〜第３の態様の少なくとも１つの条件下で重合反応を進行させ、当該配向状態を固定して、光学異方性層を形成する。
塗布は、公知の方法（例えば、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法）により行うことができる。
均一に配向した状態を実現するためには、配向膜を利用するのが好ましい。但し、液晶の光軸方向が薄膜面の法線方向と一致する場合（ホメオトロピック配向）においては必ずしも配向膜は必要ではない。
配向膜は、有機化合物（好ましくはポリマー）のラビング処理、無機化合物の斜方蒸着、マイクログルーブを有する層の形成、あるいはラングミュア・ブロジェット法（ＬＢ膜）による有機化合物（例、ω−トリコサン酸、ステアリル酸メチル）の累積のような手段で、設けることができる。さらに、電場の付与、磁場の付与あるいは光照射により、配向機能が生じる配向膜も知られている。
配向膜は、有機化合物（好ましくはポリマー）のラビング処理、無機化合物の斜方蒸着、マイクログルーブを有する層の形成、あるいはラングミュア・ブロジェット法（ＬＢ膜）による有機化合物（例、ω−トリコサン酸、ステアリル酸メチル）の累積のような手段で、設けることができる。さらに、電場の付与、磁場の付与あるいは光照射により、配向機能が生じる配向膜も知られている。
前記組成物に所望の配向を付与できるのであれば、配向膜としてはどのような層でもよいが、本発明においては、ラビング処理もしくは、光照射により形成される配向膜が好ましい。ポリマーのラビング処理により形成する配向膜が特に好ましい。ラビング処理は、一般にはポリマー層の表面を、紙や布で一定方向に数回擦ることにより実施することができるが、特に本発明では液晶便覧（丸善（株））に記載されている方法により行うことが好ましい。配向膜の厚さは、０．０１〜１０μｍであることが好ましく、０．０５〜３μｍであることがさらに好ましい。
次に、配向状態を固定するために、上述の第１〜第３の態様の少なくとも１つの条件下で重合反応を進行させる。光照射には、紫外線を用いることが好ましい。照射エネルギーは、１０ｍＪ／ｃｍ2〜５０Ｊ／ｃｍ2であることが好ましく、５０ｍＪ／ｃｍ2〜８００ｍＪ／ｃｍ2であることがさらに好ましい。光重合反応を促進するため、加熱条件下で光照射を実施してもよい。
本発明で配向状態が固定化された状態とは、その配向が保持された状態が最も典型的、且つ好ましい態様ではあるが、それだけには限定されず、具体的には、通常０℃〜５０℃、より過酷な条件下では−３０℃〜７０℃の温度範囲において、該固定化された組成物に流動性が無く、また外場や外力によって配向形態に変化を生じさせることなく、固定化された配向形態を安定に保ち続けることができる状態を指すものである。なお、配向状態が最終的に固定化され光学異方性層が形成された際に、前記組成物はもはや液晶性を示す必要はない。例えば、結果的に熱、光等による反応により重合又は架橋反応が進行し、高分子量化して、液晶化合物が液晶性を失ってもよい。
以下、本発明の製造方法に使用可能な種々の材料について詳細に説明する。
・重合性液晶組成物
本発明の方法に用いる重合性液晶組成物は、ネマチック相およびスメクチック相を形成し得る液晶組成物であるのが好ましい。前期組成物は少なくとも１種の液晶化合物を含有する。液晶化合物は、一般的に、その分子の形状に基づいて、棒状液晶化合物および円盤状液晶化合物に分類されるが、本発明ではいずれの形状の液晶化合物を用いてもよい。
・重合性液晶組成物
本発明の方法に用いる重合性液晶組成物は、ネマチック相およびスメクチック相を形成し得る液晶組成物であるのが好ましい。前期組成物は少なくとも１種の液晶化合物を含有する。液晶化合物は、一般的に、その分子の形状に基づいて、棒状液晶化合物および円盤状液晶化合物に分類されるが、本発明ではいずれの形状の液晶化合物を用いてもよい。
円盤状液晶化合物：
前記光学異方性層の作製に使用可能な円盤状液晶化合物としては、特開２００６−７６９９２号公報明細書中の段落番号［００１２］以降に詳しく記載されている一般式（Ｄ１）で表される化合物が好ましい。具体的な化合物としては、特開２００６−７６９９２号公報明細書中の段落番号［００５２］、特開２００７−２２２０号公報明細書中の段落番号［００４０］〜［００６３］に記載の化合物が適している。これらは、高い複屈折性を示すので好ましい。一般式（ＤＩ）表される化合物の中でも、ディスコティック液晶性を示す化合物が好ましく、特に、ディスコティックネマチック相を示す化合物が好ましい。
前記光学異方性層の作製に使用可能な円盤状液晶化合物としては、特開２００６−７６９９２号公報明細書中の段落番号［００１２］以降に詳しく記載されている一般式（Ｄ１）で表される化合物が好ましい。具体的な化合物としては、特開２００６−７６９９２号公報明細書中の段落番号［００５２］、特開２００７−２２２０号公報明細書中の段落番号［００４０］〜［００６３］に記載の化合物が適している。これらは、高い複屈折性を示すので好ましい。一般式（ＤＩ）表される化合物の中でも、ディスコティック液晶性を示す化合物が好ましく、特に、ディスコティックネマチック相を示す化合物が好ましい。
また、前記円盤状液晶化合物の好ましい例には、特開２００５−３０１２０６号公報に記載の化合物も含まれる。
棒状液晶化合物：
本発明には、棒状液晶化合物を用いることもできる。棒状ネマチック液晶化合物を用いるのが好ましい。棒状ネマチック液晶化合物の例には、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類及びアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が好ましく用いられる。低分子液晶化合物だけではなく、高分子液晶化合物も用いることができる。
本発明には、棒状液晶化合物を用いることもできる。棒状ネマチック液晶化合物を用いるのが好ましい。棒状ネマチック液晶化合物の例には、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類及びアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が好ましく用いられる。低分子液晶化合物だけではなく、高分子液晶化合物も用いることができる。
本発明は、特に、アルカリ性鹸化液によって加水分解を受けやすい部位を有する液晶化合物を用いる態様において有効である。加水分解を受けやすい部位としては、エステル基−Ｃ（Ｏ）Ｏ−が挙げられる。分子内に複数のエステル基を有する液晶化合物は特に加水分解を受けやすく、当該化合物を用いる態様において、本発明の効果が特に顕著になる。
また、分子内の重合性基の数が少ないほど加水分解を受けた際の溶出確率が高まり、当該化合物を用いる態様において、本発明の効果が特に顕著になる。
重合性液晶組成物は１種類を用いても、複数種類を組み合わせて用いてもよい。
また、分子内の重合性基の数が少ないほど加水分解を受けた際の溶出確率が高まり、当該化合物を用いる態様において、本発明の効果が特に顕著になる。
重合性液晶組成物は１種類を用いても、複数種類を組み合わせて用いてもよい。
重合開始剤：
前記重合性液晶組成物は、重合開始剤の少なくとも一種を含有するのが好ましい。本発明では、光照射により重合を開始する、光重合開始剤を用いるのが好ましい。光重合開始剤の例には、α−カルボニル化合物（米国特許２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書記載）、アシロインエーテル（米国特許２４４８８２８号明細書記載）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許２７２２５１２号明細書記載）、多核キノン化合物（米国特許３０４６１２７号、同２９５１７５８号の各明細書記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許３５４９３６７号明細書記載）、アクリジン及びフェナジン化合物（特開昭６０−１０５６６７号公報、米国特許４２３９８５０号明細書記載）及びオキサジアゾール化合物（米国特許４２１２９７０号明細書記載）等が挙げられる。
市販品を用いてもよく、イルガキュア９０７（チバ・ジャパン（株）製）、イルガキュア２９５９（チバ・ジャパン（株）製）、カヤキュアーＤＥＴＸ（日本化薬（株）製）等を用いることもできる。
前記重合性液晶組成物は、重合開始剤の少なくとも一種を含有するのが好ましい。本発明では、光照射により重合を開始する、光重合開始剤を用いるのが好ましい。光重合開始剤の例には、α−カルボニル化合物（米国特許２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書記載）、アシロインエーテル（米国特許２４４８８２８号明細書記載）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許２７２２５１２号明細書記載）、多核キノン化合物（米国特許３０４６１２７号、同２９５１７５８号の各明細書記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許３５４９３６７号明細書記載）、アクリジン及びフェナジン化合物（特開昭６０−１０５６６７号公報、米国特許４２３９８５０号明細書記載）及びオキサジアゾール化合物（米国特許４２１２９７０号明細書記載）等が挙げられる。
市販品を用いてもよく、イルガキュア９０７（チバ・ジャパン（株）製）、イルガキュア２９５９（チバ・ジャパン（株）製）、カヤキュアーＤＥＴＸ（日本化薬（株）製）等を用いることもできる。
光重合開始剤の使用量は、前記組成物の０．０１〜２０質量％であることが好ましく、０．１〜５質量％であることがさらに好ましい。
また、上記した通り、配向膜中に重合開始剤を添加しておくと、光学異方性層と配向膜との接着性が改善するので好ましい。配向膜に添加可能な重合開始剤の例は、前記重合性液晶組成物に利用可能な重合開始剤の例と同様である。
添加量は、配向膜固形分の０．１〜１０質量％であることが好ましく、１％〜５％であることがさらに好ましい。
添加量は、配向膜固形分の０．１〜１０質量％であることが好ましく、１％〜５％であることがさらに好ましい。
前記組成物は、液晶化合物とともに、添加剤の１種以上を含有していてもよい。使用可能な添加剤の例として、空気界面配向制御剤、ハジキ防止剤、重合性モノマー等について説明する。
空気界面配向制御剤：
前記組成物は、空気界面においては空気界面のチルト角で配向する。このチルト角は、液晶性組成物に含まれる液晶性化合物の種類や添加剤の種類等で、その程度が異なるため、目的に応じて空気界面のチルト角を任意に制御する必要がある。
前記組成物は、空気界面においては空気界面のチルト角で配向する。このチルト角は、液晶性組成物に含まれる液晶性化合物の種類や添加剤の種類等で、その程度が異なるため、目的に応じて空気界面のチルト角を任意に制御する必要がある。
前記チルト角の制御には、例えば、電場や磁場のような外場を用いることや添加剤を用いることができるが、添加剤を用いることが好ましい。このような添加剤としては、炭素原子数が６〜４０の置換もしくは無置換脂肪族基、又は炭素原子数が６〜４０の置換もしくは無置換脂肪族置換オリゴシロキサノキシ基を、分子内に１本以上有する化合物が好ましく、分子内に２本以上有する化合物が更に好ましい。例えば、空気界面配向制御剤としては、特開２００２−２０３６３号公報に記載の疎水性排除体積効果化合物を用いることができる。
空気界面側の配向制御用添加剤の添加量としては、前記組成物（塗布液の場合は固形分、以下同様である）に対して、０．００１質量％〜２０質量％が好ましく、０．０１質量％〜１０質量％が更に好ましく、０．１質量％〜５質量％がより更に好ましい。
空気界面配向制御剤は１種類を用いても、複数種類を組み合わせて用いてもよい。
空気界面配向制御剤は１種類を用いても、複数種類を組み合わせて用いてもよい。
ハジキ防止剤：
前記組成物に添加し、該組成物の塗布時のハジキを防止するための材料としては、一般に高分子化合物を好適に用いることができる。
使用するポリマーとしては、前記組成物の傾斜角変化や配向を著しく阻害しない限り、特に制限はない。
ポリマーの例としては、特開平８−９５０３０号公報に記載があり、特に好ましい具体的ポリマー例としてはセルロースエステル類を挙げることができる。セルロースエステルの例としては、セルロースアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、ヒドロキシプロピルセルロース及びセルロースアセテートブチレートを挙げることができる。
前記組成物の配向を阻害しないように、ハジキ防止目的で使用されるポリマーの添加量は、前記組成物に対して一般に０．１〜１０質量％の範囲にあり、０．１〜８質量％の範囲にあることがより好ましく、０．１〜５質量％の範囲にあることがさらに好ましい。
前記組成物に添加し、該組成物の塗布時のハジキを防止するための材料としては、一般に高分子化合物を好適に用いることができる。
使用するポリマーとしては、前記組成物の傾斜角変化や配向を著しく阻害しない限り、特に制限はない。
ポリマーの例としては、特開平８−９５０３０号公報に記載があり、特に好ましい具体的ポリマー例としてはセルロースエステル類を挙げることができる。セルロースエステルの例としては、セルロースアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、ヒドロキシプロピルセルロース及びセルロースアセテートブチレートを挙げることができる。
前記組成物の配向を阻害しないように、ハジキ防止目的で使用されるポリマーの添加量は、前記組成物に対して一般に０．１〜１０質量％の範囲にあり、０．１〜８質量％の範囲にあることがより好ましく、０．１〜５質量％の範囲にあることがさらに好ましい。
重合性モノマー：
前記組成物には、重合性のモノマーを添加してもよい。本発明で使用できる重合性モノマーとしては、前記式（１）及び（１ａ）の化合物と相溶性を有し、液晶性組成物の配向阻害を著しく引き起こさない限り、特に限定はない。これらの中では重合活性なエチレン性不飽和基、例えばビニル基、ビニルオキシ基、アクリロイル基及びメタクリロイル基などを有する化合物が好ましく用いられる。上記重合性モノマーの添加量は、前記式（１）及び（１ａ）の化合物に対して一般に０．５〜５０質量％の範囲にあり、１〜３０質量％の範囲にあることが好ましい。また反応性官能基数が２以上のモノマーを用いると、配向膜との密着性を高める効果が期待できるため、特に好ましい。
なお、前記重合性液晶組成物は、重合性成分を少なくとも１種含有するが、前記液晶化合物が重合性である態様では、重合性モノマーを添加してなくても、重合性液晶組成物を調製できる。
前記組成物には、重合性のモノマーを添加してもよい。本発明で使用できる重合性モノマーとしては、前記式（１）及び（１ａ）の化合物と相溶性を有し、液晶性組成物の配向阻害を著しく引き起こさない限り、特に限定はない。これらの中では重合活性なエチレン性不飽和基、例えばビニル基、ビニルオキシ基、アクリロイル基及びメタクリロイル基などを有する化合物が好ましく用いられる。上記重合性モノマーの添加量は、前記式（１）及び（１ａ）の化合物に対して一般に０．５〜５０質量％の範囲にあり、１〜３０質量％の範囲にあることが好ましい。また反応性官能基数が２以上のモノマーを用いると、配向膜との密着性を高める効果が期待できるため、特に好ましい。
なお、前記重合性液晶組成物は、重合性成分を少なくとも１種含有するが、前記液晶化合物が重合性である態様では、重合性モノマーを添加してなくても、重合性液晶組成物を調製できる。
酸素トラップ剤：
前記組成物には、大気中の酸素による酸化で光学異方性層が親水化するのを防止するために酸素トラップ剤を添加してもよい。本発明で使用できる酸素トラップ剤としてはα−アルキルアミンの添加が好ましく、アニリン系のＮ−フェニルグリシン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリンがより好ましい。上記酸素トラップ剤の添加量は、０．１〜１０質量％の範囲にあることが好ましく、０．５〜５質量％の範囲にあることが更に好ましい。
なお、酸素トラップ剤は分子量が小さく拡散しやすいため、配向膜に添加して光学異方性層の親水化を防止することも可能である。
前記組成物には、大気中の酸素による酸化で光学異方性層が親水化するのを防止するために酸素トラップ剤を添加してもよい。本発明で使用できる酸素トラップ剤としてはα−アルキルアミンの添加が好ましく、アニリン系のＮ−フェニルグリシン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリンがより好ましい。上記酸素トラップ剤の添加量は、０．１〜１０質量％の範囲にあることが好ましく、０．５〜５質量％の範囲にあることが更に好ましい。
なお、酸素トラップ剤は分子量が小さく拡散しやすいため、配向膜に添加して光学異方性層の親水化を防止することも可能である。
前記組成物は、塗布液として調製するのが好ましい。塗布液の調製に使用する溶剤としては、汎用の有機溶剤が好ましく用いられる。汎用の有機溶剤の例には、アミド系溶剤（例、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）、スルホキシド系溶剤（例、ジメチルスルホキシド）、ヘテロ環系溶剤（例、ピリジン）、炭化水素系溶剤（例、トルエン、ヘキサン）、アルキルハライド系溶剤（例、クロロホルム、ジクロロメタン）、エステル系溶剤（例、酢酸メチル、酢酸ブチル）、ケトン系溶剤（例、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン）、エーテル系溶剤（例、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン）が含まれる。エステル系溶剤及びケトン系溶剤が好ましく、特にケトン系溶剤が好ましい。二種類以上の有機溶媒を併用してもよい。
・支持体
前記光学異方性層は、透明支持体上に形成してもよい。透明支持体とは、光透過率が８０％以上の透明な基材をいう。ポリマーフィルムやガラスが好ましい。ポリマーの具体例として、セルロースアシレート類（例えば、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート）、ノルボルネン系ポリマー、ポリ（メタ）アクリレートエステル類のフィルムなどを挙げることができ、多くの市販のポリマーを好適に用いることが可能である。このうち、光学性能の観点からセルロースアシレート類が好ましく、セルロースの低級脂肪酸エステルがさらに好ましい。低級脂肪酸とは、炭素原子数が６以下脂肪酸で、炭素原子数は、２（セルロースアセテート）、３（セルロースプロピオネート）または４（セルロースブチレート）であることが好ましい。セルローストリアセテートが特に好ましい。セルロースアセテートプロピオネートやセルロースアセテートブチレートのような混合脂肪酸エステルを用いてもよい。なお、セルロースアシレートフィルムは、ソルベントキャスト法で作製することが好ましい。また、従来知られているポリカーボネートやポリスルホンのような複屈折の発現しやすいポリマーであっても国際公開ＷＯ００／２６７０５号パンフレットに記載の分子の修飾により該発現性を低下させたものも使用できる。
支持体となるポリマーフィルムは、光学的に等方性であっても異方性であってもよい。用途に応じて、種々の特性のポリマーフィルムから選択することができる。また、支持体と光学異方性膜との間には、光学異方性膜の作製に利用される配向膜が配置されていてもよい。
前記光学異方性層は、透明支持体上に形成してもよい。透明支持体とは、光透過率が８０％以上の透明な基材をいう。ポリマーフィルムやガラスが好ましい。ポリマーの具体例として、セルロースアシレート類（例えば、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート）、ノルボルネン系ポリマー、ポリ（メタ）アクリレートエステル類のフィルムなどを挙げることができ、多くの市販のポリマーを好適に用いることが可能である。このうち、光学性能の観点からセルロースアシレート類が好ましく、セルロースの低級脂肪酸エステルがさらに好ましい。低級脂肪酸とは、炭素原子数が６以下脂肪酸で、炭素原子数は、２（セルロースアセテート）、３（セルロースプロピオネート）または４（セルロースブチレート）であることが好ましい。セルローストリアセテートが特に好ましい。セルロースアセテートプロピオネートやセルロースアセテートブチレートのような混合脂肪酸エステルを用いてもよい。なお、セルロースアシレートフィルムは、ソルベントキャスト法で作製することが好ましい。また、従来知られているポリカーボネートやポリスルホンのような複屈折の発現しやすいポリマーであっても国際公開ＷＯ００／２６７０５号パンフレットに記載の分子の修飾により該発現性を低下させたものも使用できる。
支持体となるポリマーフィルムは、光学的に等方性であっても異方性であってもよい。用途に応じて、種々の特性のポリマーフィルムから選択することができる。また、支持体と光学異方性膜との間には、光学異方性膜の作製に利用される配向膜が配置されていてもよい。
・鹸化処理
本発明の製造方法により製造した位相差フィルムは、偏光膜等の他の機能膜との接着性を改善するために、鹸化処理を施す。アルカリ鹸化処理は、フィルムをアルカリ溶液に浸漬した後、酸性溶液で中和し、水洗して乾燥するサイクルで行われることが好ましい。
アルカリ溶液の例としては、水酸化カリウム溶液、水酸化ナトリウム溶液が挙げられる。アルカリ溶液の水酸化イオンの規定濃度は、０．１〜３．０Ｎの範囲にあることが好ましく、０．５〜２．０Ｎの範囲にあることがさらに好ましい。アルカリ溶液の温度は、室温〜９０℃の範囲にあることが好ましく、４０〜７０℃の範囲にあることがさらに好ましい。
本発明の製造方法により製造した位相差フィルムは、偏光膜等の他の機能膜との接着性を改善するために、鹸化処理を施す。アルカリ鹸化処理は、フィルムをアルカリ溶液に浸漬した後、酸性溶液で中和し、水洗して乾燥するサイクルで行われることが好ましい。
アルカリ溶液の例としては、水酸化カリウム溶液、水酸化ナトリウム溶液が挙げられる。アルカリ溶液の水酸化イオンの規定濃度は、０．１〜３．０Ｎの範囲にあることが好ましく、０．５〜２．０Ｎの範囲にあることがさらに好ましい。アルカリ溶液の温度は、室温〜９０℃の範囲にあることが好ましく、４０〜７０℃の範囲にあることがさらに好ましい。
・偏光膜との貼合
本発明の方法により製造された位相差フィルムは、直線偏光膜（本明細書において「偏光膜」というときは「直線偏光膜」を意味するものとする）と貼合して、楕円偏光板（本明細書において「楕円偏光板」の用語は、通常通り「円偏光板」も含む意味で用いるものとする）の部材として用いることもできる。本発明の方法により製造された位相差フィルムを利用することにより、鹸化処理による光学特性の変動がなく、液晶表示装置の視野角を拡大し得る楕円偏光板を安定的に提供することができる。
前記偏光膜には、ヨウ素系偏光膜、二色性染料を用いる染料系偏光膜やポリエン系偏光膜がある。ヨウ素系偏光膜および染料系偏光膜は、一般にポリビニルアルコール系フィルムを用いて製造する。
本発明の方法により製造された位相差フィルムは、直線偏光膜（本明細書において「偏光膜」というときは「直線偏光膜」を意味するものとする）と貼合して、楕円偏光板（本明細書において「楕円偏光板」の用語は、通常通り「円偏光板」も含む意味で用いるものとする）の部材として用いることもできる。本発明の方法により製造された位相差フィルムを利用することにより、鹸化処理による光学特性の変動がなく、液晶表示装置の視野角を拡大し得る楕円偏光板を安定的に提供することができる。
前記偏光膜には、ヨウ素系偏光膜、二色性染料を用いる染料系偏光膜やポリエン系偏光膜がある。ヨウ素系偏光膜および染料系偏光膜は、一般にポリビニルアルコール系フィルムを用いて製造する。
偏光膜は位相差フィルムの支持体の裏面（光学異方性層が形成されていない側の表面）に貼合するのが好ましい。偏光膜の位相差フィルムを積層した側と反対側の面に透明保護膜を形成することが好ましい。透明保護膜は、光透過率が８０％以上であるのが好ましい。透明保護膜として利用可能なポリマーフィルムとしては、上記支持体に利用可能なポリマーフィルムとして例示したものと同様である。
・用途
本発明の方法により製造された位相差フィルムは、液晶表示装置の視野角特性の改善に寄与する光学補償フィルムとして用いることができる。本発明の位相差フィルムは、そのまま独立した部材として液晶表示装置等に用いることができる。また、上記したとおり、直線偏光膜と一体化し、楕円偏光板として用いることもできる。前記位相差フィルム及び前記楕円偏光板は、ＴＮ（Twisted Nematic）、ＩＰＳ（In-Plane Switching）、ＦＬＣ（Ferroelectric Liquid Crystal）、ＯＣＢ（Optically Compensatory Bend）、ＳＴＮ（Super Twisted Nematic）、ＶＡ（Vertically Aligned）およびＨＡＮ（Hybrid Aligned Nematic）モードのような様々な表示モードの液晶表示装置に用いることができる。
本発明の方法により製造された位相差フィルムは、液晶表示装置の視野角特性の改善に寄与する光学補償フィルムとして用いることができる。本発明の位相差フィルムは、そのまま独立した部材として液晶表示装置等に用いることができる。また、上記したとおり、直線偏光膜と一体化し、楕円偏光板として用いることもできる。前記位相差フィルム及び前記楕円偏光板は、ＴＮ（Twisted Nematic）、ＩＰＳ（In-Plane Switching）、ＦＬＣ（Ferroelectric Liquid Crystal）、ＯＣＢ（Optically Compensatory Bend）、ＳＴＮ（Super Twisted Nematic）、ＶＡ（Vertically Aligned）およびＨＡＮ（Hybrid Aligned Nematic）モードのような様々な表示モードの液晶表示装置に用いることができる。
以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例に限定されるものではない。
（実施例１）
（１）位相差フィルムの作製
［セルロースアシレートフィルムの作製］
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、３０℃に加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアシレート溶液Ａを調製した。
────────────────────────────────────――――
セルロースアシレート溶液Ａの組成（質量部） 内層 外層
────────────────────────────────────――――
・酢化度６０．９％のセルロースアシレート １００ １００
・トリフェニルホスフェート（可塑剤） ７．８ ７．８
・ビフェニルジフェニルホスフェート（可塑剤） ３．９ ３．９
・メチレンクロライド（第１溶媒） ２９３ ３１４
・メタノール（第２溶媒） ７１ ７６
・１−ブタノール（第３溶媒） １．５ １．６
・シリカ微粒子 ０ ０．８
（ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ９７２、日本アエロジル（株）製）
・下記に示すレターデーション上昇剤１ １．７ ０
────────────────────────────────────――――
（実施例１）
（１）位相差フィルムの作製
［セルロースアシレートフィルムの作製］
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、３０℃に加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアシレート溶液Ａを調製した。
────────────────────────────────────――――
セルロースアシレート溶液Ａの組成（質量部） 内層 外層
────────────────────────────────────――――
・酢化度６０．９％のセルロースアシレート １００ １００
・トリフェニルホスフェート（可塑剤） ７．８ ７．８
・ビフェニルジフェニルホスフェート（可塑剤） ３．９ ３．９
・メチレンクロライド（第１溶媒） ２９３ ３１４
・メタノール（第２溶媒） ７１ ７６
・１−ブタノール（第３溶媒） １．５ １．６
・シリカ微粒子 ０ ０．８
（ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ９７２、日本アエロジル（株）製）
・下記に示すレターデーション上昇剤１ １．７ ０
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得られた内層用ドープ及び外層用ドープを、三層共流延ダイを用いて、０℃に冷却したドラム上に流延した。残留溶剤量が７０質量％のフィルムをドラムから剥ぎ取り、両端をピンテンターにて固定して搬送方向のドロー比を１１０％として搬送しながら８０℃で乾燥させ、残留溶剤量が１０％となったところで、１１０℃で乾燥させた。その後、１４０℃の温度で３０分間乾燥し、残留溶剤が０．３質量％のセルロースアシレートフィルム（（Ｃ１）外層：３μｍ、内層：７４μｍ、外層：３μｍ、厚さ：８０μｍ）を作製した。
上記で得られたセルロースアシレートフィルム（Ｃ１）のＲｅ（５５０）は７ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は９０ｎｍであった。
［セルロースアシレートフィルムの鹸化処理］
上記で得られたセルロースアシレートフィルム（Ｃ１）を、温度６０℃の誘電式加熱ロールを通過させ、フィルム表面温度を４０℃に昇温した後に、フィルムの片面に下記に示す組成のアルカリ溶液を、バーコーターを用いて塗布量１４ｍＬ／ｍ2で塗布し、１１０℃に加熱したスチーム式遠赤外ヒーター（（株）ノリタケカンパニーリミテド製）の下に１０秒間滞留させた。続いて、同じくバーコーターを用いて、純水を３ｍＬ／ｍ2塗布した。次いで、ファウンテンコーターによる水洗とエアナイフによる水切りを３回繰り返した後に、７０℃の乾燥ゾーンに５秒間滞留させて乾燥し、鹸化処理したセルロースアシレートフィルムを作製した。
上記で得られたセルロースアシレートフィルム（Ｃ１）を、温度６０℃の誘電式加熱ロールを通過させ、フィルム表面温度を４０℃に昇温した後に、フィルムの片面に下記に示す組成のアルカリ溶液を、バーコーターを用いて塗布量１４ｍＬ／ｍ2で塗布し、１１０℃に加熱したスチーム式遠赤外ヒーター（（株）ノリタケカンパニーリミテド製）の下に１０秒間滞留させた。続いて、同じくバーコーターを用いて、純水を３ｍＬ／ｍ2塗布した。次いで、ファウンテンコーターによる水洗とエアナイフによる水切りを３回繰り返した後に、７０℃の乾燥ゾーンに５秒間滞留させて乾燥し、鹸化処理したセルロースアシレートフィルムを作製した。
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アルカリ溶液の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
・水酸化カリウム ４．７質量部
・水 １５．７質量部
・イソプロパノール ６４．８質量部
・界面活性剤（Ｃ16Ｈ33Ｏ（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）10Ｈ） １．０質量部
・プロピレングリコール １４．９質量部
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アルカリ溶液の組成
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・水酸化カリウム ４．７質量部
・水 １５．７質量部
・イソプロパノール ６４．８質量部
・界面活性剤（Ｃ16Ｈ33Ｏ（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）10Ｈ） １．０質量部
・プロピレングリコール １４．９質量部
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［配向膜の形成］
上記で得られた鹸化処理したセルロースアシレートフィルムの鹸化処理面に、下記に示す組成の配向膜形成用塗布液（Ｏ２）を、ワイヤーバーコーターで２４ｍＬ／ｍ2塗布し、１００℃の温風で１２０秒乾燥した。
次に、フィルムの長手方向（搬送方向）を０°とし、０°方向に、鹸化処理したセルロースアシレートフィルムの配向膜表面にラビング処理を実施した。
上記で得られた鹸化処理したセルロースアシレートフィルムの鹸化処理面に、下記に示す組成の配向膜形成用塗布液（Ｏ２）を、ワイヤーバーコーターで２４ｍＬ／ｍ2塗布し、１００℃の温風で１２０秒乾燥した。
次に、フィルムの長手方向（搬送方向）を０°とし、０°方向に、鹸化処理したセルロースアシレートフィルムの配向膜表面にラビング処理を実施した。
――――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
配向膜形成用塗布液（Ｏ２）の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記に示す変性ポリビニルアルコール ２８質量部
・クエン酸エステル（ＡＳ３、三共化学（株）製） １．２質量部
・光開始剤（イルガキュア２９５９、チバ・ジャパン（株）製） ０．４２質量部
・グルタルアルデヒド ２．８質量部
・Ｎフェニルグリシン ０．５６質量部
・水 ６９９質量部
・メタノール ２２６質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
配向膜形成用塗布液（Ｏ２）の組成
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・下記に示す変性ポリビニルアルコール ２８質量部
・クエン酸エステル（ＡＳ３、三共化学（株）製） １．２質量部
・光開始剤（イルガキュア２９５９、チバ・ジャパン（株）製） ０．４２質量部
・グルタルアルデヒド ２．８質量部
・Ｎフェニルグリシン ０．５６質量部
・水 ６９９質量部
・メタノール ２２６質量部
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［光学異方性層の形成］
下記組成の光学異方性層形成用塗布液（ＬＣ１）を調製した。
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光学異方性層形成用塗布液（ＬＣ１）の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記に示すディスコティック液晶化合物１ ９５．０質量部
・下記に示すディスコティック液晶化合物２ ５．０質量部
・下記に示すフルオロ脂肪族基含有ポリマー１ ０．６４質量部
・下記に示すフルオロ脂肪族基含有ポリマー２ ０．１６質量部
・光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバ・ジャパン（株）製） ３．０質量部
・増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製） １．０質量部
・メチルエチルケトン ３８２．６質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
下記組成の光学異方性層形成用塗布液（ＬＣ１）を調製した。
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光学異方性層形成用塗布液（ＬＣ１）の組成
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・下記に示すディスコティック液晶化合物１ ９５．０質量部
・下記に示すディスコティック液晶化合物２ ５．０質量部
・下記に示すフルオロ脂肪族基含有ポリマー１ ０．６４質量部
・下記に示すフルオロ脂肪族基含有ポリマー２ ０．１６質量部
・光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバ・ジャパン（株）製） ３．０質量部
・増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製） １．０質量部
・メチルエチルケトン ３８２．６質量部
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上記で得られたラビング処理を施したセルロースアシレートフィルムの配向膜上に、上記光学異方性層形成用塗布液（ＬＣ１）を、ワイヤーバーコーターで塗布した。その後、１２０℃の恒温槽中で１２０秒間加熱し、液晶性化合物を配向させた。
次に、上記で得られたフィルムの液晶化合物の塗布層を、フィルタ（ＷＧ２８０、ＳＣＨＯＴＴ製）を介して、フィルムの温度を９５℃に保った状態で、紫外線を照射し、液晶化合物の重合反応を進行させ、配向状態を固定し、光学異方性層を形成した。用いたフィルタは、波長１８５ｎｍでの透過率が０％、波長２５４ｎｍでの透過率が０％、及び波長３００ｎｍでの透過率が８０％のフィルタである。また、紫外線照射には、通常の石英ガラス（波長１８５ｎｍでの透過率が７％であり、且つ波長３００ｎｍでの透過率が９０％である石英ガラス）製の発光管を有するメタルハライドランプを使用した。紫外線照射時の酸素濃度は２０％（２０万ｐｐｍ）であった。
上記のフィルタを透過した紫外線の３６５ｎｍにおける照度は２２０ｍＷ／ｃｍ2であり、照射量は３５０ｍＪ／ｃｍ2であった。
上記で得られた光学異方性層の厚さは８２０ｎｍであり、Ｒｅ（６３３）は４４ｎｍであった。
次に、上記で得られたフィルムの液晶化合物の塗布層を、フィルタ（ＷＧ２８０、ＳＣＨＯＴＴ製）を介して、フィルムの温度を９５℃に保った状態で、紫外線を照射し、液晶化合物の重合反応を進行させ、配向状態を固定し、光学異方性層を形成した。用いたフィルタは、波長１８５ｎｍでの透過率が０％、波長２５４ｎｍでの透過率が０％、及び波長３００ｎｍでの透過率が８０％のフィルタである。また、紫外線照射には、通常の石英ガラス（波長１８５ｎｍでの透過率が７％であり、且つ波長３００ｎｍでの透過率が９０％である石英ガラス）製の発光管を有するメタルハライドランプを使用した。紫外線照射時の酸素濃度は２０％（２０万ｐｐｍ）であった。
上記のフィルタを透過した紫外線の３６５ｎｍにおける照度は２２０ｍＷ／ｃｍ2であり、照射量は３５０ｍＪ／ｃｍ2であった。
上記で得られた光学異方性層の厚さは８２０ｎｍであり、Ｒｅ（６３３）は４４ｎｍであった。
（２）偏光板の作製
厚さ８０μｍのポリビニルアルコール（ＰＶＡ）フィルムを、ヨウ素濃度０．０５質量％のヨウ素水溶液中に３０℃で６０秒浸漬して染色し、次いでホウ酸濃度４質量％濃度のホウ酸水溶液中に６０秒浸漬している間に元の長さの５倍に縦延伸した後、５０℃で４分間乾燥させて、厚さ２０μｍの偏光膜を得た。
作製した位相差フィルムを１．５モル／Ｌで５５℃の水酸化ナトリウム水溶液中に浸漬した後、水で十分に水酸化ナトリウムを洗い流した。その後、０．００５モル／Ｌで３５℃の希硫酸水溶液に１分間浸漬した後、水に浸漬して希硫酸水溶液を十分に洗い流し、最後に１２０℃で十分に乾燥させた。鹸化処理した位相差フィルムの光学異方性層の厚さは８０５ｎｍであり、Ｒｅ（６３３）は４３ｎｍであった。
上記のように鹸化処理を行った位相差フィルムの光学異方性層が形成されていない側の面をポリビニルアルコール系接着剤を用い上記偏光膜の一方の面に貼り合わせ、同じく鹸化処理を行った市販のセルロースアセテートフィルムをポリビニルアルコール系接着剤を用い上記偏光膜の他方の面に貼り合わせ偏光板を得た。ここで市販のセルロースアセテートフィルムとしてはフジタックＴＦ８０ＵＬ（富士フイルム（株）製）を用いた。
厚さ８０μｍのポリビニルアルコール（ＰＶＡ）フィルムを、ヨウ素濃度０．０５質量％のヨウ素水溶液中に３０℃で６０秒浸漬して染色し、次いでホウ酸濃度４質量％濃度のホウ酸水溶液中に６０秒浸漬している間に元の長さの５倍に縦延伸した後、５０℃で４分間乾燥させて、厚さ２０μｍの偏光膜を得た。
作製した位相差フィルムを１．５モル／Ｌで５５℃の水酸化ナトリウム水溶液中に浸漬した後、水で十分に水酸化ナトリウムを洗い流した。その後、０．００５モル／Ｌで３５℃の希硫酸水溶液に１分間浸漬した後、水に浸漬して希硫酸水溶液を十分に洗い流し、最後に１２０℃で十分に乾燥させた。鹸化処理した位相差フィルムの光学異方性層の厚さは８０５ｎｍであり、Ｒｅ（６３３）は４３ｎｍであった。
上記のように鹸化処理を行った位相差フィルムの光学異方性層が形成されていない側の面をポリビニルアルコール系接着剤を用い上記偏光膜の一方の面に貼り合わせ、同じく鹸化処理を行った市販のセルロースアセテートフィルムをポリビニルアルコール系接着剤を用い上記偏光膜の他方の面に貼り合わせ偏光板を得た。ここで市販のセルロースアセテートフィルムとしてはフジタックＴＦ８０ＵＬ（富士フイルム（株）製）を用いた。
（３）液晶表示装置の作製
ＴＮモード液晶セルを使用した液晶表示装置（ＡＬ２２１６Ｗ、日本エイサー（株）製）に設けられている一対の偏光板を剥がし、代わりに上記偏光板を、光学異方性層が液晶セル側となるように粘着剤を介して、観察者側及びバックライト側に一枚ずつ貼り付けた。このとき、観察者側の偏光板の吸収軸と、バックライト側の偏光板の吸収軸とが直交するように配置した。この様にしてＴＮモード液晶表示装置を作製した。
ＴＮモード液晶セルを使用した液晶表示装置（ＡＬ２２１６Ｗ、日本エイサー（株）製）に設けられている一対の偏光板を剥がし、代わりに上記偏光板を、光学異方性層が液晶セル側となるように粘着剤を介して、観察者側及びバックライト側に一枚ずつ貼り付けた。このとき、観察者側の偏光板の吸収軸と、バックライト側の偏光板の吸収軸とが直交するように配置した。この様にしてＴＮモード液晶表示装置を作製した。
（実施例２）
実施例１における光学異方性層の形成において、液晶化合物の塗布層とメタルハライドランプとの間に設けたフィルタをＷＧ２８０から、波長１８５ｎｍでの透過率が０％であり、波長２５４ｎｍでの透過率が５％であり、かつ波長３００ｎｍでの透過率が８０％であるフィルタ（Ｓ−ＦＰＬ５１Ｙ、（株）オハラ製）に代えたこと以外は、実施例１と同様にして、光学補償フィルム、偏光板、およびＴＮモード液晶表示装置を作製した。偏光板作製時の鹸化処理前後の光学異方性層の膜厚およびＲｅ（６３３）を下記表に示す。
実施例１における光学異方性層の形成において、液晶化合物の塗布層とメタルハライドランプとの間に設けたフィルタをＷＧ２８０から、波長１８５ｎｍでの透過率が０％であり、波長２５４ｎｍでの透過率が５％であり、かつ波長３００ｎｍでの透過率が８０％であるフィルタ（Ｓ−ＦＰＬ５１Ｙ、（株）オハラ製）に代えたこと以外は、実施例１と同様にして、光学補償フィルム、偏光板、およびＴＮモード液晶表示装置を作製した。偏光板作製時の鹸化処理前後の光学異方性層の膜厚およびＲｅ（６３３）を下記表に示す。
（実施例３）
実施例１における光学異方性層の形成において、液晶化合物の塗布層とメタルハライドランプとの間に設けたフィルタをＷＧ２８０から、波長１８５ｎｍでの透過率が０％であり、波長２５４ｎｍでの透過率が８４％であり、かつ波長３００ｎｍでの透過率が９２％であるフィルタ（Ｍ２３５、信越石英（株）製）に代えたこと以外は、実施例１と同様にして、光学補償フィルム、偏光板、およびＴＮモード液晶表示装置を作製した。偏光板作製時の鹸化処理前後の光学異方性層の膜厚およびＲｅ（６３３）を下記表に示す。
実施例１における光学異方性層の形成において、液晶化合物の塗布層とメタルハライドランプとの間に設けたフィルタをＷＧ２８０から、波長１８５ｎｍでの透過率が０％であり、波長２５４ｎｍでの透過率が８４％であり、かつ波長３００ｎｍでの透過率が９２％であるフィルタ（Ｍ２３５、信越石英（株）製）に代えたこと以外は、実施例１と同様にして、光学補償フィルム、偏光板、およびＴＮモード液晶表示装置を作製した。偏光板作製時の鹸化処理前後の光学異方性層の膜厚およびＲｅ（６３３）を下記表に示す。
（実施例４）
実施例１における光学異方性層の形成において、メタルハライドランプの発光管を石英ガラスから、波長１８５ｎｍでの透過率が０％であり、かつ波長３００ｎｍでの透過率が８４％であるオゾンレスガラス（アイグラフィックス製）に変えたこと以外は、実施例１と同様にして、光学補償フィルム、偏光板、およびＴＮモード液晶表示装置を作製した。偏光板作製時の鹸化処理前後の光学異方性層の膜厚およびＲｅ（６３３）を下記表に示す。
実施例１における光学異方性層の形成において、メタルハライドランプの発光管を石英ガラスから、波長１８５ｎｍでの透過率が０％であり、かつ波長３００ｎｍでの透過率が８４％であるオゾンレスガラス（アイグラフィックス製）に変えたこと以外は、実施例１と同様にして、光学補償フィルム、偏光板、およびＴＮモード液晶表示装置を作製した。偏光板作製時の鹸化処理前後の光学異方性層の膜厚およびＲｅ（６３３）を下記表に示す。
（実施例５）
実施例１における光学異方性層の形成において、紫外線照射時の酸素濃度を、２０万ｐｐｍから窒素パージにより１０，０００ｐｐｍ〜１，０００ｐｐｍの間に保ったこと以外は、実施例１と同様にして、光学補償フィルム、偏光板、およびＴＮモード液晶表示装置を作製した。偏光板作製時の鹸化処理前後の光学異方性層の膜厚およびＲｅ（６３３）を下記表に示す。
実施例１における光学異方性層の形成において、紫外線照射時の酸素濃度を、２０万ｐｐｍから窒素パージにより１０，０００ｐｐｍ〜１，０００ｐｐｍの間に保ったこと以外は、実施例１と同様にして、光学補償フィルム、偏光板、およびＴＮモード液晶表示装置を作製した。偏光板作製時の鹸化処理前後の光学異方性層の膜厚およびＲｅ（６３３）を下記表に示す。
（実施例６）
実施例１における光学異方性層の形成において、紫外線照射時の酸素濃度を、２０万ｐｐｍから窒素パージにより１，０００ｐｐｍ〜１００ｐｐｍの間に保ったこと以外は、実施例１と同様にして、位相差フィルム、偏光板、及びＴＮモード液晶表示装置を作製した。偏光板作製時の鹸化処理前後の光学異方性層の膜厚及びＲｅ（６３３）を下記表に示す。
実施例１における光学異方性層の形成において、紫外線照射時の酸素濃度を、２０万ｐｐｍから窒素パージにより１，０００ｐｐｍ〜１００ｐｐｍの間に保ったこと以外は、実施例１と同様にして、位相差フィルム、偏光板、及びＴＮモード液晶表示装置を作製した。偏光板作製時の鹸化処理前後の光学異方性層の膜厚及びＲｅ（６３３）を下記表に示す。
（実施例７）
実施例４における光学異方性層の形成において、紫外線照射時の酸素濃度を、２０万ｐｐｍから窒素パージにより１０，０００ｐｐｍ〜１，０００ｐｐｍの間に保ったこと以外は、実施例４と同様にして、位相差フィルム、偏光板、及びＴＮモード液晶表示装置を作製した。偏光板作製時の鹸化処理前後の光学異方性層の膜厚及びＲｅ（６３３）を下記表に示す。
実施例４における光学異方性層の形成において、紫外線照射時の酸素濃度を、２０万ｐｐｍから窒素パージにより１０，０００ｐｐｍ〜１，０００ｐｐｍの間に保ったこと以外は、実施例４と同様にして、位相差フィルム、偏光板、及びＴＮモード液晶表示装置を作製した。偏光板作製時の鹸化処理前後の光学異方性層の膜厚及びＲｅ（６３３）を下記表に示す。
（実施例８）
実施例４における光学異方性層の形成において、紫外線照射時の酸素濃度を、２０万ｐｐｍから窒素パージにより１，０００ｐｐｍ〜１００ｐｐｍの間に保ったこと以外は、実施例４と同様にして、位相差フィルム、偏光板、及びＴＮモード液晶表示装置を作製した。偏光板作製時の鹸化処理前後の光学異方性層の膜厚及びＲｅ（６３３）を下記表に示す。
実施例４における光学異方性層の形成において、紫外線照射時の酸素濃度を、２０万ｐｐｍから窒素パージにより１，０００ｐｐｍ〜１００ｐｐｍの間に保ったこと以外は、実施例４と同様にして、位相差フィルム、偏光板、及びＴＮモード液晶表示装置を作製した。偏光板作製時の鹸化処理前後の光学異方性層の膜厚及びＲｅ（６３３）を下記表に示す。
（実施例９）
実施例１における光学異方性層の形成において、光学異方性層形成用塗布液をＬＣ１から下記に示す組成のＬＣ２に代えたこと、及び液晶化合物を加熱して配向させるために用いた恒温槽の温度を１２０℃から１４０℃に変えたこと以外は、実施例１と同様にして、位相差フィルム、偏光板、及びＴＮモード液晶表示装置を作製した。偏光板作製時の鹸化処理前後の光学異方性層の膜厚及びＲｅ（６３３）を下記表に示す。
――――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
光学異方性層形成用塗布液（ＬＣ２）の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
・メチルエチルケトン １０２．００質量部
・ディスコティック液晶化合物２ ４１．０１質量部
・エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパンアクリレート ４．０６質量部
（Ｖ３６０、大阪有機化学（株）製）
・セルロースアセテートブチレート ０．１１質量部
（ＣＡＢ５３１−１、イーストマンケミカル社製）
・セルロースアセテートブチレート ０．３４質量部
（ＣＡＢ５５１−０．２、イーストマンケミカル社製）
・光重合開始剤 １．３５質量部
（イルガキュア９０７、チバ・ジャパン（株）製）
・増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製） ０．４５質量部
・下記に示すフルオロ脂肪族基含有ポリマー３ ０．１３質量部
・下記に示すフルオロ脂肪族基含有ポリマー４ ０．０３質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
実施例１における光学異方性層の形成において、光学異方性層形成用塗布液をＬＣ１から下記に示す組成のＬＣ２に代えたこと、及び液晶化合物を加熱して配向させるために用いた恒温槽の温度を１２０℃から１４０℃に変えたこと以外は、実施例１と同様にして、位相差フィルム、偏光板、及びＴＮモード液晶表示装置を作製した。偏光板作製時の鹸化処理前後の光学異方性層の膜厚及びＲｅ（６３３）を下記表に示す。
――――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
光学異方性層形成用塗布液（ＬＣ２）の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
・メチルエチルケトン １０２．００質量部
・ディスコティック液晶化合物２ ４１．０１質量部
・エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパンアクリレート ４．０６質量部
（Ｖ３６０、大阪有機化学（株）製）
・セルロースアセテートブチレート ０．１１質量部
（ＣＡＢ５３１−１、イーストマンケミカル社製）
・セルロースアセテートブチレート ０．３４質量部
（ＣＡＢ５５１−０．２、イーストマンケミカル社製）
・光重合開始剤 １．３５質量部
（イルガキュア９０７、チバ・ジャパン（株）製）
・増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製） ０．４５質量部
・下記に示すフルオロ脂肪族基含有ポリマー３ ０．１３質量部
・下記に示すフルオロ脂肪族基含有ポリマー４ ０．０３質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
（実施例１０）
実施例９における光学異方性層の形成において、液晶化合物の塗布層とメタルハライドランプとの間に設けたフィルタをＷＧ２８０から、波長１８５ｎｍでの透過率が０％であり、波長２５４ｎｍでの透過率が５％であり、かつ波長３００ｎｍでの透過率が８０％であるフィルタ（Ｓ−ＦＰＬ５１Ｙ、（株）オハラ製）に代えたこと以外は、実施例９と同様にして、位相差フィルム、偏光板、及びＴＮモード液晶表示装置を作製した。偏光板作製時の鹸化処理前後の光学異方性層の膜厚及びＲｅ（６３３）を下記表に示す。
実施例９における光学異方性層の形成において、液晶化合物の塗布層とメタルハライドランプとの間に設けたフィルタをＷＧ２８０から、波長１８５ｎｍでの透過率が０％であり、波長２５４ｎｍでの透過率が５％であり、かつ波長３００ｎｍでの透過率が８０％であるフィルタ（Ｓ−ＦＰＬ５１Ｙ、（株）オハラ製）に代えたこと以外は、実施例９と同様にして、位相差フィルム、偏光板、及びＴＮモード液晶表示装置を作製した。偏光板作製時の鹸化処理前後の光学異方性層の膜厚及びＲｅ（６３３）を下記表に示す。
（実施例１１）
実施例９における光学異方性層の形成において、液晶化合物の塗布層とメタルハライドランプとの間に設けたフィルタをＷＧ２８０から、波長１８５ｎｍでの透過率が０％であり、波長２５４ｎｍでの透過率が８４％であり、かつ波長３００ｎｍでの透過率が９２％であるフィルタ（Ｍ２３５、信越石英（株）製）に代えたこと以外は、実施例９と同様にして、位相差フィルム、偏光板、及びＴＮモード液晶表示装置を作製した。偏光板作製時の鹸化処理前後の光学異方性層の膜厚及びＲｅ（６３３）を下記表に示す。
実施例９における光学異方性層の形成において、液晶化合物の塗布層とメタルハライドランプとの間に設けたフィルタをＷＧ２８０から、波長１８５ｎｍでの透過率が０％であり、波長２５４ｎｍでの透過率が８４％であり、かつ波長３００ｎｍでの透過率が９２％であるフィルタ（Ｍ２３５、信越石英（株）製）に代えたこと以外は、実施例９と同様にして、位相差フィルム、偏光板、及びＴＮモード液晶表示装置を作製した。偏光板作製時の鹸化処理前後の光学異方性層の膜厚及びＲｅ（６３３）を下記表に示す。
（実施例１２）
実施例９における光学異方性層の形成において、メタルハライドランプの発光管を石英ガラスから、波長１８５ｎｍでの透過率が０％であり、かつ波長３００ｎｍでの透過率が８４％であるオゾンレスガラス（アイグラフィックス製）に代えたこと以外は、実施例９と同様にして、位相差フィルム、偏光板、及びＴＮモード液晶表示装置を作製した。偏光板作製時の鹸化処理前後の光学異方性層の膜厚及びＲｅ（６３３）を下記表に示す。
実施例９における光学異方性層の形成において、メタルハライドランプの発光管を石英ガラスから、波長１８５ｎｍでの透過率が０％であり、かつ波長３００ｎｍでの透過率が８４％であるオゾンレスガラス（アイグラフィックス製）に代えたこと以外は、実施例９と同様にして、位相差フィルム、偏光板、及びＴＮモード液晶表示装置を作製した。偏光板作製時の鹸化処理前後の光学異方性層の膜厚及びＲｅ（６３３）を下記表に示す。
（実施例１３）
実施例９における光学異方性層の形成において、紫外線照射時の酸素濃度を、２０万ｐｐｍから窒素パージにより１０，０００ｐｐｍ〜１，０００ｐｐｍの間に保ったこと以外は、実施例９と同様にして、位相差フィルム、偏光板、及びＴＮモード液晶表示装置を作製した。偏光板作製時の鹸化処理前後の光学異方性層の膜厚及びＲｅ（６３３）を下記表に示す。
実施例９における光学異方性層の形成において、紫外線照射時の酸素濃度を、２０万ｐｐｍから窒素パージにより１０，０００ｐｐｍ〜１，０００ｐｐｍの間に保ったこと以外は、実施例９と同様にして、位相差フィルム、偏光板、及びＴＮモード液晶表示装置を作製した。偏光板作製時の鹸化処理前後の光学異方性層の膜厚及びＲｅ（６３３）を下記表に示す。
（実施例１４）
実施例９における光学異方性層の形成において、紫外線照射時の酸素濃度を、２０万ｐｐｍから窒素パージにより１，０００ｐｐｍ〜１００ｐｐｍの間に保ったこと以外は、実施例９と同様にして、位相差フィルム、偏光板、及びＴＮモード液晶表示装置を作製した。偏光板作製時の鹸化処理前後の光学異方性層の膜厚及びＲｅ（６３３）を下記表に示す。
実施例９における光学異方性層の形成において、紫外線照射時の酸素濃度を、２０万ｐｐｍから窒素パージにより１，０００ｐｐｍ〜１００ｐｐｍの間に保ったこと以外は、実施例９と同様にして、位相差フィルム、偏光板、及びＴＮモード液晶表示装置を作製した。偏光板作製時の鹸化処理前後の光学異方性層の膜厚及びＲｅ（６３３）を下記表に示す。
（実施例１５）
実施例１２における光学異方性層の形成において、紫外線照射時の酸素濃度を、２０万ｐｐｍから窒素パージにより１０，０００ｐｐｍ〜１，０００ｐｐｍの間に保ったこと以外は、実施例１２と同様にして、位相差フィルム、偏光板、及びＴＮモード液晶表示装置を作製した。偏光板作製時の鹸化処理前後の光学異方性層の膜厚及びＲｅ（６３３）を下記表に示す。
実施例１２における光学異方性層の形成において、紫外線照射時の酸素濃度を、２０万ｐｐｍから窒素パージにより１０，０００ｐｐｍ〜１，０００ｐｐｍの間に保ったこと以外は、実施例１２と同様にして、位相差フィルム、偏光板、及びＴＮモード液晶表示装置を作製した。偏光板作製時の鹸化処理前後の光学異方性層の膜厚及びＲｅ（６３３）を下記表に示す。
（実施例１６）
実施例１２における光学異方性層の形成において、紫外線照射時の酸素濃度を、２０万ｐｐｍから窒素パージにより１，０００ｐｐｍ〜１００ｐｐｍの間に保ったこと以外は、実施例１２と同様にして、位相差フィルム、偏光板、及びＴＮモード液晶表示装置を作製した。偏光板作製時の鹸化処理前後の光学異方性層の膜厚及びＲｅ（６３３）を下記表に示す。
実施例１２における光学異方性層の形成において、紫外線照射時の酸素濃度を、２０万ｐｐｍから窒素パージにより１，０００ｐｐｍ〜１００ｐｐｍの間に保ったこと以外は、実施例１２と同様にして、位相差フィルム、偏光板、及びＴＮモード液晶表示装置を作製した。偏光板作製時の鹸化処理前後の光学異方性層の膜厚及びＲｅ（６３３）を下記表に示す。
（実施例１７）
（１）第１の位相差フィルムの作製
［セルロースアセテートフィルムの作製］
（セルロースアセテート溶液の調製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、３０℃に加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液Ａを調製した。
────────────────────────────────────――――
セルロースアセテート溶液Ａの組成
────────────────────────────────────――――
・酢化度６０．９％のセルロースアセテート １００質量部
（重合度３００、Ｍｎ／Ｍｗ＝１．５）
・トリフェニルホスフェート（可塑剤） ７．８質量部
・ビフェニルジフェニルホスフェート（可塑剤） ３．９質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒） ３００質量部
・メタノール（第２溶媒） ５４質量部
・１−ブタノール（第３溶媒） １１質量部
────────────────────────────────────――――
（１）第１の位相差フィルムの作製
［セルロースアセテートフィルムの作製］
（セルロースアセテート溶液の調製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、３０℃に加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液Ａを調製した。
────────────────────────────────────――――
セルロースアセテート溶液Ａの組成
────────────────────────────────────――――
・酢化度６０．９％のセルロースアセテート １００質量部
（重合度３００、Ｍｎ／Ｍｗ＝１．５）
・トリフェニルホスフェート（可塑剤） ７．８質量部
・ビフェニルジフェニルホスフェート（可塑剤） ３．９質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒） ３００質量部
・メタノール（第２溶媒） ５４質量部
・１−ブタノール（第３溶媒） １１質量部
────────────────────────────────────――――
（レターデーション上昇剤溶液の調製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、レターデーション上昇剤溶液を調製した。
――――――――――――――――――――――――――――――――――───―――
レターデーション上昇剤溶液の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――――───―――
・下記に示すレターデーション上昇剤２ １６質量部
・下記に示すレターデーション上昇剤３ ８質量部
・平均粒径０．１μｍの二酸化ケイ素粒子 ０．２８質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒） ８０質量部
・メタノール（第２溶媒） ２０質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――───―――
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、レターデーション上昇剤溶液を調製した。
――――――――――――――――――――――――――――――――――───―――
レターデーション上昇剤溶液の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――――───―――
・下記に示すレターデーション上昇剤２ １６質量部
・下記に示すレターデーション上昇剤３ ８質量部
・平均粒径０．１μｍの二酸化ケイ素粒子 ０．２８質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒） ８０質量部
・メタノール（第２溶媒） ２０質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――───―――
（セルロースアセテートフィルムの作製）
上記セルロースアセテート溶液Ａ ４７４質量部に、レターデーション上昇剤溶液４５質量部を混合し、充分に攪拌し、バンド流延機を用いて流延した。残留溶剤量１５％でフィルムを、１３０℃でテンターを用いて２０％の延伸倍率で横延伸し、延伸後の幅のまま５０℃で３０秒間保持した後、クリップを外し、更に乾燥して残留溶媒量が０．１％未満のセルロースアセテートフィルム（Ｃ２）を作製した。上記で得られたセルロースアセテートフィルム（Ｃ２）の厚さは８８μｍ、面内レターデーション（Ｒｅ（５９０））は６０ｎｍ、厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ（５９０））は１９０ｎｍであった。
上記セルロースアセテート溶液Ａ ４７４質量部に、レターデーション上昇剤溶液４５質量部を混合し、充分に攪拌し、バンド流延機を用いて流延した。残留溶剤量１５％でフィルムを、１３０℃でテンターを用いて２０％の延伸倍率で横延伸し、延伸後の幅のまま５０℃で３０秒間保持した後、クリップを外し、更に乾燥して残留溶媒量が０．１％未満のセルロースアセテートフィルム（Ｃ２）を作製した。上記で得られたセルロースアセテートフィルム（Ｃ２）の厚さは８８μｍ、面内レターデーション（Ｒｅ（５９０））は６０ｎｍ、厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ（５９０））は１９０ｎｍであった。
［セルロースアセテートフィルムの鹸化処理及び配向膜の形成］
実施例１と同様にして、上記で得られたセルロースアセテートフィルム（Ｃ２）に鹸化処理、配向膜の形成、及びラビング処理を実施した。
実施例１と同様にして、上記で得られたセルロースアセテートフィルム（Ｃ２）に鹸化処理、配向膜の形成、及びラビング処理を実施した。
［光学異方性層の形成］
下記に示す組成の光学異方性形成用塗布液を調製した。
――――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
光学異方性層形成用塗布液（ＬＣ３）の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記に示す棒状液晶化合物１ １００質量部
・下記に示すフルオロ脂肪族基含有ポリマー５ ０．４質量部
・下記に示すピリニジウム塩 １．０質量部
・光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバ・ジャパン（株）製） ３．０質量部
・増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製） １．０質量部
・メチルエチルケトン １７２質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
下記に示す組成の光学異方性形成用塗布液を調製した。
――――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
光学異方性層形成用塗布液（ＬＣ３）の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記に示す棒状液晶化合物１ １００質量部
・下記に示すフルオロ脂肪族基含有ポリマー５ ０．４質量部
・下記に示すピリニジウム塩 １．０質量部
・光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバ・ジャパン（株）製） ３．０質量部
・増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製） １．０質量部
・メチルエチルケトン １７２質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
上記で得られたラビング処理を施したセルロースアセテートフィルム（Ｃ２）の配向膜上に、上記光学異方性層形成用塗布液（ＬＣ３）を、（＃５．０の）ワイヤーバーコーターで塗布した。その後、８０℃の恒温槽中で１２０秒間加熱し、液晶性化合物を配向させた。
次に、上記で得られたフィルムの液晶化合物の塗布層を、フィルタ（ＷＧ２８０、ＳＣＨＯＴＴ製）を介して、フィルムの温度を６０℃に保った状態で、紫外線を照射し、液晶化合物の重合反応を進行させ、配向状態を固定し、光学異方性層を形成した。用いたフィルタは、波長１８５ｎｍでの透過率が０％、波長２５４ｎｍでの透過率が０％、及び波長３００ｎｍでの透過率が８０％のフィルタである。また、紫外線照射には、通常の石英ガラス（波長１８５ｎｍでの透過率が７％であり、且つ波長３００ｎｍでの透過率が９０％である石英ガラス）製の発光管を有するメタルハライドランプを使用した。紫外線照射時の酸素濃度は２０％（２０万ｐｐｍ）であった。
次に、上記で得られたフィルムの液晶化合物の塗布層を、フィルタ（ＷＧ２８０、ＳＣＨＯＴＴ製）を介して、フィルムの温度を６０℃に保った状態で、紫外線を照射し、液晶化合物の重合反応を進行させ、配向状態を固定し、光学異方性層を形成した。用いたフィルタは、波長１８５ｎｍでの透過率が０％、波長２５４ｎｍでの透過率が０％、及び波長３００ｎｍでの透過率が８０％のフィルタである。また、紫外線照射には、通常の石英ガラス（波長１８５ｎｍでの透過率が７％であり、且つ波長３００ｎｍでの透過率が９０％である石英ガラス）製の発光管を有するメタルハライドランプを使用した。紫外線照射時の酸素濃度は２０％（２０万ｐｐｍ）であった。
上記のフィルタを透過した紫外線の３６５ｎｍにおける照度は２２０ｍＷ／ｃｍ2であり、照射量は３５０ｍＪ／ｃｍ2であった。
上記で得られた光学異方性層の厚さは２６８０ｎｍであり、面内レターデーション（Ｒｅ（５９０））は０ｎｍ、厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ（５９０））は−２６０ｎｍであった。また、棒状液晶分子がフィルム面に対して実質的に垂直配向している光学異方性層が形成されていることが確認できた。
上記で得られた光学異方性層の厚さは２６８０ｎｍであり、面内レターデーション（Ｒｅ（５９０））は０ｎｍ、厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ（５９０））は−２６０ｎｍであった。また、棒状液晶分子がフィルム面に対して実質的に垂直配向している光学異方性層が形成されていることが確認できた。
（２）第２の位相差フィルムの作製
［セルロースアセテートフィルムの作製］
（セルロースアセテート溶液の調製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、３０℃に加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液Ａを調製した。
────────────────────────────────────――――
セルロースアセテート溶液Ｂの組成
────────────────────────────────────――――
・アセチル置換度２．９４のセルロースアセテート １００質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒） ４０２質量部
・メタノール（第２溶媒） ６０質量部
────────────────────────────────────――――
［セルロースアセテートフィルムの作製］
（セルロースアセテート溶液の調製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、３０℃に加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液Ａを調製した。
────────────────────────────────────――――
セルロースアセテート溶液Ｂの組成
────────────────────────────────────――――
・アセチル置換度２．９４のセルロースアセテート １００質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒） ４０２質量部
・メタノール（第２溶媒） ６０質量部
────────────────────────────────────――――
（マット剤溶液の調製）
平均粒径１６ｎｍのシリカ粒子（ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ９７２、日本アエロジル（株）製）を２０質量部、メタノール８０質量部を３０分間よく攪拌混合してシリカ粒子分散液とした。この分散液を下記の組成物とともに分散機に投入し、さらに３０分以上攪拌して各成分を溶解し、マット剤溶液を調製した。
――――――――――――――――――――――――――――――――――───―――
マット剤溶液の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――――───―――
・平均粒径１６ｎｍのシリカ粒子分散液 １０．０質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒） ７６．３質量部
・メタノール（第２溶媒） ３．４質量部
・セルロースアセテート溶液Ａ １０．３質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――───―――
平均粒径１６ｎｍのシリカ粒子（ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ９７２、日本アエロジル（株）製）を２０質量部、メタノール８０質量部を３０分間よく攪拌混合してシリカ粒子分散液とした。この分散液を下記の組成物とともに分散機に投入し、さらに３０分以上攪拌して各成分を溶解し、マット剤溶液を調製した。
――――――――――――――――――――――――――――――――――───―――
マット剤溶液の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――――───―――
・平均粒径１６ｎｍのシリカ粒子分散液 １０．０質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒） ７６．３質量部
・メタノール（第２溶媒） ３．４質量部
・セルロースアセテート溶液Ａ １０．３質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――───―――
（添加剤溶液の調製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、添加剤溶液を調製した。
――――――――――――――――――――――――――――――――――───―――
添加剤溶液の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――――───―――
・下記に示す光学的異方性低下剤 ４９．３質量部
・下記に示す波長分散調整剤 ４．９質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒） ５８．４質量部
・メタノール（第２溶媒） ８．７質量部
・セルロースアセテート溶液Ｂ １２．８質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――───―――
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、添加剤溶液を調製した。
――――――――――――――――――――――――――――――――――───―――
添加剤溶液の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――――───―――
・下記に示す光学的異方性低下剤 ４９．３質量部
・下記に示す波長分散調整剤 ４．９質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒） ５８．４質量部
・メタノール（第２溶媒） ８．７質量部
・セルロースアセテート溶液Ｂ １２．８質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――───―――
（セルロースアセテートフィルムの作製）
上記セルロースアセテート溶液Ｂを９４．６質量部、マット剤溶液を１．３質量部、添加剤溶液４．１質量部それぞれを濾過後に混合し、バンド流延機を用いて流延した。上記組成で光学的異方性を低下する化合物及び波長分散調整剤のセルロースアセテートに対する質量比はそれぞれ１２％、１．２％であった。残留溶剤量３０％でフィルムをバンドから剥ぎ取り、１４０℃で４０分間乾燥させ、厚さ８０μｍのセルロースアセテートフィルム（Ｃ３）を作製した。上記で得られたセルロースアセテートフィルム（Ｃ３）の面内レターデーション（Ｒｅ（５９０））は１ｎｍ（遅相軸は流延方向と垂直な方向）、厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ（５９０））は−１ｎｍであった。
上記セルロースアセテート溶液Ｂを９４．６質量部、マット剤溶液を１．３質量部、添加剤溶液４．１質量部それぞれを濾過後に混合し、バンド流延機を用いて流延した。上記組成で光学的異方性を低下する化合物及び波長分散調整剤のセルロースアセテートに対する質量比はそれぞれ１２％、１．２％であった。残留溶剤量３０％でフィルムをバンドから剥ぎ取り、１４０℃で４０分間乾燥させ、厚さ８０μｍのセルロースアセテートフィルム（Ｃ３）を作製した。上記で得られたセルロースアセテートフィルム（Ｃ３）の面内レターデーション（Ｒｅ（５９０））は１ｎｍ（遅相軸は流延方向と垂直な方向）、厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ（５９０））は−１ｎｍであった。
（３）偏光板の作製
実施例１と同様にして、第１の位相差フィルムに鹸化処理をおこなった。鹸化処理した位相差フィルムの光学異方性層の厚さは２５６０ｎｍであり、Ｒｔｈ（５９０）は−２１８ｎｍであった。
鹸化処理をおこなった第１の位相差フィルムの光学異方性層が形成されていない側の面をポリビニルアルコール系接着剤を用い、実施例１と同様にして作製した偏光膜の一方の面に貼り合わせ、同じく実施例１と同様に鹸化処理を行った市販のセルロースアセテートフィルムをポリビニルアルコール系接着剤を用い上記偏光膜の他方の面に貼り合わせ偏光板ＰＮ１を得た。
このとき、偏光膜の吸収軸は延伸方向に対して平行であり、かつ、偏光膜の吸収軸と第２の光学異方性層の遅相軸とがなす角は９０°であった。
実施例１と同様にして、第２の位相差フィルムに鹸化処理をおこなった。鹸化処理をおこなった第２の位相差フィルムをポリビニルアルコール系接着剤を用い、実施例１と同様にして作製した偏光膜の一方の面に貼り合わせ、同じく実施例１と同様に鹸化処理を行った市販のセルロースアセテートフィルムをポリビニルアルコール系接着剤を用い上記偏光膜の他方の面に貼り合わせ偏光板ＰＮ２を得た。
実施例１と同様にして、第１の位相差フィルムに鹸化処理をおこなった。鹸化処理した位相差フィルムの光学異方性層の厚さは２５６０ｎｍであり、Ｒｔｈ（５９０）は−２１８ｎｍであった。
鹸化処理をおこなった第１の位相差フィルムの光学異方性層が形成されていない側の面をポリビニルアルコール系接着剤を用い、実施例１と同様にして作製した偏光膜の一方の面に貼り合わせ、同じく実施例１と同様に鹸化処理を行った市販のセルロースアセテートフィルムをポリビニルアルコール系接着剤を用い上記偏光膜の他方の面に貼り合わせ偏光板ＰＮ１を得た。
このとき、偏光膜の吸収軸は延伸方向に対して平行であり、かつ、偏光膜の吸収軸と第２の光学異方性層の遅相軸とがなす角は９０°であった。
実施例１と同様にして、第２の位相差フィルムに鹸化処理をおこなった。鹸化処理をおこなった第２の位相差フィルムをポリビニルアルコール系接着剤を用い、実施例１と同様にして作製した偏光膜の一方の面に貼り合わせ、同じく実施例１と同様に鹸化処理を行った市販のセルロースアセテートフィルムをポリビニルアルコール系接着剤を用い上記偏光膜の他方の面に貼り合わせ偏光板ＰＮ２を得た。
（４）液晶表示装置の作製
電圧無印加状態及び黒表示時では液晶分子はガラス基板間で実質的に平行配向しており、その遅相軸方向は画面に対して水平方向であるＩＰＳモードの液晶表示装置（ＴＨ-３２ＬＸ５００（松下電器産業（株）製））に設けられている一対の偏光板及び光学フィルムを剥した。
電圧無印加状態及び黒表示時では液晶分子はガラス基板間で実質的に平行配向しており、その遅相軸方向は画面に対して水平方向であるＩＰＳモードの液晶表示装置（ＴＨ-３２ＬＸ５００（松下電器産業（株）製））に設けられている一対の偏光板及び光学フィルムを剥した。
上記の平行配向セルの上下のガラス基板に、上記作製した偏光板（ＰＮ１及びＰＮ２）を粘着剤を用いて貼り合わせた。このとき、バックライト側の偏光板にＰＮ１を配置し、視認者側にＰＮ２を配置し、偏光板ＰＮ１に含まれる光学異方性層がバックライト側のガラス基板に接するように、また、偏光板ＰＮ２に含まれるセルロースアセテートフィルムＣ３が視認者側のガラス基板に接するように貼り合わせた。また、偏光板ＰＮ１の吸収軸と液晶セルの遅相軸が直交するようにし、偏光板ＰＮ１と偏光板ＰＮ２との吸収軸が直交するように配置した。このようにして偏光板を貼り合せた液晶セルを、再度、液晶テレビＴＨ-３２ＬＸ５００に組み込み、液晶表示装置を作製した。
（実施例１８）
実施例１７における光学異方性層の形成において、液晶化合物の塗布層とメタルハライドランプとの間に設けたフィルタをＷＧ２８０から、波長１８５ｎｍでの透過率が０％であり、波長２５４ｎｍでの透過率が５％であり、かつ波長３００ｎｍでの透過率が８０％であるフィルタ（Ｓ−ＦＰＬ５１Ｙ、（株）オハラ製）に代えたこと以外は、実施例１７と同様にして、位相差フィルム、偏光板、及びＩＰＳモード液晶表示装置を作製した。偏光板作製時の鹸化処理前後の光学異方性層の膜厚及びＲｔｈ（５９０）を下記表に示す。
実施例１７における光学異方性層の形成において、液晶化合物の塗布層とメタルハライドランプとの間に設けたフィルタをＷＧ２８０から、波長１８５ｎｍでの透過率が０％であり、波長２５４ｎｍでの透過率が５％であり、かつ波長３００ｎｍでの透過率が８０％であるフィルタ（Ｓ−ＦＰＬ５１Ｙ、（株）オハラ製）に代えたこと以外は、実施例１７と同様にして、位相差フィルム、偏光板、及びＩＰＳモード液晶表示装置を作製した。偏光板作製時の鹸化処理前後の光学異方性層の膜厚及びＲｔｈ（５９０）を下記表に示す。
（実施例１９）
実施例１７における光学異方性層の形成において、液晶化合物の塗布層とメタルハライドランプとの間に設けたフィルタをＷＧ２８０から、波長１８５ｎｍでの透過率が０％であり、波長２５４ｎｍでの透過率が８４％であり、かつ波長３００ｎｍでの透過率が９２％であるフィルタ（Ｍ２３５、信越石英（株）製）に変えたこと以外は、実施例１７と同様にして、位相差フィルム、偏光板、及びＩＰＳモード液晶表示装置を作製した。偏光板作製時の鹸化処理前後の光学異方性層の膜厚及びＲｔｈ（５９０）を下記表に示す。
実施例１７における光学異方性層の形成において、液晶化合物の塗布層とメタルハライドランプとの間に設けたフィルタをＷＧ２８０から、波長１８５ｎｍでの透過率が０％であり、波長２５４ｎｍでの透過率が８４％であり、かつ波長３００ｎｍでの透過率が９２％であるフィルタ（Ｍ２３５、信越石英（株）製）に変えたこと以外は、実施例１７と同様にして、位相差フィルム、偏光板、及びＩＰＳモード液晶表示装置を作製した。偏光板作製時の鹸化処理前後の光学異方性層の膜厚及びＲｔｈ（５９０）を下記表に示す。
（実施例２０）
実施例１７における光学異方性層の形成において、メタルハライドランプの発光管を石英ガラスから、波長１８５ｎｍでの透過率が０％であり、かつ波長３００ｎｍでの透過率が８４％であるオゾンレスガラス（アイグラフィックス製）に代えたこと以外は、実施例１７と同様にして、位相差フィルム、偏光板、及びＩＰＳモード液晶表示装置を作製した。偏光板作製時の鹸化処理前後の光学異方性層の膜厚及びＲｔｈ（５９０）を下記表に示す。
実施例１７における光学異方性層の形成において、メタルハライドランプの発光管を石英ガラスから、波長１８５ｎｍでの透過率が０％であり、かつ波長３００ｎｍでの透過率が８４％であるオゾンレスガラス（アイグラフィックス製）に代えたこと以外は、実施例１７と同様にして、位相差フィルム、偏光板、及びＩＰＳモード液晶表示装置を作製した。偏光板作製時の鹸化処理前後の光学異方性層の膜厚及びＲｔｈ（５９０）を下記表に示す。
（実施例２１）
実施例１７における光学異方性層の形成において、紫外線照射時の酸素濃度を、２０万ｐｐｍから窒素パージにより１０，０００ｐｐｍ〜１，０００ｐｐｍの間に保ったこと以外は、実施例１７と同様にして、位相差フィルム、偏光板、及びＩＰＳモード液晶表示装置を作製した。偏光板作製時の鹸化処理前後の光学異方性層の膜厚及びＲｔｈ（５９０）を下記表に示す。
実施例１７における光学異方性層の形成において、紫外線照射時の酸素濃度を、２０万ｐｐｍから窒素パージにより１０，０００ｐｐｍ〜１，０００ｐｐｍの間に保ったこと以外は、実施例１７と同様にして、位相差フィルム、偏光板、及びＩＰＳモード液晶表示装置を作製した。偏光板作製時の鹸化処理前後の光学異方性層の膜厚及びＲｔｈ（５９０）を下記表に示す。
（実施例２２）
実施例１７における光学異方性層の形成において、紫外線照射時の酸素濃度を、２０万ｐｐｍから窒素パージにより１，０００ｐｐｍ〜１００ｐｐｍの間に保ったこと以外は、実施例１７と同様にして、位相差フィルム、偏光板、及びＩＰＳモード液晶表示装置を作製した。偏光板作製時の鹸化処理前後の光学異方性層の膜厚及びＲｔｈ（５９０）を下記表に示す。
実施例１７における光学異方性層の形成において、紫外線照射時の酸素濃度を、２０万ｐｐｍから窒素パージにより１，０００ｐｐｍ〜１００ｐｐｍの間に保ったこと以外は、実施例１７と同様にして、位相差フィルム、偏光板、及びＩＰＳモード液晶表示装置を作製した。偏光板作製時の鹸化処理前後の光学異方性層の膜厚及びＲｔｈ（５９０）を下記表に示す。
（実施例２３）
実施例２０における光学異方性層の形成において、紫外線照射時の酸素濃度を、２０万ｐｐｍから窒素パージにより１０，０００ｐｐｍ〜１，０００ｐｐｍの間に保ったこと以外は、実施例２０と同様にして、位相差フィルム、偏光板、及びＩＰＳモード液晶表示装置を作製した。偏光板作製時の鹸化処理前後の光学異方性層の膜厚及びＲｔｈ（５９０）を下記表に示す。
実施例２０における光学異方性層の形成において、紫外線照射時の酸素濃度を、２０万ｐｐｍから窒素パージにより１０，０００ｐｐｍ〜１，０００ｐｐｍの間に保ったこと以外は、実施例２０と同様にして、位相差フィルム、偏光板、及びＩＰＳモード液晶表示装置を作製した。偏光板作製時の鹸化処理前後の光学異方性層の膜厚及びＲｔｈ（５９０）を下記表に示す。
（実施例２４）
実施例２０における光学異方性層の形成において、紫外線照射時の酸素濃度を、２０万ｐｐｍから窒素パージにより１，０００ｐｐｍ〜１００ｐｐｍの間に保ったこと以外は、実施例２０と同様にして、位相差フィルム、偏光板、及びＩＰＳモード液晶表示装置を作製した。偏光板作製時の鹸化処理前後の光学異方性層の膜厚及びＲｔｈ（５９０）を下記表に示す。
実施例２０における光学異方性層の形成において、紫外線照射時の酸素濃度を、２０万ｐｐｍから窒素パージにより１，０００ｐｐｍ〜１００ｐｐｍの間に保ったこと以外は、実施例２０と同様にして、位相差フィルム、偏光板、及びＩＰＳモード液晶表示装置を作製した。偏光板作製時の鹸化処理前後の光学異方性層の膜厚及びＲｔｈ（５９０）を下記表に示す。
（実施例２５）
実施例７における光学異方性層の形成において、液晶化合物の塗布層とメタルハライドランプとの間に設けたフィルタをＷＧ２８０から、波長１８５ｎｍでの透過率が０％であり、波長２５４ｎｍでの透過率が０％であり、かつ波長３００ｎｍでの透過率が２３％であるフィルタ（ＢＳＭ５１Ｙ、（株）オハラ製）に代えたこと以外は、実施例７と同様にして、位相差フィルム、偏光板、及びＴＮモード液晶表示装置を作製した。偏光板作製時の鹸化処理前後の光学異方性層の膜厚及びＲｅ（６３３）を下記表に示す。
実施例７における光学異方性層の形成において、液晶化合物の塗布層とメタルハライドランプとの間に設けたフィルタをＷＧ２８０から、波長１８５ｎｍでの透過率が０％であり、波長２５４ｎｍでの透過率が０％であり、かつ波長３００ｎｍでの透過率が２３％であるフィルタ（ＢＳＭ５１Ｙ、（株）オハラ製）に代えたこと以外は、実施例７と同様にして、位相差フィルム、偏光板、及びＴＮモード液晶表示装置を作製した。偏光板作製時の鹸化処理前後の光学異方性層の膜厚及びＲｅ（６３３）を下記表に示す。
（実施例２６）
実施例８における光学異方性層の形成において、メタルハライドランプの発光管を石英ガラスから、波長１８５ｎｍでの透過率が０％であり、かつ波長３００ｎｍでの透過率が２％であるオゾンレスガラス（Ｍ３８２、信越石英（株）製）に変えたこと以外は、実施例８と同様にして、位相差フィルム、偏光板、及びＴＮモード液晶表示装置を作製した。偏光板作製時の鹸化処理前後の光学異方性層の膜厚及びＲｅ（６３３）を下記表に示す。
実施例８における光学異方性層の形成において、メタルハライドランプの発光管を石英ガラスから、波長１８５ｎｍでの透過率が０％であり、かつ波長３００ｎｍでの透過率が２％であるオゾンレスガラス（Ｍ３８２、信越石英（株）製）に変えたこと以外は、実施例８と同様にして、位相差フィルム、偏光板、及びＴＮモード液晶表示装置を作製した。偏光板作製時の鹸化処理前後の光学異方性層の膜厚及びＲｅ（６３３）を下記表に示す。
（実施例２７）
実施例１５における光学異方性層の形成において、液晶化合物の塗布層とメタルハライドランプとの間に設けたフィルタをＷＧ２８０から、波長１８５ｎｍでの透過率が０％であり、波長２５４ｎｍでの透過率が０％であり、かつ波長３００ｎｍでの透過率が２３％であるフィルタ（ＢＳＭ５１Ｙ、（株）オハラ製）に変えたこと以外は、実施例１５と同様にして、位相差フィルム、偏光板、及びＴＮモード液晶表示装置を作製した。偏光板作製時の鹸化処理前後の光学異方性層の膜厚及びＲｅ（６３３）を下記表に示す。
実施例１５における光学異方性層の形成において、液晶化合物の塗布層とメタルハライドランプとの間に設けたフィルタをＷＧ２８０から、波長１８５ｎｍでの透過率が０％であり、波長２５４ｎｍでの透過率が０％であり、かつ波長３００ｎｍでの透過率が２３％であるフィルタ（ＢＳＭ５１Ｙ、（株）オハラ製）に変えたこと以外は、実施例１５と同様にして、位相差フィルム、偏光板、及びＴＮモード液晶表示装置を作製した。偏光板作製時の鹸化処理前後の光学異方性層の膜厚及びＲｅ（６３３）を下記表に示す。
（実施例２８）
実施例１６における光学異方性層の形成において、メタルハライドランプの発光管を石英ガラスから、波長１８５ｎｍでの透過率が０％であり、かつ波長３００ｎｍでの透過率が２％であるオゾンレスガラス（Ｍ３８２、信越石英（株）製）に代えたこと以外は、実施例１６と同様にして、位相差フィルム、偏光板、及びＴＮモード液晶表示装置を作製した。偏光板作製時の鹸化処理前後の光学異方性層の膜厚及びＲｅ（６３３）を下記表に示す。
実施例１６における光学異方性層の形成において、メタルハライドランプの発光管を石英ガラスから、波長１８５ｎｍでの透過率が０％であり、かつ波長３００ｎｍでの透過率が２％であるオゾンレスガラス（Ｍ３８２、信越石英（株）製）に代えたこと以外は、実施例１６と同様にして、位相差フィルム、偏光板、及びＴＮモード液晶表示装置を作製した。偏光板作製時の鹸化処理前後の光学異方性層の膜厚及びＲｅ（６３３）を下記表に示す。
（実施例２９）
実施例２３における光学異方性層の形成において、液晶化合物の塗布層とメタルハライドランプとの間に設けたフィルタをＷＧ２８０から、波長１８５ｎｍでの透過率が０％であり、波長２５４ｎｍでの透過率が０％であり、かつ波長３００ｎｍでの透過率が２３％であるフィルタ（ＢＳＭ５１Ｙ、（株）オハラ製）に代えたこと以外は、実施例２３と同様にして、位相差フィルム、偏光板、及びＩＰＳモード液晶表示装置を作製した。偏光板作製時の鹸化処理前後の光学異方性層の膜厚及びＲｔｈ（５９０）を下記表に示す。
実施例２３における光学異方性層の形成において、液晶化合物の塗布層とメタルハライドランプとの間に設けたフィルタをＷＧ２８０から、波長１８５ｎｍでの透過率が０％であり、波長２５４ｎｍでの透過率が０％であり、かつ波長３００ｎｍでの透過率が２３％であるフィルタ（ＢＳＭ５１Ｙ、（株）オハラ製）に代えたこと以外は、実施例２３と同様にして、位相差フィルム、偏光板、及びＩＰＳモード液晶表示装置を作製した。偏光板作製時の鹸化処理前後の光学異方性層の膜厚及びＲｔｈ（５９０）を下記表に示す。
（実施例３０）
実施例２４における光学異方性層の形成において、メタルハライドランプの発光管を石英ガラスから、波長１８５ｎｍでの透過率が０％であり、かつ波長３００ｎｍでの透過率が２％であるオゾンレスガラス（Ｍ３８２、信越石英（株）製）に代えたこと以外は、実施例２４と同様にして、位相差フィルム、偏光板、及びＩＰＳモード液晶表示装置を作製した。偏光板作製時の鹸化処理前後の光学異方性層の膜厚及びＲｔｈ（５９０）を下記表に示す。
実施例２４における光学異方性層の形成において、メタルハライドランプの発光管を石英ガラスから、波長１８５ｎｍでの透過率が０％であり、かつ波長３００ｎｍでの透過率が２％であるオゾンレスガラス（Ｍ３８２、信越石英（株）製）に代えたこと以外は、実施例２４と同様にして、位相差フィルム、偏光板、及びＩＰＳモード液晶表示装置を作製した。偏光板作製時の鹸化処理前後の光学異方性層の膜厚及びＲｔｈ（５９０）を下記表に示す。
（比較例１）
実施例１における光学異方性層の形成において、液晶化合物の塗布層とメタルハライドランプとの間に設けたフィルタを取り除いたこと以外は、実施例１と同様にして、位相差フィルム、偏光板、及びＴＮモード液晶表示装置を作製した。偏光板作製時の鹸化処理前後の光学異方性層の膜厚及びＲｅ（６３３）を下記表に示す。
実施例１における光学異方性層の形成において、液晶化合物の塗布層とメタルハライドランプとの間に設けたフィルタを取り除いたこと以外は、実施例１と同様にして、位相差フィルム、偏光板、及びＴＮモード液晶表示装置を作製した。偏光板作製時の鹸化処理前後の光学異方性層の膜厚及びＲｅ（６３３）を下記表に示す。
（比較例２）
実施例１における光学異方性層の形成において、液晶化合物の塗布層とメタルハライドランプとの間に設けたフィルタをＷＧ２８０から、波長１８５ｎｍでの透過率が３％であり、波長２５４ｎｍでの透過率が８３％であり、かつ波長３００ｎｍでの透過率が９２％であるフィルタ（ＷＧ２２５、ＳＣＨＯＴＴ製）に代えたこと以外は、実施例１と同様にして、位相差フィルム、偏光板、及びＴＮモード液晶表示装置を作製した。偏光板作製時の鹸化処理前後の光学異方性層の膜厚及びＲｅ（６３３）を下記表に示す。
実施例１における光学異方性層の形成において、液晶化合物の塗布層とメタルハライドランプとの間に設けたフィルタをＷＧ２８０から、波長１８５ｎｍでの透過率が３％であり、波長２５４ｎｍでの透過率が８３％であり、かつ波長３００ｎｍでの透過率が９２％であるフィルタ（ＷＧ２２５、ＳＣＨＯＴＴ製）に代えたこと以外は、実施例１と同様にして、位相差フィルム、偏光板、及びＴＮモード液晶表示装置を作製した。偏光板作製時の鹸化処理前後の光学異方性層の膜厚及びＲｅ（６３３）を下記表に示す。
（比較例３）
実施例９における光学異方性層の形成において、液晶化合物の塗布層とメタルハライドランプとの間に設けたフィルタを取り除いたこと以外は、実施例９と同様にして、位相差フィルム、偏光板、及びＴＮモード液晶表示装置を作製した。偏光板作製時の鹸化処理前後の光学異方性層の膜厚及びＲｅ（６３３）を下記表に示す。
実施例９における光学異方性層の形成において、液晶化合物の塗布層とメタルハライドランプとの間に設けたフィルタを取り除いたこと以外は、実施例９と同様にして、位相差フィルム、偏光板、及びＴＮモード液晶表示装置を作製した。偏光板作製時の鹸化処理前後の光学異方性層の膜厚及びＲｅ（６３３）を下記表に示す。
（比較例４）
実施例９における光学異方性層の形成において、液晶化合物の塗布層とメタルハライドランプとの間に設けたフィルタをＷＧ２８０から、波長１８５ｎｍでの透過率が３％であり、波長２５４ｎｍでの透過率が８３％であり、かつ波長３００ｎｍでの透過率が９２％であるフィルタ（ＷＧ２２５、ＳＣＨＯＴＴ製）に変えたこと以外は、実施例９と同様にして、位相差フィルム、偏光板、及びＴＮモード液晶表示装置を作製した。偏光板作製時の鹸化処理前後の光学異方性層の膜厚及びＲｅ（６３３）を下記表に示す。
実施例９における光学異方性層の形成において、液晶化合物の塗布層とメタルハライドランプとの間に設けたフィルタをＷＧ２８０から、波長１８５ｎｍでの透過率が３％であり、波長２５４ｎｍでの透過率が８３％であり、かつ波長３００ｎｍでの透過率が９２％であるフィルタ（ＷＧ２２５、ＳＣＨＯＴＴ製）に変えたこと以外は、実施例９と同様にして、位相差フィルム、偏光板、及びＴＮモード液晶表示装置を作製した。偏光板作製時の鹸化処理前後の光学異方性層の膜厚及びＲｅ（６３３）を下記表に示す。
（比較例５）
実施例１７における光学異方性層の形成において、液晶化合物の塗布層とメタルハライドランプとの間に設けたフィルタを取り除いたこと以外は、実施例１７と同様にして、位相差フィルム、偏光板、及びＩＰＳモード液晶表示装置を作製した。偏光板作製時の鹸化処理前後の光学異方性層の膜厚及びＲｔｈ（５９０）を下記表に示す。
実施例１７における光学異方性層の形成において、液晶化合物の塗布層とメタルハライドランプとの間に設けたフィルタを取り除いたこと以外は、実施例１７と同様にして、位相差フィルム、偏光板、及びＩＰＳモード液晶表示装置を作製した。偏光板作製時の鹸化処理前後の光学異方性層の膜厚及びＲｔｈ（５９０）を下記表に示す。
（比較例６）
実施例１７における光学異方性層の形成において、液晶化合物の塗布層とメタルハライドランプとの間に設けたフィルタをＷＧ２８０から、波長１８５ｎｍでの透過率が３％であり、波長２５４ｎｍでの透過率が８３％であり、かつ波長３００ｎｍでの透過率が９２％であるフィルタ（ＷＧ２２５、ＳＣＨＯＴＴ製）に代えたこと以外は、実施例１７と同様にして、位相差フィルム、偏光板、及びＩＰＳモード液晶表示装置を作製した。偏光板作製時の鹸化処理前後の光学異方性層の膜厚及びＲｔｈ（５９０）を下記表に示す。
実施例１７における光学異方性層の形成において、液晶化合物の塗布層とメタルハライドランプとの間に設けたフィルタをＷＧ２８０から、波長１８５ｎｍでの透過率が３％であり、波長２５４ｎｍでの透過率が８３％であり、かつ波長３００ｎｍでの透過率が９２％であるフィルタ（ＷＧ２２５、ＳＣＨＯＴＴ製）に代えたこと以外は、実施例１７と同様にして、位相差フィルム、偏光板、及びＩＰＳモード液晶表示装置を作製した。偏光板作製時の鹸化処理前後の光学異方性層の膜厚及びＲｔｈ（５９０）を下記表に示す。
（実施例３１）
（１）位相差フィルムの作製
実施例１と同様にして、セルロースアシレートフィルムＣ１を作製し、同様にして鹸化処理した。
実施例１で調製したのと同一の組成の配向膜形成用塗布液（Ｏ２）を調製し、セルロースアシレートフィルムＣ１の鹸化処理面に、実施例１と同様にして塗布し、塗膜を形成した後、同様にしてラビング処理して配向膜を形成した。
（１）位相差フィルムの作製
実施例１と同様にして、セルロースアシレートフィルムＣ１を作製し、同様にして鹸化処理した。
実施例１で調製したのと同一の組成の配向膜形成用塗布液（Ｏ２）を調製し、セルロースアシレートフィルムＣ１の鹸化処理面に、実施例１と同様にして塗布し、塗膜を形成した後、同様にしてラビング処理して配向膜を形成した。
実施例１で調製したのと同一の組成の光学異方性層形成用塗布液（ＬＣ１）を調製した。
上記で得られたラビング処理を施したセルロースアシレートフィルムの配向膜上に、光学異方性層形成用塗布液（ＬＣ１）を、ワイヤーバーコーターで塗布した。その後、１２０℃の恒温槽中で１２０秒間加熱し、液晶性化合物を配向させた。次に、フィルムの温度を９５℃に保った状態で、波長１８５ｎｍでの透過率が０％であり、かつ波長３００ｎｍでの透過率が８４％であるオゾンレスガラス製の発光管を有するメタルハライドランプ（アイグラフィックス製）、即ちオゾンレスランプ、を用いて紫外線を照射し、液晶化合物の重合反応を進行させ、配向状態を固定し、光学異方性層を形成した。紫外線照射時の酸素濃度は２０％（２０万ｐｐｍ）であった。
上記で得られたラビング処理を施したセルロースアシレートフィルムの配向膜上に、光学異方性層形成用塗布液（ＬＣ１）を、ワイヤーバーコーターで塗布した。その後、１２０℃の恒温槽中で１２０秒間加熱し、液晶性化合物を配向させた。次に、フィルムの温度を９５℃に保った状態で、波長１８５ｎｍでの透過率が０％であり、かつ波長３００ｎｍでの透過率が８４％であるオゾンレスガラス製の発光管を有するメタルハライドランプ（アイグラフィックス製）、即ちオゾンレスランプ、を用いて紫外線を照射し、液晶化合物の重合反応を進行させ、配向状態を固定し、光学異方性層を形成した。紫外線照射時の酸素濃度は２０％（２０万ｐｐｍ）であった。
上記紫外線の３６５ｎｍにおける照度は２２０ｍＷ／ｃｍ2であり、照射量は３５０ｍＪ／ｃｍ2であった。
上記で得られた光学異方性層の厚さは８２０ｎｍであり、Ｒｅ（６３３）は４４ｎｍであった。
上記で得られた光学異方性層の厚さは８２０ｎｍであり、Ｒｅ（６３３）は４４ｎｍであった。
（２）偏光板の作製
厚さ８０μｍのポリビニルアルコール（ＰＶＡ）フィルムを、ヨウ素濃度０．０５質量％のヨウ素水溶液中に３０℃で６０秒浸漬して染色し、次いでホウ酸濃度４質量％濃度のホウ酸水溶液中に６０秒浸漬している間に元の長さの５倍に縦延伸した後、５０℃で４分間乾燥させて、厚さ２０μｍの偏光膜を得た。
作製した位相差フィルムを１．５モル／Ｌで５５℃の水酸化ナトリウム水溶液中に浸漬した後、水で十分に水酸化ナトリウムを洗い流した。その後、０．００５モル／Ｌで３５℃の希硫酸水溶液に１分間浸漬した後、水に浸漬して希硫酸水溶液を十分に洗い流し、最後に１２０℃で十分に乾燥させた。鹸化処理した位相差フィルムの光学異方性層の厚さは８０５ｎｍであり、Ｒｅ（６３３）は４３ｎｍであった。
上記のように鹸化処理を行った位相差フィルムの光学異方性層が形成されていない側の面をポリビニルアルコール系接着剤を用い上記偏光膜の一方の面に貼り合わせ、同じく鹸化処理を行った市販のセルロースアセテートフィルムをポリビニルアルコール系接着剤を用い上記偏光膜の他方の面に貼り合わせ偏光板を得た。ここで市販のセルロースアセテートフィルムとしてはフジタックＴＦ８０ＵＬ（富士フイルム（株）製）を用いた。
厚さ８０μｍのポリビニルアルコール（ＰＶＡ）フィルムを、ヨウ素濃度０．０５質量％のヨウ素水溶液中に３０℃で６０秒浸漬して染色し、次いでホウ酸濃度４質量％濃度のホウ酸水溶液中に６０秒浸漬している間に元の長さの５倍に縦延伸した後、５０℃で４分間乾燥させて、厚さ２０μｍの偏光膜を得た。
作製した位相差フィルムを１．５モル／Ｌで５５℃の水酸化ナトリウム水溶液中に浸漬した後、水で十分に水酸化ナトリウムを洗い流した。その後、０．００５モル／Ｌで３５℃の希硫酸水溶液に１分間浸漬した後、水に浸漬して希硫酸水溶液を十分に洗い流し、最後に１２０℃で十分に乾燥させた。鹸化処理した位相差フィルムの光学異方性層の厚さは８０５ｎｍであり、Ｒｅ（６３３）は４３ｎｍであった。
上記のように鹸化処理を行った位相差フィルムの光学異方性層が形成されていない側の面をポリビニルアルコール系接着剤を用い上記偏光膜の一方の面に貼り合わせ、同じく鹸化処理を行った市販のセルロースアセテートフィルムをポリビニルアルコール系接着剤を用い上記偏光膜の他方の面に貼り合わせ偏光板を得た。ここで市販のセルロースアセテートフィルムとしてはフジタックＴＦ８０ＵＬ（富士フイルム（株）製）を用いた。
（３）液晶表示装置の作製
ＴＮモード液晶セルを使用した液晶表示装置（ＡＬ２２１６Ｗ、日本エイサー（株）製）に設けられている一対の偏光板を剥がし、代わりに上記偏光板を、光学異方性層が液晶セル側となるように粘着剤を介して、観察者側及びバックライト側に一枚ずつ貼り付けた。このとき、観察者側の偏光板の吸収軸と、バックライト側の偏光板の吸収軸とが直交するように配置した。この様にしてＴＮモード液晶表示装置を作製した。
ＴＮモード液晶セルを使用した液晶表示装置（ＡＬ２２１６Ｗ、日本エイサー（株）製）に設けられている一対の偏光板を剥がし、代わりに上記偏光板を、光学異方性層が液晶セル側となるように粘着剤を介して、観察者側及びバックライト側に一枚ずつ貼り付けた。このとき、観察者側の偏光板の吸収軸と、バックライト側の偏光板の吸収軸とが直交するように配置した。この様にしてＴＮモード液晶表示装置を作製した。
（実施例３２）
実施例３１における光学異方性層の形成において、液晶化合物の塗布層とメタルハライドランプとの間に、波長１８５ｎｍでの透過率が０％であり、波長２５４ｎｍでの透過率が５％であり、かつ波長３００ｎｍでの透過率が８０％であるフィルタ（Ｓ−ＦＰＬ５１Ｙ、（株）オハラ製）を設け、上記フィルタを透過した紫外線で液晶化合物の重合反応を進行させたこと以外は、実施例３１と同様にして、位相差フィルム、偏光板、及びＴＮモード液晶表示装置を作製した。なお、上記のフィルタを透過した紫外線の３６５ｎｍにおける照度は２２０ｍＷ／ｃｍ2であり、照射量は３５０ｍＪ／ｃｍ2であった。
偏光板作製時の鹸化処理前後の光学異方性層の膜厚及びＲｅ（６３３）を下記表に示す。
実施例３１における光学異方性層の形成において、液晶化合物の塗布層とメタルハライドランプとの間に、波長１８５ｎｍでの透過率が０％であり、波長２５４ｎｍでの透過率が５％であり、かつ波長３００ｎｍでの透過率が８０％であるフィルタ（Ｓ−ＦＰＬ５１Ｙ、（株）オハラ製）を設け、上記フィルタを透過した紫外線で液晶化合物の重合反応を進行させたこと以外は、実施例３１と同様にして、位相差フィルム、偏光板、及びＴＮモード液晶表示装置を作製した。なお、上記のフィルタを透過した紫外線の３６５ｎｍにおける照度は２２０ｍＷ／ｃｍ2であり、照射量は３５０ｍＪ／ｃｍ2であった。
偏光板作製時の鹸化処理前後の光学異方性層の膜厚及びＲｅ（６３３）を下記表に示す。
（実施例３３）
実施例３２における光学異方性層の形成において、液晶化合物の塗布層とメタルハライドランプとの間に設けたフィルタを、波長１８５ｎｍでの透過率が０％であり、波長２５４ｎｍでの透過率が８４％であり、かつ波長３００ｎｍでの透過率が９２％であるフィルタ（Ｍ２３５、信越石英（株）製）に代えたこと以外は、実施例３２と同様にして、位相差フィルム、偏光板、及びＴＮモード液晶表示装置を作製した。偏光板作製時の鹸化処理前後の光学異方性層の膜厚及びＲｅ（６３３）を下記表に示す。
実施例３２における光学異方性層の形成において、液晶化合物の塗布層とメタルハライドランプとの間に設けたフィルタを、波長１８５ｎｍでの透過率が０％であり、波長２５４ｎｍでの透過率が８４％であり、かつ波長３００ｎｍでの透過率が９２％であるフィルタ（Ｍ２３５、信越石英（株）製）に代えたこと以外は、実施例３２と同様にして、位相差フィルム、偏光板、及びＴＮモード液晶表示装置を作製した。偏光板作製時の鹸化処理前後の光学異方性層の膜厚及びＲｅ（６３３）を下記表に示す。
（実施例３４）
実施例３２における光学異方性層の形成において、液晶化合物の塗布層とメタルハライドランプとの間に設けたフィルタを、波長１８５ｎｍでの透過率が３％であり、波長２５４ｎｍでの透過率が８３％であり、かつ波長３００ｎｍでの透過率が９２％であるフィルタ（ＷＧ２２５、ＳＣＨＯＴＴ製）に代えたこと以外は、実施例３２と同様にして、位相差フィルム、偏光板、及びＴＮモード液晶表示装置を作製した。偏光板作製時の鹸化処理前後の光学異方性層の膜厚及びＲｅ（６３３）を下記表に示す。
実施例３２における光学異方性層の形成において、液晶化合物の塗布層とメタルハライドランプとの間に設けたフィルタを、波長１８５ｎｍでの透過率が３％であり、波長２５４ｎｍでの透過率が８３％であり、かつ波長３００ｎｍでの透過率が９２％であるフィルタ（ＷＧ２２５、ＳＣＨＯＴＴ製）に代えたこと以外は、実施例３２と同様にして、位相差フィルム、偏光板、及びＴＮモード液晶表示装置を作製した。偏光板作製時の鹸化処理前後の光学異方性層の膜厚及びＲｅ（６３３）を下記表に示す。
（実施例３５）
実施例３１における光学異方性層の形成において、紫外線照射時の酸素濃度を、２０万ｐｐｍから窒素パージにより１０，０００ｐｐｍ〜１，０００ｐｐｍの間に保ったこと以外は、実施例３１と同様にして、位相差フィルム、偏光板、及びＴＮモード液晶表示装置を作製した。偏光板作製時の鹸化処理前後の光学異方性層の膜厚及びＲｅ（６３３）を下記表に示す。
実施例３１における光学異方性層の形成において、紫外線照射時の酸素濃度を、２０万ｐｐｍから窒素パージにより１０，０００ｐｐｍ〜１，０００ｐｐｍの間に保ったこと以外は、実施例３１と同様にして、位相差フィルム、偏光板、及びＴＮモード液晶表示装置を作製した。偏光板作製時の鹸化処理前後の光学異方性層の膜厚及びＲｅ（６３３）を下記表に示す。
（実施例３６）
実施例３１における光学異方性層の形成において、紫外線照射時の酸素濃度を、２０万ｐｐｍから窒素パージにより１，０００ｐｐｍ〜１００ｐｐｍの間に保ったこと以外は、実施例３１と同様にして、位相差フィルム、偏光板、及びＴＮモード液晶表示装置を作製した。偏光板作製時の鹸化処理前後の光学異方性層の膜厚及びＲｅ（６３３）を下記表に示す。
実施例３１における光学異方性層の形成において、紫外線照射時の酸素濃度を、２０万ｐｐｍから窒素パージにより１，０００ｐｐｍ〜１００ｐｐｍの間に保ったこと以外は、実施例３１と同様にして、位相差フィルム、偏光板、及びＴＮモード液晶表示装置を作製した。偏光板作製時の鹸化処理前後の光学異方性層の膜厚及びＲｅ（６３３）を下記表に示す。
（実施例３７）
実施例３１における光学異方性層の形成において、光学異方性層形成用塗布液をＬＣ１から、実施例９で調製したのと同一の組成の光学異方性層形成用塗布液ＬＣ２に代えたこと、及び液晶化合物を加熱して配向させるために用いた恒温槽の温度を１２０℃から１４０℃に代えたこと以外は、実施例３１と同様にして、位相差フィルム、偏光板、及びＴＮモード液晶表示装置を作製した。偏光板作製時の鹸化処理前後の光学異方性層の膜厚及びＲｅ（６３３）を下記表に示す。
実施例３１における光学異方性層の形成において、光学異方性層形成用塗布液をＬＣ１から、実施例９で調製したのと同一の組成の光学異方性層形成用塗布液ＬＣ２に代えたこと、及び液晶化合物を加熱して配向させるために用いた恒温槽の温度を１２０℃から１４０℃に代えたこと以外は、実施例３１と同様にして、位相差フィルム、偏光板、及びＴＮモード液晶表示装置を作製した。偏光板作製時の鹸化処理前後の光学異方性層の膜厚及びＲｅ（６３３）を下記表に示す。
（実施例３８）
実施例３７における光学異方性層の形成において、液晶化合物の塗布層とメタルハライドランプとの間に波長１８５ｎｍでの透過率が０％であり、波長２５４ｎｍでの透過率が５％であり、かつ波長３００ｎｍでの透過率が８０％であるフィルタ（Ｓ−ＦＰＬ５１Ｙ、（株）オハラ製）を設け、上記のフィルタを透過した紫外線で液晶化合物の重合反応を進行させたこと以外は、実施例３４と同様にして、位相差フィルム、偏光板、及びＴＮモード液晶表示装置を作製した。なお、上記のフィルタを透過した紫外線の３６５ｎｍにおける照度は２２０ｍＷ／ｃｍ２であり、照射量は３５０ｍＪ／ｃｍ2であった。
偏光板作製時の鹸化処理前後の光学異方性層の膜厚及びＲｅ（６３３）を下記表に示す。
実施例３７における光学異方性層の形成において、液晶化合物の塗布層とメタルハライドランプとの間に波長１８５ｎｍでの透過率が０％であり、波長２５４ｎｍでの透過率が５％であり、かつ波長３００ｎｍでの透過率が８０％であるフィルタ（Ｓ−ＦＰＬ５１Ｙ、（株）オハラ製）を設け、上記のフィルタを透過した紫外線で液晶化合物の重合反応を進行させたこと以外は、実施例３４と同様にして、位相差フィルム、偏光板、及びＴＮモード液晶表示装置を作製した。なお、上記のフィルタを透過した紫外線の３６５ｎｍにおける照度は２２０ｍＷ／ｃｍ２であり、照射量は３５０ｍＪ／ｃｍ2であった。
偏光板作製時の鹸化処理前後の光学異方性層の膜厚及びＲｅ（６３３）を下記表に示す。
（実施例３９）
実施例３８における光学異方性層の形成において、液晶化合物の塗布層とメタルハライドランプとの間に設けたフィルタを、波長１８５ｎｍでの透過率が０％であり、波長２５４ｎｍでの透過率が８４％であり、かつ波長３００ｎｍでの透過率が９２％であるフィルタ（Ｍ２３５、信越石英（株）製）に代えたこと以外は、実施例３８と同様にして、位相差フィルム、偏光板、及びＴＮモード液晶表示装置を作製した。偏光板作製時の鹸化処理前後の光学異方性層の膜厚及びＲｅ（６３３）を下記表に示す。
実施例３８における光学異方性層の形成において、液晶化合物の塗布層とメタルハライドランプとの間に設けたフィルタを、波長１８５ｎｍでの透過率が０％であり、波長２５４ｎｍでの透過率が８４％であり、かつ波長３００ｎｍでの透過率が９２％であるフィルタ（Ｍ２３５、信越石英（株）製）に代えたこと以外は、実施例３８と同様にして、位相差フィルム、偏光板、及びＴＮモード液晶表示装置を作製した。偏光板作製時の鹸化処理前後の光学異方性層の膜厚及びＲｅ（６３３）を下記表に示す。
（実施例４０）
実施例３８における光学異方性層の形成において、液晶化合物の塗布層とメタルハライドランプとの間に設けたフィルタを、波長１８５ｎｍでの透過率が３％であり、波長２５４ｎｍでの透過率が８３％であり、かつ波長３００ｎｍでの透過率が９２％であるフィルタ（ＷＧ２２５、ＳＣＨＯＴＴ製）に代えたこと以外は、実施例３８と同様にして、位相差フィルム、偏光板、及びＴＮモード液晶表示装置を作製した。偏光板作製時の鹸化処理前後の光学異方性層の膜厚及びＲｅ（６３３）を下記表に示す。
実施例３８における光学異方性層の形成において、液晶化合物の塗布層とメタルハライドランプとの間に設けたフィルタを、波長１８５ｎｍでの透過率が３％であり、波長２５４ｎｍでの透過率が８３％であり、かつ波長３００ｎｍでの透過率が９２％であるフィルタ（ＷＧ２２５、ＳＣＨＯＴＴ製）に代えたこと以外は、実施例３８と同様にして、位相差フィルム、偏光板、及びＴＮモード液晶表示装置を作製した。偏光板作製時の鹸化処理前後の光学異方性層の膜厚及びＲｅ（６３３）を下記表に示す。
（実施例４１）
実施例３７における光学異方性層の形成において、紫外線照射時の酸素濃度を、２０万ｐｐｍから窒素パージにより１０，０００ｐｐｍ〜１，０００ｐｐｍの間に保ったこと以外は、実施例３４と同様にして、位相差フィルム、偏光板、及びＴＮモード液晶表示装置を作製した。偏光板作製時の鹸化処理前後の光学異方性層の膜厚及びＲｅ（６３３）を下記表に示す。
実施例３７における光学異方性層の形成において、紫外線照射時の酸素濃度を、２０万ｐｐｍから窒素パージにより１０，０００ｐｐｍ〜１，０００ｐｐｍの間に保ったこと以外は、実施例３４と同様にして、位相差フィルム、偏光板、及びＴＮモード液晶表示装置を作製した。偏光板作製時の鹸化処理前後の光学異方性層の膜厚及びＲｅ（６３３）を下記表に示す。
（実施例４２）
実施例３７における光学異方性層の形成において、紫外線照射時の酸素濃度を、２０万ｐｐｍから窒素パージにより１，０００ｐｐｍ〜１００ｐｐｍの間に保ったこと以外は、実施例３７と同様にして、位相差フィルム、偏光板、及びＴＮモード液晶表示装置を作製した。偏光板作製時の鹸化処理前後の光学異方性層の膜厚及びＲｅ（６３３）を下記表に示す。
実施例３７における光学異方性層の形成において、紫外線照射時の酸素濃度を、２０万ｐｐｍから窒素パージにより１，０００ｐｐｍ〜１００ｐｐｍの間に保ったこと以外は、実施例３７と同様にして、位相差フィルム、偏光板、及びＴＮモード液晶表示装置を作製した。偏光板作製時の鹸化処理前後の光学異方性層の膜厚及びＲｅ（６３３）を下記表に示す。
（実施例４３）
（１）第１の位相差フィルムの作製
実施例１７の第１の位相差フィルムの作製と同様にして、セルロースアセテートフィルム（Ｃ２）を作製した。
実施例１と同様にして、上記で得られたセルロースアセテートフィルム（Ｃ２）に鹸化処理、配向膜の形成、及びラビング処理を実施した。
（１）第１の位相差フィルムの作製
実施例１７の第１の位相差フィルムの作製と同様にして、セルロースアセテートフィルム（Ｃ２）を作製した。
実施例１と同様にして、上記で得られたセルロースアセテートフィルム（Ｃ２）に鹸化処理、配向膜の形成、及びラビング処理を実施した。
実施例１７で調製したのと同一の組成の光学異方性層形成用塗布液（ＬＣ３）を調製した。
上記で得られたラビング処理を施したセルロースアセテートフィルム（Ｃ２）の配向膜上に、光学異方性層形成用塗布液（ＬＣ３）を、（＃５．０の）ワイヤーバーコーターで塗布した。その後、８０℃の恒温槽中で１２０秒間加熱し、液晶性化合物を配向させた。次に、フィルムの温度を６０℃に保った状態で、波長１８５ｎｍでの透過率が０％であり、かつ波長３００ｎｍでの透過率が８４％であるオゾンレスガラス製の発光管を有するメタルハライドランプ（アイグラフィックス製）、即ちオゾンレスランプ、を用いて紫外線を照射し、液晶化合物の重合反応を進行させ、配向状態を固定し、光学異方性層を形成した。紫外線照射時の酸素濃度は２０％（２０万ｐｐｍ）であった。
上記紫外線の３６５ｎｍにおける照度は２２０ｍＷ／ｃｍ2であり、照射量は３５０ｍＪ／ｃｍ2であった。
上記で得られたラビング処理を施したセルロースアセテートフィルム（Ｃ２）の配向膜上に、光学異方性層形成用塗布液（ＬＣ３）を、（＃５．０の）ワイヤーバーコーターで塗布した。その後、８０℃の恒温槽中で１２０秒間加熱し、液晶性化合物を配向させた。次に、フィルムの温度を６０℃に保った状態で、波長１８５ｎｍでの透過率が０％であり、かつ波長３００ｎｍでの透過率が８４％であるオゾンレスガラス製の発光管を有するメタルハライドランプ（アイグラフィックス製）、即ちオゾンレスランプ、を用いて紫外線を照射し、液晶化合物の重合反応を進行させ、配向状態を固定し、光学異方性層を形成した。紫外線照射時の酸素濃度は２０％（２０万ｐｐｍ）であった。
上記紫外線の３６５ｎｍにおける照度は２２０ｍＷ／ｃｍ2であり、照射量は３５０ｍＪ／ｃｍ2であった。
上記で得られた光学異方性層の厚さは２６８０ｎｍであり、面内レターデーション（Ｒｅ（５９０））は０ｎｍ、厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ（５９０））は−２６０ｎｍであった。また、棒状液晶分子がフィルム面に対して実質的に垂直配向している光学異方性層が形成されていることが確認できた。
（２）第２の位相差フィルムの作製
実施例１７と同様にして、セルロースアセテートフィルム（Ｃ３）を作製し、これを第２の位相差フィルムとして用いた。
実施例１７と同様にして、セルロースアセテートフィルム（Ｃ３）を作製し、これを第２の位相差フィルムとして用いた。
（３）偏光板の作製
実施例２５と同様にして、第１の位相差フィルムに鹸化処理をおこなった。鹸化処理した位相差フィルムの光学異方性層の厚さは２５６０ｎｍであり、Ｒｔｈ（５９０）は−２１８ｎｍであった。
鹸化処理をおこなった第１の位相差フィルムの光学異方性層が形成されていない側の面をポリビニルアルコール系接着剤を用い、実施例１と同様にして作製した偏光膜の一方の面に貼り合わせ、同じく実施例２５と同様に鹸化処理を行った市販のセルロースアセテートフィルムをポリビニルアルコール系接着剤を用い上記偏光膜の他方の面に貼り合わせ偏光板ＰＮ１を得た。
このとき、偏光膜の吸収軸は延伸方向に対して平行であり、かつ、偏光膜の吸収軸と第２の光学異方性層の遅相軸とがなす角は９０°であった。
実施例２５と同様にして、第２の位相差フィルムに鹸化処理をおこなった。鹸化処理をおこなった第２の位相差フィルムをポリビニルアルコール系接着剤を用い、実施例２５と同様にして作製した偏光膜の一方の面に貼り合わせ、同じく実施例１と同様に鹸化処理を行った市販のセルロースアセテートフィルムをポリビニルアルコール系接着剤を用い上記偏光膜の他方の面に貼り合わせ偏光板ＰＮ２を得た。
実施例２５と同様にして、第１の位相差フィルムに鹸化処理をおこなった。鹸化処理した位相差フィルムの光学異方性層の厚さは２５６０ｎｍであり、Ｒｔｈ（５９０）は−２１８ｎｍであった。
鹸化処理をおこなった第１の位相差フィルムの光学異方性層が形成されていない側の面をポリビニルアルコール系接着剤を用い、実施例１と同様にして作製した偏光膜の一方の面に貼り合わせ、同じく実施例２５と同様に鹸化処理を行った市販のセルロースアセテートフィルムをポリビニルアルコール系接着剤を用い上記偏光膜の他方の面に貼り合わせ偏光板ＰＮ１を得た。
このとき、偏光膜の吸収軸は延伸方向に対して平行であり、かつ、偏光膜の吸収軸と第２の光学異方性層の遅相軸とがなす角は９０°であった。
実施例２５と同様にして、第２の位相差フィルムに鹸化処理をおこなった。鹸化処理をおこなった第２の位相差フィルムをポリビニルアルコール系接着剤を用い、実施例２５と同様にして作製した偏光膜の一方の面に貼り合わせ、同じく実施例１と同様に鹸化処理を行った市販のセルロースアセテートフィルムをポリビニルアルコール系接着剤を用い上記偏光膜の他方の面に貼り合わせ偏光板ＰＮ２を得た。
（４）液晶表示装置の作製
電圧無印加状態及び黒表示時では液晶分子はガラス基板間で実質的に平行配向しており、その遅相軸方向は画面に対して水平方向であるＩＰＳモードの液晶表示装置（ＴＨ-３２ＬＸ５００（松下電器産業（株）製））に設けられている一対の偏光板及び光学フィルムを剥した。
上記の平行配向セルの上下のガラス基板に、上記作製した偏光板（ＰＮ１及びＰＮ２）を粘着剤を用いて貼り合わせた。このとき、バックライト側の偏光板にＰＮ１を配置し、視認者側にＰＮ２を配置し、偏光板ＰＮ１に含まれる第1の光学異方性層がバックライト側のガラス基板に接するように、また、偏光板ＰＮ２に含まれるセルロースアセテートフィルムＣ３が視認者側のガラス基板に接するように貼り合わせた。また、偏光板ＰＮ１の吸収軸と液晶セルの遅相軸が直交するようにし、偏光板ＰＮ１と偏光板ＰＮ２の吸収軸は直交するように配置した。このようにして偏光板を貼り合せた液晶セルを、再度、液晶テレビＴＨ-３２ＬＸ５００に組み込み、液晶表示装置を作製した。
電圧無印加状態及び黒表示時では液晶分子はガラス基板間で実質的に平行配向しており、その遅相軸方向は画面に対して水平方向であるＩＰＳモードの液晶表示装置（ＴＨ-３２ＬＸ５００（松下電器産業（株）製））に設けられている一対の偏光板及び光学フィルムを剥した。
上記の平行配向セルの上下のガラス基板に、上記作製した偏光板（ＰＮ１及びＰＮ２）を粘着剤を用いて貼り合わせた。このとき、バックライト側の偏光板にＰＮ１を配置し、視認者側にＰＮ２を配置し、偏光板ＰＮ１に含まれる第1の光学異方性層がバックライト側のガラス基板に接するように、また、偏光板ＰＮ２に含まれるセルロースアセテートフィルムＣ３が視認者側のガラス基板に接するように貼り合わせた。また、偏光板ＰＮ１の吸収軸と液晶セルの遅相軸が直交するようにし、偏光板ＰＮ１と偏光板ＰＮ２の吸収軸は直交するように配置した。このようにして偏光板を貼り合せた液晶セルを、再度、液晶テレビＴＨ-３２ＬＸ５００に組み込み、液晶表示装置を作製した。
（実施例４４）
実施例４３における光学異方性層の形成において、液晶化合物の塗布層とメタルハライドランプとの間に波長１８５ｎｍでの透過率が０％であり、波長２５４ｎｍでの透過率が５％であり、かつ波長３００ｎｍでの透過率が８０％であるフィルタ（Ｓ−ＦＰＬ５１Ｙ、（株）オハラ製）を設け、上記のフィルタを透過した紫外線で液晶化合物の重合反応を進行させたこと以外は、実施例４３と同様にして、位相差フィルム、偏光板、及びＴＮモード液晶表示装置を作製した。なお、上記のフィルタを透過した紫外線の３６５ｎｍにおける照度は２２０ｍＷ／ｃｍ2であり、照射量は３５０ｍＪ／ｃｍ2であった。
偏光板作製時の鹸化処理前後の光学異方性層の膜厚及びＲｅ（６３３）を下記表に示す。
実施例４３における光学異方性層の形成において、液晶化合物の塗布層とメタルハライドランプとの間に波長１８５ｎｍでの透過率が０％であり、波長２５４ｎｍでの透過率が５％であり、かつ波長３００ｎｍでの透過率が８０％であるフィルタ（Ｓ−ＦＰＬ５１Ｙ、（株）オハラ製）を設け、上記のフィルタを透過した紫外線で液晶化合物の重合反応を進行させたこと以外は、実施例４３と同様にして、位相差フィルム、偏光板、及びＴＮモード液晶表示装置を作製した。なお、上記のフィルタを透過した紫外線の３６５ｎｍにおける照度は２２０ｍＷ／ｃｍ2であり、照射量は３５０ｍＪ／ｃｍ2であった。
偏光板作製時の鹸化処理前後の光学異方性層の膜厚及びＲｅ（６３３）を下記表に示す。
（実施例４５）
実施例４４における光学異方性層の形成において、液晶化合物の塗布層とメタルハライドランプとの間に設けたフィルタを、波長１８５ｎｍでの透過率が０％であり、波長２５４ｎｍでの透過率が８４％であり、かつ波長３００ｎｍでの透過率が９２％であるフィルタ（Ｍ２３５、信越石英（株）製）に代えたこと以外は、実施例４４と同様にして、位相差フィルム、偏光板、及びＴＮモード液晶表示装置を作製した。偏光板作製時の鹸化処理前後の光学異方性層の膜厚及びＲｅ（６３３）を下記表に示す。
実施例４４における光学異方性層の形成において、液晶化合物の塗布層とメタルハライドランプとの間に設けたフィルタを、波長１８５ｎｍでの透過率が０％であり、波長２５４ｎｍでの透過率が８４％であり、かつ波長３００ｎｍでの透過率が９２％であるフィルタ（Ｍ２３５、信越石英（株）製）に代えたこと以外は、実施例４４と同様にして、位相差フィルム、偏光板、及びＴＮモード液晶表示装置を作製した。偏光板作製時の鹸化処理前後の光学異方性層の膜厚及びＲｅ（６３３）を下記表に示す。
（実施例４６）
実施例４４における光学異方性層の形成において、液晶化合物の塗布層とメタルハライドランプとの間に設けたフィルタを、波長１８５ｎｍでの透過率が３％であり、波長２５４ｎｍでの透過率が８３％であり、かつ波長３００ｎｍでの透過率が９２％であるフィルタ（ＷＧ２２５、ＳＣＨＯＴＴ製）に代えたこと以外は、実施例４４と同様にして、位相差フィルム、偏光板、及びＴＮモード液晶表示装置を作製した。偏光板作製時の鹸化処理前後の光学異方性層の膜厚及びＲｅ（６３３）を下記表に示す。
実施例４４における光学異方性層の形成において、液晶化合物の塗布層とメタルハライドランプとの間に設けたフィルタを、波長１８５ｎｍでの透過率が３％であり、波長２５４ｎｍでの透過率が８３％であり、かつ波長３００ｎｍでの透過率が９２％であるフィルタ（ＷＧ２２５、ＳＣＨＯＴＴ製）に代えたこと以外は、実施例４４と同様にして、位相差フィルム、偏光板、及びＴＮモード液晶表示装置を作製した。偏光板作製時の鹸化処理前後の光学異方性層の膜厚及びＲｅ（６３３）を下記表に示す。
（実施例４７）
実施例４３における光学異方性層の形成において、紫外線照射時の酸素濃度を、２０万ｐｐｍから窒素パージにより１０，０００ｐｐｍ〜１，０００ｐｐｍの間に保ったこと以外は、実施例４３と同様にして、位相差フィルム、偏光板、及びＴＮモード液晶表示装置を作製した。偏光板作製時の鹸化処理前後の光学異方性層の膜厚及びＲｅ（６３３）を下記表に示す。
実施例４３における光学異方性層の形成において、紫外線照射時の酸素濃度を、２０万ｐｐｍから窒素パージにより１０，０００ｐｐｍ〜１，０００ｐｐｍの間に保ったこと以外は、実施例４３と同様にして、位相差フィルム、偏光板、及びＴＮモード液晶表示装置を作製した。偏光板作製時の鹸化処理前後の光学異方性層の膜厚及びＲｅ（６３３）を下記表に示す。
（実施例４８）
実施例４３における光学異方性層の形成において、紫外線照射時の酸素濃度を、２０万ｐｐｍから窒素パージにより１，０００ｐｐｍ〜１００ｐｐｍの間に保ったこと以外は、実施例４３と同様にして、位相差フィルム、偏光板、及びＴＮモード液晶表示装置を作製した。偏光板作製時の鹸化処理前後の光学異方性層の膜厚及びＲｅ（６３３）を下記表に示す。
実施例４３における光学異方性層の形成において、紫外線照射時の酸素濃度を、２０万ｐｐｍから窒素パージにより１，０００ｐｐｍ〜１００ｐｐｍの間に保ったこと以外は、実施例４３と同様にして、位相差フィルム、偏光板、及びＴＮモード液晶表示装置を作製した。偏光板作製時の鹸化処理前後の光学異方性層の膜厚及びＲｅ（６３３）を下記表に示す。
（実施例４９）
（１）位相差フィルムの作製
実施例１と同様にして、セルロースアシレートフィルムＣ１を作製し、同様にして鹸化処理した。
実施例１で調製したのと同一の組成の配向膜形成用塗布液（Ｏ２）を調製し、セルロースアシレートフィルムＣ１の鹸化処理面に、実施例１と同様にして塗布し、塗膜を形成した後、同様にしてラビング処理して配向膜を形成した。
（１）位相差フィルムの作製
実施例１と同様にして、セルロースアシレートフィルムＣ１を作製し、同様にして鹸化処理した。
実施例１で調製したのと同一の組成の配向膜形成用塗布液（Ｏ２）を調製し、セルロースアシレートフィルムＣ１の鹸化処理面に、実施例１と同様にして塗布し、塗膜を形成した後、同様にしてラビング処理して配向膜を形成した。
実施例１で調製したのと同一の組成の光学異方性層形成用塗布液（ＬＣ１）を調製した。
上記で得られたラビング処理を施したセルロースアシレートフィルムの配向膜上に、光学異方性層形成用塗布液（ＬＣ１）を、ワイヤーバーコーターで塗布した。その後、１２０℃の恒温槽中で１２０秒間加熱し、液晶性化合物を配向させた。次に、フィルムの温度を９５℃に保ち、窒素パージにより酸素濃度を１０，０００ｐｐｍ〜１，０００ｐｐｍの間に保った状態で、１８５ｎｍでの透過率が０％であり、かつ３００ｎｍでの透過率が８４％であるオゾンレスガラス製の発光管を有するメタルハライドランプ（アイグラフィックス製）を用いて紫外線を照射し、液晶化合物の重合反応を進行させ、配向状態を固定し、光学異方性層を形成した。
上記で得られたラビング処理を施したセルロースアシレートフィルムの配向膜上に、光学異方性層形成用塗布液（ＬＣ１）を、ワイヤーバーコーターで塗布した。その後、１２０℃の恒温槽中で１２０秒間加熱し、液晶性化合物を配向させた。次に、フィルムの温度を９５℃に保ち、窒素パージにより酸素濃度を１０，０００ｐｐｍ〜１，０００ｐｐｍの間に保った状態で、１８５ｎｍでの透過率が０％であり、かつ３００ｎｍでの透過率が８４％であるオゾンレスガラス製の発光管を有するメタルハライドランプ（アイグラフィックス製）を用いて紫外線を照射し、液晶化合物の重合反応を進行させ、配向状態を固定し、光学異方性層を形成した。
上記紫外線の３６５ｎｍにおける照度は２２０ｍＷ／ｃｍ2であり、照射量は３５０ｍＪ／ｃｍ2であった。
上記で得られた光学異方性層の厚さは８２０ｎｍであり、Ｒｅ（６３３）は４４ｎｍであった。
上記で得られた光学異方性層の厚さは８２０ｎｍであり、Ｒｅ（６３３）は４４ｎｍであった。
（２）偏光板の作製
厚さ８０μｍのポリビニルアルコール（ＰＶＡ）フィルムを、ヨウ素濃度０．０５質量％のヨウ素水溶液中に３０℃で６０秒浸漬して染色し、次いでホウ酸濃度４質量％濃度のホウ酸水溶液中に６０秒浸漬している間に元の長さの５倍に縦延伸した後、５０℃で４分間乾燥させて、厚さ２０μｍの偏光膜を得た。
作製した位相差フィルムを１．５モル／Ｌで５５℃の水酸化ナトリウム水溶液中に浸漬した後、水で十分に水酸化ナトリウムを洗い流した。その後、０．００５モル／Ｌで３５℃の希硫酸水溶液に１分間浸漬した後、水に浸漬して希硫酸水溶液を十分に洗い流し、最後に１２０℃で十分に乾燥させた。鹸化処理した位相差フィルムの光学異方性層の厚さは８０５ｎｍであり、Ｒｅ（６３３）は４３ｎｍであった。
上記のように鹸化処理を行った位相差フィルムの光学異方性層が形成されていない側の面をポリビニルアルコール系接着剤を用い上記偏光膜の一方の面に貼り合わせ、同じく鹸化処理を行った市販のセルロースアセテートフィルムをポリビニルアルコール系接着剤を用い上記偏光膜の他方の面に貼り合わせ偏光板を得た。ここで市販のセルロースアセテートフィルムとしてはフジタックＴＦ８０ＵＬ（富士フイルム（株）製）を用いた。
厚さ８０μｍのポリビニルアルコール（ＰＶＡ）フィルムを、ヨウ素濃度０．０５質量％のヨウ素水溶液中に３０℃で６０秒浸漬して染色し、次いでホウ酸濃度４質量％濃度のホウ酸水溶液中に６０秒浸漬している間に元の長さの５倍に縦延伸した後、５０℃で４分間乾燥させて、厚さ２０μｍの偏光膜を得た。
作製した位相差フィルムを１．５モル／Ｌで５５℃の水酸化ナトリウム水溶液中に浸漬した後、水で十分に水酸化ナトリウムを洗い流した。その後、０．００５モル／Ｌで３５℃の希硫酸水溶液に１分間浸漬した後、水に浸漬して希硫酸水溶液を十分に洗い流し、最後に１２０℃で十分に乾燥させた。鹸化処理した位相差フィルムの光学異方性層の厚さは８０５ｎｍであり、Ｒｅ（６３３）は４３ｎｍであった。
上記のように鹸化処理を行った位相差フィルムの光学異方性層が形成されていない側の面をポリビニルアルコール系接着剤を用い上記偏光膜の一方の面に貼り合わせ、同じく鹸化処理を行った市販のセルロースアセテートフィルムをポリビニルアルコール系接着剤を用い上記偏光膜の他方の面に貼り合わせ偏光板を得た。ここで市販のセルロースアセテートフィルムとしてはフジタックＴＦ８０ＵＬ（富士フイルム（株）製）を用いた。
（３）液晶表示装置の作製
ＴＮモード液晶セルを使用した液晶表示装置（ＡＬ２２１６Ｗ、日本エイサー（株）製）に設けられている一対の偏光板を剥がし、代わりに上記偏光板を、光学異方性層が液晶セル側となるように粘着剤を介して、観察者側及びバックライト側に一枚ずつ貼り付けた。このとき、観察者側の偏光板の吸収軸と、バックライト側の偏光板の吸収軸とが直交するように配置した。この様にしてＴＮモード液晶表示装置を作製した。
ＴＮモード液晶セルを使用した液晶表示装置（ＡＬ２２１６Ｗ、日本エイサー（株）製）に設けられている一対の偏光板を剥がし、代わりに上記偏光板を、光学異方性層が液晶セル側となるように粘着剤を介して、観察者側及びバックライト側に一枚ずつ貼り付けた。このとき、観察者側の偏光板の吸収軸と、バックライト側の偏光板の吸収軸とが直交するように配置した。この様にしてＴＮモード液晶表示装置を作製した。
（実施例５０）
実施例４９における光学異方性層の形成において、紫外線照射時の酸素濃度を、１０，０００ｐｐｍ〜１，０００ｐｐｍから窒素パージにより１，０００ｐｐｍ〜１００ｐｐｍの間に保ったこと以外は、実施例５２と同様にして、位相差フィルム、偏光板、及びＴＮモード液晶表示装置を作製した。偏光板作製時の鹸化処理前後の光学異方性層の膜厚及びＲｅ（６３３）を下記表に示す。
実施例４９における光学異方性層の形成において、紫外線照射時の酸素濃度を、１０，０００ｐｐｍ〜１，０００ｐｐｍから窒素パージにより１，０００ｐｐｍ〜１００ｐｐｍの間に保ったこと以外は、実施例５２と同様にして、位相差フィルム、偏光板、及びＴＮモード液晶表示装置を作製した。偏光板作製時の鹸化処理前後の光学異方性層の膜厚及びＲｅ（６３３）を下記表に示す。
（実施例５１）
実施例５０における光学異方性層の形成において、液晶化合物の塗布層とメタルハライドランプとの間に波長１８５ｎｍでの透過率が０％であり、波長２５４ｎｍでの透過率が５％であり、かつ波長３００ｎｍでの透過率が８０％であるフィルタ（Ｓ−ＦＰＬ５１Ｙ、（株）オハラ製）を設け、上記のフィルタを透過した紫外線で液晶化合物の重合反応を進行させたこと以外は、実施例５０と同様にして、位相差フィルム、偏光板、及びＴＮモード液晶表示装置を作製した。なお、上記のフィルタを透過した紫外線の３６５ｎｍにおける照度は２２０ｍＷ／ｃｍ2であり、照射量は３５０ｍＪ／ｃｍ2であった。
偏光板作製時の鹸化処理前後の光学異方性層の膜厚及びＲｅ（６３３）を下記表に示す。
実施例５０における光学異方性層の形成において、液晶化合物の塗布層とメタルハライドランプとの間に波長１８５ｎｍでの透過率が０％であり、波長２５４ｎｍでの透過率が５％であり、かつ波長３００ｎｍでの透過率が８０％であるフィルタ（Ｓ−ＦＰＬ５１Ｙ、（株）オハラ製）を設け、上記のフィルタを透過した紫外線で液晶化合物の重合反応を進行させたこと以外は、実施例５０と同様にして、位相差フィルム、偏光板、及びＴＮモード液晶表示装置を作製した。なお、上記のフィルタを透過した紫外線の３６５ｎｍにおける照度は２２０ｍＷ／ｃｍ2であり、照射量は３５０ｍＪ／ｃｍ2であった。
偏光板作製時の鹸化処理前後の光学異方性層の膜厚及びＲｅ（６３３）を下記表に示す。
（実施例５２）
実施例５１における光学異方性層の形成において、液晶化合物の塗布層とメタルハライドランプとの間に設けたフィルタを、波長１８５ｎｍでの透過率が０％であり、波長２５４ｎｍでの透過率が８４％であり、かつ波長３００ｎｍでの透過率が９２％であるフィルタ（Ｍ２３５、信越石英（株）製）に代えたこと以外は、実施例５１と同様にして、位相差フィルム、偏光板、及びＴＮモード液晶表示装置を作製した。偏光板作製時の鹸化処理前後の光学異方性層の膜厚及びＲｅ（６３３）を下記表に示す。
実施例５１における光学異方性層の形成において、液晶化合物の塗布層とメタルハライドランプとの間に設けたフィルタを、波長１８５ｎｍでの透過率が０％であり、波長２５４ｎｍでの透過率が８４％であり、かつ波長３００ｎｍでの透過率が９２％であるフィルタ（Ｍ２３５、信越石英（株）製）に代えたこと以外は、実施例５１と同様にして、位相差フィルム、偏光板、及びＴＮモード液晶表示装置を作製した。偏光板作製時の鹸化処理前後の光学異方性層の膜厚及びＲｅ（６３３）を下記表に示す。
（実施例５３）
実施例５１における光学異方性層の形成において、液晶化合物の塗布層とメタルハライドランプとの間に設けたフィルタを、波長１８５ｎｍでの透過率が３％であり、波長２５４ｎｍでの透過率が８３％であり、かつ波長３００ｎｍでの透過率が９２％であるフィルタ（ＷＧ２２５、ＳＣＨＯＴＴ製）に代えたこと以外は、実施例５１と同様にして、位相差フィルム、偏光板、及びＴＮモード液晶表示装置を作製した。偏光板作製時の鹸化処理前後の光学異方性層の膜厚及びＲｅ（６３３）を下記表に示す。
実施例５１における光学異方性層の形成において、液晶化合物の塗布層とメタルハライドランプとの間に設けたフィルタを、波長１８５ｎｍでの透過率が３％であり、波長２５４ｎｍでの透過率が８３％であり、かつ波長３００ｎｍでの透過率が９２％であるフィルタ（ＷＧ２２５、ＳＣＨＯＴＴ製）に代えたこと以外は、実施例５１と同様にして、位相差フィルム、偏光板、及びＴＮモード液晶表示装置を作製した。偏光板作製時の鹸化処理前後の光学異方性層の膜厚及びＲｅ（６３３）を下記表に示す。
（実施例５４）
実施例４９における光学異方性層の形成において、光学異方性層形成用塗布液をＬＣ１から、実施例９で調製したのと同一の組成の光学異方性層形成用塗布液ＬＣ２に代えたこと、及び液晶化合物を加熱して配向させるために用いた恒温槽の温度を１２０℃から１４０℃に代えたこと以外は、実施例４９と同様にして、位相差フィルム、偏光板、及びＴＮモード液晶表示装置を作製した。偏光板作製時の鹸化処理前後の光学異方性層の膜厚及びＲｅ（６３３）を下記表に示す。
実施例４９における光学異方性層の形成において、光学異方性層形成用塗布液をＬＣ１から、実施例９で調製したのと同一の組成の光学異方性層形成用塗布液ＬＣ２に代えたこと、及び液晶化合物を加熱して配向させるために用いた恒温槽の温度を１２０℃から１４０℃に代えたこと以外は、実施例４９と同様にして、位相差フィルム、偏光板、及びＴＮモード液晶表示装置を作製した。偏光板作製時の鹸化処理前後の光学異方性層の膜厚及びＲｅ（６３３）を下記表に示す。
（実施例５５）
実施例５４における光学異方性層の形成において、紫外線照射時の酸素濃度を、１０，０００ｐｐｍ〜１，０００ｐｐｍから窒素パージにより１，０００ｐｐｍ〜１００ｐｐｍの間に保ったこと以外は、実施例５４と同様にして、位相差フィルム、偏光板、及びＴＮモード液晶表示装置を作製した。偏光板作製時の鹸化処理前後の光学異方性層の膜厚及びＲｅ（６３３）を下記表に示す。
実施例５４における光学異方性層の形成において、紫外線照射時の酸素濃度を、１０，０００ｐｐｍ〜１，０００ｐｐｍから窒素パージにより１，０００ｐｐｍ〜１００ｐｐｍの間に保ったこと以外は、実施例５４と同様にして、位相差フィルム、偏光板、及びＴＮモード液晶表示装置を作製した。偏光板作製時の鹸化処理前後の光学異方性層の膜厚及びＲｅ（６３３）を下記表に示す。
（実施例５６）
実施例５４における光学異方性層の形成において、液晶化合物の塗布層とメタルハライドランプとの間に波長１８５ｎｍでの透過率が０％であり、波長２５４ｎｍでの透過率が５％であり、かつ波長３００ｎｍでの透過率が８０％であるフィルタ（Ｓ−ＦＰＬ５１Ｙ、（株）オハラ製）を設け、上記のフィルタを透過した紫外線で液晶化合物の重合反応を進行させたこと以外は、実施例５４と同様にして、位相差フィルム、偏光板、及びＴＮモード液晶表示装置を作製した。なお、上記のフィルタを透過した紫外線の３６５ｎｍにおける照度は２２０ｍＷ／ｃｍ2であり、照射量は３５０ｍＪ／ｃｍ2であった。
偏光板作製時の鹸化処理前後の光学異方性層の膜厚及びＲｅ（６３３）を下記表に示す。
実施例５４における光学異方性層の形成において、液晶化合物の塗布層とメタルハライドランプとの間に波長１８５ｎｍでの透過率が０％であり、波長２５４ｎｍでの透過率が５％であり、かつ波長３００ｎｍでの透過率が８０％であるフィルタ（Ｓ−ＦＰＬ５１Ｙ、（株）オハラ製）を設け、上記のフィルタを透過した紫外線で液晶化合物の重合反応を進行させたこと以外は、実施例５４と同様にして、位相差フィルム、偏光板、及びＴＮモード液晶表示装置を作製した。なお、上記のフィルタを透過した紫外線の３６５ｎｍにおける照度は２２０ｍＷ／ｃｍ2であり、照射量は３５０ｍＪ／ｃｍ2であった。
偏光板作製時の鹸化処理前後の光学異方性層の膜厚及びＲｅ（６３３）を下記表に示す。
（実施例５７）
実施例５６における光学異方性層の形成において、液晶化合物の塗布層とメタルハライドランプとの間に設けたフィルタを、波長１８５ｎｍでの透過率が０％であり、波長２５４ｎｍでの透過率が８４％であり、かつ波長３００ｎｍでの透過率が９２％であるフィルタ（Ｍ２３５、信越石英（株）製）に変えたこと以外は、実施例５６と同様にして、位相差フィルム、偏光板、及びＴＮモード液晶表示装置を作製した。偏光板作製時の鹸化処理前後の光学異方性層の膜厚及びＲｅ（６３３）を下記表に示す。
実施例５６における光学異方性層の形成において、液晶化合物の塗布層とメタルハライドランプとの間に設けたフィルタを、波長１８５ｎｍでの透過率が０％であり、波長２５４ｎｍでの透過率が８４％であり、かつ波長３００ｎｍでの透過率が９２％であるフィルタ（Ｍ２３５、信越石英（株）製）に変えたこと以外は、実施例５６と同様にして、位相差フィルム、偏光板、及びＴＮモード液晶表示装置を作製した。偏光板作製時の鹸化処理前後の光学異方性層の膜厚及びＲｅ（６３３）を下記表に示す。
（実施例５８）
実施例５６における光学異方性層の形成において、液晶化合物の塗布層とメタルハライドランプとの間に設けたフィルタを、波長１８５ｎｍでの透過率が３％であり、波長２５４ｎｍでの透過率が８３％であり、かつ波長３００ｎｍでの透過率が９２％であるフィルタ（ＷＧ２２５、ＳＣＨＯＴＴ製）に代えたこと以外は、実施例５６と同様にして、位相差フィルム、偏光板、及びＴＮモード液晶表示装置を作製した。偏光板作製時の鹸化処理前後の光学異方性層の膜厚及びＲｅ（６３３）を下記表に示す。
実施例５６における光学異方性層の形成において、液晶化合物の塗布層とメタルハライドランプとの間に設けたフィルタを、波長１８５ｎｍでの透過率が３％であり、波長２５４ｎｍでの透過率が８３％であり、かつ波長３００ｎｍでの透過率が９２％であるフィルタ（ＷＧ２２５、ＳＣＨＯＴＴ製）に代えたこと以外は、実施例５６と同様にして、位相差フィルム、偏光板、及びＴＮモード液晶表示装置を作製した。偏光板作製時の鹸化処理前後の光学異方性層の膜厚及びＲｅ（６３３）を下記表に示す。
（実施例５９）
（１）位相差フィルムの作製
実施例１と同様にして、セルロースアシレートフィルムＣ１を作製し、同様にして鹸化処理した。
実施例１で調製したのと同一の組成の配向膜形成用塗布液（Ｏ２）を調製し、セルロースアシレートフィルムＣ１の鹸化処理面に、実施例１と同様にして塗布し、塗膜を形成した後、同様にしてラビング処理して配向膜を形成した。
（１）位相差フィルムの作製
実施例１と同様にして、セルロースアシレートフィルムＣ１を作製し、同様にして鹸化処理した。
実施例１で調製したのと同一の組成の配向膜形成用塗布液（Ｏ２）を調製し、セルロースアシレートフィルムＣ１の鹸化処理面に、実施例１と同様にして塗布し、塗膜を形成した後、同様にしてラビング処理して配向膜を形成した。
実施例１で調製したのと同一の組成の光学異方性層形成用塗布液（ＬＣ１）を調製した。
上記で得られたラビング処理を施したセルロースアセテートフィルム（Ｃ２）の配向膜上に、光学異方性層形成用塗布液（ＬＣ３）を、（＃５．０の）ワイヤーバーコーターで塗布した。その後、８０℃の恒温槽中で１２０秒間加熱し、液晶性化合物を配向させた。次に、フィルムの温度を６０℃に保ち、窒素パージにより酸素濃度を１０，０００ｐｐｍ〜１，０００ｐｐｍの間に保った状態で、１８５ｎｍでの透過率が０％であり、かつ３００ｎｍでの透過率が８４％であるオゾンレスガラス製の発光管を有するメタルハライドランプ（アイグラフィックス製）を用いて紫外線を照射し、液晶化合物の重合反応を進行させ、配向状態を固定し、光学異方性層を形成した。
上記紫外線の３６５ｎｍにおける照度は２２０ｍＷ／ｃｍ2であり、照射量は３５０ｍＪ／ｃｍ2であった。
上記で得られたラビング処理を施したセルロースアセテートフィルム（Ｃ２）の配向膜上に、光学異方性層形成用塗布液（ＬＣ３）を、（＃５．０の）ワイヤーバーコーターで塗布した。その後、８０℃の恒温槽中で１２０秒間加熱し、液晶性化合物を配向させた。次に、フィルムの温度を６０℃に保ち、窒素パージにより酸素濃度を１０，０００ｐｐｍ〜１，０００ｐｐｍの間に保った状態で、１８５ｎｍでの透過率が０％であり、かつ３００ｎｍでの透過率が８４％であるオゾンレスガラス製の発光管を有するメタルハライドランプ（アイグラフィックス製）を用いて紫外線を照射し、液晶化合物の重合反応を進行させ、配向状態を固定し、光学異方性層を形成した。
上記紫外線の３６５ｎｍにおける照度は２２０ｍＷ／ｃｍ2であり、照射量は３５０ｍＪ／ｃｍ2であった。
上記で得られた光学異方性層の厚さは２６８０ｎｍであり、面内レターデーション（Ｒｅ（５９０））は０ｎｍ、厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ（５９０））は−２６０ｎｍであった。また、棒状液晶分子がフィルム面に対して実質的に垂直配向している光学異方性層が形成されていることが確認できた。
（２）第２の位相差フィルムの作製
実施例１７と同様にして、セルロースアセテートフィルム（Ｃ３）を作製し、これを第２の位相差フィルムとして用いた。
実施例１７と同様にして、セルロースアセテートフィルム（Ｃ３）を作製し、これを第２の位相差フィルムとして用いた。
（３）偏光板の作製
実施例２５と同様にして、第１の位相差フィルムに鹸化処理をおこなった。鹸化処理した位相差フィルムの光学異方性層の厚さは２５６０ｎｍであり、Ｒｔｈ（５９０）は−２１８ｎｍであった。
鹸化処理をおこなった第１の位相差フィルムの光学異方性層が形成されていない側の面をポリビニルアルコール系接着剤を用い、実施例１と同様にして作製した偏光膜の一方の面に貼り合わせ、同じく実施例２５と同様に鹸化処理を行った市販のセルロースアセテートフィルムをポリビニルアルコール系接着剤を用い上記偏光膜の他方の面に貼り合わせ偏光板ＰＮ１を得た。
このとき、偏光膜の吸収軸は延伸方向に対して平行であり、かつ、偏光膜の吸収軸と第２の光学異方性層の遅相軸とがなす角は９０°であった。
実施例２５と同様にして、第２の位相差フィルムに鹸化処理をおこなった。鹸化処理をおこなった第２の位相差フィルムをポリビニルアルコール系接着剤を用い、実施例２５と同様にして作製した偏光膜の一方の面に貼り合わせ、同じく実施例１と同様に鹸化処理を行った市販のセルロースアセテートフィルムをポリビニルアルコール系接着剤を用い上記偏光膜の他方の面に貼り合わせ偏光板ＰＮ２を得た。
実施例２５と同様にして、第１の位相差フィルムに鹸化処理をおこなった。鹸化処理した位相差フィルムの光学異方性層の厚さは２５６０ｎｍであり、Ｒｔｈ（５９０）は−２１８ｎｍであった。
鹸化処理をおこなった第１の位相差フィルムの光学異方性層が形成されていない側の面をポリビニルアルコール系接着剤を用い、実施例１と同様にして作製した偏光膜の一方の面に貼り合わせ、同じく実施例２５と同様に鹸化処理を行った市販のセルロースアセテートフィルムをポリビニルアルコール系接着剤を用い上記偏光膜の他方の面に貼り合わせ偏光板ＰＮ１を得た。
このとき、偏光膜の吸収軸は延伸方向に対して平行であり、かつ、偏光膜の吸収軸と第２の光学異方性層の遅相軸とがなす角は９０°であった。
実施例２５と同様にして、第２の位相差フィルムに鹸化処理をおこなった。鹸化処理をおこなった第２の位相差フィルムをポリビニルアルコール系接着剤を用い、実施例２５と同様にして作製した偏光膜の一方の面に貼り合わせ、同じく実施例１と同様に鹸化処理を行った市販のセルロースアセテートフィルムをポリビニルアルコール系接着剤を用い上記偏光膜の他方の面に貼り合わせ偏光板ＰＮ２を得た。
（４）液晶表示装置の作製
電圧無印加状態及び黒表示時では液晶分子はガラス基板間で実質的に平行配向しており、その遅相軸方向は画面に対して水平方向であるＩＰＳモードの液晶表示装置（ＴＨ−３２ＬＸ５００（松下電器産業（株）製））に設けられている一対の偏光板及び光学フィルムを剥した。
上記の平行配向セルの上下のガラス基板に、上記作製した偏光板（ＰＮ１及びＰＮ２）を粘着剤を用いて貼り合わせた。このとき、バックライト側の偏光板にＰＮ１を配置し、視認者側にＰＮ２を配置し、偏光板ＰＮ１に含まれる第１の光学異方性層がバックライト側のガラス基板に接するように、また、偏光板ＰＮ２に含まれるセルロースアセテートフィルムＣ３が視認者側のガラス基板に接するように貼り合わせた。また、偏光板ＰＮ１の吸収軸と液晶セルの遅相軸が直交するようにし、偏光板ＰＮ１と偏光板ＰＮ２の吸収軸は直交するように配置した。このようにして偏光板を貼り合せた液晶セルを、再度、液晶テレビＴＨ−３２ＬＸ５００に組み込み、液晶表示装置を作製した。
電圧無印加状態及び黒表示時では液晶分子はガラス基板間で実質的に平行配向しており、その遅相軸方向は画面に対して水平方向であるＩＰＳモードの液晶表示装置（ＴＨ−３２ＬＸ５００（松下電器産業（株）製））に設けられている一対の偏光板及び光学フィルムを剥した。
上記の平行配向セルの上下のガラス基板に、上記作製した偏光板（ＰＮ１及びＰＮ２）を粘着剤を用いて貼り合わせた。このとき、バックライト側の偏光板にＰＮ１を配置し、視認者側にＰＮ２を配置し、偏光板ＰＮ１に含まれる第１の光学異方性層がバックライト側のガラス基板に接するように、また、偏光板ＰＮ２に含まれるセルロースアセテートフィルムＣ３が視認者側のガラス基板に接するように貼り合わせた。また、偏光板ＰＮ１の吸収軸と液晶セルの遅相軸が直交するようにし、偏光板ＰＮ１と偏光板ＰＮ２の吸収軸は直交するように配置した。このようにして偏光板を貼り合せた液晶セルを、再度、液晶テレビＴＨ−３２ＬＸ５００に組み込み、液晶表示装置を作製した。
（実施例６０）
実施例５９における光学異方性層の形成において、紫外線照射時の酸素濃度を、１０，０００ｐｐｍ〜１，０００ｐｐｍから窒素パージにより１，０００ｐｐｍ〜１００ｐｐｍの間に保ったこと以外は、実施例７０と同様にして、位相差フィルム、偏光板、及びＩＰＳモード液晶表示装置を作製した。偏光板作製時の鹸化処理前後の光学異方性層の膜厚及びＲｔｈ（５９０）を下記表に示す。
実施例５９における光学異方性層の形成において、紫外線照射時の酸素濃度を、１０，０００ｐｐｍ〜１，０００ｐｐｍから窒素パージにより１，０００ｐｐｍ〜１００ｐｐｍの間に保ったこと以外は、実施例７０と同様にして、位相差フィルム、偏光板、及びＩＰＳモード液晶表示装置を作製した。偏光板作製時の鹸化処理前後の光学異方性層の膜厚及びＲｔｈ（５９０）を下記表に示す。
（実施例６１）
実施例５９における光学異方性層の形成において、液晶化合物の塗布層とメタルハライドランプとの間に波長１８５ｎｍでの透過率が０％であり、波長２５４ｎｍでの透過率が５％であり、かつ波長３００ｎｍでの透過率が８０％であるフィルタ（Ｓ−ＦＰＬ５１Ｙ、（株）オハラ製）を設け、上記のフィルタを透過した紫外線で液晶化合物の重合反応を進行させたこと以外は、実施例５９と同様にして、位相差フィルム、偏光板、及びＩＰＳモード液晶表示装置を作製した。なお、上記のフィルタを透過した紫外線の３６５ｎｍにおける照度は２２０ｍＷ／ｃｍ2であり、照射量は３５０ｍＪ／ｃｍ2であった。
偏光板作製時の鹸化処理前後の光学異方性層の膜厚及びＲｔｈ（５９０）を下記表に示す。
実施例５９における光学異方性層の形成において、液晶化合物の塗布層とメタルハライドランプとの間に波長１８５ｎｍでの透過率が０％であり、波長２５４ｎｍでの透過率が５％であり、かつ波長３００ｎｍでの透過率が８０％であるフィルタ（Ｓ−ＦＰＬ５１Ｙ、（株）オハラ製）を設け、上記のフィルタを透過した紫外線で液晶化合物の重合反応を進行させたこと以外は、実施例５９と同様にして、位相差フィルム、偏光板、及びＩＰＳモード液晶表示装置を作製した。なお、上記のフィルタを透過した紫外線の３６５ｎｍにおける照度は２２０ｍＷ／ｃｍ2であり、照射量は３５０ｍＪ／ｃｍ2であった。
偏光板作製時の鹸化処理前後の光学異方性層の膜厚及びＲｔｈ（５９０）を下記表に示す。
（実施例６２）
実施例５９における光学異方性層の形成において、液晶化合物の塗布層とメタルハライドランプとの間に設けたフィルタを、波長１８５ｎｍでの透過率が０％であり、波長２５４ｎｍでの透過率が８４％であり、かつ波長３００ｎｍでの透過率が９２％であるフィルタ（Ｍ２３５、信越石英（株）製）に変えたこと以外は、実施例５９と同様にして、位相差フィルム、偏光板、及びＩＰＳモード液晶表示装置を作製した。偏光板作製時の鹸化処理前後の光学異方性層の膜厚及びＲｔｈ（５９０）を下記表に示す。
実施例５９における光学異方性層の形成において、液晶化合物の塗布層とメタルハライドランプとの間に設けたフィルタを、波長１８５ｎｍでの透過率が０％であり、波長２５４ｎｍでの透過率が８４％であり、かつ波長３００ｎｍでの透過率が９２％であるフィルタ（Ｍ２３５、信越石英（株）製）に変えたこと以外は、実施例５９と同様にして、位相差フィルム、偏光板、及びＩＰＳモード液晶表示装置を作製した。偏光板作製時の鹸化処理前後の光学異方性層の膜厚及びＲｔｈ（５９０）を下記表に示す。
（実施例６３）
実施例５９における光学異方性層の形成において、液晶化合物の塗布層とメタルハライドランプとの間に設けたフィルタを、波長１８５ｎｍでの透過率が３％であり、波長２５４ｎｍでの透過率が８３％であり、かつ波長３００ｎｍでの透過率が９２％であるフィルタ（ＷＧ２２５、ＳＣＨＯＴＴ製）に代えたこと以外は、実施例５９と同様にして、位相差フィルム、偏光板、及びＩＰＳモード液晶表示装置を作製した。偏光板作製時の鹸化処理前後の光学異方性層の膜厚及びＲｔｈ（５９０）を下記表に示す。
実施例５９における光学異方性層の形成において、液晶化合物の塗布層とメタルハライドランプとの間に設けたフィルタを、波長１８５ｎｍでの透過率が３％であり、波長２５４ｎｍでの透過率が８３％であり、かつ波長３００ｎｍでの透過率が９２％であるフィルタ（ＷＧ２２５、ＳＣＨＯＴＴ製）に代えたこと以外は、実施例５９と同様にして、位相差フィルム、偏光板、及びＩＰＳモード液晶表示装置を作製した。偏光板作製時の鹸化処理前後の光学異方性層の膜厚及びＲｔｈ（５９０）を下記表に示す。
試験例
上記で作製した各実施例及び各比較例の位相差フィルム及び液晶表示装置について、以下の評価をおこなった。結果を下記表に示す。
上記で作製した各実施例及び各比較例の位相差フィルム及び液晶表示装置について、以下の評価をおこなった。結果を下記表に示す。
（Ｉ）ウェット密着評価
作製した位相差フィルムの光学異方性層に、辺の長さが１ｃｍで光学異方性層を貫通し位相差フィルムを貫通しない深さの切れ込みを×印状に入れ、位相差フィルムを４０℃の水中に３０分浸漬した後、乾いた平滑な金属板上に固定し、光学異方性層の上記切れ込みを入れた箇所を、水で湿らせたベンコットで、５００ｇの荷重をかけながら２０ｃｍ／秒のスピードで３５往復擦り、光学異方性層の剥がれを以下の基準で評価した。
◎：剥がれなし
○：切れ込みに沿って剥がれがあり、剥がれ幅が１ｍｍ未満
×：切れ込み以外の箇所で剥がれが発生、もしくは切れ込みに沿った剥がれがあり、剥がれ幅が１ｍｍ以上
作製した位相差フィルムの光学異方性層に、辺の長さが１ｃｍで光学異方性層を貫通し位相差フィルムを貫通しない深さの切れ込みを×印状に入れ、位相差フィルムを４０℃の水中に３０分浸漬した後、乾いた平滑な金属板上に固定し、光学異方性層の上記切れ込みを入れた箇所を、水で湿らせたベンコットで、５００ｇの荷重をかけながら２０ｃｍ／秒のスピードで３５往復擦り、光学異方性層の剥がれを以下の基準で評価した。
◎：剥がれなし
○：切れ込みに沿って剥がれがあり、剥がれ幅が１ｍｍ未満
×：切れ込み以外の箇所で剥がれが発生、もしくは切れ込みに沿った剥がれがあり、剥がれ幅が１ｍｍ以上
（II）視野角コントラストの評価
作製した液晶表示装置について、測定機（ＥＺ−Ｃｏｎｔｒａｓｔ１６０Ｄ、ＥＬＤＩＭ社製）を用いて、黒表示（Ｌ１）〜白表示（Ｌ８）までで視野角を測定した。表示面の法線方向を０度とし上下左右方向で、コントラスト比（白透過率／黒透過率）が１０になる角度の和を求めた。以下の基準で評価した。
◎： ３１８度以上
○： ３１４度以上、３１８度未満
△： ３１０度以上、３１４度未満
×： ３１０度未満
作製した液晶表示装置について、測定機（ＥＺ−Ｃｏｎｔｒａｓｔ１６０Ｄ、ＥＬＤＩＭ社製）を用いて、黒表示（Ｌ１）〜白表示（Ｌ８）までで視野角を測定した。表示面の法線方向を０度とし上下左右方向で、コントラスト比（白透過率／黒透過率）が１０になる角度の和を求めた。以下の基準で評価した。
◎： ３１８度以上
○： ３１４度以上、３１８度未満
△： ３１０度以上、３１４度未満
×： ３１０度未満
（III）斜め漏れ光の評価
作製したＩＰＳモードの液晶表示装置について、液晶セルのラビング方向を基準として４５度の方位で、かつ表示面の法線方向から６０度の方向に１ｍ離れたところに輝度計（分光放射輝度計ＣＳ−１０００：ミノルタ（株）製）を設置し輝度１を測定した。
次いで、液晶セルに設けられている一対の偏光板を剥がし上記と同様に輝度２を測定した。輝度１を輝度２に対する百分率で表したものを斜め漏れ光とし、以下の基準で評価した。
◎： ０．０６％未満
○： ０．０６％以上、０．０７％未満
×： ０．０７％以上
作製したＩＰＳモードの液晶表示装置について、液晶セルのラビング方向を基準として４５度の方位で、かつ表示面の法線方向から６０度の方向に１ｍ離れたところに輝度計（分光放射輝度計ＣＳ−１０００：ミノルタ（株）製）を設置し輝度１を測定した。
次いで、液晶セルに設けられている一対の偏光板を剥がし上記と同様に輝度２を測定した。輝度１を輝度２に対する百分率で表したものを斜め漏れ光とし、以下の基準で評価した。
◎： ０．０６％未満
○： ０．０６％以上、０．０７％未満
×： ０．０７％以上
上記表中に示す結果から明らかなように、本発明の第１〜第３の態様のいずれかの条件を満足する方法で製造された実施例の位相差フィルムは、同一の組成の液晶組成物を用い、但し、本発明の第１〜第３の態様のいずれの条件も満足しない比較例の位相差フィルムと比較して、鹸化処理の前後で膜厚の減少が顕著に少なく、その結果、レターデーションの変動も顕著に少ないことが理解できる。
また、本発明の第１〜第３の態様のいずれかの条件を満足する方法で製造された実施例の位相差フィルムは、鹸化処理による特性の変動がなく、所望の光学特性を示しているので、これを用いたＴＮモード及びＩＰＳモードの液晶表示装置の視野角特性が、比較例の位相差フィルムを用いたそれぞれと比較して、顕著に改善されていることが理解できる。
さらに、上記実施例及び比較例では、配向膜形成用塗布液中に、イルガギュア２９５９という、λｍａｘが２７５ｎｍの光重合開始剤を用いているため、波長３００ｎｍの光の透過率が小さいフィルタを用いた実施例（実施例２５、２７、２９））、又はガラス部材の波長３００ｎｍの光の透過率が小さい発光管を備えたオゾンレスランプを用いた実施例（実施例２６、２８、３０）では、光学異方性層と配向膜との接着性が若干低下し、その結果ウェット密着性の評価が低下したことが理解できる。但し、これらの実施例も、本発明の第１〜第３のいずれかの態様の条件を満足する条件で製造した位相差フィルムであるので、表示性能は、他の実施例と同様に優れていた。
また、本発明の第１〜第３の態様のいずれかの条件を満足する方法で製造された実施例の位相差フィルムは、鹸化処理による特性の変動がなく、所望の光学特性を示しているので、これを用いたＴＮモード及びＩＰＳモードの液晶表示装置の視野角特性が、比較例の位相差フィルムを用いたそれぞれと比較して、顕著に改善されていることが理解できる。
さらに、上記実施例及び比較例では、配向膜形成用塗布液中に、イルガギュア２９５９という、λｍａｘが２７５ｎｍの光重合開始剤を用いているため、波長３００ｎｍの光の透過率が小さいフィルタを用いた実施例（実施例２５、２７、２９））、又はガラス部材の波長３００ｎｍの光の透過率が小さい発光管を備えたオゾンレスランプを用いた実施例（実施例２６、２８、３０）では、光学異方性層と配向膜との接着性が若干低下し、その結果ウェット密着性の評価が低下したことが理解できる。但し、これらの実施例も、本発明の第１〜第３のいずれかの態様の条件を満足する条件で製造した位相差フィルムであるので、表示性能は、他の実施例と同様に優れていた。
Claims (14)
- 支持体及び光学異方性層を少なくとも有する位相差フィルムの製造方法であって、
重合性液晶組成物の配向を、該組成物の重合反応を光照射下で進行させて固定して、光学異方性層を形成する工程を含み、
前記工程において、波長１８５ｎｍの光に対する透過率が１％以下であるフィルタを介して光照射することを特徴とする位相差フィルムの製造方法。 - 前記フィルタの波長２５４ｎｍの光に対する透過率が、１０％以下であることを特徴とする請求項１に記載の方法。
- 前記重合性液晶組成物が紫外領域に極大吸収波長λmaxを有する重合開始剤を含有し、前記フィルタの波長λmaxの光に対する透過率が、３０％以上であることを特徴とする請求項１又は２に記載の方法。
- 前記フィルタの波長３００ｎｍの光に対する透過率が、３０％以上であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の方法。
- 前記工程において、オゾンレスランプを用いて光照射することを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の方法。
- 支持体及び光学異方性層を少なくとも有する位相差フィルムの製造方法であって、
重合性液晶組成物の配向を、該組成物の重合反応を光照射下で進行させて固定して、光学異方性層を形成する工程を含み、
前記工程において、オゾンレスランプにより光照射することを特徴とする位相差フィルムの製造方法。 - 前記オゾンレスランプを構成するガラス部材が、波長１８５ｎｍの光に対する透過率が１％以下で、且つ波長３００ｎｍの光に対する透過率が８０％以上であることを特徴とする請求項５又は６に記載の方法。
- 前記工程において、酸素濃度１０，０００ｐｐｍ以下の雰囲気中で重合反応を進行させることを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の方法。
- 支持体及び光学異方性層を少なくとも有する位相差フィルムの製造方法であって、
重合性液晶組成物の配向を、該組成物の重合反応を光照射下で進行させて固定して、光学異方性層を形成する工程を含み、
前記工程において、酸素濃度１０，０００ｐｐｍ以下の雰囲気中で重合反応を進行させることを特徴とする位相差フィルムの製造方法。 - 前記工程において、酸素濃度１，０００ｐｐｍ以下の雰囲気下で重合反応を進行させることを特徴とする請求項８又は９に記載の方法。
- 不活性ガスで置換された雰囲気中で重合反応を進行させることを特徴とする請求項８〜１０のいずれか１項に記載の方法。
- 前記重合性液晶組成物が、円盤状液晶化合物及び棒状液晶化合物の少なくとも１種を含有することを特徴とする請求項１〜１１のいずれか１項に記載の方法。
- 前記重合性液晶組成物が、１以上のエステル基を分子内に有する液晶化合物の少なくとも１種を含有することを特徴とする請求項１〜１２のいずれか１項に記載の方法。
- 前記重合性組成物の重合反応を、重合開始剤を含有する配向膜上で進行させることを特徴とする請求項１〜１３のいずれか１項に記載の方法。
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- 2010-03-30 JP JP2010077410A patent/JP2011209517A/ja not_active Abandoned
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