JP2011119654A - 静電チャック用基板及び静電チャック - Google Patents
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Abstract
【解決手段】静電チャック30aは、ベース部材20と、該ベース部材上に吸着面10Sと反対側の面が接着剤層25を介して接合された絶縁性を有した基板10aとを備える。この基板10aにおいて、吸着面10Sの近傍の基板部分に、吸着用の直流電圧が印加される電極層11が埋め込まれると共に、この電極層11の吸着面10Sと反対側の基板部分に、それぞれプラズマ制御用の異なる高周波RF1,RF2が給電される複数の独立した電極層14,15が埋め込まれている。各RF電極層14,15は、同一平面上にはない異なる層に分割されて配置されており、さらに、平面視したときに部分的に重なり合うように配置されている。
【選択図】図4
Description
ドライエッチング技術は、プラズマエッチング、反応性スパッタエッチング装置等を用いてシリコン、二酸化シリコン、窒化シリコン等のシリコン化合物や、アルミニウム、タングステン、モリブデン、チタン等の金属、レジスト等のポリマーの被エッチング物をエッチングする技術として知られている。かかる技術には、反応性イオンエッチング(RIE)、電子サイクロトロン共鳴エッチング(ECR)、ダウンフローエッチングなど種々のものがある。このうちでも、量産性と微細パターン形成を可能にする異方性エッチング特性を兼ね備えたものとして、RIEやRFバイアスECR等が、半導体装置や液晶パネル等の製造に広く用いられている。
図2は第1の実施形態に係る静電チャックの構成を示したもので、図中、(a)はその縦断面構造、(b)は(a)において複数のRF電極層を吸着面側から平面的に見たときの配置関係を示している。
上述した第1の実施形態に係る静電チャック30(図2)においては、各RF電極層12,13は同一平面上に分割されて配置されているので、各RF電極層12,13間には必然的に隙間部分(基板10の絶縁層部分)が存在する。このため、吸着面10Sに吸着保持されているウエハW上の、その隙間部分(基板10の絶縁層部分)に対応する部分と各RF電極層12,13に対応する部分とで、エッチング等の加工処理状態にばらつきが生じることも考えられる。以下に記述する実施形態は、これを改善したものである。
図5は第3の実施形態に係る静電チャックの構成を示したもので、図中、(a)はその縦断面構造、(b)は(a)において複数のRF電極層を吸着面側から平面的に見たときの配置関係を示している。
図6は第4の実施形態に係る静電チャックの構成を示したもので、図中、(a)はその縦断面構造、(b)は(a)において複数のRF電極層を吸着面側から平面的に見たときの配置関係を示している。
図7は第5の実施形態に係る静電チャックの構成を示したもので、図中、(a)はその縦断面構造、(b)は(a)において複数のRF電極層を吸着面側から平面的に見たときの配置関係を示している。
図8は第6の実施形態に係る静電チャックの構成を示したもので、図中、(a)はその縦断面構造、(b)は(a)において複数のRF電極層を吸着面側から平面的に見たときの配置関係を示している。
図9は第7の実施形態に係る静電チャックの構成を示したもので、図中、(a)はその縦断面構造、(b)は(a)において複数のRF電極層を吸着面側から平面的に見たときの配置関係を示している。
10S,70S…吸着面、
11,71…静電吸着用の電極層、
12〜18,72〜78,72a,73a…プラズマ制御用のRF電極層、
20,80…ベースプレート(金属製の基盤/ベース部材)、
25,85…接着剤層、
30,30a,30b,90,90a,90b,90c…静電チャック、
40…チャンバ、
41…対向電極、
52,56,58…RF電源(プラズマ発生用、プラズマ制御用)、
54…DC電源、
60…RIE装置、
W,G…被加工物(ウエハ、液晶パネル用のガラス基板)。
Claims (10)
- 金属製のベース部材上に接着剤を用いて接合される絶縁性を有した静電チャック用基板であって、
前記ベース部材に接合される側と反対側の吸着面の近傍の基板部分に、吸着用の直流電圧が印加される第1の電極層が埋め込まれると共に、該第1の電極層の前記吸着面と反対側の基板部分に、それぞれプラズマ制御用の異なる高周波が給電される複数の独立した第2の電極層が埋め込まれていることを特徴とする静電チャック用基板。 - 前記複数の第2の電極層は、平面視したときに中心部に配置される電極層と、該電極層の周囲にリング状に配置される少なくとも1つの電極層とを含み、前記複数の第2の電極層を構成する各電極層は、それぞれ同一平面上にはない異なる層に分割されて配置されていることを特徴とする請求項1に記載の静電チャック用基板。
- 前記複数の第2の電極層を構成する各電極層は、平面視したときに部分的に重なり合うように配置されていることを特徴とする請求項2に記載の静電チャック用基板。
- 前記複数の第2の電極層は、平面視したときに中心部に配置される電極層と、該電極層の周囲にリング状に配置される少なくとも1つの電極層とを含み、前記複数の第2の電極層を構成する各電極層は、それぞれ同一平面上に分割されて配置されていることを特徴とする請求項1に記載の静電チャック用基板。
- 前記複数の第2の電極層を構成する各電極層は、平面視したときにそれぞれ四角形の形状であり、それぞれ同一平面上に分割され、もしくは同一平面上にはない異なる層に分割されて配置されていることを特徴とする請求項1に記載の静電チャック用基板。
- 金属製のベース部材と、該ベース部材上に吸着面と反対側の面が接着剤層を介して接合された絶縁性を有した基板とを備え、
前記吸着面の近傍の基板部分に、吸着用の直流電圧が印加される第1の電極層が埋め込まれると共に、該第1の電極層の前記吸着面と反対側の基板部分に、それぞれプラズマ制御用の異なる高周波が給電される複数の独立した第2の電極層が埋め込まれていることを特徴とする静電チャック。 - 前記複数の第2の電極層は、平面視したときに中心部に配置される電極層と、該電極層の周囲にリング状に配置される少なくとも1つの電極層とを含み、前記複数の第2の電極層を構成する各電極層は、それぞれ同一平面上にはない異なる層に分割されて配置されていることを特徴とする請求項6に記載の静電チャック。
- 前記複数の第2の電極層を構成する各電極層は、平面視したときに部分的に重なり合うように配置されていることを特徴とする請求項7に記載の静電チャック。
- 前記複数の第2の電極層は、平面視したときに中心部に配置される電極層と、該電極層の周囲にリング状に配置される少なくとも1つの電極層とを含み、前記複数の第2の電極層を構成する各電極層は、それぞれ同一平面上に分割されて配置されていることを特徴とする請求項6に記載の静電チャック。
- 前記複数の第2の電極層を構成する各電極層は、平面視したときにそれぞれ四角形の形状であり、それぞれ同一平面上に分割され、もしくは同一平面上にはない異なる層に分割されて配置されていることを特徴とする請求項6に記載の静電チャック。
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