JP2011060969A - 配線基板の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】配線基板の製造方法の製造方法は、表面荒さ(Rz)が5μm未満(好ましくは、1μm以下)の樹脂基板1にホール2を形成する工程と、樹脂基板1の表面をオゾン水によって改質処理を施す工程と、表面改質処理後の樹脂基板1に銅めっきをする工程と、形成した銅めっき層に対して所定のパターンにエッチング処理を施す工程と、からなる。
【選択図】図2
Description
図1(a)は、本発明の製造方法によって形成されたホールを有する配線基板10の一部を模式的に示している。配線基板10を構成する樹脂基板1の適所には適数のスルーホール2が形成されており、樹脂基板1の表裏面には銅のめっき層をエッチングして形成された回路パターン3が形成され、前記スルーホール2の内面には、銅めっきにより形成された前記回路パターン3のほぼ同じ厚さの銅層4が、回路パターン3に連続するようにして形成されている。なお、ここでの説明では、めっきとして銅めっきを例示するが、これに限るものではない。
[実施例]
(1)表面が平滑(Rz=0.1μm)な厚さ1mmのシクロオレフィンポリマー(COP)樹脂フィルム(日本ゼオン株式会社製、ZEONEX RS420)に、ドリルにて、アンテナの導波管の役割を果たすスルーホールをあけた。
(1)表面の粗さをRz5〜10μm程度に粗化した銅箔面を、厚さ1mmのCOPフィルムの両面に向かい合わせて圧着した。その樹脂にドリルで穴をあけた後、触媒核であるパラジウム(Pb)を付与する処理を行い、その後、無電解めっき処理により5μmの銅めっきを形成し、100℃で60分の熱処理を行った。次に、無電解めっき処理後のCOPフィルムの両面全面に、電解銅めっき処理により、15μmの銅めっきを形成し、その後、100℃で60分の熱処理を行った。それにより、COPフィルムの両面に38μmの銅めっき層およびスルーホールの内面に20μmの銅めっき層が形成された。
図3(a)に示すように、本発明による製造方法で作られた高周波アンテナでの配線幅のバラツキは、従来の方法によって作られたものと比較して、小さくなっている。これは、本発明による製造方法で作られた配線基板は、銅めっき層の厚さを従来法の場合よりも薄くすることができ、それにより、精密エッチングが可能になったことによる。
1…表面が平滑な樹脂基板、
2…スルーホール、
3…回路パターン、
4…スルーホールの内面に形成された、前記回路パターン3のほぼ同じ厚さの銅層。
Claims (4)
- ホールを有する配線基板の製造方法であって、
表面荒さ(Rz)が5μm未満である樹脂基板にホールを形成する工程と、
樹脂基板に表面を酸による改質処理を施す工程と、
表面改質処理後の樹脂基板に金属めっきをする工程と、
形成しためっき層に対して所定のパターンにエッチング処理を施す工程と、
を少なくとも備えることを特徴とするホールを有する配線基板の製造方法。 - 酸による改質処理をオゾン水により行うことを特徴とする請求項1に記載のホールを有する配線基板の製造方法。
- 樹脂基板として表面荒さ(Rz)が1μm以下である樹脂基板を用いることを特徴とする請求項1または2に記載の配線基板の製造方法。
- ホールを有する配線基板が高周波アンテナであることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載の配線基板の製造方法。
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