JP2010515940A5 - - Google Patents

Claims (16)

1. コア材からなるコアと、クラッド材からなるクラッドとを含む光ファイバであって、
   前記コアのゲルマニウム含有量は、０．１ａｔ％未満であり、
   前記光ファイバは、非線形の微小構造光ファイバであり、
   前記微小構造光ファイバは、水素と重水素のうちの少なくとも一方によって、前記コア材と、任意で前記クラッド材とをロードするロード工程を含む製造方法によって得られることを特徴とする、光ファイバ。
2. 前記ロード工程は、ａ）上昇した温度Ｔ、ｂ）上昇した圧力Ｐ、およびｃ）その後に行われる照射のうち少なくとも一つを含むロード条件下で、前記光ファイバを水素と重水素のうちの少なくとも一方に適切に置くことによって行われる、
   請求項１記載の光ファイバ。
3. 前記ロード工程は、水素と重水素のうちの少なくとも一方を前記コア材と前記クラッド材のうちの少なくとも一方に化学的に結合させるように、ロード条件下で前記光ファイバを水素と重水素のうちの少なくとも一方に適切に置くことによって行われる、
   請求項１または２記載の光ファイバ。
4. 前記温度Ｔは、１２０°Ｃ以上であり、
   前記圧力Ｐは、９０バール以上である、
   請求項２記載の光ファイバ。
5. 前記ロード工程は、
   前記光ファイバの形成前；
   前記光ファイバの形成時；
   前記光ファイバの形成後；および
   前記光ファイバの使用後のうちの少なくとも何れか一つで行われる、
   請求項１乃至４何れか一項記載の光ファイバ。
6. 前記製造方法は、前記ロード工程の後、前記コア材と前記クラッド材をアニールする工程を含む、
   請求項１乃至５何れか一項記載の光ファイバ。
7. 前記コア材と前記クラッド材は、０．１原子パーセントつまり０．１ａｔ％を超える水素と重水素のうちの少なくとも一方を含む、
   請求項１乃至６何れか一項記載の光ファイバ。
8. 請求項１乃至７何れか一項記載の光ファイバと；
   供給部と
   を含む光学システムであって、
   前記供給部は前記光ファイバ内において１００Ｗ／μｍ^２以上の最大出力密度のパルスで前記光ファイバを供給するよう構成された、光学システム。
9. 前記光ファイバは、５ａｔ％未満のＨ_２とＨ^＋イオンのうちの少なくとも一方を含有する媒質の環境に置かれる、
   請求項８記載の光学システム。
10. パルスポンプ光源と；
    請求項１乃至７何れか一項記載の光ファイバと
    を含むスーパーコンティニューム光源であって、
    前記ポンプと前記光ファイバは、少なくとも１０μＷ／ｎｍで１オクターブ上の出力スパンを出力するよう構成された、スーパーコンティニューム光源。
11. 前記パルスポンプ光源は、
    請求項８または９記載の光学システムである、
    請求項１０記載のスーパーコンティニューム光源。
12. コア材からなるコアと、クラッド材からなるクラッドとを含む微細構造光ファイバの製造方法であって、前記光ファイバは、高パルスアプリケーションにおいて延長した寿命を有し、前記製造方法は、
    ａ）水素と重水素のうちの少なくとも一方によって、前記コア材と、任意で前記クラッド材とをロードするロード工程と、
    ｂ）温度Ｔ_{ａｎｎｅａｌ}で時間ｔ_{ａｎｎｅａｌ}の間、任意でアニールするアニール工程と
    を含むことを特徴とする、製造方法。
13. 前記ロード工程は、水素と重水素のうちの少なくとも一方を、前記コア材と前記クラッド材のうちの少なくとも一方に化学的に結合させるように、ロード条件下で前記コア材と前記クラッド材を水素と重水素のうちの少なくとも一方に適切に置くことによって行われる、
    請求項１２記載の製造方法。
14. 前記ロード工程は、ａ）上昇した温度Ｔ、ｂ上昇した圧力Ｐ、およびｃ）その後に行われる照射のうち少なくとも一つを含むロード条件下で、前記コア材と前記クラッド材を水素と重水素のうちの少なくとも一方に適切に置くことによって行われる、
    請求項１２または１３記載の製造方法。
15. 前記温度Ｔは、１２０°Ｃ以上であり、
    前記圧力Ｐは、９０バール以上である、
    請求項１４記載の製造方法。
16. コア材からなるコアと、クラッド材からなるクラッドとを含む微細構造光ファイバの再生方法であって、
    前記光ファイバは、可視領域で吸収が増加するように高パルスアプリケーションにおいてパルス処理され、
    前記再生方法は、
    請求項１２乃至１５何れか一項記載の光ファイバの製造方法による水素と重水素のうちの少なくとも一つを光ファイバにロードするロード工程を含む、再生方法。