JP2010249721A - Encoder - Google Patents

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JP2010249721A
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Noriyuki Abe
慶行 阿部
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an encoder for suppressing decline of detection accuracy. <P>SOLUTION: This encoder includes: a rotation part having a pattern; a detection part for detecting the pattern; and a suppression part provided on the rotation part, for reducing circulation of liquid into the pattern. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、エンコーダに関するものである。   The present invention relates to an encoder.

モータの回転軸など回転体の回転数を検出する装置として、エンコーダが知られている(特許文献1)。エンコーダは、例えばモータの回転軸に取り付けられて用いられる。エンコーダの具体的構成として、例えば光や磁気を用いて回転数を検出する構成が知られている。このような構成のエンコーダは、例えば、所定の光学パターンや磁気パターンなどのパターンを有する回転部を回転軸と一体的に回転させ、パターンの変化をセンサによって読み取ることで、モータの回転軸の回転数を検出できるようになっている。   An encoder is known as a device that detects the number of rotations of a rotating body such as a rotating shaft of a motor (Patent Document 1). For example, the encoder is used by being attached to a rotating shaft of a motor. As a specific configuration of the encoder, for example, a configuration for detecting the rotational speed using light or magnetism is known. The encoder having such a configuration, for example, rotates a rotating part having a pattern such as a predetermined optical pattern or magnetic pattern integrally with the rotating shaft, and reads a change in the pattern with a sensor, thereby rotating the rotating shaft of the motor. The number can be detected.

特開2009−8458号公報JP 2009-8458 A

しかしながら、回転軸の回転動作を続けるうちに、モータなどの内部に付着されていた回転軸の潤滑油などの液体成分が回転軸を伝わってエンコーダ側へ流れてくる場合がある。当該液体成分が流れている状態を放置すると、液体成分がパターン上に付着し、検出精度が低下する場合がある。   However, as the rotating shaft continues to rotate, liquid components such as lubricating oil of the rotating shaft that has adhered to the inside of the motor or the like may flow along the rotating shaft to the encoder side. If the state in which the liquid component is flowing is left unattended, the liquid component may adhere to the pattern and the detection accuracy may be reduced.

このような事情に鑑み、本発明の目的は、検出精度の低下を抑制することが可能なエンコーダを提供することにある。   In view of such circumstances, an object of the present invention is to provide an encoder capable of suppressing a decrease in detection accuracy.

本発明に係るエンコーダは、パターン(24、M)を有する回転部(R)と、前記パターンを検出する検出部(D)と、前記回転部に設けられ、前記パターンへの流体の流通を低減する抑制部(25)とを備える。   The encoder according to the present invention is provided in the rotating part (R) having the pattern (24, M), the detecting part (D) for detecting the pattern, and the rotating part, and reduces the flow of fluid to the pattern. And a suppressor (25).

本発明によれば、検出精度の低下を抑制することが可能となる。   According to the present invention, it is possible to suppress a decrease in detection accuracy.

本発明の実施の形態に係るエンコーダの構成を示す断面図。Sectional drawing which shows the structure of the encoder which concerns on embodiment of this invention. 本実施形態に係るエンコーダの動作の様子を示す断面図。Sectional drawing which shows the mode of operation | movement of the encoder which concerns on this embodiment. 本発明に係る他のエンコーダの一部の構成を示す断面図。Sectional drawing which shows the structure of a part of other encoder which concerns on this invention. 本発明に係る他のエンコーダの一部の構成を示す断面図。Sectional drawing which shows the structure of a part of other encoder which concerns on this invention. 本発明に係る他のエンコーダの一部の構成を示す断面図。Sectional drawing which shows the structure of a part of other encoder which concerns on this invention. 本発明に係る他のエンコーダの一部の構成を示す断面図。Sectional drawing which shows the structure of a part of other encoder which concerns on this invention. 本発明に係る他のエンコーダの一部の構成を示す断面図。Sectional drawing which shows the structure of a part of other encoder which concerns on this invention. 本発明に係る他のエンコーダの一部の構成を示す断面図。Sectional drawing which shows the structure of a part of other encoder which concerns on this invention. 本発明に係る他のエンコーダの一部の構成を示す断面図。Sectional drawing which shows the structure of a part of other encoder which concerns on this invention.

以下、図面を参照して本発明の実施の形態を説明する。
図1は、エンコーダECの構成を示す断面図である。
エンコーダECは、回転部材R、磁石部材M及び検出機構Dを有している。エンコーダECは、回転部材R及び磁石部材Mが一体的に設けられており、これらが検出機構Dを構成する筐体30内に収容された状態で用いられる。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.
FIG. 1 is a cross-sectional view showing the configuration of the encoder EC.
The encoder EC has a rotating member R, a magnet member M, and a detection mechanism D. The encoder EC is integrally provided with a rotating member R and a magnet member M, and these are used in a state where they are accommodated in a casing 30 that constitutes a detection mechanism D.

回転部材Rは、回転体である例えばモータMRの回転軸40に固定されている。回転部材Rは、回転軸40を中心軸として当該回転軸40と一体的に回転する。回転部材Rは、例えばSUSなどによって円盤状に形成されている。回転部材Rの構成材料として、他の材料を用いても勿論構わない。回転部材Rは、ハブ20、パターン形成部21、突出部22、凹部23及び流通抑制部25を有している。   The rotating member R is fixed to a rotating shaft 40 of a motor MR that is a rotating body, for example. The rotating member R rotates integrally with the rotating shaft 40 with the rotating shaft 40 as a central axis. The rotating member R is formed in a disk shape by, for example, SUS. Of course, other materials may be used as the constituent material of the rotating member R. The rotating member R includes a hub 20, a pattern forming part 21, a protruding part 22, a recessed part 23, and a flow restriction part 25.

ハブ20の下面側には、平面視中央部に挿入穴20a(図2参照)が形成されている。挿入穴20aは、上記モータMRの回転軸40が挿入されるようになっている。ハブ20は、回転軸40が挿入穴20aに挿入された状態で回転軸40とハブ20との間を固定する固定機構(不図示)を有している。   On the lower surface side of the hub 20, an insertion hole 20a (see FIG. 2) is formed in the central portion in plan view. The rotation hole 40 of the motor MR is inserted into the insertion hole 20a. The hub 20 has a fixing mechanism (not shown) that fixes the rotating shaft 40 and the hub 20 in a state where the rotating shaft 40 is inserted into the insertion hole 20a.

パターン形成部21は、ハブ20の周縁部に設けられた円環状の部分である。パターン形成部21の上面21aは平坦に形成されている。上面21aには光反射パターン24が形成されている。   The pattern forming portion 21 is an annular portion provided on the peripheral edge of the hub 20. The upper surface 21a of the pattern forming portion 21 is formed flat. A light reflection pattern 24 is formed on the upper surface 21a.

光反射パターン24は、上面21aの他の部分よりも光反射率の低い低反射領域24aを有している。低反射領域24aは、例えばクロム(Cr)などの薄膜によって形成されている。低反射領域24aは、上面21aの他の部分よりも反射率が低くなっている。低反射領域24aは、パターン形成部21の形状に沿って円周方向に所定の間隔で配置されている。   The light reflection pattern 24 has a low reflection region 24a having a light reflectance lower than that of other portions of the upper surface 21a. The low reflection region 24a is formed of a thin film such as chromium (Cr). The low reflection region 24a has a lower reflectance than other portions of the upper surface 21a. The low reflection regions 24 a are arranged at predetermined intervals in the circumferential direction along the shape of the pattern forming portion 21.

この他、例えば上面21a自体を着色加工したり、粗面加工したりすることで低反射領域24aを形成しても構わない。パターン形成部21は、光反射パターン24が形成された領域を含めて、ほぼ全体がアクリル樹脂などの透明保護膜(不図示)によって被覆されている。このように、光反射パターン24は、円板状に形成された回転部材Rの第1円板面Ra(図中上面側)に設けられている。   In addition, for example, the low reflection region 24a may be formed by coloring or roughening the upper surface 21a itself. The pattern forming portion 21 is almost entirely covered with a transparent protective film (not shown) such as an acrylic resin, including the region where the light reflection pattern 24 is formed. Thus, the light reflection pattern 24 is provided on the first disk surface Ra (upper surface side in the drawing) of the rotating member R formed in a disk shape.

突出部22は、ハブ20の平面視中央に設けられており、ハブ20の上面側に突出して形成されている。凹部23は、ハブ20の上面側において、パターン形成部21と突出部22との間に環状に形成されている部分である。凹部23には、磁石部材Mが収容されるようになっている。   The protruding portion 22 is provided at the center of the hub 20 in plan view, and is formed to protrude from the upper surface side of the hub 20. The concave portion 23 is a portion formed in an annular shape between the pattern forming portion 21 and the protruding portion 22 on the upper surface side of the hub 20. The magnet member M is accommodated in the recess 23.

流通抑制部25は、ハブ20の下面側、すなわち、円板状に形成された回転部材Rの第2円板面Rbに形成されていることになる。流通抑制部25は、例えば溝状に形成されている。流通抑制部25は、回転軸40の近傍に設けられている。本実施形態では、流通抑制部25は、例えば当該回転軸40を囲うように形成され、回転軸40を中心とする円環状に形成されている。したがって、流通抑制部25は、回転部材Rの周方向に沿って設けられていることになる。   The flow restricting portion 25 is formed on the lower surface side of the hub 20, that is, on the second disk surface Rb of the rotating member R formed in a disk shape. The distribution suppression unit 25 is formed in a groove shape, for example. The distribution suppressing unit 25 is provided in the vicinity of the rotation shaft 40. In the present embodiment, the flow restriction unit 25 is formed, for example, so as to surround the rotation shaft 40 and is formed in an annular shape centering on the rotation shaft 40. Therefore, the distribution suppressing unit 25 is provided along the circumferential direction of the rotating member R.

磁石部材Mは、回転部材Rの回転方向に沿って円環状に形成された永久磁石である。磁石部材Mは、例えば回転部材Rの周縁部に配置されている。磁石部材Mには、所定の磁気パターンが形成されている。磁石部材Mの磁気パターンとして、例えば回転軸40の軸方向に見て円環の半分の領域にN極に着磁され、円環の他の半分の領域がS極に着磁された磁気パターンなどが挙げられる。磁石部材Mは、回転部材Rの凹部23に収容されている。このばめ、磁気パターンは、円板状に形成された回転部材Rの第1円板面Ra側に形成されていることになる。回転部材Rと磁石部材Mとの間は、例えば不図示の接着剤などを介して固着されている。   The magnet member M is a permanent magnet formed in an annular shape along the rotating direction of the rotating member R. The magnet member M is arrange | positioned at the peripheral part of the rotation member R, for example. A predetermined magnetic pattern is formed on the magnet member M. As a magnetic pattern of the magnet member M, for example, a magnetic pattern in which an N-pole is magnetized in a half region of the ring as viewed in the axial direction of the rotary shaft 40 and another S-pole is magnetized in the other half region of the ring. Etc. The magnet member M is accommodated in the recess 23 of the rotating member R. This fitting and magnetic pattern is formed on the first disk surface Ra side of the rotating member R formed in a disk shape. The rotating member R and the magnet member M are fixed to each other through, for example, an adhesive (not shown).

検出機構Dは、上記の光反射パターン24及び磁石部材Mによる磁場を検出する部分である。検出機構Dは、筐体30、光センサ31及び磁気センサ32を有している。
筐体30は、例えば平面視円形のコップ状に形成されている。筐体30は、モータMRに固定されており、回転軸40とは固定されていない状態となっている。したがって、回転軸40が回転しても、筐体30とモータMRとの相対位置が変化しないようになっている。筐体30は、一体的に形成された回転部材R及び磁石部材Mを収容する。回転部材R及び磁石部材Mは、回転軸40の軸方向に見たときに、それぞれの中心が筐体30の中心に一致するように位置合わせされた状態で収容されている。
The detection mechanism D is a part that detects the magnetic field generated by the light reflection pattern 24 and the magnet member M. The detection mechanism D includes a housing 30, an optical sensor 31, and a magnetic sensor 32.
The housing | casing 30 is formed in the cup shape of planar view circular shape, for example. The housing 30 is fixed to the motor MR and is not fixed to the rotating shaft 40. Therefore, even if the rotating shaft 40 rotates, the relative position between the housing 30 and the motor MR does not change. The housing 30 accommodates the rotating member R and the magnet member M that are integrally formed. The rotating member R and the magnet member M are accommodated in a state of being aligned so that the respective centers thereof coincide with the center of the housing 30 when viewed in the axial direction of the rotating shaft 40.

光センサ31は、光反射パターン24へ向けて光を射出し、反射光を読み取ることで光反射パターン24を検出するセンサである。光センサ31は、例えば回転部材Rの光反射パターン24に対して、回転軸40の軸方向に見て重なる位置に配置されている。光センサ31は、光を射出する発光部及び反射光を受光する受光部を有する。発光部としては、例えばLEDなどが用いられる。受光部としては、例えば光電素子などが用いられる。受光部によって読み取られた光は、電気信号として不図示の制御装置に送信されるようになっている。光センサ31を構成する各部は、筐体30に保持されている。   The optical sensor 31 is a sensor that detects the light reflection pattern 24 by emitting light toward the light reflection pattern 24 and reading the reflected light. For example, the optical sensor 31 is disposed at a position overlapping the light reflection pattern 24 of the rotating member R when viewed in the axial direction of the rotating shaft 40. The optical sensor 31 includes a light emitting unit that emits light and a light receiving unit that receives reflected light. For example, an LED or the like is used as the light emitting unit. As the light receiving unit, for example, a photoelectric element or the like is used. The light read by the light receiving unit is transmitted as an electric signal to a control device (not shown). Each part constituting the optical sensor 31 is held by the housing 30.

磁気センサ32は、例えば磁石部材Mに対して回転軸40の軸方向に見て重なる位置に一対配置されている(磁気センサ32A及び32B)。各磁気センサ32A及び32Bは、バイアス磁石(不図示)及び磁気抵抗素子(不図示)を有している。磁気センサ32A及び32Bは、それぞれ筐体30に保持されている。   For example, a pair of magnetic sensors 32 are arranged at positions overlapping the magnet member M when viewed in the axial direction of the rotary shaft 40 (magnetic sensors 32A and 32B). Each magnetic sensor 32A and 32B has a bias magnet (not shown) and a magnetoresistive element (not shown). The magnetic sensors 32A and 32B are respectively held by the housing 30.

バイアス磁石は、磁石部材Mの磁場との間で合成磁場を形成する磁石である。バイアス磁石を構成する材料として、例えばサマリューム・コバルトなどの磁力の大きい希土類磁石などが挙げられる。バイアス磁石は、磁気抵抗素子に接触したり、隣接したりしない位置に配置されている。   The bias magnet is a magnet that forms a combined magnetic field with the magnetic field of the magnet member M. As a material constituting the bias magnet, for example, a rare earth magnet having a large magnetic force such as samarium / cobalt can be cited. The bias magnet is disposed at a position where it does not contact or adjoin the magnetoresistive element.

磁気抵抗素子は、例えば金属配線などによって形成された直交する2つの繰り返しパターンを有している。磁気抵抗素子は、磁場の方向が当該繰り返しパターンに流れる電流の方向の垂直方向に近くなると電気抵抗が低下するようになっている。磁気抵抗素子は、この電気抵抗の低下を利用して磁場の方向を電気信号に変換するようになっている。磁気抵抗素子は、磁石部材Mの磁場及びバイアス磁石の磁場による合成磁場を検出するようになっている。検出結果は、電気信号として上記の制御装置(不図示)に送信されるようになっている。   The magnetoresistive element has two orthogonal repeating patterns formed by, for example, metal wiring. In the magnetoresistive element, the electric resistance decreases when the direction of the magnetic field is close to the direction perpendicular to the direction of the current flowing in the repetitive pattern. The magnetoresistive element converts the direction of the magnetic field into an electric signal by utilizing the decrease in electric resistance. The magnetoresistive element is adapted to detect a combined magnetic field generated by the magnetic field of the magnet member M and the magnetic field of the bias magnet. The detection result is transmitted as an electric signal to the control device (not shown).

制御装置は、光センサ31の受光部からの出力に基づいて回転軸40の回転角度を求めると共に、磁気センサ32A及び32Bからの出力に基づいて回転軸40の回転数を求める処理を行う。   The control device performs a process of obtaining the rotation angle of the rotation shaft 40 based on the output from the light receiving unit of the optical sensor 31 and obtaining the rotation speed of the rotation shaft 40 based on the outputs from the magnetic sensors 32A and 32B.

次に、上記のように構成されたエンコーダECの動作を説明する。
モータMRの回転軸40が回転すると、当該回転軸40に一体的に取り付けられた回転部材R及び磁石部材Mが回転軸40と一体的に回転する。モータMRに固定された検出機構Dについては、回転軸40には接続されていないため、回転せずに静止した状態となる。
Next, the operation of the encoder EC configured as described above will be described.
When the rotating shaft 40 of the motor MR rotates, the rotating member R and the magnet member M attached to the rotating shaft 40 integrally rotate with the rotating shaft 40. Since the detection mechanism D fixed to the motor MR is not connected to the rotating shaft 40, it remains stationary without rotating.

回転部材Rが回転すると、当該回転部材Rに形成された光反射パターン24が回転方向に移動する。光センサ31は、移動する光反射パターン24へ光を射出し、反射光を読み取ることで光反射パターン24の移動角度を検出する。   When the rotation member R rotates, the light reflection pattern 24 formed on the rotation member R moves in the rotation direction. The optical sensor 31 emits light to the moving light reflection pattern 24 and detects the movement angle of the light reflection pattern 24 by reading the reflected light.

磁石部材Mが回転すると、当該磁石部材Mの磁気パターンによって形成される磁場とバイアス磁石の磁場との合成磁場が周期的に変化する。磁気センサ32A及び32Bは、当該合成磁場の変化の周期を検出することにより、磁石部材M(回転軸)の回転数を検出する。   When the magnet member M rotates, the combined magnetic field of the magnetic field formed by the magnetic pattern of the magnet member M and the magnetic field of the bias magnet changes periodically. The magnetic sensors 32A and 32B detect the number of rotations of the magnet member M (rotating shaft) by detecting the period of change of the combined magnetic field.

回転軸40の回転動作を続けるうちに、モータMRの内部に付着されていた回転軸40の潤滑油などの液体成分が回転軸40を伝わってエンコーダEC側へ流れてくる場合がある。当該液体成分が流れている状態を放置すると、液体成分が筐体30内に飛散したり、光反射パターン24や磁気パターン上に付着したりし、検出精度が低下する場合がある。   As the rotary shaft 40 continues to rotate, liquid components such as lubricating oil of the rotary shaft 40 attached to the inside of the motor MR may flow along the rotary shaft 40 to the encoder EC side. If the state in which the liquid component is flowing is left unattended, the liquid component may scatter in the housing 30 or adhere to the light reflection pattern 24 or the magnetic pattern, which may reduce the detection accuracy.

これに対して、本実施形態においては、ハブ20のモータMR側に流通抑制部25が形成されているため、図2に示すように、回転軸40を伝わって流れてくる液体成分Qが流通抑制部25に保持されることになる。このため、液体成分Qが筐体30内に飛散するのを回避することができ、光反射パターン24や磁気パターン上に付着するのを防ぐことができる。   On the other hand, in the present embodiment, since the flow restricting portion 25 is formed on the motor MR side of the hub 20, the liquid component Q flowing along the rotating shaft 40 flows as shown in FIG. It will be held by the suppression unit 25. For this reason, it is possible to avoid the liquid component Q from being scattered in the housing 30 and to prevent the liquid component Q from adhering to the light reflection pattern 24 or the magnetic pattern.

以上のように、本実施形態によれば、光反射パターン24や磁気パターンを有する回転部材Rと、当該光反射パターン24及び磁気パターンを検出する検出部31、32と、回転部材Rに設けられ、光反射パターン24及び磁気パターンへの液体成分Qの流通を低減する流通抑制部25とを備えるので、液体成分Qが筐体30内に飛散するのを回避することができ、光反射パターン24や磁気パターン上に付着するのを防ぐことができる。これにより、検出精度の低下を抑制することができる。   As described above, according to the present embodiment, the rotary member R having the light reflection pattern 24 and the magnetic pattern, the detection units 31 and 32 that detect the light reflection pattern 24 and the magnetic pattern, and the rotary member R are provided. In addition, since the light reflection pattern 24 and the flow suppression unit 25 that reduces the flow of the liquid component Q to the magnetic pattern are provided, the liquid component Q can be prevented from scattering into the housing 30, and the light reflection pattern 24. And adhesion on the magnetic pattern can be prevented. Thereby, the fall of detection accuracy can be suppressed.

本発明の技術範囲は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更を加えることができる。
上記実施形態においては、流通抑制部25が回転軸40の周囲に1重に形成されている構成を例に挙げて説明したが、これに限られることは無い。例えば図3に示すように、流通抑制部25が回転軸40の周りに多重に形成されている構成としても構わない。図3では、流通抑制部25は、例えば回転軸40を囲うように環状に形成された溝状の抑制部25aと、当該抑制部25aを囲うように環状に形成された溝状の抑制部25bとを有する構成となっている。このように、回転軸40から回転の径方向に複数段設けられている構成としても構わない。
The technical scope of the present invention is not limited to the above-described embodiment, and appropriate modifications can be made without departing from the spirit of the present invention.
In the said embodiment, although the distribution | circulation suppression part 25 mentioned and demonstrated as an example the structure currently formed in the circumference | surroundings of the rotating shaft 40, it is not restricted to this. For example, as shown in FIG. 3, the flow restriction unit 25 may be formed in a multiple manner around the rotation shaft 40. In FIG. 3, the flow restricting portion 25 includes, for example, a groove-like restricting portion 25 a formed in an annular shape so as to surround the rotation shaft 40, and a groove-like restricting portion 25 b formed in an annular shape so as to surround the restricting portion 25 a. It has composition which has. As described above, a configuration in which a plurality of stages are provided in the radial direction of rotation from the rotating shaft 40 may be employed.

また、上記実施形態においては、流通抑制部25が溝状に形成された構成を例に挙げて説明したが、これに限られることは無く、例えば図4に示すように、流通抑制部25が突起部によって構成されるようにしても構わない。図4に示す構成では、回転部材Rの第2円板面Rb側に回転軸40を囲うように環状の突起部25cが形成されている。当該突起部25cと回転軸40との間には、凹部25dが形成されることになる。モータからの液体成分は、当該凹部25dに収容されることで、流通が規制されることになる。   Moreover, in the said embodiment, although demonstrated taking the example of the structure by which the flow suppression part 25 was formed in groove shape, it is not restricted to this, For example, as shown in FIG. You may make it comprise with a projection part. In the configuration shown in FIG. 4, an annular protrusion 25 c is formed on the second disc surface Rb side of the rotating member R so as to surround the rotating shaft 40. A recess 25d is formed between the protrusion 25c and the rotary shaft 40. The liquid component from the motor is accommodated in the concave portion 25d, whereby the circulation is restricted.

また、図5に示すように、当突起部25cを回転軸40から回転の径方向に複数段設ける構成としても構わない。図5では、ハブ20の段差部分ごとに突起部25cを設けた構成としている。このように、ハブ20に段差部分がある場合には、当該段差部分を用いることにより、効率的に凹部25dを形成することができる。   In addition, as shown in FIG. 5, the projecting portion 25 c may be provided in a plurality of stages in the radial direction of rotation from the rotating shaft 40. In FIG. 5, a protrusion 25 c is provided for each step portion of the hub 20. Thus, when the hub 20 has a stepped portion, the recessed portion 25d can be efficiently formed by using the stepped portion.

また、上記実施形態においては、流通抑制部25の断面形状が矩形となるように形成された構成を例に挙げて説明したが、これに限られることは無い。例えば図6に示すように、流通抑制部25の形状が断面視で三角形となるように形成しても構わない。図6に示す構成においては、溝部の底面が回転軸40側に傾いた構成となっている。また、図7に示すように、断面視で三角形となるように流通抑制部25を形成する場合において、溝部の底面が回転軸40から回転の径方向の外側に向けて傾く構成としても構わない。   Moreover, in the said embodiment, although demonstrated taking the example of the structure formed so that the cross-sectional shape of the distribution | circulation suppression part 25 might become a rectangle, it is not restricted to this. For example, as shown in FIG. 6, you may form so that the shape of the distribution suppression part 25 may become a triangle by sectional view. In the configuration shown in FIG. 6, the bottom surface of the groove portion is inclined to the rotating shaft 40 side. Further, as shown in FIG. 7, in the case where the flow restricting portion 25 is formed so as to have a triangular shape in a cross-sectional view, the bottom surface of the groove portion may be inclined from the rotation shaft 40 toward the outside in the radial direction of rotation. .

また、図8に示すように、流通抑制部25の断面形状を三角形ではなく例えば半円形となるように形成しても構わない。また、図9に示すように、溝の底部に至るにつれて溝幅(回転の径方向の寸法)が徐々に大きくなるように流通抑制部25を形成しても構わない。この場合、流通抑制部25に保持された液体成分が流通抑制部25の外にはみ出してしまうのを効果的に抑えることができる。   Moreover, as shown in FIG. 8, you may form the cross-sectional shape of the distribution | circulation suppression part 25 so that it may become a semicircle instead of a triangle. Further, as shown in FIG. 9, the flow restricting portion 25 may be formed so that the groove width (dimension in the radial direction of rotation) gradually increases toward the bottom of the groove. In this case, it is possible to effectively suppress the liquid component held in the flow restriction unit 25 from protruding outside the flow restriction unit 25.

また、上述の各実施形態において、流通抑制部25は、回転軸40の近傍に形成されているが、回転軸40より所定距離を離間して形成されてもよい。   Further, in each of the above-described embodiments, the flow suppression unit 25 is formed in the vicinity of the rotation shaft 40, but may be formed at a predetermined distance from the rotation shaft 40.

EC…エンコーダ 40…回転軸 R…回転部材(回転部) M…磁石部材(磁気パターン) D…検出機構(検出部) MR…モータ 21…パターン形成部 24…光反射パターン 25…流通抑制部(抑制部) 31…光センサ 32…磁気センサ   EC ... Encoder 40 ... Rotating shaft R ... Rotating member (rotating part) M ... Magnetic member (magnetic pattern) D ... Detecting mechanism (detecting part) MR ... Motor 21 ... Pattern forming part 24 ... Light reflection pattern 25 ... Distribution suppressing part ( Suppressing part) 31 ... Optical sensor 32 ... Magnetic sensor

Claims (12)

パターンを有する回転部と、
前記パターンを検出する検出部と、
前記回転部に設けられ、前記パターンへの流体の流通を低減する抑制部と
を備えることを特徴とするエンコーダ。
A rotating part having a pattern;
A detection unit for detecting the pattern;
An encoder comprising: a suppressing unit provided in the rotating unit and configured to reduce a flow of fluid to the pattern.
前記抑制部は、前記回転部の回転軸の近傍に設けられている
ことを特徴とする請求項1に記載のエンコーダ。
The encoder according to claim 1, wherein the suppressing unit is provided in the vicinity of a rotating shaft of the rotating unit.
前記抑制部は、前記回転部の回転軸を囲うように設けられている
ことを特徴とする請求項1又は請求項2に記載のエンコーダ。
The encoder according to claim 1, wherein the suppression unit is provided so as to surround a rotation shaft of the rotation unit.
前記抑制部は、前記回転部の回転軸を中心とする円環状に形成されている
ことを特徴とする請求項1から請求項3のうちいずれか一項に記載のエンコーダ。
The encoder according to any one of claims 1 to 3, wherein the suppressing unit is formed in an annular shape centering on a rotation axis of the rotating unit.
前記抑制部は、前記回転部の回転軸から径方向に複数段設けられている
ことを特徴とする請求項1から請求項4のうちいずれか一項に記載のエンコーダ。
The encoder according to any one of claims 1 to 4, wherein the suppression unit is provided in a plurality of stages in a radial direction from a rotation shaft of the rotation unit.
前記抑制部は、前記回転部の周方向に沿って設けられている
ことを特徴とする請求項1から請求項5のうちいずれか一項に記載のエンコーダ。
The encoder according to any one of claims 1 to 5, wherein the suppressing unit is provided along a circumferential direction of the rotating unit.
前記パターンは、前記回転部の第1円板面に設けられており、
前記抑制部は、前記第1円板面とは反対側の第2円板面に設けられている
ことを特徴とする請求項1から請求項6のうちいずれか一項に記載のエンコーダ。
The pattern is provided on the first disk surface of the rotating part,
The encoder according to any one of claims 1 to 6, wherein the suppressing portion is provided on a second disk surface opposite to the first disk surface.
前記抑制部は、溝状に形成されている
ことを特徴とする請求項1から請求項7のうちいずれか一項に記載のエンコーダ。
The encoder according to any one of claims 1 to 7, wherein the suppressing portion is formed in a groove shape.
前記抑制部は、突起状に形成されている
ことを特徴とする請求項1から請求項7のうちいずれか一項に記載のエンコーダ。
The encoder according to any one of claims 1 to 7, wherein the suppressing portion is formed in a protruding shape.
前記回転部は、モータ装置の回転軸部材に取り付けられて用いられ、
前記流体は、前記モータ装置から流通する
ことを特徴とする請求項1から請求項9のうちいずれか一項に記載のエンコーダ。
The rotating part is used by being attached to a rotating shaft member of a motor device,
The encoder according to any one of claims 1 to 9, wherein the fluid flows from the motor device.
前記パターンは、光学パターンである
ことを特徴とする請求項1から請求項10のうちいずれか一項に記載のエンコーダ。
The encoder according to any one of claims 1 to 10, wherein the pattern is an optical pattern.
前記回転部は、磁気パターンを有し、
前記磁気パターンを検出する第2検出部を備える
ことを特徴とする請求項1から請求項11のうちいずれか一項に記載のエンコーダ。
The rotating part has a magnetic pattern,
The encoder according to any one of claims 1 to 11, further comprising a second detection unit that detects the magnetic pattern.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012225677A (en) * 2011-04-15 2012-11-15 Nikon Corp Encoder, driving device, and robot device

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