JP2010156574A - Mems and method of manufacturing the same - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a MEMS precisely and reliably setting a gap between a movable part and a stopper with high manufacturing yield. <P>SOLUTION: The MEMS is provided with: a die including a support part and the movable part moving relative to the support part; a stopper disposed opposite the movable part at a position limiting the moving range of the movable part; a spacer that is a resin held between the stopper and the support part in the direction limiting the moving range of the movable part and including a hard resin harder than a sealing resin; and an adhesive layer connecting the support part to the stopper on a side opposite the movable part from the spacer. The spacer extends between the adhesive layer and the movable part in a direction blocking a space between the adhesive layer and the movable part. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明はMEMS(Micro Electro Mechanical Systems)およびMEMSの製造方法に関する。 The present invention relates to MEMS (Micro Electro Mechanical Systems) and a method for manufacturing MEMS.

従来、錘部に作用する慣性力によって生じる可撓部の変形をピエゾ抵抗素子などで検出することにより、加速度などを検出するMEMSセンサが知られている。しかし、このようなMEMSセンサに対して過度な加速度が印加されると可撓部の変形が限界に達し、可撓部が破損することがある。そのため、錘部や可撓部といった可動部の運動範囲を制限する種々の構成が考案されている。   2. Description of the Related Art Conventionally, a MEMS sensor that detects acceleration or the like by detecting deformation of a flexible portion caused by an inertial force acting on a weight portion with a piezoresistive element or the like is known. However, when excessive acceleration is applied to such a MEMS sensor, the deformation of the flexible part reaches a limit, and the flexible part may be damaged. Therefore, various configurations have been devised that limit the range of motion of movable parts such as weights and flexible parts.

特許文献1には、ダイの可動部の運動範囲を制限するためのカバーがダイに陽極接合される構成が記載されている。特許文献2、3には、固体のスペーサを用いてストッパとダイの可動部とのギャップが設定される加速度センサが記載されている。特許文献4にはストッパとダイとを結合するための接着剤にビーズを混ぜてストッパとダイの可動部とのギャップを設定する加速度センサが記載されている。特許文献5にはストッパとダイとを結合するための接着剤を留める凹部が形成された加速度センサが記載されている。   Patent Document 1 describes a configuration in which a cover for limiting the range of motion of a movable portion of a die is anodically bonded to the die. Patent Documents 2 and 3 describe acceleration sensors in which a gap between a stopper and a movable part of a die is set using a solid spacer. Patent Document 4 describes an acceleration sensor that sets a gap between a stopper and a movable part of a die by mixing beads in an adhesive for bonding the stopper and the die. Patent Document 5 describes an acceleration sensor in which a recess for fastening an adhesive for joining a stopper and a die is formed.

特開2006−208272号公報JP 2006-208272 A 特開2006−317180号公報JP 2006-317180 A 特開2006−317181号公報JP 2006-317181 A 特開2004−233072号公報JP 2004-233072 A 特開2006−153519号公報JP 2006-153519 A

しかし、特許文献1に記載された構成では、可動部が形成されたダイとカバーとが陽極接合されることでダイに応力が残り、また、陽極接合により製造コストが増大する。また、特許文献2、3に記載された構成では、スペーサ周りの接着剤がダイの可動部に付着するおそれがある。また特許文献4に記載された構成では、接着剤にビーズを満遍なく混ぜることが困難であるため、ストッパとダイの可動部とのギャップを確保できない場合がある。また特許文献5に記載された構成では、凹部からあふれた接着剤がダイの可動部に付着することによって、歩留まりが低下する。また、特許文献2から5に記載された構成では、接着剤が可動部に付着しないとしても、接着剤のパターンが一定にならないため、接着剤とダイとの界面に生ずる応力がばらつき、その結果、センサの特性にばらつきが生ずる。   However, in the configuration described in Patent Document 1, stress remains in the die due to anodic bonding between the die on which the movable part is formed and the cover, and the manufacturing cost increases due to anodic bonding. In the configurations described in Patent Documents 2 and 3, the adhesive around the spacer may adhere to the movable part of the die. Further, in the configuration described in Patent Document 4, it is difficult to uniformly mix the beads with the adhesive, and thus there may be a case where a gap between the stopper and the movable portion of the die cannot be secured. Moreover, in the structure described in patent document 5, the yield falls by the adhesive agent overflowing from the recessed part adhering to the movable part of die | dye. Further, in the configurations described in Patent Documents 2 to 5, even if the adhesive does not adhere to the movable part, the pattern of the adhesive is not constant, so the stress generated at the interface between the adhesive and the die varies, and as a result. Variations in sensor characteristics occur.

本発明はこうした問題に鑑みて創作されたものであって、可動部とストッパとの間のギャップを精度良く確実に設定でき製造歩留まりが高いMEMSの提供を目的の1つとする。   The present invention has been created in view of these problems, and an object of the present invention is to provide a MEMS that can accurately and reliably set the gap between the movable portion and the stopper and has a high manufacturing yield.

(1)上記目的を達成するためのMEMSは、支持部と、前記支持部に対して相対的に運動する可動部と、を有するダイと、前記可動部の運動範囲を制限する位置において前記可動部に対向するストッパと、前記可動部の運動範囲が制限される方向において前記ストッパと前記支持部とに挟まれている樹脂であって封止樹脂よりも硬質の硬質樹脂からなるスペーサと、前記支持部と前記ストッパとを結合している接着層と、を備え、前記スペーサは前記接着層と前記可動部との間において前記接着層と前記可動部との間を遮る方向に延びている。   (1) The MEMS for achieving the above object includes a die having a support portion, a movable portion that moves relative to the support portion, and the movable portion at a position that limits a movement range of the movable portion. A stopper opposed to the part, a spacer sandwiched between the stopper and the support part in a direction in which the range of motion of the movable part is limited, and a spacer made of a hard resin harder than the sealing resin, An adhesive layer that joins the support portion and the stopper, and the spacer extends between the adhesive layer and the movable portion in a direction that blocks between the adhesive layer and the movable portion.

本発明によると、熱硬化性の封止樹脂からスペーサを構成する場合に比べ、封止樹脂よりも硬質の硬質樹脂からなるスペーサがストッパと支持部との間に挟まれるため、ダイの可動部とストッパとのギャップを精度良く確実に設定できる。また、スペーサが接着層と可動部との間において接着層と可動部との間を遮る方向に延びているため、接着層を構成する接着剤が可動部へと流れて付着することを防止できる。このため、製造歩留まりが高まる。   According to the present invention, since the spacer made of hard resin harder than the sealing resin is sandwiched between the stopper and the support portion compared to the case where the spacer is made of thermosetting sealing resin, the movable portion of the die And the stopper can be set accurately and reliably. In addition, since the spacer extends in a direction that blocks between the adhesive layer and the movable part between the adhesive layer and the movable part, it is possible to prevent the adhesive constituting the adhesive layer from flowing and adhering to the movable part. . For this reason, a manufacturing yield increases.

(2)上記目的を達成するためのMEMSにおいて、前記スペーサは、前記接着層より前記可動部とは反対側において途切れていてもよい。
本発明によると、接着層を構成する接着剤のうちスペーサと支持部とストッパとによって囲まれる空間に収まりきらない接着剤を可動部とは反対側に逃がすことができる。よって、接着剤が可動部に付着することを防止できる。なお、スペーサが接着層より可動部の反対側まで延びて途切れていてもよいし、スペーサが接着層より可動部の反対側まで延びていないため接着層より可動部とは反対側においてスペーサが存在しなくてもよい。
(2) In the MEMS for achieving the above object, the spacer may be interrupted on the side opposite to the movable part from the adhesive layer.
According to the present invention, an adhesive that does not fit in the space surrounded by the spacer, the support portion, and the stopper among the adhesive constituting the adhesive layer can be released to the side opposite to the movable portion. Therefore, it can prevent that an adhesive agent adheres to a movable part. Note that the spacer may extend from the adhesive layer to the opposite side of the movable part, and the spacer does not extend from the adhesive layer to the opposite side of the movable part, so there is a spacer on the opposite side of the adhesive layer from the movable part. You don't have to.

(3)上記目的を達成するためのMEMSにおいて、前記スペーサは、前記接着層を環状に包囲していてもよい。
本発明によると、接着層となる接着剤の広がりをスペーサによって一定の範囲内に確実に収めることができるため、接着層のパターンのばらつきを抑制することができる。したがって接着剤とダイとの界面に生ずる応力のばらつきを低減し、MEMSの特性のばらつきを低減できる。
(3) In the MEMS for achieving the above object, the spacer may surround the adhesive layer in an annular shape.
According to the present invention, since the spread of the adhesive serving as the adhesive layer can be reliably contained within a certain range by the spacer, variations in the pattern of the adhesive layer can be suppressed. Therefore, it is possible to reduce the variation in stress generated at the interface between the adhesive and the die and reduce the variation in the characteristics of the MEMS.

(4)上記目的を達成するためのMEMSにおいて、前記硬質樹脂は感光性樹脂であってもよい。
本発明によると、感光性樹脂を露光し現像することによってスペーサを形成できるため、スペーサのパターンを精度良く形成することができる。
(4) In the MEMS for achieving the above object, the hard resin may be a photosensitive resin.
According to the present invention, since the spacer can be formed by exposing and developing the photosensitive resin, the pattern of the spacer can be formed with high accuracy.

(5)上記目的を達成するためのMEMSの製造方法は、支持部と、前記支持部に対して相対的に運動する可動部と、を有するダイを備えるMEMSの製造方法であって、前記支持部の表面に接着剤を添加し、前記接着剤を添加する前に、封止樹脂よりも硬質の硬質樹脂からなり前記接着剤と前記可動部との間において前記接着剤と前記可動部との間を遮る方向に延びるスペーサを前記支持部の表面に形成し、前記可動部の運動範囲を制限する位置においてストッパが前記可動部に対向するように前記スペーサを前記可動部の運動範囲を制限する方向に挟み込んで前記支持部に前記ストッパを前記接着剤によって結合する、ことを含む。   (5) A MEMS manufacturing method for achieving the above object is a MEMS manufacturing method including a die having a support part and a movable part that moves relative to the support part. An adhesive is added to the surface of the part, and before the adhesive is added, the adhesive and the movable part are made of a hard resin harder than a sealing resin between the adhesive and the movable part. A spacer extending in a direction to block the gap is formed on the surface of the support portion, and the spacer limits the movement range of the movable portion so that a stopper faces the movable portion at a position where the movement range of the movable portion is limited. And inserting the stopper to the support portion with the adhesive.

本発明によると、接着剤が可動部へ流れて付着することを防止できるため製造歩留まりが高まる。具体的には、接着剤と可動部との間において接着剤と可動部との間を遮る方向に延びるようにスペーサを形成した後にダイに接着剤が添加され、支持部とストッパとが接着剤によって結合される。ダイとストッパによって押し潰された接着剤はスペーサにより堰きとめられるため、接着剤が可動部へと流れることを防止できる。また、硬質樹脂からなるスペーサをダイとストッパとの間に挟むことによって、ダイの可動部とストッパとのギャップを確実に設定できる。   According to the present invention, since the adhesive can be prevented from flowing and adhering to the movable part, the manufacturing yield is increased. Specifically, the adhesive is added to the die after the spacer is formed so as to extend in the direction of blocking between the adhesive and the movable part between the adhesive and the movable part, and the support part and the stopper are the adhesive. Combined by. Since the adhesive crushed by the die and the stopper is blocked by the spacer, it is possible to prevent the adhesive from flowing to the movable part. Further, by sandwiching a spacer made of hard resin between the die and the stopper, the gap between the movable part of the die and the stopper can be set reliably.

(6)上記目的を達成するためのMEMSの製造方法は、パッケージと、支持部と前記支持部に対して相対的に運動する可動部とを有し前記パッケージに収容されるダイとを備えるMEMSの製造方法であって、前記パッケージの前記支持部が結合される結合面に接着剤を添加し、前記接着剤を添加する前に、封止樹脂よりも硬質の硬質樹脂からなり前記接着剤と前記可動部との間において前記接着剤と前記可動部との間を遮る方向に延びるスペーサを前記結合面に形成し、前記可動部の運動範囲を制限する位置において前記結合面が前記可動部に対向するように前記スペーサを前記可動部の運動範囲を制限する方向に挟み込んで前記対向する面に前記支持部を前記接着剤によって結合する、ことを含む。   (6) A MEMS manufacturing method for achieving the above object includes a package and a die having a support portion and a movable portion that moves relative to the support portion and is accommodated in the package. The adhesive is added to a bonding surface to which the support portion of the package is bonded, and before the adhesive is added, the manufacturing method is made of a hard resin harder than a sealing resin and the adhesive. A spacer extending between the movable part and the adhesive and the movable part is formed on the coupling surface, and the coupling surface is located on the movable part at a position that limits a movement range of the movable part. And sandwiching the spacer in a direction that limits the range of motion of the movable part so as to face each other, and bonding the support part to the facing surface with the adhesive.

本発明によると、接着剤が可動部へ流れて付着することを防止できるため製造歩留まりが高まる。具体的には、接着剤と可動部との間において接着剤と可動部との間を遮る方向に延びるようにスペーサを形成した後にパッケージに接着剤が添加され、支持部とパッケージとが接着剤によって結合される。ダイとパッケージに押し潰された接着剤はボンディング用ワイヤにより堰きとめられるため、接着剤が可動部へと流れることを防止できる。また、硬質樹脂からなるスペーサをダイとパッケージとの間に挟むことによって、ダイの可動部とパッケージとのギャップを確実に設定できる。   According to the present invention, since the adhesive can be prevented from flowing and adhering to the movable part, the manufacturing yield is increased. Specifically, the adhesive is added to the package after the spacer is formed so as to extend between the adhesive and the movable part so as to block between the adhesive and the movable part, and the support part and the package are adhesive. Combined by. Since the adhesive crushed by the die and the package is dammed by the bonding wire, the adhesive can be prevented from flowing to the movable part. Further, by sandwiching a spacer made of hard resin between the die and the package, the gap between the movable part of the die and the package can be set reliably.

(7)上記目的を達成するためのMEMSの製造方法において、前記結合面に感光性樹脂を添加し、前記接着剤と前記可動部との間において前記接着剤と前記可動部との間を遮る方向に延びるパターンに前記感光性樹脂を露光し現像することによって前記硬質樹脂としての前記感光性樹脂からなる前記スペーサを形成してもよい。
本発明によると、スペーサのパターンを精度良く形成することができる。
(7) In the MEMS manufacturing method for achieving the above object, a photosensitive resin is added to the bonding surface to block between the adhesive and the movable part between the adhesive and the movable part. The spacer made of the photosensitive resin as the hard resin may be formed by exposing and developing the photosensitive resin in a pattern extending in a direction.
According to the present invention, the spacer pattern can be formed with high accuracy.

(8)上記目的を達成するためのMEMSの製造方法において、前記接着剤より前記可動部とは反対側において途切れるように前記スペーサのパターンを形成してもよい。
本発明によると、接着剤のうちスペーサと支持部とパッケージの当該支持部に対向する面とによって囲まれる空間に収まりきらない接着剤をスペーサより可動部とは反対側に逃がすことができる。なお、スペーサが接着剤より可動部の反対側まで延びて途切れていてもよいし、スペーサが接着剤より可動部の反対側まで延びていないため接着剤より可動部とは反対側においてスペーサが存在しなくてもよい。
(8) In the MEMS manufacturing method for achieving the above object, the spacer pattern may be formed so as to be interrupted on the side opposite to the movable part from the adhesive.
According to the present invention, the adhesive that does not fit in the space surrounded by the spacer, the support portion, and the surface of the package facing the support portion of the adhesive can be released from the spacer to the side opposite to the movable portion. In addition, the spacer may extend from the adhesive to the opposite side of the movable part, and the spacer does not extend from the adhesive to the opposite side of the movable part, so there is a spacer on the side opposite to the movable part from the adhesive. You don't have to.

(9)上記目的を達成するためのMEMSの製造方法において、前記接着剤を環状に包囲するように前記スペーサのパターンを形成してもよい。
本発明によると、接着剤の広がりをスペーサによって一定の範囲内に確実に収めることができるため、固化した接着剤からなる接着層のパターンのばらつきを抑制することができる。したがって接着層とダイとの界面に生ずる応力のばらつきを低減し、MEMSの特性のばらつきを低減できる。
(9) In the MEMS manufacturing method for achieving the above object, the spacer pattern may be formed so as to surround the adhesive in an annular shape.
According to the present invention, since the spread of the adhesive can be reliably accommodated within a certain range by the spacer, it is possible to suppress variations in the pattern of the adhesive layer made of the solidified adhesive. Therefore, it is possible to reduce variations in stress generated at the interface between the adhesive layer and the die, and to reduce variations in the characteristics of the MEMS.

なお、請求項に記載された動作の順序は、技術的な阻害要因がない限りにおいて記載順に限定されず、同時に実行されても良いし、記載順の逆順に実行されても良いし、連続した順序で実行されなくても良い。   Note that the order of operations described in the claims is not limited to the order of description as long as there is no technical obstruction factor, and may be executed at the same time, may be executed in the reverse order of the description order, or may be continuous. It does not have to be executed in order.

以下、本発明の実施の形態について添付図面を参照しながら以下の順に説明する。尚、各図において対応する構成要素には同一の符号が付され、重複する説明は省略される。
1.第一実施形態
(構成)
本発明のMEMSの第一実施形態であるモーションセンサ1を図1に示す。図1Bおよび図1Cにおいて、モーションセンサ1のダイ10を構成する層の界面は破線で示し、モーションセンサのダイ10を構成する機械的構成要素の境界は実線で示している。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in the following order with reference to the accompanying drawings. In addition, the same code | symbol is attached | subjected to the corresponding component in each figure, and the overlapping description is abbreviate | omitted.
1. First embodiment (Configuration)
The motion sensor 1 which is 1st embodiment of MEMS of this invention is shown in FIG. In FIG. 1B and FIG. 1C, the interface of the layer which comprises the die | dye 10 of the motion sensor 1 is shown with the broken line, and the boundary of the mechanical component which comprises the die | dye 10 of the motion sensor is shown with the continuous line.

モーションセンサ1は可動部を備える固体素子であるダイ10とストッパ201とを備える。ダイ10とストッパ201とは図示しないパッケージに収容される。
ストッパ201はダイ10に対向する面が平坦な板形である。ストッパ201の厚さは2mmである。ストッパ201は全体がダイ10に対向している。ストッパ201のダイ10に対向する面は、ダイ10のストッパ201に対向する面よりも小さく、ストッパ201のダイ10に対向する面の中心とダイ10のストッパ201に対向する面の中心とが面の垂直方向において重なっている。したがって、ダイ10の外周近傍に配置されたボンディングパッド108が全て露出するとともにダイ10の可動部を構成している可撓部Fおよび錘部Mの全体がストッパ201によって覆われている。
The motion sensor 1 includes a die 10 that is a solid element including a movable part and a stopper 201. The die 10 and the stopper 201 are accommodated in a package (not shown).
The stopper 201 has a plate shape with a flat surface facing the die 10. The thickness of the stopper 201 is 2 mm. The stopper 201 is entirely opposed to the die 10. The surface of the stopper 201 facing the die 10 is smaller than the surface of the die 10 facing the stopper 201, and the center of the surface of the stopper 201 facing the die 10 and the center of the surface of the die 10 facing the stopper 201 are surfaces. In the vertical direction. Therefore, all the bonding pads 108 arranged in the vicinity of the outer periphery of the die 10 are exposed, and the entire flexible portion F and weight portion M constituting the movable portion of the die 10 are covered with the stopper 201.

第1マーカー202は、ストッパ201のダイ10に対向する面に形成された堆積膜からなる。第1マーカー202はクロム(Cr)からなり、その厚さは0.1μmである。第1マーカー202は、ストッパ201をダイ10に結合する時の位置合わせに用いられる。そのため、第1マーカー202はストッパ201に2つ以上形成されることが好ましい。   The first marker 202 is made of a deposited film formed on the surface of the stopper 201 facing the die 10. The first marker 202 is made of chromium (Cr) and has a thickness of 0.1 μm. The first marker 202 is used for alignment when the stopper 201 is coupled to the die 10. Therefore, it is preferable that two or more first markers 202 are formed on the stopper 201.

ストッパ201とダイ10との位置合わせが容易に行えるように、ストッパ201は透明板として構成されていることが好ましい。例えばストッパ201の材料として石英、サファイア、ソーダライムガラス、透明結晶化ガラス、セラミックスを用いる。ケイ素(Si)、樹脂等からなる不透明板がストッパ201として用いられてもよい。また、ダイ10と接続されるLSIが形成されたダイ10とは別体の積層構造体(固体素子)をストッパ201として用いても良いし、ストッパ201に可動部のエアダンピングを低減するための通孔を形成しても良い。   The stopper 201 is preferably configured as a transparent plate so that the stopper 201 and the die 10 can be easily aligned. For example, quartz, sapphire, soda lime glass, transparent crystallized glass, and ceramics are used as the material of the stopper 201. An opaque plate made of silicon (Si), resin, or the like may be used as the stopper 201. Further, a stacked structure (solid element) separate from the die 10 on which the LSI connected to the die 10 is formed may be used as the stopper 201, or the stopper 201 may reduce air damping of the movable part. A through hole may be formed.

ストッパ201は接着層112によってダイ10の支持部Sに結合されている。接着層112のパターンは、図1Aにてハッチングにより示されているように、ダイ10の表面において4つの領域に分断されている。それぞれの接着層112はスペーサ114より外側に位置する。接着層112は、スペーサ114とストッパ201とダイ10とに接している。   The stopper 201 is coupled to the support portion S of the die 10 by the adhesive layer 112. The pattern of the adhesive layer 112 is divided into four regions on the surface of the die 10 as shown by hatching in FIG. 1A. Each adhesive layer 112 is located outside the spacer 114. The adhesive layer 112 is in contact with the spacer 114, the stopper 201, and the die 10.

スペーサ114は4つに分断されているそれぞれの接着層112毎に配置されている。スペーサ114は感光性ポリイミド、フォトレジスト等の感光性樹脂であって封止樹脂よりも硬質の硬質樹脂からなる。スペーサ114の材料として、ポリイミド等の封止樹脂よりも硬質であるが感光性のない樹脂を用いても良い。スペーサ114は、可撓部Fと接着層112との間の領域を横断している。そのため、接着層112を構成する接着剤が可撓部F、錘部Mに付着することを防止できる。具体的には、スペーサ114は、可撓部Fと接着層112との間において両者を隔てる方向に延び、ダイ10の外周まで達している。   The spacer 114 is disposed for each adhesive layer 112 divided into four. The spacer 114 is a photosensitive resin such as photosensitive polyimide or photoresist, and is made of a hard resin harder than the sealing resin. As the material of the spacer 114, a resin that is harder than the sealing resin such as polyimide but is not photosensitive may be used. The spacer 114 crosses the region between the flexible portion F and the adhesive layer 112. Therefore, it is possible to prevent the adhesive constituting the adhesive layer 112 from adhering to the flexible part F and the weight part M. Specifically, the spacer 114 extends in a direction separating the flexible part F and the adhesive layer 112 and reaches the outer periphery of the die 10.

スペーサ114は、弓形状の構造体を形成している。すなわち、スペーサ114によって囲まれる領域はダイ10の外側に向けて開放されている。したがって、接着層112を可撓部F、錘部Mおよびボンディングパッド108から隔離するとともに接着層112を構成する接着剤をダイ10の外側に向けて逃がすことができる。   The spacer 114 forms an arcuate structure. That is, the region surrounded by the spacer 114 is open toward the outside of the die 10. Therefore, the adhesive layer 112 can be separated from the flexible portion F, the weight portion M, and the bonding pad 108 and the adhesive constituting the adhesive layer 112 can be released toward the outside of the die 10.

また各スペーサ114の両端部はストッパ201の外側に位置し、具体的にはダイ10の外周上に位置する。すなわちスペーサ114はストッパ201とダイ10とが重なっている範囲においては、接着層112となる接着剤が広がる限界を完全に定めている。   Further, both end portions of each spacer 114 are located outside the stopper 201, specifically, on the outer periphery of the die 10. That is, the spacer 114 completely defines the limit in which the adhesive serving as the adhesive layer 112 spreads in the range where the stopper 201 and the die 10 overlap.

スペーサ114は、ダイ10のストッパ201に対向する面に対して垂直な方向においてストッパ201とダイ10とにより挟まれている。すなわちストッパ201とダイ10との間のギャップは、ストッパ201とダイ10の支持部Sとに接触しているスペーサ114の厚さによって設定されている。スペーサ114の厚さは例えば10μmとする。可撓部Fおよび錘部Mのストッパ201に接近する方向への運動範囲は、スペーサ114の厚さによって位置決めされているストッパ201によって制限される。そのため、可撓部Fがその限界を超えて変形し、破損することを防止できる。   The spacer 114 is sandwiched between the stopper 201 and the die 10 in a direction perpendicular to the surface of the die 10 facing the stopper 201. That is, the gap between the stopper 201 and the die 10 is set by the thickness of the spacer 114 in contact with the stopper 201 and the support portion S of the die 10. The thickness of the spacer 114 is, for example, 10 μm. The range of movement of the flexible portion F and the weight portion M in the direction approaching the stopper 201 is limited by the stopper 201 positioned by the thickness of the spacer 114. Therefore, it can prevent that the flexible part F deform | transforms beyond the limit and is damaged.

スペーサ114は、ダイ10に対してストッパ201が傾かないようにダイ10のストッパ201に対向する面に互いに離れて3つ以上配置されることが好ましい。本実施形態では、4つのスペーサ114がダイ10のストッパ201に対向する面の四隅に配置されている。   It is preferable that three or more spacers 114 are arranged apart from each other on the surface of the die 10 facing the stopper 201 so that the stopper 201 does not tilt with respect to the die 10. In the present embodiment, four spacers 114 are arranged at the four corners of the surface of the die 10 that faces the stopper 201.

ダイ10は、可動部を備える固体素子であればどのようなものであってもよい。図示されているダイ10は、互いに直交する3軸の加速度成分を検出する加速度センサを構成する積層構造体である。なお、加速度成分を検出するためのピエゾ抵抗素子や配線等は各図において省略されている。   The die 10 may be any solid element provided with a movable part. The illustrated die 10 is a laminated structure that constitutes an acceleration sensor that detects acceleration components of three axes orthogonal to each other. Note that a piezoresistive element, wiring, and the like for detecting the acceleration component are omitted in each drawing.

ダイ10は、シリコン層101と、エッチングストッパ層102と、シリコン層104と、絶縁層106、導電層107とを含む。単結晶シリコン(Si)からなるシリコン層101の厚さは625μmである。エッチングストッパ層102はシリコン酸化膜(SiO2)からなる。エッチングストッパ層102の厚さは1μmである。単結晶シリコンからなるシリコン層104の厚さは10μmである。絶縁層106はシリコン酸化膜からなる。絶縁層106の厚さは300nmである。導電層107はアルミニウムからなる。導電層107の厚さは0.5μmである。   The die 10 includes a silicon layer 101, an etching stopper layer 102, a silicon layer 104, an insulating layer 106, and a conductive layer 107. The thickness of the silicon layer 101 made of single crystal silicon (Si) is 625 μm. The etching stopper layer 102 is made of a silicon oxide film (SiO2). The thickness of the etching stopper layer 102 is 1 μm. The thickness of the silicon layer 104 made of single crystal silicon is 10 μm. The insulating layer 106 is made of a silicon oxide film. The thickness of the insulating layer 106 is 300 nm. The conductive layer 107 is made of aluminum. The thickness of the conductive layer 107 is 0.5 μm.

ダイ10は、矩形枠の形態を有する支持部Sと、一端が支持部Sに結合し支持部Sの内側に配置されている可撓部Fと、可撓部Fに結合している錘部Mと、ダイ10のピエゾ抵抗素子を外部回路と接続するためのボンディングパッド108と、ストッパ201との位置合わせに用いられる第2マーカー110を備える。ダイ10の可動部は、環状のダイヤフラムを構成している可撓部Fと可撓部Fの内側に結合している錘部Mとによって構成されている。支持部Sはシリコン層101と、エッチングストッパ層102と、シリコン層104と、絶縁層106とを含む。可撓部Fは、シリコン層104と絶縁層106とを含む。錘部Mは、シリコン層101とエッチングストッパ層102とシリコン層104と絶縁層106とを含む。ボンディングパッド108および第2マーカー110は、導電層107を含む。   The die 10 includes a support portion S having a rectangular frame shape, a flexible portion F having one end coupled to the support portion S and disposed inside the support portion S, and a weight portion coupled to the flexible portion F. M, a bonding pad 108 for connecting the piezoresistive element of the die 10 to an external circuit, and a second marker 110 used for alignment of the stopper 201 are provided. The movable portion of the die 10 includes a flexible portion F that forms an annular diaphragm and a weight portion M that is coupled to the inside of the flexible portion F. The support portion S includes a silicon layer 101, an etching stopper layer 102, a silicon layer 104, and an insulating layer 106. The flexible part F includes a silicon layer 104 and an insulating layer 106. The weight portion M includes a silicon layer 101, an etching stopper layer 102, a silicon layer 104, and an insulating layer 106. The bonding pad 108 and the second marker 110 include a conductive layer 107.

なお、3軸の加速度成分を検出する加速度センサを例にとってダイ10を説明したが、本発明は角速度センサとして機能するモーションセンサや、角速度および加速度を検出するモーションセンサや、圧力センサや、マイクロホンや、アクチュエータを構成するMEMSに適用することもできる。   Note that the die 10 has been described by taking an acceleration sensor that detects triaxial acceleration components as an example, but the present invention describes a motion sensor that functions as an angular velocity sensor, a motion sensor that detects angular velocity and acceleration, a pressure sensor, a microphone, The present invention can also be applied to MEMS constituting the actuator.

(製造方法)
以下、図2から図6を参照してモーションセンサ1の製造方法の一例を説明する。
はじめに図2に示すようにダイ10を形成する。具体的にはまず、シリコン層101、エッチングストッパ層102およびシリコン層104を含むSOIウエハを用意する。次にシリコン層104の表面を熱酸化することにより二酸化シリコン(SiO)からなる絶縁層106を形成する。次に、絶縁層106を貫通させてシリコン層104の表面から不純物イオンを注入し、活性化することによりシリコン層104に図示しないピエゾ抵抗素子を形成する。次に、絶縁層106上に図示しない導線、ボンディングパッド108および第2マーカー110を形成する。具体的には、絶縁層106の表面全体にアルミニウムからなる厚さ0.5μmの金属層をスパッタ法によって形成する。その後、フォトレジストからなる保護膜を用いて金属層をエッチングすることで、導線、ボンディングパッド108および第2マーカー110を形成する。次に、シリコン層101およびエッチングストッパ層102を選択的にエッチングすることで支持部S、可撓部Fおよび錘部Mを形成する。具体的には、所望のパターンが形成されたフォトレジストを保護膜として用いて、Cプラズマを用いたパッシベーションとSFプラズマを用いたエッチングとを短い間隔で交互に繰り返すボッシュプロセスといわれるDeep−RIE(Reactive Ion Etching)によってシリコン層101を貫通するまでエッチングし、エッチングストッパ層102を露出させる。次に、ウェットエッチング等によってエッチングストッパ層102を可撓部Fの下方から除去する。
(Production method)
Hereinafter, an example of a method for manufacturing the motion sensor 1 will be described with reference to FIGS.
First, the die 10 is formed as shown in FIG. Specifically, first, an SOI wafer including a silicon layer 101, an etching stopper layer 102, and a silicon layer 104 is prepared. Next, an insulating layer 106 made of silicon dioxide (SiO 2 ) is formed by thermally oxidizing the surface of the silicon layer 104. Next, impurity ions are implanted from the surface of the silicon layer 104 through the insulating layer 106 and activated to form a piezoresistive element (not shown) in the silicon layer 104. Next, a conductor, a bonding pad 108 and a second marker 110 (not shown) are formed on the insulating layer 106. Specifically, a metal layer made of aluminum and having a thickness of 0.5 μm is formed on the entire surface of the insulating layer 106 by a sputtering method. Thereafter, the metal layer is etched using a protective film made of a photoresist, thereby forming the conductive wire, the bonding pad 108 and the second marker 110. Next, the support part S, the flexible part F, and the weight part M are formed by selectively etching the silicon layer 101 and the etching stopper layer 102. Specifically, it is said to be a Bosch process in which a photoresist having a desired pattern is used as a protective film, and passivation using C 4 F 8 plasma and etching using SF 6 plasma are alternately repeated at short intervals. Etching is performed until the silicon layer 101 is penetrated by Deep-RIE (Reactive Ion Etching) to expose the etching stopper layer 102. Next, the etching stopper layer 102 is removed from below the flexible portion F by wet etching or the like.

次に、図3に示すように可撓部F、錘部M、ボンディングパッド108、第2マーカー110、図示しない配線などを避けた絶縁層106上の四隅であって支持部Sの表面上にスペーサ114が形成される。スペーサ114の材料に感光性樹脂を用いる場合、まず感光性ポリイミド、フォトレジスト等の流動性のある感光性樹脂を絶縁層106の表面全体に塗布する。プリベーク後にマスクまたはレチクルを用いて感光性樹脂を部分的に露光することによってスペーサ114のパターンに対応する潜像を形成する。次に感光性樹脂を現像しポストベークすると、任意のパターンのスペーサ114を形成することができる。スペーサ114の材料に感光性のない硬質樹脂を用いる場合、例えばポリイミドをディスペンサ法やインクジェット法やナノインプリント法を用いることによって任意のパターンを有するスペーサ114を絶縁層106の表面に形成することができる。   Next, as shown in FIG. 3, the four corners on the insulating layer 106 avoiding the flexible portion F, the weight portion M, the bonding pad 108, the second marker 110, the wiring (not shown) and the like on the surface of the support portion S. A spacer 114 is formed. In the case where a photosensitive resin is used as the material for the spacer 114, first, a fluid photosensitive resin such as photosensitive polyimide or photoresist is applied to the entire surface of the insulating layer 106. A latent image corresponding to the pattern of the spacer 114 is formed by partially exposing the photosensitive resin using a mask or a reticle after pre-baking. Next, when the photosensitive resin is developed and post-baked, a spacer 114 having an arbitrary pattern can be formed. When a hard resin having no photosensitivity is used as the material of the spacer 114, the spacer 114 having an arbitrary pattern can be formed on the surface of the insulating layer 106 by using, for example, a polyimide, a dispenser method, an inkjet method, or a nanoimprint method.

ストッパ201とダイ10の可動部との間のギャップは、可撓部Fの弾性変形限界やセンサに必要なダイナミックレンジを考慮して可撓部Fおよび錘部Mの運動範囲をどの程度に設定するかによって決定される。そしてスペーサ114の厚さはストッパ201とダイ10の可動部との間のギャップの高さに応じて設定すればよく、例えば10μmとする。   The gap between the stopper 201 and the movable part of the die 10 sets the range of movement of the flexible part F and the weight part M in consideration of the elastic deformation limit of the flexible part F and the dynamic range required for the sensor. It depends on what you do. The thickness of the spacer 114 may be set according to the height of the gap between the stopper 201 and the movable part of the die 10, and is set to 10 μm, for example.

次に、図4に示すように、ストッパ201に覆われる領域内であってスペーサ114より外側において支持部Sの表面に接着剤111をディスペンサによって滴下する。接着剤111は、図4Bに示すようにスペーサ114の厚さよりも厚くなる量が滴下される。より詳細には、ストッパ201によって押しつぶされたときにストッパ201とダイ10とが重なる範囲の全体において接着剤111がストッパ201とダイ10とに接し、ストッパ201よりも外側にまで接着剤111が広がる量を滴下することが望ましい。これにより接着剤111がストッパ201とダイ10とに接する面積をスペーサ114によって完全に制御できる。接着剤111としては例えばシリコンゴム系の接着剤やエポキシ樹脂系の接着剤を用いる。インクジェット法によって接着剤114を支持部Sの表面に吹き付けても良い。   Next, as shown in FIG. 4, the adhesive 111 is dropped onto the surface of the support portion S by a dispenser within the region covered by the stopper 201 and outside the spacer 114. As shown in FIG. 4B, the adhesive 111 is dropped in an amount that is thicker than the spacer 114. More specifically, the adhesive 111 contacts the stopper 201 and the die 10 in the entire range where the stopper 201 and the die 10 overlap when crushed by the stopper 201, and the adhesive 111 spreads outside the stopper 201. It is desirable to drop the amount. Thereby, the area where the adhesive 111 is in contact with the stopper 201 and the die 10 can be completely controlled by the spacer 114. For example, a silicon rubber adhesive or an epoxy resin adhesive is used as the adhesive 111. You may spray the adhesive agent 114 on the surface of the support part S by the inkjet method.

次に、図5に示すように、第1マーカー202が形成されているストッパ201を用意する。ストッパ201は、例えば、石英板の表面全体に厚さ0.1μmのクロム層をスパッタ法によって形成し、フォトレジストからなる保護膜を用いてクロム層をエッチングすることで第1マーカー202が形成されたものである。   Next, as shown in FIG. 5, a stopper 201 on which the first marker 202 is formed is prepared. The stopper 201 is formed, for example, by forming a chromium layer having a thickness of 0.1 μm on the entire surface of the quartz plate by sputtering, and etching the chromium layer using a protective film made of a photoresist, thereby forming the first marker 202. It is a thing.

次に、ストッパ201に形成された第1マーカー202とダイ10に形成された第2マーカー110とを位置合わせした状態でストッパ201とダイ10とを接着剤111によって結合する。この時、接着剤111がストッパ201に押し潰されて広がる。可撓部Fおよびボンディングパッド108に向かって広がろうとする接着剤111はスペーサ114によって堰き止められるため、スペーサ114より可撓部Fに近い領域やスペーサ114よりボンディングパッド108に近い領域には接着剤111が広がらない。一方、接着剤111が多い場合には、スペーサ114が途切れている部分からダイ10の外側(外周側面)に向かって広がる。特に各スペーサ114の両端部はストッパ201より外側に位置し、具体的にはダイ10の外周上に位置するため、接着剤111がストッパ201に接する面積の上限はスペーサ114によって決定される。すなわちスペーサ114はストッパ201とダイ10とが重なっている範囲においては、接着層112となる接着剤111が広がる限界を完全に定めている。このため、ダイ10と接着層112との界面に生ずる応力がばらつくことを抑制できる。その結果、モーションセンサ1の特性のばらつきを抑制できる。
接着剤111が固化することで接着層112が形成され、ストッパ201とダイ10とが結合される。結合後のダイ10の可動部とストッパ201との間のギャップは、スペーサ114の厚さによって決定される。なお、ストッパ201とダイ10と結合するとき、ストッパ201を下に置き、ダイ10を上からストッパ201に近づける方が、ダイ10を下に置く場合に比べて接着剤111が広がりにくくなるため望ましい。
Next, the stopper 201 and the die 10 are bonded by the adhesive 111 in a state where the first marker 202 formed on the stopper 201 and the second marker 110 formed on the die 10 are aligned. At this time, the adhesive 111 is crushed by the stopper 201 and spreads. Since the adhesive 111 that tends to spread toward the flexible portion F and the bonding pad 108 is blocked by the spacer 114, it adheres to the region closer to the flexible portion F than the spacer 114 and the region closer to the bonding pad 108 than the spacer 114. The agent 111 does not spread. On the other hand, when there is much adhesive 111, it spreads toward the outer side (outer peripheral side surface) of the die | dye 10 from the part which the spacer 114 has interrupted. In particular, since both ends of each spacer 114 are located outside the stopper 201, specifically, on the outer periphery of the die 10, the upper limit of the area where the adhesive 111 contacts the stopper 201 is determined by the spacer 114. That is, the spacer 114 completely defines the limit in which the adhesive 111 serving as the adhesive layer 112 spreads in the range where the stopper 201 and the die 10 overlap. For this reason, it can suppress that the stress which arises in the interface of the die | dye 10 and the contact bonding layer 112 varies. As a result, variations in the characteristics of the motion sensor 1 can be suppressed.
The adhesive 111 is solidified to form an adhesive layer 112, and the stopper 201 and the die 10 are bonded. The gap between the movable part of the die 10 after bonding and the stopper 201 is determined by the thickness of the spacer 114. When the stopper 201 and the die 10 are combined, it is desirable to place the stopper 201 downward and bring the die 10 closer to the stopper 201 from the top because the adhesive 111 is less likely to spread than when the die 10 is placed downward. .

その後、パッケージング等の工程を実施するとモーションセンサ1が完成する。なお、ダイ10をダイシングによってウエハから切り分けた後にストッパ201とダイ10とを結合しても良いし、ダイシング前のウエハ工程において複数のストッパ201をダイ10となる複数の領域に結合しても良い。   Thereafter, when a process such as packaging is performed, the motion sensor 1 is completed. In addition, after the die 10 is cut from the wafer by dicing, the stopper 201 and the die 10 may be joined, or a plurality of stoppers 201 may be joined to a plurality of regions to be the die 10 in the wafer process before dicing. .

以上説明した製造方法によると、接着剤111がダイ10の可撓部Fへ流れて付着することを確実に防止できるため、信頼性が高く、製造歩留まりが高いモーションセンサを製造できる。また流動性がない固体のスペーサ114自体の厚さによってストッパ201とダイ10の可動部とのギャップを設定するため、接着剤に混ぜるビーズによってギャップを設定する場合に比べて確実にストッパ201とダイ10の可動部とのギャップを設定できる。さらに、スペーサ114を封止樹脂よりも硬質の硬質樹脂から形成するため、ストッパ201とダイ10の可動部とのギャップを精度良く設定することができる。このため耐衝撃性能が高いモーションセンサ1を製造できる。またスペーサ114の材料に感光性材料を用いることによって、スペーサ114のパターンを精度良く形成することができるため、接着層112のパターンを精度良く制御できる。   According to the manufacturing method described above, it is possible to reliably prevent the adhesive 111 from flowing and adhering to the flexible portion F of the die 10, so that a motion sensor with high reliability and high manufacturing yield can be manufactured. In addition, since the gap between the stopper 201 and the movable part of the die 10 is set by the thickness of the solid spacer 114 itself having no fluidity, the stopper 201 and the die are surely compared with the case where the gap is set by beads mixed with the adhesive. A gap with 10 movable parts can be set. Furthermore, since the spacer 114 is formed from a hard resin that is harder than the sealing resin, the gap between the stopper 201 and the movable portion of the die 10 can be set with high accuracy. For this reason, the motion sensor 1 with high impact resistance performance can be manufactured. Further, by using a photosensitive material as the material of the spacer 114, the pattern of the spacer 114 can be formed with high accuracy, so that the pattern of the adhesive layer 112 can be controlled with high accuracy.

(変形例)
例えば、図6A、図6Bに示すように環状のスペーサ115で接着剤111の周囲を完全に包囲しても良い。また図7に示すように接着剤111を2重以上に環状のスペーサ115a、115bで包囲しても良い。環状のスペーサ115によって接着剤111の広がりを一定の範囲内に確実に収めることができるため、接着層112のパターンのばらつきを抑制することができる。したがって接着層112とダイ10との界面に生ずる応力のばらつきを低減し、モーションセンサ1の特性のばらつきを低減できる。また例えば図8に示すようにスペーサ118の途切れている両端を可撓部Fおよびボンディングパッド108からより遠くに配置しても良い。これにより、可撓部Fおよびボンディングパッド108からより離れた位置で接着剤111を逃がすことができる。
(Modification)
For example, as shown in FIGS. 6A and 6B, the periphery of the adhesive 111 may be completely surrounded by an annular spacer 115. Further, as shown in FIG. 7, the adhesive 111 may be surrounded by double or more annular spacers 115a and 115b. Since the spread of the adhesive 111 can be reliably accommodated within a certain range by the annular spacer 115, variations in the pattern of the adhesive layer 112 can be suppressed. Accordingly, variation in stress generated at the interface between the adhesive layer 112 and the die 10 can be reduced, and variation in characteristics of the motion sensor 1 can be reduced. Further, for example, as shown in FIG. 8, both ends of the spacer 118 may be arranged farther from the flexible portion F and the bonding pad 108. As a result, the adhesive 111 can be released at a position further away from the flexible portion F and the bonding pad 108.

2.第二実施形態
(構成)
本発明のMEMSの第二実施形態であるモーションセンサ2を図9に示す。図9Bおよび図9Cにおいて、モーションセンサ2のダイ20を構成する層の界面は破線で示し、ダイ20を構成する機械的構成要素の境界は実線で示している。なお、図9において、ダイ20とパッケージ30とを接続する配線などは省略されている。
2. Second embodiment (Configuration)
The motion sensor 2 which is 2nd embodiment of MEMS of this invention is shown in FIG. In FIG. 9B and FIG. 9C, the interface of the layer which comprises the die | dye 20 of the motion sensor 2 is shown with the broken line, and the boundary of the mechanical component which comprises the die | dye 20 is shown with the continuous line. In FIG. 9, wirings for connecting the die 20 and the package 30 are omitted.

モーションセンサ2は、ダイ20とパッケージ30とを備える。
ダイ20の可動部は、4つの梁を構成している十字形の可撓部Fと4つの梁に結合している錘部Mとが形成された積層構造体によって構成されている。
The motion sensor 2 includes a die 20 and a package 30.
The movable part of the die 20 is constituted by a laminated structure in which a cross-shaped flexible part F constituting four beams and a weight part M coupled to the four beams are formed.

パッケージ30は箱形の底部214と、カバー208とを備える。底部214とカバー208とは接着層210によって結合されている。なお、図9Aにおいてカバー208と接着層210は図示されていない。接着層113は、図9Aにおいてハッチングによって示されているように、4つの領域に分断されている。接着層113の各領域を包囲しているスペーサ119は、ダイ20の支持部Sとパッケージ30の底部214とに挟まれている。すなわち、本実施形態ではパッケージ30の底部214がストッパとして構成されている。   The package 30 includes a box-shaped bottom portion 214 and a cover 208. The bottom 214 and the cover 208 are joined by an adhesive layer 210. In FIG. 9A, the cover 208 and the adhesive layer 210 are not shown. The adhesive layer 113 is divided into four regions as indicated by hatching in FIG. 9A. A spacer 119 surrounding each region of the adhesive layer 113 is sandwiched between the support portion S of the die 20 and the bottom portion 214 of the package 30. That is, in this embodiment, the bottom part 214 of the package 30 is configured as a stopper.

(製造方法)
本実施形態では、ダイ20上においてスペーサ119を形成するのではなく、ストッパを構成しているパッケージ30上においてスペーサ119を形成する例について説明する。
具体的には、図10に示すようにパッケージ30の底部214の表面に第一実施形態と同様に硬質樹脂を添加することによってスペーサ119を形成する。次に接着剤111をパッケージ30の底部214の表面に滴下する。その後、ダイ20の支持部Sを接着剤111によってパッケージ30の底部214に結合する。接着剤111が固化して接着層113が形成されると、パッケージ30にダイ20が結合する。結合後のダイ20の錘部Mとパッケージ30の底部214との間のギャップは、スペーサ119の厚さによって決定される。
(Production method)
In the present embodiment, an example will be described in which the spacer 119 is not formed on the die 20 but is formed on the package 30 constituting the stopper.
Specifically, as shown in FIG. 10, a spacer 119 is formed by adding a hard resin to the surface of the bottom 214 of the package 30 as in the first embodiment. Next, the adhesive 111 is dropped on the surface of the bottom 214 of the package 30. Thereafter, the support portion S of the die 20 is bonded to the bottom portion 214 of the package 30 by the adhesive 111. When the adhesive 111 is solidified and the adhesive layer 113 is formed, the die 20 is bonded to the package 30. The gap between the weight part M of the die 20 after bonding and the bottom part 214 of the package 30 is determined by the thickness of the spacer 119.

本実施形態によれば、パッケージ30の底部214をストッパとして用いるため、第一実施形態のダイ10とストッパ201を収容するためのパッケージに比べてパッケージ30を薄くすることができる。なお、第一実施形態において説明したストッパ201が結合しているダイ10を本実施形態の方法をもってパッケージ30に結合しても良い。この場合、ダイ10の表裏両面に固着する接着剤に対してスペーサが流れ止めとして機能するとともに、錘部Mの運動範囲を2方向においてスペーサによって精度良く設定できる。   According to the present embodiment, since the bottom portion 214 of the package 30 is used as a stopper, the package 30 can be made thinner than the package for housing the die 10 and the stopper 201 of the first embodiment. In addition, you may couple | bond the die | dye 10 which the stopper 201 demonstrated in 1st embodiment has couple | bonded with the package 30 with the method of this embodiment. In this case, the spacer functions as a flow stopper for the adhesive fixed to both the front and back surfaces of the die 10, and the movement range of the weight portion M can be accurately set by the spacer in two directions.

4.他の実施形態
尚、本発明の技術的範囲は、上述した実施の形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において種々変更を加え得ることは勿論である。例えば、上述した互いに異なる実施形態の要素を組み合わせて本発明を実施できることはいうまでもなく、上記実施形態で示した材質や寸法や成膜方法やパターン転写方法はあくまで例示であるし、当業者であれば自明である工程の追加や削除や工程順序の入れ替えについては説明が省略されている。
4). Other Embodiments The technical scope of the present invention is not limited to the above-described embodiments, and it goes without saying that various modifications can be made without departing from the scope of the present invention. For example, it goes without saying that the present invention can be implemented by combining the elements of the different embodiments described above, and the materials, dimensions, film forming methods, and pattern transfer methods shown in the above embodiments are merely examples, and those skilled in the art If so, the description of the addition and deletion of processes and the replacement of the process order, which are obvious, is omitted.

図1Aは本発明の第一実施形態にかかる上面図である。図1Bは図1Aに示すBB線の断面図である。図1Cは図1Aに示すCC線の断面図である。FIG. 1A is a top view according to the first embodiment of the present invention. 1B is a cross-sectional view taken along line BB shown in FIG. 1A. 1C is a cross-sectional view taken along line CC shown in FIG. 1A. 図2Aは本発明の第一実施形態にかかる上面図である。図2Bは、図2Aに示すBB線の断面図である。FIG. 2A is a top view according to the first embodiment of the present invention. 2B is a cross-sectional view taken along line BB shown in FIG. 2A. 図3Aは本発明の第一実施形態にかかる上面図である。図3Bは図3Aに示すBB線の断面図である。FIG. 3A is a top view according to the first embodiment of the present invention. 3B is a cross-sectional view taken along line BB shown in FIG. 3A. 図4Aは本発明の第一実施形態にかかる上面図である。図4Bは、図4Aに示すBB線の断面図である。FIG. 4A is a top view according to the first embodiment of the present invention. 4B is a cross-sectional view taken along line BB shown in FIG. 4A. 図5Aは本発明の第一実施形態にかかる上面図である。図5Bは、図5Aに示すBB線の断面図である。FIG. 5A is a top view according to the first embodiment of the present invention. 5B is a cross-sectional view taken along line BB shown in FIG. 5A. 本発明の第一実施形態にかかる上面図である。It is a top view concerning a first embodiment of the present invention. 本発明の第一実施形態にかかる上面図である。It is a top view concerning a first embodiment of the present invention. 本発明の第一実施形態にかかる上面図である。It is a top view concerning a first embodiment of the present invention. 図9Aは本発明の第二実施形態にかかる上面図である。図9Bは図9Aに示すBB線に対応する断面図である。図9Cは図9Aに示すCC線に対応する断面図である。FIG. 9A is a top view according to the second embodiment of the present invention. FIG. 9B is a cross-sectional view corresponding to the line BB shown in FIG. 9A. FIG. 9C is a cross-sectional view corresponding to the CC line shown in FIG. 9A. 図10Aは本発明の第三実施形態にかかる上面図である。図10Bは図10Aに示すBB線に対応する断面図である。FIG. 10A is a top view according to the third embodiment of the present invention. 10B is a cross-sectional view corresponding to the line BB shown in FIG. 10A.

符号の説明Explanation of symbols

1:モーションセンサ、2:モーションセンサ、10:ダイ、20:ダイ、30:パッケージ、101:シリコン層、102:エッチングストッパ層、104:シリコン層、106:絶縁層、107:導電層、108:ボンディングパッド、110:マーカー、111:接着剤、112:接着層、113:接着層、114:スペーサ、115:スペーサ、115a:スペーサ、115b:スペーサ、118a:スペーサ、119:スペーサ、201:ストッパ、202:マーカー、208:カバー、210:接着層、214:底部、F:可撓部(可動部)、M:錘部(可動部)、S:支持部 1: motion sensor, 2: motion sensor, 10: die, 20: die, 30: package, 101: silicon layer, 102: etching stopper layer, 104: silicon layer, 106: insulating layer, 107: conductive layer, 108: Bonding pad, 110: marker, 111: adhesive, 112: adhesive layer, 113: adhesive layer, 114: spacer, 115: spacer, 115a: spacer, 115b: spacer, 118a: spacer, 119: spacer, 201: stopper, 202: Marker, 208: Cover, 210: Adhesive layer, 214: Bottom part, F: Flexible part (movable part), M: Weight part (movable part), S: Support part

Claims (9)

支持部と、
前記支持部に対して相対的に運動する可動部と、
を有するダイと、
前記可動部の運動範囲を制限する位置において前記可動部に対向するストッパと、
前記可動部の運動範囲が制限される方向において前記ストッパと前記支持部とに挟まれている樹脂であって封止樹脂よりも硬質の硬質樹脂からなるスペーサと、
前記支持部と前記ストッパとを結合している接着層と、
を備え、
前記スペーサは前記接着層と前記可動部との間において前記接着層と前記可動部との間を遮る方向に延びている、
MEMS。
A support part;
A movable part that moves relative to the support part;
A die having
A stopper that faces the movable part at a position that limits the range of motion of the movable part;
A spacer made of a hard resin harder than a sealing resin, which is a resin sandwiched between the stopper and the support part in a direction in which the range of motion of the movable part is limited;
An adhesive layer connecting the support and the stopper;
With
The spacer extends between the adhesive layer and the movable part in a direction that blocks between the adhesive layer and the movable part.
MEMS.
前記スペーサは、前記接着層より前記可動部とは反対側において途切れている、
請求項1に記載のMEMS。
The spacer is interrupted on the side opposite to the movable part from the adhesive layer,
The MEMS according to claim 1.
前記スペーサは、前記接着層を環状に包囲している、
請求項1に記載のMEMS。
The spacer surrounds the adhesive layer annularly,
The MEMS according to claim 1.
前記硬質樹脂は感光性樹脂である、
請求項1から3のいずれか一項に記載のMEMS。
The hard resin is a photosensitive resin.
The MEMS according to any one of claims 1 to 3.
支持部と、前記支持部に対して相対的に運動する可動部と、を有するダイを備えるMEMSの製造方法であって、
前記支持部の表面に接着剤を添加し、
前記接着剤を添加する前に、封止樹脂よりも硬質の硬質樹脂からなり前記接着剤と前記可動部との間において前記接着剤と前記可動部との間を遮る方向に延びるスペーサを前記支持部の表面に形成し、
前記可動部の運動範囲を制限する位置においてストッパが前記可動部に対向するように前記スペーサを前記可動部の運動範囲を制限する方向に挟み込んで前記支持部に前記ストッパを前記接着剤によって結合する、
ことを含むMEMSの製造方法。
A MEMS manufacturing method comprising a die having a support part and a movable part that moves relative to the support part,
Add an adhesive to the surface of the support,
Before adding the adhesive, the support is made of a hard resin harder than a sealing resin and extends between the adhesive and the movable part and extends in a direction blocking the adhesive and the movable part. Formed on the surface of the part,
The spacer is sandwiched in a direction that limits the movement range of the movable part so that the stopper faces the movable part at a position that limits the movement range of the movable part, and the stopper is coupled to the support part by the adhesive. ,
The manufacturing method of MEMS including this.
パッケージと、支持部と前記支持部に対して相対的に運動する可動部とを有し前記パッケージに収容されるダイとを備えるMEMSの製造方法であって、
前記パッケージの前記支持部が結合される結合面に接着剤を添加し、
前記接着剤を添加する前に、封止樹脂よりも硬質の硬質樹脂からなり前記接着剤と前記可動部との間において前記接着剤と前記可動部との間を遮る方向に延びるスペーサを前記結合面に形成し、
前記可動部の運動範囲を制限する位置において前記結合面が前記可動部に対向するように前記スペーサを前記可動部の運動範囲を制限する方向に挟み込んで前記対向する面に前記支持部を前記接着剤によって結合する、
ことを含むMEMSの製造方法。
A MEMS manufacturing method comprising: a package; and a die having a support portion and a movable portion that moves relative to the support portion, and is housed in the package,
Adding an adhesive to the bonding surface to which the support of the package is bonded;
Before adding the adhesive, the spacer is made of a hard resin harder than a sealing resin and extends between the adhesive and the movable part and extends in a direction blocking the adhesive and the movable part. Formed on the surface,
The spacer is sandwiched in a direction that limits the movement range of the movable part so that the coupling surface faces the movable part at a position that restricts the movement range of the movable part, and the support part is bonded to the facing surface. Combined with agents,
The manufacturing method of MEMS including this.
前記結合面に感光性樹脂を添加し、前記接着剤と前記可動部との間において前記接着剤と前記可動部との間を遮る方向に延びるパターンに前記感光性樹脂を露光し現像することによって前記硬質樹脂としての前記感光性樹脂からなる前記スペーサを形成する、
請求項5または6に記載のMEMSの製造方法。
By adding a photosensitive resin to the bonding surface, exposing and developing the photosensitive resin in a pattern extending in a direction that blocks between the adhesive and the movable part between the adhesive and the movable part Forming the spacer made of the photosensitive resin as the hard resin;
The method for producing a MEMS according to claim 5 or 6.
前記接着剤より前記可動部とは反対側において途切れるように前記スペーサのパターンを形成する、
請求項5から7のいずれか一項に記載のMEMSの製造方法。
The spacer pattern is formed so as to be interrupted on the side opposite to the movable part from the adhesive.
The manufacturing method of MEMS as described in any one of Claim 5 to 7.
前記接着剤を環状に包囲するように前記スペーサのパターンを形成する、
請求項5から7のいずれか一項に記載のMEMSの製造方法。
Forming a pattern of the spacers so as to surround the adhesive in an annular shape;
The manufacturing method of MEMS as described in any one of Claim 5 to 7.
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