JP2010131669A - Joining agent for metal component, method of producing metal component joined article, metal component joined article, and method of manufacturing bump for electric circuit connection - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a paste-like joining agent for a metal component to be a porous sintered compact for adhering to the contacted metal component in which metal particles are sintered when heated, and a method of manufacturing a bump for electric circuit connection excellent in adhesiveness to a substrate electrode, heat-resistant processability, and electrical conductivity. <P>SOLUTION: A paste-like material includes (A) metal particles having an average particle diameter (median size D50) of 0.1-50 μm and melting point of ≥400°C, and being heat sinterable, and (B) liquid flux, and forms the joining agent for the metal component which becomes the porous sintered compact having adhesiveness to the contacted metal component in which the metal particles (A) are sintered, when heated at 70-400°C. The method of producing the metal component joined article is constituted by heating the joining agent stood between the metal components at 70-400°C. The metal component joined article is constituted in which a plurality of metal components are joined by the porous sintered compact having porosity of 5-50 area%, melting point of >400°C, and volume resistivity of ≤1×10<SP>-2</SP>Ω cm. The method of manufacturing the bump for electric circuit connection is constituted by heating the joining agent. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、加熱焼結性金属粒子とフラックスとからなるペースト状であり、加熱により焼結して該金属粒子と同等の融点を有する多孔質焼結物となる金属製部材用接合剤、当該接合剤による金属製部材接合体の製造方法、金属製部材が該金属の多孔質焼結物により接合された金属製部材接合体、および、金属製部材用接合剤を用いる電気回路接続用バンプの製造方法に関する。 The present invention is a paste made of heat-sinterable metal particles and a flux, which is sintered by heating to become a porous sintered product having a melting point equivalent to that of the metal particles. Manufacturing method of metal member joined body by joining agent, metal member joined body in which metal member is joined by porous sintered product of metal, and bump for electric circuit connection using joining agent for metal member It relates to a manufacturing method.

銀、銅、ニッケルなどの金属粉末を液状熱硬化性樹脂組成物中に分散させてなる電気伝導性・熱伝導性ペーストは、加熱により硬化して電気伝導性・熱伝導性被膜が形成される。したがって、プリント回路基板上の電気伝導性回路の形成;抵抗器やコンデンサ等の各種電子部品及び各種表示素子の電極の形成;電磁波シールド用電気伝導性被膜の形成;コンデンサ、抵抗、ダイオード、メモリ、演算素子(CPU)等のチップ部品の基板への接着;太陽電池の電極の形成、特に、アモルファスシリコン半導体を用いているために、高温処理のできない太陽電池の電極の形成;積層セラミックコンデンサ、積層セラミックインダクタ、積層セラミックアクチュエータ等のチップ型セラミック電子部品の外部電極の形成等に使用されている。 Electrically conductive / thermally conductive paste made by dispersing metal powders such as silver, copper, and nickel in a liquid thermosetting resin composition is cured by heating to form an electrically conductive / thermally conductive film. . Therefore, formation of an electrically conductive circuit on a printed circuit board; formation of electrodes of various electronic components such as resistors and capacitors and various display elements; formation of an electrically conductive film for electromagnetic wave shielding; capacitor, resistor, diode, memory, Adhesion of chip parts such as arithmetic elements (CPUs) to substrates; formation of solar cell electrodes, especially formation of solar cell electrodes that cannot be processed at high temperatures due to the use of amorphous silicon semiconductors; multilayer ceramic capacitors, multilayer It is used to form external electrodes for chip-type ceramic electronic components such as ceramic inductors and multilayer ceramic actuators.

近年、チップ部品の高性能化により、チップ部品からの発熱量が増え、電気伝導性はもとより、熱伝導性の向上が要求される。したがって、金属粒子の含有率を可能な限り増加することにより電気伝導性、熱伝導性を向上しようとする。ところが、そうすると、ペーストの粘度が上昇し、作業性が著しく低下するという問題がある。 2. Description of the Related Art In recent years, chip components have increased in performance, and the amount of heat generated from the chip components has increased, and improvement in thermal conductivity as well as electrical conductivity is required. Therefore, it tries to improve electrical conductivity and thermal conductivity by increasing the content of metal particles as much as possible. However, when it does so, there exists a problem that the viscosity of a paste rises and workability | operativity falls remarkably.

このような問題を解決するため、本発明者らは、銀粉末と揮発性分散媒とからなるペースト状銀組成物は、加熱すると当該揮発性分散媒が揮発し銀粉末が焼結して、極めて高い電気伝導性と熱伝導性を有する固形状銀となること、および、金属製部材の接合や、導電回路の形成に有用なことを見出して国際出願した{特許文献1(WO2006/126614)、特許文献2(WO2007/034833)}。
しかしながら、表面状態が安定である不動態化されたような銀粉末は焼結性が乏しいという問題があることに本発明者らは気がついた。
In order to solve such a problem, the present inventors, when heated, the paste-like silver composition composed of silver powder and a volatile dispersion medium volatilizes the volatile dispersion medium and sinters the silver powder, An international application was filed for finding solid silver having extremely high electrical conductivity and thermal conductivity, and useful for joining metal members and forming conductive circuits {Patent Document 1 (WO2006 / 126614) Patent Document 2 (WO2007 / 034833)}.
However, the present inventors have noticed that a passivated silver powder having a stable surface state has a problem of poor sinterability.

また、本発明者らは、銅粉末と揮発性分散媒とからなるペースト状銅組成物は、還元性ガス雰囲気中で加熱すると当該揮発性分散媒が揮発し銅粉末が焼結して、極めて高い電気伝導性と熱伝導性を有する固形状銅となること、および、金属製部材の接合や、導電回路の形成に有用なことを見出して国際出願した{特許文献3(PCT/JP2008/002045)}が、表面状態が安定である不動態化されたような銀銅末は焼結性が乏しいという問題があることに本発明者らは気がついた。 In addition, the present inventors have found that when a paste-like copper composition comprising copper powder and a volatile dispersion medium is heated in a reducing gas atmosphere, the volatile dispersion medium is volatilized and the copper powder is sintered. An international application was filed for finding solid copper having high electrical conductivity and thermal conductivity, and useful for joining metal members and forming conductive circuits {Patent Document 3 (PCT / JP2008 / 002045). However, the present inventors have found that a passivated silver-copper powder having a stable surface state has a problem of poor sinterability.

一方、特許文献4(特開2002-224884)には、樹脂(例えば、ロジン系樹脂)からなるフラックス内に、半田よりも融点の高い金属(例えば、銀)からなる金属粒子が添加されてなる半田付け用フラックス、および、基板上に形成された下地電極上に、フラックス(例えば、ロジン系樹脂)及び半田よりも融点の高い金属(例えば、銀)粉末(0.1〜10μm径)からなる半田付け用フラックスを印刷するステップと、前記半田付け用フラックスが印刷された下地電極上に半田(例えば、共晶半田(Sn60%、Pb40%))ボールを搭載するステップと、熱処理によって前記半田ボールを溶融させるステップとを備える半田バンプの形成方法が開示されている。半田ボールを構成する半田の溶融温度(共晶半田においては約180℃)以上の温度での熱処理により、半田付け用フラックスに含まれる銀粒子は溶融した半田中に容易に拡散し半田の融点が若干高くなる旨記載されている。このような半田バンプ上に金属製部材を載置して熱処理すると金属製部材が下地電極上に接合されるが、該半田の融点は高くないので後工程の熱処理温度で溶融し、かつ、強度が低いという問題がある。 On the other hand, in Patent Document 4 (Japanese Patent Laid-Open No. 2002-224884), metal particles made of a metal (for example, silver) having a melting point higher than that of solder are added to a flux made of a resin (for example, rosin resin). The soldering flux and the base electrode formed on the substrate are made of flux (for example, rosin resin) and metal (for example, silver) powder (0.1 to 10 μm diameter) having a melting point higher than that of solder. A step of printing a soldering flux, a step of mounting a solder (for example, eutectic solder (Sn 60%, Pb 40%)) ball on a base electrode on which the soldering flux is printed, and the solder ball by heat treatment And a method for forming a solder bump comprising the step of melting the solder. By heat treatment at a temperature equal to or higher than the melting temperature of the solder constituting the solder ball (about 180 ° C. for eutectic solder), the silver particles contained in the soldering flux easily diffuse into the molten solder, and the melting point of the solder is reduced. It is stated that it is slightly higher. When a metal member is placed on such a solder bump and heat-treated, the metal member is bonded onto the base electrode, but since the melting point of the solder is not high, it melts at the heat treatment temperature of the subsequent process and has a strength. There is a problem that is low.

WO2006/126614WO2006 / 126614 WO2007/034833WO2007 / 034833 PCT/JP2008/002045PCT / JP2008 / 002045 特開2002−224884号公報Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-224884

本発明者らは、上記問題点のないペースト状の接合剤を開発すべく鋭意研究した結果、金属粒子の粒径と融点、ペースト化するときの液状分散媒が金属粒子の焼結性および焼結して生成した固形状金属の焼結状態および融点、接合体の接合強度および電気伝導性に影響していることを見出し、本発明を完成するに至った。本発明の目的は、加熱により金属粒子が焼結して金属粒子と同等の融点を有する多孔質の焼結物となり、焼結途上で接触していた金属製部材への接着性、耐熱処理性および電気伝導性が優れた金属製部材用接合剤;金属製部材が電気伝導性よく強固に接合した金属製部材接合体の製造方法;接合強度、耐熱処理性および電気伝導性が優れた金属製部材接合体;および、下地電極との接着性、耐熱処理性および電気伝導性が優れた電気回路接続用バンプの製造方法を提供することにある。 As a result of earnest research to develop a paste-like bonding agent that does not have the above-mentioned problems, the present inventors have found that the particle size and melting point of the metal particles, and the liquid dispersion medium used for pasting the sinterability and sintering of the metal particles. The present inventors have found that the solid state produced by the sintering affects the sintering state and melting point of the solid metal, the bonding strength of the bonded body, and the electrical conductivity, thereby completing the present invention. The object of the present invention is to sinter metal particles by heating to form a porous sintered product having a melting point equivalent to that of the metal particles, and to adhere to the metal member that has been in contact during sintering, heat resistance Bonding agent for metal members with excellent electrical conductivity; Method for producing a bonded metal member in which metal members are firmly bonded with good electrical conductivity; Metal with excellent bonding strength, heat resistance, and electrical conductivity An object of the present invention is to provide a method for producing a bump for connecting an electric circuit excellent in adhesiveness to a base electrode, heat resistance, and electrical conductivity.

この目的は、「[1] (A)平均粒径(メディアン径D50)が0.1μmより大きく50μm以下であり融点が400℃より高く加熱焼結性である金属粒子と(B)液状フラックスとからなるペースト状物であり、70℃以上400℃以下で加熱することにより、金属粒子(A)同士が焼結して金属粒子(A)と同等の融点を有し、かつ、焼結途上で接触していた金属製部材へ接着性を有する多孔質焼結物となることを特徴とする、金属製部材用接合剤。
[2] 金属粒子(A)がアトマイズ法で製造され表面に酸化金属層を有することを特徴とする、[1]に記載の金属製部材用接合剤。
[3] 金属粒子(A)が銀粒子または銅粒子であり、金属粒子(A)およびその多孔質焼結物の融点が600℃より高く、銀粒子およびその多孔質焼結物の体積抵抗率が1×10-4Ω・cm以下であり、銅粒子およびその多孔質焼結物の体積抵抗率が1×10-2Ω・cm以下であることを特徴とする、[1]または[2]に記載の金属製部材用接合剤。
[4] 液状フラックス(B)が、(a)ロジンまたはその誘導体と(d)溶剤とからなる液状物、(a)ロジンまたはその誘導体と(b)酸化膜除去活性剤と(d)溶剤とからなる液状物、(a)ロジンまたはその誘導体と(c)チキソトロピック剤と(d)溶剤とからなる液状物、(a)ロジンまたはその誘導体と(b)酸化膜除去活性剤と(c)チキソトロピック剤と(d)溶剤とからなる液状物、(b)酸化膜除去活性剤と(d)溶剤とからなる液状物、または、(b)酸化膜除去活性剤と(c)チキソトロピック剤と(d)溶剤とからなる液状物であることを特徴とする、[1]、[2]または[3]に記載の金属製部材用接合剤。
[5] 多孔質焼結物の断面における空隙率が5〜50面積%であることを特徴とする、[1]、[2]または[3]に記載の金属製部材用接合剤。
[5-1] 多孔質焼結物の断面における空隙率が5〜50面積%であることを特徴とする、[4]に記載の金属製部材用接合剤。」により達成される。
The purpose of this is “[1] (A) metal particles whose average particle diameter (median diameter D50) is greater than 0.1 μm and less than 50 μm, melting point is higher than 400 ° C. and heat-sinterable, and (B) liquid flux. The metal particles (A) are sintered together by heating at 70 ° C. or more and 400 ° C. or less, and have a melting point equivalent to that of the metal particles (A). A bonding agent for a metal member, which is a porous sintered product having adhesion to the metal member in contact.
[2] The bonding agent for metal members according to [1], wherein the metal particles (A) are produced by an atomizing method and have a metal oxide layer on the surface.
[3] The metal particles (A) are silver particles or copper particles, and the melting point of the metal particles (A) and the porous sintered product is higher than 600 ° C., and the volume resistivity of the silver particles and the porous sintered product is Or 1 × 10 −4 Ω · cm or less, and the volume resistivity of the copper particles and the porous sintered product thereof is 1 × 10 −2 Ω · cm or less, [1] or [2 ] The joining agent for metal members as described in the above.
[4] The liquid flux (B) comprises (a) a liquid product comprising rosin or a derivative thereof and (d) a solvent, (a) a rosin or a derivative thereof, (b) an oxide film removal activator, and (d) a solvent. A liquid comprising (a) rosin or a derivative thereof and (c) a thixotropic agent and (d) a solvent, (a) a rosin or a derivative thereof and (b) an oxide film removing activator and (c) A liquid material comprising a thixotropic agent and (d) a solvent, (b) a liquid material comprising an oxide film removal activator and (d) a solvent, or (b) an oxide film removal activator and (c) a thixotropic agent. And (d) a bonding agent for metallic members according to [1], [2] or [3], which is a liquid material comprising a solvent.
[5] The bonding agent for metal members according to [1], [2] or [3], wherein the porosity in the cross section of the porous sintered product is 5 to 50% by area.
[5-1] The bonding agent for metallic members according to [4], wherein the porosity in the cross section of the porous sintered product is 5 to 50% by area. Is achieved.

この目的は、「[6] (A)平均粒径(メディアン径D50)が0.1μmより大きく50μm以下であり融点が400℃より高く加熱焼結性である金属粒子と(B)液状フラックスとからなるペースト状物を複数の金属製部材間に介在させ、70℃以上400℃以下で加熱することにより、金属粒子(A)同士が焼結して金属粒子(A)と同等の融点を有する多孔質焼結物となり、複数の金属製部材同士を接合することを特徴とする、金属製部材接合体の製造方法。
[7] 金属粒子(A)がアトマイズ法で製造され表面に酸化金属層を有することを特徴とする、[6]に記載の金属製部材接合体の製造方法。
[8] 金属粒子(A)が銀粒子または銅粒子であり、金属粒子(A)およびその融点が600℃より高く、銀粒子およびその多孔質焼結物の体積抵抗率が1×10-4Ω・cm以下であり、銅粒子およびその多孔質焼結物の体積抵抗率が1×10-2Ω・cm以下であることを特徴とする、[6]または[7]に記載の金属製部材接合体の製造方法。
[9] 液状フラックス(B)が、(a)ロジンまたはその誘導体と(d)溶剤とからなる液状物、(a)ロジンまたはその誘導体と(b)酸化膜除去活性剤と(d)溶剤とからなる液状物、(a)ロジンまたはその誘導体と(c)チキソトロピック剤と(d)溶剤とからなる液状物、(a)ロジンまたはその誘導体と(b)酸化膜除去活性剤と(c)チキソトロピック剤と(d)溶剤とからなる液状物、(b)酸化膜除去活性剤と(d)溶剤とからなる液状物、または、(b)酸化膜除去活性剤と(c)チキソトロピック剤と(d)溶剤とからなる液状物であることを特徴とする、[6]、[7]または[8]に記載の金属製部材接合体の製造方法。
[10] 多孔質焼結物の断面における空隙率が5〜50面積%であることを特徴とする、[6]、[7]または[8]に記載の金属製部材接合体の製造方法。
[10-1] 多孔質焼結物の断面における空隙率が5〜50面積%であることを特徴とする、[9]に記載の金属製部材接合体の製造方法。」により達成される。
The purpose of this is “[6] (A) metal particles whose average particle diameter (median diameter D50) is greater than 0.1 μm and less than 50 μm, melting point is higher than 400 ° C. and heat-sinterable, and (B) liquid flux By interposing a paste-like material made of a plurality of metal members and heating at 70 ° C. or more and 400 ° C. or less, the metal particles (A) are sintered to have a melting point equivalent to that of the metal particles (A). A method for producing a metal member assembly, comprising a porous sintered product, wherein a plurality of metal members are joined to each other.
[7] The method for producing a metal member assembly according to [6], wherein the metal particles (A) are produced by an atomizing method and have a metal oxide layer on the surface.
[8] The metal particles (A) are silver particles or copper particles, the metal particles (A) and the melting point thereof are higher than 600 ° C., and the volume resistivity of the silver particles and the porous sintered product thereof is 1 × 10 −4. The metal product according to [6] or [7], wherein the volume resistivity of the copper particles and the porous sintered product thereof is 1 × 10 −2 Ω · cm or less. Manufacturing method of member assembly.
[9] The liquid flux (B) comprises (a) a liquid material comprising rosin or a derivative thereof and (d) a solvent, (a) a rosin or a derivative thereof, (b) an oxide film removal activator, and (d) a solvent. A liquid comprising (a) rosin or a derivative thereof and (c) a thixotropic agent and (d) a solvent, (a) a rosin or a derivative thereof and (b) an oxide film removing activator and (c) A liquid material comprising a thixotropic agent and (d) a solvent, (b) a liquid material comprising an oxide film removal activator and (d) a solvent, or (b) an oxide film removal activator and (c) a thixotropic agent. [6], [7] or [8], The method for producing a metal member assembly according to [6], [7] or [8], wherein
[10] The method for producing a metal member bonded body according to [6], [7] or [8], wherein the porosity of the porous sintered body in the cross section is 5 to 50% by area.
[10-1] The method for producing a metal member assembly according to [9], wherein the porosity in the cross section of the porous sintered product is 5 to 50% by area. Is achieved.

この目的は、「[11] [6]に記載の製造方法によって得られた、複数の金属製部材が、断面における空隙率が5〜50面積%であり、融点が400℃より高く、体積抵抗率が1×10-2Ω・cm以下である、加熱焼結性金属粒子(A)の多孔質焼結物により接合されていることを特徴とする、金属製部材接合体。
[12] 金属粒子(A)が銀粒子または銅粒子であり、金属粒子(A)およびその融点が600℃より高く、銀粒子およびその多孔質焼結物の体積抵抗率が1×10-4Ω・cm以下であり、銅粒子およびその多孔質焼結物の体積抵抗率が1×10-2Ω・cm以下であり、金属製部材接合体の250℃におけるせん断接着強さが5MPa以上であることを特徴とする、[11]に記載の金属製部材接合体。
[13] 金属製部材が金属系基板または金属部分を有する電子部品であることを特徴とする、[11]または[12]に記載の金属製部材接合体。」により達成される。
The object is to obtain a plurality of metal members obtained by the production method described in [11] [6], wherein the porosity in the cross section is 5 to 50% by area, the melting point is higher than 400 ° C., and the volume resistance A metal member joined body characterized by being joined by a porous sintered product of heat-sinterable metal particles (A) having a rate of 1 × 10 −2 Ω · cm or less.
[12] The metal particles (A) are silver particles or copper particles, the metal particles (A) and the melting point thereof are higher than 600 ° C., and the volume resistivity of the silver particles and the porous sintered product thereof is 1 × 10 −4. The volume resistivity of the copper particles and the porous sintered product thereof is 1 × 10 −2 Ω · cm or less, and the shear bonding strength at 250 ° C. of the metal member assembly is 5 MPa or more. The metal member joined body according to [11], which is characterized in that it exists.
[13] The metal member assembly according to [11] or [12], wherein the metal member is a metal substrate or an electronic component having a metal portion. Is achieved.

この目的は、「[14] [1]〜[4]のいずれかに記載の金属製部材用接合剤を半導体素子上の電気回路接続用パッド部または基板上の電気回路接続用電極部にドット状に塗布し、70℃以上400℃以下で加熱することにより、該金属粒子同士を焼結して、半導体素子上または基板上に金属製バンプを形成することを特徴とする、電気回路接続用バンプの製造方法。
[14-1] [5]に記載の金属製部材用接合剤を半導体素子上の電気回路接続用パッド部または基板上の電気回路接続用電極部にドット状に塗布し、70℃以上400℃以下で加熱することにより、該金属粒子同士を焼結して、半導体素子上または基板上に金属製バンプを形成することを特徴とする、電気回路接続用バンプの製造方法。」により達成される。
The purpose of this is to apply the bonding agent for a metal member according to any one of [14] [1] to [4] to an electric circuit connecting pad portion on a semiconductor element or an electric circuit connecting electrode portion on a substrate. The metal particles are applied to each other and heated at 70 ° C. or more and 400 ° C. or less to sinter the metal particles to form metal bumps on the semiconductor element or the substrate. Bump manufacturing method.
[14-1] The metal member bonding agent according to [5] is applied in a dot shape to an electric circuit connecting pad portion on a semiconductor element or an electric circuit connecting electrode portion on a substrate, and is 70 ° C. or higher and 400 ° C. A method of manufacturing a bump for connecting an electric circuit, characterized in that the metal particles are sintered together by heating to form metal bumps on a semiconductor element or a substrate. Is achieved.

本発明の金属製部材用接合剤は、70℃以上400℃以下での加熱により、金属粒子(A)同士が焼結して金属粒子(A)と同等の融点を有する多孔質の焼結物となり、電気伝導性が優れ、焼結途上で接触していた金属製部材への接着性および耐熱処理性が優れている。
本発明の金属製部材接合体の製造方法によると、複数の金属製部材同士が電気伝導性と耐熱処理性よく強固に接合した接合体を簡易に効率よく製造することができる。
本発明の金属製部材接合体は、接合部分の接合強度と耐熱処理性と電気伝導性が優れているので、金属製部材が金属系基板または金属部分を有する電子部品等として有用である。
本発明の電気回路接続用バンプの製造方法によると、下地電極との接着性と耐熱処理性と電気伝導性が優れた電気回路接続用バンプを簡易に効率よく製造することができる。
The bonding agent for a metal member of the present invention is a porous sintered product having a melting point equivalent to that of the metal particles (A) by sintering the metal particles (A) by heating at 70 ° C. or more and 400 ° C. or less. Thus, the electrical conductivity is excellent, and the adhesion to the metal member that has been in contact during sintering and the heat resistance are excellent.
According to the method for producing a metal member assembly of the present invention, it is possible to easily and efficiently produce a joined body in which a plurality of metal members are firmly bonded with good electrical conductivity and heat resistance.
The metal member joined body of the present invention is useful as an electronic component or the like in which the metal member has a metal-based substrate or a metal portion because the joint strength, heat resistance, and electrical conductivity of the joint portion are excellent.
According to the method for manufacturing an electric circuit connecting bump of the present invention, an electric circuit connecting bump excellent in adhesiveness to a base electrode, heat resistance, and electric conductivity can be easily and efficiently manufactured.

アトマイズ法により製造された銀粒子の多孔質焼結物の断面部分拡大写真である。It is a cross-section part enlarged photograph of the porous sintered compact of the silver particle manufactured by the atomizing method. 実施例におけるせん断接着強さ測定用試験体Aの平面図である。銀基板1と銀チップ3とが、銀粒子または銅粒子の加熱焼結物である固体状銀または固体状銅2により接合されている。It is a top view of the test body A for shear bond strength measurement in an Example. The silver substrate 1 and the silver chip 3 are joined by solid silver or solid copper 2 which is a heat-sintered product of silver particles or copper particles. 図2におけるX-X線方向の側面図である。It is a side view of the XX line direction in FIG.

本発明の金属製部材用接合剤は、(A)平均粒径(メディアン径D50)が0.1μmより大きく50μm以下であり融点が400℃より高く加熱焼結性である金属粒子と(B)フラックスとからなるペースト状物であり、70℃以上400℃以下で加熱することにより、金属粒子(A)同士が焼結して金属粒子(A)と同等の融点を有し、かつ、焼結途上で接触していた金属製部材へ接着性を有する多孔質焼結物となることを特徴とする。 The metal member bonding agent of the present invention comprises (A) metal particles having an average particle diameter (median diameter D50) of greater than 0.1 μm and less than or equal to 50 μm, a melting point of greater than 400 ° C. and heat-sinterability; It is a paste-like material composed of flux, and when heated at 70 ° C. or higher and 400 ° C. or lower, the metal particles (A) are sintered to have a melting point equivalent to that of the metal particles (A), and sintered. It becomes the porous sintered material which has adhesiveness to the metal member which contacted on the way.

金属粒子(A)の平均粒径はレーザー回折散乱式粒度分布測定法により得られる一次粒子の平均粒径(メディアン径D50)である。平均粒径(メディアン径D50)が50μmを越えると金属粒子同士の加熱焼結性が小さくなり、優れた接合強度、電気伝導性を得にくい。そのため平均粒子径は小さい方がより好ましく、特には10μm以下であることが好ましい。しかし、いわゆるナノサイズとなる0.1μm以下の場合、表面活性が強すぎてペースト状接合剤の保存安定性が低下する恐れがあるため0.1μmを越えることが必要であり、好ましくは0.2μm以上10μm以下であり、更に好ましくは0.7μm以上5μm以下である。
なお、メディアン径D50は、レーザー回折法50%粒径と称されたり(特開2003−55701参照)、体積累積粒径D50と称されてもいる(特開2007−84860参照)。
The average particle diameter of the metal particles (A) is an average particle diameter (median diameter D50) of primary particles obtained by a laser diffraction / scattering particle size distribution measurement method. When the average particle diameter (median diameter D50) exceeds 50 μm, the heat-sinterability between metal particles becomes small, and it is difficult to obtain excellent bonding strength and electrical conductivity. Therefore, the one where an average particle diameter is smaller is more preferable, and it is especially preferable that it is 10 micrometers or less. However, in the case of 0.1 μm or less, which is a so-called nano-size, the surface activity is too strong and the storage stability of the paste-like bonding agent may be lowered. Therefore, it is necessary to exceed 0.1 μm, and preferably 0.1 μm. They are 2 micrometers or more and 10 micrometers or less, More preferably, they are 0.7 micrometers or more and 5 micrometers or less.
The median diameter D50 is also referred to as a laser diffraction method 50% particle size (see Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-55701) or a volume cumulative particle size D50 (see Japanese Patent Application Laid-Open No. 2007-84860).

レーザー回折散乱式粒度分布測定法は、金属粒子にレーザービームを照射し、その金属粒子の大きさに応じて様々な方向へ発せられる回折光や散乱光のレーザー光の強度を測定することにより一次粒子の粒径を求めるという汎用の測定方法である。数多くの測定装置が市販されており(例えば、株式会社島津製作所製レーザ回折式粒度分布測定装置SALD、日機装株式会社製レーザー回折散乱式粒度分布測定装置マイクロトラック)、これらを用いて容易に平均粒径(メディアン径D50)を測定することができる。なお金属粒子の凝集が強い場合には、ホモジナイザーにより一次粒子の状態に分散してから測定することが好ましい。 The laser diffraction / scattering particle size distribution measurement method is a method of irradiating a metal beam with a laser beam and measuring the intensity of the diffracted light or scattered light emitted in various directions depending on the size of the metal particle. This is a general-purpose measurement method for determining the particle size of particles. Many measuring devices are commercially available (for example, a laser diffraction particle size distribution measuring device SALD manufactured by Shimadzu Corporation, a laser diffraction scattering particle size distribution measuring device Microtrac manufactured by Nikkiso Co., Ltd.), and using these, the average particle size can be easily obtained. The diameter (median diameter D50) can be measured. In the case where the aggregation of the metal particles is strong, it is preferably measured after being dispersed in a primary particle state by a homogenizer.

金属粒子(A)の材質は、常温で固体であり、融点が400℃より高く、加熱により焼結しやすければよく、金、銀、銅、パラジウム、ニッケル、スズ、アルミニウム、および、これら各金属の合金が例示され、さらには金属化合物が例示される。
これらの材質のうちでは、融点が600℃以上であり、加熱焼結性、加熱焼結物の導電性の点で、銀、銀合金、銅、銅合金が好ましく、銀および銅が特に好ましい。銀粒子は、表面または内部の一部が酸化銀または過酸化銀であってもよく、表面の全部が酸化銀または過酸化銀であってもよい。銅粒子は、表面または内部の一部が酸化銅であってもよく、表面の全部が酸化銅であってもよい。
The material of the metal particles (A) is solid at room temperature, has a melting point higher than 400 ° C., and can be easily sintered by heating. Gold, silver, copper, palladium, nickel, tin, aluminum, and each of these metals These alloys are exemplified, and further, metal compounds are exemplified.
Among these materials, the melting point is 600 ° C. or higher, and silver, silver alloy, copper, and copper alloy are preferable, and silver and copper are particularly preferable in view of heat sinterability and conductivity of the heat sintered product. The silver particles may have a part of the surface or inside thereof that may be silver oxide or silver peroxide, and the entire surface may be silver oxide or silver peroxide. The copper particles may have copper oxide on the surface or part of the inside, or the entire surface may be copper oxide.

金属粒子(A)は、通常、単独の材質からなるが、複数の材質の粒子の混合物であってもよい。
金属粒子(A)は、それら金属(例えば銀)により表面がメッキされた金属(例えば、銅、ニッケルまたはアルミニウム)粒子、それら加熱焼結性金属(例えば、銀)により表面がメッキされた樹脂(例えば、エポキシ樹脂、ポリエーテルサルフォン樹脂)粒子であってもよい。
The metal particles (A) are usually composed of a single material, but may be a mixture of particles of a plurality of materials.
The metal particles (A) are metal (for example, copper, nickel or aluminum) particles whose surfaces are plated with these metals (for example, silver), and resins whose surfaces are plated with these heat-sinterable metals (for example, silver) ( For example, epoxy resin or polyether sulfone resin) particles may be used.

金属粒子(A)の形状は、加熱焼結性があれば特に限定されず、球状,粒状,フレーク状(片状),針状,角状,樹枝状,不規則形状,涙滴状,繊維状が例示される(JIS Z2500:2000参照)。さらには板状,極薄板状,六角板状,柱状,棒状,多孔状,塊状,海綿状,けい角状,丸み状,楕円球状,ぶどう状,紡錘状,略立方体状等が例示される。
その形状は、多孔質焼結物を形成しやすい点で球状、粒状およびフレーク状(片状)が好ましい。
ここで言う球状とは、ほぼ球に近い形状である(JIS Z2500:2000参照)。必ずしも真球状である必要はなく、粒子の長径(DL)と短径(DS)との比(DL)/(DS)(球状係数と言うことがある)が1.0〜1.2の範囲にあるものが好ましい。
粒状とは、不規則形状のものではなくほぼ等しい寸法をもつ形状である(JIS Z2500:2000参照)。
フレーク状(片状)とは、板のような形状であり(JIS Z2500:2000参照)、鱗のように薄い板状であることから鱗片状とも言われるものである。いずれの形状であっても粒度分布は限定されない。
The shape of the metal particle (A) is not particularly limited as long as it has heat sinterability, and is spherical, granular, flaky (flaky), acicular, angular, dendritic, irregular, teardrop, fiber The shape is exemplified (see JIS Z2500: 2000). Further examples include a plate shape, an ultrathin plate shape, a hexagonal plate shape, a columnar shape, a rod shape, a porous shape, a lump shape, a spongy shape, a rounded shape, a round shape, an elliptical sphere shape, a grape shape, a spindle shape, and a substantially cubic shape.
The shape is preferably spherical, granular, or flaky (flaky) from the viewpoint of easily forming a porous sintered product.
The spherical shape referred to here is a shape that is almost a sphere (see JIS Z2500: 2000). The spherical shape is not necessarily required, and the ratio of the major axis (DL) to the minor axis (DS) of the particle (DL) / (DS) (sometimes referred to as the spherical coefficient) is in the range of 1.0 to 1.2. Are preferred.
Granular is not an irregular shape but a shape with almost equal dimensions (see JIS Z2500: 2000).
The flake shape (strip shape) is a plate-like shape (see JIS Z2500: 2000) and is also called a scale shape because it is a thin plate shape like a scale. No matter the shape, the particle size distribution is not limited.

金属粒子(A)の製法は限定されるものではなく、還元法・粉砕法・電解法・アトマイズ法・熱処理法・それらの組合せによる方法が例示されるが、粒状または球状の粒子を得やすい還元法またはアトマイズ法であることが好ましい。
還元法による銀粒子の製造方法は多く提案されており、通常、硝酸銀水溶液に水酸化ナトリウム水溶液を加えて酸化銀を調製し、これにホルマリンのような還元剤の水溶液を加えることにより酸化銀を還元して銀粒子分散液とし、分散液をろ過し、ろ過残渣を水洗し、乾燥をおこなうことにより製造される。
還元法による銅粒子は、特開昭59−116203に記載されているように、通常、硫酸銅水溶液とヒドラジン水溶液を接触反応させて銅粉を還元析出させ、純水で洗浄した後、乾燥して製造している。アトマイズ法による金属粒子は、特開平9−137207に記載されているように、金属溶融槽から流下する溶融金属に高圧の不活性ガスを噴霧し、該溶融金属を急速凝固させて製造している。特開平5−156321では不活性ガスの代わりに水を用いたアトマイズ法で金属粉末を製造している。
The production method of the metal particles (A) is not limited, and examples include a reduction method, a pulverization method, an electrolysis method, an atomization method, a heat treatment method, and a combination thereof, but reduction that makes it easy to obtain granular or spherical particles Or the atomizing method.
Many methods for producing silver particles by the reduction method have been proposed. Usually, a silver oxide solution is prepared by adding an aqueous sodium hydroxide solution to an aqueous silver nitrate solution, and an aqueous solution of a reducing agent such as formalin is added to the silver oxide solution. It is manufactured by reducing to a silver particle dispersion, filtering the dispersion, washing the filtration residue with water, and drying.
As described in JP-A-59-116203, the copper particles obtained by the reduction method are usually dried by being brought into contact with a copper sulfate aqueous solution and a hydrazine aqueous solution to reduce and precipitate copper powder, washing with pure water, and drying. Manufactured. As described in JP-A-9-137207, metal particles obtained by the atomization method are produced by spraying a high-pressure inert gas onto molten metal flowing down from a metal melting tank and rapidly solidifying the molten metal. . In Japanese Patent Laid-Open No. 5-156321, metal powder is produced by an atomizing method using water instead of an inert gas.

このように製造された金属粒子(A)は、通常、粒状若しくは球状であるが、凝集防止および/または酸化防止のため有機物で表面を被覆してもよい。このような有機物としては、カプリル酸、カプリン酸、ラウリル酸、ミリスチル酸、パルミチン酸、ステアリン酸、オレイン酸、リノール酸、リノレン酸のような高・中級脂肪酸;高・中脂肪酸金属塩、高・中脂肪酸エステル、高・中脂肪酸アミドのような高・中脂肪酸の誘導体;ドデシルアミンのような高・中級アルキルアミンが例示される。金属粒子(A)の表面は撥水性、親水性のいずれであっても良い。 The metal particles (A) thus produced are usually granular or spherical, but may be coated with an organic substance to prevent aggregation and / or oxidation. Examples of such organic substances include high and intermediate fatty acids such as caprylic acid, capric acid, lauric acid, myristic acid, palmitic acid, stearic acid, oleic acid, linoleic acid, and linolenic acid; Examples include medium fatty acid esters, high and medium fatty acid derivatives such as high and medium fatty acid amides; and high and medium alkylamines such as dodecylamine. The surface of the metal particles (A) may be either water-repellent or hydrophilic.

金属粒子(A)表面の有機物量は、金属粒子の焼結性の点で5重量%以下であり、好ましくは2重量%以下である。ここで有機物量は、通常の方法で測定できる。例えば金属粒子(A)を不活性ガス中で500℃に加熱したときの重量減少を測定する方法が例示される。 The amount of the organic substance on the surface of the metal particles (A) is 5% by weight or less, preferably 2% by weight or less in terms of the sinterability of the metal particles. Here, the amount of organic matter can be measured by a usual method. For example, a method of measuring weight loss when the metal particles (A) are heated to 500 ° C. in an inert gas is exemplified.

かくして得られた金属粒子(A)は、液状フラックス(B)とともに70℃以上400℃以下の温度で加熱したときの金属粒子(A)同士の焼結性、および、加熱焼結途上で接触していた金属製部材への接着性および焼結してできる固形状金属の電気伝導性が優れている。 The metal particles (A) thus obtained are in contact with the liquid flux (B) when sintered at a temperature of 70 ° C. or more and 400 ° C. or less, and in the course of heating and sintering. The adhesiveness to the metal member that has been used and the electrical conductivity of the solid metal formed by sintering are excellent.

本発明の金属製部材用接合剤は、金属粒子(A)と液状フラックス(B)との混合物であり、粉末状の金属粒子(A)が液状フラックス(B)の作用によりペースト化している。ペースト化することによりシリンダーやノズルから細い線状に吐出でき、またメタルマスクによる印刷塗布が容易になる。液状フラックス(B)は、粉末状の金属粒子(A)と適度な比率で混合することによりペースト状となる。 The metal member bonding agent of the present invention is a mixture of metal particles (A) and liquid flux (B), and the powdered metal particles (A) are made into a paste by the action of the liquid flux (B). By making it into a paste, it can be discharged in a thin line from a cylinder or nozzle, and printing with a metal mask becomes easy. The liquid flux (B) becomes a paste by mixing with powdered metal particles (A) at an appropriate ratio.

液状フラックス(B)は、金属粒子(A)および金属製部材の表面から酸化物を溶解除去して、金属粒子(A)同士を加熱焼結容易とし、かつ、金属粒子(A)の加熱焼結物と金属製部材との接着性を向上する。 The liquid flux (B) dissolves and removes oxides from the surfaces of the metal particles (A) and the metal member, facilitates the heat sintering of the metal particles (A), and heat-fires the metal particles (A). Improves the adhesion between the joint and the metal member.

本発明の金属製部材用接合剤においては従来公知の常温で液状のフラックスを使用できる。そのような液状フラックスは、通常、少なくともベース樹脂と溶剤とからなり、必要に応じて酸化膜除去活性剤、チキソトロピック剤等からなる。液状フラックス(B)として、(a)ロジンまたはその誘導体と(d)溶剤とからなる液状物、(a)ロジンまたはその誘導体と(b)酸化膜除去活性剤と(d)溶剤とからなる液状物、(a)ロジンまたはその誘導体と(c)チキソトロピック剤と(d)溶剤とからなる液状物、(a)ロジンまたはその誘導体と(b)酸化膜除去活性剤と(c)チキソトロピック剤と(d)溶剤とからなる液状物、(b)酸化膜除去活性剤と(d)溶剤とからなる液状物、および、(b)酸化膜除去活性剤と(c)チキソトロピック剤と(d)溶剤とからなる液状物が例示される。 In the bonding agent for metal members of the present invention, a conventionally known flux at a normal temperature can be used. Such a liquid flux is usually composed of at least a base resin and a solvent, and is optionally composed of an oxide film removing activator, a thixotropic agent, and the like. As the liquid flux (B), (a) a liquid material comprising rosin or a derivative thereof and (d) a solvent, (a) a liquid material comprising a rosin or a derivative thereof, (b) an oxide film removal activator and (d) a solvent. (A) rosin or derivative thereof, (c) thixotropic agent, and (d) liquid product comprising (d) solvent, (a) rosin or derivative thereof, (b) oxide removal agent and (c) thixotropic agent And (d) a liquid comprising a solvent, (b) a liquid comprising an oxide film removal activator and (d) a solvent, and (b) an oxide film removal activator and (c) a thixotropic agent (d ) A liquid material comprising a solvent is exemplified.

ベース樹脂として、ロジンまたはロジン誘導体(a)、合成樹脂が例示される。ロジンとして、ガムロジン、トールロジン、ウッドロジンが例示される。ロジン誘導体として、熱処理したロジン、重合ロジン、変性ロジン(例えば、アクリル化ロジン、水素添加ロジン、ホルミル化ロジン、ロジンエステル、ロジン変性マレイン酸樹脂、ロジン変性フェノール樹脂、ロジン変性アルキド樹脂)、低軟化点ロジンが例示される。アクリル化ロジンは、各種ロジンにアクリル酸もしくはそのエステルやメタクリル酸もしくはそのエステルを付加反応させてなるものである。低軟化点ロジンは、各種ロジンを不活性ガス雰囲気中で250〜300℃の温度で数時間加熱する方法で得ることができる。 Examples of the base resin include rosin, rosin derivative (a), and synthetic resin. Examples of rosins include gum rosin, tall rosin and wood rosin. Heat treated rosin, polymerized rosin, modified rosin (eg, acrylated rosin, hydrogenated rosin, formylated rosin, rosin ester, rosin modified maleic resin, rosin modified phenolic resin, rosin modified alkyd resin), low softening A point rosin is exemplified. Acrylic rosin is obtained by subjecting various rosins to an addition reaction of acrylic acid or its ester or methacrylic acid or its ester. The low softening point rosin can be obtained by heating various rosins at 250 to 300 ° C. for several hours in an inert gas atmosphere.

合成樹脂として、脂肪族ポリアミド樹脂、アクリル樹脂、エチレン−アクリル共重合体、スチレン−マレイン酸樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂が例示される。脂肪族ポリアミド樹脂は、炭素数2〜21の脂肪族ジカルボン酸と脂肪族ジアミンとの重縮合反応によって得られる脂肪族ポリアミド樹脂であり、軟化点が80〜150℃のもの、あるいは炭素数2〜21のダイマー酸と脂肪族ジアミンとの重縮合反応によって得られるポリアミド樹脂で、軟化点が80〜150℃のものが好ましい。
ベース樹脂は、異なるロジンまたはその誘導体を併用したもの、あるいはロジンまたはその誘導体と合成樹脂を併用したものであってもよい。
ベース樹脂は、常温で液状であることが好ましいが、35〜150℃位で溶融するか、溶剤に溶解可能であれば固形状でもよい。
Examples of synthetic resins include aliphatic polyamide resins, acrylic resins, ethylene-acrylic copolymers, styrene-maleic acid resins, epoxy resins, and polyurethane resins. The aliphatic polyamide resin is an aliphatic polyamide resin obtained by a polycondensation reaction between an aliphatic dicarboxylic acid having 2 to 21 carbon atoms and an aliphatic diamine, and has a softening point of 80 to 150 ° C, or 2 to 2 carbon atoms. A polyamide resin obtained by a polycondensation reaction of 21 dimer acid and an aliphatic diamine, preferably having a softening point of 80 to 150 ° C.
The base resin may be a combination of different rosins or derivatives thereof, or a combination of rosin or derivatives thereof and a synthetic resin.
The base resin is preferably liquid at normal temperature, but may be solid as long as it melts at about 35 to 150 ° C. or can be dissolved in a solvent.

溶剤(d)は、上記ベース樹脂が常温で固形状である場合および粘稠な液状である場合に必要な成分である。溶剤(d)として、エチルアルコール、プロピルアルコール、ブチルアルコール、ペンチルアルコール、ヘキシルアルコール、ヘプチルアルコール、オクチルアルコール、ノニルアルコール、デシルアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル(メチルセロソルブ、メチルカルビトール)、エチレングリコールモノエチルエーテル(エチルセロソルブ、エチルカルビトール)、エチレングリコールモノプロピルエーテル(プロピルセロソルブ、プロピルカルビトール)、エチレングリコールモノブチルエーテル(ブチルセロソルブ、ブチルカルビトール)、プロピレングリコールモノメチルエーテル、メチルメトキシブタノール、α−ターピネオール、β−ターピネオール、へキシレングリコール、ベンジルアルコール、2−フェニルエチルアルコール、イゾパルミチルアルコール、イソステアリルアルコール、ラウリルアルコール、エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリンなどのアルコール類;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイゾブチルケトン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール(4−ヒドロキシ−4−メチル−2−ペンタノン)、2−オクタノン、イソホロン(3、5、5−トリメチル−2−シクロヘキセン−1−オン)、ジイブチルケトン(2、6−ジメチル−4−ヘプタノン)などのケトン類;酢酸エチル、酢酸ブチル、ジシソブリツアジペート、ジエチルフタレート、ジブチルフタレート、アセトキシエタン、酪酸メチル、ヘキサン酸メチル、オクタン酸メチル、デカン酸メチル、メチルセロソルブアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、1,2−ジアセトキシエタン、リン酸トリブチル、リン酸トリクレジル、リン酸トリペンチルなどのエステル類;テトラヒドロフラン、ジプロピルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールジブチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル、エトキシエチルエーテル、1,2−ビス(2−ジエトキシ)エタン、1,2−ビス(2−メトキシエトキシ)エタン等のエーテル類;酢酸2−(2ブトキシエトキシ)エタンなどのエステルエーテル類;2−(2−メトキシエトキシ)エタノールなどのエーテルアルコール類;トルエン、キシレン、n−パラフィン、イソパラフィン、ドデシルベンゼン、テレピン油、ケロシン、軽油などの炭化水素類;アセトニトリル、プロピオニトリルなどのニトリル類;アセトアミド、N、N-ジメチルホルムアミドなどのアミド類;低分子量の揮発性シリコンオイルおよび揮発性有機変成シリコンオイルが例示される。溶剤(d)は常圧における沸点が 50〜300℃であることが好ましい。 The solvent (d) is a necessary component when the base resin is in a solid state at room temperature or in a viscous liquid state. As solvent (d), ethyl alcohol, propyl alcohol, butyl alcohol, pentyl alcohol, hexyl alcohol, heptyl alcohol, octyl alcohol, nonyl alcohol, decyl alcohol, ethylene glycol monomethyl ether (methyl cellosolve, methyl carbitol), ethylene glycol monoethyl Ether (ethyl cellosolve, ethyl carbitol), ethylene glycol monopropyl ether (propyl cellosolve, propyl carbitol), ethylene glycol monobutyl ether (butyl cellosolve, butyl carbitol), propylene glycol monomethyl ether, methyl methoxybutanol, α-terpineol, β -Terpineol, hexylene glycol, benzyl alcohol, 2-phenylethyl Alcohols such as alcohol, isopalmityl alcohol, isostearyl alcohol, lauryl alcohol, ethylene glycol, propylene glycol, glycerin; acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, diacetone alcohol (4-hydroxy-4-methyl- 2-pentanone), 2-octanone, isophorone (3,5,5-trimethyl-2-cyclohexen-1-one), ketones such as dibutyl ketone (2,6-dimethyl-4-heptanone); ethyl acetate, Butyl acetate, disisobriz adipate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, acetoxyethane, methyl butyrate, methyl hexanoate, methyl octoate, methyl decanoate, methyl cellosolve acetate, propylene glycol Esters such as monomethyl ether acetate, 1,2-diacetoxyethane, tributyl phosphate, tricresyl phosphate, tripentyl phosphate; tetrahydrofuran, dipropyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, ethylene glycol dibutyl ether, propylene glycol Ethers such as dimethyl ether, ethoxyethyl ether, 1,2-bis (2-diethoxy) ethane, 1,2-bis (2-methoxyethoxy) ethane; ester ethers such as acetic acid 2- (2 butoxyethoxy) ethane; Ether alcohols such as 2- (2-methoxyethoxy) ethanol; toluene, xylene, n-paraffin, isoparaffin, dodecylbenzene, turpentine oil, kerosene, light oil, etc. Examples include hydrocarbons; nitriles such as acetonitrile and propionitrile; amides such as acetamide and N, N-dimethylformamide; low molecular weight volatile silicone oil and volatile organic modified silicone oil. The solvent (d) preferably has a boiling point of 50 to 300 ° C. at normal pressure.

溶剤(d)の含有量は、通常、液状フラックス総量の20〜99.99重量%であり、好ましくは20〜99.9重量%である。溶剤(d)が20重量%未満であると、フラックスの粘性が高くなり、フラックスの塗布性が悪化するおそれがある。一方、溶剤(d)が99.99重量%を超えると、フラックスとしての有効成分(ロジン等)が相対的に少なくなってしまい、接合性が低下するおそれがある。 The content of the solvent (d) is usually 20 to 99.99% by weight, preferably 20 to 99.9% by weight of the total amount of the liquid flux. If the solvent (d) is less than 20% by weight, the viscosity of the flux becomes high, and the applicability of the flux may be deteriorated. On the other hand, when the solvent (d) exceeds 99.99% by weight, the active component (such as rosin) as a flux is relatively decreased, and the bondability may be lowered.

ロジンまたはロジン誘導体(a)は、金属粒子(A)および金属製部材の表面から酸化物を溶解除去して、金属粒子(A)同士を加熱焼結容易とし、かつ、金属粒子(A)の加熱焼結物と金属製部材との接着性を向上する。しかし、合成樹脂は通常そのような作用を有しないので、酸化物除去活性剤を併用する。ロジンやロジン誘導体であっても、そのような作用が不十分な場合は、酸化膜除去活性剤(b)と併用することが好ましい。 The rosin or rosin derivative (a) dissolves and removes the oxide from the surfaces of the metal particles (A) and the metal member, makes the metal particles (A) easy to heat-sinter, and the metal particles (A) The adhesion between the heat-sintered material and the metal member is improved. However, since synthetic resins usually do not have such an action, an oxide removal activator is used in combination. Even if rosin or a rosin derivative is insufficient in such action, it is preferably used in combination with the oxide film removal activator (b).

酸化膜除去活性剤(b)として、ジエチルアミン、トリエチルアミン、プロピルアミン、ジプロピルアミン、トリプロピルアミン、ブチルアミン、ジブチルアミン、トリブチルアミン、ヘキシルアミン、オクチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、シクロヘキシルアミン、メチルシクロヘキシルアミン、ジメチルシクロヘキシルアミン、ジフェニルグアニジン等のアミン類の塩化水素酸塩もしくは臭素酸塩;コハク酸、マロン酸、グルタル酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ドデカン二酸等の多価カルボン酸;カプロン酸、カプリル酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、オレイン酸、ベヘニン酸等の一価カルボン酸;クエン酸、1,2−ヒドロキシステアリン酸、1,2−ヒドロキシオレイン酸等のヒドロキシ脂肪酸;テトラブロモメタン、1,1,2,2−テトラブロモブタン、1,2−ジブロモ−2−ブテン、2,3−ジボロモ−1−プロパノール、1,2−ジボロモ−2,3−ブタンジオール、トランス−2,3−ジボロモ−2−ブテン−1,4−ジオール、2,2−ビス(ブロモメチル)−1,3−プロパンジオールなどの有機ハロゲン化物が例示される。 Dioxideamine, triethylamine, propylamine, dipropylamine, tripropylamine, butylamine, dibutylamine, tributylamine, hexylamine, octylamine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, cyclohexyl as the oxide film removal activator (b) Hydrochloric acid salts or bromates of amines such as amine, methylcyclohexylamine, dimethylcyclohexylamine, diphenylguanidine; many types such as succinic acid, malonic acid, glutaric acid, adipic acid, azelaic acid, sebacic acid, dodecanedioic acid Monovalent carboxylic acids such as caproic acid, caprylic acid, lauric acid, myristic acid, palmitic acid, stearic acid, oleic acid, behenic acid; citric acid, 1,2-hydroxystearic acid, Hydroxy fatty acids such as 1,2-hydroxyoleic acid; tetrabromomethane, 1,1,2,2-tetrabromobutane, 1,2-dibromo-2-butene, 2,3-diboromo-1-propanol, 1,2 -Organic halides such as diboromo-2,3-butanediol, trans-2,3-diboromo-2-butene-1,4-diol, 2,2-bis (bromomethyl) -1,3-propanediol Is done.

ここで、アミン類は炭素原子数2〜12の脂肪族アミンが好ましく、一価カルボン酸は炭素原子数6〜18の一価脂肪族カルボン酸が好ましく、多価カルボン酸は炭素原子数2〜12の多価脂肪族カルボン酸が好ましく、ヒドロキシ脂肪酸は炭素原子数6〜18の一価もしくは多価のヒドロキシ脂肪酸が好ましく、有機ハロゲン化物は炭素原子数1〜4のハロゲン化脂肪族炭化水素が好ましい。 Here, the amine is preferably an aliphatic amine having 2 to 12 carbon atoms, the monovalent carboxylic acid is preferably a monovalent aliphatic carboxylic acid having 6 to 18 carbon atoms, and the polyvalent carboxylic acid is preferably 2 to 2 carbon atoms. 12 polyhydric aliphatic carboxylic acids are preferred, the hydroxy fatty acids are preferably mono- or polyhydric hydroxy fatty acids having 6 to 18 carbon atoms, and the organic halides are halogenated aliphatic hydrocarbons having 1 to 4 carbon atoms. preferable.

酸化膜除去活性剤(b)の含有量は、基材の金属酸化物除去能力にもよるが、通常、フラックス総量の0.01〜30重量%であり、好ましくは0.1〜10重量%である。酸化膜除去活性剤(b)が0.01重量%未満であると、活性力が不足し、接合性が低下するおそれがある。一方、酸化膜除去活性剤(b)が30重量%を超えると、フラックスの皮膜性が低下し親水性が高くなるので、腐食性および絶縁性が低下するおそれがある。 The content of the oxide film removal activator (b) is usually 0.01 to 30% by weight, preferably 0.1 to 10% by weight of the total amount of flux, although it depends on the metal oxide removal ability of the substrate. It is. When the oxide film removal activator (b) is less than 0.01% by weight, the activity is insufficient and the bonding property may be deteriorated. On the other hand, if the oxide film removing activator (b) exceeds 30% by weight, the film property of the flux is lowered and the hydrophilicity is increased, so that the corrosiveness and the insulating property may be lowered.

チキソトロピック剤(c)は、金属粒子(A)と液状ベース樹脂のペースト状混合物、あるいは、金属粒子(A)と固形状ベース樹脂と溶剤のペースト状混合物にチキソトロピック性を付与もしくは向上して、金属製部材用接合剤の塗布作業性や注入作業性を向上する作用がある。
チキソトロピック剤(c)としては、硬化ヒマシ油、脂肪酸アミド、ジベンジリデンソルビトール等が例示される。
The thixotropic agent (c) imparts or improves thixotropic properties to the paste mixture of the metal particles (A) and the liquid base resin, or the paste mixture of the metal particles (A), the solid base resin and the solvent. There is an effect of improving the application workability and injection workability of the bonding agent for metal members.
Examples of the thixotropic agent (c) include hydrogenated castor oil, fatty acid amide, dibenzylidene sorbitol and the like.

チキソトロピック剤(c)は、金属粒子(A)と液状基材のペースト状混合物、あるいは、金属粒子(A)と固形状ベース樹脂と溶剤のペースト状混合物がチキソトロピック性を有している場合は、必ずしも必要ではないが、その含有量は、通常、液状フラックス(B)総量の1.0〜25重量%であり、好ましくは3.0〜10重量%である。 The thixotropic agent (c) is a paste-like mixture of metal particles (A) and a liquid substrate, or a paste-like mixture of metal particles (A), a solid base resin and a solvent has thixotropic properties. Although not necessarily required, the content thereof is usually 1.0 to 25% by weight, preferably 3.0 to 10% by weight, based on the total amount of the liquid flux (B).

液状フラックス(B)は、その他に、顔料、酸化防止剤、界面活性剤、アミン類、防黴剤、防錆剤、艶消し剤等を含有してもよい。
液状フラックス(B)は、必要な成分の所要量を汎用のミキサー等で混合して容易に調製することができる。
The liquid flux (B) may further contain pigments, antioxidants, surfactants, amines, antifungal agents, rust inhibitors, matting agents and the like.
The liquid flux (B) can be easily prepared by mixing required amounts of necessary components with a general-purpose mixer or the like.

これらの液状フラックス(B)は、金属粒子(A)と混合してペースト状にしたときにメタルマスクでの印刷性やシリンジからの押出性、吐出性に優れ、また適度なチクソトロピック性を有している。 These liquid fluxes (B) are excellent in printability with a metal mask, extrudability from a syringe, and dischargeability when mixed with metal particles (A) to form a paste, and have appropriate thixotropic properties. is doing.

液状フラックス(B)の配合量は、金属粒子(A)をペースト状にするのに十分な量でよく、金属粒子(A)の比重、平均粒径(メディアン径D50)、形状などによっても異なるが、目安として金属粒子(A)100重量部あたり、5〜20重量部である。なお、ペースト状は、クリーム状やスラリー状を含むものである。 The blending amount of the liquid flux (B) may be an amount sufficient to make the metal particles (A) into a paste, and varies depending on the specific gravity, average particle diameter (median diameter D50), shape, etc. of the metal particles (A). However, as a guide, it is 5 to 20 parts by weight per 100 parts by weight of the metal particles (A). The paste form includes a cream form and a slurry form.

本発明の金属製部材用接合剤は、本発明の目的に反しない限り金、銀、銀、銅、ニッケル、アルミニウム等の平均粒径(メディアン径D50)が0.1μm以下であるナノ粒子や非金属系の粒子、金属化合物や金属錯体、安定剤、着色剤等を含有しても良い。 As long as it does not contradict the purpose of the present invention, the bonding agent for metal members of the present invention includes nanoparticles having an average particle diameter (median diameter D50) of 0.1 μm or less, such as gold, silver, silver, copper, nickel, and aluminum. Non-metallic particles, metal compounds and metal complexes, stabilizers, colorants, and the like may be contained.

本発明の金属製部材用接合剤は、加熱することにより金属粒子(A)同士が焼結して元の金属粒子(A)と同等の融点を有する多孔質の焼結物となり、かつ、金属製部材用接合剤が接触していた金属製部材へ優れた接着性を有する。 The bonding agent for a metal member of the present invention is a porous sintered product having a melting point equivalent to that of the original metal particles (A) by sintering the metal particles (A) by heating, and a metal It has excellent adhesion to the metal member that was in contact with the bonding agent for the member made.

加熱するときの雰囲気ガスは、不活性ガス、酸化性ガス、還元性ガスのいずれでも良いが、金属粒子(A)または金属製部材が卑金属系であるときは不活性ガスまたは還元性ガスであることが好ましい。不活性ガスは窒素ガスであることが好ましい。酸化性ガスは酸素ガスと窒素ガスからなることが好ましく、特には酸素ガス濃度が0.1体積%以上40体積%以下と窒素ガス濃度が99.9体積%以下60体積%以上の混合ガスであることが好ましく、空気であっても良い。還元性ガスは水素ガスと窒素ガスからなることが好ましく、特には水素ガス濃度が1体積%以上40体積%以下と窒素ガス濃度が99体積%以下60体積%以上の混合ガスであることが好ましく、更には水素ガス濃度が5体積%以上25体積%以下と窒素ガスが95体積%以下75体積%以上であるフォーミングガスであることが好ましい。 The atmosphere gas for heating may be any of an inert gas, an oxidizing gas, and a reducing gas, but when the metal particles (A) or the metal member is a base metal system, it is an inert gas or a reducing gas. It is preferable. The inert gas is preferably nitrogen gas. The oxidizing gas is preferably composed of oxygen gas and nitrogen gas. In particular, the oxidizing gas is a mixed gas having an oxygen gas concentration of 0.1 to 40% by volume and a nitrogen gas concentration of 99.9 to 60% by volume. It is preferable that there is air, and air may be used. The reducing gas is preferably composed of hydrogen gas and nitrogen gas, particularly preferably a mixed gas having a hydrogen gas concentration of 1 to 40% by volume and a nitrogen gas concentration of 99 to 60% by volume. Further, it is preferably a forming gas having a hydrogen gas concentration of 5% by volume to 25% by volume and a nitrogen gas of 95% by volume to 75% by volume.

加熱温度は、金属粒子(A)が焼結できる温度であればよく、通常70℃以上であり、150℃以上が好ましく、200℃以上であることがより好ましい。しかし、400℃を越えると常温にもどしたときの残留応力が大きくなるので400℃以下であることが必要であり、好ましくは350℃以下、より好ましくは300℃以下である。 The heating temperature should just be a temperature which can sinter a metal particle (A), and is 70 degreeC or more normally, 150 degreeC or more is preferable and it is more preferable that it is 200 degreeC or more. However, if the temperature exceeds 400 ° C., the residual stress increases when the temperature is returned to room temperature, so it is necessary that the temperature be 400 ° C. or less, preferably 350 ° C. or less, more preferably 300 ° C. or less.

金属粒子(A)同士の多孔質焼結物は、金属粒子(A)と同等の融点を有し、電気伝導性と耐熱処理性が優れていることを特徴とする。金属粒子(A)が銀であれば多孔質焼結物の融点は銀の融点と略同じである。同様に金属粒子(A)が銅であれば多孔質焼結物の融点は銅の融点と略同じである。金属粒子(A)同士の多孔質焼結物は、金属粒子(A)の全体が溶融して形成されたものではなく、金属粒子(A)同士の接触界面で接合しているため多孔質であることを特徴とする。 The porous sintered product of the metal particles (A) has a melting point equivalent to that of the metal particles (A), and is excellent in electrical conductivity and heat resistance. If the metal particles (A) are silver, the melting point of the porous sintered product is substantially the same as the melting point of silver. Similarly, if the metal particles (A) are copper, the melting point of the porous sintered product is substantially the same as the melting point of copper. The porous sintered product of metal particles (A) is not formed by melting the whole metal particles (A), but is porous because they are joined at the contact interface between the metal particles (A). It is characterized by being.

これに対し、スズを主成分とするハンダ、例えば、Sn60%とPb40%とからなる共晶ハンダ、無鉛ハンダ粒子、例えば、Sn−In系、Sn−Bi系、In−Ag系、In−Bi系、Sn−Zn系、Sn−Ag系、Sn−Cu系、Sn−Sb系、Sn−Au系、Sn−Bi−Ag−Cu系、Sn−Ge系、Sn−Bi−Cu系、Sn−Cu−Sb−Ag系、Sn−Ag−Zn系、Sn−Cu−Ag系、Sn−Bi−Sb系、Sn−Bi−Sb−Zn系、Sn−Bi−Cu−Zn系、Sn−Ag−Sb系、Sn−Ag−Sb−Zn系、Sn−Ag−Cu−Zn系、Sn−Zn−Bi系の無鉛ハンダ粒子、 On the other hand, solder containing tin as a main component, for example, eutectic solder composed of Sn 60% and Pb 40%, lead-free solder particles, such as Sn-In, Sn-Bi, In-Ag, and In-Bi. Type, Sn-Zn type, Sn-Ag type, Sn-Cu type, Sn-Sb type, Sn-Au type, Sn-Bi-Ag-Cu type, Sn-Ge type, Sn-Bi-Cu type, Sn- Cu-Sb-Ag system, Sn-Ag-Zn system, Sn-Cu-Ag system, Sn-Bi-Sb system, Sn-Bi-Sb-Zn system, Sn-Bi-Cu-Zn system, Sn-Ag- Sb-based, Sn-Ag-Sb-Zn-based, Sn-Ag-Cu-Zn-based, Sn-Zn-Bi-based lead-free solder particles,

より具体的には、48Sn/52In、43Sn/57Bi、97In/3Ag、58Sn/42In、95In/5Bi、60Sn/40Bi、91Sn/9Zn、96.5Sn/3.5Ag、99.3Sn/0.7Cu、95Sn/5Sb、20Sn/80Au、90Sn/10Ag、Sn90/Bi7.5/Ag2/Cu0.5、97Sn/3Cu、99Sn/1Ge、92Sn/7.5Bi/0.5Cu、97Sn/2Cu/0.8Sb/0.2Ag、95.5Sn/3.5Ag/1Zn、95.5Sn/4Cu/0.5Ag、52Sn/45Bi/3Sb、51Sn/45Bi/3Sb/1Zn、85Sn/10Bi/5Sb、84Sn/10Bi/5Sb/1Zn、88.2Sn/10Bi/0.8Cu/1Zn、89Sn/4Ag/7Sb、88Sn/4Ag/7Sb/1Zn、98Sn/1Ag/1Sb、97Sn/1Ag/1Sb/1Zn、91.2Sn/2Ag/0.8Cu/6Zn、89Sn/8Zn/3Bi、86Sn/8Zn/6Bi、89.1Sn/2Ag/0.9Cu/8Znは、ハンダを構成する金属が溶融して合金化し一体化したものなので、多孔質とはならず均一な固体となる。 More specifically, 48Sn / 52In, 43Sn / 57Bi, 97In / 3Ag, 58Sn / 42In, 95In / 5Bi, 60Sn / 40Bi, 91Sn / 9Zn, 96.5Sn / 3.5Ag, 99.3Sn / 0.7Cu, 95Sn / 5Sb, 20Sn / 80Au, 90Sn / 10Ag, Sn90 / Bi7.5 / Ag2 / Cu0.5, 97Sn / 3Cu, 99Sn / 1Ge, 92Sn / 7.5Bi / 0.5Cu, 97Sn / 2Cu / 0.8Sb / 0.2Ag, 95.5Sn / 3.5Ag / 1Zn, 95.5Sn / 4Cu / 0.5Ag, 52Sn / 45Bi / 3Sb, 51Sn / 45Bi / 3Sb / 1Zn, 85Sn / 10Bi / 5Sb, 84Sn / 10Bi / 5Sb / 1Zn, 88.2Sn / 10Bi / 0.8Cu / 1Zn, 89Sn / 4Ag / 7Sb, 88 n / 4Ag / 7Sb / 1Zn, 98Sn / 1Ag / 1Sb, 97Sn / 1Ag / 1Sb / 1Zn, 91.2Sn / 2Ag / 0.8Cu / 6Zn, 89Sn / 8Zn / 3Bi, 86Sn / 8Zn / 6Bi, 89.1Sn / Since 2Ag / 0.9Cu / 8Zn is obtained by melting and alloying the metal constituting the solder, it is not porous and becomes a uniform solid.

金属粒子(A)の多孔質焼結物は、図1に示されるように、数多くの微細な空孔や空隙、しかも、連続した空隙すなわち、細孔を有している。細孔の形状や大きさは、種々様々である。焼結前の焼結性金属粒子間の隙間が主に細孔になるので、通常0.1〜50μmであるが、連続的な細孔は50μmよりはるかに長い可能性がある。なお、該細孔にはフラックス残渣が存在する可能性があるが、この場合でも後述する溶剤洗浄により除去可能である。 As shown in FIG. 1, the porous sintered product of metal particles (A) has many fine pores and voids, and continuous voids, that is, pores. There are various shapes and sizes of the pores. Since the gaps between the sinterable metal particles before sintering are mainly pores, they are usually 0.1-50 μm, but continuous pores can be much longer than 50 μm. In addition, although there may exist a flux residue in this pore, even in this case, it can be removed by solvent cleaning described later.

金属粒子(A)の多孔質焼結物は、多孔質焼結物の断面に占める空間の割合(該空間中にはフラックス残渣が存在する場合があるが、この分は空間とする(以下同様)。本発明では、空隙率という)が、5面積%以上50面積%以下であることが好ましく、10面積%以上40面積%以下であることがより好ましい。多孔質焼結物に占める空間の割合(空隙率)の測定方法は、通常の方法が利用できる。例えば、焼結物の断面を電子顕微鏡で写真撮影をし、画像解析ソフトにより写真における金属部分と空間部分の面積比を求める方法、電子顕微鏡により撮影した写真を均質な紙等に印刷し、金属部分と空間部分をはさみ等で切り分けて各々の重量を測定し、その比率で求める方法等が例示される。 The porous sintered product of the metal particles (A) is the proportion of the space in the cross section of the porous sintered product (there may be a flux residue in the space, but this part is the space (the same applies hereinafter) In the present invention, the porosity) is preferably 5 area% or more and 50 area% or less, and more preferably 10 area% or more and 40 area% or less. As a method for measuring the ratio of the space (porosity) in the porous sintered product, a normal method can be used. For example, the cross section of the sintered product is photographed with an electron microscope, the area ratio between the metal part and the space part in the photograph is obtained with image analysis software, the photograph taken with the electron microscope is printed on homogeneous paper, etc. Examples include a method of measuring the weight by dividing the portion and the space portion with scissors and measuring the respective weights, and the like.

金属粒子(A)の多孔質焼結物の融点は、加熱焼結温度の上限値である400℃より高く、金属粒子(A)と同等であることが好ましい。融点は金属粒子(A)の材質によって変わるが、600℃以上であることが好ましい。金属粒子(A)が銀であれば900℃以上であることが好ましく、銅であれば1000℃以上であることが好ましい。 The melting point of the porous sintered product of the metal particles (A) is preferably higher than 400 ° C., which is the upper limit value of the heat sintering temperature, and is preferably equivalent to the metal particles (A). The melting point varies depending on the material of the metal particles (A), but is preferably 600 ° C. or higher. If the metal particles (A) are silver, the temperature is preferably 900 ° C. or more, and if copper is copper, the temperature is preferably 1000 ° C. or more.

金属粒子(A)の多孔質焼結物の電気伝導性は、体積抵抗率で1×10-2Ω・cm以下であることが好ましく、1×10-4Ω・cm以下であることがより好ましい。また、金属製部材の該多孔質焼結物による接合体の接合強度は、せん断接着強さが5MPa以上であることが好ましく、10MPa以上であることがより好ましい。これらの融点、体積抵抗率およびせん断接着強さは、実施例に記載した方法により測定されるものである。 The electrical conductivity of the porous sintered product of the metal particles (A) is preferably 1 × 10 −2 Ω · cm or less in terms of volume resistivity, and more preferably 1 × 10 −4 Ω · cm or less. preferable. Moreover, as for the joining strength of the joined body by the porous sintered product of the metal member, the shear adhesive strength is preferably 5 MPa or more, and more preferably 10 MPa or more. These melting points, volume resistivity and shear bond strength are measured by the methods described in the examples.

本発明の金属製部材用接合剤は、加熱すると金属粒子(A)同士が焼結し、強度および電気伝導性が優れ、接触していた金属製部材、例えば金メッキ基板、金合金基板、銀メッキ金属基板、銀基板、銀合金基板、銅メッキ基板、銅基板、銅合金基板、パラジウムメッキ基板、パラジウム合金基板等の金属系基板、電気絶縁性基板上の電極等金属部分への接着性を有する多孔質焼結物となるので、金属系基板や金属部分を有する電子部品、電子装置、電気部品、電気装置等の接合に有用である。 The bonding agent for a metal member of the present invention, when heated, the metal particles (A) sinter together, is excellent in strength and electrical conductivity, and is a metal member that has been in contact, such as a gold-plated substrate, a gold alloy substrate, silver plating Metal substrate, silver substrate, silver alloy substrate, copper-plated substrate, copper substrate, copper alloy substrate, palladium-plated substrate, metal substrate such as palladium alloy substrate, etc. Adhesive to metal parts such as electrodes on electrically insulating substrate Since it becomes a porous sintered product, it is useful for joining a metal substrate, an electronic component having a metal part, an electronic device, an electrical component, an electrical device, or the like.

そのような接合として、コンデンサ、抵抗等のチップ部品と回路基板との接合;ダイオード、メモリ、CPU等の半導体チップとリードフレームもしくは回路基板との接合;高発熱のCPUチップと冷却板との接合、半導体または基板上の電極形成材が例示される。 Such bonding includes bonding of chip components such as capacitors and resistors and circuit boards; bonding of semiconductor chips such as diodes, memories, and CPUs to lead frames or circuit boards; bonding of high heat generating CPU chips and cooling plates. An electrode forming material on a semiconductor or a substrate is exemplified.

本発明の金属製部材用接合剤を加熱して金属粒子(A)を焼結した後の洗浄は不要であるが、ハンダの場合と同様に純水または有機溶媒で洗浄してもよい。有機溶剤としては揮発性のアルコール、ケトン、エーテル、炭化水素が例示される。洗浄方法は限定されず、溶剤をかけ流して洗浄する方法、溶剤に浸漬して洗浄する方法、溶剤を噴霧して洗浄する方法が例示されるが、超音波振動を加えながら洗浄する方法が好ましい。 Washing after heating the metal member bonding agent of the present invention to sinter the metal particles (A) is not necessary, but may be washed with pure water or an organic solvent as in the case of solder. Examples of the organic solvent include volatile alcohols, ketones, ethers, and hydrocarbons. The washing method is not limited, and a method of washing by pouring a solvent, a method of washing by immersing in a solvent, and a method of washing by spraying a solvent are exemplified, but a method of washing while applying ultrasonic vibration is preferable. .

本発明の金属製部材用接合剤は、液状成分を含有するので、密閉容器に保存することが好ましい。長期間保存後に使用するときは、容器を振とうしてから、あるいは容器内を攪拌してから使用することが好ましい。保存安定性を向上する目的で冷蔵保管をしても良く、保管温度として10℃以下が例示されるが、特に密閉容器内では液状フラックス(B)が凝固しない温度であることが好ましい。
密閉容器にシリンジを使用した場合は、ディスペンサーやインクジェットを用いて微少量の吐出ができる。
Since the bonding agent for metal members of the present invention contains a liquid component, it is preferably stored in a sealed container. When used after long-term storage, it is preferable to use the container after shaking or stirring the container. Refrigerated storage may be performed for the purpose of improving storage stability, and the storage temperature is exemplified by 10 ° C. or less, but it is particularly preferable that the temperature is such that the liquid flux (B) does not solidify in the sealed container.
When a syringe is used for the sealed container, a very small amount can be discharged using a dispenser or an ink jet.

本発明の金属製部材接合体の製造方法は、(A)平均粒径(メディアン径D50)が0.1μmより大きく50μm以下であり融点が400℃より高い加熱焼結性金属粒子と(B)液状フラックスとからなるペースト状物を複数の金属製部材間に介在させ、70℃以上400℃以下で加熱することにより、金属粒子(A)同士が焼結した金属粒子(A)と同等の融点を有する多孔質焼結物により複数の金属製部材同士を接合することを特徴とする。 The method for producing a metal member assembly of the present invention comprises (A) heat-sinterable metal particles having an average particle diameter (median diameter D50) of greater than 0.1 μm and not greater than 50 μm and a melting point of greater than 400 ° C. A melting point equivalent to metal particles (A) obtained by sintering metal particles (A) by interposing a paste-like material composed of a liquid flux between a plurality of metal members and heating at 70 ° C. to 400 ° C. A plurality of metal members are joined together by a porous sintered product having

(A)平均粒径(メディアン径D50)が0.1μmより大きく50μm以下であり融点が400℃より高い加熱焼結性金属粒子、(B)液状フラックス、これらからなるペースト状物、金属製部材、加熱するときの雰囲気ガス、70℃以上400℃以下での加熱、金属粒子(A)同士の焼結、および、多孔質焼結物の融点、多孔質焼結物中に占める空間の割合(空隙率)については、既に説明したとおりである。ここで、せん断接着強さと体積抵抗率は、実施例に記載した方法により測定されるものである。 (A) Heat-sinterable metal particles having an average particle diameter (median diameter D50) greater than 0.1 μm and not more than 50 μm and a melting point higher than 400 ° C., (B) liquid flux, paste-like material comprising these, metal member , Atmosphere gas when heating, heating at 70 ° C. to 400 ° C., sintering of metal particles (A), melting point of porous sintered product, proportion of space occupied in porous sintered product ( The porosity is as described above. Here, the shear bond strength and the volume resistivity are measured by the methods described in the examples.

本発明の金属製部材接合体は、複数の金属製部材が、空隙率が5〜50面積%であり、融点が400℃より高く、体積抵抗率が1×10-2Ω・cm以下である多孔質焼結物により接合されていることを特徴とする。
金属製部材、多孔質焼結物の融点、空隙率、フラックス、体積抵抗率については、既に説明したとおりである。
この金属製部材接合体は、250℃におけるせん断接着強さが5MPa以上であることが好ましく、10MPa以上であることがより好ましい。ここで、融点とせん断接着強さと体積抵抗率は、実施例に記載した方法により測定されるものである。
In the metal member assembly of the present invention, the plurality of metal members have a porosity of 5 to 50 area%, a melting point higher than 400 ° C., and a volume resistivity of 1 × 10 −2 Ω · cm or less. It is characterized by being joined by a porous sintered product.
The melting point, porosity, flux, and volume resistivity of the metal member and porous sintered product are as described above.
The metal member assembly has a shear bond strength at 250 ° C. of preferably 5 MPa or more, and more preferably 10 MPa or more. Here, the melting point, shear bond strength and volume resistivity are measured by the methods described in the examples.

本発明の金属製部材用接合剤である,(A)平均粒径(メディアン径D50)が0.1μmより大きく50μm以下であり融点が400℃より高い加熱焼結性金属粒子と(B)液状フラックスとからなるペースト状物は、電気回路接続用電極の製造に有用である。 (A) Heat-sinterable metal particles having an average particle diameter (median diameter D50) greater than 0.1 μm and less than 50 μm and a melting point higher than 400 ° C. A paste-like material made of flux is useful for manufacturing an electric circuit connecting electrode.

本発明の電気回路接続用バンプの製造方法は、(A)平均粒径(メディアン径D50)が0.1μmより大きく50μm以下であり融点が400℃より高い加熱焼結性金属粒子と(B)液状フラックスとからなるペースト状物を、半導体素子上の電気回路接続用パッド部または基板上の電気回路接続用電極部にドット状に塗布し、70℃以上400℃以下で加熱することにより、該金属粒子同士を焼結して、半導体素子上または基板上に金属製バンプを形成することを特徴とする。 The method for producing an electric circuit connecting bump of the present invention comprises: (A) heat-sinterable metal particles having an average particle diameter (median diameter D50) of greater than 0.1 μm and not greater than 50 μm and a melting point of greater than 400 ° C .; A paste-like material composed of a liquid flux is applied in a dot shape to an electric circuit connecting pad on a semiconductor element or an electric circuit connecting electrode on a substrate, and heated at 70 ° C. or higher and 400 ° C. or lower, The metal particles are sintered to form metal bumps on the semiconductor element or the substrate.

ペースト状物をドット状に塗布する方法として、滴下、ディスペンシング、印刷(例えばスクリーン印刷)、メタルマスク塗布、インクジェット塗布が例示される。
(A)平均粒径(メディアン径D50)が0.1μmより大きく50μm以下であり融点が400℃より高い加熱焼結性金属粒子と(B)液状フラックスとからなるペースト状物、加熱するときの雰囲気ガス、70℃以上400℃以下での加熱、金属粒子(A)同士の焼結については、既に説明したとおりである。
金属製バンプは、金属粒子(A)同士の多孔質焼結物であり、その融点は400℃より高く、好ましくは600℃以上であり、多孔質焼結物の断面において空間の占める割合(空隙率)は、通常5面積%以上50面積%以下であり、好ましくは10面積%以上40面積%以下である。
Examples of the method for applying the paste-like material in the form of dots include dripping, dispensing, printing (for example, screen printing), metal mask application, and inkjet application.
(A) A paste-like product composed of heat-sinterable metal particles having an average particle diameter (median diameter D50) greater than 0.1 μm and not more than 50 μm and a melting point higher than 400 ° C. and (B) a liquid flux, The atmospheric gas, heating at 70 ° C. to 400 ° C., and sintering of the metal particles (A) are as described above.
The metal bump is a porous sintered product of metal particles (A), and its melting point is higher than 400 ° C., preferably 600 ° C. or higher. Ratio) is usually 5 area% or more and 50 area% or less, preferably 10 area% or more and 40 area% or less.

このようにして形成した半導体素子上および基板上の電気回路接続電極は、金属粒子(A)同士が焼結することにより大きな強度と極めて高い電気伝導性を有るため、半導体素子の電気回路と基板上の電気回路接続用電極の形成に用いることができる。半導体素子としては、ダイオード、トランジスタ、メモリ、CPUが例示される。電気回路と電極は、通常、金、銀、銅、パラジウム、前記各金属の合金、または前記各金属のメッキからなる。 The electrical circuit connection electrodes on the semiconductor element and the substrate thus formed have high strength and extremely high electrical conductivity due to the sintering of the metal particles (A), so that the electrical circuit and the substrate of the semiconductor element It can be used to form the upper electric circuit connection electrode. Examples of the semiconductor element include a diode, a transistor, a memory, and a CPU. The electric circuit and the electrode are usually made of gold, silver, copper, palladium, an alloy of each metal, or plating of each metal.

本発明の実施例と比較例を掲げる。実施例と比較例中、部とあるのは重量部を意味する。金属粒子(A)の多孔質焼結物中に空間の占める割合(空隙率)、融点、体積抵抗率、および、250℃における接合体のせん断接着強さは下記の方法により測定した。融点および250℃における接合体のせん断接着強さ以外は23℃で測定した。沸点は常圧での値である。 Examples and comparative examples of the present invention will be given. In the examples and comparative examples, “parts” means “parts by weight”. The proportion of the space in the porous sintered product of the metal particles (A) (void ratio), melting point, volume resistivity, and shear bond strength of the joined body at 250 ° C. were measured by the following methods. Measurements were made at 23 ° C. except for the melting point and the shear bond strength of the joined body at 250 ° C. The boiling point is a value at normal pressure.

[多孔質焼結物の空隙率]
ポリイミド樹脂板上に15mm角の開口部を有する厚さ1mmのステンレス製のマスクを置き、金属製部材用接合剤を印刷塗布した。これを室温のガス流通炉に入れ、雰囲気ガスを実施例に記載の所定のガスに置換後、所定のガスを流量1リットル/分で流しながら室温から昇温速度1℃/秒で280℃まで昇温し、280℃で1時間保持後、室温まで冷却して金属製部材用接合剤中の金属粒子を焼結した。この金属粒子焼結物をポリイミド樹脂板からはずして空隙率測定用試験体とした。
かくして得られた板状の試験体の断面を電子顕微鏡で撮影し、画像解析ソフト(アメリカ合衆国のNational Institute of Health社製のNIH Image)を用いて空隙率を算出し、面積%で示した。
[Porosity of porous sintered product]
A 1 mm thick stainless steel mask having a 15 mm square opening was placed on the polyimide resin plate, and a metal member bonding agent was applied by printing. This was put in a gas flow furnace at room temperature, the atmospheric gas was replaced with the predetermined gas described in the examples, and the predetermined gas was flowed at a flow rate of 1 liter / min. The temperature was raised and held at 280 ° C. for 1 hour, and then cooled to room temperature to sinter the metal particles in the metal member bonding agent. This metal particle sintered product was removed from the polyimide resin plate to obtain a test piece for measuring porosity.
A cross section of the plate-like specimen thus obtained was photographed with an electron microscope, and the porosity was calculated using image analysis software (NIH Image manufactured by National Institute of Health, USA), and expressed in area%.

[金属粒子(A)または多孔質焼結物の融点]
空隙率測定のために作成した多孔質焼結物をニッパで削り取って融点測定用試験片を調製した。金属粒子(A)または融点測定用試験片を示差熱分析装置(島津製作所株式会社製DTG−60AH)により窒素ガス雰囲気で昇温速度10℃/分で1200℃まで加熱して、吸熱ピークの温度を融点とした。
[Melting point of metal particle (A) or porous sintered product]
A porous sintered product prepared for measuring the porosity was scraped off with a nipper to prepare a test piece for melting point measurement. The metal particle (A) or a test piece for measuring the melting point is heated to 1200 ° C. in a nitrogen gas atmosphere at a heating rate of 10 ° C./min with a differential thermal analyzer (DTG-60AH manufactured by Shimadzu Corporation), and the temperature of the endothermic peak Was the melting point.

[多孔質焼結物の体積抵抗率]
ポリイミド樹脂板上に15mm角の開口部を有する厚さ1mmのステンレス製のマスクを置き、金属製部材用接合剤を印刷塗布した。これを室温のガス流通炉に入れ、雰囲気ガスを実施例に記載の所定のガスに置換後、所定のガスを流量1リットル/分で流しながら室温から昇温速度1℃/秒で280℃まで昇温し、280℃で1時間保持後、室温まで冷却して金属製部材用接合剤中の金属粒子を焼結した。この多孔質焼結物をポリイミド樹脂板からはずして試験体とした。かくして得られた体積抵抗率測定用試験体について、JIS K 7194に準じた方法により体積抵抗率(単位;Ω・cm)を測定した。
[Volume resistivity of porous sintered product]
A 1 mm thick stainless steel mask having a 15 mm square opening was placed on the polyimide resin plate, and a metal member bonding agent was applied by printing. This was put in a gas flow furnace at room temperature, the atmospheric gas was replaced with the predetermined gas described in the examples, and the predetermined gas was flowed at a flow rate of 1 liter / min. The temperature was raised and held at 280 ° C. for 1 hour, and then cooled to room temperature to sinter the metal particles in the metal member bonding agent. The porous sintered product was removed from the polyimide resin plate to obtain a test specimen. The volume resistivity (unit: Ω · cm) of the test piece for volume resistivity measurement thus obtained was measured by a method according to JIS K 7194.

[金属製部材接合体の250℃におけるせん断接着強さ]
幅25mm×長さ70mm、厚さ1.0mmの銀基板(純度99%以上)上に、10mmの間隔をおいて4つの開口部(2.5mm×2.5mm)を有する100μm厚のメタルマスクを用いて、金属製部材用接合剤を印刷塗布し、その上にサイズが2.5mm×2.5mm×0.5mmの銀チップ(純度99.9%以上)を搭載した。この銀チップを搭載した銀基板を室温のガス流通炉に入れ、雰囲気ガスを所定のガスに置換後、所定のガスを流量1リットル/分で流しながら室温から昇温速度1℃/秒で280℃まで昇温し、280℃で1時間保持後、室温まで冷却した。以上のようにして金属製部材用接合剤中の金属粒子を焼結することにより銀基板と銀チップを接合した。かくして得られた接合強度測定用試験体(図2、図3参照)を接着強さ試験機の温度が250℃である試験体取付け具にセットし、該銀チップの側面を接着強さ試験機の押圧棒により押厚速度23mm/分で押圧し、接合部がせん断破壊したときの荷重をもって、250℃におけるせん断接着強さ(単位;MPa)とした。
[Shear bond strength of metal member assembly at 250 ° C.]
100 μm-thick metal mask having four openings (2.5 mm × 2.5 mm) at an interval of 10 mm on a silver substrate (purity 99% or more) of width 25 mm × length 70 mm and thickness 1.0 mm Was used to print and apply a bonding agent for a metal member, and a silver chip (purity 99.9% or more) having a size of 2.5 mm × 2.5 mm × 0.5 mm was mounted thereon. The silver substrate on which this silver chip is mounted is placed in a gas flow furnace at room temperature, and the atmospheric gas is replaced with a predetermined gas. The temperature was raised to 0 ° C., kept at 280 ° C. for 1 hour, and then cooled to room temperature. The silver substrate and the silver chip were joined by sintering the metal particles in the metallic member joining agent as described above. The test body for bonding strength measurement thus obtained (see FIG. 2 and FIG. 3) was set on a test body fixture having an adhesive strength tester temperature of 250 ° C., and the side surface of the silver chip was bonded to the test machine. The pressure at a thickness of 23 mm / min was pressed with a pressing rod of No. 1, and the load when the bonded portion was sheared was determined as the shear adhesive strength at 250 ° C. (unit: MPa).

[参考例1]
いずれも市販の、(a)重合ロジン(酸価160、軟化点100℃)15部、(a)アクリル酸変性ロジン(酸価240、軟化点120℃)36部、(d)テルピネオール(沸点219℃)5部、(d)ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル(沸点259℃)35部、(b)トランス−2,3−ジブロモ−2−ブテン−1,4−ジオール(融点114℃)5部および(c)硬化ヒマシ油4部を攪拌羽根付ミキサーにより均一に混合して液状フラックスを調製した。この液状フラックスの粘度は10Pa・sであった。なお、粘度は回転粘度計(東機産業株式会社製RB80型)によりH2ロータを使用して25℃で測定した(以下、同様である)。
[Reference Example 1]
All are commercially available (a) 15 parts of polymerized rosin (acid number 160, softening point 100 ° C.), (a) 36 parts of acrylic acid-modified rosin (acid number 240, softening point 120 ° C.), (d) terpineol (boiling point 219) ° C) 5 parts, (d) 35 parts of diethylene glycol monohexyl ether (boiling point 259 ° C), (b) 5 parts of trans-2,3-dibromo-2-butene-1,4-diol (melting point 114 ° C) and (c ) 4 parts of hardened castor oil was uniformly mixed with a mixer equipped with a stirring blade to prepare a liquid flux. The viscosity of this liquid flux was 10 Pa · s. The viscosity was measured at 25 ° C. using a rotary viscometer (RB80 type, manufactured by Toki Sangyo Co., Ltd.) using an H2 rotor (the same applies hereinafter).

[参考例2]
いずれも市販の、(a)重合ロジン(酸価160、軟化点100℃)15部、(b)ジフェニルグアニジン臭化水素酸塩(融点157℃)30部、(b)1,2−ヒドロキシオレイン酸(融点6℃)5部、(d)テルピネオール(沸点219℃)50部を攪拌羽根付ミキサーにより均一に混合して液状フラックスを調製した。この液状フラックスの粘度は6Pa・sであった。
[Reference Example 2]
All are commercially available (a) 15 parts of polymerized rosin (acid number 160, softening point 100 ° C.), (b) 30 parts of diphenylguanidine hydrobromide (melting point 157 ° C.), (b) 1,2-hydroxyolein A liquid flux was prepared by uniformly mixing 5 parts of acid (melting point: 6 ° C.) and 50 parts of (d) terpineol (boiling point: 219 ° C.) with a mixer equipped with stirring blades. The viscosity of this liquid flux was 6 Pa · s.

[参考例3]
いずれも市販の、(a)重合ロジン(酸価160、軟化点100℃)55部、(c)硬化ヒマシ油5部、(d)テルピネオール(沸点219℃)40部を攪拌羽根付ミキサーにより均一に混合して液状フラックスを調製した。この液状フラックスの粘度は11Pa・sであった。
[Reference Example 3]
In each case, 55 parts of commercially available (a) polymerized rosin (acid number 160, softening point 100 ° C.), (c) 5 parts of hardened castor oil, and (d) 40 parts of terpineol (boiling point 219 ° C.) are uniformly mixed with a mixer equipped with a stirring blade. To prepare a liquid flux. The viscosity of this liquid flux was 11 Pa · s.

[参考例4]
いずれも市販の、(a)重合ロジン(酸価160、軟化点100℃)55部、(d)テルピネオール(沸点219℃)45部を攪拌羽根付ミキサーにより均一に混合して液状フラックスを調製した。この液状フラックスの粘度は5Pa・sであった。
[Reference Example 4]
In each case, commercially available (a) 55 parts of polymerized rosin (acid number 160, softening point 100 ° C.) and (d) 45 parts of terpineol (boiling point 219 ° C.) were uniformly mixed with a mixer equipped with a stirring blade to prepare a liquid flux. . The viscosity of this liquid flux was 5 Pa · s.

[参考例5]
いずれも市販の、(b)シクロヘキシルアミン臭化水素酸塩(融点195℃)15部、(c)硬化ヒマシ油5部、(d)ジプロピレングリコール(沸点232℃)80部を攪拌羽根付ミキサーによりよく混合してスラリー状である液状フラックスを調製した。この液状フラックスの粘度は3Pa・sであった。
[Reference Example 5]
All are commercially available (b) 15 parts of cyclohexylamine hydrobromide (melting point 195 ° C.), (c) 5 parts of hydrogenated castor oil, and (d) 80 parts of dipropylene glycol (boiling point 232 ° C.). Was mixed well to prepare a slurry-like liquid flux. The viscosity of this liquid flux was 3 Pa · s.

[参考例6]
いずれも市販の、(b)シクロヘキシルアミン臭化水素酸塩(融点195℃)20部、(d)ジプロピレングリコール(沸点232℃)80部を攪拌羽根付ミキサーによりよく混合してスラリー状である液状フラックスを調製した。この液状フラックスの粘度は1Pa・sであった。
[Reference Example 6]
In any case, 20 parts of (b) cyclohexylamine hydrobromide (melting point 195 ° C.) and 80 parts of (d) dipropylene glycol (boiling point 232 ° C.) are mixed well with a mixer equipped with a stirring blade to form a slurry. A liquid flux was prepared. The viscosity of this liquid flux was 1 Pa · s.

[参考例7]
いずれも市販の、(b)パルミチン酸(融点63℃、一価脂肪族カルボン酸)3部、(d)ジプロピレングリコール97部を攪拌羽根付ミキサーによりよく混合してスラリー状である液状フラックスを調製した。この液状フラックスの粘度は0.2Pa・sであった。
[Reference Example 7]
In each case, commercially available (b) 3 parts of palmitic acid (melting point 63 ° C., monovalent aliphatic carboxylic acid) and (d) 97 parts of dipropylene glycol are mixed well with a mixer equipped with a stirring blade to form a slurry-like liquid flux. Prepared. The viscosity of this liquid flux was 0.2 Pa · s.

[参考例8]
いずれも市販の、(b)グルタル酸(融点97℃、二価脂肪族カルボン酸である)0.5部、(d)ジプロピレングリコール(沸点232℃)99.5部を攪拌羽根付ミキサーによりよく混合してスラリー状である液状フラックスを調製した。この液状フラックスの粘度は0.1Pa・sであった。
[Reference Example 8]
In both cases, 0.5 parts of commercially available (b) glutaric acid (melting point: 97 ° C., divalent aliphatic carboxylic acid) and (d) 99.5 parts of dipropylene glycol (boiling point: 232 ° C.) were mixed with a mixer equipped with a stirring blade. Mix well and prepare a slurry-like liquid flux. The viscosity of this liquid flux was 0.1 Pa · s.

[実施例1]
市販のアトマイズ法で製造された,レーザー回折法により得られる1次粒子の平均粒径(メディアン径D50)が1.5μmであり、表面無処理の球状の銀粒子(銀純度99重量%以上)100部と、参考例1で調製した液状フラックス10部とを、ヘラを用いて均一に混合してペースト状の金属製部材用接合剤を調製した。この金属製部材用接合剤は、メタルマスクでの塗布においてダレ、流れ等はなく、良好な形状に塗布できた。
[Example 1]
The average particle diameter (median diameter D50) of primary particles obtained by a laser diffraction method manufactured by a commercially available atomizing method is 1.5 μm, and surface-treated spherical silver particles (silver purity of 99% by weight or more) 100 parts and 10 parts of the liquid flux prepared in Reference Example 1 were uniformly mixed using a spatula to prepare a paste-like metal member bonding agent. This metal member bonding agent was free from sagging and flow when applied with a metal mask, and could be applied in a good shape.

この金属製部材用接合剤について、酸化性ガスである空気(酸素ガス濃度20.9体積%。以下、同様である)中で、前記各条件で加熱焼結した場合の、多孔質焼結物の空隙率、銀粒子および銀粒子の多孔質焼結物の融点、銀粒子の多孔質焼結物の体積抵抗率および接合体のせん断接着強さを測定した。 A porous sintered product obtained by heating and sintering under the above conditions in the oxidizing gas, air (oxygen gas concentration 20.9% by volume, the same applies hereinafter). , The melting point of the silver particles and the porous sintered body of silver particles, the volume resistivity of the porous sintered body of silver particles, and the shear bond strength of the joined body were measured.

以上の結果について表1にまとめて示した。以上の結果より、この金属製部材用接合剤は十分に焼結して、通常のリフロー温度でも溶融しない高い融点を有した多孔質焼結物となり、高い電気伝導性を有して金属製部材を強固に接合するのに有用なこと、および、基板への接着性、電気伝導性が優れた電極を形成するのに有用なことがわかる。 The above results are summarized in Table 1. From the above results, this metallic member bonding agent is sufficiently sintered to be a porous sintered product having a high melting point that does not melt even at a normal reflow temperature, and has a high electrical conductivity and is a metallic member. It can be seen that it is useful for firmly bonding the electrodes and is useful for forming an electrode having excellent adhesion to the substrate and electrical conductivity.

[実施例2]
実施例1において用いたアトマイズ法で製造された銀粒子の代わりに、特開昭54-121270の実施例に準じて還元法で製造された,レーザー回折法により得られる1次粒子の平均粒径(メディアン径D50)が0.8μmであり、表面がステアリン酸処理された粒状の銀粒子(銀純度99重量%以上、ステアリン酸付着量0.3重量%)を用いたほかは、実施例1と同様にしてペースト状の金属製部材用接合剤を調製した。この金属製部材用接合剤は、メタルマスクでの塗布においてダレ、流れ等はなく、良好な形状に塗布できた。
[Example 2]
Instead of the silver particles produced by the atomization method used in Example 1, the average particle diameter of primary particles obtained by the laser diffraction method produced by the reduction method according to the example of JP-A-54-121270 Example 1 except that granular silver particles (silver purity 99 wt% or more, stearic acid adhesion amount 0.3 wt%) having a (median diameter D50) of 0.8 μm and a surface treated with stearic acid were used. In the same manner, a paste-like bonding agent for metal members was prepared. This metal member bonding agent was free from sagging and flow when applied with a metal mask, and could be applied in a good shape.

この金属製部材用接合剤について、酸化性ガスである空気(酸素ガス濃度20.9体積%。以下、同様である)中で、前記各条件で加熱焼結した場合の、多孔質焼結物の空隙率、銀粒子および銀粒子の多孔質焼結物の融点、銀粒子の多孔質焼結物の体積抵抗率および接合体のせん断接着強さを測定した。 A porous sintered product obtained by heating and sintering under the above conditions in the oxidizing gas, air (oxygen gas concentration 20.9% by volume, the same applies hereinafter). , The melting point of the silver particles and the porous sintered body of silver particles, the volume resistivity of the porous sintered body of silver particles, and the shear bond strength of the joined body were measured.

以上の結果について表1にまとめて示した。以上の結果より、この金属製部材用接合剤は十分に焼結して、通常のリフロー温度でも溶融しない高い融点を有した多孔質焼結物となり、高い電気伝導性を有して金属製部材を強固に接合するのに有用なこと、および、基板への接着性、電気伝導性が優れた電極を形成するのに有用なことがわかる。 The above results are summarized in Table 1. From the above results, this metallic member bonding agent is sufficiently sintered to be a porous sintered product having a high melting point that does not melt even at a normal reflow temperature, and has a high electrical conductivity and is a metallic member. It can be seen that it is useful for firmly bonding the electrodes and is useful for forming an electrode having excellent adhesion to the substrate and electrical conductivity.

[実施例3]
実施例1において用いた,アトマイズ法で製造された銀粒子の代わりに、市販のアトマイズ法で製造された,レーザー回折法により得られる1次粒子の平均粒径(メディアン径D50)が1.5μmであり、表面無処理の球状の銅粒子(銅純度99%重量以上)を用いたほかは、実施例1と同様にしてペースト状の金属製部材用接合剤を調製した。この金属製部材用接合剤は、メタルマスクでの塗布においてダレ、流れ等はなく、良好な形状に塗布できた。
[Example 3]
Instead of the silver particles produced by the atomization method used in Example 1, the average particle size (median diameter D50) of the primary particles produced by the laser diffraction method produced by a commercially available atomization method is 1.5 μm. In the same manner as in Example 1, except that spherical copper particles (copper purity 99% by weight or more) having no surface treatment were used, a paste-like metal member bonding agent was prepared. This metal member bonding agent was free from sagging and flow when applied with a metal mask, and could be applied in a good shape.

この金属製部材用接合剤について、還元性ガスである水素ガス濃度が20体積と窒素ガス濃度が80体積%の混合ガスである還元性ガス中で、前記各条件で加熱焼結した場合の、多孔質焼結物の空隙率、銅粒子および銅粒子の多孔質焼結物の融点、銅粒子の多孔質焼結物の体積抵抗率および接合体のせん断接着強さを測定した。 About this metallic member bonding agent, when the hydrogen gas concentration which is a reducing gas is 20 volumes and the reducing gas which is a mixed gas of which the nitrogen gas concentration is 80 volume%, when heated and sintered under each of the above conditions, The porosity of the porous sintered product, the melting point of the copper particles and the porous sintered product of the copper particles, the volume resistivity of the porous sintered product of the copper particles, and the shear bond strength of the joined body were measured.

以上の結果について表1にまとめて示した。以上の結果より、この金属製部材用接合剤は十分に焼結して、通常のリフロー温度でも溶融しない高い融点を有した多孔質焼結物となり、高い電気伝導性を有して金属製部材を強固に接合するのに有用なこと、および、基板への接着性、電気伝導性が優れた電極を形成するのに有用なことがわかる。 The above results are summarized in Table 1. From the above results, this metallic member bonding agent is sufficiently sintered to be a porous sintered product having a high melting point that does not melt even at a normal reflow temperature, and has a high electrical conductivity and is a metallic member. It can be seen that it is useful for firmly bonding the electrodes and is useful for forming an electrode having excellent adhesion to the substrate and electrical conductivity.

[実施例4]
実施例3において、還元性ガスを用いる代わりに不活性ガスである窒素ガス(純度99.99体積%)を用いて、前記各条件で加熱焼結した場合の、多孔質焼結物の空隙率、銅粒子および銅粒子の多孔質焼結物の融点、銅粒子の多孔質焼結物の体積抵抗率および接合体のせん断接着強さを測定した。
[Example 4]
In Example 3, the porosity of the porous sintered product when heated and sintered under the above conditions using nitrogen gas (purity 99.99 vol%), which is an inert gas, instead of using the reducing gas The melting point of the copper particles and the porous sintered product of copper particles, the volume resistivity of the porous sintered product of copper particles, and the shear bond strength of the joined body were measured.

以上の結果について表1にまとめて示した。以上の結果より、この金属製部材用接合剤は十分に焼結して、通常のリフロー温度でも溶融しない高い融点を有した多孔質焼結物となり、高い電気伝導性を有して金属製部材を強固に接合するのに有用なこと、および、基板への接着性、電気伝導性が優れた電極を形成するのに有用なことがわかる。 The above results are summarized in Table 1. From the above results, this metallic member bonding agent is sufficiently sintered to be a porous sintered product having a high melting point that does not melt even at a normal reflow temperature, and has a high electrical conductivity and is a metallic member. It can be seen that it is useful for firmly bonding the electrodes and is useful for forming an electrode having excellent adhesion to the substrate and electrical conductivity.

[実施例5]
実施例1において用いた,参考例1で調製した液状フラックスの代わりに、参考例2で調製した液状フラックスを用いたほかは、実施例1と同様にしてペースト状の金属製部材用接合剤を調製した。この金属製部材用接合剤は、メタルマスクでの塗布においてダレ、流れ等はなく、良好な形状に塗布できた。
実施例1と同様にして、前記各条件で加熱焼結した場合の、多孔質焼結物の空隙率、銀粒子および銀粒子の多孔質焼結物の融点、銀粒子の多孔質焼結物の体積抵抗率および接合体のせん断接着強さを測定した。
[Example 5]
In place of the liquid flux prepared in Reference Example 1 used in Example 1, the liquid flux prepared in Reference Example 2 was used. Prepared. This metal member bonding agent was free from sagging and flow when applied with a metal mask, and could be applied in a good shape.
In the same manner as in Example 1, the porosity of the porous sintered product, the melting point of the silver particles and the porous sintered product of the silver particles, and the porous sintered product of the silver particles when heated and sintered under each of the above conditions The volume resistivity and the shear bond strength of the joined body were measured.

以上の結果について表1にまとめて示した。以上の結果より、この金属製部材用接合剤は十分に焼結して、通常のリフロー温度でも溶融しない高い融点を有した多孔質焼結物となり、高い電気伝導性を有して金属製部材を強固に接合するのに有用なこと、および、基板への接着性、電気伝導性が優れた電極を形成するのに有用なことがわかる。 The above results are summarized in Table 1. From the above results, this metallic member bonding agent is sufficiently sintered to be a porous sintered product having a high melting point that does not melt even at a normal reflow temperature, and has a high electrical conductivity and is a metallic member. It can be seen that it is useful for firmly bonding the electrodes and is useful for forming an electrode having excellent adhesion to the substrate and electrical conductivity.

[実施例6]
実施例1において用いた,参考例1で調製した液状フラックスの代わりに、参考例3で調製した液状フラックスを用いたほかは、実施例1と同様にしてペースト状の金属製部材用接合剤を調製した。この金属製部材用接合剤は、メタルマスクでの塗布においてダレ、流れ等はなく、良好な形状に塗布できた。
[Example 6]
In place of the liquid flux prepared in Reference Example 1 used in Example 1, the liquid flux prepared in Reference Example 3 was used. Prepared. This metal member bonding agent was free from sagging and flow when applied with a metal mask, and could be applied in a good shape.

実施例1同様にして、前記各条件で加熱焼結した場合の、多孔質焼結物の空隙率、銀粒子および銀粒子の多孔質焼結物の融点、銀粒子の多孔質焼結物の体積抵抗率および接合体のせん断接着強さを測定した。 In the same manner as in Example 1, the porosity of the porous sintered product, the melting point of the silver particles and the porous sintered product of the silver particles, and the porous sintered product of the silver particles when heated and sintered under the above-mentioned conditions. The volume resistivity and the shear bond strength of the joined body were measured.

以上の結果について表2にまとめて示した。以上の結果より、この金属製部材用接合剤は十分に焼結して、通常のリフロー温度でも溶融しない高い融点を有した多孔質焼結物となり、高い電気伝導性を有して金属製部材を強固に接合するのに有用なこと、および、基板への接着性、電気伝導性が優れた電極を形成するのに有用なことがわかる。 The results are summarized in Table 2. From the above results, this metallic member bonding agent is sufficiently sintered to be a porous sintered product having a high melting point that does not melt even at a normal reflow temperature, and has a high electrical conductivity and is a metallic member. It can be seen that it is useful for firmly bonding the electrodes and is useful for forming an electrode having excellent adhesion to the substrate and electrical conductivity.

[実施例7]
実施例1において用いた,参考例1で調製した液状フラックスの代わりに、参考例4で調製した液状フラックスを用いたほかは、実施例1と同様にしてペースト状の金属製部材用接合剤を調製した。この金属製部材用接合剤は、メタルマスクでの塗布においてややダレがあったが塗布できた。
[Example 7]
In place of the liquid flux prepared in Reference Example 1 used in Example 1, the liquid flux prepared in Reference Example 4 was used. Prepared. This metal member bonding agent was able to be applied although there was some sagging in application with a metal mask.

実施例1同様にして、前記各条件で加熱焼結した場合の、多孔質焼結物の空隙率、銀粒子および銀粒子の多孔質焼結物の融点、銀粒子の多孔質焼結物の体積抵抗率および接合体のせん断接着強さを測定した。 In the same manner as in Example 1, the porosity of the porous sintered product, the melting point of the silver particles and the porous sintered product of the silver particles, and the porous sintered product of the silver particles when heated and sintered under the above-mentioned conditions. The volume resistivity and the shear bond strength of the joined body were measured.

以上の結果について表2にまとめて示した。以上の結果より、この金属製部材用接合剤は十分に焼結して、通常のリフロー温度でも溶融しない高い融点を有した多孔質焼結物となり、高い電気伝導性を有して金属製部材を強固に接合するのに有用なこと、および、基板への接着性、電気伝導性が優れた電極を形成するのに有用なことがわかる。 The results are summarized in Table 2. From the above results, this metallic member bonding agent is sufficiently sintered to be a porous sintered product having a high melting point that does not melt even at a normal reflow temperature, and has a high electrical conductivity and is a metallic member. It can be seen that it is useful for firmly bonding the electrodes and is useful for forming an electrode having excellent adhesion to the substrate and electrical conductivity.

[実施例8]
実施例1において用いた,参考例1で調製した液状フラックスの代わりに、参考例5で調製した液状フラックスを用いたほかは、実施例1と同様にしてペースト状の金属製部材用接合剤を調製した。この金属製部材用接合剤は、メタルマスクでの塗布においてややダレがあったが塗布できた。
[Example 8]
In place of the liquid flux prepared in Reference Example 1 used in Example 1, the liquid flux prepared in Reference Example 5 was used. Prepared. This metal member bonding agent was able to be applied although there was some sagging in application with a metal mask.

実施例1と同様にして、前記各条件で加熱焼結した場合の、多孔質焼結物の空隙率、銀粒子および銀粒子の多孔質焼結物の融点、銀粒子の多孔質焼結物の体積抵抗率および接合体のせん断接着強さを測定した。 In the same manner as in Example 1, the porosity of the porous sintered product, the melting point of the silver particles and the porous sintered product of the silver particles, and the porous sintered product of the silver particles when heated and sintered under each of the above conditions The volume resistivity and the shear bond strength of the joined body were measured.

以上の結果について表2にまとめて示した。以上の結果より、この金属製部材用接合剤は十分に焼結して、通常のリフロー温度でも溶融しない高い融点を有した多孔質焼結物となり、高い電気伝導性を有して金属製部材を強固に接合するのに有用なこと、および、基板への接着性、電気伝導性が優れた電極を形成するのに有用なことがわかる。 The results are summarized in Table 2. From the above results, this metallic member bonding agent is sufficiently sintered to be a porous sintered product having a high melting point that does not melt even at a normal reflow temperature, and has a high electrical conductivity and is a metallic member. It can be seen that it is useful for firmly bonding the electrodes and is useful for forming an electrode having excellent adhesion to the substrate and electrical conductivity.

[実施例9]
実施例1において用いた,参考例1で調製した液状フラックスの代わりに、参考例6で調製した液状フラックスを用いたほかは、実施例1と同様にしてペースト状の金属製部材用接合剤を調製した。この金属製部材用接合剤は、メタルマスクでの塗布においてやや流れがあったが塗布できた。
[Example 9]
In place of the liquid flux prepared in Reference Example 1 used in Example 1, the liquid flux prepared in Reference Example 6 was used. Prepared. This metal member bonding agent was able to be applied although there was a slight flow in application with a metal mask.

実施例1同様にして、前記各条件で加熱焼結した場合の、多孔質焼結物の空隙率、銀粒子および銀粒子の多孔質焼結物の融点、銀粒子の多孔質焼結物の体積抵抗率および接合体のせん断接着強さを測定した。 In the same manner as in Example 1, the porosity of the porous sintered product, the melting point of the silver particles and the porous sintered product of the silver particles, and the porous sintered product of the silver particles when heated and sintered under the above-mentioned conditions. The volume resistivity and the shear bond strength of the joined body were measured.

以上の結果について表2にまとめて示した。以上の結果より、この金属製部材用接合剤は十分に焼結して、通常のリフロー温度でも溶融しない高い融点を有した多孔質焼結物となり、高い電気伝導性を有して金属製部材を強固に接合するのに有用なこと、および、基板への接着性、電気伝導性が優れた電極を形成するのに有用なことがわかる。 The results are summarized in Table 2. From the above results, this metallic member bonding agent is sufficiently sintered to be a porous sintered product having a high melting point that does not melt even at a normal reflow temperature, and has a high electrical conductivity and is a metallic member. It can be seen that it is useful for firmly bonding the electrodes and is useful for forming an electrode having excellent adhesion to the substrate and electrical conductivity.

[実施例10]
実施例2で用いた、還元法で製造された,レーザー回折法により得られる1次粒子の平均粒径(メディアン径D50)が0.8μmであり、表面がステアリン酸処理された粒状の銀粒子(銀純度99重量%以上、ステアリン酸付着量0.3重量%)100部と、参考例7で調製した液状フラックス10部とを、ヘラを用いて均一に混合してペースト状の金属製部材用接合剤を調製した。この金属製部材用接合剤は、メタルマスクでの塗布においてダレ、流れ等はなく、良好な形状に塗布できた。
[Example 10]
The average particle diameter (median diameter D50) of the primary particles obtained by the laser diffraction method produced in the reduction method used in Example 2 is 0.8 μm, and the surface is stearic acid-treated granular silver particles A paste-like metal member obtained by uniformly mixing 100 parts (silver purity 99% by weight or more, stearic acid adhesion amount 0.3% by weight) and 10 parts of the liquid flux prepared in Reference Example 7 using a spatula A bonding agent was prepared. This metal member bonding agent was free from sagging and flow when applied with a metal mask, and could be applied in a good shape.

この金属製部材用接合剤について、酸化性ガスである空気(酸素ガス濃度20.9体積%。以下、同様である)中で、前記各条件で加熱焼結した場合の、多孔質焼結物の空隙率、銀粒子および銀粒子の多孔質焼結物の融点、銀粒子の多孔質焼結物の体積抵抗率および接合体のせん断接着強さを測定した。 A porous sintered product obtained by heating and sintering under the above conditions in the oxidizing gas, air (oxygen gas concentration 20.9% by volume, the same applies hereinafter). , The melting point of the silver particles and the porous sintered body of silver particles, the volume resistivity of the porous sintered body of silver particles, and the shear bond strength of the joined body were measured.

以上の結果について表2にまとめて示した。以上の結果より、この金属製部材用接合剤は十分に焼結して、通常のリフロー温度でも溶融しない高い融点を有した多孔質焼結物となり、高い電気伝導性を有して金属製部材を強固に接合するのに有用なこと、および、基板への接着性、電気伝導性が優れた電極を形成するのに有用なことがわかる。 The results are summarized in Table 2. From the above results, this metallic member bonding agent is sufficiently sintered to be a porous sintered product having a high melting point that does not melt even at a normal reflow temperature, and has a high electrical conductivity and is a metallic member. It can be seen that it is useful for firmly bonding the electrodes and is useful for forming an electrode having excellent adhesion to the substrate and electrical conductivity.

[実施例11]
実施例10において用いた、参考例7で調製した液状フラックスの代わりに、参考例8で調製したフラックスを用いたほかは、実施例10と同様にしてペースト状の金属製部材用接合剤を調製した。この金属製部材用接合剤は、メタルマスクでの塗布においてダレ、流れ等はなく、良好な形状に塗布できた。
[Example 11]
A paste-like bonding member for a metal member was prepared in the same manner as in Example 10, except that the flux prepared in Reference Example 8 was used instead of the liquid flux prepared in Reference Example 7 used in Example 10. did. This metal member bonding agent was free from sagging and flow when applied with a metal mask, and could be applied in a good shape.

この金属製部材用接合剤について、酸化性ガスである空気(酸素ガス濃度20.9体積%。以下、同様である)中で、前記各条件で加熱焼結した場合の、多孔質焼結物の空隙率、銀粒子および銀粒子の多孔質焼結物の融点、銀粒子の多孔質焼結物の体積抵抗率および接合体のせん断接着強さを測定した。 A porous sintered product obtained by heating and sintering under the above conditions in the oxidizing gas, air (oxygen gas concentration 20.9% by volume, the same applies hereinafter). , The melting point of the silver particles and the porous sintered body of silver particles, the volume resistivity of the porous sintered body of silver particles, and the shear bond strength of the joined body were measured.

以上の結果について表2にまとめて示した。以上の結果より、この金属製部材用接合剤は十分に焼結して、通常のリフロー温度でも溶融しない高い融点を有した多孔質焼結物となり、高い電気伝導性を有して金属製部材を強固に接合するのに有用なこと、および、基板への接着性、電気伝導性が優れた電極を形成するのに有用なことがわかる。 The results are summarized in Table 2. From the above results, this metallic member bonding agent is sufficiently sintered to be a porous sintered product having a high melting point that does not melt even at a normal reflow temperature, and has a high electrical conductivity and is a metallic member. It can be seen that it is useful for firmly bonding the electrodes and is useful for forming an electrode having excellent adhesion to the substrate and electrical conductivity.

[比較例1]
スズ96重量%、銀3重量%、銅1重量%からなり、レーザー回折法により得られる1次粒子(メディアン径D50)の平均粒径が35μであるハンダ粒子(ニホンハンダ株式会社製)100部と、参考例1で調製した液状フラックス11部とを、ヘラを用いて均一に混合して、ペースト状の金属製部材用接合剤を調製した。この金属製部材用接合剤は、メタルマスクでの塗布においてダレ、流れ等はなく、良好な形状に塗布できた。
[Comparative Example 1]
100 parts of solder particles (manufactured by Nihon Solder Co., Ltd.) comprising 96% by weight of tin, 3% by weight of silver and 1% by weight of copper, and having an average particle diameter of 35 μm of primary particles (median diameter D50) obtained by laser diffraction method Then, 11 parts of the liquid flux prepared in Reference Example 1 were uniformly mixed using a spatula to prepare a paste-like metal member bonding agent. This metal member bonding agent was free from sagging and flow when applied with a metal mask, and could be applied in a good shape.

この金属製部材用接合剤について、不活性ガスである窒素ガス(純度99.99体積%)中で、前記各条件で加熱焼結した場合の、多孔質焼結物の空隙率、ハンダ粒子およびハンダ粒子凝固体の融点、ハンダ粒子凝固体の体積抵抗率および接合体のせん断接着強さを測定した。 About this metal member bonding agent, the porosity of the porous sintered product, the solder particles, and the sintered particles when heated and sintered under the above-mentioned conditions in nitrogen gas (purity 99.99 vol%), which is an inert gas, The melting point of the solder particle solidified body, the volume resistivity of the solder particle solidified body, and the shear bond strength of the joined body were measured.

以上の結果について表3にまとめて示した。以上の結果より、この金属製部材用接合剤は加熱により溶融し、常温に冷却すると多孔質ではない均一なハンダ合金となり、高い電気伝導性を有して金属製部材を接合することができるが、通常のリフロー温度である250℃で加熱すると再溶融するので、高温での使用温度に耐えられないことがわかった。 The above results are summarized in Table 3. From the above results, this metal member bonding agent melts by heating and becomes a non-porous uniform solder alloy when cooled to room temperature, and can bond metal members with high electrical conductivity. It was found that when heated at a normal reflow temperature of 250 ° C., it melts again and cannot withstand the use temperature at a high temperature.

[比較例2]
実施例4において、参考例1で調製した液状フラックスを用いる代わりに、揮発性の有機溶媒であるテルピネオール(和光純薬工業株式会社製、試薬1級、沸点214〜224℃)を用いたほかは、実施例4と同様にしてペースト状の金属製部材用接合剤を調製した。この金属製部材用接合剤は、メタルマスクでの塗布においてややダレ、流れがあったが塗布できた。
[Comparative Example 2]
In Example 4, instead of using the liquid flux prepared in Reference Example 1, a volatile organic solvent, terpineol (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd., reagent grade 1, boiling point 214 to 224 ° C.) was used. In the same manner as in Example 4, a paste-like bonding agent for metal members was prepared. This metal member bonding agent was able to be applied although there was a slight sagging and flow during application with a metal mask.

この金属製部材用接合剤について、不活性ガスである窒素ガス(純度99.99体積%)中で、前記各条件で加熱焼結した場合の、多孔質焼結物の空隙率、銅粒子および銅粒子の多孔質焼結物の融点、銅粒子の多孔質焼結物の体積抵抗率および接合体のせん断接着強さを測定した。 About this metal member bonding agent, the porosity of the porous sintered product, the copper particles, and the copper particles when heated and sintered in nitrogen gas (purity 99.99% by volume) as an inert gas under the above-mentioned conditions The melting point of the porous sintered body of copper particles, the volume resistivity of the porous sintered body of copper particles, and the shear bond strength of the joined body were measured.

以上の結果について表3にまとめて示した。
以上の結果より、この金属製部材用接合剤は見かけ上は焼結したが十分ではなく、また、高い電気伝導性と強固な金属製部材の接合を得ることはできなかった。
The above results are summarized in Table 3.
From the above results, this metallic member bonding agent was apparently sintered but not sufficient, and it was not possible to obtain high electrical conductivity and a strong metallic member bonding.

[比較例3]
実施例1において、参考例1で調製した液状フラックスを用いる代わりに、揮発性の有機溶媒であるテルピネオール(和光純薬工業株式会社製、試薬1級、沸点214〜224℃)を用いたほかは、実施例1と同様にしてペースト状の金属製部材用接合剤を調製した。この金属製部材用接合剤は、メタルマスクでの塗布においてややダレ、流れがあったが塗布できた。
[Comparative Example 3]
In Example 1, instead of using the liquid flux prepared in Reference Example 1, a volatile organic solvent, terpineol (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd., reagent grade 1, boiling point 214 to 224 ° C.) was used. In the same manner as in Example 1, a paste-like bonding agent for metal members was prepared. This metal member bonding agent was able to be applied although there was a slight sagging and flow during application with a metal mask.

この金属製部材用接合剤について、空気中で、前記各条件で加熱焼結した場合の、多孔質焼結物の空隙率、銀粒子および銀粒子の多孔質焼結物の融点、銀粒子の多孔質焼結物の体積抵抗率および接合体のせん断接着強さを測定した。 About the bonding agent for metal members, the porosity of the porous sintered product, the melting point of the silver particles and the porous sintered product of the silver particles, The volume resistivity of the porous sintered product and the shear bond strength of the joined body were measured.

以上の結果について表3にまとめて示した。
以上の結果より、この金属製部材用接合剤は見かけ上は焼結したが十分ではなく、また、高い電気伝導性と強固な金属製部材の接合を得ることはできなかった。
The above results are summarized in Table 3.
From the above results, this metallic member bonding agent was apparently sintered but not sufficient, and it was not possible to obtain high electrical conductivity and a strong metallic member bonding.

[実施例12]
厚さが1.2mmのセラミック板上に形成された銅製配線回路(幅1mm、長さ50mm、厚さ30μm)の表面を金メッキした電気回路の両端部に、縦1mm、横1mm、厚さ100μmの開口部を有するメタルマスクを用いて、実施例1で使用したペースト状銀粒子組成物をドット状に印刷塗布した。このセラミック板を280℃の強制循環式オーブン内で1時間加熱して銀粒子を焼結することにより、電気回路接続用バンプを製造した。
この電気回路の両端部に形成した電気回路接続用バンプは、銀粒子の多孔質焼結物であり、電気回路表面の金メッキと強固に接合していた。電気回路接続用バンプ間の電気抵抗を測定したところ、0.05Ω未満であり、実用上十分な導電性を有していた。
[Example 12]
A copper wiring circuit (width: 1 mm, length: 50 mm, thickness: 30 μm) formed on a ceramic plate with a thickness of 1.2 mm is gold-plated on both ends of the electric circuit, 1 mm long, 1 mm wide, 100 μm thick. The paste-like silver particle composition used in Example 1 was printed and applied in the form of dots using a metal mask having the following openings. The ceramic plate was heated in a forced circulation oven at 280 ° C. for 1 hour to sinter the silver particles, thereby producing electric circuit connecting bumps.
The electric circuit connecting bumps formed on both ends of the electric circuit were a porous sintered body of silver particles, and were firmly bonded to the gold plating on the surface of the electric circuit. When the electric resistance between the bumps for connecting an electric circuit was measured, it was less than 0.05Ω, and the electric conductivity was practically sufficient.

本発明の金属製部材用接合剤は、抵抗器やコンデンサ等の各種電子部品及び各種表示素子の電極の形成;電磁波シールド用電気伝導性被膜の形成;コンデンサ、抵抗、ダイオード、メモリ、演算素子(CPU)等のチップ部品の基板への接合;太陽電池の電極の形成;積層セラミックコンデンサ、積層セラミックインダクタ、積層セラミックアクチュエータ等のチップ型セラミック電子部品の外部電極の形成等に有用である。 The bonding agent for metal members of the present invention is used for forming various electronic parts such as resistors and capacitors and electrodes for various display elements; forming an electroconductive film for electromagnetic wave shielding; capacitors, resistors, diodes, memories, computing elements ( It is useful for bonding chip components such as CPU) to a substrate; forming electrodes of solar cells; forming external electrodes of chip-type ceramic electronic components such as multilayer ceramic capacitors, multilayer ceramic inductors, and multilayer ceramic actuators.

本発明の金属製部材接合体の製造方法は、接合強度と電気伝導性とが優れた金属製部材接合体を製造するのに有用である。
本発明の金属製部材接合体は、金属製部材が金属系基板または金属部分を有する電子部品に有用である。
The method for producing a metal member assembly of the present invention is useful for producing a metal member assembly having excellent bonding strength and electrical conductivity.
The metal member assembly of the present invention is useful for an electronic component in which the metal member has a metal substrate or a metal portion.

A せん断接合強さ測定用試験体
1 銀基板
2 金属製部材用接合剤の加熱焼結物
3 銀チップ
A Specimen 1 for measuring shear strength 1 Silver substrate 2 Sintered product of bonding agent for metal parts 3 Silver chip

Claims (14)

(A)平均粒径(メディアン径D50)が0.1μmより大きく50μm以下であり融点が400℃より高く加熱焼結性である金属粒子と(B)液状フラックスとからなるペースト状物であり、70℃以上400℃以下で加熱することにより、金属粒子(A)同士が焼結して金属粒子(A)と同等の融点を有し、かつ、焼結途上で接触していた金属製部材へ接着性を有する多孔質焼結物となることを特徴とする、金属製部材用接合剤。 (A) a paste-like product comprising metal particles having an average particle size (median diameter D50) of greater than 0.1 μm and not greater than 50 μm, a melting point of greater than 400 ° C. and heat-sinterable, and (B) a liquid flux; By heating at 70 ° C. or more and 400 ° C. or less, the metal particles (A) are sintered to have a melting point equivalent to that of the metal particles (A) and are in contact with the metal member in the course of sintering A bonding agent for metal members, which is a porous sintered product having adhesiveness. 金属粒子(A)がアトマイズ法で製造され表面に酸化金属層を有することを特徴とする、請求項1に記載の金属製部材用接合剤。 The bonding agent for metal members according to claim 1, wherein the metal particles (A) are produced by an atomizing method and have a metal oxide layer on the surface. 金属粒子(A)が銀粒子または銅粒子であり、金属粒子(A)およびその多孔質焼結物の融点が600℃より高く、銀粒子およびその多孔質焼結物の体積抵抗率が1×10-4Ω・cm以下であり、銅粒子およびその多孔質焼結物の体積抵抗率が1×10-2Ω・cm以下であることを特徴とする、請求項1または請求項2に記載の金属製部材用接合剤。 The metal particles (A) are silver particles or copper particles, the melting point of the metal particles (A) and the porous sintered product thereof is higher than 600 ° C., and the volume resistivity of the silver particles and the porous sintered product is 1 ×. 10 -4 Ω · cm or less, and wherein the volume resistivity of the copper particles and porous sinter is not more than 1 × 10 -2 Ω · cm, according to claim 1 or claim 2 Bonding agent for metal parts. 液状フラックス(B)が、(a)ロジンまたはその誘導体と(d)溶剤とからなる液状物、(a)ロジンまたはその誘導体と(b)酸化膜除去活性剤と(d)溶剤とからなる液状物、(a)ロジンまたはその誘導体と(c)チキソトロピック剤と(d)溶剤とからなる液状物、(a)ロジンまたはその誘導体と(b)酸化膜除去活性剤と(c)チキソトロピック剤と(d)溶剤とからなる液状物、(b)酸化膜除去活性剤と(d)溶剤とからなる液状物、または、(b)酸化膜除去活性剤と(c)チキソトロピック剤と(d)溶剤とからなる液状物であることを特徴とする、請求項1、請求項2または請求項3に記載の金属製部材用接合剤。 The liquid flux (B) is (a) a liquid material composed of rosin or a derivative thereof and (d) a solvent, (a) a liquid material composed of a rosin or a derivative thereof, (b) an oxide film removal activator and (d) a solvent. (A) rosin or derivative thereof, (c) thixotropic agent, and (d) liquid product comprising (d) solvent, (a) rosin or derivative thereof, (b) oxide removal agent and (c) thixotropic agent And (d) a liquid consisting of a solvent, (b) a liquid consisting of an oxide film removal activator and (d) a solvent, or (b) an oxide film removal activator and (c) a thixotropic agent (d The metal member bonding agent according to claim 1, 2 or 3, which is a liquid material comprising a solvent. 多孔質焼結物の断面における空隙率が5〜50面積%であることを特徴とする、請求項1、請求項2または請求項3に記載の金属製部材用接合剤。 The metal member bonding agent according to claim 1, 2, or 3, wherein a porosity in a cross section of the porous sintered product is 5 to 50% by area. (A)平均粒径(メディアン径D50)が0.1μmより大きく50μm以下であり融点が400℃より高く加熱焼結性である金属粒子と(B)液状フラックスとからなるペースト状物を複数の金属製部材間に介在させ、70℃以上400℃以下で加熱することにより、金属粒子(A)同士が焼結して金属粒子(A)と同等の融点を有する多孔質焼結物となり、複数の金属製部材同士を接合することを特徴とする、金属製部材接合体の製造方法。 (A) A plurality of pastes made of metal particles having an average particle size (median diameter D50) of greater than 0.1 μm and less than 50 μm, a melting point of greater than 400 ° C. and heat-sinterable, and (B) a liquid flux. By interposing between metal members and heating at 70 ° C. or more and 400 ° C. or less, the metal particles (A) are sintered together to form a porous sintered product having a melting point equivalent to that of the metal particles (A). A method for producing a metal member assembly, characterized in that the metal members are joined together. 金属粒子(A)がアトマイズ法で製造され表面に酸化金属層を有することを特徴とする、請求項6に記載の金属製部材接合体の製造方法。 The method for producing a metal member assembly according to claim 6, wherein the metal particles (A) are produced by an atomizing method and have a metal oxide layer on the surface. 金属粒子(A)が銀粒子または銅粒子であり、金属粒子(A)およびその融点が600℃より高く、銀粒子およびその多孔質焼結物の体積抵抗率が1×10-4Ω・cm以下であり、銅粒子およびその多孔質焼結物の体積抵抗率が1×10-2Ω・cm以下であることを特徴とする、請求項6または請求項7に記載の金属製部材接合体の製造方法。 The metal particles (A) are silver particles or copper particles, the metal particles (A) and the melting point thereof are higher than 600 ° C., and the volume resistivity of the silver particles and the porous sintered product thereof is 1 × 10 −4 Ω · cm. The metal member assembly according to claim 6 or 7, wherein the volume resistivity of the copper particles and the porous sintered product thereof is 1 × 10 -2 Ω · cm or less. Manufacturing method. 液状フラックス(B)が、(a)ロジンまたはその誘導体と(d)溶剤とからなる液状物、(a)ロジンまたはその誘導体と(b)酸化膜除去活性剤と(d)溶剤とからなる液状物、(a)ロジンまたはその誘導体と(c)チキソトロピック剤と(d)溶剤とからなる液状物、(a)ロジンまたはその誘導体と(b)酸化膜除去活性剤と(c)チキソトロピック剤と(d)溶剤とからなる液状物、(b)酸化膜除去活性剤と(d)溶剤とからなる液状物、または、(b)酸化膜除去活性剤と(c)チキソトロピック剤と(d)溶剤とからなる液状物であることを特徴とする、請求項6、請求項7または請求項8に記載の金属製部材接合体の製造方法。 The liquid flux (B) is (a) a liquid material composed of rosin or a derivative thereof and (d) a solvent, (a) a liquid material composed of a rosin or a derivative thereof, (b) an oxide film removal activator and (d) a solvent. (A) rosin or derivative thereof, (c) thixotropic agent, and (d) liquid product comprising (d) solvent, (a) rosin or derivative thereof, (b) oxide removal agent and (c) thixotropic agent And (d) a liquid consisting of a solvent, (b) a liquid consisting of an oxide film removal activator and (d) a solvent, or (b) an oxide film removal activator and (c) a thixotropic agent (d The method for producing a metal member assembly according to claim 6, 7 or 8, wherein the metal member assembly is a liquid material comprising a solvent. 多孔質焼結物の断面における空隙率が5〜50面積%であることを特徴とする、請求項6、請求項7または請求項8に記載の金属製部材接合体の製造方法。 The method for producing a metal member assembly according to claim 6, wherein the porosity in the cross section of the porous sintered product is 5 to 50 area%. 請求項6に記載の製造方法によって得られた、複数の金属製部材が、断面における空隙率が5〜50面積%であり、融点が400℃より高く、体積抵抗率が1×10-2Ω・cm以下である、加熱焼結性金属粒子(A)の多孔質焼結物により接合されていることを特徴とする、金属製部材接合体。 The plurality of metal members obtained by the manufacturing method according to claim 6 have a porosity in a cross section of 5 to 50 area%, a melting point higher than 400 ° C., and a volume resistivity of 1 × 10 −2 Ω. A metal member joined body characterized by being joined by a porous sintered product of heat-sinterable metal particles (A) having a size of cm or less. 金属粒子(A)が銀粒子または銅粒子であり、金属粒子(A)およびその融点が600℃より高く、銀粒子およびその多孔質焼結物の体積抵抗率が1×10-4Ω・cm以下であり、銅粒子およびその多孔質焼結物の体積抵抗率が1×10-2Ω・cm以下であり、金属製部材接合体の250℃におけるせん断接着強さが5MPa以上であることを特徴とする、請求項11に記載の金属製部材接合体。 The metal particles (A) are silver particles or copper particles, the metal particles (A) and the melting point thereof are higher than 600 ° C., and the volume resistivity of the silver particles and the porous sintered product thereof is 1 × 10 −4 Ω · cm. The volume resistivity of the copper particles and the porous sintered product thereof is 1 × 10 −2 Ω · cm or less, and the shear bonding strength of the metal member assembly at 250 ° C. is 5 MPa or more. The metal member joined body according to claim 11, wherein 金属製部材が金属系基板または金属部分を有する電子部品であることを特徴とする、請求項11または請求項12に記載の金属製部材接合体。 The metal member assembly according to claim 11 or 12, wherein the metal member is a metal substrate or an electronic component having a metal portion. 請求項1〜請求項4のいずれか1項に記載の金属製部材用接合剤を半導体素子上の電気回路接続用パッド部または基板上の電気回路接続用電極部にドット状に塗布し、70℃以上400℃以下で加熱することにより、該金属粒子同士を焼結して、半導体素子上または基板上に金属製バンプを形成することを特徴とする、電気回路接続用バンプの製造方法。 The metal member bonding agent according to any one of claims 1 to 4 is applied in a dot shape to an electric circuit connecting pad portion on a semiconductor element or an electric circuit connecting electrode portion on a substrate, and 70 A method for producing a bump for connecting an electric circuit, wherein the metal particles are sintered by heating at a temperature of at least 400 ° C. and not more than 400 ° C. to form a metal bump on a semiconductor element or substrate.
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