JP2010122296A

JP2010122296A - Display apparatus

Info

Publication number: JP2010122296A
Application number: JP2008293430A
Authority: JP
Inventors: Makoto Oue; 誠大植
Original assignee: Sharp Corp
Current assignee: Sharp Corp
Priority date: 2008-11-17
Filing date: 2008-11-17
Publication date: 2010-06-03

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a display apparatus which is made thin and light in weight, and exhibits a touch panel function without causing hindrance. <P>SOLUTION: A liquid crystal display 1 includes: an active matrix substrate 2; a counter substrate 3 arranged to be opposed to the active matrix substrate 2; and a liquid crystal layer 4 arranged between the active matrix substrate 2 and the counter substrate 3. A first transparent electrode 22 and a second transparent electrode 23 are arranged on the counter substrate 3 so that they are opposed to each other while leaving a predetermined space between them and used for detecting pressed positions. When the counter substrate 3 is pressed, the first transparent electrode 22 and the second transparent electrode 23 are contacted with each other and connected electrically to each other to detect the pressed positions. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、タッチパネル機能を備える表示装置に関し、特に、抵抗膜方式のタッチパネル機能を備える表示装置に関する。 The present invention relates to a display device having a touch panel function, and more particularly to a display device having a resistive film type touch panel function.

近年、自動販売機、ＡＴＭ、携帯ゲーム機、カーナビゲーション等の電子機器においては、画面に触れることにより、電子機器の操作を行う装置であるタッチパネルが設けられている。このタッチパネルは、指やペンなどでタッチ（押圧）することによって、電子機器に対して対話形式で情報を入力する装置である。 In recent years, electronic devices such as vending machines, ATMs, portable game machines, car navigation systems, and the like have been provided with a touch panel that is an apparatus for operating electronic devices by touching a screen. This touch panel is an apparatus that inputs information interactively to an electronic device by touching (pressing) with a finger or a pen.

このタッチパネルは、その動作原理によって、抵抗膜方式、静電容量結合方式、赤外線方式、超音波方式、及び電磁誘導結合方式等に分類されている。そして、抵抗膜方式、及び静電容量結合方式のタッチパネルは、低コストで表示装置などに搭載可能であるので、近年、よく利用されている。 This touch panel is classified into a resistance film method, a capacitive coupling method, an infrared method, an ultrasonic method, an electromagnetic inductive coupling method, and the like according to the operation principle. In addition, a resistive film type and capacitive coupling type touch panel can be mounted on a display device or the like at a low cost, and has been frequently used in recent years.

上記抵抗膜方式のタッチパネルは、例えば、互いに対向して配置された一対の基板と、一対の基板の内側に抵抗膜としてそれぞれ設けられた一対の透明導電膜と、一対の基板の間に挟持されて一対の透明導電膜の間に空気層を形成する絶縁性を有するスペーサとを備え、例えば、液晶表示パネルの表示画面の前面に搭載して使用される。 The resistive film type touch panel is sandwiched between, for example, a pair of substrates disposed opposite to each other, a pair of transparent conductive films provided as resistance films inside the pair of substrates, and a pair of substrates. And a spacer having an insulating property that forms an air layer between the pair of transparent conductive films. For example, it is used by being mounted on the front surface of a display screen of a liquid crystal display panel.

このような構成の抵抗膜方式のタッチパネルでは、その表面が押圧されることにより、一対の透明導電膜同士が接触（短絡）して、一対の透明導電膜の間に電流が流れることになり、一対の透明導電膜の間に電流が流れたときの電圧の変化（即ち、抵抗の変化）を検知することにより、押圧された位置を検出する構成となっている。 In the resistive film type touch panel having such a configuration, when the surface is pressed, the pair of transparent conductive films are in contact (short circuit), and a current flows between the pair of transparent conductive films. The pressed position is detected by detecting a change in voltage (that is, a change in resistance) when a current flows between the pair of transparent conductive films.

また、一般に、液晶表示パネルは、例えば、互いに対向して配置されたアクティブマトリクス基板及び対向基板と、アクティブマトリクス基板及び対向基板の間に設けられた液晶層とを備えている。そのため、上記抵抗膜方式のタッチパネルが液晶表示パネルの前面に搭載された液晶表示装置では、構成基板が、タッチパネルを構成する一対の基板、アクティブマトリクス基板及び対向基板の４枚からなるため、装置全体の厚みが増大し、液晶表示装置の薄型化が困難になるという問題があった。 In general, a liquid crystal display panel includes, for example, an active matrix substrate and a counter substrate that are arranged to face each other, and a liquid crystal layer provided between the active matrix substrate and the counter substrate. Therefore, in the liquid crystal display device in which the above-mentioned resistive film type touch panel is mounted on the front surface of the liquid crystal display panel, the constituent substrate is composed of a pair of substrates constituting the touch panel, an active matrix substrate, and a counter substrate. This increases the thickness of the liquid crystal display device and makes it difficult to reduce the thickness of the liquid crystal display device.

そこで、装置全体の厚み、及び重量を低減することができるタッチセンサ式の液晶表示装置が提案されている。より具体的には、液晶表示パネルのアレイ基板と対向基板との間に封止された液晶層において、アレイ基板に設けられた電極層と、電極層に対向するとともに、対向基板に設けられた突条電極からなるタッチセンサを設けた液晶表示装置が開示されている。そして、対向基板の裏面側を押圧し、電極層と突条電極を接触させることにより、押圧された位置を検出する構成となっている。このような構成により、液晶表示パネルにタッチパネルが内蔵され、液晶表示パネルがタッチパネル機能を備えるため、液晶表示パネルに、別途、タッチパネルを搭載する必要がなくなり、液晶表示装置の厚み、及び重量の増加を抑制できると記載されている（例えば、特許文献１参照）。
特開２００７−５８０７０号公報 Therefore, a touch sensor type liquid crystal display device that can reduce the thickness and weight of the entire device has been proposed. More specifically, in the liquid crystal layer sealed between the array substrate of the liquid crystal display panel and the counter substrate, the electrode layer provided on the array substrate is opposed to the electrode layer and provided on the counter substrate. A liquid crystal display device provided with a touch sensor composed of protruding electrodes is disclosed. And it is the structure which detects the pressed position by pressing the back surface side of a counter substrate and making an electrode layer and a protruding electrode contact. With such a configuration, the liquid crystal display panel has a built-in touch panel, and the liquid crystal display panel has a touch panel function. Therefore, there is no need to separately mount a touch panel on the liquid crystal display panel, and the thickness and weight of the liquid crystal display device are increased. (For example, refer to Patent Document 1).
JP 2007-58070 A

ここで、一般に、液晶表示装置においては、アクティブマトリクス基板、及び対向基板の液晶層側の各表面に、液晶層の液晶分子を配向させるための配向膜を設ける必要があるが、上記特許文献１に記載の液晶表示装置においては、電極層と突条電極の間に、配向膜が介在しているため、配向膜が電極層と突条電極の間の抵抗成分となる。従って、電極層と突条電極間の導通が困難になり、タッチパネル機能に支障が生じるという問題があった。 Here, in general, in a liquid crystal display device, it is necessary to provide an alignment film for aligning liquid crystal molecules in a liquid crystal layer on each surface of the active matrix substrate and the liquid crystal layer side of the counter substrate. In the liquid crystal display device described in 1), since the alignment film is interposed between the electrode layer and the protruding electrode, the alignment film becomes a resistance component between the electrode layer and the protruding electrode. Accordingly, there is a problem that conduction between the electrode layer and the protruding electrode becomes difficult and the touch panel function is hindered.

そこで、本発明は、上述の問題に鑑みてなされたものであり、薄型化、および軽量化を図ることができるとともに、支障を生じることなくタッチパネル機能を発揮することができる表示装置を提供することを目的とする。 Therefore, the present invention has been made in view of the above-described problems, and provides a display device that can be reduced in thickness and weight and can exhibit a touch panel function without causing any trouble. With the goal.

上記目的を達成するために、請求項１に記載の発明は、第１基板と、第１基板に対向して配置された第２基板と、第１基板及び第２基板の間に設けられた表示媒体層とを備えた表示装置であって、第１基板又は第２基板には、所定の間隔の隙間を介して互いに対向配置されるとともに、第１基板又は第２基板が押圧された際に、互いに接触して導通する一対の透明導電膜と、一対の透明導電膜の導通に基づいて、一対の透明導電膜の接触位置を検出する位置検出部とが設けられていることを特徴とする。 In order to achieve the above object, the invention according to claim 1 is provided between the first substrate, the second substrate disposed opposite to the first substrate, and the first substrate and the second substrate. A display device including a display medium layer, wherein the first substrate or the second substrate is disposed so as to face each other with a gap of a predetermined interval, and when the first substrate or the second substrate is pressed And a pair of transparent conductive films that are in contact with each other and a position detecting unit that detects a contact position of the pair of transparent conductive films based on the conduction of the pair of transparent conductive films. To do.

同構成によれば、第１基板又は第２基板に、押圧された位置を検出するための一対の透明導電膜を設ける構成としたため、別個にタッチパネルを設ける必要がなくなり、タッチパネル機能を備える表示装置を２枚の基板により構成することが可能になる。従って、装置全体の薄型化、及び軽量化を図ることが可能になる。また、別個にタッチパネルを設ける場合に発生する光学特性（透過率）の低下を防止して、写り込み等が発生を回避できる。従って、表面品位の低下を防止することができる。 According to this configuration, since the pair of transparent conductive films for detecting the pressed position is provided on the first substrate or the second substrate, there is no need to separately provide a touch panel, and a display device having a touch panel function Can be constituted by two substrates. Accordingly, it is possible to reduce the thickness and weight of the entire apparatus. Moreover, the fall of the optical characteristic (transmittance) which generate | occur | produces when providing a touchscreen separately can be prevented, and generation | occurrence | production of a reflection etc. can be avoided. Therefore, it is possible to prevent the deterioration of the surface quality.

また、上記従来技術とは異なり、一対の透明導電膜間に抵抗成分となる配向膜が介在していないため、第１基板又は第２基板が押圧された際に、一対の透明導電膜間を容易に導通させることができる。その結果、一対の透明導電膜間の導通不良等の支障を生じることなくタッチパネル機能を発揮することができる。 In addition, unlike the above-described prior art, since the alignment film serving as a resistance component is not interposed between the pair of transparent conductive films, when the first substrate or the second substrate is pressed, the pair of transparent conductive films are not separated. It can be easily conducted. As a result, the touch panel function can be exhibited without causing problems such as poor conduction between the pair of transparent conductive films.

請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の表示装置であって、一対の透明導電膜と表示媒体層との間には、カラーフィルタ層が設けられていることを特徴とする。 The invention described in claim 2 is the display device according to claim 1, wherein a color filter layer is provided between the pair of transparent conductive films and the display medium layer.

同構成によれば、カラー画像の表示を行うことができる表示装置において、装置全体の薄型化、及び軽量化を図ることが可能になるとともに、表面品位の低下を防止することができる。 According to this configuration, in a display device capable of displaying a color image, it is possible to reduce the thickness and weight of the entire device, and to prevent a reduction in surface quality.

請求項３に記載の発明は、請求項１または請求項２に記載の表示装置であって、一対の透明導電膜の間には、所定の間隔の隙間を形成するためのドットスペーサが設けられていることを特徴とする。 According to a third aspect of the present invention, in the display device according to the first or second aspect, a dot spacer is provided between the pair of transparent conductive films to form a gap having a predetermined interval. It is characterized by.

同構成によれば、一対の透明導電膜の間に、ドットスペーサが挟持されることになるので、第１基板又は第２基板が押圧されていない状態では、一対の透明導電膜間の接触が防止されて、一対の透明導電膜間の絶縁性がドットスペーサにより保持されることになる。 According to this configuration, since the dot spacer is sandwiched between the pair of transparent conductive films, the contact between the pair of transparent conductive films is not performed when the first substrate or the second substrate is not pressed. Thus, the insulation between the pair of transparent conductive films is retained by the dot spacer.

請求項４に記載の発明は、請求項３に記載の表示装置であって、ドットスペーサは、透明性を有する感光性樹脂により形成されていることを特徴とする。 According to a fourth aspect of the present invention, in the display device according to the third aspect, the dot spacer is formed of a photosensitive resin having transparency.

同構成によれば、透明性に優れるとともに、押圧操作の繰り返しによる寸法変化を効果的に抑制することができるドットスペーサを得ることができるため、一対の透明電極間において、所定の間隔の隙間が得られなくなるという不都合を回避することができる。 According to this configuration, since it is possible to obtain a dot spacer that is excellent in transparency and can effectively suppress dimensional changes due to repeated pressing operations, there is a gap between the pair of transparent electrodes. The inconvenience that it cannot be obtained can be avoided.

また、本発明の請求項１〜請求項４のいずれか１項に記載の表示装置は、表面品位の低下を防止して、装置全体の薄型化、及び軽量化を図ることができるとともに、支障を生じることなくタッチパネル機能を発揮することができるという優れた特性を備えている。従って、請求項５に記載の発明のように、請求項１〜請求項４のいずれか１項に記載の表示装置であって、表示媒体層に、液晶層を使用した表示装置に好適に使用される。 In addition, the display device according to any one of claims 1 to 4 of the present invention can prevent a reduction in surface quality and can reduce the thickness and weight of the entire device. It has an excellent characteristic that the touch panel function can be exhibited without causing any problems. Accordingly, as in the invention described in claim 5, the display device according to any one of claims 1 to 4, which is preferably used for a display device using a liquid crystal layer as a display medium layer. Is done.

本発明によれば、タッチパネル機能を有する表示装置において、表面品位の低下を防止して、装置全体の薄型化、及び軽量化を図ることができるとともに、支障を生じることなくタッチパネル機能を発揮することができる。 According to the present invention, in a display device having a touch panel function, the surface quality can be prevented from being lowered, the entire device can be reduced in thickness and weight, and the touch panel function can be exhibited without causing any trouble. Can do.

以下、本発明の実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。なお、本実施形態においては、タッチパネル機能を有する表示装置として、液晶表示装置を例に挙げて説明する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. In the present embodiment, a liquid crystal display device will be described as an example of a display device having a touch panel function.

図１は、本発明の実施形態に係る液晶表示装置の断面図であり、図２は、本発明の実施形態に係る液晶表示装置を構成するアクティブマトリクス基板の断面図である。また、図３は、本発明の実施形態に係る液晶表示装置を構成する対向基板の断面図であり、図４は、本発明の実施形態に係る液晶表示装置の第１透明電極の平面図である。また、図５は、本発明の実施形態に係る液晶表示装置の第２透明電極の平面図であり、図６は、本発明の実施形態に係る液晶表示装置の平面図である。 FIG. 1 is a cross-sectional view of a liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a cross-sectional view of an active matrix substrate constituting the liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention. 3 is a cross-sectional view of the counter substrate constituting the liquid crystal display device according to the embodiment of the present invention, and FIG. 4 is a plan view of the first transparent electrode of the liquid crystal display device according to the embodiment of the present invention. is there. FIG. 5 is a plan view of a second transparent electrode of the liquid crystal display device according to the embodiment of the present invention, and FIG. 6 is a plan view of the liquid crystal display device according to the embodiment of the present invention.

液晶表示装置１は、抵抗膜方式のタッチパネル機能を有するものであり、第１基板であるアクティブマトリクス基板２と、当該アクティブマトリクス基板２に対向して配置された第２基板である対向基板３と、アクティブマトリクス基板２及び対向基板３の間に挟持して設けられた表示媒体層である液層層４と、アクティブマトリクス基板２の液晶層４側と反対の表面に設けられた偏光板１０と、対向基板３の液晶層４側と反対の表面に設けられた偏光板３１とを備えている。また、アクティブマトリクス基板２及び対向基板３を互いに接着するとともに、アクティブマトリクス基板２及び対向基板３の間に液晶層４を封入するために枠状に設けられたシール材（不図示）を備えている。 The liquid crystal display device 1 has a resistive film type touch panel function, and includes an active matrix substrate 2 that is a first substrate, and a counter substrate 3 that is a second substrate disposed to face the active matrix substrate 2. A liquid layer 4 as a display medium layer sandwiched between the active matrix substrate 2 and the counter substrate 3, and a polarizing plate 10 provided on the surface opposite to the liquid crystal layer 4 side of the active matrix substrate 2. The polarizing plate 31 is provided on the surface opposite to the liquid crystal layer 4 side of the counter substrate 3. In addition, the active matrix substrate 2 and the counter substrate 3 are bonded to each other, and a sealing material (not shown) provided in a frame shape is provided to enclose the liquid crystal layer 4 between the active matrix substrate 2 and the counter substrate 3. Yes.

アクティブマトリクス基板２は、絶縁性基板であるガラス基板６と、ＴＦＴアレイ層７とにより構成されている。 The active matrix substrate 2 includes a glass substrate 6 that is an insulating substrate and a TFT array layer 7.

ＴＦＴアレイ層７は、ガラス基板６上に互いに平行に延びるように設けられた複数のゲート線（不図示）と、各ゲート線を覆うように設けられたゲート絶縁膜１２と、ゲート絶縁膜１２上に各ゲート線と直交する方向に互いに平行に延設された複数のソース線（不図示）と、各ゲート線及び各ソース線の交差部分毎にそれぞれ設けられた複数のＴＦＴ５と、各ソース線及び各ＴＦＴ５を覆うように順に設けられた第１層間絶縁膜１５及び第２層間絶縁膜１６と、第２層間絶縁膜１６上にマトリクス状に設けられ、各ＴＦＴ５の各々に接続された複数の画素電極１９と、各画素電極１９を覆うように設けられた配向膜９とを備えている。ここで、本実施形態では、第１層間絶縁膜１５及び第２層間絶縁膜１６からなる２層により構成された層間絶縁膜を例示したが、この層間絶縁膜は、１層により構成されていてもよい。 The TFT array layer 7 includes a plurality of gate lines (not shown) provided on the glass substrate 6 so as to extend in parallel to each other, a gate insulating film 12 provided so as to cover each gate line, and a gate insulating film 12. A plurality of source lines (not shown) extending in parallel to each other in a direction orthogonal to each gate line, a plurality of TFTs 5 provided at each gate line and each intersection of the source lines, and each source A first interlayer insulating film 15 and a second interlayer insulating film 16 provided in order so as to cover the lines and the TFTs 5, and a plurality of layers provided in a matrix on the second interlayer insulating film 16 and connected to each of the TFTs 5. Pixel electrodes 19 and an alignment film 9 provided so as to cover each pixel electrode 19. Here, in the present embodiment, an interlayer insulating film constituted by two layers including the first interlayer insulating film 15 and the second interlayer insulating film 16 is exemplified, but this interlayer insulating film is constituted by one layer. Also good.

また、ＴＦＴ５は、図２に示すように、各ゲート線が側方に突出したゲート電極１７と、ゲート電極１７を覆うように設けられたゲート絶縁膜１２と、ゲート絶縁膜１２上でゲート電極１７に重なる位置において島状に設けられた半導体層１３と、半導体層１３上で互いに対峙するように設けられたソース電極１８及びドレイン電極２０とを備えている。ここで、ソース電極２０は、各ソース線の側方に突出した部分である。また、ドレイン電極２０は、図２に示すように、第１層間絶縁膜１５及び第２層間絶縁膜１６の積層膜に形成されたコンタクトホール３０を介して画素電極１９に接続されている。また、半導体層１３は、図２に示すように、下層の真性アモルファスシリコン層１３ａと、その上層のリンがドープされたｎ^＋アモルファスシリコン層１３ｂとを備え、ソース電極１８及びドレイン電極２０から露出する真性アモルファスシリコン層１３ａがチャネル領域を構成している。 As shown in FIG. 2, the TFT 5 includes a gate electrode 17 in which each gate line protrudes to the side, a gate insulating film 12 provided so as to cover the gate electrode 17, and a gate electrode on the gate insulating film 12. 17 includes a semiconductor layer 13 provided in an island shape at a position overlapping with 17, and a source electrode 18 and a drain electrode 20 provided to face each other on the semiconductor layer 13. Here, the source electrode 20 is a portion protruding to the side of each source line. Further, as shown in FIG. 2, the drain electrode 20 is connected to the pixel electrode 19 through a contact hole 30 formed in a laminated film of the first interlayer insulating film 15 and the second interlayer insulating film 16. Further, as shown in FIG. 2, the semiconductor layer 13 includes a lower intrinsic amorphous silicon layer 13 a and an upper n ⁺ amorphous silicon layer 13 b doped with phosphorus, and is exposed from the source electrode 18 and the drain electrode 20. The intrinsic amorphous silicon layer 13a that constitutes the channel region.

対向基板３は、図３に示すように、絶縁性基板であるガラス基板２１と、ガラス基板２１上に設けられ、タッチされた位置を検出するための第１透明導電膜である第１透明電極２２と、第１透明電極２２と対向して配置され、タッチされた位置を検出するための第２透明電極２３と、第１透明電極２２と第２透明電極２３の間に所定の間隔の隙間が形成されるように、第１透明電極２２と第２透明電極２３の間に設けられた複数のドットスペーサ２４と、第２透明電極２３上に設けられるとともに、各画素に対して設けられた赤色層Ｒ、緑色層Ｇ、および青色層Ｂを含むカラーフィルター層２５と、カラーフィルター層２５を覆うように設けられた共通電極２６と、共通電極２６上に柱状に設けられた複数のフォトスペーサ２７と、共通電極２６及びフォトスペーサ２７を覆うように設けられた配向膜２８とを備えている。 As shown in FIG. 3, the counter substrate 3 includes a glass substrate 21 that is an insulating substrate, and a first transparent electrode that is provided on the glass substrate 21 and is a first transparent conductive film for detecting a touched position. 22, a second transparent electrode 23 that is disposed to face the first transparent electrode 22 and detects the touched position, and a gap having a predetermined interval between the first transparent electrode 22 and the second transparent electrode 23. The plurality of dot spacers 24 provided between the first transparent electrode 22 and the second transparent electrode 23 and the second transparent electrode 23 are provided for each pixel. A color filter layer 25 including a red layer R, a green layer G, and a blue layer B, a common electrode 26 provided so as to cover the color filter layer 25, and a plurality of photo spacers provided in a column shape on the common electrode 26 27 and common electrode 6 and and an alignment film 28 provided so as to cover the photo spacer 27.

第１透明電極２２、及び第２透明電極２３は、押圧された位置を検出するための一対の透明導電膜であり、所定の間隔の隙間を介して互いに対向配置されている。この第１透明電極２２、及び第２透明電極２３は、例えば、錫をドープした酸化インジウムであるＩＴＯ（Indium Tin Oxide）膜により形成されており、スパッタリング法、ＣＶＤ法、真空蒸着法等により形成される。 The first transparent electrode 22 and the second transparent electrode 23 are a pair of transparent conductive films for detecting a pressed position, and are disposed to face each other with a gap of a predetermined interval. The first transparent electrode 22 and the second transparent electrode 23 are formed of, for example, an ITO (Indium Tin Oxide) film that is indium oxide doped with tin, and formed by a sputtering method, a CVD method, a vacuum evaporation method, or the like. Is done.

ドットスペーサ２４は、第１透明電極２２と第２透明電極２３との間に、所定の間隔の隙間を形成するとともに、押圧した部分以外の部分の第１透明電極２２と第２透明電極２３とが接触するのを防止するためのものである。また、ドットスペーサ２４は、対向基板３が押圧されていない状態において、第１透明電極２２と第２透明電極２３との間の接触を防止して、第１透明電極２２と第２透明電極２３との間の絶縁性を保持する機能を有する。また、ドットスペーサ２４は、第１透明電極２２と第２透明電極２３との間に設けられており、第１透明電極２２の表面上、及び第２透明電極２２の表面上に、一定間隔で二次元的に配設されている。また、ドットスペーサ２４は、図３に示すように、カラーフィルタ層２５を構成する各着色層（即ち、赤色層Ｒ、緑色層Ｇ、及び青色層Ｂ）間を仕切る様に配設されている。ドットスペーサ２４を形成する材料としては、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、及びエポキシ樹脂等の透明な感光性樹脂が好適に使用できる。このような樹脂を使用することにより、タッチ操作の繰り返しによる、各ドットスペーサ２４の寸法変化（特に、ドットスペーサ２４の高さの変化）を効果的に抑制することができるため、第１透明電極２２と第２透明電極２３の間において所定の間隔が得られなくなるという不都合を回避することができる。なお、これらの樹脂は、単独で使用してもよく、２種以上を同時に使用しても良い。 The dot spacer 24 forms a gap with a predetermined interval between the first transparent electrode 22 and the second transparent electrode 23, and the first transparent electrode 22 and the second transparent electrode 23 in portions other than the pressed portion This is to prevent the contact. Further, the dot spacer 24 prevents contact between the first transparent electrode 22 and the second transparent electrode 23 in a state where the counter substrate 3 is not pressed, and the first transparent electrode 22 and the second transparent electrode 23. It has a function of maintaining insulation between the two. Further, the dot spacers 24 are provided between the first transparent electrode 22 and the second transparent electrode 23, and on the surface of the first transparent electrode 22 and on the surface of the second transparent electrode 22 at regular intervals. Two-dimensionally arranged. Further, as shown in FIG. 3, the dot spacers 24 are disposed so as to partition the colored layers (that is, the red layer R, the green layer G, and the blue layer B) constituting the color filter layer 25. . As a material for forming the dot spacer 24, a transparent photosensitive resin such as an acrylic resin, a urethane resin, a polyester resin, and an epoxy resin can be suitably used. By using such a resin, the dimensional change of each dot spacer 24 (particularly, the height change of the dot spacer 24) due to repeated touch operations can be effectively suppressed, so the first transparent electrode The inconvenience that a predetermined interval cannot be obtained between the second transparent electrode 23 and the second transparent electrode 23 can be avoided. In addition, these resin may be used independently and may use 2 or more types simultaneously.

偏光板１０，３１は、一定方向のみに振動する光を透過させるためのものであり、例えば、偏光素子（例えば、ヨウ素や二色性染料）が添加されたポリビニルアルコールフィルムからなる偏光フィルムと、当該偏光フィルムの両面に張り合わされたセルロース系フィルムからなる基板フィルムにより構成されたものが使用できる。 The polarizing plates 10 and 31 are for transmitting light that vibrates only in a certain direction. For example, a polarizing film made of a polyvinyl alcohol film to which a polarizing element (for example, iodine or a dichroic dye) is added; What was comprised by the board | substrate film which consists of a cellulose-type film bonded on both surfaces of the said polarizing film can be used.

液晶層４は、例えば、電気光学特性を有するネマチックの液晶材料等により構成されている。 The liquid crystal layer 4 is made of, for example, a nematic liquid crystal material having electro-optical characteristics.

液晶表示装置１は、各画素電極毎に１つの画素が構成されており、各画素において、ゲート線からゲート信号が送られてＴＦＴ５をオン状態にした場合に、ソース線からソース信号が送られてソース電極１８及びドレイン電極２０を介して、画素電極１９に所定の電荷が書き込まれ、画素電極１９と共通電極２６との間で電位差が生じ、液晶層４に所定の電圧が印加されるように構成されている。そして、液晶表示装置１では、印加された電圧の大きさに応じて、液晶分子の配向状態が変わることを利用して、バックライト（不図示）から入射する光の透過率を調整することにより、画像が表示される構成となっている。 The liquid crystal display device 1 includes one pixel for each pixel electrode. When a gate signal is sent from the gate line and the TFT 5 is turned on in each pixel, the source signal is sent from the source line. Thus, a predetermined charge is written to the pixel electrode 19 through the source electrode 18 and the drain electrode 20, and a potential difference is generated between the pixel electrode 19 and the common electrode 26, so that a predetermined voltage is applied to the liquid crystal layer 4. It is configured. In the liquid crystal display device 1, the transmittance of light incident from a backlight (not shown) is adjusted by utilizing the change in the alignment state of liquid crystal molecules according to the magnitude of the applied voltage. The image is displayed.

また、図４に示すように、ガラス基板２１上に設けられた第１透明電極２２には、当該第１透明電極２２の対向する二辺に接続された金属製の第１タッチパネル用配線４０，４１が形成されている。 Further, as shown in FIG. 4, the first transparent electrode 22 provided on the glass substrate 21 includes a metal first touch panel wiring 40 connected to two opposite sides of the first transparent electrode 22, 41 is formed.

また、図５に示すように、カラーフィルタ層２５上に設けられた第２透明電極２３には、当該第２透明電極２３の対向する二辺に接続された金属製の第２タッチパネル用配線４２，４３が形成されている。そして、第２タッチパネル用配線４２に形成された端子部４２ａは、ガラス基板２１上に形成された端子部４４ａに、例えば、導電性接着剤を介して接続され、端子部４２ａと端子部４４ａとの導通がとられている。また、同様に、第２タッチパネル用配線４３に形成された端子部４３ａは、ガラス基板２１上に形成された端子部４５ａに、例えば、導電性接着剤を介して接続され、端子部４３ａと端子部４５ａの導通がとられている。 Further, as shown in FIG. 5, the second transparent electrode 23 provided on the color filter layer 25 has a metal second touch panel wiring 42 connected to two opposite sides of the second transparent electrode 23. , 43 are formed. And the terminal part 42a formed in the wiring 42 for 2nd touchscreens is connected to the terminal part 44a formed on the glass substrate 21 via a conductive adhesive, for example, and the terminal part 42a, the terminal part 44a, The continuity is taken. Similarly, the terminal portion 43a formed on the second touch panel wiring 43 is connected to the terminal portion 45a formed on the glass substrate 21 through, for example, a conductive adhesive, and the terminal portion 43a and the terminal are connected. The part 45a is electrically connected.

また、図６に示すように、アクティブマトリクス基板２には、対向基板３が押圧されて、第１透明電極２２と第２透明電極２３が互いに接触して導通する場合に、押圧された位置を検出するための端子部４８と、この端子部４８に接続された配線４９が形成されている。また、端子部４８には、第１透明電極２２と第２透明電極２３との導通に基づいて、第１透明電極２２と第２透明電極２３との接触位置を検出する位置検出部５０が接続されている。 Further, as shown in FIG. 6, when the counter substrate 3 is pressed against the active matrix substrate 2, and the first transparent electrode 22 and the second transparent electrode 23 are brought into contact with each other and become conductive, the pressed position is indicated. A terminal part 48 for detection and a wiring 49 connected to the terminal part 48 are formed. In addition, a position detection unit 50 that detects a contact position between the first transparent electrode 22 and the second transparent electrode 23 based on conduction between the first transparent electrode 22 and the second transparent electrode 23 is connected to the terminal unit 48. Has been.

そして、図４に示す、第１タッチパネル用配線４０に形成された端子部４０ａと、第１タッチパネル用配線４１に形成された端子部４１ａと、上述の端子部４４ａ、及び４５ａは、図示しない導電性部材（例えば、金ビース等）を介して、アクティブマトリクス基板２に形成された配線４９に接続され、導通がとられている。 The terminal portion 40a formed in the first touch panel wiring 40, the terminal portion 41a formed in the first touch panel wiring 41, and the terminal portions 44a and 45a shown in FIG. A conductive member (for example, gold beads) is connected to the wiring 49 formed on the active matrix substrate 2 to be conductive.

以上の構成の下、対向基板３の表面（即ち、偏光板１０の表面）を指やペンにより押圧して、一対の透明導電膜である第１透明電極２２と第２透明電極２３が接触（短絡）すると、第１透明電極２２と第２透明電極２３間に電流が流れるとともに、第１透明電極２２と第２透明電極２３の電圧が変化する。そして、これらの第１透明電極２２と第２透明電極２３の電圧に関する信号が、上述の、第１タッチパネル用配線４０，４１、第２タッチパネル用配線４２，４３、及び端子部４８を介して、端子部４８に接続された位置検出部５０に入力され、当該位置検出部５０が第１透明電極２２と第２透明電極２３の電圧の変化（即ち、抵抗の変化）を検知することにより、押圧された位置（即ち、第１透明電極２２と第２透明電極２３の接触位置）が検出される構成となっている。 Under the above configuration, the surface of the counter substrate 3 (that is, the surface of the polarizing plate 10) is pressed with a finger or a pen so that the first transparent electrode 22 and the second transparent electrode 23, which are a pair of transparent conductive films, are in contact ( When a short circuit occurs, a current flows between the first transparent electrode 22 and the second transparent electrode 23, and the voltages of the first transparent electrode 22 and the second transparent electrode 23 change. And the signal regarding the voltage of these 1st transparent electrodes 22 and the 2nd transparent electrode 23 is through the above-mentioned 1st touch panel wirings 40 and 41, the 2nd touch panel wirings 42 and 43, and the terminal part 48. Input to the position detection unit 50 connected to the terminal unit 48, and the position detection unit 50 detects the voltage change (that is, the resistance change) of the first transparent electrode 22 and the second transparent electrode 23, thereby pressing The detected position (that is, the contact position between the first transparent electrode 22 and the second transparent electrode 23) is detected.

このように本実施形態の液晶表示装置１においては、対向基板３に、第１透明電極２２と第２透明電極２３とを設けるとともに、対向基板３が押圧された際に、第１透明電極２２と第２透明電極２３とが互いに接触して導通することにより、押圧された位置を検出する。従って、別個にタッチパネルを設ける必要がなくなり、タッチパネル機能を備える液晶表示装置１を２枚の基板（即ち、アクティブマトリクス基板２と対向基板３）により構成することが可能になる。また、上記従来技術とは異なり、第１透明電極２２と第２透明電極２３との間に抵抗成分となる配向膜が介在していないため、対向基板３が押圧された際に、第１透明電極２２と第２透明電極２３との間を容易に導通させることができる。 Thus, in the liquid crystal display device 1 of the present embodiment, the first transparent electrode 22 and the second transparent electrode 23 are provided on the counter substrate 3 and the first transparent electrode 22 is pressed when the counter substrate 3 is pressed. And the second transparent electrode 23 are brought into contact with each other and conducted, thereby detecting the pressed position. Accordingly, there is no need to provide a separate touch panel, and the liquid crystal display device 1 having a touch panel function can be configured by two substrates (that is, the active matrix substrate 2 and the counter substrate 3). In addition, unlike the above prior art, since the alignment film serving as a resistance component is not interposed between the first transparent electrode 22 and the second transparent electrode 23, the first transparent electrode 3 is pressed when the counter substrate 3 is pressed. The electrode 22 and the second transparent electrode 23 can be easily conducted.

また、一般に、液晶表示パネルにタッチパネルを貼り付けて搭載した液晶表示装置では、固定用テープにより、液晶表示パネルにタッチパネルを貼り付けるため、液晶表示パネルとタッチパネルの間に空気層が形成されてしまう。その結果、透明導電膜と空気層との屈折率の違いから、その界面で光の反射が発生し、光学特性（透過率）が低下して、写り込み等が発生するするため、表示品位が低下してしまうという問題があった。 Further, in general, in a liquid crystal display device in which a touch panel is attached to a liquid crystal display panel, the touch panel is attached to the liquid crystal display panel by a fixing tape, so that an air layer is formed between the liquid crystal display panel and the touch panel. . As a result, due to the difference in refractive index between the transparent conductive film and the air layer, light is reflected at the interface, optical characteristics (transmittance) are reduced, and reflection etc. occur. There was a problem of being lowered.

一方、本実施形態においては、対向基板３に、第１透明電極２２と第２透明電極２３とを設けて、タッチパネル機能を内蔵する構成としているため、別個にタッチパネルを設ける必要がない。従って、光学特性（透過率）の低下を防止して、写り込み等が発生を回避できる。 On the other hand, in the present embodiment, since the first transparent electrode 22 and the second transparent electrode 23 are provided on the counter substrate 3 to incorporate the touch panel function, it is not necessary to provide a separate touch panel. Accordingly, it is possible to prevent a drop in optical characteristics (transmittance) and to prevent a reflection or the like from occurring.

次に、本実施形態の液晶表示装置の製造方法について一例を挙げて説明する。図７〜図９は、本発明の実施形態に係る液晶表示装置における対向基板の製造方法を説明するために断面図である。なお、本実施形態の製造方法は、アクティブマトリクス基板作製工程、対向基板作製工程、及び基板貼り合わせ工程を備える。 Next, an example is given and demonstrated about the manufacturing method of the liquid crystal display device of this embodiment. 7 to 9 are cross-sectional views for explaining a method of manufacturing the counter substrate in the liquid crystal display device according to the embodiment of the present invention. Note that the manufacturing method of this embodiment includes an active matrix substrate manufacturing process, a counter substrate manufacturing process, and a substrate bonding process.

＜アクティブマトリクス基板作製工程＞
まず、ガラス基板６の全体に、スパッタリング法により、例えば、チタン膜、アルミニウム膜及びチタン膜などを順に成膜し、その後、フォトリソグラフィによりパターニングして、ゲート線及びゲート電極１７を厚さ４０００Å程度に形成する。 <Active matrix substrate manufacturing process>
First, for example, a titanium film, an aluminum film, and a titanium film are sequentially formed on the entire glass substrate 6 by a sputtering method, and then patterned by photolithography to form a gate line and a gate electrode 17 with a thickness of about 4000 mm. To form.

続いて、ゲート線及びゲート電極１７が形成された基板全体に、プラズマＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition）法により、例えば、窒化シリコン膜などを成膜し、ゲート絶縁膜１２を厚さ４０００Å程度に形成する。 Subsequently, for example, a silicon nitride film or the like is formed on the entire substrate on which the gate line and the gate electrode 17 are formed by a plasma CVD (Chemical Vapor Deposition) method, and the gate insulating film 12 is formed to a thickness of about 4000 mm. .

さらに、ゲート絶縁膜１２が形成された基板全体に、プラズマＣＶＤ法により、例えば、真性アモルファスシリコン膜（厚さ２０００Å程度）、及びリンがドープされたｎ^＋アモルファスシリコン膜（厚さ５００Å程度）を連続して成膜し、その後、フォトリソグラフィによりゲート電極１７上に島状にパターニングして、真性アモルファスシリコン層及びｎ^＋アモルファスシリコン層が積層された半導体形成層を形成する。 Further, for example, an intrinsic amorphous silicon film (thickness of about 2000 mm) and phosphorus-doped n ⁺ amorphous silicon film (thickness of about 500 mm) are formed on the entire substrate on which the gate insulating film 12 is formed by plasma CVD. Films are continuously formed, and then patterned into island shapes on the gate electrode 17 by photolithography to form a semiconductor formation layer in which an intrinsic amorphous silicon layer and an n ⁺ amorphous silicon layer are stacked.

そして、上記半導体形成層が形成された基板全体に、スパッタリング法により、例えば、アルミニウム膜及びチタン膜などを順に成膜し、その後、フォトリソグラフィによりパターニングして、ソース線、ソース電極１８及びドレイン電極２０を厚さ２０００Å程度に形成する。 Then, for example, an aluminum film and a titanium film are sequentially formed on the entire substrate on which the semiconductor formation layer is formed by sputtering, and then patterned by photolithography to form a source line, a source electrode 18 and a drain electrode. 20 is formed to a thickness of about 2000 mm.

続いて、ソース電極１８及びドレイン電極２０をマスクとして上記半導体形成層のｎ^＋アモルファスシリコン層をエッチングすることにより、チャネル領域をパターニングして、半導体層１３及びそれを備えたＴＦＴ５を形成する。 Subsequently, the n ⁺ amorphous silicon layer of the semiconductor formation layer is etched using the source electrode 18 and the drain electrode 20 as a mask to pattern the channel region, thereby forming the semiconductor layer 13 and the TFT 5 including the semiconductor layer 13.

さらに、ＴＦＴ５が形成された基板全体に、プラズマＣＶＤ法により、例えば、窒化シリコン膜などを成膜し、第１層間絶縁膜１５を厚さ４０００Å程度に形成する。 Further, for example, a silicon nitride film or the like is formed on the entire substrate on which the TFT 5 is formed by plasma CVD, and the first interlayer insulating film 15 is formed to a thickness of about 4000 mm.

そして、第１層間絶縁膜１５が形成された基板全体に、スピンコート法により、例えば、ポジ型の感光性樹脂を厚さ３μｍ程度に塗布し、その塗布された感光性樹脂を、フォトマスクを介して露光した後、現像することにより、第２層間絶縁膜１６を形成する。その後、第１絶縁膜１５及び第２層間絶縁膜１６をエッチングして、コンタクトホール２１を形成する。 Then, for example, a positive photosensitive resin is applied to a thickness of about 3 μm by spin coating on the entire substrate on which the first interlayer insulating film 15 is formed, and the applied photosensitive resin is applied to a photomask. Then, the second interlayer insulating film 16 is formed by developing after exposure. Thereafter, the first insulating film 15 and the second interlayer insulating film 16 are etched to form contact holes 21.

続いて、第２層間絶縁膜１６上の基板全体に、ＩＴＯ膜などからなる透明導電膜をスパッタリング法により成膜し、その後、フォトリソグラフィによりパターニングして、画素電極１９を厚さ１０００Å程度に形成する。 Subsequently, a transparent conductive film made of an ITO film or the like is formed on the entire substrate on the second interlayer insulating film 16 by sputtering, and then patterned by photolithography to form the pixel electrode 19 to a thickness of about 1000 mm. To do.

次いで、画素電極１９が形成された基板全体に、印刷法によりポリイミド樹脂を塗布し、その後、ラビング処理を行って、配向膜９を厚さ１０００Å程度に形成する。 Next, a polyimide resin is applied to the entire substrate on which the pixel electrodes 19 are formed by a printing method, and then a rubbing process is performed to form the alignment film 9 with a thickness of about 1000 mm.

以上のようにして、ガラス基板６上にＴＦＴアレイ層７が形成されたアクティブマトリクス基板２を作製することができる。 As described above, the active matrix substrate 2 in which the TFT array layer 7 is formed on the glass substrate 6 can be manufactured.

＜対向基板作製工程＞
まず、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）樹脂等により形成され、離型処理が施されたフィルム基板の基板全体に、ＩＴＯ膜などからなる透明導電膜をスパッタリング法により成膜し、その後、フォトリソグラフィによりパターニングして、共通電極２６を厚さ１５００Å程度に形成する。 <Opposite substrate manufacturing process>
First, a transparent conductive film made of an ITO film or the like is formed on the entire substrate of a film substrate formed of PET (polyethylene terephthalate) resin and subjected to a release treatment, and then patterned by photolithography. Thus, the common electrode 26 is formed to a thickness of about 1500 mm.

続いて、共通電極２６が形成された基板上に、例えば、赤、緑又は青に着色されたアクリル系の感光性樹脂を塗布し、その塗布された感光性樹脂をフォトマスクを介して露光した後に、現像することによりパターニングして、選択した色の着色層（例えば、赤色層Ｒ）を厚さ２．０μｍ程度に形成する。さらに、他の２色についても同様な工程を繰り返して、他の２色の着色層（例えば、緑色層Ｇ及び青色層Ｂ）を厚さ２．０μｍ程度に形成して、赤色層Ｒ、緑色層Ｇ及び青色層Ｂを備えたカラーフィルター層２５を形成する。 Subsequently, for example, an acrylic photosensitive resin colored in red, green, or blue is applied on the substrate on which the common electrode 26 is formed, and the applied photosensitive resin is exposed through a photomask. Later, patterning is performed by developing to form a colored layer (for example, red layer R) of a selected color with a thickness of about 2.0 μm. Further, the same process is repeated for the other two colors to form the other two colored layers (for example, the green layer G and the blue layer B) with a thickness of about 2.0 μm, and the red layer R, green color A color filter layer 25 including the layer G and the blue layer B is formed.

次いで、カラーフィルタ層２５上の基板全体に、ＩＴＯ膜などからなる透明導電膜をスパッタリング法により成膜し、その後、フォトリソグラフィによりパターニングして、第２透明電極２３を厚さ５０〜１５０Å程度に形成する。 Next, a transparent conductive film made of an ITO film or the like is formed on the entire substrate on the color filter layer 25 by sputtering, and then patterned by photolithography, so that the second transparent electrode 23 has a thickness of about 50 to 150 mm. Form.

次いで、第２透明電極２３上の基板全体に、スピンコート法により、例えば、ポジ型の透明な感光性樹脂（例えば、アクリル樹脂）を厚さ３μｍ程度に塗布し、その塗布された感光性樹脂を、フォトマスクを介して露光した後、現像することにより、第２透明電極２３の表面上に複数のドットスペーサ２４を形成する。なお、ドットスペーサ２４は、第２透明電極２３の表面上において、一定間隔で二次元的に配設されており、高さが３〜５μｍ、ドット間隔が８０〜５００μｍとなるように形成する。 Next, for example, a positive transparent photosensitive resin (for example, acrylic resin) is applied to the entire substrate on the second transparent electrode 23 to a thickness of about 3 μm by spin coating, and the applied photosensitive resin is applied. Are exposed through a photomask and then developed to form a plurality of dot spacers 24 on the surface of the second transparent electrode 23. The dot spacers 24 are two-dimensionally arranged at regular intervals on the surface of the second transparent electrode 23, and are formed to have a height of 3 to 5 μm and a dot interval of 80 to 500 μm.

次いで、カラーフィルタ層２５上に、印刷法を用いて、第２透明電極２３の対向する二辺に接続された金属製（例えば、銅製）の第２タッチパネル用配線４２，４３を形成することにより、対向基板作製用の第１ベース基板を作製する。この際、第１タッチパネル用配線４０，４１と第２タッチパネル用配線４２，４３の接触を防止するとの観点から、第２タッチパネル用配線４２，４３に形成された端子部４２ａ，４３ａ以外の部分を、絶縁性の樹脂により被覆する。 Next, the second touch panel wirings 42 and 43 made of metal (for example, made of copper) connected to the two opposite sides of the second transparent electrode 23 are formed on the color filter layer 25 by using a printing method. Then, a first base substrate for manufacturing the counter substrate is manufactured. At this time, from the viewpoint of preventing contact between the first touch panel wirings 40 and 41 and the second touch panel wirings 42 and 43, portions other than the terminal portions 42a and 43a formed on the second touch panel wirings 42 and 43 are formed. Cover with an insulating resin.

次いで、ガラス基板２１の全体に、ＩＴＯ膜などからなる透明導電膜をスパッタリング法により成膜し、その後、フォトリソグラフィによりパターニングして、第１透明電極２２を厚さ５０〜１５０Å程度に形成する。 Next, a transparent conductive film made of an ITO film or the like is formed on the entire glass substrate 21 by sputtering, and then patterned by photolithography to form the first transparent electrode 22 with a thickness of about 50 to 150 mm.

次いで、ガラス基板２１上に、印刷法を用いて、第１透明電極２２の対向する二辺に接続された金属製（例えば、銅製）の第１タッチパネル用配線４０，４１、及び端子部４４ａ，４５ａを形成することにより、対向基板作製用の第２ベース基板を作製する。この際、第１タッチパネル用配線４０，４１と第２タッチパネル用配線４２，４３の接触を防止するとの観点から、第１タッチパネル用配線４０，４１に形成された端子部４０ａ，４１ａ、および上述の端子部４４ａ,４５ａ以外の部分を、絶縁性の樹脂により被覆する。 Next, on the glass substrate 21, using a printing method, the first touch panel wirings 40, 41 made of metal (for example, copper) connected to the two opposite sides of the first transparent electrode 22, and the terminal portions 44a, By forming 45a, a second base substrate for manufacturing the counter substrate is manufactured. At this time, from the viewpoint of preventing contact between the first touch panel wirings 40 and 41 and the second touch panel wirings 42 and 43, the terminal portions 40a and 41a formed on the first touch panel wirings 40 and 41, and the above-mentioned Portions other than the terminal portions 44a and 45a are covered with an insulating resin.

次いで、図７に示すように、フィルム基板５０を有するとともに、第２透明電極２３が形成された第１ベース基板６０を下向きにした状態で、第１ベース基板６０と、第１透明電極２２が形成された第２ベース基板７０を対向させて配置し、第１透明電極２２と第２透明電極２３を対向させる。 Next, as shown in FIG. 7, the first base substrate 60 and the first transparent electrode 22 have the film substrate 50 and the first base substrate 60 on which the second transparent electrode 23 is formed face down. The formed second base substrate 70 is arranged to face each other, and the first transparent electrode 22 and the second transparent electrode 23 are made to face each other.

次いで、図８に示すように、第１ベース基板６０に形成されたドットスペーサ２４を、第２ベース基板７０に形成された第１透明電極２２上に載置し、第１ベース基板６０を転写用基板として、第１ベース基板６０を第２ベース基板７０に転写する。なお、転写方法としては、特に限定されず、例えば、圧着による転写や、接着剤により、第１ベース基板６０を第２ベース基板に貼り付けて転写する方法が挙げられる。また、この際、複数のドットスペーサ２４が、第１透明電極２２と第２透明電極２３の間に設けられて、第１透明電極２２と第２透明電極２３の間に所定の間隔の隙間が形成される。また、第１ベース基板６０を第２ベース基板７０に転写する際に、上述のごとく、第２タッチパネル用配線４２に形成された端子部４２ａとガラス基板２１上に形成された端子部４４ａの導通がとられるとともに、第２タッチパネル用配線４３に形成された端子部４３ａとガラス基板２１上に形成された端子部４５ａの導通がとられる。 Next, as shown in FIG. 8, the dot spacers 24 formed on the first base substrate 60 are placed on the first transparent electrodes 22 formed on the second base substrate 70, and the first base substrate 60 is transferred. The first base substrate 60 is transferred to the second base substrate 70 as a substrate for use. The transfer method is not particularly limited, and examples thereof include transfer by pressure bonding, and a method in which the first base substrate 60 is attached to the second base substrate with an adhesive and transferred. At this time, a plurality of dot spacers 24 are provided between the first transparent electrode 22 and the second transparent electrode 23, and a gap with a predetermined interval is provided between the first transparent electrode 22 and the second transparent electrode 23. It is formed. Further, as described above, when the first base substrate 60 is transferred to the second base substrate 70, the continuity between the terminal portion 42a formed on the second touch panel wiring 42 and the terminal portion 44a formed on the glass substrate 21 is established. In addition, the terminal portion 43a formed on the second touch panel wiring 43 and the terminal portion 45a formed on the glass substrate 21 are electrically connected.

次いで、図９に示すように、第１ベース基板６０から、フィルム基板５０を剥離する。 Next, as shown in FIG. 9, the film substrate 50 is peeled from the first base substrate 60.

次いで、共通電極２６が形成された基板全体に、スピンコート法により、アクリル系の感光性樹脂を塗布し、その塗布された感光性樹脂をフォトマスクを介して露光した後に、現像することにより、共通電極２６上にフォトスペーサ２７を厚さ４μｍ程度に形成する。 Next, an acrylic photosensitive resin is applied to the entire substrate on which the common electrode 26 is formed by a spin coating method, and the applied photosensitive resin is exposed through a photomask and then developed. A photo spacer 27 is formed on the common electrode 26 to a thickness of about 4 μm.

次いで、フォトスペーサ２７が形成された基板全体に、印刷法によりポリイミド系樹脂を塗布し、その後、ラビング処理を行って、配向膜２８を厚さ１０００Å程度に形成する。 Next, a polyimide resin is applied to the entire substrate on which the photo spacers 27 are formed by a printing method, and then a rubbing process is performed to form an alignment film 28 with a thickness of about 1000 mm.

以上のようにして、対向基板３を作製することができる。 As described above, the counter substrate 3 can be manufactured.

＜貼り合わせ工程＞
まず、例えば、ディスペンサを用いて、上記対向基板作製工程で作製された対向基板３に、紫外線硬化及び熱硬化併用型樹脂などにより構成されたシール材を枠状に描画する。 <Lamination process>
First, using a dispenser, for example, a seal material made of ultraviolet curing and thermosetting resin or the like is drawn in a frame shape on the counter substrate 3 manufactured in the counter substrate manufacturing step.

次いで、上記シール材が描画された対向基板３におけるシール材の内側の領域に液晶材料を滴下する。 Next, a liquid crystal material is dropped on a region inside the sealing material in the counter substrate 3 on which the sealing material is drawn.

さらに、上記液晶材料が滴下された対向基板３と、上記アクティブマトリクス基板作製工程で作製されたアクティブマトリクス基板２とを、減圧下で貼り合わせた後に、その貼り合わせた貼合体を大気圧に開放することにより、その貼合体の表面及び裏面を加圧する。 Further, after the counter substrate 3 onto which the liquid crystal material is dropped and the active matrix substrate 2 manufactured in the active matrix substrate manufacturing process are bonded together under reduced pressure, the bonded body is released to atmospheric pressure. By doing, the surface and the back surface of the bonded body are pressurized.

次いで、上記貼合体に挟持されたシール材にＵＶ光を照射した後に、その貼合体を加熱することによりシール材を硬化させる。 Subsequently, after irradiating UV light to the sealing material clamped by the said bonded body, the sealing material is hardened by heating the bonded body.

次いで、アクティブマトリクス基板２のガラス基板６の表面に偏光板３１を取り付けるとともに、対向基板３のガラス基板２１の表面に偏光板１０を取り付ける。 Next, the polarizing plate 31 is attached to the surface of the glass substrate 6 of the active matrix substrate 2, and the polarizing plate 10 is attached to the surface of the glass substrate 21 of the counter substrate 3.

以上のようにして、図１に示す液晶表示装置１を作製することができる。 As described above, the liquid crystal display device 1 shown in FIG. 1 can be manufactured.

以上に説明した本実施形態によれば、以下の効果を得ることができる。 According to the present embodiment described above, the following effects can be obtained.

（１）本実施形態においては、対向基板３に、第１透明電極２２と第２透明電極２３とを設けるとともに、対向基板３が押圧された際に、第１透明電極２２と第２透明電極２３とが互いに接触して導通することにより、押圧された位置を検出する構成としている。従って、別個にタッチパネルを設ける必要がなくなり、タッチパネル機能を備える液晶表示装置１を２枚の基板（即ち、アクティブマトリクス基板２と対向基板３）により構成することが可能になる。その結果、液晶表示装置１において、装置全体の薄型化、及び軽量化を図ることが可能になる。 (1) In this embodiment, while providing the 1st transparent electrode 22 and the 2nd transparent electrode 23 in the opposing board | substrate 3, when the opposing board | substrate 3 is pressed, the 1st transparent electrode 22 and the 2nd transparent electrode 23 is in contact with each other and conducted to detect the pressed position. Accordingly, there is no need to provide a separate touch panel, and the liquid crystal display device 1 having a touch panel function can be configured by two substrates (that is, the active matrix substrate 2 and the counter substrate 3). As a result, in the liquid crystal display device 1, it is possible to reduce the thickness and weight of the entire device.

（２）また、別個にタッチパネルを設ける場合に発生する光学特性（透過率）の低下を防止して、写り込み等の発生を回避できる。従って、液晶表示装置１の表面品位の低下を防止することができる。 (2) Further, it is possible to prevent a drop in optical characteristics (transmittance) that occurs when a touch panel is provided separately, thereby avoiding the occurrence of reflection or the like. Accordingly, it is possible to prevent the surface quality of the liquid crystal display device 1 from being deteriorated.

（３）また、上記従来技術とは異なり、第１透明電極２２と第２透明電極２３との間に抵抗成分となる配向膜が介在していないため、対向基板３が押圧された際に、第１透明電極２２と第２透明電極２３との間を容易に導通させることができる。その結果、第１透明電極２２と第２透明電極２３との間の導通不良等の支障を生じることなくタッチパネル機能を発揮することができる。 (3) Also, unlike the above prior art, since there is no alignment film serving as a resistance component between the first transparent electrode 22 and the second transparent electrode 23, when the counter substrate 3 is pressed, The first transparent electrode 22 and the second transparent electrode 23 can be easily conducted. As a result, the touch panel function can be exhibited without causing troubles such as poor conduction between the first transparent electrode 22 and the second transparent electrode 23.

（４）本実施形態においては、一対の透明導電膜である第１及び第２透明電極２２，２３と液晶層４との間に、カラーフィルタ層を設ける構成としているため、カラー画像の表示を行うことができる液晶表示装置１において、装置全体の薄型化、及び軽量化を図ることが可能になるとともに、表面品位の低下を防止することができる。 (4) In this embodiment, since a color filter layer is provided between the liquid crystal layer 4 and the first and second transparent electrodes 22 and 23 that are a pair of transparent conductive films, a color image is displayed. In the liquid crystal display device 1 that can be performed, it is possible to reduce the thickness and weight of the entire device and to prevent the surface quality from being deteriorated.

（５）本実施形態においては、第１透明電極２２と第２透明電極２３との間に、所定の間隔の隙間を形成するためのドットスペーサ２４を設ける構成としている。従って、第１透明電極２２と第２透明電極２３との間に、ドットスペーサ２４が挟持されることになるため、対向基板３が押圧されていない状態では、第１透明電極２２と第２透明電極２３との間の接触が防止されて、第１透明電極２２と第２透明電極２３との間の絶縁性をドットスペーサ２４により保持することができる。 (5) In the present embodiment, a dot spacer 24 for forming a gap having a predetermined interval is provided between the first transparent electrode 22 and the second transparent electrode 23. Therefore, since the dot spacer 24 is sandwiched between the first transparent electrode 22 and the second transparent electrode 23, the first transparent electrode 22 and the second transparent electrode are in a state where the counter substrate 3 is not pressed. Contact with the electrode 23 is prevented, and the insulating property between the first transparent electrode 22 and the second transparent electrode 23 can be maintained by the dot spacer 24.

（６）本実施形態においては、ドットスペーサ２４を、透明性を有する感光性樹脂により形成する構成としている。従って、透明性に優れるとともに、押圧操作の繰り返しによる寸法変化を効果的に抑制することができるドットスペーサ２４を得ることができる。その結果、第１透明電極２２と第２透明電極２３において、所定の間隔の隙間が得られなくなるという不都合を回避することができる。 (6) In the present embodiment, the dot spacers 24 are formed of a transparent photosensitive resin. Therefore, it is possible to obtain a dot spacer 24 that has excellent transparency and can effectively suppress dimensional changes due to repeated pressing operations. As a result, the first transparent electrode 22 and the second transparent electrode 23 can avoid the inconvenience that a gap having a predetermined interval cannot be obtained.

なお、上記実施形態は以下のように変更しても良い。 In addition, you may change the said embodiment as follows.

・上記実施形態においては、対向基板３に、第１透明電極２２と第２透明電極２３とを設ける構成としたが、アクティブマトリクス基板２に、第１透明電極２２と第２透明電極２３とを設けるとともに、アクティブマトリクス基板２が押圧された際に、第１透明電極２２と第２透明電極２３とが互いに接触して導通することにより、押圧された位置を検出する構成としても良い。なお、この場合も、上述の実施形態の場合と同様に、アクティブマトリクス基板２の液晶層４側と反対の表面に偏光板１０を設けるとともに、対向基板３の液晶層４側と反対の表面偏光板３１を設ける構成とすることができる。また、第１透明電極２２と第２透明電極２３との間にドットスペーサ２４を設ける構成とすることができる。このような構成においても、上述の（１）〜（６）と同様の効果を得ることができる。 In the above embodiment, the first transparent electrode 22 and the second transparent electrode 23 are provided on the counter substrate 3, but the first transparent electrode 22 and the second transparent electrode 23 are provided on the active matrix substrate 2. In addition, when the active matrix substrate 2 is pressed, the first transparent electrode 22 and the second transparent electrode 23 are brought into contact with each other to be conductive, thereby detecting the pressed position. In this case as well, as in the case of the above-described embodiment, the polarizing plate 10 is provided on the surface opposite to the liquid crystal layer 4 side of the active matrix substrate 2 and the surface polarization opposite to the liquid crystal layer 4 side of the counter substrate 3. It can be set as the structure which provides the board 31. FIG. Further, a dot spacer 24 can be provided between the first transparent electrode 22 and the second transparent electrode 23. Even in such a configuration, the same effects as the above (1) to (6) can be obtained.

・上記実施形態においては、シングルタッチのタッチパネル機能を有する液晶表示装置１を例示したが、本発明は、マルチタッチのタッチパネル機能を有する液晶表示装置にも適用することができる。 In the above embodiment, the liquid crystal display device 1 having a single touch touch panel function has been exemplified. However, the present invention can also be applied to a liquid crystal display device having a multi touch touch panel function.

・上記実施形態の液晶表示装置１の方式は、ＴＮ（Twisted Nematic）、ＶＡ（Vertical Alignment）、ＭＶＡ（Multi-domain Vertical Alignment）、ＡＳＶ（Advanced Super View）、ＩＰＳ（In-Plane-Switching）など、どのような方式であってもよい。 The method of the liquid crystal display device 1 of the above embodiment is TN (Twisted Nematic), VA (Vertical Alignment), MVA (Multi-domain Vertical Alignment), ASV (Advanced Super View), IPS (In-Plane-Switching), etc. Any method may be used.

・上記実施形態においては、表示装置として、液晶表示装置を例に挙げて説明したが、例えば、有機ＥＬ表示装置等の他の表示装置についても、本発明を適用することができる。 In the above embodiment, the liquid crystal display device has been described as an example of the display device, but the present invention can also be applied to other display devices such as an organic EL display device.

以上説明したように、本発明は、タッチパネル機能を備える表示装置に関し、特に、抵抗膜方式のタッチパネル機能を備える表示装置に有用である。 As described above, the present invention relates to a display device having a touch panel function, and is particularly useful for a display device having a resistive film type touch panel function.

本発明の実施形態に係る液晶表示装置の断面図である。It is sectional drawing of the liquid crystal display device which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施形態に係る液晶表示装置を構成するアクティブマトリクス基板の断面図である。It is sectional drawing of the active matrix substrate which comprises the liquid crystal display device which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施形態に係る液晶表示装置を構成する対向基板の断面図である。It is sectional drawing of the opposing board | substrate which comprises the liquid crystal display device which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施形態に係る液晶表示装置の第１透明電極の平面図である。It is a top view of the 1st transparent electrode of the liquid crystal display device concerning the embodiment of the present invention. 本発明の実施形態に係る液晶表示装置の第２透明電極の平面図である。It is a top view of the 2nd transparent electrode of the liquid crystal display concerning an embodiment of the present invention. 本発明の実施形態に係る液晶表示装置の平面図である。1 is a plan view of a liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention. 本発明の実施形態に係る液晶表示装置における対向基板の製造方法を説明するために断面図である。It is sectional drawing in order to demonstrate the manufacturing method of the opposing board | substrate in the liquid crystal display device which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施形態に係る液晶表示装置における対向基板の製造方法を説明するために断面図である。It is sectional drawing in order to demonstrate the manufacturing method of the opposing board | substrate in the liquid crystal display device which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施形態に係る液晶表示装置における対向基板の製造方法を説明するために断面図である。It is sectional drawing in order to demonstrate the manufacturing method of the opposing board | substrate in the liquid crystal display device which concerns on embodiment of this invention.

Explanation of symbols

１液晶表示装置
２アクティブマトリクス基板（第１基板）
３対向基板（第２基板）
４液晶層（表示媒体層）
１０偏光板
２２第１透明電極（透明電極膜）
２３第２透明電極（透明電極膜）
２４ドットスペーサ
３１偏光板 1 Liquid crystal display device 2 Active matrix substrate (first substrate)
3 Counter substrate (second substrate)
4 Liquid crystal layer (display medium layer)
10 Polarizing plate 22 First transparent electrode (transparent electrode film)
23 Second transparent electrode (transparent electrode film)
24 Dot spacer 31 Polarizing plate

Claims

A first substrate;
A second substrate disposed opposite the first substrate;
A display device comprising a display medium layer provided between the first substrate and the second substrate,
A pair of the first substrate and the second substrate that are opposed to each other with a predetermined gap therebetween, and that are in contact with each other and conductive when the first substrate or the second substrate is pressed. And a position detection unit that detects a contact position of the pair of transparent conductive films based on conduction between the pair of transparent conductive films.

The display device according to claim 1, wherein a color filter layer is provided between the pair of transparent conductive films and the display medium layer.

3. The display device according to claim 1, wherein a dot spacer is provided between the pair of transparent conductive films to form a gap having the predetermined interval.

The display device according to claim 3, wherein the dot spacer is formed of a photosensitive resin having transparency.

The display device according to claim 1, wherein the display medium layer is a liquid crystal layer.