JP2010044063A - 傾斜試料ステージを備える走査型プローブ顕微鏡 - Google Patents
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Abstract
【課題】オーバーハング構造を有する試料を測定する走査型プローブ顕微鏡を提供する。
【解決手段】本走査型プローブ顕微鏡は、試料340が上に載置される傾斜ステージ400を有する。試料は、順方向走査の間は時計回りに、逆方向走査の間は反時計回りにステージを傾斜させながら前後に走査される。試料の第1の表面輪郭が、順方向走査の間のプローブ301の応答及びステージの傾斜角度から決定される。試料の第2の表面輪郭が、逆方向走査の間のプローブの応答及びステージの傾斜角度から決定される。試料の最終的な表面輪郭が、第1の表面輪郭と第2の表面輪郭とを組み合わせることによって得られる。
【選択図】図3
【解決手段】本走査型プローブ顕微鏡は、試料340が上に載置される傾斜ステージ400を有する。試料は、順方向走査の間は時計回りに、逆方向走査の間は反時計回りにステージを傾斜させながら前後に走査される。試料の第1の表面輪郭が、順方向走査の間のプローブ301の応答及びステージの傾斜角度から決定される。試料の第2の表面輪郭が、逆方向走査の間のプローブの応答及びステージの傾斜角度から決定される。試料の最終的な表面輪郭が、第1の表面輪郭と第2の表面輪郭とを組み合わせることによって得られる。
【選択図】図3
Description
[0001]本発明は、走査型プローブ顕微鏡(SPM)に関し、より詳細には、傾斜試料ステージを用いて試料の特性を分析することができるSPMに関する。
[0002]走査型プローブ顕微鏡(SPM)は、試料の表面又は他の形状(feature)のナノスケール像を得るために使用される。SPMには様々な改良が行われてきている。参照により本明細書に組み込む米国特許出願第10/077,835号明細書には、物理的に分離された2つのスキャナを有するSPMが開示されている。第1のスキャナは、平面にある試料を走査するために使用され、第2のスキャナは、プローブ先端部を平面に垂直な方向に走査するために使用される。2つのスキャナを物理的に分離することによって、2つのスキャナ間でのクロストークが排除される。
[0003]オーバーハング構造を有する試料を測定する手法として、図1に示すプローブ10を用いる方法が提案されてきている。プローブ10はl1方向に動き、その前端部に突起部10aを有し、したがって、この突起部10aを用いて、オーバーハング構造20aを有する試料20に関する正しいデータが得られることになる。しかし、プローブ10は、製造するのが困難且つ高価である。更に、プローブ10を用いる方法は、プローブ先端部が従来のSPMのプローブ先端部ほど鋭くはないので、従来のSPMほど正確ではない。
[0004]また、参照により本明細書に組み込む米国特許出願第11/601,144号明細書には、オーバーハング構造を有する試料の測定を可能とする別のSPMが開示されている。このSPMでは、第1のスキャナが、平面にある試料200を走査するために使用され、第2のスキャナが、プローブ先端部を平面に垂直でない方向(l2)に走査するために使用される。図2に示すように、この構成を用いると、プローブ先端部120は、オーバーハング構造の側面200aに到達することができ、したがって側面200aを探索することができる。また、プローブ先端部120は、従来のSPMのプローブ先端部と同程度に鋭い。したがって、この構成を用いて得られる測定結果は、従来のSPMと同程度に正確である。
[0005]本発明は、オーバーハング構造やトレンチなど、試料表面上の細々とした形状を正確に特徴付ける方法を提供する。一実施形態によれば、測定される試料は、傾斜ステージ上に載置され、順方向走査の間は時計回りに、逆方向走査の間は反時計回りにステージを傾斜させながら前後に走査される。試料の第1の表面輪郭が、順方向走査の間のプローブの応答及びステージの傾斜角度から決定される。試料の第2の表面輪郭が、逆方向走査の間のプローブの応答及びステージの傾斜角度から決定される。試料の最終的な表面輪郭が、第1の表面輪郭と第2の表面輪郭とを組み合わせることによって得られる。
[0006]本発明の実施形態による走査型プローブ顕微鏡は、プローブと、第1の方向に垂直でない試料測定平面を画定する傾斜ステージと、第1及び第2のスキャナとを含む。第1のスキャナは、プローブを第1の方向に動かし、第2のスキャナは、第2及び第3の方向によって画定される平面内で試料を走査するために使用される。走査型プローブ顕微鏡は、プローブの第1の方向における動きと、試料測定平面が第1の方向に垂直な平面に対して傾斜される角度とに基づいて測定結果をもたらすようにプログラムされた制御器を更に含む。
[0007]本発明の実施形態による試料を測定する方法は、プローブと、試料が上に載置される試料ステージと、プローブを第1の方向に動かす第1のスキャナと、試料を第2及び第3の方向に走査する第2のスキャナとを有する走査型プローブ顕微鏡を使用する。この方法は、試料ステージが第1の方向に垂直でない試料測定平面を画定するように、試料ステージを傾斜させるステップと、第2及び第3の方向によって画定される平面内で試料を走査し、前記走査の間、プローブの第1の方向における動きを監視するステップとを含む。
[0008]本発明の別の実施形態による試料を測定する方法は、プローブと、試料が上に載置される試料ステージと、プローブスキャナ及び試料スキャナとを有する走査型プローブ顕微鏡を使用する。この方法は、試料測定平面をプローブスキャナの走査方向に垂直な平面に対して時計回りに傾斜させながら試料を走査するステップと、試料測定平面をプローブスキャナの走査方向に垂直な平面に対して反時計回りに傾斜させながら試料を走査するステップとを含む。これらの2つのステップにおける走査方向は、互いに反対である。
[0009]本発明の上述の特徴が詳細に理解できるような形で、上記で簡単に要約した本発明のより具体的な説明を、いくつかが添付の図面に示される実施形態を参照しながら示すことができる。しかし、添付の図面は、本発明の典型的な実施形態を示すにすぎず、したがって、本発明の範囲を限定するものと考えるべきではなく、本発明は、他の同様に効果的な実施形態を含むことができることに留意されたい。
[0026]分かりやすいように、適応可能な場合には、図間で共通する同じ要素を示すのに同じ参照番号を使用している。一実施形態の特徴は、更なる詳述がなくとも他の実施形態に組み込むことができることが企図される。
[0027]図3は、本発明の第1の実施形態によるSPM300である。SPM300は、プローブ301、第1のスキャナ310、第2のスキャナ320、及び試料ステージ330を含む。試料340が、試料ステージ330上に配置される。第1のスキャナ310は、プローブ301に結合され、プローブ301の位置を第1の方向(z方向)に沿って変える。第2のスキャナ320は、その上面で試料ステージ330を画定し、試料ステージ330の位置を第2及び第3の方向(x及びy方向)に沿って変える。第1のスキャナ310は、枢動点352によってSPM300のフレーム350に支持されている。アクチュエータ354が、第1のスキャナ310を枢動点352の周りで回転させ、プローブ301の走査方向を変えるように設けられている。SPMはまた、試料ステージ330を傾斜させる機構400を含む。傾斜機構400は、ベースユニット410及び傾斜ユニット420を含む。SPM300の更なる詳細については、米国特許出願第11/601,144号明細書に記載されている。
[0028]図4は、試料ステージ330を傾斜させる機構400を更に詳細に示す。図示のように、第2のスキャナ320は、その上に試料ステージ330が形成され、その底面に形成された球形ボール325a、325b、325cを有する。球形ボール325aは、傾斜ユニット420の上面425上に取り付けられる。球形ボール325bは、ベースユニット410の円錐溝412内に受けられ、球形ボール325cは、ベースユニット410のV形溝414内に受けられる。ステッパモータ428を用いて親ねじ427を回転させることによって、傾斜ユニット420を上昇又は下降させることができる。傾斜ユニット420を上昇させると、試料ステージ330は反時計回り方向に傾斜する。傾斜ユニット420を下降させると、試料ステージ330は時計回り方向に傾斜する。親ねじ427の回転はセンサ430によって感知され、回転量に比例した信号が制御器440に送信される。次いで、制御器440は、この信号に基づいて試料330の傾斜角度を計算する。ステージ又はプラットフォームを傾斜させる他の機構が当技術分野で周知であり、本発明で機構400の代わりに使用してもよい。
[0029]図5の(A)は、時計回りにα度傾斜させた試料ステージ330の概略図である。この時計回りの傾斜は、プローブ301のz走査方向に垂直な仮想平面500に対するものである。試料ステージ330を時計回りに傾斜させた場合、試料ステージ330上に載置された試料340を、プローブ301に対して−x方向に走査することが好ましい。これは、第2のスキャナ320が試料ステージ330を+x方向に動かすことを意味する。図5の(B)は、この構成を用いて、プローブ301がどのようにして試料340に形成されたトレンチ510の側面511に到達することができるかを示す。
[0030]図5の(C)は、反時計回りにβ度傾斜させた試料ステージ330の概略図である。この反時計回りの傾斜は、プローブ301のz走査方向に垂直な仮想平面500に対するものである。試料ステージ330を反時計回りに傾斜させた場合、試料ステージ330上に載置された試料340は、プローブ301に対して+x方向に走査される。これは、第2のスキャナ320が、試料ステージ330を−x方向に動かすことを意味する。図5の(D)は、この構成を用いて、プローブ301がどのようにして試料340に形成されたトレンチ520の側面521に到達することができるかを示す。
[0031]図6は、本発明の実施形態によるSPMを用いて試料を測定する方法の流れ図である。ステップ610で、試料が試料ステージ330上に載置される。次いで、ステップ612で、試料ステージ330に時計回りの傾斜が与えられる。ステップ614で、時計回りの傾斜角度が、センサ430及び制御器440を用いて決定される。ステップ616で、試料の順方向(図5の(A)に示す−x方向)における走査が開始し、この走査は第2のスキャナ320によって実行される。ステップ616の間、プローブ301のz方向における動きが制御器440によって監視され、記録される。また、プローブ301の動きの監視と同時に、第1のスキャナ310が、プローブ301を同量だけ走査するように駆動される。ステップ618で、ステップ616の間のプローブ301の動きと、ステップ614で決定された角度とに基づいて、試料表面が特徴付けられる。
[0032]ステップ620で、試料ステージ330に反時計回りの傾斜が与えられる。ステップ622で、反時計回りの傾斜角度が、センサ430及び制御器440を用いて決定される。ステップ624で、試料の逆方向(図5の(C)に示す+x方向)における走査が開始し、この走査は第2のスキャナ320によって実行される。ステップ624の間、プローブ301のz方向における動きが制御器440によって監視され、記録される。また、プローブ301の動きの監視と同時に、第1のスキャナ310が、プローブ301を同量だけ走査するように駆動される。ステップ626で、ステップ624の間のプローブ301の動きと、ステップ622で決定された角度とに基づいて、試料表面が特徴付けられる。
[0033]ステップ628で、制御器440によって試料表面の最終結果がもたらされる。制御器440は、ステップ618及びステップ626から特徴付けられた結果を組み合わせるか、又はまとめることによってこの最終結果をもたらす。図7の(A)は、時計回りに傾斜させた試料ステージ上に載置された試料の測定から得られた試料の表面輪郭プロットである。図7の(B)は、反時計回りに傾斜させた試料ステージ上に載置された試料の測定から得られた試料の表面輪郭プロットである。図7の(C)は、時計回りに傾斜させた試料ステージ上に載置された試料の測定と、反時計回りに傾斜させた試料ステージ上に載置された試料の測定とを組み合わせて得られた表面輪郭プロットである。
[0034]図8は、本発明の第2の実施形態によるSPM800である。SPM800は、x−yスキャナ(すなわち、第2のスキャナ820)が、試料ステージ330を傾斜させる機構400の下に取り付けられていることを除いては、SPM300と同じである。その結果、第2のスキャナ820は傾斜されず、x、y、及びz走査方向は、互いに対して直角であり、したがってz方向はx−y平面に垂直となる。この構成を用いると、試料ステージ330を傾斜させながらの順方向及び逆方向走査の間、順方向及び逆方向の走査方向は、図9の(A)及び(B)に示すように、試料測定平面に平行でなくなる。
[0035]図10は、本発明の第3の実施形態によるSPMで使用されるスキャナを示す。第3の実施形態によるSPMは、x−yスキャナ及びz−スキャナが、図10に示す圧電チューブスキャナ1010として形成され、SPM800の第1のスキャナ310に取って代わっていることを除いては、SPM800と同じである。したがって、第3の実施形態によるSPMでは、試料ステージは、x−yスキャナによって動かされることはない。その代わりに、プローブ301がx、y、及びz方向に走査される。圧電チューブスキャナ1010は、分割された4つの外側電極を含み、それらの電極は、x区画1021とy区画1022とが交互に並んでいる。プローブ310は、圧電チューブスキャナ1010の両区画1021に逆符号の電圧を印加することによってx方向に動く。プローブ310は、圧電チューブスキャナ1010の両区画1022に逆符号の電圧を印加することによってy方向に動く。プローブ310は、圧電チューブスキャナ1010の4つの全ての区画に同じ符号の電圧を印加することによってz方向に動く。
[0036]図11の(A)及び(B)は、図10のスキャナを使用した場合の、傾斜試料測定平面に対する試料走査方向を示す。図11の(A)では、試料測定平面を時計回りに傾斜させた場合、プローブ310は−x方向に走査され、この走査は試料測定平面に平行ではない。図11の(B)では、試料測定平面を反時計回りに傾斜させた場合、プローブ310は+x方向に走査され、この走査は試料測定平面に平行ではない。
[0037]特定の実施形態を参照しながら本発明を上記で説明してきた。しかし、これらの実施形態には、添付の特許請求の範囲に記載の本発明のより広い趣旨及び範囲から逸脱することなく、様々な改変及び変更を行うことができることが当業者には理解されよう。したがって、前述の説明及び図面は、限定的なものではなく、例示的なものとみなすべきである。
10…プローブ、10a…突起部、20…試料、20a…オーバーハング構造、120…プローブ先端部、200…試料、200a…オーバーハング構造側面、300…SPM、301…プローブ、310…第1のスキャナ、320…第2のスキャナ、325a、b、c…球形ボール、330…試料ステージ、340…試料、350…フレーム、352…枢動点、354…アクチュエータ、400…傾斜機構、410…ベースユニット、412…円錐溝、414…V形溝、420…傾斜ユニット、425…上面、427…親ねじ、428…ステッパモータ、430…センサ、440…制御器、500…仮想平面、510…トレンチ、511…側面、520…トレンチ、521…側面、800…SPM、820…第2のスキャナ、1010…圧電チューブスキャナ、1021…x区画、1022…y区画
Claims (25)
- プローブと、
前記プローブを第1の方向に動かす第1のスキャナと、
前記第1の方向に垂直でない試料測定平面を画定する傾斜ステージと、
第2の方向及び第3の方向において、前記プローブと前記試料測定平面との相対位置を変える第2のスキャナと、
前記プローブの前記第1の方向における前記動きと、前記試料測定平面が前記第1の方向に垂直な平面に対して傾斜される角度とに基づいて測定結果をもたらすようにプログラムされた制御器と
を備える、走査型プローブ顕微鏡。 - 前記第2の方向及び前記第3の方向が、前記第1の方向に垂直な平面を画定する、請求項1に記載の走査型プローブ顕微鏡。
- 前記第2の方向及び前記第3の方向が、前記試料測定平面に平行な平面を画定する、請求項1に記載の走査型プローブ顕微鏡。
- 前記傾斜ステージが前記第1の方向に垂直な前記平面に対して傾斜される前記角度を決定するために使用される信号を発するセンサを更に備える、請求項1に記載の走査型プローブ顕微鏡。
- 前記傾斜ステージを前記第1の方向に垂直な前記平面に対して傾斜させるアクチュエータを更に備える、請求項4に記載の走査型プローブ顕微鏡。
- 前記第1の方向と同一線上にある軸と、前記試料測定平面とによって形成される角度を変えることができるように、前記第1のスキャナを傾斜させるアクチュエータを更に備える、請求項1に記載の走査型プローブ顕微鏡。
- 前記第2のスキャナが、前記プローブを前記第2の方向及び前記第3の方向によって画定される平面内で動かす、請求項1に記載の走査型プローブ顕微鏡。
- 前記第2のスキャナが、前記傾斜ステージを前記第2の方向及び前記第3の方向によって画定される平面内で動かす、請求項1に記載の走査型プローブ顕微鏡。
- プローブと、試料が上に載置される試料ステージと、前記プローブを第1の方向に動かす第1のスキャナと、前記試料を第2の方向及び第3の方向に走査する第2のスキャナとを有する走査型プローブ顕微鏡を用いて試料を測定する方法であって、
(a)前記試料ステージが前記第1の方向に垂直でない試料測定平面を画定するように、前記試料ステージを傾斜させるステップと、
(b)前記第2の方向及び前記第3の方向によって画定される平面内で前記試料を走査し、前記走査の間、前記プローブの前記第1の方向における動きを監視するステップと
を含む方法。 - 前記第2の方向及び前記第3の方向によって画定される前記平面が、前記試料測定平面に平行である、請求項9に記載の方法。
- 前記第2の方向及び前記第3の方向によって画定される前記平面が、前記試料測定平面に平行でない、請求項9に記載の方法。
- 前記ステップ(b)での走査の間、前記プローブが、前記第2の方向及び前記第3の方向によって画定される平面内で動く、請求項9に記載の方法。
- 前記ステップ(b)での走査の間、前記試料ステージが、前記第2の方向及び前記第3の方向によって画定される平面内で動く、請求項9に記載の方法。
- 前記試料ステージが前記第1の方向に垂直な前記平面に対して傾斜される角度を測定するステップと、
前記第1の方向における前記プローブの前記動きと、前記測定された角度とに基づいて測定結果をもたらすステップと
を更に含む、請求項9に記載の方法。 - (c)前記試料ステージが、前記第1の方向に垂直でない新たな試料測定平面を画定するように、前記試料ステージを傾斜させるステップと、次いで、
(d)前記試料を前記ステップ(b)での走査方向とは反対の方向に走査し、ステップ(d)での走査の間、前記プローブの前記第1の方向における動きを監視するステップと
を更に含む、請求項9に記載の方法。 - 前記ステップ(b)での走査の間の前記プローブの前記第1の方向における前記動きと、前記ステップ(b)での走査の間の前記試料ステージが前記第1の方向に垂直な前記平面に対して傾斜される角度とに基づいて、第1の組の測定結果をもたらすステップと、
前記ステップ(d)での走査の間の前記プローブの前記第1の方向における前記動きと、前記ステップ(d)での走査の間の前記試料ステージが前記第1の方向に垂直な前記平面に対して傾斜される角度とに基づいて、第2の組の測定結果をもたらすステップと、
前記第1の組の測定結果と第2の組の測定結果とを組み合わせるステップと
を更に含む、請求項15に記載の方法。 - プローブと、試料が上に載置される試料ステージと、プローブスキャナと、試料スキャナとを有する走査型プローブ顕微鏡を用いて試料を測定する方法であって、
(a)試料測定平面を前記プローブスキャナの走査方向に垂直な平面に対して時計回りに傾斜させながら前記試料を走査するステップと、
(b)前記試料測定平面を前記プローブスキャナの前記走査方向に垂直な前記平面に対して反時計回りに傾斜させながら前記試料を走査するステップと
を含む方法。 - 前記ステップ(a)での走査の間の前記プローブの前記動きと、前記ステップ(a)での走査の間の前記試料測定平面の傾斜角度とに基づいて、第1の組の測定結果をもたらすステップと、
前記ステップ(b)での走査の間の前記プローブの前記動きと、前記ステップ(b)での走査の間の前記試料測定平面の傾斜角度とに基づいて、第2の組の測定結果をもたらすステップと、
前記第1の組の測定結果と第2の組の測定結果とを組み合わせるステップと
を更に含む、請求項17に記載の方法。 - 前記ステップ(a)での走査の間の、前記試料測定平面の前記傾斜角度を決定するステップと、
前記ステップ(b)での走査の間の、前記試料測定平面の前記傾斜角度を決定するステップと
を更に含む、請求項18に記載の方法。 - 前記ステップ(a)での前記走査方向が、前記ステップ(b)での前記走査方向とは反対である、請求項17に記載の方法。
- 前記ステップ(a)及び前記ステップ(b)での前記走査方向が、前記試料測定平面に平行である、請求項17に記載の方法。
- 前記ステップ(a)及び前記ステップ(b)での前記走査方向が、前記プローブスキャナの前記走査方向に垂直である、請求項17に記載の方法。
- 前記プローブスキャナを傾斜させて、前記プローブ走査方向と同一線上にある軸と、前記試料測定平面とによって形成される角度を変えるステップを更に含む、請求項17に記載の方法。
- 前記ステップ(a)及び前記ステップ(b)の走査の間、前記プローブを前記試料に対して動かすように、前記試料スキャナが前記プローブと共に取り付けられる請求項17に記載の方法。
- 前記ステップ(a)及び前記ステップ(b)の走査の間、前記試料ステージを動かすように、前記試料スキャナが前記試料ステージと共に取り付けられる、請求項17に記載の方法。
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JP (1) | JP2010044063A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU2462726C2 (ru) * | 2010-10-11 | 2012-09-27 | Государственное Научное Учреждение "Институт Тепло- И Массообмена Имени А.В. Лыкова Национальной Академии Наук Беларуси" | Способ сканирования на сканирующем зондовом микроскопе и формирования изображения поверхности |
KR20220168333A (ko) * | 2021-06-16 | 2022-12-23 | 한국표준과학연구원 | 원자간력 현미경용 틸트 스테이지 및 이를 이용한 단차 측정방법 |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5789055B2 (ja) | 2011-09-28 | 2015-10-07 | ハイジトロン, インク.Hysitron, Inc. | 複数自由度ステージを含むテストアセンブリ |
GB201117138D0 (en) | 2011-10-05 | 2011-11-16 | Infinitesima Ltd | Probe mounting system for a scanning probe microscope |
US10451650B2 (en) | 2015-07-15 | 2019-10-22 | Nederlandse Organisatie Voor Toegepast-Natuurwetenschappelijk Onderzoek Tno | Scanning probe microscopy system for mapping nanostructures on a surface of a sample and metrology frame therefore |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06258070A (ja) * | 1993-03-08 | 1994-09-16 | Olympus Optical Co Ltd | 走査型プローブ顕微鏡 |
JPH09171029A (ja) * | 1995-12-20 | 1997-06-30 | Casio Comput Co Ltd | 走査型探針測定方法およびその装置 |
JP2000097840A (ja) * | 1998-09-21 | 2000-04-07 | Seiko Instruments Inc | 走査型プローブ顕微鏡 |
JP2000275260A (ja) * | 1999-03-26 | 2000-10-06 | Olympus Optical Co Ltd | 走査型プローブ顕微鏡及びその測定方法 |
JP2005283540A (ja) * | 2004-03-31 | 2005-10-13 | Japan Science & Technology Agency | 走査型プローブ顕微鏡および試料表面形状の計測方法 |
JP2006220597A (ja) * | 2005-02-14 | 2006-08-24 | Sii Nanotechnology Inc | 表面情報計測装置。 |
JP2006284392A (ja) * | 2005-03-31 | 2006-10-19 | Gunma Univ | 走査型プローブ顕微鏡、試料表面形状の計測方法、及びプローブ装置 |
JP2007322412A (ja) * | 2006-06-02 | 2007-12-13 | Psia Co Ltd | 走査探針顕微鏡及びそれを利用した測定方法 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4891526A (en) * | 1986-12-29 | 1990-01-02 | Hughes Aircraft Company | X-Y-θ-Z positioning stage |
US5103095A (en) * | 1990-05-23 | 1992-04-07 | Digital Instruments, Inc. | Scanning probe microscope employing adjustable tilt and unitary head |
US6850313B2 (en) * | 1999-10-01 | 2005-02-01 | Nikon Corporation | Exposure method, exposure apparatus and its making method, device manufacturing method, and device |
JP2005037205A (ja) * | 2003-07-18 | 2005-02-10 | Hitachi Kenki Fine Tech Co Ltd | 走査型プローブ顕微鏡およびその計測方法 |
EP1555676A3 (en) * | 2004-01-14 | 2006-09-13 | FEI Company | Method of operating a probe microscope |
US8037736B2 (en) * | 2008-01-14 | 2011-10-18 | International Business Machines Corporation | Non-linearity determination of positioning scanner of measurement tool |
-
2009
- 2009-07-13 US US12/502,177 patent/US20100017920A1/en not_active Abandoned
- 2009-07-21 JP JP2009170370A patent/JP2010044063A/ja active Pending
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06258070A (ja) * | 1993-03-08 | 1994-09-16 | Olympus Optical Co Ltd | 走査型プローブ顕微鏡 |
JPH09171029A (ja) * | 1995-12-20 | 1997-06-30 | Casio Comput Co Ltd | 走査型探針測定方法およびその装置 |
JP2000097840A (ja) * | 1998-09-21 | 2000-04-07 | Seiko Instruments Inc | 走査型プローブ顕微鏡 |
JP2000275260A (ja) * | 1999-03-26 | 2000-10-06 | Olympus Optical Co Ltd | 走査型プローブ顕微鏡及びその測定方法 |
JP2005283540A (ja) * | 2004-03-31 | 2005-10-13 | Japan Science & Technology Agency | 走査型プローブ顕微鏡および試料表面形状の計測方法 |
JP2006220597A (ja) * | 2005-02-14 | 2006-08-24 | Sii Nanotechnology Inc | 表面情報計測装置。 |
JP2006284392A (ja) * | 2005-03-31 | 2006-10-19 | Gunma Univ | 走査型プローブ顕微鏡、試料表面形状の計測方法、及びプローブ装置 |
JP2007322412A (ja) * | 2006-06-02 | 2007-12-13 | Psia Co Ltd | 走査探針顕微鏡及びそれを利用した測定方法 |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU2462726C2 (ru) * | 2010-10-11 | 2012-09-27 | Государственное Научное Учреждение "Институт Тепло- И Массообмена Имени А.В. Лыкова Национальной Академии Наук Беларуси" | Способ сканирования на сканирующем зондовом микроскопе и формирования изображения поверхности |
KR20220168333A (ko) * | 2021-06-16 | 2022-12-23 | 한국표준과학연구원 | 원자간력 현미경용 틸트 스테이지 및 이를 이용한 단차 측정방법 |
KR20230074093A (ko) * | 2021-06-16 | 2023-05-26 | 한국표준과학연구원 | 원자간력 현미경용 틸트 스테이지 |
KR102601670B1 (ko) * | 2021-06-16 | 2023-11-13 | 한국표준과학연구원 | 원자간력 현미경용 틸트 스테이지 및 이를 이용한 단차 측정방법 |
KR102645994B1 (ko) * | 2021-06-16 | 2024-03-11 | 한국표준과학연구원 | 원자간력 현미경용 틸트 스테이지 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20100017920A1 (en) | 2010-01-21 |
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