JP2010041055A - 照射の不均等性および画像歪みの補償 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】アパーチャを透過するビームの形状および相対的配置を画定する同一の形状の複数のアパーチャを有するアパーチャアレイと、アパーチャを透過し、それらによって画定された選択されたビームレットの通過をスイッチオフするためのブランキング手段とを備える。アパーチャは、わずかな偏差だけ規則的配置から偏移した配置に従ってアパーチャアレイ手段上に配置され、粒子ビーム露光装置によって生じた歪みを調整し、アパーチャおよび対応する開口部を介してターゲット上に照射される電流を調整することができるように、アパーチャアレイのアパーチャのサイズは、アパーチャアレイに全体にわたって異なる。
【選択図】図10
Description
−必要な電流密度が、著しく減少する(粒子源の要件が緩和される)、
−必要な単一ビームブランキング速度を低MHz形態に限定することができる、
−空間電荷の重要性が低下する(広いビームが使用されるとき、電流は、大きな断面に分布される)、
−並行描画戦略によるピクセル転写率の向上(シーケンシャルなラスタ走査の代わりに)、
−複数のビームを使用することで可能な高度の冗長性(例えば、グレイスケール生成に使用可能な)。
−全てのビームが、ほぼ同一の照射率(すなわち、グレイレベルピクセル露光当たりの粒子の数)を有する必要がある;
−全てのビームが、ほぼ同一の形状を有する必要がある;
−全てのビームは、高度に規則的なグリッド上でターゲット上に配置される必要があり、これは、事実上歪みない結像、および電流依存性(=パターン依存性)の画像歪みおよびピンボケの完全な制御を必要とする;
−精巧なビーム追跡による極めて精密なウエーハ走査システムに対する要望(像位置、像回転、像拡大、像歪み誤差の修正を含む)。
先行技術で十分確立されてきたように、ビームごとの照射率は、照明ビームによって生成される局所電流密度に影響を受けることは避けがたく、この電流密度は、一般にに光学軸からの半径方向距離の関数である。投影系の歪み誤差によって生じた像の歪みも同様に、一般に半径方向距離(すなわち、中心からの距離、通常は、光学軸からの距離)の関数である。したがって、半径方向距離にわたる照射率および相対的配置の補正(事前歪み)の平均化が、極めて望ましい。電流密度の変動および歪みは共に、空間電荷および極めて精密なフィールド計算を含む、先行技術の荷電粒体光学計算法を使用して、かなり正確に事前に計算することができる。さらに、一般に、投影系の歪み誤差によって生じた像の歪みは、単に半径方向距離の関数であり得るだけでなく、むしろ、特に半径方向の対称性を持たない粒体光学構成要素(多極電極など)の場合、歪みは方位角にも同様に依存し得る。
−該アパーチャを透過するビームレットの形状を画定する複数のアパーチャを備えるアパーチャアレイを有するアパーチャアレイ手段と、
−選択されたビームレットの通過をスイッチオフするためのブランキングアレイ手段であって、それぞれの対応する開口部が、アパーチャアレイの各アパーチャに対応して配置された複数の対応する開口部を有し、開口部を介して照射された粒子をその経路から外して偏向させるための制御可能な偏向手段を備えるブランキングアレイ手段とを備え、
アパーチャが、アパーチャのサイズおよび位置を画定するアパーチャの配置に従ってアパーチャアレイ手段内に配置され、アパーチャが、粒子ビーム露光装置内で露光されるべきターゲット上に結像されることになるデバイスから生じる上記に記載の問題を解決する。
パターン形成されたビームpbによって表されるパターンは、次いで、電気−磁気−光学投影系4を利用して基板13上に投影され、そこで、パターンは、「スイッチオンされた」アパーチャおよび/または開口部の像を形成する。投影系4は、例えば、2つのクロスオーバ−c1およびc2による200xの縮小装置を実装する。基板13は、例えば、フォトレジスト層で被覆されたシリコンウエーハである。ウエーハは、ターゲットステーション5のウエーハステージ14によって保持され配置される。
Claims (9)
- 粒子ビーム露光装置内での使用に関して、荷電された粒子のビームで照射されるように適合され、前記ビームが複数のアパーチャのみを介して通過できるようにする、ターゲット上にパターンを画定するためのデバイスであって、
−前記アパーチャを透過するビームレットの形状および相対的配置を画定する複数のアパーチャを備えるアパーチャアレイを有するアパーチャアレイ手段と、
−選択されたビームレットの通過をスイッチオフするためのブランキングアレイ手段であって、それぞれの対応する開口部が、前記アパーチャアレイの各アパーチャに対応して配置された複数の対応する開口部を有し、前記開口部を介して照射された粒子をその経路から外して偏向させるための制御可能な偏向手段を備えるブランキングアレイ手段とを備え、
前記アパーチャが、前記アパーチャのサイズおよび位置を画定するアパーチャの配置に従って前記アパーチャアレイ手段内に配置され、
前記配置が、基本配置に基づくものであるが、前記基本配置からの偏移を有し、前記基本配置が、規則的な並進格子グリッド内に配置された同等のサイズおよび形状のアパーチャを含む少なくとも1つの非オーバーラップ領域に対応し、前記基本配置からの前記偏移が、前記複数のアパーチャを横断する前記ビームの電流密度の不均等性および前記粒子ビーム露光装置内の結像歪みの内の少なくとも一方を補償するように構成され、
前記偏移が、前記規則的並進グリッド内で許容される最小オフセットより少なくとも1オーダーの大きさだけ小さい一定量だけ、1つのアパーチャから隣接するアパーチャまで変動する準連続関数に対応するデバイス。 - 前記ブランキング手段内の前記対応する開口部が、基本配置を基づくものであるが、前記基本配置からの偏移を有する開口部の配置に配置され、前記アパーチャアレイの前記アパーチャの前記配置が、前記ブランキング手段の前記対応する開口部の前記配置と異なる、請求項1に記載のデバイス。
- 前記アパーチャのサイズが、均一なサイズから変動するように構成され、前記アパーチャを透過する前記ビームの電流密度の所与の設定値からの偏移を補償するように構成された前記配置の偏移を実現する、請求項1または2に記載のデバイス。
- 前記アパーチャの位置が、規則的基本配置から変動するように構成され、特定の粒子ビーム露光装置の結像系に関して事前に測定された結像歪みを補償するように構成された前記配置の偏移を実現する、請求項1から3のいずれか一項に記載のデバイス。
- 前記アパーチャアレイが、前記粒子ビームの方向から見て前記ブランキング手段の後に配置される、請求項1から4のいずれか一項に記載のデバイス。
- 前記アパーチャアレイが、前記粒子ビームの方向から見て前記ブランキング手段の前に配置される、請求項1から4のいずれか一項に記載のデバイス。
- 荷電されたエネルギー粒子のビームを利用してターゲットを照射するための粒子ビーム露光装置であって、
−前記エネルギー粒子を生成し、実質的にテレセントリックで十分に幅の広い照明ビームに形成するための照明系と、
−前記ビームの方向から見て前記照明系の後に配置され、請求項1から6のいずれか一項に記載のデバイスとして実現される、前記請求項のうちの一項に記載のパターン画定デバイスと、
−前記パターン画定デバイスの後に配置され、前記パターン形成されたビームを、投影系の後に配置されるべきターゲット上に投影するように適合された投影系とを備える粒子ビーム露光装置。 - 請求項1から6のいずれか一項に記載のターゲット上にパターンを画定するためのデバイス内でアパーチャの位置がこれに従って画定される、アパーチャの配置を画定するための方法であって、
アパーチャを含む少なくとも1つの領域を画定するステップと、
各領域内に、規則的な並進格子グリッド内に配置された同等のサイズおよび形状のアパーチャを含む基本配置を画定するステップと、
各基本配置に関して、前記規則的並進グリッド内で許容される最小オフセットより少なくとも1オーダの大きさだけ小さい一定の量だけ、1つのアパーチャから隣接するアパーチャまで変動する準連続関数に対応する付加的偏移を画定するステップとを含み、
前記基本配置からの前記偏移が、前記複数のアパーチャを横断する前記ビームの電流密度の不均等性および前記粒子ビーム露光装置内の結像歪みのうちの少なくとも一方を補償するように構成される方法。 - アパーチャの前記配置が、前記パターン画定デバイスの前記アパーチャアレイ手段内で実現され、対応する配置が、前記ブランキングアレイ手段内で実現され、前記方法が、
前記パターン画定デバイスが実装された粒子ビーム露光装置内で、前記装置内に形成された前記アパーチャアレイの像を測定するステップと、
このように測定された前記像を所望の設定値の像と比較するステップと、
前記複数のアパーチャを横断する前記ビームの電流密度の残留する不均等性および前記粒子ビーム露光装置内の残留する結像歪みのうちの少なくとも一方を包含する残留偏移を判定するステップと、
前記残留偏移を補償するように構成された第2の付加的偏移を決定するステップと、
前記第2の付加的偏移に従って前記アパーチャアレイ手段内のアパーチャの配置を調整するステップとをさらに含む、請求項8に記載の方法。
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