JP2010000503A - Pure water production apparatus and method of controlling pure water production apparatus - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、純水製造装置及び純水製造装置の制御方法に関する。 The present invention relates to a pure water production apparatus and a control method for the pure water production apparatus.
従来、原料水に窒素ガスを供給して脱気処理(以下、脱気という)を行うことを特徴と
する高純度水製造装置(以下、純水製造装置という)が知られている(例えば、特許文献
1参照)。
Conventionally, a high-purity water production apparatus (hereinafter referred to as a pure water production apparatus) characterized in that nitrogen gas is supplied to raw water to perform a deaeration process (hereinafter referred to as deaeration) is known (for example, Patent Document 1).
ところで、上記のような純水製造装置では、市水などの原料水または1次処理水など、
何らかの浄化処理が施される水である被処理水が処理されていく過程において、ポンプ搬
送時のポンプからの熱伝導などに起因する加熱、及び、脱気の前処理において効率的に前
処理が行える温度にするための加熱、脱気後の冷却などによって、被処理水の温度変化が
発生する。
上記特許文献1では、この被処理水の温度変化に対する温度制御に関して、殆ど触れら
れていないことから、上記純水製造装置は、脱気時の被処理水温度に対して、浄化処理さ
れた被処理水が使用される工場など、ユースポイントにおける被処理水温度の方が高くな
ることがあり得る。
By the way, in the pure water production apparatus as described above, raw water such as city water or primary treated water,
In the process where the water to be treated, which is the water to be subjected to some purification treatment, is being treated, the pretreatment is efficiently performed in the pretreatment for heating and deaeration due to heat conduction from the pump during pump conveyance. Changes in the temperature of the water to be treated occur due to heating to obtain a temperature that can be performed, cooling after deaeration, and the like.
Since the above-mentioned Patent Document 1 hardly mentions the temperature control with respect to the temperature change of the water to be treated, the pure water producing apparatus is subjected to the purification treatment with respect to the temperature of the water to be treated at the time of deaeration. The temperature of the water to be treated at the point of use, such as a factory where the treated water is used, may be higher.
この場合、上記純水製造装置で浄化処理された被処理水は、脱気において用いた、例え
ば、窒素ガスなどの不活性ガスの、ユースポイントにおける許容溶解度が、脱気時より減
少する。この現象は、温度と気体溶解度の関係による。
これにより、上記純水製造装置で浄化処理された被処理水は、窒素ガスなどの不活性ガ
スの、ユースポイントにおける許容溶解度を超えた分が、ユースポイントにおいて気泡化
することから、この浄化処理された被処理水である純水を用いて洗浄などの処理が施され
た被処理物に、例えば、しみなどの外観上の不具合を発生させる虞がある。
In this case, the to-be-treated water purified by the pure water production apparatus has an allowable solubility at the point of use of an inert gas such as nitrogen gas used in deaeration, which is lower than that during deaeration. This phenomenon is due to the relationship between temperature and gas solubility.
As a result, the water to be treated that has been purified by the above pure water production apparatus is bubbled at the point of use because the amount of inert gas such as nitrogen gas that exceeds the allowable solubility at the point of use is bubbled. There is a risk that an appearance defect such as a stain may occur in an object to be processed that has been subjected to a process such as cleaning using pure water that has been processed water.
また、上記純水製造装置は、この被処理水の温度変化を調整して、上記の加熱、冷却の
際に使用されるエネルギーを、抑制するような温度制御が行われていないと考えられる。
このことから、上記純水製造装置においては、上記の加熱、冷却の際に使用されるエネ
ルギーが、本来必要な量より過剰に使用されている虞がある。
Further, it is considered that the pure water production apparatus does not perform temperature control that adjusts the temperature change of the water to be treated to suppress the energy used in the heating and cooling.
For this reason, in the pure water production apparatus, there is a possibility that the energy used for the heating and cooling is used in excess of the originally required amount.
本発明は、上記課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形
態または適用例として実現することが可能である。
SUMMARY An advantage of some aspects of the invention is to solve at least a part of the problems described above, and the invention can be implemented as the following forms or application examples.
[適用例1]本適用例にかかる純水製造装置は、被処理水を加熱する加熱部と、前記加
熱部を通過後の前記被処理水を脱気する脱気部と、前記脱気部を通過後の前記被処理水を
冷却する冷却部と、前記冷却部を通過後の前記被処理水を2次処理するサブシステム部と
を備えた純水製造装置であって、前記脱気部と前記冷却部との間に設けられ、前記脱気部
を通過後の前記被処理水の温度を検知する第2の温度検知部と、前記サブシステム部と前
記サブシステム部を通過後の前記被処理水が使用されるユースポイントとの間に設けられ
、前記サブシステム部を通過後の前記被処理水の温度を検知する第4の温度検知部とを有
し、前記第2の温度検知部で検知された前記被処理水の温度をbとし、前記第4の温度検
知部で検知された前記被処理水の温度をdとしたときに、前記bが前記dより高くなるよ
うに、前記加熱部の加熱の程度を制御し、且つ前記第2の温度検知部でbであった前記被
処理水の温度が前記第4の温度検知部でdとなるように、前記冷却部の冷却の程度を制御
する温度制御部を備えたことを特徴とする。
Application Example 1 A pure water production apparatus according to this application example includes a heating unit that heats the water to be treated, a deaeration unit that degass the water to be treated after passing through the heating unit, and the deaeration unit. A deionized unit comprising a cooling unit that cools the water to be treated after passing through a sub-system unit that secondary-treats the water to be treated after passing through the cooling unit, And the cooling unit, a second temperature detection unit for detecting the temperature of the water to be treated after passing through the deaeration unit, the subsystem unit and the subsystem unit after passing through A second temperature detection unit provided between the use point where the water to be treated is used and a fourth temperature detection unit for detecting a temperature of the water to be treated after passing through the subsystem unit. The temperature of the treated water detected by the section is b, and the treated water detected by the fourth temperature detecting section When the temperature is d, the degree of heating of the heating unit is controlled so that b is higher than d, and the temperature of the water to be treated which is b in the second temperature detection unit is A temperature control unit that controls the degree of cooling of the cooling unit is provided so as to be d in the fourth temperature detection unit.
これによれば、純水製造装置は、第2の温度検知部で検知された被処理水の温度をbと
し、第4の温度検知部で検知された被処理水の温度をdとしたときに、bがdより高くな
るように、加熱部の加熱の程度を制御し、且つ第2の温度検知部でbであった被処理水の
温度が第4の温度検知部でdとなるように、冷却部の冷却の程度を制御する温度制御部を
備えている。
According to this, when the pure water manufacturing apparatus sets the temperature of the to-be-processed water detected by the 2nd temperature detection part to b, and sets the temperature of the to-be-processed water detected by the 4th temperature detection part to d In addition, the degree of heating of the heating unit is controlled so that b is higher than d, and the temperature of the water to be treated which is b in the second temperature detection unit becomes d in the fourth temperature detection unit. In addition, a temperature control unit for controlling the degree of cooling of the cooling unit is provided.
したがって、純水製造装置は、温度制御部によって、bがdより高くなるように、且つ
第2の温度検知部でbであった被処理水の温度が第4の温度検知部でdとなるように、制
御されていることから、ユースポイントにおける被処理水の不活性ガスの許容溶解度が、
脱気部における脱気時と比較して減少しない。
これにより、純水製造装置は、脱気部における脱気時に被処理水に溶け込んだ、例えば
、窒素ガスなどの不活性ガスが、ユースポイントにおいて気泡化することがない。
この結果、純水製造装置は、ユースポイントにおいて、浄化処理された被処理水である
純水(以下、単に純水ともいう)を用いて洗浄などの処理が施された被処理物に、例えば
、しみなどの外観上の不具合が発生することを回避できる。
Therefore, in the pure water production apparatus, the temperature control unit sets b to be higher than d, and the temperature of the water to be treated which is b in the second temperature detection unit becomes d in the fourth temperature detection unit. As described above, the allowable solubility of the inert gas of the water to be treated at the use point is
It does not decrease compared with the time of deaeration in the deaeration part.
Thus, in the pure water production apparatus, for example, an inert gas such as nitrogen gas dissolved in the water to be treated at the time of deaeration in the deaeration unit does not form bubbles at the use point.
As a result, the deionized water production apparatus, at the point of use, for example, to an object to be treated that has been subjected to a treatment such as cleaning using pure water (hereinafter, also simply referred to as pure water) that has been purified. It is possible to avoid the occurrence of defects in appearance such as spots.
[適用例2]上記適用例にかかる純水製造装置は、前記加熱部と前記脱気部との間に設
けられ、前記加熱部を通過後の前記被処理水の温度を検知する第1の温度検知部と、前記
冷却部と前記サブシステム部との間に設けられ、前記冷却部を通過後の前記被処理水の温
度を検知する第3の温度検知部とをさらに備え、前記第1の温度検知部で検知された前記
被処理水の温度をaとし、前記第3の温度検知部で検知された前記被処理水の温度をcと
したときに、前記温度制御部が、前記bが前記dより高くなるように、前記加熱部を制御
して前記aを調整し、且つ前記第2の温度検知部でbであった前記被処理水の温度が前記
第4の温度検知部でdとなるように、前記冷却部を制御して前記cを調整することが好ま
しい。
[Application Example 2] The pure water producing apparatus according to the application example is provided between the heating unit and the deaeration unit, and detects a temperature of the water to be treated after passing through the heating unit. A temperature detection unit; and a third temperature detection unit that is provided between the cooling unit and the subsystem unit and detects the temperature of the water to be treated after passing through the cooling unit. When the temperature of the water to be treated detected by the temperature detector is a and the temperature of the water to be treated detected by the third temperature detector is c, the temperature controller is Is adjusted so that the temperature of the water to be treated is b in the second temperature detection unit, and the temperature of the water to be treated is b in the fourth temperature detection unit. It is preferable to adjust the c by controlling the cooling unit so as to be d.
これによれば、純水製造装置は、温度制御部が、bがdより高くなるように、加熱部を
制御してaを調整し、且つ第2の温度検知部でbであった被処理水の温度が第4の温度検
知部でdとなるように、冷却部を制御してcを調整する。
このことから、純水製造装置は、被処理水の温度制御を確実に行うことができる。
According to this, in the pure water production apparatus, the temperature control unit adjusts a by controlling the heating unit so that b is higher than d, and b is processed by the second temperature detection unit. The cooling unit is controlled to adjust c so that the water temperature becomes d at the fourth temperature detection unit.
From this, the pure water manufacturing apparatus can perform temperature control of to-be-processed water reliably.
[適用例3]上記適用例にかかる純水製造装置は、前記bが、前記dに、前記bの温度
ばらつきによる温度ばらつき分を加えたことが好ましい。
Application Example 3 In the pure water manufacturing apparatus according to the application example described above, it is preferable that the b adds the temperature variation due to the temperature variation of the b to the d.
これによれば、純水製造装置は、bが、dに、bの温度のばらつきによる温度ばらつき
分を加えたことから、加熱部による被処理水の加熱及び冷却部による被処理水の冷却が効
率的に制御されている。
したがって、純水製造装置は、加熱及び冷却の際に使用されるエネルギーが、本来必要
な量より過剰に使用されることを回避できる。
According to this, in the pure water production apparatus, b added to d the temperature variation due to the temperature variation of b, so that the water to be treated was heated by the heating unit and the water to be treated was cooled by the cooling unit. It is controlled efficiently.
Therefore, the pure water production apparatus can avoid the energy used for heating and cooling being used in excess of the originally required amount.
[適用例4]上記適用例にかかる純水製造装置は、前記bが、前記dに、セルシウス度
で0℃〜0.3℃の範囲の温度を加えたことが好ましい。
Application Example 4 In the pure water manufacturing apparatus according to the application example described above, it is preferable that b is added to d in the range of 0 ° C. to 0.3 ° C. in Celsius degree.
これによれば、純水製造装置は、bが、dに、セルシウス度で0℃〜0.3℃の範囲の
温度を加えたことから、bとdとの温度差がこれより大きい場合と比較して、加熱部によ
る被処理水の加熱及び冷却部による被処理水の冷却が、より効率的に制御されている。
したがって、純水製造装置は、bとdとの温度差が上記より大きい場合と比較して、加
熱及び冷却の際に使用されるエネルギーを低減することができる。
According to this, in the pure water production apparatus, b added a temperature in the range of 0 ° C. to 0.3 ° C. in degrees Celsius to d, and therefore the temperature difference between b and d was larger than this. In comparison, heating of the treated water by the heating unit and cooling of the treated water by the cooling unit are controlled more efficiently.
Therefore, the pure water manufacturing apparatus can reduce the energy used in heating and cooling as compared with the case where the temperature difference between b and d is larger than the above.
[適用例5]上記適用例にかかる純水製造装置は、前記加熱部と前記脱気部との間に、
前記被処理水を濾過する濾過部が設けられていることが好ましい。
[Application Example 5] In the pure water production apparatus according to the application example described above, between the heating unit and the deaeration unit,
It is preferable that a filtration unit for filtering the water to be treated is provided.
これによれば、純水製造装置は、加熱部と脱気部との間に、被処理水を濾過する濾過部
が設けられていることから、濾過部により脱気前の被処理水を濾過することができる。
この結果、純水製造装置は、被処理水に含まれている不純物が除去され、被処理水の純
度が向上することから、脱気部による脱気を効率的及び確実に行うことができる。
According to this, since the pure water manufacturing apparatus is provided with the filtration part which filters the to-be-treated water between the heating part and the deaeration part, the to-be-treated water before deaeration is filtered by the filtration part. can do.
As a result, since the impurities contained in the water to be treated are removed and the purity of the water to be treated is improved, the pure water production apparatus can perform the deaeration by the deaeration part efficiently and reliably.
[適用例6]上記適用例にかかる純水製造装置は、前記脱気部が窒素ガスにより前記被
処理水の脱気を行うことが好ましい。
Application Example 6 In the pure water production apparatus according to the application example, it is preferable that the degassing unit degass the water to be treated with nitrogen gas.
これによれば、純水製造装置は、脱気部が窒素ガスにより被処理水の脱気を行うことか
ら、安価で入手が容易な窒素ガスの使用によって、費用をかけずに、いつでも脱気を行う
ことができる。
According to this, since the deaeration unit performs deaeration of the water to be treated with nitrogen gas, the deaeration unit can always deaerate without using costs by using nitrogen gas that is inexpensive and easily available. It can be performed.
[適用例7]上記適用例にかかる純水製造装置は、前記脱気部が元素周期表におけるVI
II族の不活性ガスにより、前記被処理水の脱気を行うことが好ましい。
Application Example 7 In the pure water production apparatus according to the application example, the deaeration unit is VI in the periodic table of elements.
The treated water is preferably degassed with a Group II inert gas.
これによれば、純水製造装置は、脱気部が元素周期表におけるVIII族の不活性ガスによ
り被処理水の脱気を行うことから、VIII族の不活性ガスの特性によって、例えば、窒素ガ
スと比較して、品質的により安定した脱気を行うことができる。
According to this, since the degassing unit performs degassing of the water to be treated with the group VIII inert gas in the periodic table of elements, for example, nitrogen can be removed depending on the characteristics of the group VIII inert gas. Compared with gas, degassing can be performed more stably in terms of quality.
[適用例8]本適用例にかかる純水製造装置の制御方法は、被処理水を加熱する加熱部
と、前記加熱部を通過後の前記被処理水を脱気する脱気部と、前記脱気部を通過後の前記
被処理水を冷却する冷却部と、前記冷却部を通過後の前記被処理水を2次処理するサブシ
ステム部とを備えた純水製造装置の制御方法であって、前記純水製造装置が、前記脱気部
と前記冷却部との間に設けられ、前記脱気部を通過後の前記被処理水の温度を検知する第
2の温度検知部と、前記サブシステム部と前記サブシステム部を通過後の前記被処理水が
使用されるユースポイントとの間に設けられ、前記サブシステム部を通過後の前記被処理
水の温度を検知する第4の温度検知部と、前記被処理水の温度を制御する温度制御部とを
有し、前記第2の温度検知部で検知された前記被処理水の温度をbとし、前記第4の温度
検知部で検知された前記被処理水の温度をdとしたときに、前記温度制御部によって、前
記bが前記dより高くなるように、前記加熱部の加熱の程度を制御し、且つ前記第2の温
度検知部でbであった前記被処理水の温度が前記第4の温度検知部でdとなるように、前
記冷却部の冷却の程度を制御することを特徴とする。
Application Example 8 A method for controlling a pure water production apparatus according to this application example includes a heating unit that heats the water to be treated, a deaeration unit that degass the water to be treated after passing through the heating unit, A method for controlling a pure water production apparatus comprising: a cooling unit that cools the water to be treated after passing through a deaeration unit; and a subsystem unit that performs secondary treatment on the water to be treated after passing through the cooling unit. The pure water production apparatus is provided between the deaeration unit and the cooling unit, and detects a temperature of the treated water after passing through the deaeration unit; A fourth temperature is provided between the subsystem unit and a use point where the treated water after passing through the subsystem unit is used, and detects the temperature of the treated water after passing through the subsystem unit. A detection unit, and a temperature control unit that controls the temperature of the water to be treated. In the second temperature detection unit, When the known temperature of the treated water is b and the temperature of the treated water detected by the fourth temperature detector is d, the temperature control unit causes the b to be higher than the d. As described above, the degree of heating of the heating unit is controlled, and the temperature of the water to be treated that is b in the second temperature detection unit is d in the fourth temperature detection unit. The degree of cooling of the cooling unit is controlled.
これによれば、純水製造装置の制御方法は、温度制御部によって、第2の温度検知部で
検知された被処理水の温度をbとし、第4の温度検知部で検知された被処理水の温度をd
としたときに、bがdより高くなるように、加熱部の加熱の程度を制御し、且つ第2の温
度検知部でbであった被処理水の温度が第4の温度検知部でdとなるように、冷却部の冷
却の程度を制御する。
According to this, the control method of a pure water manufacturing apparatus sets the temperature of the to-be-processed water detected by the 2nd temperature detection part by the temperature control part to b, and the to-be-processed detected by the 4th temperature detection part Water temperature d
, The degree of heating of the heating unit is controlled so that b is higher than d, and the temperature of the water to be treated which was b in the second temperature detection unit is d in the fourth temperature detection unit The degree of cooling of the cooling unit is controlled so that
したがって、純水製造装置の制御方法は、bがdより高くなるように、且つ第2の温度
検知部でbであった被処理水の温度が第4の温度検知部でdとなるように、制御している
ことから、上述したように、脱気部における脱気時に溶け込んだ不活性ガスが、ユースポ
イントにおいて気泡化することがない。
これにより、純水製造装置の制御方法は、ユースポイントにおいて純水を用いて洗浄な
どの処理が施された被処理物に、例えば、しみなどの外観上の不具合が発生することを回
避できる。
Therefore, the method for controlling the pure water production apparatus is such that b is higher than d, and the temperature of the water to be treated which is b in the second temperature detection unit becomes d in the fourth temperature detection unit. Since it is controlled, as described above, the inert gas dissolved at the time of deaeration in the deaeration part is not bubbled at the use point.
Thereby, the control method of a pure water manufacturing apparatus can avoid the appearance defect, such as a stain, from occurring on an object to be processed that has been treated with pure water at a use point.
[適用例9]上記適用例にかかる純水製造装置の制御方法は、前記純水製造装置が、前
記加熱部と前記脱気部との間に設けられ、前記加熱部を通過後の前記被処理水の温度を検
知する第1の温度検知部と、前記冷却部と前記サブシステム部との間に設けられ、前記冷
却部を通過後の前記被処理水の温度を検知する第3の温度検知部とをさらに備え、前記第
1の温度検知部で検知された前記被処理水の温度をaとし、前記第3の温度検知部で検知
された前記被処理水の温度をcとしたときに、前記温度制御部によって、前記bが前記d
より高くなるように、前記加熱部を制御して前記aを調整し、且つ前記第2の温度検知部
でbであった前記被処理水の温度が前記第4の温度検知部でdとなるように、前記冷却部
を制御して前記cを調整することが好ましい。
Application Example 9 The method for controlling a pure water production apparatus according to the application example described above is such that the pure water production apparatus is provided between the heating unit and the deaeration unit, and the covered water after passing through the heating unit. A first temperature detection unit that detects the temperature of the treated water, and a third temperature that is provided between the cooling unit and the subsystem unit and detects the temperature of the treated water after passing through the cooling unit. A detector, and when the temperature of the water to be treated detected by the first temperature detector is a and the temperature of the water to be treated detected by the third temperature detector is c In addition, the temperature controller controls the b to the d.
The temperature of the water to be treated which is b in the second temperature detection unit becomes d in the fourth temperature detection unit by controlling the heating unit so as to be higher and adjusting the a. Thus, it is preferable to adjust the c by controlling the cooling unit.
これによれば、純水製造装置の制御方法は、温度制御部によって、bがdより高くなる
ように、加熱部を制御してaを調整し、且つ第2の温度検知部でbであった被処理水の温
度が第4の温度検知部でdとなるように、冷却部を制御してcを調整する。
このことから、純水製造装置の制御方法は、被処理水の温度制御を確実に行うことがで
きる。
According to this, in the control method of the pure water production apparatus, the temperature control unit adjusts a by controlling the heating unit so that b is higher than d, and the second temperature detection unit sets b. C is adjusted by controlling the cooling unit so that the temperature of the treated water becomes d in the fourth temperature detection unit.
For this reason, the method for controlling the pure water production apparatus can reliably control the temperature of the water to be treated.
[適用例10]上記適用例にかかる純水製造装置の制御方法は、前記bが、前記dに、
前記bの温度ばらつきによる温度ばらつき分を加えたことが好ましい。
Application Example 10 In the method for controlling a pure water manufacturing apparatus according to the application example, the b is the d.
It is preferable to add a temperature variation due to the temperature variation of b.
これによれば、純水製造装置の制御方法は、bが、dに、bの温度ばらつきによる温度
ばらつき分を加えたことから、加熱部による被処理水の加熱及び冷却部による被処理水の
冷却を、効率的に制御できる。
したがって、純水製造装置の制御方法は、加熱及び冷却の際に使用されるエネルギーが
、本来必要な量より過剰に使用されることを回避できる。
According to this, in the control method of the pure water production apparatus, b adds the temperature variation due to the temperature variation of b to d, so the water to be treated by the heating unit and the water to be treated by the cooling unit Cooling can be controlled efficiently.
Therefore, the method for controlling the pure water production apparatus can avoid that the energy used for heating and cooling is used excessively than the amount originally required.
[適用例11]上記適用例にかかる純水製造装置の制御方法は、前記bが、前記dに、
セルシウス度で0℃〜0.3℃の範囲の温度を加えたことが好ましい。
Application Example 11 In the method for controlling a pure water production apparatus according to the application example, the b is changed to the d.
It is preferable to add a temperature in the range of 0 ° C. to 0.3 ° C. in Celsius degree.
これによれば、純水製造装置の制御方法は、bが、dに、セルシウス度で0℃〜0.3
℃の範囲の温度を加えたことから、bとdとの温度差がこれより大きい場合と比較して、
加熱部による被処理水の加熱及び冷却部による被処理水の冷却を、より効率的に制御でき
る。
したがって、純水製造装置の制御方法は、bとdとの温度差が上記より大きい場合と比
較して、加熱及び冷却の際に使用されるエネルギーを低減することができる。
According to this, as for the control method of a pure water manufacturing apparatus, b is set to d, and Celsius degree is 0 degreeC-0.3.
Since the temperature in the range of ° C. was added, compared with the case where the temperature difference between b and d is larger than this,
Heating of the water to be treated by the heating unit and cooling of the water to be treated by the cooling unit can be controlled more efficiently.
Therefore, the method for controlling the pure water production apparatus can reduce the energy used for heating and cooling compared to the case where the temperature difference between b and d is larger than the above.
以下、純水製造装置及び純水製造装置の制御方法の実施形態について図面を参照して説
明する。
Hereinafter, embodiments of a pure water production apparatus and a control method for the pure water production apparatus will be described with reference to the drawings.
(実施形態)
図1は、本実施形態の純水製造装置の概略構成を示す模式図である。
図1に示すように、純水製造装置1は、河川水、地下水、市水などの原料水または前処
理により一定の不純物が除去された1次処理水など、何らかの浄化処理が施される水であ
る被処理水を貯留する貯水槽10と、貯水槽10から搬送された被処理水を加熱する加熱
部20と、加熱部20を通過後の被処理水を脱気する脱気部40と、脱気部40を通過後
の被処理水を冷却する冷却部60と、冷却部60を通過後の被処理水を2次処理するサブ
システム部70とを備えている。
(Embodiment)
Drawing 1 is a mimetic diagram showing a schematic structure of a pure water manufacturing device of this embodiment.
As shown in FIG. 1, the pure water production apparatus 1 is water subjected to some purification treatment such as raw water such as river water, ground water, city water, or primary treated water from which certain impurities have been removed by pretreatment. A
また、純水製造装置1は、加熱部20を通過後の被処理水を脱気部40の前段で濾過す
る濾過部30と、脱気部40を通過後の被処理水を冷却部60の前段で一時的に貯留する
サブタンク50とを備えている。
そして、純水製造装置1は、加熱部20と脱気部40との間に設けられ、加熱部20を
通過後の被処理水の温度を検知する第1の温度検知部21と、脱気部40と冷却部60と
の間に設けられ、脱気部40を通過後の被処理水の温度を検知する第2の温度検知部41
と、冷却部60とサブシステム部70との間に設けられ、冷却部60を通過後の被処理水
の温度を検知する第3の温度検知部61と、サブシステム部70とサブシステム部70を
通過後の被処理水が使用されるユースポイント80との間に設けられ、サブシステム部7
0を通過後の被処理水の温度を検知する第4の温度検知部71とを有している。
加えて、純水製造装置1は、各温度検知部で検知された被処理水の温度に基づいて、加
熱部20の加熱の程度及び冷却部60の冷却の程度を制御する温度制御部90を備えてい
る。
In addition, the pure water production apparatus 1 includes a
And the pure water manufacturing apparatus 1 is provided between the
And a third
And a
In addition, the pure water production apparatus 1 includes a
被処理水は、図1に示すように、貯水槽10から実線矢印の方向に搬送され、加熱部2
0、濾過部30、脱気部40、サブタンク50、冷却部60、サブシステム部70を通過
することにより浄化処理され、所定の純度、例えば、比抵抗が18MΩ・cm以上に到達
した状態で、ユースポイント80である半導体、液晶表示パネル、精密微細加工部品など
の製造工場などにおける1箇所または複数個所の洗浄処理設備などに純水として供給され
る。
なお、被処理水の搬送には、図示しない複数のポンプが使用され、所定の流量の被処理
水が安定した状態で搬送されている。この際、被処理水は、ポンプからの熱伝導などによ
って加熱され、温度が上昇する。
なお、ユースポイント80で使用された純水(浄化処理済みの被処理水)は、排水とし
て排出され、ユースポイント80で未使用の純水は、リターン水としてサブタンク50に
戻される。
As shown in FIG. 1, the water to be treated is transported from the
0, the
A plurality of pumps (not shown) are used for transporting the water to be treated, and the water to be treated having a predetermined flow rate is transported in a stable state. At this time, the water to be treated is heated by heat conduction from the pump and the temperature rises.
The pure water (purified water to be treated) used at the
加熱部20では、蒸気を用いた加熱器により被処理水を加熱することで、濾過部30で
の濾過を容易にするとともに、後段の脱気部40などを経た後、ユースポイント80にお
いて、ユースポイント80の純水に対する要求温度に到達するように、被処理水の温度が
上げられる。
濾過部30では、逆浸透膜(RO膜:Reverse Osmosis Membraneともいう)などを用い
て被処理水を濾過することにより、被処理水に含まれる微生物や異物などの不純物が除去
される。
なお、濾過部30の前段では、逆浸透膜を用いた被処理水の濾過が効率的に行われるよ
うに、ポンプにより浸透圧以上の圧力が被処理水に加えられている。
In the
In the
In addition, in the front | former stage of the
脱気部40では、窒素ガス、元素周期表におけるVIII族の不活性ガスであるヘリウムガ
ス、アルゴンガスなどを用いて、分圧により被処理水に含まれている溶存酸素などと置換
させることで、被処理水に含まれている溶存酸素などの気体成分が脱気される。
冷却部60では、加熱部20における加熱及び加熱部20から濾過部30、脱気部40
、サブタンク50を経由して冷却部60まで搬送される際に、濾過、脱気、ポンプからの
熱伝導などで加熱されて温度が高くなった被処理水を、冷水を用いた冷却器により冷却す
ることで、後段のサブシステム部70などを経た後、ユースポイント80において、ユー
スポイント80の純水に対する要求温度に到達するように、被処理水の温度が下げられる
。
In the
In the
The water to be treated, which has been heated by filtration, degassing, heat conduction from a pump, etc. when it is conveyed to the
サブシステム部70では、被処理水に紫外線を照射して有機物を分解する紫外線照射装
置、紫外線照射後の被処理水を濾過して微生物や異物などの不純物を除去する濾過装置な
どにより、被処理水が2次処理される。
サブシステム部70で2次処理された被処理水は、純水としてポンプによってユースポ
イント80へ搬送される。
In the
The treated water secondarily treated by the
第1〜第4の各温度検知部21,41,61,71では、通過する被処理水の温度が温
度計により検知され、検知された被処理水の温度データが、マイクロコンピューターなど
を備えた温度制御部90に伝達される。なお、被処理水の温度検知は、温度制御部90か
らの指示などに基づき常時または随時行われる。
In each of the first to
温度制御部90では、各温度検知部で検知された被処理水の温度データに基づいて、加
熱部20の加熱の程度及び冷却部60の冷却の程度を制御する。
詳述すると、温度制御部90は、第2の温度検知部41で検知される被処理水の温度が
、第4の温度検知部71で検知される被処理水の温度より高くなるように、加熱部20の
加熱の程度及び冷却部60の冷却の程度を制御し、第1の温度検知部21で検知される被
処理水の温度、及び第3の温度検知部61で検知される被処理水の温度を変化させる。
The
Specifically, the
ここで、純水製造装置1の制御方法としての温度制御部90の制御動作について説明す
る。
Here, the control operation of the
ここで、第1の温度検知部21で検知された被処理水の温度をaとし、第2の温度検知
部41で検知された被処理水の温度をbとし、第3の温度検知部61で検知された被処理
水の温度をcとし、第4の温度検知部71で検知された被処理水の温度をdとする。
温度制御部90は、bがdより高くなるように、加熱部20の加熱器の蒸気量、蒸気圧
、蒸気温度などの調整により加熱の程度を制御してaを調整し、且つ第2の温度検知部4
1でbであった被処理水の温度が第4の温度検知部71でdとなるように、冷却部60の
冷却器の冷水量、冷水圧、冷水温度などの調整により冷却の程度を制御してcを調整する
。
Here, the temperature of the water to be treated detected by the
The
The degree of cooling is controlled by adjusting the amount of chilled water, the chilled water pressure, the chilled water temperature, etc. of the cooler of the cooling
ここで、後述するユースポイント80での気泡を防止する為、温度bは温度dを下回ら
ない温度に設定することが好ましい。温度bは前述した搬送用のポンプからの過熱ばらつ
き、また配管からの放熱ばらつき、さらには制御系の制御誤差によるばらつきの影響を受
ける。よって温度bは、前記原因から生ずる温度ばらつきを考慮して温度dを下回らない
温度に設定し制御することが重要となる。
なお、ばらつきが無視できる程度の温度であれば、設定温度bは温度dと同等であって
もよい。
Here, in order to prevent bubbles at a
Note that the set temperature b may be equal to the temperature d as long as the variation is negligible.
ここで、上記の温度制御部90の制御動作について、図面を参照して説明する。
図2は、本実施形態の純水製造装置における被処理水の温度制御の一例を示す図である
。
図2において、実線の折れ線Eは、温度制御部90による温度制御がされている時の図
1における純水製造装置1内の貯水槽10から第4の温度検知部71までの温度推移を表
し、破線の折れ線Gは、温度制御部90による温度制御がされていない時の図1における
純水製造装置1内の貯水槽10から第4の温度検知部71までの温度推移を表す。
また、図2の横軸は、被処理水の温度検知地点を示し、図2の縦軸は、被処理水の温度
を示す。
Here, the control operation of the
FIG. 2 is a diagram illustrating an example of temperature control of water to be treated in the pure water production apparatus according to the present embodiment.
In FIG. 2, a solid line E represents a temperature transition from the
Moreover, the horizontal axis of FIG. 2 shows the temperature detection point of to-be-processed water, and the vertical axis | shaft of FIG. 2 shows the temperature of to-be-processed water.
なお、ここでは、便宜的に温度の単位をセルシウス度(摂氏度)とするが、温度の単位
には、数値を変換してファーレンハイト度(華氏度)、ケルビンなどを用いることができ
る。
また、ここでは、貯水槽10における被処理水の温度を23.5℃とし、ユースポイン
ト80における純水(浄化処理済みの被処理水)に対する要求温度を、25.0℃とする
。また、第4の温度検知部71からユースポイント80までは、被処理水の温度変化がな
いものとする。
Here, for convenience, the unit of temperature is Celsius degree (degrees Celsius), but the unit of temperature can be converted from a numerical value to Fahrenheit degree (Fahrenheit degree), Kelvin, or the like.
Here, the temperature of the water to be treated in the
図2に示すように、温度制御部90による温度制御がされている場合(以下、単に温度
制御されている場合ともいう)には、第4の温度検知部71で検知される被処理水の温度
d℃(以下、単に温度d℃ともいう)が25.0℃となり、第2の温度検知部41で検知
される被処理水の温度b℃(以下、単に温度b℃ともいう)が25.0℃より高くなるよ
うに、温度制御部90によって加熱部20の加熱の程度及び冷却部60の冷却の程度が制
御される。
As shown in FIG. 2, when temperature control is performed by the temperature control unit 90 (hereinafter, also simply referred to as temperature control), water to be treated detected by the fourth
この際、温度制御部90は、温度d℃の目標値である25.0℃に、温度ばらつきによ
る被処理水の温度ばらつき分T1を加えた温度と温度b℃とが略等しくなるように、加熱
部20の加熱の程度を制御して、第1の温度検知部21で検知される被処理水の温度a℃
(以下、単に温度a℃ともいう)を調整する。
そして、温度制御部90は、最終的に温度d℃が25.0℃になるように、冷却部60
の冷却の程度を制御して、第3の温度検知部61で検知される被処理水の温度c℃(以下
、単に温度c℃ともいう)を調整する。
At this time, the
(Hereinafter, also simply referred to as temperature a ° C.).
Then, the
The temperature c of the water to be treated detected by the third temperature detector 61 (hereinafter also simply referred to as temperature c ° C.) is adjusted by controlling the degree of cooling.
この際、温度制御部90は、被処理水の温度が、第1の温度検知部21から第2の温度
検知部41までと、第3の温度検知部61から第4の温度検知部71までとの搬送に伴う
ポンプからの熱伝導などで加熱される分を反映させて、加熱部20の加熱の程度及び冷却
部60の冷却の程度を制御する。
なお、上記の温度上昇分は、各温度検知部で事前に検知された被処理水の温度データに
基づいて導出される。
At this time, the
In addition, said temperature rise part is derived | led-out based on the temperature data of the to-be-processed water detected in advance by each temperature detection part.
ここで、温度ばらつきによる被処理水の温度ばらつき分T1(以下、単に温度ばらつき
分T1という)について図面を参照して説明する。
図3は、被処理水の、第2の温度検知部における温度データの一例を示す図である。
Here, the temperature variation T1 of the water to be treated due to temperature variation (hereinafter simply referred to as temperature variation T1) will be described with reference to the drawings.
FIG. 3 is a diagram illustrating an example of temperature data in the second temperature detection unit of the water to be treated.
図3に示すように、第2の温度検知部41で検知された被処理水の4つの温度データの
ばらつきの程度を示す標準偏差は、0.10℃である。
したがって、被処理水の温度データのばらつきが正規分布であると想定すると、温度ば
らつき分T1を、標準偏差の3倍の値である0.3℃とすれば、被処理水の温度ばらつき
は、温度ばらつき分T1=0.3℃内に収まることになる。
この結果、純水製造装置1は、温度b℃が、温度d℃の目標値である25.0℃に、温
度ばらつき分T1として0.3℃を加えた温度(25.3℃)と略等しい温度になること
により、温度ばらつきがあっても、温度b℃が温度d℃より高くなる。
As shown in FIG. 3, the standard deviation indicating the degree of variation in the four temperature data of the water to be treated detected by the
Therefore, assuming that the variation in the temperature data of the treated water is a normal distribution, if the temperature variation T1 is 0.3 ° C., which is three times the standard deviation, The temperature variation T1 is within 0.3 ° C.
As a result, in the pure water production apparatus 1, the temperature b.degree. C. is substantially equal to the temperature (25.3.degree. C.) obtained by adding 0.3.degree. C. as the temperature variation T1 to 25.0.degree. C. which is the target value of the temperature d.degree. By having the same temperature, the temperature b ° C. is higher than the temperature d ° C. even if there is a temperature variation.
図2に戻って、これらのことから、温度制御部90は、温度b℃が25.3℃となるよ
う加熱部20の加熱の程度を制御してもよい。または、温度制御部90は、第1の温度検
知部21から第2の温度検知部41までの搬送に伴うポンプからの熱伝導などで加熱され
る分(以下、前段温度上昇分という)(1.0℃)を反映させて、温度a℃が24.3℃
となるように加熱部20の加熱の程度を制御してもよい。
この結果、温度b℃は、温度a℃(24.3℃)に、前段温度上昇分(1.0℃)が加
わる25.3℃となり、温度d℃の目標値(25.0℃)に温度ばらつき分T1(0.3
℃)を加えた温度(25.3℃)と等しくなる。
Returning to FIG. 2, the
The degree of heating of the
As a result, the temperature b ° C. becomes 25.3 ° C. in which the temperature rise of the previous stage (1.0 ° C.) is added to the temperature a ° C. (24.3 ° C.). Temperature variation T1 (0.3
° C) is equal to the temperature added (25.3 ° C).
そして、温度制御部90は、温度d℃が25.0℃となるよう冷却部60の冷却の程度
を制御してもよい。あるいは、温度制御部90は、第3の温度検知部61から第4の温度
検知部71までの搬送に伴うポンプからの熱伝導などで加熱される分(以下、後段温度上
昇分という)(0.6℃)を反映させて、温度c℃が24.4℃となるように冷却部60
の冷却の程度を制御してもよい。
この結果、温度d℃は、温度c℃(24.4℃)に、後段温度上昇分(0.6℃)が加
わることにより25.0℃となり、ユースポイント80における純水に対する要求温度(
25.0℃)を満足することができる。
Then, the
The degree of cooling may be controlled.
As a result, the temperature d ° C. becomes 25.0 ° C. by adding the subsequent temperature increase (0.6 ° C.) to the temperature c ° C. (24.4 ° C.), and the required temperature for the pure water at the use point 80 (
25.0 ° C.).
一方、従来のような、温度制御部90による温度制御がされていない場合(以下、単に
温度制御されていない場合ともいう)、被処理水は、前段温度上昇分が無視され、第1の
温度検知部21で検知される被処理水の温度a’℃(以下、単に温度a’℃ともいう)が
、ユースポイント80における純水に対する要求温度である25.0℃になるまで、加熱
部20によって加熱される。
この結果、第2の温度検知部41で検知される被処理水の温度b’℃(以下、単に温度
b’℃ともいう)は、温度a’℃(25.0℃)に、前段温度上昇分(1.0℃)が加わ
ることにより、26.0℃となる。
On the other hand, when the temperature control by the
As a result, the temperature b ′ ° C. (hereinafter also simply referred to as temperature b ′ ° C.) of the water to be treated detected by the
そして、被処理水は、後段温度上昇分が無視され、第3の温度検知部61で検知される
被処理水の温度c’℃(以下、単に温度c’℃ともいう)が、ユースポイント80におけ
る純水に対する要求温度である25.0℃になるまで、冷却部60によって1.0℃冷却
される。
この結果、第4の温度検知部71で検知される被処理水の温度d’℃(以下、単に温度
d’℃ともいう)は、温度c’℃(25.0℃)に、後段温度上昇分(0.6℃)が加わ
ることにより25.6℃となり、このままでは、ユースポイント80における純水に対す
る要求温度(25.0℃)を満足することができない。
Then, the temperature of the water to be treated is ignored, and the temperature c ′ ° C. of the water to be treated detected by the third temperature detector 61 (hereinafter also simply referred to as the temperature c ′ ° C.) is the
As a result, the temperature d ′ ° C. (hereinafter, also simply referred to as temperature d ′ ° C.) of the water to be treated detected by the
この事態を避けるために、温度制御されていない場合は、試行錯誤により温度c’℃の
適正値を見出し、図2の2点鎖線の折れ線Hで示すように、温度c’℃が、温度制御され
ている場合(実線)の温度c℃と同じ24.4℃になるまで、冷却部60による冷却が継
続される。
温度c’℃が24.4℃となった結果、温度d’℃は、25.0℃となり、ユースポイ
ント80における純水に対する要求温度(25.0℃)を満足することができる。
In order to avoid this situation, when the temperature is not controlled, an appropriate value of the temperature c ′ ° C. is found by trial and error, and the temperature c ′ ° C. is controlled as shown by the broken line H of the two-dot chain line in FIG. The cooling by the cooling
As a result of the temperature c ′ ° C. being 24.4 ° C., the temperature d ′ ° C. is 25.0 ° C., and the required temperature for pure water at the use point 80 (25.0 ° C.) can be satisfied.
これらのことから、温度制御されている場合(実線)は、温度制御されていない場合(
破線)と比較して、温度a’℃と温度a℃との温度差T2(0.7℃)分、例えば、蒸気
使用量が少なくて済むことから、加熱部20による加熱の程度を抑制することができる。
また、温度制御されている場合は、温度制御されていない場合と比較して、温度b’℃
と温度b℃との温度差T3(0.7℃)分、例えば、冷水使用量が少なくて済むことから
、冷却部60による冷却の程度を抑制することができる。
From these facts, when temperature is controlled (solid line), when temperature is not controlled (solid line)
Compared with the broken line), since the amount of steam used is small, for example, by the temperature difference T2 (0.7 ° C.) between the temperature a ′ ° C. and the temperature a ° C., the degree of heating by the
Further, when the temperature is controlled, the temperature b ′ ° C. is compared with the case where the temperature is not controlled.
Since the amount of cold water used is small, for example, by the temperature difference T3 (0.7 ° C.) between the temperature b and the temperature b ° C., the degree of cooling by the cooling
この結果、温度制御されている場合は、加熱及び冷却の際に使用されるエネルギーが、
温度制御されていない場合と比較して、少量ですむことから、省エネルギー効果を奏する
ことができる。
As a result, when the temperature is controlled, the energy used for heating and cooling is
Compared to the case where the temperature is not controlled, a small amount is required, so that an energy saving effect can be achieved.
ところで、温度制御されていない場合は、被処理水の前段温度上昇分と後段温度上昇分
とが無視されている。
このことから、温度制御されていない場合は、被処理水の前段温度上昇分より後段温度
上昇分の方が大きいと、温度b’℃が温度d’℃より低くなることがあり得る。
By the way, when temperature control is not carried out, the upstream temperature increase and the downstream temperature increase are ignored.
For this reason, when the temperature is not controlled, the temperature b ′ ° C. may be lower than the temperature d ′ ° C. if the amount of the subsequent-stage temperature increase is larger than the previous-stage temperature increase of the water to be treated.
これにより、温度制御されていない場合は、脱気部40の脱気時に、被処理水に溶け込
んだ窒素ガス、ヘリウムガス、アルゴンガスなどの不活性ガスの、ユースポイント80に
おける許容溶解度が減少する。
この結果、温度制御されていない場合は、ユースポイント80における許容溶解度を超
えて被処理水に溶け込んでいる分の不活性ガスが、ユースポイント80において気泡化す
ることから、純水(浄化処理済みの被処理水)を用いて洗浄などの処理が施された被処理
物に、例えば、しみなどの外観上の不具合が発生することがある。
Thereby, when the temperature is not controlled, the allowable solubility at the
As a result, if the temperature is not controlled, the inert gas that exceeds the allowable solubility at the
これに対して、温度制御されている場合は、上述したように、温度制御部90における
制御のばらつきがあっても、温度b℃が温度d℃より高くなる。
この結果、温度制御されている場合は、ユースポイント80において、被処理水の不活
性ガスの許容溶解度が、脱気部40の脱気時と比較して減少しないことから、被処理水に
溶け込んだ不活性ガスが気泡化しない。
したがって、温度制御されている場合は、ユースポイント80において、純水を用いて
洗浄などの処理が施された被処理物に、例えば、しみなどの外観上の不具合が発生するこ
とを回避できる。
On the other hand, when temperature control is performed, as described above, the temperature b ° C. is higher than the temperature d ° C. even if there is a variation in control in the
As a result, when the temperature is controlled, the allowable solubility of the inert gas in the water to be treated does not decrease at the
Therefore, when temperature control is performed, it is possible to avoid occurrence of defects in appearance such as stains on the object to be processed that has been subjected to processing such as cleaning at the
なお、上記の説明に用いた被処理水の温度は、一例であり上記の値に限定するものでは
ない。被処理水の温度は、純水製造装置1の構成、ユースポイント80からの要求温度な
どにより、適宜設定される。また、温度ばらつき分T1は、0.3℃に限定するものでは
なく、0.3℃を超える例えば、ばらつきの実態に合わせて0.4℃〜0.9℃などとし
てもよく、0.3℃を下回る例えば、0.2℃,0.1℃などとしてもよい。
In addition, the temperature of the to-be-processed water used for said description is an example, and is not limited to said value. The temperature of the water to be treated is appropriately set according to the configuration of the pure water production apparatus 1, the required temperature from the
但し、純水製造装置1は、温度ばらつき分T1が大きくなるに連れて、被処理水の加熱
、冷却の程度が高まり、使用するエネルギーが増えることから、この点を考慮して、温度
ばらつき分T1を決める必要がある。
However, the pure water production apparatus 1 increases the degree of heating and cooling of the water to be treated and increases the energy used as the temperature variation T1 increases. It is necessary to determine T1.
なお、純水製造装置1において、第1の温度検知部21は、加熱部20の近くに設けら
れることが好ましく、第2の温度検知部41は、脱気部40の近くに設けられることが好
ましい。また、第3の温度検知部61は、冷却部60の近くに設けられることが好ましく
、第4の温度検知部71は、ユースポイント80の近くに設けられることが好ましい。
In the pure water production apparatus 1, the first
上述したように、本実施形態の純水製造装置1は、第1の温度検知部21で検知された
被処理水の温度をa℃とし、第2の温度検知部41で検知された被処理水の温度をb℃と
し、第3の温度検知部61で検知された被処理水の温度をc℃とし、第4の温度検知部7
1で検知された被処理水の温度をd℃としたときに、b℃がd℃より高くなるように、且
つ第2の温度検知部41でb℃であった被処理水の温度が第4の温度検知部71でd℃と
なるように、加熱部20の加熱の程度及び冷却部60の冷却の程度を制御し、a℃及びc
℃を調整する温度制御部90を備えている。
As described above, the pure water production apparatus 1 according to the present embodiment uses the temperature of the water to be treated detected by the first
When the temperature of the water to be treated detected in 1 is d ° C., the temperature of the water to be treated which is b ° C. in the
A
したがって、純水製造装置1は、温度制御部90によって、b℃がd℃より高くなるよ
うに、且つ第2の温度検知部41でb℃であった被処理水の温度が第4の温度検知部71
でd℃となるように、確実に制御されていることから、脱気部40における脱気時に、被
処理水に溶け込んだ窒素ガス、ヘリウムガス、アルゴンガスなどの不活性ガスが、ユース
ポイント80において気泡化することがない。
この結果、純水製造装置1は、ユースポイント80において、純水を用いて洗浄などの
処理が施された被処理物に、例えば、しみなどの外観上の不具合が発生することを回避で
きる。
Therefore, in the pure water production apparatus 1, the
Therefore, the inert gas such as nitrogen gas, helium gas, and argon gas dissolved in the water to be treated at the time of deaeration in the
As a result, the pure water production apparatus 1 can avoid occurrence of defects in appearance, such as stains, on the object to be processed that has been subjected to processing such as cleaning at the
また、純水製造装置1は、第2の温度検知部41で検知された被処理水の温度b℃が、
第4の温度検知部71で検知された被処理水の温度d℃に、温度ばらつきによる温度ばら
つき分T1を加えた温度と略等しいことから、加熱部20による被処理水の加熱及び冷却
部60による被処理水の冷却が、必要最小限に近いレベルで行われ、効率的な温度制御が
なされている。
したがって、純水製造装置1は、加熱及び冷却の際に使用されるエネルギーが、本来必
要な量より過剰に使用されることを回避できることから、省エネルギー効果を奏する。
Moreover, the pure water manufacturing apparatus 1 has the temperature bC of the to-be-processed water detected by the 2nd
Since the temperature of the water to be treated detected by the fourth
Therefore, the pure water production apparatus 1 can avoid the excessive use of the energy used for heating and cooling from the originally required amount, and thus has an energy saving effect.
また、純水製造装置1は、第2の温度検知部41で検知された被処理水の温度b℃が、
第4の温度検知部71で検知された被処理水の温度d℃に0.3℃を加えた温度である。
この結果、純水製造装置1は、第2の温度検知部41で検知された被処理水の温度b℃
と、第4の温度検知部71で検知された被処理水の温度d℃との温度差が、0.3℃より
大きい場合と比較して、加熱部20による被処理水の加熱及び冷却部60による被処理水
の冷却が、より効率的に制御されている。
したがって、純水製造装置1は、第2の温度検知部41で検知された被処理水の温度b
℃と、第4の温度検知部71で検知された被処理水の温度d℃との温度差が、0.3℃よ
り大きい場合と比較して、加熱及び冷却の際に使用されるエネルギーを、低減することが
できる。
Moreover, the pure water manufacturing apparatus 1 has the temperature bC of the to-be-processed water detected by the 2nd
This is a temperature obtained by adding 0.3 ° C. to the temperature d ° C. of the water to be treated detected by the
As a result, the deionized water production apparatus 1 has the temperature b.degree. C. of the water to be treated detected by the
And the temperature difference with the temperature dC of the to-be-processed water detected by the 4th
Accordingly, the pure water production apparatus 1 is configured to treat the temperature b of the water to be treated detected by the second
The energy used for heating and cooling is compared with the case where the temperature difference between the ° C and the temperature d ° C of the water to be treated detected by the
また、純水製造装置1は、加熱部20と脱気部40との間に、被処理水を濾過する濾過
部30が設けられていることから、濾過部30により、脱気部40での脱気前の被処理水
を濾過することができる。
この結果、純水製造装置1は、被処理水に含まれている微生物や異物などの不純物が除
去され、被処理水の純度が向上することから、脱気部40による脱気を効率的及び確実に
行うことができる。
Moreover, since the pure water manufacturing apparatus 1 is provided with the
As a result, the pure water producing apparatus 1 removes impurities such as microorganisms and foreign matters contained in the water to be treated, and improves the purity of the water to be treated. It can be done reliably.
また、純水製造装置1は、脱気部40が窒素ガスにより被処理水の脱気を行うことから
、安価で入手が容易な窒素ガスの使用によって、低コストで定常的に脱気を行うことがで
きる。
Moreover, since the
また、純水製造装置1は、脱気部40が元素周期表におけるVIII族の不活性ガスである
ヘリウムガス、アルゴンガスなどにより被処理水の脱気を行うことから、ヘリウムガス、
アルゴンガスなどの特性によって、例えば、窒素ガスと比較して、品質的により安定した
脱気を行うことができる。
Moreover, since the
Due to characteristics such as argon gas, for example, degassing more stable in quality can be performed as compared with nitrogen gas.
また、純水製造装置1の制御方法は、第1の温度検知部21で検知された被処理水の温
度をa℃とし、第2の温度検知部41で検知された被処理水の温度をb℃とし、第3の温
度検知部61で検知された被処理水の温度をc℃とし、第4の温度検知部71で検知され
た被処理水の温度をd℃としたときに、b℃がd℃より高くなるように、且つ第2の温度
検知部41でb℃であった被処理水の温度が第4の温度検知部71でd℃となるように、
温度制御部90によって加熱部20の加熱の程度及び冷却部60の冷却の程度を制御し、
a℃及びc℃を調整する。
Moreover, the control method of the pure water manufacturing apparatus 1 sets the temperature of the to-be-processed water detected by the 1st
The degree of heating of the
Adjust a ° C and c ° C.
したがって、純水製造装置1の制御方法は、b℃がd℃より高くなるように、且つ第2
の温度検知部41でb℃であった被処理水の温度が第4の温度検知部71でd℃となるよ
うに、確実に制御していることから、脱気部40における脱気時に、被処理水に溶け込ん
だ例えば、窒素ガス、ヘリウムガス、アルゴンガスなどの不活性ガスが、ユースポイント
80において気泡化することがない。
これにより、純水製造装置1の制御方法は、ユースポイント80において、純水を用い
て洗浄などの処理が施された被処理物に、例えば、しみなどの外観上の不具合が発生する
ことを回避できる。
Therefore, the control method of the pure water production apparatus 1 is such that b ° C. is higher than d ° C. and the second
Since the temperature of the water to be treated which was b ° C. in the
As a result, the control method of the pure water production apparatus 1 indicates that, at the
また、純水製造装置1の制御方法は、第2の温度検知部41で検知された被処理水の温
度b℃が、温度ばらつきによる温度ばらつき分T1を、第4の温度検知部71で検知され
た被処理水の温度d℃に加えた温度と略等しいことから、加熱部20による被処理水の加
熱及び冷却部60による被処理水の冷却を効率的に制御できる。
したがって、純水製造装置1の制御方法は、加熱及び冷却の際に使用されるエネルギー
が、本来必要な量より過剰に使用されることを回避できる。
Moreover, the control method of the pure water production | generation apparatus 1 detects the temperature variation T1 by the temperature b of the to-be-processed water detected by the 2nd
Therefore, the control method of the pure water production apparatus 1 can avoid that the energy used for heating and cooling is used in excess of the originally required amount.
また、純水製造装置1の制御方法は、第2の温度検知部41で検知された被処理水の温
度b℃が、第4の温度検知部71で検知された被処理水の温度d℃に0.3℃を加えた温
度である。
このことから、純水製造装置1の制御方法は、第2の温度検知部41で検知された被処
理水の温度b℃と、第4の温度検知部71で検知された被処理水の温度d℃との温度差が
、0.3℃より大きい場合と比較して、加熱部20による被処理水の加熱及び冷却部60
による被処理水の冷却を、より効率的に制御できる。
したがって、純水製造装置1の制御方法は、第2の温度検知部41で検知された被処理
水の温度b℃と、第4の温度検知部71で検知された被処理水の温度d℃との温度差が、
0.3℃より大きい場合と比較して、加熱及び冷却の際に使用されるエネルギーを低減す
ることができる。
Moreover, the control method of the pure water manufacturing apparatus 1 is the temperature dC of the to-be-processed water detected by the 4th
From this, the control method of the pure water production apparatus 1 includes the temperature b ° C. of the water to be treated detected by the
The cooling of the water to be treated can be controlled more efficiently.
Therefore, the method for controlling the pure water production apparatus 1 includes the temperature b ° C. of the water to be treated detected by the
Compared to the case of greater than 0.3 ° C., the energy used for heating and cooling can be reduced.
1…純水製造装置、10…貯水槽、20…加熱部、21…第1の温度検知部、30…濾
過部、40…脱気部、41…第2の温度検知部、50…サブタンク、60…冷却部、61
…第3の温度検知部、70…サブシステム部、71…第4の温度検知部、80…ユースポ
イント。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Pure water manufacturing apparatus, 10 ... Water storage tank, 20 ... Heating part, 21 ... 1st temperature detection part, 30 ... Filtration part, 40 ... Deaeration part, 41 ... 2nd temperature detection part, 50 ... Sub tank, 60 ... Cooling section, 61
... third temperature detection unit, 70 ... subsystem unit, 71 ... fourth temperature detection unit, 80 ... use point.
Claims (11)
、前記脱気部を通過後の前記被処理水を冷却する冷却部と、前記冷却部を通過後の前記被
処理水を2次処理するサブシステム部とを備えた純水製造装置であって、
前記脱気部と前記冷却部との間に設けられ、前記脱気部を通過後の前記被処理水の温度
を検知する第2の温度検知部と、
前記サブシステム部と前記サブシステム部を通過後の前記被処理水が使用されるユース
ポイントとの間に設けられ、前記サブシステム部を通過後の前記被処理水の温度を検知す
る第4の温度検知部とを有し、
前記第2の温度検知部で検知された前記被処理水の温度をbとし、
前記第4の温度検知部で検知された前記被処理水の温度をdとしたときに、
前記bが前記dより高くなるように、前記加熱部の加熱の程度を制御し、且つ前記第2
の温度検知部でbであった前記被処理水の温度が前記第4の温度検知部でdとなるように
、前記冷却部の冷却の程度を制御する温度制御部を備えたことを特徴とする純水製造装置
。 A heating unit that heats the water to be treated, a deaeration unit that degass the water to be treated after passing through the heating unit, a cooling unit that cools the water to be treated after passing through the deaeration unit, and A pure water producing apparatus comprising a subsystem unit for secondary treatment of the water to be treated after passing through a cooling unit,
A second temperature detection unit that is provided between the deaeration unit and the cooling unit and detects the temperature of the water to be treated after passing through the deaeration unit;
Provided between the subsystem unit and a use point where the treated water after passing through the subsystem unit is used, and detecting a temperature of the treated water after passing through the subsystem unit. A temperature detection unit,
The temperature of the water to be treated detected by the second temperature detector is b,
When the temperature of the water to be treated detected by the fourth temperature detector is d,
The degree of heating of the heating unit is controlled so that b is higher than d, and the second
And a temperature control unit that controls the degree of cooling of the cooling unit so that the temperature of the treated water that is b in the temperature detection unit is d in the fourth temperature detection unit. Pure water production equipment.
前記加熱部を通過後の前記被処理水の温度を検知する第1の温度検知部と、
前記冷却部と前記サブシステム部との間に設けられ、前記冷却部を通過後の前記被処理
水の温度を検知する第3の温度検知部とをさらに備え、
前記第1の温度検知部で検知された前記被処理水の温度をaとし、
前記第3の温度検知部で検知された前記被処理水の温度をcとしたときに、
前記温度制御部が、前記bが前記dより高くなるように、前記加熱部を制御して前記a
を調整し、且つ前記第2の温度検知部でbであった前記被処理水の温度が前記第4の温度
検知部でdとなるように、前記冷却部を制御して前記cを調整することを特徴とする純水
製造装置。 In the pure water manufacturing apparatus according to claim 1, provided between the heating unit and the deaeration unit,
A first temperature detection unit for detecting the temperature of the water to be treated after passing through the heating unit;
A third temperature detection unit that is provided between the cooling unit and the subsystem unit and detects a temperature of the water to be treated after passing through the cooling unit;
The temperature of the treated water detected by the first temperature detector is a,
When the temperature of the treated water detected by the third temperature detection unit is c,
The temperature control unit controls the heating unit so that b is higher than d, and the a
And the c is adjusted by controlling the cooling unit so that the temperature of the water to be treated which is b in the second temperature detection unit becomes d in the fourth temperature detection unit. The pure water manufacturing apparatus characterized by the above-mentioned.
ばらつきによる温度ばらつき分を加えたことを特徴とする純水製造装置。 3. The pure water producing apparatus according to claim 1, wherein the b is obtained by adding a temperature variation due to the temperature variation of the b to the b.
で0℃〜0.3℃の範囲の温度を加えたことを特徴とする純水製造装置。 3. The pure water producing apparatus according to claim 1, wherein the b is obtained by adding a temperature in the range of 0 ° C. to 0.3 ° C. in terms of Celsius to the d.
との間に、前記被処理水を濾過する濾過部が設けられていることを特徴とする純水製造装
置。 The pure water manufacturing apparatus according to any one of claims 1 to 4, wherein a filtration unit that filters the water to be treated is provided between the heating unit and the deaeration unit. Pure water production equipment.
より前記被処理水の脱気を行うことを特徴とする純水製造装置。 The pure water manufacturing apparatus as described in any one of Claims 1-5 WHEREIN: The said deaeration part performs the deaeration of the said to-be-processed water by nitrogen gas, The pure water manufacturing apparatus characterized by the above-mentioned.
におけるVIII族の不活性ガスにより、前記被処理水の脱気を行うことを特徴とする純水製
造装置。 In the pure water manufacturing apparatus according to any one of claims 1 to 5, the deaeration part deaerates the to-be-treated water with a group VIII inert gas in the periodic table of elements. Pure water production equipment.
、前記脱気部を通過後の前記被処理水を冷却する冷却部と、前記冷却部を通過後の前記被
処理水を2次処理するサブシステム部とを備えた純水製造装置の制御方法であって、
前記純水製造装置が、前記脱気部と前記冷却部との間に設けられ、前記脱気部を通過後
の前記被処理水の温度を検知する第2の温度検知部と、
前記サブシステム部と前記サブシステム部を通過後の前記被処理水が使用されるユース
ポイントとの間に設けられ、前記サブシステム部を通過後の前記被処理水の温度を検知す
る第4の温度検知部と、
前記被処理水の温度を制御する温度制御部とを有し、
前記第2の温度検知部で検知された前記被処理水の温度をbとし、
前記第4の温度検知部で検知された前記被処理水の温度をdとしたときに、
前記温度制御部によって、前記bが前記dより高くなるように、前記加熱部の加熱の程
度を制御し、且つ前記第2の温度検知部でbであった前記被処理水の温度が前記第4の温
度検知部でdとなるように、前記冷却部の冷却の程度を制御することを特徴とする純水製
造装置の制御方法。 A heating unit that heats the water to be treated, a deaeration unit that degass the water to be treated after passing through the heating unit, a cooling unit that cools the water to be treated after passing through the deaeration unit, and A method for controlling a pure water production apparatus comprising a subsystem unit for secondary treatment of the water to be treated after passing through a cooling unit,
A second temperature detection unit that is provided between the deaeration unit and the cooling unit, and that detects the temperature of the water to be treated after passing through the deaeration unit;
Provided between the subsystem unit and a use point where the treated water after passing through the subsystem unit is used, and detecting a temperature of the treated water after passing through the subsystem unit. A temperature detector;
A temperature control unit for controlling the temperature of the water to be treated,
The temperature of the water to be treated detected by the second temperature detector is b,
When the temperature of the water to be treated detected by the fourth temperature detector is d,
The temperature control unit controls the degree of heating of the heating unit such that b is higher than the d, and the temperature of the water to be treated which is b in the second temperature detection unit is the first 4. The method for controlling a pure water producing apparatus, wherein the degree of cooling of the cooling unit is controlled so as to be d in the temperature detecting unit 4.
と前記脱気部との間に設けられ、前記加熱部を通過後の前記被処理水の温度を検知する第
1の温度検知部と、
前記冷却部と前記サブシステム部との間に設けられ、前記冷却部を通過後の前記被処理
水の温度を検知する第3の温度検知部とをさらに備え、
前記第1の温度検知部で検知された前記被処理水の温度をaとし、
前記第3の温度検知部で検知された前記被処理水の温度をcとしたときに、
前記温度制御部によって、前記bが前記dより高くなるように、前記加熱部を制御して
前記aを調整し、且つ前記第2の温度検知部でbであった前記被処理水の温度が前記第4
の温度検知部でdとなるように、前記冷却部を制御して前記cを調整することを特徴とす
る純水製造装置の制御方法。 The method for controlling a pure water production apparatus according to claim 8, wherein the pure water production apparatus is provided between the heating unit and the deaeration unit, and the temperature of the water to be treated after passing through the heating unit. A first temperature detection unit for detecting
A third temperature detection unit that is provided between the cooling unit and the subsystem unit and detects a temperature of the water to be treated after passing through the cooling unit;
The temperature of the treated water detected by the first temperature detector is a,
When the temperature of the treated water detected by the third temperature detection unit is c,
The temperature control unit controls the heating unit to adjust the a so that the b is higher than the d, and the temperature of the water to be treated which is b in the second temperature detection unit is The fourth
The method for controlling a pure water producing apparatus is characterized by adjusting the c by controlling the cooling unit so that the temperature detection unit becomes d.
記bの温度ばらつきによる温度ばらつき分を加えたことを特徴とする純水製造装置の制御
方法。 10. The method for controlling a pure water production apparatus according to claim 8, wherein b is obtained by adding a temperature variation due to temperature variation of b to b.
ルシウス度で0℃〜0.3℃の範囲の温度を加えたことを特徴とする純水製造装置の制御
方法。 The method for controlling a pure water production apparatus according to claim 8 or 9, wherein the b is obtained by adding a temperature in the range of 0 ° C to 0.3 ° C in Celsius degree to the d. Control method of the device.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US7475708P | 2008-06-23 | 2008-06-23 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010000503A true JP2010000503A (en) | 2010-01-07 |
Family
ID=41600280
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009143982A Withdrawn JP2010000503A (en) | 2008-06-23 | 2009-06-17 | Pure water production apparatus and method of controlling pure water production apparatus |
Country Status (1)
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JP (1) | JP2010000503A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013202581A (en) * | 2012-03-29 | 2013-10-07 | Kurita Water Ind Ltd | Ultrapure water production apparatus |
JP2020131140A (en) * | 2019-02-21 | 2020-08-31 | 株式会社トリケミカル研究所 | Dissolved gas removing method and dissolved gas removing device |
-
2009
- 2009-06-17 JP JP2009143982A patent/JP2010000503A/en not_active Withdrawn
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013202581A (en) * | 2012-03-29 | 2013-10-07 | Kurita Water Ind Ltd | Ultrapure water production apparatus |
JP2020131140A (en) * | 2019-02-21 | 2020-08-31 | 株式会社トリケミカル研究所 | Dissolved gas removing method and dissolved gas removing device |
JP7328486B2 (en) | 2019-02-21 | 2023-08-17 | 株式会社トリケミカル研究所 | Dissolved gas removal method and dissolved gas removal device |
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