JP2009514012A5 - - Google Patents

Claims (28)

1. 加工物上にパターンを生成するとき、ムラ効果を減らすための方法であって、
   少なくとも一つの光書込みユニットに加工物表面の全域を走査させて画素格子を創成する工程を含み、前記画素格子は、パターンの特徴軸に対してある角度に配置してあり、そこで少なくとも一つ光書込みユニットの走査の軸方向およびパターンの特徴軸は、前記画素格子の単一画素を加工物上の隣接するパターン画素の縁上にプリントしないようになっている方法。
2. 請求項１に記載の方法に於いて、前記走査工程が少なくとも二つの等距離走査ラインを創成する方法。
3. 請求項１に記載の方法に於いて、前記走査工程を少なくとも二つの方向で行う方法。
4. 請求項１に記載の方法に於いて、前記少なくとも一つの光書込みユニットが少なくとも一つの空間変調器を有する方法。
5. 請求項３に記載の方法に於いて、前記最小の一つの空間光変調器の軸の少なくとも一つが前記パターンの特徴軸に関して斜めである方法。
6. 請求項３に記載の方法に於いて、前記走査工程を二つの方向で行い、並びに前記パターンの特徴軸、前記空間光変調器の軸、および上記走査の方向が非平行である方法。
7. 加工物上にパターンを発生するための書込み装置であって、
   画素格子を創成するために加工物表面の全域を走査するように構成した少なくとも一つの光書込みユニットを含む書込みヘッドを含み、前記画素格子は、パターンの特徴軸に対してある角度に配置してあり、そこで前記画素格子の軸およびパターンの特徴軸は、画素格子の単一画素を加工物上の隣接するパターン画素の縁上にプリントせず、前記画素格子の単一画素列にプリントしないようになっている装置。
8. 請求項７に記載の装置に於いて、前記書込みヘッドが走査中少なくとも二つの等距離走査ラインを創成するように構成してある装置。
9. 請求項７に記載の装置に於いて、前記書込みヘッドが前記加工物を少なくとも二方向に走査するように構成してある装置。
10. 請求項７に記載の装置に於いて、前記少なくとも一つの光書込みユニットが少なくとも一つの画素行を有する装置。
11. 請求項７に記載の装置に於いて、前記少なくとも一つの光書込みユニットが少なくとも一つの空間光変調器を有する装置。
12. 請求項７に記載の装置に於いて、前記少なくとも一つの空間光変調器が一次元的である装置。
13. 請求項７に記載の装置に於いて、前記少なくとも一つの光書込みユニットが少なくとも一つのＳＬＭを有し且つ前記加工物を少なくとも二方向に走査するように構成してあり、並びにこの走査方向、このＳＬＭの軸および前記パターンの特徴軸が非平行である装置。
14. ロータスキャナシステムを使って加工物上にパターンを発生するとき、ムラ効果を減らすための方法であって、
    各々電磁放射線を出す複数の光書込みユニットを有するロータスキャナを回転する工程、および
    前記複数の書込みユニットの少なくとも一つの光書込みユニットに加工物表面の全域を走査させて、画素格子を創成する工程を含み、該画素格子は、このパターンの特徴軸に対してある角度に配置してあり、そこで前記画素格子の軸およびパターンの特徴軸を、画素格子の単一画素を加工物上の隣接するパターン画素の縁上にプリントしないように、互いに対して回転する方法。
15. 請求項１４に記載の方法に於いて、前記少なくとも一つの光書込みユニットが少なくとも一つの画素列を有し、および前記列が前記パターンの特徴に対して斜めである方法。
16. 請求項１４に記載の方法に於いて、前記電磁放射線を前記ロータスキャナに関して半径方向に出す方法。
17. 請求項１４に記載の方法に於いて、前記電磁放射線を前記ロータスキャナに関して軸方向に出す方法。
18. 請求項１４に記載の方法に於いて、前記加工物を走査する工程が、
    画素格子を創成するために前記加工物を第１方向に走査する工程を含み、前記画素格子を第１方向と前記画素格子の軸との少なくとも一つに対してある角度を成して創成し、該角度は０°、４５°または９０°とは異なる方法。
19. 請求項１４に記載の方法に於いて、前記加工物を走査する工程が、
    上記加工物で第１方向に走査して前記加工物上に螺旋パターンを創成する工程を含む方法。
20. 請求項１４に記載の装置に於いて、前記電磁放射線を、前記ロータスキャナの回転面と前記ロータスキャナの走査方向との少なくとも一つと平行な方向に出す装置。
21. 請求項１４に記載の装置に於いて、前記加工物上に発生したパターンが複数の等距離走査ラインを含む装置。
22. 加工物上にパターンを発生するための書込み装置であって、
    各々電磁放射線を出す複数の光書込みユニットを含むロータスキャナを含み、このロータスキャナは、この複数の光書込みユニットの少なくとも一つにこの加工物表面の全域を走査させて、画素格子を創成するように構成してあり、この画素格子は、このパターンの特徴軸に対してある角度に配置してあり、そこでこの少なくとも一つの光書込みユニットの軸およびこのパターンの特徴軸を、この画素格子の単一画素をこの加工物上の隣接するパターン画素の縁上にプリントしないように、互いに対して回転する装置。
23. 請求項２２に記載の装置に於いて、前記電磁放射線を前記ロータスキャナに関して半径方向に出す装置。
24. 請求項２２に記載の装置に於いて、前記電磁放射線を前記ロータスキャナに関して軸方向に出す装置。
25. 請求項２２に記載の装置に於いて、前記ロータスキャナが走査中に前記加工物上に螺旋パターンを創成する装置。
26. 請求項２２に記載の装置に於いて、前記電磁放射線を、前記ロータスキャナの回転面と前記ロータスキャナの走査方向との少なくとも一つと平行な方向に出す装置。
27. 請求項２２に記載の装置に於いて、前記加工物上に発生したパターンが複数の等距離走査ラインを含む装置。
28. 加工物にパターン付けするときムラ効果を減らすための方法であって、
    少なくとも一つの光書込みユニットに加工物表面の全域を走査させて画素格子を創成する工程にして、前記画素格子は、パターンの特徴軸に対してある角度に配置してあり、そこでこの少なくとも一つの光書込みヘッドの軸およびこのパターンの特徴軸を、前記画素格子の単一画素を加工物上の隣接するパターン画素の縁上にプリントしないように、互いに対して回転する工程、
    前記加工物および複数の光書込みユニットを互いに対して動かし、この相対運動が直線運動と該直線運動に垂直な方向の円運動との組合わせである工程を含む方法。