JP2009502566A - 太陽放射に作用する薄膜積層を備えたグレージング - Google Patents
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Abstract
Description
−一方においては、エナメルの焼成は必然的に積層を高温の熱処理に付すことを意味し、それは積層がこの処理中に光学的に品質が低下する可能性がない場合にのみ可能であり、そして、
−他方では、時間とともにエナメルは化学物資を放出する傾向にあり、それが下にある膜中に拡散し、そしてそれらを化学的に変えてしまう。
この例では、TiO2潤滑膜およびSi3N4副膜を以下のひと続きで用いている。
ガラス/Si3N4(25nm)/TiO2(20nm)
膜を堆積した後に、基材は次の熱処理をする:620℃で10分間加熱。
この例では例1と同じ潤滑膜および同じ副膜を用いており、以下のひと続きで追加的なSiO2の上層を備えている。
ガラス/Si3N4(20nm)/TiO2(20nm)/SiO2(5nm)
−光透過率 TL:D65光源での%で表した光透過率、
−外部反射(すなわち、被覆されたガラスを部屋に、積層を面2に備えた一体の(monolithic)グレージングとして取り付けた場合に、外側において測定したもの:%で表した外部反射(RLEXT);a* (REXT)、b* (REXT)、(L*、a*、b*)測色系による外部反射における色の座標、
−内部反射:%で表したRLINTおよび測色データa* (RINT)、b* (RINT)、および
−エネルギー透過率:%で表したTE。
ΔE*=(ΔL*2+Δa*2+Δb*2)1/2
Δa*=a*(処理後)−a*(処理前)
Δb*=b*(処理後)−b*(処理前)
ΔL*=L*(処理後)−L*(処理前)
Claims (15)
- 太陽放射に作用する薄膜積層を備えた透明の基材、特にガラス基材であって、積層はマグネトロンスパッタリングによって堆積され、前記積層が光学的指標nの高い潤滑膜を少なくとも含み、この潤滑膜は少なくとも1つの副膜を伴い、この副膜が窒化ケイ素もしくは酸窒化ケイ素もしくは炭窒化ケイ素をベースとするか、あるいはアルミニウムおよび/またはジルコニウムの窒化物もしくは酸窒化物もしくは炭窒化物あるいはそれらの化合物の2つ以上の混合物(混合されたSi−AlまたはSi−Zrの窒化物もしくは酸窒化物もしくは炭窒化物)をベースとする、ことを特徴とする基材。
- 太陽放射に作用する薄膜積層を備えた透明の基材であって、前記積層が部分的にまたは全体が酸化金属をベースにした少なくとも1つの潤滑膜を含み、前記金属がチタンとジルコニウムからなる群に属し、前記潤滑膜が少なくとも1つの副層を伴い、この副層が窒化ケイ素もしくは酸窒化ケイ素もしくは炭窒化ケイ素をベースとするか、あるいはアルミニウムおよび/またはジルコニウムの窒化物もしくは酸窒化物もしくは炭窒化物あるいはそれらの化合物の2つ以上の混合物(混合されたSi−AlまたはSi−Zrの窒化物もしくは酸窒化物もしくは炭窒化物)をベースとする、ことを特徴とする基材。
- 前記積層が、潤滑膜の上に、更に少なくとも1つの、透明な誘電体で出来た上層を含み、この誘電体が窒化ケイ素および/または窒化アルミニウム、酸窒化ケイ素および/または酸窒化アルミニウムおよび酸化ケイ素から選ばれることを特徴とする請求項1または2記載の基材。
- 前記積層が、基材と機能性膜の間に複数の副層を含み、この副層が特に高屈折率膜と低屈折率膜の交互構造であって、Si3N4/SiO2、またはSi3N4/SiO2/Si3N4などであることを特徴とする請求項1から3のいずれか1項記載の基材。
- 前記潤滑膜が、5から50nmの範囲の厚さ、特に5から30nmの範囲の厚さを有することを特徴とする請求項1から4のいずれか1項記載の基材。
- 前記副層の厚さが、5から70nmの範囲、特に10から35nmの範囲の厚さであることを特徴とする請求項1から5のいずれか1項記載の基材。
- 任意である上層の厚さが、好ましくは1から10nmの範囲、特に2から7nmの範囲であることを特徴とする請求項1から6のいずれか1項記載の基材。
- 前記積層が、酸化チタンの潤滑膜、窒化ケイ素の副層および、任意であるが窒化ケイ素または二酸化ケイ素から作られた上層を用いていることを特徴とする請求項1から7のいずれか1項記載の基材。
- 曲げることができ、強化でき、および/またはエナメル加工できることを特徴とする請求項1から8のいずれか1項記載の基材。
- 透明のもしくは全体が着色されたガラスでできている、または柔軟なもしくは硬い、透明のポリマー材料でできていることを特徴とする請求項1から9のいずれか1項記載の基材。
- 請求項1から10のいずれか1項記載の基材を組み込んだ一体のまたは二重のグレージングであって、薄膜積層が好ましくは面2上にあり、その番号はグレージングが区画または部屋に取り付けられたときに、基材の表面に外側から内側に振られていて、薄膜積層がグレージングに太陽放射防御効果を与えることを特徴としたグレージング。
- 50から80%、または60から75%の光透過率TLを有し、また太陽係数SFがTL値に近似していることを特徴とする請求項10記載のグレージング。
- 基材側において外部反射が青または緑であり、好ましくは負のa*およびb*値を有することを特徴とする請求項10または11記載のグレージング。
- ラッカーまたはエナメルの形態の被覆によって少なくとも部分的に不透明化されていることを特徴とする請求項1から9のいずれか1項記載の基材。
- 請求項14記載の不透明化された基材を含むカーテンウォールタイプの壁−被覆加工パネル。
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