JP2009300560A - Manufacturing method of hologram self-adhering label, hologram self-adhesion label, and medium with hologram - Google Patents

Manufacturing method of hologram self-adhering label, hologram self-adhesion label, and medium with hologram Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a manufacturing method of a hologram self-adhering label that has an antifouling protective layer on its outermost surface, is easily stuck and fixed to the adhering object, is removed when desired, and is stuck (fixed) again, and also to provide the hologram self-adhesion label, and a medium with a hologram. <P>SOLUTION: This manufacturing method comprises: (1) a preparing process of a hologram transfer foil 10; (2) a preparing process of the self-adhering label 20; (3) a stacking process of stacking the hologram transfer foil 10 and the self-adhering label 20; (4) an exposing process of exposing a peeling layer 13 surface; and (5) an antifouling protective layer forming process of disposing the antifouling protective layer 14 on the exposed peeling layer 13. The antifouling protective layer 14 includes ionizing radiation curable resin, and fluoride-based and/or silicon-based compound having, at its terminal, one functional group reactable with the ionizing radiation curable resin, and is cured by irradiation of ionizing radiation. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、ホログラム自己粘着ラベルに関し、さらに詳しくは、被貼着体へ容易に貼着して固定でき、所望時には取り外し、さらに、再貼着(固定)することができるホログラム自己吸着ラベルの製造方法、ホログラム自己粘着ラベル、及びホログラム付き媒体に関するものである。   The present invention relates to a hologram self-adhesive label, and more particularly, to produce a hologram self-adsorption label that can be easily attached and fixed to an adherend, and can be removed and reattached (fixed) when desired. The present invention relates to a method, a hologram self-adhesive label, and a medium with a hologram.

本明細書において、配合を示す「比」、「部」、「%」などは特に断わらない限り質量基準であり、「/」印は一体的に積層されていることを示す。また、「PET」は「ポリエチレンテレフタレート」、「印字」は「印画」の略語、同意語、機能的表現、通称、又は業界用語である。   In the present specification, “ratio”, “part”, “%” and the like indicating the composition are based on mass unless otherwise specified, and the “/” mark indicates that they are integrally laminated. “PET” is an abbreviation, synonym, functional expression, common name, or industry term for “polyethylene terephthalate” and “printing” for “printing”.

(主なる用途)本発明のホログラム自己吸着ラベル40を被貼着体101へ貼着してなるホログラム付き媒体100の主なる用途としては、社員証、会員証及び学生証などのIDカードや、液晶ディスプレー装置などであり、タッチパネルに好適である。しかしながら、被貼着体へ容易に貼着して固定でき、所望時には取り外し、さらに、再貼着(固定)することができ、最表面が保護性と共に防汚性を必要とする用途であれば、特に限定されるものではない。   (Main application) As the main application of the hologram-including medium 100 formed by adhering the hologram self-adsorption label 40 of the present invention to the adherend 101, ID cards such as employee cards, membership cards and student cards, A liquid crystal display device or the like, which is suitable for a touch panel. However, if it is an application that can be easily attached and fixed to an adherend, can be removed and reattached (fixed) when desired, and the outermost surface needs protection and antifouling properties There is no particular limitation.

(背景技術)従来、パソコン、携帯端末、携帯電話などでは情報を画像として表示し、該画像は、通常、ディスプレー装置(画像表示装置)を用いて表示している。ディスプレー装置は、例えば液晶ディスプレーや有機エレクトロルミネッセンスディスプレーなどで、ディスプレーモジュールに光出射面を被覆する光学部材とから構成されている。該光学部材はガラス又はフィルム状であり、使用者はこれを通して画像を見たり、タッチパネルであれば触れて操作を行う。即ち、使用者が直接接触したり、不作為に接触したりするので、多数回の繰返しでは表面に汚れが付着したり、スリキズが付き易くなり、その結果、ディスプレイの画質の低下をもたらすため、表面の保護性と共に表面の防汚性も必要である。また、普及が進んだ携帯電話などでは、画像表示部を保護すると同時に、自分好みの装飾を施すことが求められ、保護機能及び/又は装飾機能を粘着ラベルを用いて行っているが、容易に貼着して固定できるが気泡が巻き込み易く、所望時にも取り外しができず、更に再貼着(固定)することもできない。さらに、例えば、IDカードでは媒体の表面へ文字、数字、顔写真等のような画像が形成される。これらの画像の形成は、近年、所謂溶融転写タイプ又は昇華転写タイプのインクリボンを用いて熱転写又は昇華転写による転写法で行われることが多い。該転写法は基材シート上に着色転写層を形成した熱転写シートにおいて、その背面からサーマルヘッドなどにより、画像状に加熱して、上記の着色転写層を熱転写受像シートの表面に熱転写して、画像形成するものである。この熱転写方法は、その着色転写層の構成によって、昇華転写型と熱溶融転写型の二方式に大別され、両方式ともに、フルカラー画像の形成が可能である。特に、昇華転写型の熱転写シートで画像形成した場合、顔写真等の階調性画像を精密に形成することができるが、通常の印刷インキによる画像とは異なり、耐候性、耐摩擦性、耐薬品性等の耐久性に欠ける弱点がある。その解決策として、熱転写画像上に熱転写性樹脂層を有する保護層熱転写フィルムを重ね合わせ、サーマルヘッドや加熱ロール等を用いて、透明性を有する熱転写性樹脂層を転写させ、画像上に保護層を形成することが行われている。上記の保護層はサーマルヘッドまたは熱ロールによる転写時に、部分的に転写する必要があることから、箔切れ性を有する必要がある。この場合、保護層を数ミクロン程度の厚さの樹脂膜にせざるを得ないことから、強靱な耐擦傷性、耐薬品性等の耐久性を持たせることが出来ない。上記の保護層に装飾を施すこともできるが、固定図柄であり、自分好みの装飾を施すことはできない。
従って、ディスプレー装置やカードなどの媒体(被貼着体)へ容易に貼着して固定でき、所望時には取り外し、さらに、再貼着(固定)することができ、鋭利なものの接触に対しても耐擦傷性などの表面保護性に優れ、手指の脂などで汚染しにくく、かつ、自分好みの装飾を有する別のホログラム自己吸着ラベルに貼り替えることが容易にできるホログラム自己吸着ラベルの製造方法、ホログラム自己粘着ラベル、及びホログラム付き媒体が求められている。
(Background Art) Conventionally, information is displayed as an image on a personal computer, a portable terminal, a cellular phone, and the like, and the image is usually displayed using a display device (image display device). The display device is, for example, a liquid crystal display, an organic electroluminescence display, or the like, and includes a display module and an optical member that covers a light emitting surface. The optical member is in the form of glass or film, and the user views the image through this or touches the touch panel to operate it. That is, since the user directly touches or touches randomly, the surface becomes dirty and scratches easily after repeated many times, resulting in deterioration of the display image quality. In addition to the protective property, the antifouling property of the surface is also necessary. In addition, in cellular phones and the like that have been widely used, it is required to protect the image display unit and at the same time apply a decoration of your choice, and the protection function and / or decoration function is performed using an adhesive label. It can be stuck and fixed, but air bubbles are easily involved, cannot be removed when desired, and cannot be reattached (fixed). Furthermore, for example, with an ID card, images such as letters, numbers, and facial photographs are formed on the surface of the medium. In recent years, these images are often formed by a transfer method by thermal transfer or sublimation transfer using a so-called melt transfer type or sublimation transfer type ink ribbon. The transfer method is a thermal transfer sheet in which a colored transfer layer is formed on a base sheet, and is heated in an image form from the back by a thermal head or the like, and the above-described colored transfer layer is thermally transferred to the surface of the thermal transfer image receiving sheet. An image is formed. This thermal transfer method is roughly classified into two methods, a sublimation transfer type and a thermal melt transfer type, depending on the configuration of the colored transfer layer, and both methods can form a full-color image. In particular, when an image is formed with a sublimation transfer type thermal transfer sheet, a gradation image such as a facial photograph can be accurately formed, but unlike an image with a normal printing ink, weather resistance, friction resistance, There are weaknesses that lack durability such as chemical properties. As a solution, a protective layer thermal transfer film having a thermal transfer resin layer is superimposed on the thermal transfer image, and the thermal transfer resin layer having transparency is transferred using a thermal head, a heating roll, or the like, and the protective layer is formed on the image. Has been made to form. Since the protective layer described above needs to be partially transferred at the time of transfer by a thermal head or a heat roll, it needs to have a foil cutting property. In this case, since the protective layer has to be a resin film having a thickness of about several microns, durability such as tough scratch resistance and chemical resistance cannot be provided. Although the above protective layer can be decorated, it is a fixed pattern and cannot be decorated as desired.
Therefore, it can be easily attached and fixed to a medium (attachment) such as a display device or a card, and can be removed and reattached (fixed) when desired. A method for producing a hologram self-adsorption label that is excellent in surface protection such as scratch resistance, is not easily contaminated with finger grease, and can be easily replaced with another hologram self-adsorption label having a decoration of your choice, There is a need for hologram self-adhesive labels and media with holograms.

(先行技術)従来、重量平均分子量Mw、重量平均分子量と数平均分子量Mnの比、DSC分析における融解ピーク温度、及び融解熱を限定したエチレン−α−オレフィン共重合体からなる粘着層と他のポリオレフィン系樹脂からなる基材とが共押出によって一体に形成されていることを特徴とする表面保護フィルムが知られてている(例えば、特許文献1参照。)。しかしながら、これは所謂プロテクトフィルムであり、自己吸着性や再剥離性についての記載や示唆はない。
また、再剥離性能にすぐれ、装置内部に組み込まれて使用された場合でも、装置の部品に密着する接着剤の層から熱分解生成物が生成しないか、またはその熱分解生成物が残留し難い、光学フィルタが知られてている(例えば、特許文献2参照。)。しかしながら、被着面に対して再剥離性を有するようにするオレフィンベースポリマー含有接着剤を用いる光学フィルム限定であり、気泡の界面反射による光透過率低下の防止し、フィルム基材はポリカーボネ−ト、フタレート系ポリマー(ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等)、アクリル系ポリマー、塩化ビニル系ポリマー、結晶性ポリウレタン(ポリカ−ボネ−ト系ポリウレタン等)などが例示されているが、これらのフィルムは一般的な耐久性はあるものの、スクラッチによる耐擦傷性が劣るという欠点がある。
さらに、基材に(A)オキセタン化合物、(B)エポキシ化合物、(C)特定一般式のフッ素含有硬化性化合物を含有する低屈折率層が形成された反射防止積層体が知られ(例えば、特許文献3参照。)、さらにまた、支持体、蛍光体層と、紫外線または電子線硬化樹脂と、紫外線または電子線硬化樹脂と反応可能な官能基を末端に1つ以上有する反応性シリコーンとを含み、紫外線または電子線の照射によって硬化させた保護膜とをこの順に積層してなる放射線発光パネルが知られてている(例えば、特許文献4参照。)。しかしながら、特許文献3、4では、反射防止積層体又は放射線発光パネルへ直接加工しているので、所望時には取り外したり、さらに、再貼着(固定)することができず、高コストであるという欠点がある。
(Prior Art) Conventionally, an adhesive layer composed of an ethylene-α-olefin copolymer with limited weight average molecular weight Mw, ratio of weight average molecular weight to number average molecular weight Mn, melting peak temperature in DSC analysis, and heat of fusion, and other A surface protective film is known in which a base material made of a polyolefin-based resin is integrally formed by coextrusion (see, for example, Patent Document 1). However, this is a so-called protective film, and there is no description or suggestion about self-adsorption or removability.
In addition, it has excellent re-peeling performance, and even when it is incorporated and used inside the device, the thermal decomposition product is not generated from the adhesive layer that adheres to the components of the device, or the thermal decomposition product does not easily remain. An optical filter is known (for example, see Patent Document 2). However, it is limited to optical films that use an olefin-based polymer-containing adhesive that has removability to the adherend surface, preventing a decrease in light transmittance due to interface reflection of bubbles, and the film substrate is polycarbonate. Examples include phthalate polymers (polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, etc.), acrylic polymers, vinyl chloride polymers, crystalline polyurethanes (polycarbonate polyurethane, etc.). Although it has excellent durability, there is a drawback that scratch resistance due to scratching is poor.
Furthermore, an antireflective laminate in which a low refractive index layer containing (A) an oxetane compound, (B) an epoxy compound, and (C) a fluorine-containing curable compound having a specific general formula is formed on a substrate is known (for example, Further, a support, a phosphor layer, an ultraviolet ray or an electron beam curable resin, and a reactive silicone having at least one functional group capable of reacting with the ultraviolet ray or the electron beam curable resin at the terminal. A radiation-emitting panel is known that includes a protective film that is cured by irradiation with ultraviolet rays or electron beams in this order (see, for example, Patent Document 4). However, in Patent Documents 3 and 4, since it is directly processed into an antireflection laminate or a radiation-emitting panel, it cannot be removed or reattached (fixed) when desired, and is a high cost. There is.

特開平8−157791号公報Japanese Patent Application Laid-Open No. 8-157791 特開2004−29673号公報JP 2004-29673 A 特開2005−316415号公報JP 2005-316415 A 特開2002−174697号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2002-174697

そこで、本発明はこのような問題点を解消するためになされたものである。その目的は、液晶ディスプレー装置などの装置や社員証などの被貼着体の表面に貼着して、最表面が防汚性保護層を有する保護機能(ホログラム層)付き媒体となり、被貼着体へ容易に貼着して固定でき、所望時には取り外し、さらに、再貼着(固定)することができるホログラム自己吸着ラベルの製造方法、ホログラム自己粘着ラベル、及びホログラム付き媒体を提供する。   Accordingly, the present invention has been made to solve such problems. Its purpose is to adhere to the surface of an adherend such as a liquid crystal display device or employee ID card, and the outermost surface becomes a medium with a protective function (hologram layer) having an antifouling protective layer. Provided are a method for producing a hologram self-adsorbing label, a hologram self-adhesive label, and a hologram-attached medium that can be easily attached and fixed to a body, and can be removed and reattached (fixed) when desired.

上記の課題を解決するために、請求項1の発明に係わるホログラム自己吸着ラベルの製造方法は、(1)転写基材と、該転写基材の一方の面に剥離層、ホログラム層及び反射層からなるホログラム転写箔を準備するホログラム転写箔準備工程と、(2)ラベル基材と、該ラベル基材の一方の面に、自己吸着性かつ再剥離性のある接着層を設け、該接着層面へ剥離自在に剥離紙を設けてなる自己吸着ラベルを準備する自己吸着ラベル準備工程と、(3)前記ホログラム転写箔の反射層面と前記自己吸着ラベルのラベル基材面とを接着剤層を介して積層して積層体とする積層工程と、(4)前記積層体から前記ホログラム転写箔の転写基材を剥離し除去して、剥離層面を露出させる露出工程と、(5)該露出した剥離層面へ、防汚性保護層を設ける防汚性保護層形成工程と、からなるように、したものである。
請求項2の発明に係わるホログラム自己粘着ラベルは、請求項1に記載のホログラム自己吸着ラベルの製造方法で製造されており、前記防汚性保護層、剥離層、ホログラム層、反射層、接着剤層、ラベル基材、及び自己吸着性かつ再剥離性のある接着層からなり、前記防汚性保護層が、電離放射線硬化性樹脂と、該電離放射線硬化性樹脂と反応可能な官能基を末端に1つ以上有するフッ素系及び/又はケイ素系化合物とを含み、電離放射線の照射によって硬化されているように、したものである。
請求項3の発明に係わるホログラム付き媒体は、請求項2に記載のホログラム自己吸着ラベルの露出した接着層面を被貼着体へ貼着してなるように、したものである。
In order to solve the above-mentioned problems, a method for producing a hologram self-adsorption label according to the invention of claim 1 includes: (1) a transfer substrate, and a release layer, a hologram layer and a reflection layer on one surface of the transfer substrate. A hologram transfer foil preparing step for preparing a hologram transfer foil comprising: (2) a label base material, and a self-adsorbing and releasable adhesive layer provided on one surface of the label base material, the adhesive layer surface A self-adsorbing label preparing step for preparing a self-adsorbing label provided with release paper so that it can be peeled off, and (3) the reflective layer surface of the hologram transfer foil and the label substrate surface of the self-adsorbing label through an adhesive layer (4) an exposure step of peeling and removing the transfer substrate of the hologram transfer foil from the laminate to expose the release layer surface, and (5) the exposed peeling. An antifouling protective layer is provided on the layer surface. And antifouling protective layer forming step, so that a is obtained by.
A hologram self-adhesive label according to the invention of claim 2 is produced by the method for producing a hologram self-adsorption label according to claim 1, and the antifouling protective layer, release layer, hologram layer, reflection layer, adhesive The antifouling protective layer is terminated with an ionizing radiation curable resin and a functional group capable of reacting with the ionizing radiation curable resin. And one or more fluorine-based and / or silicon-based compounds, which are cured by irradiation with ionizing radiation.
According to a third aspect of the present invention, there is provided a hologram-including medium in which the exposed adhesive layer surface of the hologram self-adsorption label according to the second aspect is adhered to an adherend.

請求項1の本発明によれば、ホログラム転写箔10及び自己吸着ラベル20の製造、積層工程、露出工程及び防汚性保護層形成工程も、既存技術及び既存設備で製造できるので、低コストで、容易に製造することができるホログラム自己吸着ラベルの製造方法が提供される。
請求項2の本発明によれば、液晶ディスプレー装置などの装置や社員証などの被貼着体の表面に貼着して高い保護機能(防汚性保護層)、並びに、意匠及びセキュリティ機能(ホログラム層)付き媒体となり、被貼着体へ容易に貼着して固定でき、所望時には再剥離層し取り外して、再貼着(固定)でき、また、所望時には別のラベルへ貼り替えすることができ、最表面が保護性と共に防汚性も有するホログラム自己粘着ラベルが提供される。
請求項3の本発明によれば、防汚性の保護機能及び装飾機能を有するホログラム自己吸着ラベルを自分好みの装飾に貼り替えることができ、かつ、最表面が保護性と共に防汚性も有するホログラム層となって、耐擦傷性や耐溶剤性などに加えて、耐熱性や耐候性などの耐久性に優れるホログラム付き媒体が提供される。
According to the first aspect of the present invention, since the hologram transfer foil 10 and the self-adsorption label 20 can be manufactured by the existing technology and the existing equipment, the lamination process, the exposure process, and the antifouling protective layer forming process can be manufactured at low cost. A method of manufacturing a hologram self-adsorption label that can be easily manufactured is provided.
According to the second aspect of the present invention, a high protective function (antifouling protective layer) by attaching to the surface of an adherend such as a liquid crystal display device or an employee ID card, and a design and security function ( It becomes a medium with a hologram layer), which can be easily attached and fixed to the adherend, and can be removed and removed and reattached (fixed) when desired, or it can be reattached to another label when desired. Thus, a hologram self-adhesive label having an outermost surface having both a protective property and an antifouling property is provided.
According to the third aspect of the present invention, the hologram self-adsorption label having an antifouling protective function and a decorative function can be replaced with a decoration of the user's preference, and the outermost surface also has an antifouling property as well as a protective property. As a hologram layer, there is provided a hologram-including medium that is excellent in durability such as heat resistance and weather resistance in addition to scratch resistance and solvent resistance.

以下、本発明の実施形態について、図面を参照しながら、詳細に説明する。
図1は、本発明のホログラム自己吸着ラベルの製造方法に使用するホログラム転写箔の断面図である。
図2は、本発明のホログラム自己吸着ラベルの製造方法に使用する自己吸着ラベル転写箔の断面図である。
図3は、本発明のホログラム自己吸着ラベルの製造方法の積層工程を説明する断面図である。
図4は、本発明のホログラム自己吸着ラベルの製造方法の露出工程を説明する断面図である。
図5は、本発明の1実施例を示すホログラム自己吸着ラベルの断面図である。
図6は、本発明のホログラム自己吸着ラベルを被貼着体へ貼着したホログラム付き媒体の断面図である。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
FIG. 1 is a cross-sectional view of a hologram transfer foil used in the method for producing a hologram self-adsorption label according to the present invention.
FIG. 2 is a cross-sectional view of a self-adsorbing label transfer foil used in the method for producing a hologram self-adsorbing label of the present invention.
FIG. 3 is a cross-sectional view illustrating a lamination process of the method for producing a hologram self-adsorption label according to the present invention.
FIG. 4 is a cross-sectional view for explaining the exposure process of the method for producing a hologram self-adsorption label according to the present invention.
FIG. 5 is a cross-sectional view of a hologram self-adsorption label showing one embodiment of the present invention.
FIG. 6 is a cross-sectional view of a hologram-including medium in which the hologram self-adsorption label of the present invention is attached to an adherend.

(ホログラム自己粘着ラベルの製造方法)本発明のホログラム自己吸着ラベル40の製造方法は、(1)転写基材11と、該転写基材11の一方の面に剥離層13、ホログラム層15及び反射層17からなるホログラム転写箔10を準備するホログラム転写箔10準備工程と、(2)ラベル基材21と、該ラベル基材21の一方の面に、自己吸着性かつ再剥離性のある接着層29を設け、該接着層29面へ剥離自在に剥離紙23を設けてなる自己吸着ラベル20を準備する自己吸着ラベル20準備工程と、(3)前記ホログラム転写箔10の反射層17面と前記自己吸着ラベル20のラベル基材面21とを接着剤層39を介して積層して積層体30とする積層工程と、(4)前記積層体30から前記ホログラム転写箔10の転写基材11を剥離し除去して、剥離層13面を露出させる露出工程と、(5)該露出した剥離層面へ、防汚性保護層を設ける防汚性保護層形成工程と、からなる。
(ホログラム自己粘着ラベル)本発明のホログラム自己吸着ラベル40は、請求項1に記載のホログラム自己吸着ラベル40の製造方法で製造されてなるホログラム自己吸着ラベル40であって、防汚性保護層14、剥離層13、ホログラム層15、反射層17、接着剤層39、ラベル基材21、及び自己吸着性かつ再剥離性のある接着層29からなり、前記防汚性保護層14が、電離放射線硬化性樹脂と、該電離放射線硬化性樹脂と反応可能な官能基を末端に1つ以上有するフッ素系及び/又はケイ素系化合物とを含み、電離放射線の照射によって硬化されている
(ホログラム付き媒体)本発明のホログラム付き媒体100は、請求項2に記載のホログラム自己吸着ラベル40の露出した接着層29面を被貼着体101へ貼着してなる。ホログラム付き媒体100は、保護機能及び/又は装飾機能を有するホログラム自己吸着ラベルが貼着され、その最表面が防汚性保護層付きホログラム層となっているので、耐熱性、耐溶剤性や耐候性などに加えて、フィルムの欠点である鋭利なものの接触に対しても耐擦傷性に優れ、手指の脂などで汚染しにくく、かつ、自分好みの装飾を有する別のホログラム自己吸着ラベルに貼り替えることが容易にできる。また、貼着に失敗した場合にも、同じホログラム自己吸着ラベルを剥離し、再度貼り直すことも容易にできる。
(Method for Producing Hologram Self-Adhesive Label) The method for producing the hologram self-adhesive label 40 of the present invention is as follows: (1) the transfer substrate 11, the release layer 13, the hologram layer 15 and the reflection on one surface of the transfer substrate 11. Hologram transfer foil 10 preparation step for preparing the hologram transfer foil 10 composed of the layer 17; (2) a label base material 21 and a self-adsorbing and releasable adhesive layer on one surface of the label base material 21 29, and a self-adsorbing label 20 preparation step for preparing a self-adsorbing label 20 having a release paper 23 provided on the surface of the adhesive layer 29 so as to be peelable, (3) the reflective layer 17 surface of the hologram transfer foil 10 and the surface A laminating step of laminating the label substrate surface 21 of the self-adsorbing label 20 via the adhesive layer 39 to form a laminate 30, and (4) the transfer substrate 11 of the hologram transfer foil 10 from the laminate 30. Peeling And removed, the exposing step to expose the peeling layer 13 side, (5) said exposure to the release layer surface out, and antifouling protective layer forming step of forming an antifouling protective layer, made of.
(Hologram Self-Adhesive Label) The hologram self-adsorption label 40 of the present invention is a hologram self-adsorption label 40 produced by the method for producing a hologram self-adsorption label 40 according to claim 1, and is an antifouling protective layer 14. , Release layer 13, hologram layer 15, reflection layer 17, adhesive layer 39, label substrate 21, and self-adsorbing and re-peeling adhesive layer 29, and the antifouling protective layer 14 is ionizing radiation. A curable resin and a fluorine-based and / or silicon-based compound having at least one functional group capable of reacting with the ionizing radiation curable resin at the terminal, and cured by irradiation with ionizing radiation (a medium with a hologram) The hologram-including medium 100 of the present invention is formed by adhering the exposed adhesive layer 29 surface of the hologram self-adsorption label 40 according to claim 2 to the adherend 101. The hologram-attached medium 100 has a hologram self-adsorbing label having a protective function and / or a decorative function attached, and the outermost surface is a hologram layer with an antifouling protective layer, so that it has heat resistance, solvent resistance and weather resistance. In addition to the properties of the film, it also has excellent scratch resistance against contact with sharp objects, which is a defect of the film. It can be easily changed. In addition, even when the sticking fails, the same hologram self-adsorption label can be easily peeled off and attached again.

ホログラム自己吸着ラベル40は、次のような効果を奏する。(1)ホログラム自己吸着ラベル40は被貼着体101へ容易に貼着して固定でき、所望時には取り外し、さらに、再貼着(固定)することができる。従来の粘着層では構成する成分の分子量や同分布により、成分の一部が被貼着体101面へ残留したり、移行(ブリードアウト)したりして、安定した再剥離性や再自己吸着性が劣る。(2)ホログラム自己吸着ラベル40を被貼着体101へ貼着した際に、被貼着体101と接着層29との間に気泡を巻き込みにくく、気泡が巻き込んだとしても、再剥離し再貼着することで、気泡を逃がすことができる。気泡が巻き込まれると、外観が悪く空気界面での界面反射で透明性が低下するので、これらも防止することができる。(3)ホログラム自己吸着ラベル40を被貼着体101へ貼着した際に、被貼着体101面との吸着力(接着力)に経時的な低下が少なく、僅かな外力によって被貼着体101の表面から剥がれたり、部分的な剥離(所謂浮き)が発生したりすることがない。従来の粘着層では構成する成分の分子量や同分布により、成分の一部が被貼着体101面へ移行して、構成成分が変わって自己吸着性(接着力)が強くなったり、弱くなったりすることがある。(4)ホログラム自己吸着ラベル40を被貼着体101から剥離した後でも、被貼着体101表面を汚染することが少なく、かつ、再剥離したホログラム自己吸着ラベル40の接着層29の自己吸着性かつ再剥離性が適度に保持されており、繰り返し再使用することができる。(5)ホログラム自己吸着ラベル40の自己吸着性かつ再剥離性の接着層29は、再剥離してもゴミは単に付着しているだけで、気体の噴射や水洗で容易に取り除け、新品同様な状態で何度でも使用でき、ランニングコストを低くすることができる。(6)ホログラム自己吸着ラベル40は、被貼着体101からの除去(再剥離)が容易であることから、被貼着体101(部品等)をリサイクルする場合にも便利である。   The hologram self-adsorption label 40 has the following effects. (1) The hologram self-adsorption label 40 can be easily attached and fixed to the adherend 101, and can be removed and reattached (fixed) when desired. In the conventional adhesive layer, depending on the molecular weight and distribution of the constituent components, some of the components remain on the surface of the adherend 101 or migrate (bleed out), resulting in stable removability and re-adsorption. Inferior. (2) When the hologram self-adsorbing label 40 is attached to the adherend 101, it is difficult for air bubbles to be caught between the adherend 101 and the adhesive layer 29. Air bubbles can be released by sticking. When bubbles are involved, the appearance is poor, and the transparency is lowered due to interface reflection at the air interface, which can also be prevented. (3) When the hologram self-adsorption label 40 is attached to the adherend 101, the adhering force (adhesive force) with the adherend 101 surface is less likely to deteriorate with time and is attached with a slight external force. There is no peeling from the surface of the body 101 or partial peeling (so-called floating). In the conventional adhesive layer, due to the molecular weight and distribution of the constituent components, a part of the components migrate to the surface of the adherend 101, the constituent components change, and the self-adsorption property (adhesive force) becomes stronger or weaker. Sometimes. (4) Even after the hologram self-adsorption label 40 is peeled off from the adherend 101, the surface of the adherend 101 is hardly contaminated, and the self-adsorption of the adhesive layer 29 of the hologram self-adsorption label 40 that has been peeled off again. And re-peelability are moderately maintained and can be reused repeatedly. (5) The self-adsorptive and re-peelable adhesive layer 29 of the hologram self-adsorptive label 40 can be easily removed by gas jetting or rinsing even if it is re-peeled, and can be removed just like a new one. It can be used any number of times in the state, and the running cost can be reduced. (6) Since the hologram self-adsorption label 40 is easy to remove (re-peel) from the adherend 101, it is also convenient when recycling the adherend 101 (parts, etc.).

ホログラム自己吸着ラベル40の製造方法は、ホログラム転写箔10、及び自己吸着ラベル20を別々に準備し、これらを積層体30とした後に、ホログラム転写箔10の一部(転写基材11)を剥離し除去して、剥離層13面を露出された後に、該剥離層13面へ、必要に応じてプライマ層16を介して、防汚性保護層14を形成する、する製造方法であり、次のような効果を奏する。(1)ホログラム転写箔10及び自己吸着ラベル20は、既存技術及び既存設備で製造できるので、低コストで、容易に製造することができる。また、これら汎用品として、予めまとめて作成しておくで、より低コストとすつことができる。(2)また、積層工程、剥離露出工程、防汚性保護層形成工程も、既存技術及び既存設備で製造できるので、低コストで、容易に製造することができる。(3)図5に示すホログラム自己吸着ラベル40を製造する方法には、(イ)一旦、図2に示す自己吸着ラベル20を製造し、このラベル基材21面にホログラム層15、反射層17、プライマ層16、防汚性保護層14を設ける方法、(ロ)ラベル基材21面にホログラム層15、反射層17、プライマ層16、防汚性保護層14を設けた後に、もう一方の面へ自己吸着性かつ再剥離性のある接着層29を設け、剥離紙を積層する方法がある。しかしながら、(イ)の方法では、ホログラム層15へ微細な凹凸レリーフを賦型する際に、接着層29が柔軟でクッションとなって圧力が十分にかからず、賦型することができず、また、反射層17を真空成膜装置で形成する際に、接着層29からの脱ガスがあり形成することが難しい。(ロ)の方法では、高価なホログラム層15及び反射層17を形成した後に、プライマ層16、防汚性保護層14、もう一方の面へ接着層29、剥離紙を設けるために、反射層17以降の工程が多く、各工程で高価なホログラム層15及び反射層17をロスしてゆくので、歩留り低く高コストとなってしまう。   The hologram self-adhesive label 40 is manufactured by preparing the hologram transfer foil 10 and the self-adsorption label 20 separately, and forming the laminate 30 and then removing a part of the hologram transfer foil 10 (transfer base material 11). Then, after the surface of the release layer 13 is exposed, the antifouling protective layer 14 is formed on the surface of the release layer 13 through the primer layer 16 as necessary. There are effects like this. (1) Since the hologram transfer foil 10 and the self-adsorption label 20 can be manufactured with existing technology and existing equipment, they can be easily manufactured at low cost. In addition, these general-purpose products can be created together in advance, thereby reducing costs. (2) Moreover, since a lamination | stacking process, peeling exposure process, and antifouling protective layer formation process can also be manufactured with the existing technique and existing equipment, it can manufacture easily at low cost. (3) In the method of manufacturing the hologram self-adsorption label 40 shown in FIG. 5, (a) the self-adsorption label 20 shown in FIG. 2 is once manufactured, and the hologram layer 15 and the reflection layer 17 are formed on the surface of the label base 21. , A method of providing the primer layer 16 and the antifouling protective layer 14, (b) after providing the hologram layer 15, the reflective layer 17, the primer layer 16, and the antifouling protective layer 14 on the surface of the label substrate 21, There is a method in which a self-adsorbing and re-peelable adhesive layer 29 is provided on the surface, and release paper is laminated. However, in the method (a), when a fine uneven relief is formed on the hologram layer 15, the adhesive layer 29 is flexible and cushions, so that the pressure is not sufficiently applied and cannot be formed. Further, when the reflective layer 17 is formed by a vacuum film forming apparatus, it is difficult to form the reflective layer 17 due to degassing from the adhesive layer 29. In the method (b), after the expensive hologram layer 15 and the reflective layer 17 are formed, in order to provide the primer layer 16, the antifouling protective layer 14, the adhesive layer 29 on the other surface, and the release paper, Since there are many processes after 17 and the expensive hologram layer 15 and reflection layer 17 are lost in each process, the yield is low and the cost is high.

(ホログラム自己粘着ラベルの製造方法)ホログラム自己吸着ラベルの製造方法は、(1)転写基材11と、該転写基材11の一方の面に剥離層13、ホログラム層15及び反射層17からなるホログラム転写箔10を準備するホログラム転写箔10準備工程と、(2)ラベル基材21と、該ラベル基材21の一方の面に、自己吸着性かつ再剥離性のある接着層29を設け、該接着層29面へ剥離自在に剥離紙23を設けてなる自己吸着ラベル20を準備する自己吸着ラベル20準備工程と、(3)前記ホログラム転写箔10の反射層17面と前記自己吸着ラベル20のラベル基材面21とを接着剤層39を介して積層して積層体30とする積層工程と、(4)前記積層体30から前記ホログラム転写箔10の転写基材11を剥離し除去して、剥離層13面を露出させる露出工程と、(5)該露出した剥離層13面へ、必要に応じてプライマ層16を介して防汚性保護層14を設ける防汚性保護層形成工程と、からなる。工程順に、材料も含めて説明する。   (Method for Producing Hologram Self-Adhesive Label) A method for producing a hologram self-adhesive label includes: (1) a transfer substrate 11 and a release layer 13, a hologram layer 15 and a reflective layer 17 on one surface of the transfer substrate 11. The hologram transfer foil 10 preparation step for preparing the hologram transfer foil 10, and (2) a label base material 21 and a self-adsorbing and re-peelable adhesive layer 29 are provided on one surface of the label base material 21, A self-adsorptive label 20 preparation step for preparing a self-adsorptive label 20 in which a release paper 23 is provided on the surface of the adhesive layer 29 so as to be removable; (3) the reflective layer 17 surface of the hologram transfer foil 10 and the self-adsorptive label 20; (4) peeling off and removing the transfer substrate 11 of the hologram transfer foil 10 from the laminate 30. The An exposure step of exposing the surface of the release layer 13, and (5) an antifouling protective layer forming step of providing an antifouling protective layer 14 via the primer layer 16 on the exposed release layer 13 surface, if necessary. Consists of. The materials will be described in the order of processes.

(ホログラム転写箔の準備工程)(1)ホログラム転写箔10準備工程で、ホログラム転写箔10は、転写基材11と、該転写基材11の一方の面に剥離層13及びホログラム層15からなっている。   (Hologram Transfer Foil Preparation Step) (1) In the hologram transfer foil 10 preparation step, the hologram transfer foil 10 comprises a transfer substrate 11 and a release layer 13 and a hologram layer 15 on one surface of the transfer substrate 11. ing.

(転写基材)転写基材11としては、用途に応じて種々のフィルム材料が適用できる。例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリ塩化ビニルなどのビニル系樹脂、アクリル系樹脂、イミド系樹脂、ポリアリレートなどのエンジニアリング樹脂、ポリカーボネート、環状ポリオレフィン系樹脂、セロファンなどのセルロース系フィルムなどが例示できる。該転写基材11は、これら樹脂を主成分とする共重合樹脂、または、混合体(アロイでを含む)、若しくは複数層からなる積層体であっても良い。   (Transfer Base Material) As the transfer base material 11, various film materials can be applied depending on the application. For example, polyester resins such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, polyamide resins, vinyl resins such as polyvinyl chloride, acrylic resins, imide resins, engineering resins such as polyarylate, polycarbonate, cyclic polyolefin resins, cellophane Examples thereof include cellulosic films. The transfer substrate 11 may be a copolymer resin containing these resins as a main component, a mixture (including an alloy), or a laminate composed of a plurality of layers.

また、該転写基材11は、延伸又は未延伸のフィルムでも良いが、強度を向上させる目的で、一軸方向または二軸方向に延伸したフィルムが好ましい。厚さは、通常2.5〜50μm程度が適用できるが、2.5〜25μmが好適である。該転写基材11は、塗布に先立って塗布面へ、コロナ放電処理、プラズマ処理、プライマー(アンカーコート、接着促進剤、易接着剤とも呼ばれる)塗布処理、アルカリ処理、などの易接着処理を行ってもよい。また、必要に応じて、充填剤、可塑剤、着色剤、帯電防止剤などの添加剤を加えてもよい。2軸延伸ポリエチレンテレフタレートのフィルムが、耐熱性、機械的強度がよいため好適に使用され。   The transfer substrate 11 may be a stretched or unstretched film, but a film stretched in a uniaxial direction or a biaxial direction is preferable for the purpose of improving strength. A thickness of about 2.5 to 50 μm is usually applicable, but 2.5 to 25 μm is preferable. Prior to application, the transfer substrate 11 is subjected to easy adhesion treatment such as corona discharge treatment, plasma treatment, primer (also referred to as anchor coat, adhesion promoter, or easy adhesive) coating treatment, alkali treatment, and the like. May be. Moreover, you may add additives, such as a filler, a plasticizer, a coloring agent, and an antistatic agent, as needed. A biaxially stretched polyethylene terephthalate film is preferably used because of its good heat resistance and mechanical strength.

(剥離層)剥離層としては、弗素系樹脂、シリコーン、各種のワックスなどの離型剤を添加または共重合させたアクリル系樹脂、ビニル系樹脂、ポリエステル樹脂、繊維素系樹脂、ワックス、メラミン系樹脂等が例示できる。また、転写時の剥離性を向上させるために、必要に応じて、離型層と剥離層を設けてもよく、離型層及び剥離層13の両方を設けるとより転写性をより向上させることができる。剥離層及び剥離層13の両方を設ける場合には、適宜組み合わせて用いればよく、この場合には、剥離層は転写後に保護層としての機能を合わせ持つ。剥離層13の形成は、該樹脂を溶媒へ分散又は溶解して、ロールコート、グラビアコートなどの公知のコーティング方法で、塗布し乾燥し、必要に応じて硬化すればよい。   (Peeling layer) As the peeling layer, acrylic resins, vinyl resins, polyester resins, fiber resins, waxes, melamine resins to which release agents such as fluorine resins, silicones and various waxes are added or copolymerized Resin etc. can be illustrated. Moreover, in order to improve the peelability at the time of transfer, a release layer and a release layer may be provided as necessary, and when both the release layer and the release layer 13 are provided, the transferability is further improved. Can do. When both the release layer and the release layer 13 are provided, they may be used in combination as appropriate. In this case, the release layer also has a function as a protective layer after transfer. The release layer 13 may be formed by dispersing or dissolving the resin in a solvent, applying and drying the resin by a known coating method such as roll coating or gravure coating, and curing as necessary.

(離型層)離型層としては特に限定されないが、通常、離型性樹脂、離型剤を含んだ樹脂、電離放射線で架橋する硬化性樹脂などがある。好ましくはメラミン系樹脂である。
離型層の形成は、該樹脂を溶媒へ分散又は溶解して、ロールコート、グラビアコートなどの公知のコーティング方法で、塗布し乾燥して、温度150℃〜200℃程度で焼き付ける。離型層の厚さとしては、通常は0.01μm〜5.0μm程度、好ましくは0.5μm〜3.0μm程度である。
(Release layer) The release layer is not particularly limited. Usually, there are a release resin, a resin containing a release agent, a curable resin which is crosslinked by ionizing radiation, and the like. A melamine resin is preferable.
The release layer is formed by dispersing or dissolving the resin in a solvent, applying and drying by a known coating method such as roll coating or gravure coating, and baking at a temperature of about 150 ° C to 200 ° C. The thickness of the release layer is usually about 0.01 μm to 5.0 μm, preferably about 0.5 μm to 3.0 μm.

(ホログラム層)ホログラム層15としては、少なくとも電離放射線硬化樹脂を主成分とし、必要に応じてフィラーを含むようにする。該電離放射線硬化性樹脂としては、好ましくは、(1)分子中にイソシアネート基を3個以上有するイソシアネート類、(2)分子中に水酸基を少なくとも1個と(メタ)アクリロイルオキシ基を少なくとも2個有する多官能(メタ)アクリレート類、又は(3)分子中に水酸基を少なくとも2個有する多価アルコール類の反応生成物であるウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーを含有する電離放射線硬化性樹脂を用い、必要に応じて、ポリエチレンワックスやシリカを含ませて、塗布し乾燥して電離放射線で硬化させて、電離放射線硬化樹脂とすればよい。   (Hologram layer) The hologram layer 15 contains at least an ionizing radiation curable resin as a main component, and contains a filler as necessary. The ionizing radiation curable resin is preferably (1) an isocyanate having three or more isocyanate groups in the molecule, and (2) at least one hydroxyl group and at least two (meth) acryloyloxy groups in the molecule. Necessary using ionizing radiation curable resin containing urethane (meth) acrylate oligomer which is a reaction product of polyfunctional (meth) acrylates having, or (3) polyhydric alcohols having at least two hydroxyl groups in the molecule Accordingly, polyethylene wax or silica may be included, applied, dried, and cured with ionizing radiation to obtain an ionizing radiation curable resin.

前記ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーを含有する電離放射線硬化性樹脂(本明細書では電離放射線硬化性樹脂組成物Mと呼称する)は、ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーを含有する電離放射線硬化性樹脂の硬化物、具体的には、特開2001−329031号公報で開示されている光硬化性樹脂などが例示できる。具体的には、MHX405ニス(ザ・インクテック(株)製、電離放射線硬化性樹脂商品名)、ユピマーUV・V3031(三菱化学(株)製、電離放射線硬化性樹脂商品名)が例示できる。   The ionizing radiation curable resin containing the urethane (meth) acrylate oligomer (referred to herein as the ionizing radiation curable resin composition M) is a cured ionizing radiation curable resin containing the urethane (meth) acrylate oligomer. Examples thereof include photocurable resins disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-329031. Specific examples include MHX405 varnish (made by The Inktec Co., Ltd., ionizing radiation curable resin product name) and Iupimer UV · V3031 (manufactured by Mitsubishi Chemical Co., Ltd., product name of ionizing radiation curable resin).

(フィラー)フィラーとしてはマイクロシリカやポリエチレンワックスなどが例示でき、ポリエチレンワックスとしては、ポリエチレン系樹脂の粒子やビーズが挙げられるが、好ましくは球状ビーズである。その添加量は、電離放射線硬化樹脂100質量部に対して、0.01〜10質量部程度、好ましくは0.1〜5質量部とする。転写後にはホログラム層15が最表面層となり、含まれるフィラーは、機械的な摩擦、及び摩耗から媒体を保護し、後述する画像などの固有情報も保護する。   (Filler) Examples of the filler include micro silica and polyethylene wax, and examples of the polyethylene wax include polyethylene resin particles and beads, and spherical beads are preferable. The addition amount is about 0.01 to 10 parts by mass, preferably 0.1 to 5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the ionizing radiation curable resin. After the transfer, the hologram layer 15 becomes the outermost layer, and the contained filler protects the medium from mechanical friction and abrasion, and also protects unique information such as an image to be described later.

(1)ポリエチレンワックスを含ませることで、転写後にはホログラム層15が最表面層となるが、極めて過酷な環境での使用、長期間にわたる使用、及び/又は多数回の繰り返し使用などでも、溶剤、機械的な摩擦、及び摩耗から被貼着体に設けられた画像を保護し、傷付きにくく耐久性に優れる。(2)ホログラム層15はメラミン系樹脂を用いた剥離層13と界面を接しているので、ホログラム層15と剥離層13との間で剥離し、安定した剥離性となる。   (1) By including polyethylene wax, the hologram layer 15 becomes the outermost surface layer after transfer, but the solvent can be used even in extremely harsh environments, for a long period of time, and / or for many repeated uses. It protects the image provided on the adherend from mechanical friction and abrasion, and is resistant to scratches and has excellent durability. (2) Since the hologram layer 15 is in contact with the release layer 13 using the melamine-based resin, the hologram layer 15 is peeled between the hologram layer 15 and the release layer 13 and becomes stable peelability.

(ホログラム層の形成)ホログラム層15の形成は、上記の電離放射線硬化性樹脂、必要に応じてシリコーンやフィラー、光重合開始剤、可塑剤、安定剤、界面活性剤等を加え、溶媒へ分散または溶解して、ロールコート、グラビアコート、コンマコート、ダイコートなどの公知のコーティング方法で塗布し乾燥して、ホログラムを賦型後に電離放射線で反応(硬化)させればよい。ホログラム層15の厚さは、通常、1〜10μm程度、好ましくは2〜5μmである。   (Hologram layer formation) Hologram layer 15 is formed by adding the above-mentioned ionizing radiation curable resin, silicone or filler, photopolymerization initiator, plasticizer, stabilizer, surfactant, etc., if necessary, and dispersing in solvent. Alternatively, it may be dissolved, applied by a known coating method such as roll coating, gravure coating, comma coating, die coating and the like, dried and reacted (cured) with ionizing radiation after shaping the hologram. The thickness of the hologram layer 15 is usually about 1 to 10 μm, preferably 2 to 5 μm.

(ホログラム)ホログラム層15の表面に、光回折性の微細な凹凸を形成してホログラム層15とし、微細な凹凸面に反射層17を設けることで、ホログラムの持つ高意匠性及び偽造防止性を付与することができる。   (Hologram) The hologram layer 15 is formed on the surface of the hologram layer 15 to form a hologram layer 15, and the reflection layer 17 is provided on the surface of the minute unevenness, thereby providing high design and anti-counterfeiting properties of the hologram. Can be granted.

(ホログラム)次に、ホログラム層15の表面には、ホログラムなどの光回折効果の発現する所定の微細な凹凸(レリーフ構造)を賦型し、硬化させる。ホログラムは物体光と参照光との光の干渉による干渉縞を凹凸のレリーフ形状で記録されたもので、例えば、フレネルホログラム等のレーザ再生ホログラム、及びレインボーホログラム等の白色光再生ホログラム、さらに、それらの原理を利用したカラーホログラム、コンピュータジェネレーティッドホログラム(CGH)、ホログラフィック回折格子などがある。レリーフ形状は凹凸形状であり、特に限定されるものではなく、微細な凹凸形状を有する光拡散、光散乱、光反射、光回折などの機能を発現するものでもよく、例えば、フーリエ変換やレンチキュラーレンズ、光回折パターン、モスアイ、が形成されたものである。また、光回折機能はないが、特異な光輝性を発現するヘアライン柄、マット柄、万線柄、干渉パターンなどでもよい。   (Hologram) Next, predetermined fine unevenness (relief structure) such as a hologram that exhibits a light diffraction effect is formed on the surface of the hologram layer 15 and cured. A hologram is a recording of interference fringes due to the interference of light between object light and reference light in an uneven relief shape, such as a laser reproduction hologram such as a Fresnel hologram, a white light reproduction hologram such as a rainbow hologram, There are color holograms utilizing the above principle, computer generated holograms (CGH), holographic diffraction gratings and the like. The relief shape is a concavo-convex shape, and is not particularly limited, and may have a fine concavo-convex shape such as light diffusion, light scattering, light reflection, light diffraction, etc., such as Fourier transform or lenticular lens. , A light diffraction pattern, and a moth eye. Further, although it does not have a light diffraction function, it may be a hairline pattern, a mat pattern, a line pattern, an interference pattern, or the like that expresses a unique glitter.

ホログラム層15面へ、レリーフ形状を賦形(複製ともいう)する。ホログラムの賦型は、公知の方法によって形成でき、例えば、回折格子やホログラムの干渉縞を表面凹凸のレリーフとして記録する場合には、回折格子や干渉縞が凹凸の形で記録された原版をプレス型(スタンパという)として用い、上記樹脂層上に前記原版を重ねて加熱ロールなどの適宜手段により、両者を加熱圧着することにより、原版の凹凸模様を複製することができる。   A relief shape is formed (also referred to as replication) on the surface of the hologram layer 15. Hologram shaping can be formed by a known method. For example, when recording diffraction gratings or interference fringes of holograms as reliefs of surface irregularities, a master on which the diffraction gratings or interference fringes are recorded in irregularities is pressed. The concave / convex pattern of the original can be duplicated by using it as a mold (referred to as a stamper) and by superimposing the original on the resin layer and heat-pressing both of them with an appropriate means such as a heating roll.

また、ホログラム層15に形成するホログラムパターンは単独でも、複数でもよい。ホログラム層15は、スタンパでエンボス中、又はエンボス後に、電離放射線を照射して、電離放射線硬化性樹脂を硬化させる。上記の電離放射線硬化性樹脂は、レリーフを形成後に、紫外線や電子線などの電離放射線を照射して硬化(反応)させると電離放射線硬化樹脂(微細な凹凸=レリーフ構造=ホログラム)となる。   Further, the hologram pattern formed on the hologram layer 15 may be single or plural. The hologram layer 15 is irradiated with ionizing radiation during or after embossing with a stamper to cure the ionizing radiation curable resin. The ionizing radiation curable resin becomes an ionizing radiation curable resin (fine irregularities = relief structure = hologram) when it is cured (reacted) by irradiation with ionizing radiation such as ultraviolet rays or electron beams after the relief is formed.

(反射層)反射層17は、所定のレリーフ構造を設けたホログラム層15面のレリーフ面へ、反射層17へ設けることにより、レリーフの反射及び/又は回折効果を高めるので、ホログラム層15の反射率のより高れば、特に限定されない。該反射層17としては、真空薄膜法などによる金属薄膜などの金属光沢反射層、又は透明反射層のいずれでもよいが、金属光沢反射層は部分的に設け、透明反射層は被貼着体へ形成されている画像の面へ転写しても、画像が観察できるので好ましい。透明反射層としては、ほぼ無色透明な色相で、その光学的な屈折率がホログラム層のそれとは異なることにより、金属光沢が無いにもかかわらず、ホログラムなどの光輝性を視認できるから、透明なホログラムを作製することができる。例えば、ホログラム層15よりも光屈折率の高い薄膜、および光屈折率の低い薄膜とがあり、前者の例としては、ZnS、TiO2、Al23、Sb23、SiO、SnO2、ITO等があり、後者の例としては、LiF、MgF2、AlF3がある。好ましくは、金属酸化物又は窒化物であり、具体的には、Be、Mg、Ca、Cr、Mn、Cu、Ag、Al、Sn、In、Te、Fe、Co、Zn、Ge、Pb、Cd、Bi、Se、Ga、Rb、Sb、Pb、Ni、Sr、Ba、La、Ce、Au等の酸化物又は窒化物他はそれらを2種以上を混合したもの等が例示できる。またアルミニウム等の一般的な光反射性の金属薄膜も、厚みが200Å以下になると、透明性が出て使用できる。透明金属化合物の形成は、金属の薄膜と同様、ホログラム層15のレリーフ面に、10〜2000nm程度、好ましくは20〜1000nmの厚さになるよう、蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング、CVDなどの真空薄膜法などにより設ければよい。 (Reflection layer) Since the reflection layer 17 is provided on the reflection layer 17 on the relief surface of the hologram layer 15 provided with a predetermined relief structure, the reflection reflection and / or diffraction effect is enhanced. If the rate is higher, it is not particularly limited. The reflective layer 17 may be a metallic glossy reflective layer such as a metal thin film by a vacuum thin film method or the like, or a transparent reflective layer, but the metallic glossy reflective layer is partially provided, and the transparent reflective layer is attached to the adherend. Even if it is transferred to the surface of the formed image, it is preferable because the image can be observed. The transparent reflection layer has a substantially colorless and transparent hue, and its optical refractive index is different from that of the hologram layer. A hologram can be produced. For example, there are a thin film having a higher refractive index than the hologram layer 15 and a thin film having a lower refractive index. Examples of the former include ZnS, TiO 2 , Al 2 O 3 , Sb 2 S 3 , SiO, SnO 2. ITO, etc., and examples of the latter include LiF, MgF 2 , and AlF 3 . Preferably, it is a metal oxide or nitride, specifically, Be, Mg, Ca, Cr, Mn, Cu, Ag, Al, Sn, In, Te, Fe, Co, Zn, Ge, Pb, Cd , Bi, Se, Ga, Rb, Sb, Pb, Ni, Sr, Ba, La, Ce, Au, and other oxides or nitrides, and the like can be exemplified by a mixture of two or more thereof. Also, a general light-reflective metal thin film such as aluminum can be used when it has a thickness of 200 mm or less. The transparent metal compound is formed on the relief surface of the hologram layer 15 by vacuum such as vapor deposition, sputtering, ion plating, and CVD so that the thickness of the relief layer of the hologram layer 15 is about 10 to 2000 nm, preferably 20 to 1000 nm. It may be provided by a thin film method or the like.

(自己吸着ラベルの準備工程)(2)自己吸着ラベル20準備工程で、自己吸着ラベル20は、ラベル基材21と、該ラベル基材21の一方の面に、自己吸着性かつ再剥離性のある接着層29を設け、該接着層29面へ剥離自在に剥離紙23を設けてある。   (Preparation process of self-adsorption label) (2) In the self-adsorption label 20 preparation process, the self-adsorption label 20 is self-adsorbing and removable on one side of the label base material 21 and the label base material 21. An adhesive layer 29 is provided, and a release paper 23 is provided on the surface of the adhesive layer 29 so as to be peelable.

(ラベル基材)ラベル基材21としては、転写基材11の材料と同様なものが適用でき、易接着処理、添加剤も同様である、但し、厚さはハンドリング性からやや厚手とし、通常20〜250μm程度、好ましくは25〜188μmである。   (Label substrate) As the label substrate 21, the same material as that of the transfer substrate 11 can be applied, and the same is applied to the easy-adhesion treatment and the additive. It is about 20-250 micrometers, Preferably it is 25-188 micrometers.

(接着層)接着層29としては、自己吸着性かつ再剥離性のあるものを用いる。
ここで、自己吸着性とは自己粘着層とも呼ばれるが、粘着性はほとんどなく、被貼着体と接すると空気を押し退けながら密着する性質である。再剥離性とは、貼着面の一端を持ち上げることで、剥離が周辺に広がり全体が取り外せることをいう。即ち、自己吸着性かつ再剥離性とは、被貼着体へ貼着し固定する場合には、一端を密着させると貼着が周辺に広がって自己吸着し、剪断方向に強力で固定し、剥離方向には弱力で固定され、逆に被貼着体から剥離する場合には、貼着面の一端を持ち上げて剥離すると、剥離が周辺に広がり全体が取り外せることをいう。再剥離したものは、再び貼着することができる。
(Adhesive layer) As the adhesive layer 29, a self-adsorptive and re-peelable layer is used.
Here, the self-adhesive property is also called a self-adhesive layer, but has almost no adhesive property, and is a property of adhering while pushing away air when in contact with the adherend. By removability, lifting one end of the sticking surface means that peeling spreads to the periphery and the whole can be removed. In other words, self-adsorbing and removability means that when sticking and fixing to an adherend, if one end is brought into close contact, the sticking spreads to the periphery and self-adsorbs, strongly fixing in the shearing direction, When it is fixed with a weak force in the peeling direction and is peeled from the adherend, on the contrary, when the one end of the sticking surface is lifted and peeled, the peeling spreads to the periphery and the whole can be removed. What has been peeled off can be attached again.

(接着層)自己吸着性かつ再剥離性のある接着層29としては、シリコン樹脂系、ポリオレフィン樹脂系、ポリウレタン系の熱可塑性エラストマー系などの自己粘着性樹脂、ゴム系、ポリ塩化ビニル樹脂系も例示できる。
自己吸着性かつ再剥離性のある接着層29をPETやポリオレフィン系樹脂などの基材に形成してなる自己吸着性の複合シートが市販されている。例えば、住友化学(株)の商品名スミロンSやパナック(株)の商品名オレフィンゲルポリマーシートなどが好ましく用いることができる。
(Adhesive layer) Self-adhesive and re-peelable adhesive layer 29 includes silicon resin-based, polyolefin resin-based, polyurethane-based thermoplastic elastomer-based self-adhesive resins, rubber-based and polyvinyl chloride resin-based materials. It can be illustrated.
A self-adsorbing composite sheet obtained by forming a self-adsorbing and re-peelable adhesive layer 29 on a substrate such as PET or polyolefin resin is commercially available. For example, Sumitomo Chemical Co., Ltd. trade name Sumilon S, Panac Co., Ltd. trade name olefin gel polymer sheet and the like can be preferably used.

接着層29としては、好ましくは次の点からポリオレフィン系の熱可塑性エラストマー系である。(1)ポリオレフィン系を含む接着層29は、被貼着体101へ容易に貼着して固定でき、所望時には取り外し、さらに、再貼着(貼り替え)することができる。従来の粘着層では構成する成分の分子量や同分布により、成分の一部が被貼着体101面へ残留したり、移行(ブリードアウト)したりして、安定した再剥離性や再自己吸着性が劣る。また、熱安定性が高く、熱分解生成物の生成もほとんどないので、より安定している。(2)被貼着体101へ貼着した際に、被貼着体101と接着層29との間に気泡を巻き込みにくく、気泡が巻き込んだとしても、再剥離し再貼着することで、気泡を逃がすことができる。気泡が巻き込まれると、外観が悪く空気界面での界面反射で透明性が低下するので、これらも防止することができる。(3)被貼着体101へ貼着した際に、被貼着体101面との吸着力(接着力)に経時的な低下が少なく、僅かな外力によって被貼着体101の表面から剥がれたり、部分的な剥離(所謂浮き)が発生したりすることがない。従来の粘着層では構成する成分の分子量や同分布により、成分の一部が被貼着体101面へ移行して、構成成分が変わって自己吸着性(接着力)が強くなったり、弱くなったりすることがある。(4)被貼着体101から剥離した後でも、被貼着体101表面を汚染することが少なく、かつ、再剥離した接着層29の自己吸着性かつ再剥離性が適度に保持されており、繰り返し再使用することができる。(5)再剥離してもゴミは単に付着しているだけで、気体の噴射や水洗で容易に取り除け、新品同様な状態で何度でも使用でき、ランニングコストを低くすることができる。(6)被貼着体101からの除去(再剥離)が容易であることから、被貼着体101(部品等)をリサイクルする場合にも便利である。   The adhesive layer 29 is preferably a polyolefin-based thermoplastic elastomer system from the following points. (1) The adhesive layer 29 containing polyolefin can be easily attached and fixed to the adherend 101 and can be removed and reattached (reattached) when desired. In the conventional adhesive layer, depending on the molecular weight and distribution of the constituent components, some of the components remain on the surface of the adherend 101 or migrate (bleed out), resulting in stable removability and re-adsorption. Inferior. Moreover, it is more stable because it has high thermal stability and almost no pyrolysis products. (2) When sticking to the adherend 101, it is difficult to entrain air bubbles between the adherend 101 and the adhesive layer 29, and even if the air bubbles are involved, re-peeling and re-adhering, Air bubbles can escape. When bubbles are involved, the appearance is poor, and the transparency is lowered due to interface reflection at the air interface, which can also be prevented. (3) When adhered to the adherend 101, there is little decrease over time in the adsorbing force (adhesive force) with the adherend 101 surface, and the surface is peeled off from the surface of the adherend 101 by a slight external force. Or partial peeling (so-called floating) does not occur. In the conventional adhesive layer, due to the molecular weight and distribution of the constituent components, a part of the components migrate to the surface of the adherend 101, the constituent components change, and the self-adsorption property (adhesive force) becomes stronger or weaker. Sometimes. (4) Even after peeling from the adherend 101, the surface of the adherend 101 is less likely to be contaminated, and the self-adsorbing property and the removability of the peeled adhesive layer 29 are maintained appropriately. Can be reused repeatedly. (5) Even after re-peeling, the dust is simply adhered and can be easily removed by gas jetting or water washing, and can be used as many times as in the new state, and the running cost can be reduced. (6) Since removal (re-peeling) from the adherend 101 is easy, it is convenient also when the adherend 101 (parts, etc.) is recycled.

さらに、ディスプレー装置のディスプレーモジュールの光出射面を覆う光学部材として用いる場合には、全光線透過率で90%以上の透明性が好ましい。被貼着体101に損傷を与えず、かつ再剥離し易い点で、接着層29のPET表面との剥離強度は、T型剥離で0.1〜10N/25mm幅が好ましい。   Furthermore, when using as an optical member which covers the light-projection surface of the display module of a display apparatus, transparency of 90% or more is preferable in a total light transmittance. The peel strength of the adhesive layer 29 from the PET surface is preferably 0.1 to 10 N / 25 mm width by T-type peeling in that the adherend 101 is not damaged and can be easily peeled off again.

(剥離紙)剥離紙23(セパレート紙、セパ紙とも呼ばれる)は、上質紙・コート紙・含浸紙・プラスチックフィルムなどの基材の片面に剥離層を有している。該剥離層としては、離型性を有する材料であれば、特に限定されないが、例えば、シリコーン樹脂、有機樹脂変性シリコーン樹脂、フッ素樹脂、アミノアルキド樹脂、ポリエステル樹脂などがある。これらの樹脂は、エマルジョン型、溶剤型又は無溶剤型のいずれもが使用できる。該剥離紙23には、剥がしやすくするためのマット処理やマット処理層、ゴミを付着しにくくするための帯電防止処理や帯電防止処理層を設けるのが好ましい。   (Release paper) The release paper 23 (also referred to as separate paper or separate paper) has a release layer on one side of a substrate such as high-quality paper, coated paper, impregnated paper, and plastic film. The release layer is not particularly limited as long as it has a releasability, and examples thereof include silicone resins, organic resin-modified silicone resins, fluororesins, aminoalkyd resins, and polyester resins. These resins can be used in any of emulsion type, solvent type and solventless type. The release paper 23 is preferably provided with a mat treatment or mat treatment layer for facilitating peeling, and an antistatic treatment or antistatic treatment layer for making dust less likely to adhere.

(製造)自己吸着ラベル20の製造は、前記ラベル基材21面に、接着層29を熔融押出して塗布し、該接着層29面へ剥離紙23を積層すればよい。接着層29の厚さとしては、通常5〜300μm程度、好ましくは20〜150μmである。   (Manufacturing) The self-adsorbing label 20 may be manufactured by applying the adhesive layer 29 to the surface of the label base material 21 by melt extrusion and laminating the release paper 23 on the surface of the adhesive layer 29. The thickness of the adhesive layer 29 is usually about 5 to 300 μm, preferably 20 to 150 μm.

(積層工程)(3)積層工程は、前記ホログラム転写箔10のホログラム層15面と前記自己吸着ラベル20のラベル基材21面とを接着剤層39を介して積層して、図3に示すような、積層体30とする。積層方法は公知のドライラミネーション法などが適用できる。   (Lamination process) (3) In the lamination process, the hologram layer 15 surface of the hologram transfer foil 10 and the label base material 21 surface of the self-adsorbing label 20 are laminated via an adhesive layer 39, as shown in FIG. Such a laminated body 30 is used. As a lamination method, a known dry lamination method or the like can be applied.

(ドライラミネーション法)ドライラミネーション法とは、溶媒へ分散または溶解した接着剤(接着剤層39となる)を塗布し乾燥させて、貼り合せ基材を重ねて積層した後に、30〜120℃で数時間〜数日間エージングすることで、接着剤を硬化させることで、2種の材料を積層させる方法である。ノンソルベントラミネーション法とは、溶媒へ分散または溶解せずに接着剤自身を塗布し乾燥させて、貼り合せ基材を重ねて積層した後に、30〜120℃で数時間〜数日間エージングすることで、接着剤を硬化させることで、2種の材料を積層させる方法である。   (Dry Lamination Method) The dry lamination method is a method in which an adhesive dispersed or dissolved in a solvent (becomes the adhesive layer 39) is applied and dried, and the laminated substrates are stacked and laminated at 30 to 120 ° C. It is a method of laminating two kinds of materials by curing the adhesive by aging for several hours to several days. The non-solvent lamination method is a method in which the adhesive itself is applied and dried without being dispersed or dissolved in a solvent, and the laminated base material is laminated and laminated, and then aged at 30 to 120 ° C. for several hours to several days. This is a method of laminating two kinds of materials by curing the adhesive.

(接着剤)ドライラミネーション法、またはノンソルベントラミネーション法で用いる接着剤層39の接着剤として、熱、または紫外線・電子線などの電離放射線で硬化する接着剤が適用できる。熱硬化接着剤としては、具体的には、2液硬化型ウレタン系接着剤、ポリエステルウレタン系接着剤、ポリエ−テルウレタン系接着剤、アクリル系接着剤、ポリエステル系接着剤、ポリアミド系接着剤、ポリ酢酸ビニル系接着剤、エボキシ系接着剤、ゴム系接着剤などが適用できるが、2液硬化型ウレタン系接着剤が好適である。   (Adhesive) As the adhesive for the adhesive layer 39 used in the dry lamination method or the non-solvent lamination method, an adhesive that is cured by heat or ionizing radiation such as ultraviolet rays or electron beams can be applied. Specific examples of thermosetting adhesives include two-component curable urethane adhesives, polyester urethane adhesives, polyether urethane adhesives, acrylic adhesives, polyester adhesives, polyamide adhesives, A polyvinyl acetate adhesive, an epoxy adhesive, a rubber adhesive, or the like can be applied, but a two-component curable urethane adhesive is preferable.

(露出工程)(4)露出工程は、前記積層体30から前記ホログラム転写箔10の転写基材11を剥離し除去して、図4に示すよう剥離層13面を露出させる。露出工程の方法としては特に限定されず、積層体30から転写基材11を予め分離して2つとし、手作業でも巻取り機械でもよく、剥離すればよい。   (Exposing Step) (4) In the exposing step, the transfer substrate 11 of the hologram transfer foil 10 is peeled and removed from the laminate 30 to expose the surface of the release layer 13 as shown in FIG. The method of the exposure process is not particularly limited, and the transfer base material 11 is separated in advance from the laminate 30 into two, which may be manual work or a winding machine, and may be peeled off.

(防汚性保護層形成工程)(5)防汚性保護層形成工程は、露出した剥離層13面へ、必要に応じてプライマ層16を介して、防汚性保護層14を設ける。   (Anti-fouling protective layer forming step) (5) In the anti-fouling protective layer forming step, an anti-fouling protective layer 14 is provided on the exposed release layer 13 surface via a primer layer 16 as necessary.

(プライマ層)プライマ層16は、剥離層13面へ防汚性保護層14を設ける際に、塗布液がはじいたりせず、安定した膜が得られるために用いる。また、プライマー層16の代わりに、コロナ放電処理、プラズマ処理などの易接着処理でもよい。プライマー層16としては、例えば、ポリウレタン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、エポキシ系樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、イソシアネ−ト系化合物などを使用することができる。上記の樹脂を主成分とし、必要ならば、例えば、各種の安定剤、充填剤、硬化剤などの添加剤を添加したりして、適宜溶剤に溶解又は分散し、必要に応じて充分に混練して、コ−ティング剤組成物(インキ、塗布液)を調整し、ロールコート法、グラビアコート法などの公知のコーティング法で塗布し乾燥するか、乾燥又は乾燥した後のエージング処理によって反応させればよい。   (Primer layer) The primer layer 16 is used when the antifouling protective layer 14 is provided on the surface of the release layer 13 so that the coating solution does not repel and a stable film is obtained. Further, instead of the primer layer 16, easy adhesion treatment such as corona discharge treatment or plasma treatment may be used. As the primer layer 16, for example, a polyurethane resin, a polyester resin, a polyamide resin, an epoxy resin, a vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, an isocyanate compound, or the like can be used. Based on the above resin, if necessary, for example, additives such as various stabilizers, fillers, curing agents, etc. are added, and dissolved or dispersed in a solvent as appropriate. Then, a coating agent composition (ink, coating solution) is prepared and applied by a known coating method such as a roll coating method or a gravure coating method and dried, or is reacted by aging treatment after drying or drying. Just do it.

(防汚性保護層)防汚性保護層14としては、少なくとも電離放射線硬化性樹脂と、該電離放射線硬化性樹脂と反応可能な官能基を末端に1つ以上有するフッ素系及び/又はケイ素系化合物とを含む組成物とし、該組成物を電離放射線の照射によって硬化させて形成する。   (Anti-fouling protective layer) The anti-fouling protective layer 14 is a fluorine-based and / or silicon-based resin having at least one ionizing radiation curable resin and one or more functional groups capable of reacting with the ionizing radiation curable resin at the terminal. A composition containing the compound is formed by curing the composition by irradiation with ionizing radiation.

(電離放射線硬化性樹脂)電離放射線硬化性樹脂としては、紫外線や電子線などの電離放射線の照射で硬化する樹脂であり、アクリレート系モノマー、アクリレート系オリゴマー、カチオン重合系モノマー、カチオン重合系オリゴマーなどがある。電離放射線硬化性樹脂の具体例としては、日本合成化学(株)製の紫光シリーズ、昭和高分子(株)製のリポキシSP・VRシリーズ、新中村化学工業(株)製のNKエステル、NKオリゴ・シリーズ、大日本インキ化学工業(株)製のLUMICURE、ユニデックの各シリーズ、などが例示できる。   (Ionizing radiation curable resin) The ionizing radiation curable resin is a resin that is cured by irradiation with ionizing radiation such as ultraviolet rays and electron beams, and includes acrylate monomers, acrylate oligomers, cationic polymerization monomers, cationic polymerization oligomers, etc. There is. Specific examples of the ionizing radiation curable resin include: Nippon Kogyo Chemical Co., Ltd.'s Shimitsu Series, Showa Polymer Co., Ltd.'s Lipoxy SP / VR Series, Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.'s NK Ester, NK Oligo -Series, LUMICURE made by Dainippon Ink & Chemicals, Unidec series, etc. can be exemplified.

(フッ素系化合物)電離放射線硬化性樹脂と反応可能な官能基を末端に1つ以上有するフッ素系化合物としては下記一般式(1)、
d2d+1 一般式(1)
(dは1〜21の整数)で表されるパーフルオロアルキル基、−(CF2CF2g(gは1〜50の整数)で表されるパーフルオロアルキレン基、又はF−(−CF(CF3)CF2O−)e−CF(CF3)(ここで、eは1〜50の整数) で表されるパーフルオロアルキルエーテル基、並びに、CF2=CFCF2CF2−、(CF32C=C(C25)−、及び((CF32CF)2C=C(CF3)−等で例示されるパーフルオロアルケニル基を有することが好ましい。
上記の官能基を含む化合物であれば、フッ素系化合物の構造は特に限定されるものではなく、例えば、含フッ素モノマーの重合体、または含フッ素モノマーと非フッ素モノマーの共重合体等を用いることもできる。それらの中でも特に、含フッ素モノマーの単独共重合体、または含フッ素モノマーと非フッ素モノマーとの共重合体のいずれかで構成される含フッ素系重合体セグメントと、非フッ素系重合体セグメント、とから成るブロック共重合体またはグラフト共重合体が好ましく用いられる。上記フッ素系化合物は市販の製品として入手することができ、例えば、日本油脂製モディパーFシリーズ、大日本インキ化学工業社製ディフェンサMCFシリーズ、日本合成化学製紫光UTシリーズ等が好ましく用いられる。
(Fluorine compound) As a fluorine compound having at least one functional group capable of reacting with an ionizing radiation curable resin at the terminal, the following general formula (1),
C d F 2d + 1 general formula (1)
(D is 1 to 21 integer) perfluoroalkyl group represented by, - (CF 2 CF 2) g perfluoroalkylene group (g is an integer of 1 to 50) represented by, or F - (- CF (CF 3 ) CF 2 O—) e- CF (CF 3 ) (where e is an integer of 1 to 50), and CF 2 = CFCF 2 CF 2 —, ( It is preferable to have a perfluoroalkenyl group exemplified by CF 3 ) 2 C═C (C 2 F 5 ) — and ((CF 3 ) 2 CF) 2 C═C (CF 3 ) —.
The structure of the fluorine compound is not particularly limited as long as it is a compound containing the above functional group. For example, a polymer of a fluorine-containing monomer or a copolymer of a fluorine-containing monomer and a non-fluorine monomer is used. You can also. Among them, in particular, a fluorine-containing polymer segment composed of either a homopolymer of a fluorine-containing monomer or a copolymer of a fluorine-containing monomer and a non-fluorine monomer, and a non-fluorine polymer segment, A block copolymer or graft copolymer consisting of is preferably used. The said fluorine-type compound can be obtained as a commercial product, for example, Nippon Oil & Fats Modiper F series, Dainippon Ink & Chemicals Co., Ltd. defensa MCF series, Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd. purple light UT series etc. are used preferably.

含フッ素系重合体セグメントが、主に防汚性・撥水撥油性を高める機能を有し、一方、非フッ素系重合体セグメントが、バインダー成分との相溶性が高いことからアンカー機能を有する。従って、繰り返し表面を擦られた場合にもこれらのフッ素系化合物が取り去られにくく、また、長期に渡り防汚性などの諸性能を維持できるという効果がある。   The fluorine-containing polymer segment mainly has a function of improving antifouling properties and water / oil repellency, while the non-fluorine polymer segment has an anchor function because of high compatibility with the binder component. Accordingly, even when the surface is repeatedly rubbed, it is difficult to remove these fluorine-based compounds, and various effects such as antifouling properties can be maintained over a long period of time.

(ケイ素化合物)電離放射線硬化性樹脂と反応可能な官能基を末端に1つ以上有するケイ素系化合物としては、下記一般式(2)、   (Silicon compound) As a silicon compound having one or more functional groups capable of reacting with an ionizing radiation curable resin at the terminal, the following general formula (2),

Figure 2009300560
(式中、Raはメチル基などの炭素数1〜20のアルキル基を示し、Rbは非置換、もしくはアミノ基、エポキシ基、カルボキシル基、水酸基、パーフルオロアルキル基、パーフルオロアルキレン基、パーフルオロアルキルエーテル基、または( メタ) アクリロイル基で置換された炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜3のアルコキシ基、またはポリエーテル変性基を示し、各Ra、Rbは互いに同一でも異なっていても良い。また、mは0〜200、nは0〜200の整数である。)で示される構造を有することが好ましい。
Figure 2009300560
(In the formula, Ra represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms such as a methyl group, and Rb is unsubstituted, or an amino group, an epoxy group, a carboxyl group, a hydroxyl group, a perfluoroalkyl group, a perfluoroalkylene group, a perfluoro group. An alkyl ether group or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 3 carbon atoms, or a polyether-modified group substituted with a (meth) acryloyl group. Each Ra and Rb are the same or different from each other. Moreover, m is preferably 0 to 200, and n is an integer of 0 to 200.

上記一般式(2)のような基本骨格を持つポリジメチルシリコーンは、一般に表面張力が低く、撥水性や離型性に優れていることが知られているが、側鎖あるいは末端に種々の官能基を導入することで、更なる効果を付与することができる。例えば、アミノ基、エポキシ基、カルボキシル基、水酸基、(メタ)アクリロイル基、アルコキシ基等を導入することにより反応性を付与でき、前記電離放射線硬化型樹脂組成物との化学反応により共有結合を形成できる。また、パーフルオロアルキル基、パーフルオロアルキレン基、パーフルオロアルキルエーテル基を導入することで、耐油性や潤滑性等を付与でき、さらに、ポリエーテル変性基を導入することで、レベリング性や潤滑性を向上させることができる。
このような化合物は、市販の製品として入手することができ、例えば、フルオロアルキル基をもつシリコーンオイルFL100(商品名、信越化学工業社製)や、ポリエーテル変性シリコーンオイルTSF4460(商品名、GE東芝シリコーン社製) 等、目的に合わせて種々の変性シリコーンオイルを入手できる。
Polydimethylsilicone having a basic skeleton such as the above general formula (2) is generally known to have a low surface tension and excellent water repellency and releasability. By introducing a group, further effects can be imparted. For example, reactivity can be imparted by introducing an amino group, epoxy group, carboxyl group, hydroxyl group, (meth) acryloyl group, alkoxy group, etc., and a covalent bond is formed by a chemical reaction with the ionizing radiation curable resin composition. it can. In addition, by introducing perfluoroalkyl groups, perfluoroalkylene groups, and perfluoroalkyl ether groups, oil resistance and lubricity can be imparted, and by introducing polyether-modified groups, leveling properties and lubricity can be provided. Can be improved.
Such a compound can be obtained as a commercially available product. For example, silicone oil FL100 having a fluoroalkyl group (trade name, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) or polyether-modified silicone oil TSF4460 (trade name, GE Toshiba). Various modified silicone oils can be obtained according to the purpose.

また、好ましい態様として、ケイ素系化合物は下記一般式(3)、
anSiX4-n 一般式(3)、
(式中、Raはパーフルオロアルキル基、パーフルオロアルキレン基、またはパーフルオロアルキルエーテル基を含む炭素数3〜1000の炭化水素基を示し、Xはメトキシ基、エトキシ基、もしくはプロポキシ基等の炭素数1〜3のアルコキシ基、メトキシメトキシ基、もしくはメトキシエトキシ基等のオキシアルコキシ基、または、クロル基、ブロモ基もしくはヨード基等のハロゲン基等の加水分解性基であり、同一でも異なっていてもよく、nは1〜3の整数を示す。)で示される構造であってもよい。
As a preferred embodiment, the silicon-based compound is represented by the following general formula (3),
R an SiX 4-n general formula (3),
(In the formula, Ra represents a C3-1000 hydrocarbon group including a perfluoroalkyl group, a perfluoroalkylene group, or a perfluoroalkyl ether group, and X represents a carbon such as a methoxy group, an ethoxy group, or a propoxy group. A hydrolyzable group such as an alkoxy group of formulas 1 to 3, an oxyalkoxy group such as a methoxymethoxy group or a methoxyethoxy group, or a halogen group such as a chloro group, a bromo group or an iodo group, which may be the same or different; And n may be an integer of 1 to 3).

このような加水分解性基を含むことにより、特に無機成分、さらに好ましくは、シリカ成分の水酸基と共有結合や水素結合を形成し易く、密着性を保持できるという効果がある。このような化合物として、具体的には、TSL8257(商品名、GE東芝シリコーン社製)等のフルオロアルキルシランが挙げられる。   By including such a hydrolyzable group, it is particularly easy to form a covalent bond or a hydrogen bond with the hydroxyl group of the inorganic component, more preferably, the silica component, and there is an effect that the adhesiveness can be maintained. Specific examples of such a compound include fluoroalkylsilanes such as TSL8257 (trade name, manufactured by GE Toshiba Silicone).

上記の電離放射線硬化性樹脂と反応可能な官能基を末端に1つ以上有するフッ素系及び/又はケイ素系化合物は、電離放射線硬化性樹脂に対して、0.01〜10%、好ましくは0.1〜3%の含有量であることが好ましい。含有量が0.01質量%未満であると、充分な防汚性や耐擦傷性を付与することができず、また10質量%を超えると塗膜の強度を極端に低下させる。これらフッ素化合物やケイ素化合物は、単独でも、2種以上を混合して用いてもよく、適宜組み合わせることにより、防汚性、撥水撥油性、滑り性、耐擦傷性、耐久性、レベリング性等の諸性質を調節し、目的とする機能を発現させることができる。   The fluorine-based and / or silicon-based compound having at least one functional group capable of reacting with the ionizing radiation curable resin at the terminal is 0.01 to 10%, preferably 0.8% with respect to the ionizing radiation curable resin. The content is preferably 1 to 3%. When the content is less than 0.01% by mass, sufficient antifouling property and scratch resistance cannot be imparted, and when it exceeds 10% by mass, the strength of the coating film is extremely lowered. These fluorine compounds and silicon compounds may be used singly or as a mixture of two or more, and by appropriately combining them, antifouling properties, water and oil repellency, slip properties, scratch resistance, durability, leveling properties, etc. These properties can be adjusted to achieve the desired function.

電離放射線硬化性樹脂と反応可能な官能基を末端に1つ以上有するフッ素系及び/又はケイ素系化合物は、電離放射線硬化性樹脂と相溶性を有するものが好ましく、最表面に用いられる塗膜表面を平坦化し、防汚性、耐擦傷性向上に効果がある滑り性を付与することができる。なお、「相溶性」とは、フッ素系および/またはケイ素化合物が組成物塗膜中に、添加効果が確認できる量を加えた場合でも、塗膜の白濁やヘイズの上昇などによる透明性の低下が確認できない程度の親和性を有することを意味する。   The fluorine-based and / or silicon-based compound having at least one functional group capable of reacting with the ionizing radiation curable resin preferably has compatibility with the ionizing radiation curable resin, and the coating surface used as the outermost surface Can be imparted with slipperiness that is effective in improving antifouling properties and scratch resistance. “Compatibility” means a decrease in transparency due to white turbidity of the coating film or an increase in haze even when the fluorine-based and / or silicon compound is added to the composition coating film in such an amount that the effect of addition can be confirmed. Means having an affinity that cannot be confirmed.

上記の電離放射線硬化性樹脂と反応可能な官能基を末端に1つ以上有するフッ素系及び/又はケイ素系化合物の少なくとも一部が、組成物と、化学反応により共有結合を形成して塗膜最表面に固定されていることが好ましく、これにより、長期に渡る防汚性や耐擦傷性の向上に効果がある滑り性を安定して保持できる。   At least a part of the fluorine-based and / or silicon-based compound having one or more functional groups capable of reacting with the ionizing radiation curable resin at the end forms a covalent bond with the composition by a chemical reaction to form a coating film. It is preferable to be fixed to the surface, and thereby it is possible to stably maintain slipperiness that is effective in improving antifouling properties and scratch resistance over a long period of time.

(防汚性保護層の形成)防汚性保護層14の形成は、電離放射線硬化性樹脂と、該電離放射線硬化性樹脂と反応可能な官能基を末端に1つ以上有するフッ素系及び/又はケイ素化合物とを含ませ、さらに必要に応じてラジカル系光重合開始剤、カチオン系光重合開始剤、ラジカル系光重合促進剤、カチオン系光重合促進剤などの光重合開始剤、可塑剤、安定剤、界面活性剤、フィラー等を加え、溶媒へ分散または溶解して、ロールコート、グラビアコート、コンマコート、ダイコートなどの公知のコーティング方法で塗布し乾燥して、紫外線などの電離放射線の照射によって反応(硬化)させればよい。なお、電子線の照射により硬化させる場合には光重合開始剤は不要である。   (Formation of antifouling protective layer) The antifouling protective layer 14 is formed by ionizing radiation curable resin and fluorine-based and / or having at least one functional group capable of reacting with the ionizing radiation curable resin. A photopolymerization initiator such as a radical photopolymerization initiator, a cationic photopolymerization initiator, a radical photopolymerization accelerator, and a cationic photopolymerization accelerator, a plasticizer, and a stable Add agent, surfactant, filler, etc., disperse or dissolve in solvent, apply with known coating methods such as roll coating, gravure coating, comma coating, die coating, etc., dry, and by irradiation with ionizing radiation such as ultraviolet rays What is necessary is just to make it react (curing). In addition, when making it harden | cure by irradiation of an electron beam, a photoinitiator is unnecessary.

(防汚性保護層の厚味)防汚性保護層14の厚さは、過酷な環境での使用、使用期限がなかったり、長期にわたる使用、及び/又は多数回の繰り返し使用などでも、溶剤や機械的な摩擦及び摩耗、特に引掻きから画像を保護し、傷付きにくい耐久性を付与するために、1〜25μm程度、好ましくは3〜15μmである。   (Thickness of the antifouling protective layer) The thickness of the antifouling protective layer 14 is a solvent that can be used even in harsh environments, with no expiry date, for a long period of use, and / or for many repeated uses. In order to protect the image from mechanical friction and abrasion, particularly scratching, and to impart durability against scratching, it is about 1 to 25 μm, preferably 3 to 15 μm.

(ホログラム自己粘着ラベル)ホログラム自己吸着ラベル40は、以上の製造方法で製造され、図5に示すように、防汚性保護層14、プライマ層16(必要に応じて)、剥離層13、ホログラム層15、反射層17、接着剤層39、ラベル基材21、及び自己吸着性かつ再剥離性のある接着層29からなり、必要に応じて剥離紙23を設けている。また、剥離紙23を含めてカットして枚葉ラベルとしたり、剥離紙23だけを残してホログラム自己吸着ラベル40部分をハーフカット処理してもよい。ハーフカット処理法としては、カッター刃を取り付けた上型と台座の間に、カット前の積層状態のホログラム自己吸着ラベル40を挿入して、上型を上下動させる方法や、シリンダータイプのロータリーカッター方法、レーザー加工手段により熱処理加工方法等、ハーフカットできる方法であれば特に制限はない。ラベル部分以外のカス部分を除去しなくてもよいが、ハーフカットしてラベル部分のみを残して、それ以外部分を予め剥離し除去しておく(当業者はカス取りという)のが好ましい。また、被貼着体101への貼着時に、カス取りしながら貼着してもよい。ラベルの形状としては、特に限定されないが、例えば矩形、楕円形、丸形、ドーナッツ形などが例示できる。   (Hologram Self-Adhesive Label) The hologram self-adhesive label 40 is manufactured by the above-described manufacturing method. As shown in FIG. 5, the antifouling protective layer 14, the primer layer 16 (if necessary), the release layer 13, and the hologram The layer 15, the reflective layer 17, the adhesive layer 39, the label substrate 21, and the self-adsorbing and re-peeling adhesive layer 29 are provided, and a release paper 23 is provided as necessary. Alternatively, the sheet including the release paper 23 may be cut into a single-wafer label, or the hologram self-adsorption label 40 may be half-cut with only the release paper 23 left. Half-cut processing methods include inserting a hologram self-adsorption label 40 in a stacked state before cutting between the upper mold with a cutter blade and a pedestal, and moving the upper mold up and down, or a cylinder-type rotary cutter There is no particular limitation as long as it is a method capable of half-cutting, such as a heat treatment method using a laser processing means. It is not necessary to remove the debris portion other than the label portion, but it is preferable to half-cut and leave only the label portion, and to remove and remove the other portions in advance (referred to by those skilled in the art as debris removal). Further, when sticking to the adherend 101, it may be stuck while removing waste. Although it does not specifically limit as a shape of a label, For example, a rectangle, an ellipse, a round shape, a donut shape etc. can be illustrated.

従来の特許文献3、4による反射防止積層体又は放射線発光パネルでは、前記反射防止積層体又は放射線発光パネルへ直接加工しているので、所望時には取り外したり、さらに、再貼着(固定)することができず、また、途中でロスが発生した場合には、そこまでに至る高価な部材や加工費が無駄となって、結果的には高コストとなる。本発明のホログラム自己吸着ラベルの製造方法は、以上で説明してきたように、(1)ホログラム転写箔準備工程、(2)自己吸着ラベル準備工程、(3)積層工程、(4)露出工程、(5)防汚性保護層形成工程とからなり、一見工程が複雑に思えるが、既存の設備及び公知の技術を組合せた安定した工程を駆使した製造方法であり、各工程の歩留りも高く、総合的には低コストで製造することができるのである。   In the conventional antireflective laminate or radiation-emitting panel according to Patent Documents 3 and 4, since it is directly processed into the antireflective laminate or radiation-emitting panel, it can be removed or reattached (fixed) when desired. If a loss occurs on the way, expensive members and processing costs up to that point are wasted, resulting in high costs. As described above, the method for producing a hologram self-adsorption label according to the present invention includes (1) hologram transfer foil preparation step, (2) self-adsorption label preparation step, (3) lamination step, (4) exposure step, (5) It consists of an antifouling protective layer forming process, and at first glance the process seems complicated, but it is a manufacturing method that makes full use of a stable process combining existing equipment and known technology, and the yield of each process is high, Overall, it can be manufactured at low cost.

(ホログラム付き媒体)本発明のホログラム付き媒体100は、図6に示すように、本発明のホログラム自己吸着ラベル40から、剥離紙23を除去して露出させた接着層29面を被貼着体101へ貼着したものである。貼着は手作業でもラベラーなどの公知の自動機でもよく、特に限定されない。   (Hologram-attached medium) As shown in FIG. 6, the hologram-attached medium 100 of the present invention has an adhesive layer 29 surface exposed by removing the release paper 23 from the hologram self-adsorption label 40 of the present invention. 101 is attached. The sticking may be performed manually or by a known automatic machine such as a labeler, and is not particularly limited.

(被貼着体)被貼着体101としては、特に限定されず、例えば天燃繊維紙、コート紙、トレーシングペーパー、転写時の熱で変形しないプラスチックフイルム、ガラス、金属、セラミックス、木材、布等の外、社員証、会員証及び学生証などのIDカードや、例えば液晶ディスプレーや有機エレクトロルミネッセンスディスプレーなどディスプレー装置(画像表示装置)などの装置、部材、部品などのいずれのものでもよく、用途によって、適宜選択すればよい。また、被貼着体101には少なくとも1部に画像、着色、印画、印刷、その他の加飾が施されていてもよく、さらに、磁気記録層、光記録層、ICチップなどの情報記録体が塗布、積層、転写、埋め込みなどの手段で設けられていてもよい。   (Adherent) The adherend 101 is not particularly limited. For example, natural fiber paper, coated paper, tracing paper, plastic film that is not deformed by heat during transfer, glass, metal, ceramics, wood, Outside of cloth, ID cards such as employee cards, membership cards and student cards, and devices such as liquid crystal displays and organic electroluminescence displays (image display devices) such as devices, members, parts, etc. may be used. What is necessary is just to select suitably according to a use. Further, at least one part of the adherend 101 may be provided with an image, coloring, printing, printing, or other decoration, and an information recording body such as a magnetic recording layer, an optical recording layer, or an IC chip. May be provided by means of coating, laminating, transferring, embedding and the like.

(耐久性)多数回の繰り返し使用でも、被貼着体101の表面と保護し、機械的化学的な損傷から長期間にわたって保護することができ、かつ、貼り換えることもできる。例えば、社員証、会員証及び学生証などのIDカード、特にIDカードでは媒体の表面へ文字、数字、顔写真等のような画像が形成される。これらの画像の形成は、近年、所謂溶融転写タイプ又は昇華転写タイプのインクリボンを用いて熱転写又は昇華転写による転写法で行われるが、通常の印刷インキによる画像とは異なり、耐候性、耐摩擦性、耐薬品性等の耐久性に欠ける弱点がある。その解決策として、熱転写画像上にホログラム自己吸着ラベル40を貼着させて、ホログラム付き媒体100となる。被貼着体101へ容易に貼着して固定でき、所望時には取り外し、さらに、再貼着(固定)することができ、鋭利なものの接触に対しても耐擦傷性などの表面保護性に優れ、手指の脂などで汚染しにくく、かつ、自分好みの装飾を有する別のホログラム自己吸着ラベルに貼り替えることも容易にできる。従って、極めて過酷な環境で使用されるガソリンスタンドカードや工事現場カード、及び、使用期限がなかったり、長期にわたる入退室カードやポイントカード、金融機関などの多数のセキュリティ管理された部屋への入退室を繰り返す入退室カードなどにも好適に使用することができる。   (Durability) Even after repeated use, the surface of the adherend 101 can be protected, it can be protected from mechanical and chemical damage over a long period of time, and can be replaced. For example, ID cards such as employee ID cards, membership cards, and student ID cards, especially ID cards, images such as letters, numbers, and face photographs are formed on the surface of the medium. In recent years, these images are formed by a transfer method using thermal transfer or sublimation transfer using a so-called melt transfer type or sublimation transfer type ink ribbon, but unlike images using ordinary printing inks, weather resistance, friction resistance There are weaknesses that lack durability such as durability and chemical resistance. As a solution to this, the hologram self-adsorbing label 40 is stuck on the thermal transfer image, so that the hologram-including medium 100 is obtained. Can be easily attached and fixed to the adherend 101, can be removed and reattached (fixed) when desired, and has excellent surface protection such as scratch resistance against contact with sharp objects. Further, it can be easily replaced with another hologram self-adhesive label which is hardly contaminated with finger grease or the like and which has a decoration desired by the user. Therefore, you can enter and leave many security-controlled rooms such as gas station cards and construction site cards that are used in extremely harsh environments, as well as long-term entrance / exit cards, point cards, and financial institutions. It can be used suitably also for an entrance / exit card etc. which repeats.

また、液晶ディスプレー装置などの装置表面へ容易に貼着して固定でき、所望時には取り外し、さらに、再貼着(固定)することができ、特に携帯電話では、画像表示部を保護すると同時に、所望時にも取り外して、自分好みの別の装飾や意匠のものへ貼り換えることもできる。さらに、例えば液晶ディスプレーや有機エレクトロルミネッセンスディスプレーなどで使用されるタッチパネルであれば、使用者が多数回にわたって直接接触したり、不作為に接触したりしても、手指の脂などでも表面に汚れが付着しにくい防汚性に優れ、鋭利なものの接触に対してもスリキズが付きにくい耐擦傷性に優れ、ディスプレイの画質を維持することができる。   In addition, it can be easily attached and fixed to the surface of a device such as a liquid crystal display device, and can be removed and reattached (fixed) when desired. Sometimes it can be removed and replaced with another decoration or design you like. Furthermore, for example, if the touch panel is used for a liquid crystal display or an organic electroluminescence display, even if the user touches it directly or randomly, even if the user touches it randomly, the surface of the finger can be soiled. It has excellent antifouling properties that are difficult to resist, has excellent scratch resistance that prevents scratches even when touching sharp objects, and can maintain the image quality of the display.

以下、実施例及び比較例により、本発明を更に詳細に説明するが、これに限定されるものではない。なお、溶媒を除き、各層の各組成物は固形分換算の質量部である。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example and a comparative example demonstrate this invention further in detail, it is not limited to this. In addition, except a solvent, each composition of each layer is a mass part of solid content conversion.

(実施例1)
(1)ホログラム転写箔10の準備工程
転写基材11として厚さ25μmのPETフィルムを用い、該基材11の一方の面へ、グラビアコート法で、下記の剥離層組成物(塗工液)を乾燥後2μmになるように塗布し乾燥して、剥離層13を形成した。
・<剥離層組成物>
剥離ニス45−2(昭和インク工業所製、剥離ニス商品名) 25部
溶媒(酢酸エチル:トルエン=1:1) 75部
該剥離層13面へ、下記のホログラム層15組成物をグラビアリバースコート法で乾燥後の厚さが2μmになるように、塗工し100℃で乾燥させた後に、2光束干渉法による回折格子から2P法で複製した擬似連続絵柄としたプレス型を複製装置のエンボスローラーに貼着して、相対するローラーと間で加熱プレス(エンボス)して、微細な凹凸パターンからなるレリーフを賦形させた。賦形後直ちに、高圧水銀灯を用いて紫外線を照射して硬化させて、ホログラム層15を形成した。該レリーフ面へ、厚さ50nmの酸化チタンを真空蒸着法で形成して、透明な反射層17を形成して、ホログラム転写箔10とした。
・<ホログラム層組成物>
ユピマーUV・V3031(三菱化学社製、紫外線硬化性樹脂商品名) 25部
メタアクリレートオリゴマー(日本合成化学社製、商品名紫光6630B)5部
反応性シリコーン(信越化学社製、商品名X−22−1602) 0.5部
光重合開始剤(チバ社製、商品名イルガキュア184) 0.9部
溶媒(酢酸エチル:メチルイソブチルケトン=1:1) 70部
(2)自己吸着ラベル20の準備工程
厚さが100μmのPETフィルム(ラベル基材21)/厚さが30μmの自己吸着性かつ再剥離性の樹脂層(接着層29)/厚さ38μmのPETセパ紙(剥離紙23)からなる、パナック(株)の商品名オレフィンゲルポリマーシートを自己吸着ラベル20とした。
(3)積層工程
前記ホログラム転写箔10の反射層17面と前記自己吸着ラベル20のラベル基材21(予め易接着処理されている)面とを、接着剤層39としてウレタン系2液接着剤を用いて、公知のドライラミネーション法で積層して、積層体30を得た。
(4)露出工程
前記積層体30から前記ホログラム転写箔10の転写基材11剥離し除去して、剥離層13面を露出させた。
(5)防汚性保護層14形成工程
上記で露出させた剥離層13面へ、下記のプライマ層16組成物をグラビアコート法で乾燥後の厚さが1μmになるように、塗工し100℃で乾燥させて、プライマ層16を形成した。
該プライマ層16面へ、下記の防汚性保護層14組成物をグラビアリバースコート法で乾燥後の厚さが3μmになるように、塗工し100℃で乾燥させた後に、高圧水銀灯を用いて紫外線を照射して硬化させて、防汚性保護層14を形成して、実施例1のホログラム自己吸着ラベル40を得た。
・<防汚層組成物>
紫光UT−4314
(日本合成化学社製、含フッ素系化合物紫外線硬化性樹脂商品名) 25部
光重合開始剤(チバ社製、商品名イルガキュア184) 0.3部
溶媒(酢酸エチル:メチルイソブチルケトン=1:1) 75部
(Example 1)
(1) Preparation Step of Hologram Transfer Foil 10 A 25 μm-thick PET film is used as the transfer substrate 11, and the following release layer composition (coating liquid) is applied to one surface of the substrate 11 by a gravure coating method. Was applied to a thickness of 2 μm after drying and dried to form a release layer 13.
・ <Peeling layer composition>
Peeling varnish 45-2 (made by Showa Ink Industries, Peeling varnish product name) 25 parts Solvent (ethyl acetate: toluene = 1: 1) 75 parts Gravure reverse coating of the following hologram layer 15 composition onto the peeling layer 13 surface The embossing of the duplicating machine is a press die with a quasi-continuous pattern that is coated by a 2P method from a diffraction grating by a two-beam interference method after coating and drying at 100 ° C. so that the thickness after drying is 2 μm. It stuck on the roller and heat-pressed (embossed) between the opposing rollers, and the relief which consists of a fine uneven | corrugated pattern was shaped. Immediately after the shaping, the hologram layer 15 was formed by irradiating and curing with ultraviolet rays using a high-pressure mercury lamp. Titanium oxide having a thickness of 50 nm was formed on the relief surface by a vacuum vapor deposition method to form a transparent reflection layer 17, thereby obtaining a hologram transfer foil 10.
・ <Hologram layer composition>
Iupimer UV V3031 (manufactured by Mitsubishi Chemical Co., Ltd., trade name of ultraviolet curable resin) 25 parts methacrylate oligomer (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd., trade name: Murasaki 6630B) 5 parts reactive silicone (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name X-22) -1602) 0.5 part Photopolymerization initiator (Ciba, trade name Irgacure 184) 0.9 part Solvent (ethyl acetate: methyl isobutyl ketone = 1: 1) 70 parts (2) Preparation process of self-adsorption label 20 It consists of a PET film (label substrate 21) having a thickness of 100 μm / a self-adsorbing and releasable resin layer (adhesive layer 29) having a thickness of 30 μm / PET separator paper (release paper 23) having a thickness of 38 μm. The product name olefin gel polymer sheet of Panac Co., Ltd. was used as the self-adsorption label 20.
(3) Laminating Step Urethane-based two-component adhesive with the reflective layer 17 surface of the hologram transfer foil 10 and the label base material 21 (pre-adhesively treated) surface of the self-adsorbing label 20 as an adhesive layer 39 Was laminated by a known dry lamination method to obtain a laminate 30.
(4) Exposure process The transfer substrate 11 of the hologram transfer foil 10 was peeled off and removed from the laminate 30 to expose the surface of the release layer 13.
(5) Antifouling protective layer 14 forming step The following primer layer 16 composition is applied to the surface of the release layer 13 exposed as described above by gravure coating so that the thickness after drying becomes 1 μm. The primer layer 16 was formed by drying at 0 ° C.
On the surface of the primer layer 16, the following antifouling protective layer 14 composition was applied by gravure reverse coating so that the thickness after drying was 3 μm, dried at 100 ° C., and then using a high pressure mercury lamp. The hologram self-adhesive label 40 of Example 1 was obtained by forming the antifouling protective layer 14 by irradiating it with ultraviolet rays.
・ <Anti-fouling layer composition>
Purple light UT-4314
(Nippon GOHSEI, fluorine-containing compound UV curable resin trade name) 25 parts Photopolymerization initiator (Ciba, trade name Irgacure 184) 0.3 part Solvent (ethyl acetate: methyl isobutyl ketone = 1: 1 75 parts

(実施例2)防汚層組成物として、下記の防汚層組成物を用いる以外は、実施例1と同様にして、実施例3のホログラム自己吸着ラベル40を得た。
・<防汚層組成物>
紫光UT−4314
(日本合成化学社製、含フッ素系化合物紫外線硬化性樹脂商品名) 25部
ケイ素系化合物(信越化学社製、商品名X−22−1602) 0.2部
光重合開始剤(チバ社製、商品名イルガキュア184) 0.5部
溶媒(酢酸エチル:メチルイソブチルケトン=1:1) 75部
(Example 2) A hologram self-adsorption label 40 of Example 3 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the following antifouling layer composition was used as the antifouling layer composition.
・ <Anti-fouling layer composition>
Purple light UT-4314
(Nippon GOHSEI, fluorine-containing compound UV curable resin product name) 25 parts Silicon compound (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., product name X-22-1602) 0.2 part Photopolymerization initiator (manufactured by Ciba, Product name Irgacure 184) 0.5 part Solvent (ethyl acetate: methyl isobutyl ketone = 1: 1) 75 parts

(実施例3)防汚層組成物として、下記の防汚層組成物を用いる以外は、実施例1と同様にして、実施例2のホログラム自己吸着ラベル40を得た。
・<防汚層組成物>
メタアクリレートオリゴマー(日本合成化学社製、商品名紫光6630B)25部
紫光UT−3841(日本合成化学社製、フッ素系化合物商品名) 0.7部
光重合開始剤(チバ社製、商品名イルガキュア184) 0.5部
溶媒(酢酸エチル:メチルイソブチルケトン=1:1) 75部
Example 3 A hologram self-adsorption label 40 of Example 2 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the following antifouling layer composition was used as the antifouling layer composition.
・ <Anti-fouling layer composition>
Methacrylate oligomer (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd., trade name: Murasaki 6630B) 25 parts Shiko UT-3841 (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd., trade name of fluorine compound) 0.7 parts Photopolymerization initiator (manufactured by Ciba, trade name: Irgacure) 184) 0.5 part Solvent (ethyl acetate: methyl isobutyl ketone = 1: 1) 75 parts

(実施例4〜6)被貼着体101として携帯電話を用い、液晶ディスプレイの表示画面へ、実施例1〜3のホログラム自己吸着ラベル40の剥離紙を剥離し除去して、露出した接着層29面に貼着して、実施例4〜6のホログラム付き媒体100を得た。   (Examples 4 to 6) A mobile phone is used as the adherend 101, and the release sheet of the hologram self-adsorption label 40 of Examples 1 to 3 is peeled off and removed from the display screen of the liquid crystal display. It stuck on the 29th surface and obtained the medium 100 with a hologram of Examples 4-6.

(評価)実施例1〜3のホログラム自己吸着ラベル40の防汚性保護層14面において、鉛筆硬度試験を、JIS−K−5400に準拠して測定したところ、2H以上の硬度を有していた。また、実施例1〜3のホログラム自己吸着ラベル40の防汚性保護層14面において、弱アルカリ性クリーナー〔クリーナーIC−100S:商品名(株式会社ライオン事務器製)〕をベンコットに浸漬して1kg荷重で30回往復した後に、絶対反射率及びヘイズ値を測定したが、著しい変化はなかった。なお、絶対反射率は島津製作所(株)製分光光度計(UV−3100PC:商品名)を用いて最表面の絶対反射率を測定し、ヘイズ値はJIS K 7105:1981「プラスチックの光学的特性試験方法」に準じて、最表面のヘイズ値を測定した。さらに、耐擦傷性評価試験として、実施例1〜3の防汚性保護層14表面を、#0000番のスチールウールを用いて、所定の摩擦荷重(200〜1000gの範囲内で200g毎に変化させた)で10往復摩擦し、その後のヘイズ値を測定したが、著しい変化はなかった。   (Evaluation) When the pencil hardness test was measured in accordance with JIS-K-5400 on the antifouling protective layer 14 surface of the hologram self-adsorption label 40 of Examples 1 to 3, it had a hardness of 2H or more. It was. Further, on the surface 14 of the antifouling protective layer 14 of the hologram self-adsorption label 40 of Examples 1 to 3, 1 kg of a weak alkaline cleaner [cleaner IC-100S: trade name (manufactured by Lion Corporation)] was immersed in a becot. After reciprocating 30 times with load, the absolute reflectance and haze value were measured, but there was no significant change. The absolute reflectance was measured by using a spectrophotometer (UV-3100PC: trade name) manufactured by Shimadzu Corporation, and the haze value was JIS K 7105: 1981 “Optical characteristics of plastics. The haze value of the outermost surface was measured according to “Test method”. Further, as a scratch resistance evaluation test, the surface of the antifouling protective layer 14 of Examples 1 to 3 was changed to a predetermined friction load (200 g within a range of 200 to 1000 g) using # 0000 steel wool. ), And the subsequent haze value was measured, but there was no significant change.

また、実施例4〜6のホログラム付き媒体100において、それぞれのホログラム自己吸着ラベル40部分を指で剥離すると容易に剥離でき、該剥離したラベルを再び貼着すると、正常に貼着でき、自己吸着性かつ再剥離性が確認することができた。さらに、実施例4〜6のホログラム付き媒体100ではホログラム(回折格子)の光輝性で意匠性にも優れていた。   Moreover, in the hologram-attached media 100 of Examples 4 to 6, each hologram self-adsorption label 40 portion can be easily removed by peeling with a finger, and when the peeled label is attached again, it can be normally attached and self-adsorption And re-peelability could be confirmed. Furthermore, the hologram-mounted media 100 of Examples 4 to 6 were excellent in design properties and the brightness of the hologram (diffraction grating).

本発明のホログラム自己吸着ラベルの製造方法に使用するホログラム転写箔の断面図である。It is sectional drawing of the hologram transfer foil used for the manufacturing method of the hologram self-adsorption label of this invention. 本発明のホログラム自己吸着ラベルの製造方法に使用する自己吸着ラベル転写箔の断面図である。It is sectional drawing of the self-adsorption label transfer foil used for the manufacturing method of the hologram self-adsorption label of this invention. 本発明のホログラム自己吸着ラベルの製造方法の積層工程を説明する断面図である。It is sectional drawing explaining the lamination process of the manufacturing method of the hologram self-adsorption label of this invention. 本発明のホログラム自己吸着ラベルの製造方法の露出工程を説明する断面図である。It is sectional drawing explaining the exposure process of the manufacturing method of the hologram self-adsorption label of this invention. 本発明の1実施例を示すホログラム自己吸着ラベルの断面図である。It is sectional drawing of the hologram self-adsorption label which shows one Example of this invention. 本発明のホログラム自己吸着ラベルを被貼着体へ貼着したホログラム付き媒体の断面図である。It is sectional drawing of the medium with a hologram which affixed the hologram self-adsorption label of this invention on the to-be-adhered body.

符号の説明Explanation of symbols

10:ホログラム転写箔
11:転写基材
14:防汚性保護層
15:ホログラム層
16:プライマ層
17:反射層
20:自己吸着ラベル
21:ラベル基材
23:剥離紙
29:接着層
30:積層体
39:接着剤層
40:ホログラム自己粘着ラベル
100:ホログラム付き媒体
101:被貼着体
10: Hologram transfer foil 11: Transfer base material 14: Antifouling protective layer 15: Hologram layer 16: Primer layer 17: Reflective layer 20: Self-adsorption label 21: Label base material 23: Release paper 29: Adhesive layer 30: Lamination Body 39: adhesive layer 40: hologram self-adhesive label 100: medium with hologram 101: adherend

Claims (3)

(1)転写基材と、該転写基材の一方の面に剥離層、ホログラム層及び反射層からなるホログラム転写箔を準備するホログラム転写箔準備工程と、(2)ラベル基材と、該ラベル基材の一方の面に、自己吸着性かつ再剥離性のある接着層を設け、該接着層面へ剥離自在に剥離紙を設けてなる自己吸着ラベルを準備する自己吸着ラベル準備工程と、(3)前記ホログラム転写箔の反射層面と前記自己吸着ラベルのラベル基材面とを接着剤層を介して積層して積層体とする積層工程と、(4)前記積層体から前記ホログラム転写箔の転写基材を剥離し除去して、剥離層面を露出させる露出工程と、(5)該露出した剥離層面へ、防汚性保護層を設ける防汚性保護層形成工程と、からなることを特徴とするホログラム自己吸着ラベルの製造方法。 (1) a transfer substrate, a hologram transfer foil preparation step for preparing a hologram transfer foil comprising a release layer, a hologram layer, and a reflective layer on one surface of the transfer substrate; (2) a label substrate and the label A self-adsorbing label preparing step of providing a self-adsorbing label having a self-adsorbing and re-peelable adhesive layer on one surface of the substrate, and a release paper provided on the adhesive layer surface so as to be peelable; (3 And (4) transferring the hologram transfer foil from the laminate by laminating the reflective layer surface of the hologram transfer foil and the label base material surface of the self-adsorbing label via an adhesive layer. It is characterized by comprising: an exposure step of peeling and removing the substrate to expose the release layer surface; and (5) an antifouling protective layer forming step of providing an antifouling protective layer on the exposed release layer surface. A method for manufacturing a hologram self-adsorption label. 請求項1に記載のホログラム自己吸着ラベルの製造方法で製造されており、前記防汚性保護層、剥離層、ホログラム層、反射層、接着剤層、ラベル基材、及び自己吸着性かつ再剥離性のある接着層からなり、前記防汚性保護層が、電離放射線硬化性樹脂と、該電離放射線硬化性樹脂と反応可能な官能基を末端に1つ以上有するフッ素系及び/又はケイ素系化合物とを含み、電離放射線の照射によって硬化されていることを特徴とするホログラム自己粘着ラベル。 A hologram self-adhesive label manufacturing method according to claim 1, wherein the antifouling protective layer, release layer, hologram layer, reflective layer, adhesive layer, label substrate, and self-adsorbing and re-peeling are manufactured. A fluorine-based and / or silicon-based compound having an adhesive layer, wherein the antifouling protective layer has an ionizing radiation curable resin and at least one functional group capable of reacting with the ionizing radiation curable resin at the terminal. A hologram self-adhesive label characterized by being cured by irradiation with ionizing radiation. 請求項2に記載のホログラム自己吸着ラベルの露出した接着層面を被貼着体へ貼着してなることを特徴とするホログラム付き媒体。 A medium with a hologram, wherein the exposed adhesive layer surface of the hologram self-adsorption label according to claim 2 is adhered to an adherend.
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