JP2009288276A - 実装構造体、電気光学装置および電子機器 - Google Patents

Abstract

【課題】フレキシブル配線基板が実装される被実装基板が透明基板あるいは不透明基板であるか否かにかかわらず、フレシブル配線基板の位置合わせを確実に行なうことのできる実装構造体、電気光学装置、および電子機器を提供すること。
【解決手段】電気光学装置に用いた第１基板１０において、フレキシブル配線基板９０が接続されている面側には、フレキシブル配線基板９０が重ねられる実装領域１３をＸ方向で挟む両側に位置合わせマーク１０３が形成されており、位置合わせマーク１０３は、Ｙ方向に複数、等間隔に配列されている。このため、第１基板１０が透明基板あるいは不透明基板であるか否かにかかわらず、フレシブル配線基板９０の位置合わせを確実に行なうことができる。
【選択図】図４

Description

本発明は、被実装基板にフレキシブル配線基板が接続された実装構造体、かかる実装構造体を備えた電気光学装置、および当該電気光学装置を備えた電子機器に関するものである。

アクティブマトリクス型液晶装置、有機エレクトロルミネッセンス表示装置、プラズマディスプレイなどの電気光学装置では、多数のデータ線と多数の走査線との各交点に相当する位置に画素が形成された素子基板が用いられており、かかる素子基板は、被実装基板としてフレキシブル配線基板が接続されて実装構造体を構成している。

このような実装構造体において、被実装基板では、フレキシブル配線基板が重なる実装領域内に複数のパッドが並んでおり、フレキシブル配線基板の端子と素子基板のパッドを精度よく重ねる必要がある。そこで、透光性基板からなる被実装基板において、その実装領域内にフレキシブル配線基板に対する位置合わせマークを形成しておくことが提案されている（特許文献１参照）。
特開平８−２４８４３１号公報

しかしながら、特許文献１に開示の構成のように実装領域内に位置合わせマークを形成した構成では、被実装基板が透光性基板であれば、裏面側から位置合わせマークを確認できるが、被実装基板として不透明基板を用いた場合には、フレキシブル配線基板の位置合わせが困難であるという問題点がある。

以上の問題点に鑑みて、本発明の課題は、フレキシブル配線基板が実装される被実装基板が透明基板あるいは不透明基板であるか否かにかかわらず、フレシブル配線基板の位置合わせを確実に行なうことのできる実装構造体、かかる実装構造体を備えた電気光学装置、および当該電気光学装置を備えた電子機器を提供することにある。

上記課題を解決するために、本発明では、フレキシブル配線基板と、前記フレキシブル配線基板が実装される実装領域を備えた被実装基板と、を有する実装構造体であって、前記実装領域には、前記被実装基板の一辺に沿って複数のパッドが配列しており、前記被実装基板において前記パッドが配列されている方向をＸ方向としたとき、前記被実装基板の前記フレキシブル配線基板が実装される面には、前記実装領域の外側であって前記Ｘ方向に挟む両側に、前記フレキシブル配線基板に対する位置合わせマークが、それぞれ形成されていることを特徴とする。

本発明では、被実装基板において、フレキシブル配線基板が接続される側の面には、フレキシブル配線基板が重なる実装領域をＸ方向で挟む両側に、フレキシブル配線基板に対する位置合わせマークが形成されているため、被実装基板にフレキシブル配線基板を重ねる際、被実装基板をフレキシブル配線基板が接続される面側から観察するだけで、フレキシブル配線基板と位置合わせマークとの位置関係を確認できる。従って、被実装基板が透明基板あるいは不透明基板であるか否かにかかわらず、フレシブル配線基板の位置合わせを確実に行なうことができる。また、位置合わせマークは、フレキシブル配線基板が重なる実装領域をＸ方向で挟む両側に形成されているため、位置合わせマークとフレキシブル配線基板との相対位置関係を観察すれば、フレキシブル配線基板のＸ方向の位置、フレキシブル配線基板のＹ方向の位置、およびフレキシブル配線基板の傾きのいずれをも合わせることができる。

本発明は、前記被実装基板が不透明基板である場合に適用すると特に効果的である。被実装基板が不透明基板である場合、被実装基板をフレキシブル配線基板が接続される面とは反対側から観察しても位置合わせマークを一切確認できないが、本発明によれば、位置合わせマークがフレキシブル配線基板が接続される側の面に形成されているので、被実装基板が不透明基板であっても、フレキシブル配線基板と位置合わせマークとの位置関係を確認することができる。

本発明において、前記位置合わせマークは、前記Ｘ方向に交わるＹ方向に延在する仮想の直線に対して、線対称に形成されていることが好ましい。このように構成すると、位置合わせマークとフレキシブル配線基板との隙間寸法を計測しなくても、実装領域の両側での位置合わせマークとフレキシブル配線基板との位置関係が同一となるようにフレキシブル配線基板を配置するだけでフレキシブル配線基板のＸ方向の位置、フレキシブル配線基板のＹ方向の位置、およびフレキシブル配線基板の傾きを合わせることができる。

本発明において、前記位置合わせマークは、前記実装領域の外側であって前記Ｘ方向に挟む両側に、当該Ｘ方向に交わるＹ方向に沿ってそれぞれ複数配列されていることが好ましい。このように構成すると、フレキシブル配線基板のＸ方向の位置、フレキシブル配線基板のＹ方向の位置、およびフレキシブル配線基板の傾きをより容易かつ確実に合わせることができる。

本発明において、前記Ｙ方向に沿って並ぶ前記複数の位置合わせマークには、形状が相違する複数種類の位置合わせマークが含まれていることが好ましい。

例えば、前記Ｙ方向に沿って並ぶ前記複数の位置合わせマークには、前記Ｘ方向のサイズが相違する複数種類の位置合わせマークが含まれていることが好ましい。このように構成すると、観察しやすいサイズの位置合わせマークを用いてフレキシブル配線基板の位置合わせを行なうという方法を採用することができる。

また、前記Ｙ方向に沿って並ぶ前記複数の位置合わせマークには、前記Ｙ方向のサイズが相違する複数種類の位置合わせマークが含まれている構成を採用してもよい。このように構成すると、観察しやすいサイズの位置合わせマークを用いてフレキシブル配線基板の位置合わせを行なうという方法を採用することができる。

本発明において、前記位置合わせマークは、前記パッドから分離した状態に形成されている構成を採用することができる。

本発明において、前記位置合わせマークは、前記複数のパッドのうち、前記実装領域の端部に位置するパッドと一体に形成されている構成を採用することができる。この場合、前記複数のパッドのうち、前記実装領域の端部に位置するパッドは、信号および電位の供給に用いられないダミーパッドである構成を採用することができる。

本発明において、前記位置合わせマークは、前記被実装基板に形成されている検査パターンに電気的に接続する検査パッドとして形成されている構成を採用してもよい。このように構成すると、実装領域をＸ方向で挟む両側領域を検査エリアとして有効利用することができる。

本発明において、前記パッドと前記位置合わせマークとは、前記被実装基板に積層された同一の導電膜からなることが好ましい。このように構成すると、位置合わせマークをパッドと同時形成することができるので、新たな工程を追加する必要がないとともに、実装領域の周辺に無駄な凹凸が形成されず、実装領域、およびそれらの周辺が概ね平坦となる。

本発明において、前記フレキシブル配線基板には、前記位置合わせマークとの相対位置が対比されるマークが形成されていることが好ましい。かかる構成を採用すれば、フレキシブル配線基板に形成したマークと位置合わせマークとの相対位置を確認してフレキシブル配線基板の位置合わせを行なうことができるので、フレキシブル配線基板の外形形状に誤差があっても、フレキシブル配線基板の位置を高い精度で合わせることができる。

本発明を適用した実装構造体は、アクティブマトリクス型液晶装置、有機エレクトロルミネッセンス表示装置、プラズマディスプレイなどの電気光学装置に用いることができる。この場合、前記被実装基板は、複数の画素の各々に画素電極が形成された電気光学装置用基板である。本発明を適用した電気光学装置が液晶装置である場合、前記電気光学装置用基板は、該電気光学装置用基板と対向配置された別の基板との間に液晶を保持することになる。また、本発明を適用した電気光学装置がエレクトロルミネッセンス装置である場合、前記電気光学装置用基板には、エレクトロルミネッセンス素子が形成されることになる。

本発明を適用した電気光学装置は、携帯電話機あるいはモバイルコンピュータなどの電子機器において直視型の表示部などとして用いられる。また、本発明を適用した電気光学装置が液晶装置である場合、投射型表示装置のライトバルブとして用いることもできる。

以下、本発明の実施の形態を説明する。以下の説明で参照する図においては、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材毎に縮尺を異ならしめてある。また、電界効果型トランジスタでは、印加する電圧によってソースとドレインが入れ替わるが、以下の説明では、説明の便宜上、画素電極が接続されている側をドレインとして説明する。なお、以下の説明では、被実装基板（電気光学装置用基板）上において、パッドが並ぶ方向をＸ方向とし、それに直交する方向をＹ方向として説明する。

［実施の形態１］
（全体構成）
図１は、本発明の実施の形態１に係る電気光学装置（液晶装置）に用いた素子基板の電気的な構成を示すブロック図である。図２（ａ）、（ｂ）は各々、本発明の実施の形態１に係る電気光学装置をその上に形成された各構成要素と共に対向基板の側から見た平面図、およびそのＨ−Ｈ′断面図である。

図１に示すように、本形態の電気光学装置１００は液晶装置であり、かかる電気光学装置１００に用いられる第１基板１０（電気光学装置用基板／被実装基板）の画素領域１０ｂには複数の画素１００ａがマトリクス状に形成されている。複数の画素１００ａの各々には、画素電極９ａ、および画素電極９ａを制御するための画素スイッチング用の電界効果型トランジスタ３０ａ（画素トランジスタ）が形成されている。また、第１基板１０において、画素領域１０ｂの外側領域にはデータ線駆動回路１０１および走査線駆動回路１０４が形成されている。ここで、データ線駆動回路１０１からＹ方向に延びたデータ線６ａは、電界効果型トランジスタ３０ａのソースに電気的に接続されており、データ線駆動回路１０１は、データ線６ａに画像信号を線順次で供給する。走査線駆動回路１０４からＸ方向に延びた走査線３ａは、電界効果型トランジスタ３０ａのゲートに電気的に接続されており、走査線駆動回路１０４は、走査線３ａに走査信号を順次排他的に供給する。画素電極９ａは、電界効果型トランジスタ３０ａのドレインに電気的に接続されており、電気光学装置１００では、電界効果型トランジスタ３０ａを一定期間だけそのオン状態とすることにより、データ線６ａから供給される画像信号を各画素１００ａの液晶容量５０ａに所定のタイミングで書き込む。

液晶容量５０ａに書き込まれた所定レベルの画像信号は、第１基板１０に形成された画素電極９ａと、後述する対向基板の共通電極との間で一定期間保持される。画素電極９ａと共通電極との間には蓄積容量６０が形成されており、画素電極９ａの電圧は、例えば、ソース電圧が印加された時間よりも３桁も長い時間だけ保持される。これにより、電荷の保持特性は改善され、コントラスト比の高い表示を行うことのできる電気光学装置１００が実現される。本形態では、蓄積容量６０を構成するにあたって、走査線３ａと並行するように容量線３ｂが形成されているが、前段の走査線３ａとの間に蓄積容量６０が形成される場合もある。本形態では、電気光学装置１００として、ＴＮ（Twisted Nematic）モードあるいはＶＡＮ（Vertically Aligned Nematic）モードを採用した液晶装置を例に説明するが、ＦＦＳ（Fringe Field Switching）モードの液晶装置の場合、共通電極は、画素電極９ａと同様、第１基板１０上に形成される。

図２（ａ）、（ｂ）に示す電気光学装置１００は、反射型のアクティブマトリクス型液晶装置である。この電気光学装置１００では、素子基板としての第１基板１０（電気光学装置用基板／被実装基板）の上にシール材１０７が矩形枠状に設けられており、シール材１０７によって、第１基板１０は、対向基板としての第２基板２０と所定の隙間を介して貼り合わされている。第２基板２０とシール材１０７とは略同一の輪郭を備えており、シール材１０７で囲まれた領域内に液晶層５０が保持されている。なお、シール材１０７の角部分などには第１基板１０と第２基板２０との間で電気的な接続を行なうための基板間導通部（図示せず）が配置されている。また、図示を省略するが、シール材１０７は一部が途切れており、かかる途切れ部分を利用して、シール材１０７で囲まれた領域内に液晶を充填するとともに、液晶を充填後、途切れ部分は封止材で塞がれる。

第１基板１０において、画素領域１０ｂの外側領域には、データ線駆動回路１０１、および複数のパッド１０２がＸ方向に並ぶパッド配列領域１２が、第１基板１０においてＸ方向に延在する一辺（基板縁１ｙ）に沿って形成されており、図２（ｂ）に示すように、パッド配列領域１２から基板縁１ｙを覆うように、外部回路との電気的な接続を行なうフレキシブル配線基板９０が接続されている。このため、第１基板１０とフレキシブル配線基板９０とは実装構造体を構成している。

また、第１基板１０において、画素領域１０ｂの外側領域には、基板縁１ｙに隣接する２辺に沿って走査線駆動回路１０４が形成されている。なお、第１基板１０には、プリチャージ回路や検査回路などの周辺回路が形成されることもある。詳しくは後述するが、第１基板１０には、画素電極９ａがマトリクス状に形成されており、かかる画素電極９ａの表面には配向膜（図示せず）が形成されている。

第２基板２０には、データ線駆動回路１０１および走査線駆動回路１０４と対向する領域に遮光膜２３ｂが形成されており、かかる遮光膜２３ｂは、データ線駆動回路１０１および走査線駆動回路１０４に光が入射することを防止するともに、額縁としての機能を担っている。第２基板２０にはＩＴＯ（Indium Tin Oxide）膜からなる共通電極２１が形成され、画素電極９ａの表面には配向膜（図示せず）が形成されている。ここで、遮光膜２３ｂを共通電極２１と接続しておけば、遮光膜２３ｂを共通電極２１と同一の電位に保持することができる。第２基板２０には、第１基板１０の画素電極９ａの縦横の境界領域と対向する領域にブラックマトリクス、あるいはブラックストライプなどと称せられる遮光膜（図示せず）が形成されることもあり、かかる遮光膜は、遮光膜２３ｂと同一の遮光材料から形成される。さらに、電気光学装置１００をカラー表示用の液晶装置として構成する場合、第２基板２０には各色のカラーフィルタが形成される。

本形態では、第１基板１０の基材として半導体基板１が用いられている。また、第１基板１０では、半導体基板１の裏面にガラスあるいはセラミック等からなる補強基板を接合して強度を高めた構造を採用することもある。これらいずれの形態を採用した場合でも、第１基板１０は不透明基板である。

（画素の詳細な構成）
図３（ａ）、（ｂ）は各々、本発明の実施の形態１に係る電気光学装置１００の相隣接する画素１つ分の平面図、および画素１つ分の断面図である。なお、図３（ｂ）は図３（ａ）のＸ−Ｘ′線における断面図であり、図３（ａ）では、走査線３ａおよびそれと同時形成された導電膜は太い実線で示し、データ線６ａなどの第１導電層は太い一点鎖線で示し、ドレイン電極などの第２導電層は二点鎖線で示し、フィールド酸化膜の除去領域は短い点線で示し、画素電極９ａは長い点線で示してある。

図３（ａ）において、第１基板１０の両面のうち、主面１ｚ上には、データ線６ａと走査線３ａとの交差に対応して複数の画素１００ａがマトリクス状に配置され、複数の画素１００ａの各々に光反射性の画素電極９ａが形成されている。第１基板１０には、走査線３ａと並列して容量線３ｂが形成されている。

図３（ｂ）に示す第１基板１０では、その基材として、単結晶シリコンのようなＰ型の半導体基板１が用いられており、半導体基板１の表面には、半導体基板１より不純物濃度の高いＰ型のウェル領域１ｘが形成されている。ウェル領域１ｘは、複数の画素１００ａの各々に形成されている構成を採用できるが、本形態では、全ての画素１００ａに対して共通のウェル領域として形成されている。但し、画素領域１０ｂのウェル領域１ｘと、データ線駆動回路１０１や走査線駆動回路１０４などが形成されているウェル領域とは必要に応じて分離して形成することもある。

半導体基板１の表面には、選択熱酸化により、厚さが５００〜７００ｎｍのＬＯＣＯＳ(Local Oxidation of Silicon)膜からなるフィールド酸化膜１ｇが形成されており、フィールド酸化膜１ｇには一画素につき２つの開口部１ｔ、１ｕが形成されている。一方の開口部１ｔにはゲート絶縁膜２ａが形成されており、ゲート絶縁膜２ａの上にはポリシリコンあるいはメタルシリサイド等からなる走査線３ａがゲート電極として通っている。ゲート絶縁膜２ａは、熱酸化によって形成された二酸化シリコン膜であり、厚さは４０〜８０ｎｍである。走査線３ａは、ポリシリコン膜により形成する場合には１００〜２００ｎｍの厚さに形成され、高融点金属のシリサイド膜により形成する場合には１００〜３００ｎｍの厚さに形成される。半導体基板１の表面において、走査線３ａの両側にはウェル領域１ｘよりも不純物濃度が高いＮ型ドープ領域からなるソース領域１ｆおよびドレイン領域１ｅが形成されており、それにより、図１を参照して説明した電界効果型トランジスタ３０ａが構成されている。ソース領域１ｆおよびドレイン領域１ｅは、走査線３ａをマスクとしてＮ型不純物をイオン打ち込みすることにより自己整合的に形成されている。

フィールド酸化膜１ｇに形成された他方の開口部１ｕの基板表面にはＰ型ドープ領域１ｈが形成されているとともに、このＰ型ドープ領域１ｈの表面には、熱酸化によりゲート絶縁膜２ａと同時形成された二酸化シリコン膜からなる誘電体膜２ｂが形成されている。誘電体膜２ｂの上には、ポリシリコンあるいはメタルシリサイド等からなる容量線３ｂが通っており、かかる容量線３ｂは、走査線３ａと同時形成されてなる。このようにして、容量線３ｂ、誘電体膜２ｂおよびＰ型ドープ領域１ｈによって蓄積容量６０が構成されている。

走査線３ａ、容量線３ｂおよびフィールド酸化膜１ｇの上には第１層間絶縁膜７１が形成されており、第１層間絶縁膜７１上にはデータ線６ａおよびドレイン電極６ｂが第１導電層として形成されている。データ線６ａおよびドレイン電極６ｂは、第１層間絶縁膜７１およびゲート絶縁膜２ａに形成されたビアホール７１ａ、７１ｂを介してソース領域１ｆおよびドレイン領域１ｅに電気的に接続されている。ドレイン電極６ｂは、第１層間絶縁膜７１およびゲート絶縁膜２ａに形成したビアホール７１ｃを介して蓄積容量６０を構成するＰ型ドープ領域１ｈにも電気的に接続されている。ビアホール７１ａ、７１ｂ、７１ｃは、同一の工程により同時形成される。データ線６ａおよびドレイン電極６ｂは同時形成された導電膜からなり、例えば、厚さが１０〜６０ｎｍのＴｉ膜（下層）、厚さが１００ｎｍ程度のＴｉＮ膜（中間層）、および厚さが３０〜６０ｎｍのＴｉ膜（上層）からなる積層膜により構成されている。

データ線６ａおよびドレイン電極６ｂの上には第２層間絶縁膜７２が形成されている。第２層間絶縁膜７２は、例えばＬＴＯ（Low Temperature Oxide)からなる二酸化シリコン膜などの絶縁膜を形成後、ＳＯＧ（Spin On Glass）からなる平坦化膜を塗布、エッチバックなどの平坦化処理後、再びＬＴＯ等の絶縁膜を形成することにより構成される。

第２層間絶縁膜７２の上には、第２導電層として、アルミニウムなどの層からなる遮光膜８ａ、および中継電極８ｂが形成されており、中継電極８ｂは、第２層間絶縁膜７２に形成したビアホール７２ａを介してドレイン電極６ｂに電気的に接続されている。遮光膜８ａは、第２基板２０の側から入射した光が電界効果型トランジスタ３０ａに入射するのを防止する。中継電極８ｂは、ドレイン電極６ｂと重なる領域に島状に形成されている一方、遮光膜８ａは、中継電極８ｂとの間に隙間８ｎを介して中継電極８ｂの周りを囲むように形成されている。

遮光膜８ａおよび中継電極８ｂの上方には、耐湿性絶縁膜としての窒化シリコン膜７３が１００〜５００ｎｍの厚さで形成され、その上にはＬＴＯからなる二酸化シリコン膜７４が形成されている。これらの窒化シリコン膜７３と二酸化シリコン膜７４とからなる絶縁膜７０は、第３層間絶縁膜として機能する。窒化シリコン膜７３および二酸化シリコン膜７４は各々、減圧ＣＶＤ法などにより形成される。絶縁膜７０の厚さは８００〜１２００ｎｍであり、絶縁膜７０の表面は、ＣＭＰ（化学的機械研磨）法などにより平坦化されている。なお、耐湿性絶縁膜としては、窒化シリコン膜７３に代えて、酸窒化シリコン膜を用いることもできる。

絶縁膜７０の上には、アルミニウム、銀、あるいはそれらの合金膜などからなる光反射性の画素電極９ａが形成されており、絶縁膜７０において、画素電極９ａと中継電極８ｂとの重なり部分にはビアホール７０ａが形成されている。ビアホール７０ａの内部には、ＣＶＤ法などにより形成された導電膜が接続プラグ４ａとして埋め込まれており、画素電極９ａは、接続プラグ４ａを介して中継電極８ｂに電気的に接続されている。このようにして、画素電極９ａは、接続プラグ４ａ、中継電極８ｂ、ドレイン電極６ｂを介して、電界効果型トランジスタ３０ａのドレイン領域１ｅに電気的に接続されている。さらに、画素電極９ａの表面側には配向膜（図示せず）が形成されている。

（パッド配列領域およびその周辺の構成）
図４（ａ）、（ｂ）、（ｃ）は各々、本発明の実施の形態１に係る電気光学装置１００に用いた第１基板１０のパッド配列領域１２周辺の構成を模式的に示す平面図、パッド１０２の断面図、および位置合わせマーク１０３の断面図である。図４（ｂ）は、図４（ａ）のＣ１−Ｃ１′断面図に相当し、図４（ｃ）は、図４（ａ）のＤ１−Ｄ１′断面図に相当する。図５（ａ）、（ｂ）は各々、本発明の実施の形態１に係る電気光学装置１００に用いた第１基板１０のパッド配列領域１２にフレキシブル配線基板を実装した状態を模式的に示す平面図、およびその断面図である。図５（ｂ）は、図５（ａ）のＣ２−Ｃ２′断面図に相当する。なお、図４（ａ）では、パッド１０２および位置合わせマーク１０３を右上がりの斜線を付した領域として示し、フレキシブル配線基板９０を一点鎖線で示し、第１基板１０上におけるフレキシブル配線基板９０の実装領域１３を二点鎖線で示してある。また、図５（ａ）では、フレキシブル配線基板９０を右下がりの斜線を付した領域として示し、パッド１０２および位置合わせマーク１０３のうち、フレキシブル配線基板９０から露出している部分については右上がりの斜線を付した領域として示し、第１基板１０上におけるフレキシブル配線基板９０の実装領域１３を一点鎖線で示してある。

図４（ａ）、（ｂ）、および図５（ａ）、（ｂ）に示すように、第１基板１０の両面のうち、主面１ｚの側には、Ｙ方向の短冊状に延びた複数のパッド１０２が形成されており、これらのパッド１０２は、Ｘ方向に並んでパッド配列領域１２を構成している。

このようなパッド１０２を構成するにあたって、本形態では、まず、半導体基板１の表面には素子分離用の厚いフィールド酸化膜１ｉが形成されており、かかるフィールド酸化膜１ｉは、図３（ｂ）に示すフィールド酸化膜１ｇなどと同時形成されたシリコン酸化膜である。フィールド酸化膜１ｉの上には第１層間絶縁膜７１が形成されており、第１層間絶縁膜７１の上には第１導電層６ｅが形成されている。第１導電層６ｅは、図３（ｂ）を参照して説明したデータ線６ａおよびドレイン電極６ｂと同時形成された導電膜であり、配線を構成している。第１導電層６ｅの上には第２層間絶縁膜７２が形成され、第２層間絶縁膜７２の上には第２導電層８ｅが形成されている。第２導電層８ｅは、図３（ｂ）に示す遮光膜８ａおよび中継電極８ｂと同時形成された導電膜である。なお、パッド配列領域１２においても、第２導電層８ｅの上には、耐湿性絶縁膜としての窒化シリコン膜７３や二酸化シリコン膜７４からなる絶縁膜７０（図３（ｂ）参照）が形成される場合があるが、本形態では、絶縁膜７０が形成されていない構成例を示してある。第２導電層８ｅは、第２層間絶縁膜７２に形成されたビアホール７２ｅを介して、配線としての第１導電層６ｅに電気的に接続されており、パッド１０２として利用される。

本形態の第１基板１０を電気光学装置１００に用いる際、パッド配列領域１２には、図５（ａ）、（ｂ）に示すように、フィルム状の異方性導電膜（Anisotropic Conductive Film）、あるいはペースト状の異方性導電剤からなる異方性導電材９５によりフレキシブル配線基板９０が接続される。かかるフレキシブル配線基板９０には、樹脂基材９２上に、パッド１０２に電気的に接続される配線パターン９１がパッド１０２の延長線と重なるように帯状に形成されている。異方性導電材９５では、樹脂マトリクス９７中に導電粒子９６が分散されており、第１基板１０とフレキシブル配線基板９０は、異方性導電材９５の樹脂マトリクス９７により固定されるとともに、パッド１０２と配線パターン９１とが電気的に接続されている。

本形態では、複数のパッド１０２のうち、Ｘ方向の両端部に形成されたパッド１０２は、信号や電位の供給に用いられないダミーのパッドである。このようなダミーのパッド１０２も、異方性導電材９５を介してフレキシブル配線基板９０の配線パターン９１に接続されているため、第１基板１０とフレキシブル配線基板９０の接続強度が高い。

（位置合わせマーク１０３の構成）
このようにしてフレキシブル配線基板９０を第１基板１０に接続する際、第１基板１０のパッド１０２とフレキシブル配線基板９０の配線パターン９１とを精度よく重ねる必要があり、それには、第１基板１０に対してフレキシブル配線基板９０のＸ方向の位置、Ｙ方向の位置、および傾きθを精度よく合わせる必要がある。但し、本形態では、第１基板１０は不透明であり、かつ、第１基板１０とフレキシブル配線基板９０との間に異方性導電材９５が介在しているので、第１基板１０の裏面側から、パッド１０２とフレキシブル配線基板９０の配線パターン９１とを直接、観察しながら位置合わせすることが困難である。また、フレキシブル配線基板９０には配線パターン９１の他、多数の導電パターンなどが形成され、かつ、第１基板１０とフレキシブル配線基板９０との間に異方性導電材９５が介在しているので、フレキシブル配線基板９０の側から、パッド１０２とフレキシブル配線基板９０の配線パターン９１とを直接、観察しながら位置合わせすることが困難である。

そこで、本形態では、第１基板１０においてフレキシブル配線基板９０が接続される主面１ｚの側には、フレキシブル配線基板９０が重ねられる実装領域１３をＸ方向で挟む両側に、フレキシブル配線基板９０に対する位置合わせマーク１０３が形成されている。本形態において、実装領域１３をＸ方向で挟む両側のいずれにおいても、位置合わせマーク１０３は、Ｙ方向に複数、等間隔に配列されており、本形態では、位置合わせマーク１０３として、４つの位置合わせマーク１０３ａ、１０３ｂ、１０３ｃ、１０３ｄが形成されている例を示してある。

ここで、４つの位置合わせマーク１０３ａ、１０３ｂ、１０３ｃ、１０３ｄはいずれも、パッド１０２から分離して形成されている。また、４つの位置合わせマーク１０３は、実装領域１３の両側で実装領域１３を中心に対称に形成されている。すなわち、実装領域１３をＸ方向で２等分する位置でＹ方向に延びる線を中心にして、４つの位置合わせマーク１０３は、実装領域１３の両側で線対称（鏡像）になるように形成されている。

また、４つの位置合わせマーク１０３はいずれも、Ｘ方向に延在する長方形に形成されているが、４つの位置合わせマーク１０３の形状（形態）は相違している。より具体的に説明すると、位置合わせマーク１０３は、いずれも幅寸法（Ｙ方向のサイズ）は等しいが、長さ寸法（Ｘ方向のサイズ）が互いに相違しており、４つの位置合わせマーク１０３は、基板縁１ｙに遠いものから基板縁１ｙに近づくに従って短くなっている。このため、４つの位置合わせマーク１０３は実装領域１３の側に位置する端部のＸ方向の位置が互いに一致しているが、実装領域１３の側とは反対側に位置する端部は、基板縁１ｙに遠いものから基板縁１ｙに近づくに従って、実装領域１３からＸ方向に離間する位置にある。

このような構成を実現するにあたって、本形態では、図４（ｃ）に示すように、位置合わせマーク１０３をパッド１０２と同時形成された第２導電層膜８ｓ（金属膜）によって形成してある。このため、位置合わせマーク１０３の下層側には、パッド１０２と同様、半導体基板１上に積層されたフィールド酸化膜１ｉ、第１層間絶縁膜７１、データ線６ａおよびドレイン電極６ｂと同時形成された第１導電層６ｓ、第２層間絶縁膜７２が形成されており、かかる第２層間絶縁膜７２の上に、位置合わせマーク１０３を構成する第２導電層８ｅが形成されている。

このため、位置合わせマーク１０３は、パッド１０２と同時形成することができるので、新たな工程を追加する必要がないとともに、パッド配列領域１２および実装領域１３の周辺に無駄な凹凸が形成されず、パッド配列領域１２、実装領域１３、およびそれらの周辺は概ね平坦である。

（フレキシブル配線基板９０の接続工程）
このように構成した第１基板１０にフレキシブル配線基板９０を接続するには、第１基板１０のパッド配列領域１２と、フレキシブル配線基板９０との間に異方性導電材９５を挟んだ状態で、第１基板１０のパッド配列領域１２に重なるようにフレキシブル配線基板９０を位置合わせした後、フレキシブル配線基板９０を加熱しながら第１基板１０を圧着すると、第１基板１０とフレキシブル配線基板９０は、異方性導電材９５の樹脂マトリクス９７により固定されるとともに、パッド１０２と配線パターン９１とが電気的に接続される。

このような実装工程において、第１基板１０にフレキシブル配線基板９０を位置合わせする際、本形態では、目視あるいは画像処理装置によって、第１基板１０においてフレキシブル配線基板９０が配置される主面１ｚの側から、フレキシブル配線基板９０と位置合わせマーク１０３との相対位置を確認しながら、フレキシブル配線基板９０の位置合わせを行なう。すなわち、本形態では、第１基板１０においてフレキシブル配線基板９０が重ねられる実装領域１３をＸ方向で挟む両側には位置合わせマーク１０３が形成されているため、第１基板１０のパッド配列領域１２に重なるようにフレキシブル配線基板９０を位置合わせする際、フレキシブル配線基板９０においてＸ方向に延在する先端縁９０ａ、およびＹ方向に延在する側端縁９０ｂと、位置合わせマーク１０３との相対位置を確認する。

例えば、フレキシブル配線基板９０の先端縁９０ａが、位置合わせマーク１０３のうち、位置合わせマーク１０３ａのＹ方向の両側端部のうち、第１基板１０の基板縁１ｙから離れた方に位置する側端部１０３ｙの延長線上に位置するようにフレキシブル配線基板９０を配置すれば、フレキシブル配線基板９０をＹ方向において高い精度をもって位置合わせすることができる。かかる位置合わせをＸ方向の両側で行なえば、フレキシブル配線基板９０の傾き（矢印θで示す姿勢）を高い精度をもって合わせることができる。

また、本形態では、位置合わせマーク１０３を利用して、フレキシブル配線基板９０のＸ方向の位置も合わせる。例えば、フレキシブル配線基板９０のＸ方向の両側でフレキシブル配線基板９０の側端縁９０ｂと、位置合わせマーク１０３との間に隙間が一切発生しないようにフレキシブル配線基板９０を配置する。または、フレキシブル配線基板９０の側端縁９０ｂからＸ方向の両側からはみ出している位置合わせマーク１０３のＸ方向の寸法をフレキシブル配線基板９０のＸ方向の両側で対比し、それらが等しくなるようにフレキシブル配線基板９０を配置する。また、フレキシブル配線基板９０の側端縁９０ｂと、位置合わせマーク１０３との隙間寸法がＸ方向の両側で一致するようにフレキシブル配線基板９０を配置してもよい。これらいずれの方法を採用した場合も、フレキシブル配線基板９０をＸ方向において高い精度をもって位置合わせすることができる。

さらに、フレキシブル配線基板９０の側端縁９０ｂと位置合わせマーク１０３との位置関係が４つの位置合わせマーク１０３ａ、１０３ｂ、１０３ｃ、１０３ｄのいずれにおいても揃えば、フレキシブル配線基板９０の傾き（矢印θで示す姿勢）が適正であることがわかる。さらにまた、本形態のように、パッド１０２の先端部１０２ａがフレキシブル配線基板９０の先端縁９０ａが突出するようにフレキシブル配線基板９０を実装する場合には、パッド１０２の先端部１０２ａとフレキシブル配線基板９０の側端縁９０ｂとの位置関係を確認して、フレキシブル配線基板９０のＸ方向の位置を確認してもよい。

（本形態の主な効果）
以上説明したように、本形態の電気光学装置１００では、第１基板１０（被実装基板）において、フレキシブル配線基板９０が接続される側の主面１ｚには、フレキシブル配線基板９０が重なる実装領域１３をＸ方向で挟む両側に、フレキシブル配線基板９０に対する位置合わせマーク１０３が形成されているため、第１基板１０にフレキシブル配線基板９０を重ねる際、第１基板１０をフレキシブル配線基板９０が接続される面側から観察するだけで、フレキシブル配線基板９０と位置合わせマーク１０３との位置関係を確認できる。従って、本形態のように、第１基板１０の基材が半導体基板１であって、第１基板１０が不透明である場合でも、フレキシブル配線基板９０の位置合わせを確実に行なうことができる。また、位置合わせマーク１０３は、フレキシブル配線基板９０が重なる実装領域１３をＸ方向で挟む両側に形成されているため、位置合わせマーク１０３とフレキシブル配線基板９０との相対位置関係を観察すれば、フレキシブル配線基板９０のＸ方向の位置、フレキシブル配線基板９０のＹ方向の位置、およびフレキシブル配線基板９０の傾きのいずれをも合わせることができる。

また、本形態において、位置合わせマーク１０３は、実装領域１３の両側で実装領域１３の中心に対称に形成されているため、位置合わせマーク１０３とフレキシブル配線基板９０との位置関係を絶対値で管理しなくても、実装領域１３の両側での位置合わせマーク１０３とフレキシブル配線基板９０との位置関係が同一となるようにフレキシブル配線基板９０を配置するだけでフレキシブル配線基板９０のＸ方向の位置、フレキシブル配線基板９０のＹ方向の位置、およびフレキシブル配線基板９０の傾きを合わせることができる。

さらに、本形態では、位置合わせマーク１０３がＹ方向に複数配列されているため、フレキシブル配線基板９０のＸ方向の位置、フレキシブル配線基板９０のＹ方向の位置、およびフレキシブル配線基板９０の傾きをより容易かつ確実に合わせることができる。

さらにまた、Ｙ方向で並ぶ複数の位置合わせマーク１０３には、Ｘ方向のサイズが相違する複数種類の位置合わせマークが含まれているため、画像処理装置の解像度に応じて、あるいはフレキシブル配線基板９０のＸ方向のサイズに応じて、複数の位置合わせマーク１０３のうち、最適なサイズの位置合わせマーク１０３を用いてフレキシブル配線基板９０の位置合わせを行なうことができる。

［実施の形態２］
図６（ａ）、（ｂ）は各々、本発明の実施の形態２に係る電気光学装置１００に用いた第１基板１０のパッド配列領域１２周辺の構成を模式的に示す平面図、およびパッド配列領域１２にフレキシブル配線基板９０を実装した状態を模式的に示す平面図である。なお、本形態の基本的な構成は実施の形態１と同様であるため、共通する部分には同一の符号を付して図示し、それらの説明を省略する。なお、図６（ａ）、（ｂ）は各々、図４（ａ）および図５（ａ）に対応する図面であり、図６（ａ）において、パッド１０２および位置合わせマーク１０３を右上がりの斜線を付した領域として示し、フレキシブル配線基板９０を一点鎖線で示し、第１基板１０上におけるフレキシブル配線基板９０の実装領域１３を二点鎖線で示してある。また、図６（ｂ）では、フレキシブル配線基板９０を右下がりの斜線を付した領域として示し、パッド１０２および位置合わせマーク１０３のうち、フレキシブル配線基板９０から露出している部分については右上がりの斜線を付した領域として示し、第１基板１０上におけるフレキシブル配線基板９０の実装領域１３を一点鎖線で示してある。

図６（ａ）、（ｂ）に示すように、本形態の電気光学装置１００でも、実施の形態１と同様、第１基板１０の主面１ｚには、複数のパッド１０２がＸ方向に配列されたパッド配列領域１２が形成されており、パッド配列領域１２にはフレキシブル配線基板９０が接続される。また、第１基板１０の主面１ｚには、フレキシブル配線基板９０が重ねられる実装領域１３をＸ方向で挟む両側に、フレキシブル配線基板９０に対する位置合わせマーク１０３（位置合わせマーク１０３ａ、１０３ｂ、１０３ｃ、１０３ｄ）が形成されており、位置合わせマーク１０３は、Ｙ方向に複数、等間隔に配列されている。ここで、４つの位置合わせマーク１０３は、実装領域１３の両側で実装領域１３の中心に対称に形成されており、実装領域１３の両側で線対称（鏡像）になるように形成されている。

また、４つの位置合わせマーク１０３はいずれも、Ｘ方向に延在する長方形に形成されているが、４つの位置合わせマーク１０３の形態は相違している。より具体的に説明すると、位置合わせマーク１０３は、いずれも長さ寸法（Ｘ方向のサイズ）は等しいが、幅寸法（Ｙ方向のサイズ）が互いに相違しており、４つの位置合わせマーク１０３は、基板縁１ｙに遠いものから基板縁１ｙに近づくに従って細くなっている。

このような構成の位置合わせマーク１０３を形成した場合も、第１基板１０にフレキシブル配線基板９０を重ねる際、第１基板１０をフレキシブル配線基板９０が接続される面側から観察するだけで、フレキシブル配線基板９０と位置合わせマーク１０３との位置関係を確認できる。従って、本形態のように、第１基板１０の基材が半導体基板１であって、第１基板１０が不透明である場合でも、フレキシブル配線基板９０の位置合わせを確実に行なうことができる。また、位置合わせマーク１０３は、フレキシブル配線基板９０が重なる実装領域１３をＸ方向で挟む両側に形成されているため、位置合わせマーク１０３とフレキシブル配線基板９０との相対位置関係を観察すれば、フレキシブル配線基板９０のＸ方向の位置、フレキシブル配線基板９０のＹ方向の位置、およびフレキシブル配線基板９０の傾きのいずれをも合わせることができるなど、実施の形態１と同様な効果を奏する。

また、本形態では、Ｙ方向で並ぶ複数の位置合わせマーク１０３には、Ｙ方向のサイズ（幅寸法）が相違する複数種類の位置合わせマークが含まれているため、位置合わせマーク１０３ａ、１０３ｂ、１０３ｃ、１０３ｄのうち、画像処理装置の解像度に適した位置合わせマーク１０３によって位置合わせを行なうなど、観察しやすいサイズの位置合わせマーク１０３を用いてフレキシブル配線基板９０の位置合わせを行なうことができる。

［実施の形態３］
図７（ａ）、（ｂ）は各々、本発明の実施の形態３に係る電気光学装置１００に用いた第１基板１０のパッド配列領域１２周辺の構成を模式的に示す平面図、およびパッド配列領域１２にフレキシブル配線基板９０を実装した状態を模式的に示す平面図である。なお、本形態の基本的な構成は実施の形態１と同様であるため、共通する部分には同一の符号を付して図示し、それらの説明を省略する。

図７（ａ）、（ｂ）に示すように、本形態の電気光学装置１００でも、実施の形態１、２と同様、第１基板１０の主面１ｚには、フレキシブル配線基板９０が重ねられる実装領域１３をＸ方向で挟む両側に、フレキシブル配線基板９０に対する位置合わせマーク１０３（位置合わせマーク１０３ａ、１０３ｂ、１０３ｃ、１０３ｄ）が形成されており、位置合わせマーク１０３は、Ｙ方向に複数、等間隔に配列されている。ここで、４つの位置合わせマーク１０３は、実装領域１３の両側で実装領域１３の中心に対称に形成されており、実装領域１３の両側で線対称（鏡像）になるように形成されている。

本形態において、４つの位置合わせマーク１０３はいずれも、Ｘ方向に延在する長方形に形成されており、その形状およびサイズが同一である。

このような構成の位置合わせマーク１０３を形成した場合も、第１基板１０にフレキシブル配線基板９０を重ねる際、第１基板１０をフレキシブル配線基板９０が接続される面側から観察するだけで、フレキシブル配線基板９０と位置合わせマーク１０３との位置関係を確認できる。従って、本形態のように、第１基板１０の基材が半導体基板１であって、第１基板１０が不透明である場合でも、フレキシブル配線基板９０の位置合わせを確実に行なうことができる。また、位置合わせマーク１０３は、フレキシブル配線基板９０が重なる実装領域１３をＸ方向で挟む両側に形成されているため、位置合わせマーク１０３とフレキシブル配線基板９０との相対位置関係を観察すれば、フレキシブル配線基板９０のＸ方向の位置、フレキシブル配線基板９０のＹ方向の位置、およびフレキシブル配線基板９０の傾きのいずれをも合わせることができるなど、実施の形態１と略同様な効果を奏する。

［実施の形態４］
図８（ａ）、（ｂ）は各々、本発明の実施の形態４に係る電気光学装置１００に用いた第１基板１０のパッド配列領域１２周辺の構成を模式的に示す平面図、およびパッド配列領域１２にフレキシブル配線基板９０を実装した状態を模式的に示す平面図である。なお、本形態の基本的な構成は実施の形態１と同様であるため、共通する部分には同一の符号を付して図示し、それらの説明を省略する。

図８（ａ）、（ｂ）に示すように、本形態の電気光学装置１００でも、実施の形態１、２と同様、第１基板１０の主面１ｚには、フレキシブル配線基板９０が重ねられる実装領域１３をＸ方向で挟む両側に、フレキシブル配線基板９０に対する位置合わせマーク１０３（位置合わせマーク１０３ａ、１０３ｂ、１０３ｃ、１０３ｄ）が形成されており、位置合わせマーク１０３は、Ｙ方向に複数、等間隔に配列されている。ここで、４つの位置合わせマーク１０３は、実装領域１３の両側で実装領域１３の中心に対称に形成されており、実装領域１３の両側で線対称（鏡像）になるように形成されている。

また、４つの位置合わせマーク１０３はいずれも、複数のパッド１０２のうち、Ｘ方向の両端部に位置するパッド１０２（ダミーパッド）と一体に形成されている。

このような構成の位置合わせマーク１０３を形成した場合も、第１基板１０にフレキシブル配線基板９０を重ねる際、第１基板１０をフレキシブル配線基板９０が接続される面側から観察するだけで、フレキシブル配線基板９０と位置合わせマーク１０３との位置関係を確認できるなど、実施の形態１と同様な効果を奏する。

なお、本形態では、位置合わせマーク１０３とダミーのパッド１０２と一体に形成するという構成を実施の形態１に適用したが、位置合わせマーク１０３とダミーのパッド１０２と一体に形成するという構成は、実施の形態２、あるいは実施の形態３に適用してもよい。

［実施の形態５］
図９（ａ）、（ｂ）は各々、本発明の実施の形態５に係る電気光学装置１００に用いた第１基板１０のパッド配列領域１２周辺の構成を模式的に示す平面図、およびパッド配列領域１２にフレキシブル配線基板９０を実装した状態を模式的に示す平面図である。なお、本形態の基本的な構成は実施の形態１と同様であるため、共通する部分には同一の符号を付して図示し、それらの説明を省略する。

図８（ａ）、（ｂ）に示すように、本形態の電気光学装置１００でも、実施の形態１と同様、第１基板１０の主面１ｚには、フレキシブル配線基板９０が重ねられる実装領域１３をＸ方向で挟む両側に、フレキシブル配線基板９０に対する位置合わせマーク１０３（位置合わせマーク１０３ａ、１０３ｂ、１０３ｃ、１０３ｄ）が形成されている。

本形態において、位置合わせマーク１０３は、Ｘ方向およびＹ方向に複数、配列されている。また、本形態の電気光学装置１００では、フレキシブル配線基板９０が重ねられる実装領域１３をＸ方向で挟む両側に検査パターン１０５が形成されている。かかる検査パターン１０５は、下層側の半導体領域や導電膜などと同時形成されたパターンであり、これらの半導体領域や導電膜が適正に形成されているか否かを電気的に検査するためのパターンである。

ここで、複数の位置合わせマーク１０３は、下層側に形成されている絶縁膜に形成されたビアホールを介して検査パターン１０５に電気的に接続されている。従って、本形態において、位置合わせマーク１０３は、検査パターン１０５の電気的特性を検査する際にプローブが当接する検査パッドとして利用される。

このため、本形態では、第１基板１０にフレキシブル配線基板９０を重ねる際、位置合わせマーク１０３を利用して、第１基板１０にフレキシブル配線基板９０を位置合わせすることができるとともに、フレキシブル配線基板９０が重ねられる実装領域１３をＸ方向で挟む両側の空きスペースを有効利用して、検査パターン１０５に対する検査を行なうことができる。

［実施の形態６］
図１０は、本発明の実施の形態６に係る電気光学装置に用いた第１基板のパッド配列領域にフレキシブル配線基板を実装した状態を模式的に示す平面図である。上記実施の形態１〜５では、フレキシブル配線基板９０の外形と位置合わせマーク１０３との位置関係を対比してフレキシブル配線基板９０の位置合わせを行なったが、図１０に示すように、フレキシブル配線基板９０自身に、位置合わせマーク１０３との位置関係を対比するためのマーク９９を形成しておいてもよい。本形態では、フレキシブル配線基板９０の両側の側端縁９０ｂにマーク９９が対称に形成されており、マーク９９と位置合わせマーク１０３とのＸ方向およびＹ方向の位置を合わせれば、フレキシブル配線基板９０のＸ方向の位置、フレキシブル配線基板９０のＹ方向の位置、およびフレキシブル配線基板９０の傾きのいずれをも合わせることができる。

従って、本形態によれば、フレキシブル配線基板９０の外形形状に誤差があっても、フレキシブル配線基板９０を第１基板１０に対して高い精度で位置を合わせることができるという利点がある。

特に、フレキシブル配線基板９０の導電パターンとマーク９９とを同時形成すれば、導電パターンとマーク９９との位置関係に高い精度を得ることができるので、フレキシブル配線基板９０の導電パターンとパッド１０２とを確実に重ねることができる。この場合、マーク９９は、第１基板１０のパッド１０２のうち、両端部に位置するパッド１０２に接続されることがあるが、かかる両端部のパッド１０２は、ダミーのパッドであるため、支障がない。また、マーク９９が、信号の供給に用いられるパッド１０２であっても、位置合わせマーク１０３が電気的にフローティング状態にあれば、マーク９９とパッド１０２とが接続されても支障がない。

なお、マーク９９をフレキシブル配線基板９０の導電パターンと同時形成した場合、フレキシブル配線基板９０の構成によってはマーク９９が確認しにくい場合がある。このような場合、フレキシブル配線基板９０において第１基板１０に接続される側とは反対側の面（上面）に印刷などによりマーク９９を形成してもよく、また、フレキシブル配線基板９０に形成した切り欠きなどをマーク９９として利用してもよい。

［実施の形態７］
上記実施の形態１〜６は、本発明を液晶装置に適用した例であったが、本発明は、有機エレクトロルミネッセンス装置やプラズマディスプレイなどにも適用できる。そこで、本発明を有機ＥＬ装置に適用した例を簡単に説明する。なお、以下の説明では、実施の形態１〜３との対応が分りやすいように、可能な限り、対応する部分には同一の符号を付して説明する。

図１１は、本発明の実施の形態６に係る電気光学装置（有機ＥＬ装置）の電気的構成を示すブロック図である。図１１に示す電気光学装置１００は、トップエミッション型の有機ＥＬ装置であり、半導体基板やセラミック基板などを基体とする不透明な第１基板１０上には、複数の走査線３ａと、走査線３ａに対して交差する方向に延びる複数のデータ線６ａと、走査線３ａに対して並列して延在する複数の電源線３ｅとを有している。また、第１基板１０において、矩形形状の画素領域１０ｂには複数の画素１００ａがマトリクス状に配列されている。画素領域１０ｂの外側領域には、データ線駆動回路１０１および走査線駆動回路１０４が形成されている。データ線６ａはデータ線駆動回路１０１に接続され、走査線３ａは走査線駆動回路１０４に接続されている。画素領域１０ｂの各々には、走査線３ａを介して走査信号がゲート電極に供給されるスイッチング用の電界効果型トランジスタ３０ｂと、このスイッチング用の電界効果型トランジスタ３０ｂを介してデータ線６ａから供給される画素信号を保持する蓄積容量６０と、蓄積容量６０によって保持された画素信号がゲート電極に供給される駆動用の電界効果型トランジスタ３０ｃと、この電界効果型トランジスタ３０ｃを介して電源線３ｅに電気的に接続したときに電源線３ｅから駆動電流が流れ込む画素電極９ａ（陽極層）と、この画素電極９ａと陰極層８５との間に有機機能層が挟まれた有機ＥＬ素子８０を構成している。

かかる構成によれば、走査線３ａが駆動されてスイッチング用の電界効果型トランジスタ３０ｂがオンになると、そのときのデータ線６ａの電位が蓄積容量６０に保持され、蓄積容量６０が保持する電荷に応じて、駆動用の電界効果型トランジスタ３０ｃのオン・オフ状態が決まる。そして、駆動用の電界効果型トランジスタ３０ｃのチャネルを介して、電源線３ｅから画素電極９ａに電流が流れ、さらに有機機能層を介して対極層に電流が流れる。その結果、有機ＥＬ素子８０は、これを流れる電流量に応じて発光し、かかる光は、第１基板１０が位置する側とは反対側から出射される。

なお、図１１に示す構成では、電源線３ｅは走査線３ａと並列していたが、電源線３ｅがデータ線６ａに並列している構成を採用してもよい。また、図１１に示す構成では、電源線３ｅを利用して蓄積容量６０を構成していたが、電源線３ｅとは別に容量線を形成し、かかる容量線によって蓄積容量６０を構成してもよい。

このように構成した電気光学装置１００でも、第１基板１０は、フレキシブル配線基板９０とともに実装構造体を構成しており、第１基板１０において、パッド１０２がＸ方向に並ぶパッド配列領域１２にはフレキシブル配線基板９０が接続されている。また、第１基板１０において、フレキシブル配線基板９０が接続される面側には、実施の形態１〜５と同様、フレキシブル配線基板９０が重なる実装領域１３をＸ方向で挟む両側に位置合わせマーク１０３が形成されている。従って、本形態のように、第１基板１０が不透明である場合でも、位置合わせマーク１０３を利用すれば、フレキシブル配線基板９０の位置合わせを確実に行なうことができる。

［電子機器への搭載例］
本発明に係る電気光学装置１００のうち、実施の形態１〜５に係る反射型の液晶装置は、図１２（ａ）に示す投射型表示装置（液晶プロジェクタ／電子機器）や、図１２（ｂ）、（ｃ）に示す携帯用の電子機器などに用いることができ、実施の形態６に係る有機ＥＬ装置は、図１２（ｂ）、（ｃ）に示す携帯用電子機器などに用いることができる。

図１２（ａ）に示す投射型表示装置１０００は、システム光軸Ｌに沿って配置した光源部８１０、インテグレータレンズ８２０および偏光変換素子８３０を備えた偏光照明装置８００と、この偏光照明装置８００から出射されたＳ偏光光束をＳ偏光光束反射面８４１により反射させる偏光ビームスプリッタ８４０と、偏光ビームスプリッタ８４０のＳ偏光光束反射面８４１から反射された光のうち、青色光（Ｂ）の成分を分離するダイクロイックミラー８４２と、青色光が分離された後の光束のうち、赤色光（Ｒ）の成分を反射させて分離するダイクロイックミラー８４３とを有している。また、投射型表示装置１０００は、各色光が入射する３枚の電気光学装置１００（反射型液晶装置１００Ｒ、１００Ｇ、１００Ｂ）を備えている。さらに、投射型表示装置１０００は、３つの反射型液晶装置１００Ｒ、１００Ｇ、１００Ｂにて変調された光をダイクロイックミラー８４２、８４３、および偏光ビームスプリッタ８４０にて合成した後、この合成光をスクリーン８６０に投写する。

また、図１２（ｂ）に示す携帯電話機３０００は、複数の操作ボタン３００１、スクロールボタン３００２、並びに表示ユニットとしての電気光学装置１００を備える。スクロールボタン３００２を操作することによって、電気光学装置１００に表示される画面がスクロールされる。図１２（ｃ）に示す情報携帯端末（ＰＤＡ：Personal Digital Assistants）４０００は、複数の操作ボタン４００１、電源スイッチ４００２、並びに表示ユニットとしての電気光学装置１００を備えており、電源スイッチ４００２を操作すると、住所録やスケジュール帳といった各種の情報が電気光学装置１００に表示される。

さらに、第２基板２０などにカラーフィルタを形成すれば、カラー表示可能な電気光学装置１００を形成することができる。また、カラーホールタを形成した電気光学装置１００を用いれば、単板式の投射型表示装置を構成することもできる。

［その他の実施の形態］
上記実施の形態１〜５は、第１基板１０（電気光学装置用基板）の基材として半導体基板を用いたが、かかる基材として、ガラス基板、金属基板、セラミック基板を用いた電気光学装置１００に本発明を適用してもよい。また、上記実施の形態１〜６では、第１基板１０の基材として不透明基板を用いたため、電気光学装置１００を反射型液晶装置やトップエミッション型の有機ＥＬ装置として構成したが、第１基板１０の基材として、石英基板やガラス基板などの透光性基板を用いれば、電気光学装置１００を透過型あるいは半透過反射型の液晶装置やボトムエミッション型の有機ＥＬ装置として構成でき、かかる電気光学装置に本発明を適用してもよい。このように構成した場合も、電気光学装置１００は、各種電子機器において、直視型の表示装置、あるいは透過型投射装置のライトバルブとして用いることができる。

また、上記実施の形態１〜６では、電気光学装置１００において、第１基板１０（電気光学装置基板）にフレキシブル配線基板９０を実装する実装構造体に本発明を適用する場合を例に説明したが、半導体装置や固体撮像装置など、電気光学装置以外の装置において、被実装基板にフレキシブル配線基板を実装した実装構造体に本発明を適用してもよい。

本発明の実施の形態１に係る電気光学装置（液晶装置）に用いた素子基板の電気的な構成を示すブロック図である。 （ａ）、（ｂ）は各々、本発明の実施の形態１に係る電気光学装置をその上に形成された各構成要素と共に対向基板の側から見た平面図、およびそのＨ−Ｈ′断面図である。 （ａ）、（ｂ）は各々、本発明の実施の形態１に係る電気光学装置の相隣接する画素１つ分の平面図、および画素１つ分の断面図である。 （ａ）、（ｂ）、（ｃ）は各々、本発明の実施の形態１に係る電気光学装置に用いた第１基板のパッド配列領域周辺の構成を模式的に示す平面図、パッドの断面図、および位置合わせマークの断面図である。 （ａ）、（ｂ）は各々、本発明の実施の形態１に係る電気光学装置に用いた第１基板のパッド配列領域にフレキシブル配線基板を実装した状態を模式的に示す平面図、およびその断面図である。 （ａ）、（ｂ）は各々、本発明の実施の形態２に係る電気光学装置に用いた第１基板のパッド配列領域周辺の構成を模式的に示す平面図、およびパッド配列領域にフレキシブル配線基板を実装した状態を模式的に示す平面図である。 （ａ）、（ｂ）は各々、本発明の実施の形態３に係る電気光学装置に用いた第１基板のパッド配列領域周辺の構成を模式的に示す平面図、およびパッド配列領域にフレキシブル配線基板を実装した状態を模式的に示す平面図である。 （ａ）、（ｂ）は各々、本発明の実施の形態４に係る電気光学装置に用いた第１基板のパッド配列領域周辺の構成を模式的に示す平面図、およびパッド配列領域にフレキシブル配線基板を実装した状態を模式的に示す平面図である。 （ａ）、（ｂ）は各々、本発明の実施の形態５に係る電気光学装置に用いた第１基板のパッド配列領域周辺の構成を模式的に示す平面図、およびパッド配列領域にフレキシブル配線基板を実装した状態を模式的に示す平面図である。 本発明の実施の形態６に係る電気光学装置に用いた第１基板のパッド配列領域にフレキシブル配線基板を実装した状態を模式的に示す平面図である。 本発明の実施の形態６に係る電気光学装置（有機ＥＬ装置）の電気的構成を示すブロック図である。 本発明に係る電気光学装置を用いた電子機器の説明図である。

符号の説明

１・・半導体基板、１ｙ・・基板の基板縁、９ａ・・画素電極、１０・・第１基板（電気光学装置用基板／被実装基板）、１２・・パッド配列領域、１３・・フレキシブル配線基板の実装領域、９０・・フレキシブル配線基板、９５・・異方性導電材、１００・・電気光学装置、１００ａ・・画素、１０２・・パッド、１０３、１０３ａ、１０３ｂ、１０３ｃ、１０３ｄ・・位置合わせマーク

Claims (15)

1. フレキシブル配線基板と、
   前記フレキシブル配線基板が実装される実装領域を備えた被実装基板と、を有する実装構造体であって、
   前記実装領域には、前記被実装基板の一辺に沿って複数のパッドが配列しており、
   前記被実装基板において前記パッドが配列されている方向をＸ方向としたとき、
   前記被実装基板の前記フレキシブル配線基板が実装される面には、前記実装領域の外側であって前記Ｘ方向に挟む両側に、前記フレキシブル配線基板に対する位置合わせマークが、それぞれ形成されていることを特徴とする実装構造体。
2. 前記被実装基板は不透明基板であることを特徴とする請求項１に記載の実装構造体。
3. 前記位置合わせマークは、前記Ｘ方向に交わるＹ方向に延在する仮想の直線に対して、線対称に形成されていることを特徴とする請求項１または２に記載の実装構造体。
4. 前記位置合わせマークは、前記実装領域の外側であって前記Ｘ方向に挟む両側に、当該Ｘ方向に交わるＹ方向に沿ってそれぞれ複数配列されていることを特徴とする請求項１乃至３の何れか一項に記載の実装構造体。
5. 前記Ｙ方向に沿って並ぶ前記複数の位置合わせマークには、形状が相違する複数種類の位置合わせマークが含まれていることを特徴とする請求項４に記載の実装構造体。
6. 前記Ｙ方向に沿って並ぶ前記複数の位置合わせマークには、前記Ｘ方向のサイズが相違する複数種類の位置合わせマークが含まれていることを特徴とする請求項５に記載の実装構造体。
7. 前記Ｙ方向に沿って並ぶ前記複数の位置合わせマークには、前記Ｙ方向のサイズが相違する複数種類の位置合わせマークが含まれていることを特徴とする請求項５または６に記載の実装構造体。
8. 前記位置合わせマークは、前記パッドから分離した状態に形成されていることを特徴とする請求項１乃至７の何れか一項に記載の実装構造体。
9. 前記位置合わせマークは、前記複数のパッドのうち、前記実装領域の端部に位置するパッドと一体に形成されていることを特徴とする請求項１乃至７の何れか一項に記載の実装構造体。
10. 前記複数のパッドのうち、前記実装領域の端部に位置するパッドは、信号および電位の供給に用いられないダミーパッドであることを特徴とする請求項９に記載の実装構造体。
11. 前記位置合わせマークは、前記被実装基板に形成されている検査パターンに電気的に接続する検査パッドとして形成されていることを特徴とする請求項１乃至１０の何れか一項に記載の実装構造体。
12. 前記パッドと前記位置合わせマークとは、前記被実装基板上に積層された同一の導電膜からなることを特徴とする請求項１乃至１１の何れか一項に記載の実装構造体。
13. 前記フレキシブル配線基板には、前記位置合わせマークとの相対位置が対比されるマークが形成されていることを特徴とする請求項１乃至１２の何れか一項に記載の実装構造体。
14. 請求項１乃至１３の何れか一項に記載の実装構造体を備えた電気光学装置であって、
    前記被実装基板は、複数の画素の各々に画素電極が形成された電気光学装置用基板であることを特徴とする電気光学装置。
15. 請求項１４に記載の電気光学装置を備えていることを特徴とする電子機器。

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