JP2009282552A - Method for manufacturing liquid crystal display - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a liquid crystal display with an alignment film, can stably and easily provide a proper pretilt angle of liquid crystal molecules, and to easily and accurately perform division and alignment, without increasing the number of processes by use of the alignment film. <P>SOLUTION: The alignment films 16a and 16b are formed from a material containing a mixture or polymerized product of a polymer x1 and a polymer x2. The polymer x1 changes the alignment of liquid crystal molecules from the vertical alignment as the initial state to a random horizontal alignment. The polymer x2 maintains the alignment of the liquid crystal molecules in the initial state. Such an alignment film is exposed to UV rays via an optical mask having a slit so that the film is divided into two parts by a single radiation. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、液晶層を狭持する配向膜を備えた液晶表示装置及びその製造方法、配向膜に所定の配向を与える配向処理装置及び配向処理方法に関する。   The present invention relates to a liquid crystal display device including an alignment film that sandwiches a liquid crystal layer, a method for manufacturing the liquid crystal display device, an alignment processing apparatus that gives a predetermined alignment to the alignment film, and an alignment processing method.

近時では、液晶表示装置、特にTN(Twisted Nematic )型表示モードを有するTFT(Thin Film Transistor:薄膜トランジスタ)型液晶表示装置が広く用いられており、例えばパーソナルコンピュータの表示装置として汎用に供されている。   Recently, liquid crystal display devices, particularly TFT (Thin Film Transistor) type liquid crystal display devices having a TN (Twisted Nematic) type display mode, are widely used. For example, they are widely used as display devices for personal computers. Yes.

一般的に、液晶表示装置は、所定間隔に保持されて対向する一対の基板と、各基板の対向面に形成された電極及び配向膜と、配向膜間に挿入された液晶層とを備えて構成されている。一方の基板の電極は共通電極、他方の基板の電極は画素電極として形成されており、画素電極はアクティブマトリクスと共に設けられることが多い。また、電極は一方の基板のみに設けられることもある(例えば、IPSモード)。何れかの基板には、ブラックマトリクスやカラーフィルターが設けられる。   In general, a liquid crystal display device includes a pair of substrates that are held at a predetermined interval and face each other, electrodes and alignment films formed on opposite surfaces of each substrate, and a liquid crystal layer inserted between the alignment films. It is configured. An electrode on one substrate is formed as a common electrode, and an electrode on the other substrate is formed as a pixel electrode. The pixel electrode is often provided together with an active matrix. Moreover, an electrode may be provided only on one board | substrate (for example, IPS mode). Any substrate is provided with a black matrix or a color filter.

従来の液晶表示装置では、配向膜がラビングされ、液晶層の液晶分子が所定の方向に配向されている。このラビングは、配向膜をレーヨン等の布で擦る作業であるため、前記布をクリーンルームに持ち込むことにより発塵が生じる。また、ラビングにより静電気が発生し、アクティブマトリクスのTFTが破壊されるおそれがある。そこで、本発明者らは、特願平9−354940号にて配向膜への紫外線照射により配向処理する技術を提案し、更にはその改良として特願平11−72085号にて垂直配向の配向膜に斜めから紫外線を照射し、チルトした垂直配向を実現する技術を提案した。具体的には、図37に示すように、ポリイミド配向膜501の表面に対して例えば45°の角度から紫外線を照射し、結果として液晶分子502を配向させる。   In the conventional liquid crystal display device, the alignment film is rubbed, and the liquid crystal molecules of the liquid crystal layer are aligned in a predetermined direction. Since this rubbing is an operation of rubbing the alignment film with a cloth such as rayon, dust generation occurs when the cloth is brought into a clean room. In addition, static electricity is generated by rubbing, and the active matrix TFT may be destroyed. Therefore, the inventors of the present invention proposed a technique for performing an alignment treatment by irradiating an alignment film with ultraviolet rays in Japanese Patent Application No. 9-354940, and further improved the alignment in Japanese Patent Application No. 11-72085. We proposed a technology that achieves tilted vertical alignment by irradiating the film with ultraviolet rays obliquely. Specifically, as shown in FIG. 37, the surface of the polyimide alignment film 501 is irradiated with ultraviolet rays, for example, from an angle of 45 °, and as a result, the liquid crystal molecules 502 are aligned.

特願平11−72085号の手法により実現されるプレチルト角と紫外線照射量との典型的な関係を図38に示す。図示の関係から、紫外線の放射量が少なくプレチルト角が大きい場合には、液晶表示装置の基板間距離(セルギャップ)を保持するために配したスペーサを中心とした部位に黒点が発生する。他方、紫外線の放射量が多すぎると液晶の注入に伴う流動配向が発生し、どちらも表示不良の主原因となる。この場合、良好な画像表示が得られるプレチルト角の適正範囲は89°近傍を中心とした1.0°以下の狭い範囲となる。 FIG. 38 shows a typical relationship between the pretilt angle and the amount of ultraviolet irradiation realized by the method of Japanese Patent Application No. 11-72085. From the relationship shown in the drawing, when the amount of ultraviolet radiation is small and the pretilt angle is large, a black spot is generated at a site centered on a spacer arranged to maintain the inter-substrate distance (cell gap) of the liquid crystal display device. On the other hand, if the amount of ultraviolet radiation is too large, flow alignment occurs due to liquid crystal injection, both of which are the main causes of display defects. In this case, the appropriate range of the pretilt angle at which a good image display can be obtained is a narrow range of 1.0 ° or less centered around 89 °.

特願平11−72085号の手法では、配向膜に所定角の斜めから紫外線を照射するため、紫外線強度の角度依存性が強く、配向膜表面内で±10%程度のばらつきが生じる。図38の特性曲線を参照するに、紫外線強度のばらつきに伴ってプレチルト角にも±0.2%程度のばらつきが発生することになり、プレチルト角に生じる誤差が無視し得ない程度のものとなる。そのため、画像に表示不良の発生する確率が高くなり、信頼性を損なうおそれがある。   In the method of Japanese Patent Application No. 11-72085, the alignment film is irradiated with ultraviolet rays obliquely from a predetermined angle. Therefore, the angle dependency of the ultraviolet intensity is strong and a variation of about ± 10% occurs in the alignment film surface. Referring to the characteristic curve of FIG. 38, the variation of the pretilt angle is about ± 0.2% with the variation of the ultraviolet intensity, and the error occurring in the pretilt angle is not negligible. Become. For this reason, the probability that a display defect will occur in the image increases, and the reliability may be impaired.

このように、特願平11−72085号の手法によれば、ラビングを行なうことなく配向膜に簡便な配向処理を行なうことはできるが、紫外線照射量の変化に対するプレチルト角の変化量が大きいため、適正な紫外線照射が困難であるという問題がある。   Thus, according to the technique of Japanese Patent Application No. 11-72085, a simple alignment process can be performed on the alignment film without rubbing, but the amount of change in the pretilt angle with respect to the change in the amount of ultraviolet irradiation is large. There is a problem that proper ultraviolet irradiation is difficult.

更に、表示画面におけるコントラストの向上及び表示の明暗の反転防止を図ることを考慮して、配向膜へ異なる方向から紫外線を照射し、画素内で分割配向を行う配向技術が提案されている。この場合、具体的には図39(a),(b)に示すように、配向膜611に2分割配向を施すに際して、配向膜611の上部にスリット602の形成された光学マスク601を配置し、光学マスク601の上部から紫外線の平行光を斜方から照射し、続いて角度の異なる斜方から再び平行光を照射する(特開平11−133429号公報)。   Furthermore, in consideration of improving the contrast on the display screen and preventing the reversal of display brightness and darkness, an alignment technique has been proposed in which the alignment film is irradiated with ultraviolet rays from different directions and divided alignment is performed within the pixel. In this case, specifically, as shown in FIGS. 39A and 39B, when the alignment film 611 is divided into two parts, an optical mask 601 in which a slit 602 is formed is disposed on the alignment film 611. Then, ultraviolet parallel light is irradiated from the upper side of the optical mask 601 from the oblique direction, and then parallel light is irradiated again from the oblique direction having different angles (Japanese Patent Laid-Open No. 11-133429).

このように、分割配向を行う場合、配向膜に対してその分割数に応じた回数の紫外線を照射することが必要であり、必然的にプロセスの増加を招く。   As described above, when the divisional alignment is performed, it is necessary to irradiate the alignment film with the number of ultraviolet rays corresponding to the number of divisions, which inevitably increases the number of processes.

更にこの場合、光学マスクの撓みの問題がある。即ち、図40に示すように、光学マスク601に撓みが生じると、これが直接的に配向膜611における紫外線の照射位置のずれを招来する。例えば画素の中央を境界として紫外線を2方向に照射する場合においても、中心位置がずれた分割配向となってしまう。現在、ガラス基板の大きさは年々大きくなっており、1m角のサイズの基板まで使用が検討されている。光学マスクの厚みを1cmとしても、光学マスクの中央部分では数十μm程度撓むことが計算により明らかにされており、無視し得ない設計ずれを招くことになる。   Furthermore, in this case, there is a problem of bending of the optical mask. That is, as shown in FIG. 40, when the optical mask 601 is bent, this directly causes a shift in the irradiation position of the ultraviolet rays in the alignment film 611. For example, even when ultraviolet rays are irradiated in two directions with the center of the pixel as a boundary, the alignment is shifted in the center position. Currently, the size of glass substrates is increasing year by year, and use of substrates up to 1 m square size is under consideration. Even if the thickness of the optical mask is 1 cm, the calculation reveals that the central portion of the optical mask bends by several tens of μm, which leads to a design shift that cannot be ignored.

上述のように、液晶画像の更なる向上を求めて分割配向を行おうとすると、紫外線の斜め照射の困難性に加え、必然的にプロセスの煩雑化を招き、しかも要求精度が極めて厳格であるという重大な問題を抱える現況にある。   As described above, when it is attempted to perform divisional alignment for further improvement of the liquid crystal image, in addition to the difficulty of oblique irradiation of ultraviolet rays, the process is inevitably complicated, and the required accuracy is extremely strict. The current situation has serious problems.

本発明は、前記諸課題に鑑みてなされたものであり、簡素な構造で、ラビングを行なうことなく簡便な配向処理が可能であって、液晶分子の適正なプレチルト角を極めて安定且つ容易に得ることができる配向膜を備えた液晶表示装置及びその製造方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above-mentioned problems, and has a simple structure and enables simple alignment processing without rubbing, and can obtain an appropriate pretilt angle of liquid crystal molecules extremely stably and easily. It is an object of the present invention to provide a liquid crystal display device including an alignment film and a method for manufacturing the same.

更に本発明は、プロセスを増加させることなく容易且つ正確に分割配向を行なうことを可能とし、表示画面におけるコントラストの向上、表示の明暗の反転防止及びディスクリネーションラインの減少を図って高性能の極めて明るい液晶画面を実現する配向処理装置、配向処理方法、液晶表示装置及びその製造方法を提供することを目的とする。 Furthermore, the present invention makes it possible to perform divisional alignment easily and accurately without increasing the number of processes, improving the contrast on the display screen, preventing reversal of the display brightness, and reducing disclination lines. An object of the present invention is to provide an alignment processing apparatus, an alignment processing method, a liquid crystal display device, and a manufacturing method thereof that realize an extremely bright liquid crystal screen.

本発明者らは、鋭意検討の結果、以下に示す発明の諸態様に想到した。   As a result of intensive studies, the inventors have arrived at the following aspects of the invention.

第1の態様は、それぞれ配向膜を対向させて所定間隔に保たれた一対の基板を備え、前記配向膜間に液晶層が挿入されてなる液晶表示装置を対象とする、この液晶表示装置では、前記配向膜が、前記液晶層の液晶分子に対する所定の初期配向性を有し、紫外線照射に応じたプレチルト角の変化率の異なる少なくとも2種類のポリマーを含む材料からなり、前記配向膜に対する紫外線照射により前記液晶分子が所望のプレチルト角に調節されていることを特徴とする。   In a liquid crystal display device according to a first aspect of the present invention, there is provided a liquid crystal display device including a pair of substrates each having an alignment film facing each other and maintained at a predetermined interval, and a liquid crystal layer inserted between the alignment films. The alignment film is made of a material having a predetermined initial alignment property with respect to liquid crystal molecules of the liquid crystal layer and including at least two kinds of polymers having different pretilt angle change rates in response to ultraviolet irradiation, and the alignment film has ultraviolet rays. The liquid crystal molecules are adjusted to a desired pretilt angle by irradiation.

この場合、前記2種類のポリマーは、一方が液晶分子の配向を初期状態から変化させるものであり、他方が液晶分子の配向を初期状態に維持するものであることが好適である。具体的には、前記初期状態が垂直配向であり、前記一方のポリマーによる変化する前の配向が垂直配向であり変化後の配向が水平配向又はランダム水平配向である。   In this case, it is preferable that one of the two types of polymers changes the orientation of the liquid crystal molecules from the initial state, and the other maintains the orientation of the liquid crystal molecules in the initial state. Specifically, the initial state is vertical alignment, the alignment before the change by the one polymer is vertical alignment, and the alignment after the change is horizontal alignment or random horizontal alignment.

第1の態様の液晶表示装置においては、液晶分子に対する所定配向性を有し、紫外線照射に応じたプレチルト角の変化率の異なる少なくとも2種類のポリマーを含む材料から配向膜が構成される。各ポリマーを適宜選択することにより、所望のプレチルト角を適正に調整し、紫外線照射量により変動することのない安定なプレチルト角を実現することが可能となる。具体的には、一方のポリマーを液晶分子の配向を初期状態(例えば垂直配向)から変化させ、例えばランダム水平配向又は水平配向とするものとし、他方のポリマーを液晶分子の配向を初期状態に維持するものとする。製造工程において、これらの各ポリマーの割合を適宜調節し、紫外線照射を開始して、ある時間までに一方のポリマーがほとんど液晶分子をランダム水平配向させる状態に達するのに対して、他方のポリマーは液晶分子の配向状態を元の状態に保つ。即ち、前記ある時間経過後、他方のポリマーの割合に対応したプレチルト角が紫外線照射量に依存することなく安定に維持されることになる。   In the liquid crystal display device according to the first aspect, the alignment film is made of a material including at least two kinds of polymers having a predetermined orientation with respect to liquid crystal molecules and having different pretilt angle change rates in response to ultraviolet irradiation. By appropriately selecting each polymer, it is possible to appropriately adjust a desired pretilt angle and realize a stable pretilt angle that does not vary with the amount of ultraviolet irradiation. Specifically, the orientation of liquid crystal molecules in one polymer is changed from the initial state (for example, vertical orientation), for example, random horizontal orientation or horizontal orientation, and the other polymer is maintained in the initial state for liquid crystal molecules. It shall be. In the manufacturing process, the ratio of each of these polymers is adjusted as appropriate, and ultraviolet irradiation is started, and one polymer reaches a state where liquid crystal molecules are randomly horizontally aligned by a certain time, while the other polymer The alignment state of the liquid crystal molecules is maintained in the original state. That is, after the elapse of the certain time, the pretilt angle corresponding to the ratio of the other polymer is stably maintained without depending on the UV irradiation amount.

第2の態様は、前記液晶表示装置を製造する方法である。即ち、一対の基板にそれぞれ配向膜を形成し、前記各配向膜を対向させるように前記配向膜間に液晶層を挿入し、前記各基板間隔を一定に保持して液晶表示装置を製造するに際して、前記配向膜を、前記液晶層の液晶分子に対する初期配向性を有し、紫外線照射に応じたプレチルト角の変化の異なる少なくとも2種類のポリマーを含む材料から構成して前記一対の基板に塗布し、前記配向膜の表面に対して斜め方向から紫外線を照射し、前記液晶層の液晶分子に対して所望の配向を実現することを特徴とする。   A second aspect is a method for manufacturing the liquid crystal display device. That is, when an alignment film is formed on each of a pair of substrates, a liquid crystal layer is inserted between the alignment films so that the alignment films are opposed to each other, and a liquid crystal display device is manufactured by keeping the distance between the substrates constant. The alignment film is made of a material including at least two kinds of polymers having initial alignment with respect to liquid crystal molecules of the liquid crystal layer and having different pretilt angles according to ultraviolet irradiation, and is applied to the pair of substrates. The surface of the alignment film is irradiated with ultraviolet rays from an oblique direction to achieve a desired alignment with respect to the liquid crystal molecules of the liquid crystal layer.

これにより、上述した第1の態様の液晶表示装置、即ち配向膜の材料となる各ポリマーを適宜選択することにより、所望のプレチルト角を適正に調整し、紫外線照射量により変動することのない安定なプレチルト角を実現した高性能の液晶表示装置を製造することが可能となる。   As a result, the liquid crystal display device of the first aspect described above, that is, by appropriately selecting each polymer used as the material of the alignment film, the desired pretilt angle can be appropriately adjusted and stable without fluctuation depending on the amount of ultraviolet irradiation. It becomes possible to manufacture a high-performance liquid crystal display device that realizes a pretilt angle.

第3の態様は、それぞれ配向膜を対向させて所定間隔に保たれた一対の基板を備え、前記配向膜間に液晶層が挿入されてなる液晶表示装置を対象とする。この液晶表示装置は、前記液晶に所定の境界において複数の分割配向が施されており、前記配向膜の表面エネルギーは、前記配向分割の境界において最大値又は最小値となり、境界から離れるほど小さく又は大きくなることを特徴とする。   The third aspect is directed to a liquid crystal display device that includes a pair of substrates that face each other with an alignment film facing each other and that is maintained at a predetermined interval, and in which a liquid crystal layer is inserted between the alignment films. In the liquid crystal display device, the liquid crystal is subjected to a plurality of divisional alignments at a predetermined boundary, and the surface energy of the alignment film becomes a maximum value or a minimum value at the boundary of the alignment division, and decreases as the distance from the boundary decreases. It is characterized by becoming larger.

第4の態様は、上述した第3の態様の液晶表示装置を実現するための一具体例となる配向処理装置を対象とする。この配向処理装置は、配向膜に紫外線を照射し、前記配向膜上に設けられる液晶を配向させるものであって、紫外線の散乱光を照射する光源と、前記光源下に設けられ、スリットが形成された光学マスクとを備え、前記光学マスクを前記配向膜の上方に配置し、前記光源から前記光学マスクに散乱光を照射することにより、前記スリットを中心として拡がる拡散光を生成し、当該拡散光を前記配向膜に照射して、前記液晶に拡散光の拡散方向に依存した分割配向を生ぜしめることを特徴とする。   The fourth aspect is directed to an alignment processing apparatus as a specific example for realizing the liquid crystal display device of the third aspect described above. This alignment processing apparatus irradiates the alignment film with ultraviolet rays and aligns the liquid crystal provided on the alignment film. The alignment processing apparatus is provided with a light source that irradiates ultraviolet scattered light and a light source provided under the light source to form a slit. The optical mask is disposed above the alignment film, and the diffused light spreading around the slit is generated by irradiating the optical mask with scattered light from the light source, and the diffusion The alignment film is irradiated with light to cause the liquid crystal to have a split alignment depending on a diffusion direction of diffused light.

第4の態様の配向処理装置では、光学マスクのスリットの直下部位を対称中心として対称に配向膜表面に対して斜め方向から紫外線の拡散光が照射される。これにより、前記対称中心を境界として配向膜に自動的に2分割配向が生じることになる。この場合、拡散光は前記対称中心から離間するにつれて照射角度が変化し、これに応じた多数のプレチルト角を有する視覚特性に優れた液晶層が実現する。   In the alignment processing apparatus of the fourth aspect, ultraviolet diffused light is irradiated from an oblique direction to the alignment film surface symmetrically with the portion immediately below the slit of the optical mask as the center of symmetry. As a result, the alignment film is automatically divided into two with the symmetry center as a boundary. In this case, the diffusion angle of the diffused light changes as the distance from the center of symmetry changes, and a liquid crystal layer with excellent visual characteristics having a large number of pretilt angles corresponding to this is realized.

このとき、前記配向膜としては、第1の態様(第2の態様)の配向膜、即ち2種のポリマーからなり、紫外線の照射により垂直配向からプレチルト角が変化し始め、ある紫外線照射量を超えるとプレチルト角が90°近傍の一定値となるものを用いることが好適である。このような性質を有する配向膜を用いることにより、スリット直下では垂直配向を保ち、散乱光の照射角度及び照射量に応じて液晶層のプレチルト角が90°から前記一定値までの間で安定に分布する。   At this time, the alignment film is composed of the alignment film of the first mode (second mode), that is, two kinds of polymers, and the pretilt angle starts to change from the vertical alignment by irradiation of ultraviolet rays, and a certain ultraviolet ray irradiation amount is set. If it exceeds, it is preferable to use a pretilt angle having a constant value in the vicinity of 90 °. By using the alignment film having such properties, the vertical alignment is maintained immediately below the slit, and the pretilt angle of the liquid crystal layer is stably between 90 ° and the predetermined value according to the irradiation angle and the irradiation amount of the scattered light. Distributed.

また、前記配向膜としては、紫外線の照射により垂直配向からプレチルト角が変化し始め、更に紫外線を照射することにより再び垂直配向に戻る特性を有するものを用いても好適である。このような性質を有する配向膜を用いることにより、照射強度の高いスリット直下における配向を垂直配向に制御することができ、スリット直下以外の部位では所定のプレチルト角の範囲内で連続的な配向を生ぜしめて配向不良が抑止される。   Further, as the alignment film, it is also preferable to use a film having a characteristic that the pretilt angle starts to change from the vertical alignment by irradiation with ultraviolet rays and returns to the vertical alignment again by irradiation with ultraviolet rays. By using an alignment film having such properties, it is possible to control the alignment directly under the slit with high irradiation intensity to be a vertical alignment. As a result, poor orientation is suppressed.

第5の態様は、第4の態様に対応した配向処理方法である。この場合、分割配向としては、ゲート電極及び/又はデータ電極との関係において、前記ゲート電極及び/又は前記データ電極から対向する前記基板の前記画素中央を結ぶ線分の方向とすることが好適であり、具体的には、中央から上下2分割、中央から左右2分割、中央から上下左右に4分割する等が考えられ、当該液晶層に対する諸般の要請に応じて選択される。   The fifth aspect is an alignment processing method corresponding to the fourth aspect. In this case, the divisional orientation is preferably the direction of a line segment connecting the pixel centers of the substrate facing the gate electrode and / or the data electrode in relation to the gate electrode and / or the data electrode. Specifically, it is possible to divide into two parts from top to bottom, two parts from the center to right and left, four parts from center to top, bottom, left and right, and so on.

また、上述のような分割配向を施す際に、ゲート電極及びデータ電極が設けられた一方の基板と対向する他方の基板に、分割配向の境界に沿って土手状部材を形成したり、前記一方の基板の画素電極に分割配向の境界に沿ってスリット状の抜けを形成したものを紫外線の被照射対象としても好ましい。これにより、紫外線照射による分割配向を助長するとともに、分割位置が明確となり、更に確実な分割配向を行なうことができる。   Further, when performing the above-described divided orientation, a bank-like member is formed on the other substrate facing the one substrate provided with the gate electrode and the data electrode along the boundary of the divided orientation, It is also preferable to subject the pixel electrode of this substrate to slits that have slits formed along the boundary of divisional alignment, and to be irradiated with ultraviolet rays. Thereby, the divisional orientation by ultraviolet irradiation is promoted, the division position is clarified, and more reliable divisional orientation can be performed.

更に、上述のような分割配向を施す際に、前記他方の基板にゲート電極又はデータ電極の近傍でこれに沿って土手状部材を形成したり、前記一方の基板の画素電極にゲート電極又はデータ電極の位置に一致するようにスリット状の抜けを形成したものを紫外線の被照射対象としても好ましい。これにより、前記分割配向と共に、電極近傍で発生する電界による液晶分子の傾斜を矯正し、ディスクリネーションの発生が抑止される。   Further, when the above-described divided orientation is performed, a bank-like member is formed on the other substrate in the vicinity of the gate electrode or the data electrode, or the gate electrode or the data is formed on the pixel electrode of the one substrate. What formed the slit-shaped drop | off so that it might correspond to the position of an electrode is also preferable as an irradiation object of an ultraviolet-ray. This corrects the inclination of the liquid crystal molecules due to the electric field generated in the vicinity of the electrodes together with the divided alignment, thereby suppressing the occurrence of disclination.

第6の態様は、第4の態様と同様、配向処理装置を対象とする。この配向処理装置は、紫外線を照射する光源と、前記光源下に設けられ、スリットが形成されるとともに紫外線の散乱機構を有する光学マスクとを備え、前記光学マスクを前記配向膜の上方に配置し、前記光源から前記光学マスクに紫外線を照射することにより、前記スリットを中心として拡がる拡散光を生成し、当該拡散光を前記配向膜に照射して、前記液晶に拡散光の拡散方向に依存した分割配向を生ぜしめることを特徴とする。   The sixth aspect is directed to the alignment processing apparatus as in the fourth aspect. The alignment processing apparatus includes a light source for irradiating ultraviolet light and an optical mask provided under the light source, having a slit and having an ultraviolet light scattering mechanism, and the optical mask is disposed above the alignment film. By irradiating the optical mask with ultraviolet light from the light source, diffused light that spreads around the slit is generated, and the diffused light is irradiated on the alignment film, depending on the diffusion direction of the diffused light on the liquid crystal It is characterized by causing a divided orientation.

この場合、前記散乱機構としては、光学マスクの光源側の面をサンドブラスト加工してなるものや、スリットの開口部分に設けられた散乱手段(一例として、当該開口部分をサンドブラスト加工したもの)、当該開口部分に設けられた所定のプリズム等が好適である。   In this case, as the scattering mechanism, the surface of the optical mask on the light source side is sandblasted, the scattering means provided in the opening of the slit (for example, the opening is sandblasted), the A predetermined prism or the like provided at the opening is suitable.

第6の態様の配向処理装置では、第4の態様と同様に、光学マスクのスリットの直下部位を対称中心として対称に配向膜表面に対して斜め方向から紫外線の拡散光が照射され、前記対称中心を境界として配向膜に自動的に2分割配向が生じる。更に、光学マスクに紫外線の散乱機構が設けられているため、光源として散乱光を照射するものに限定されることなく、平行光を照射する光源でも十分に適用可能であり、当該光源として用いることのできるランプの適用範囲の拡充を図ることが可能となる。   In the alignment processing apparatus of the sixth aspect, similarly to the fourth aspect, the diffused light of ultraviolet rays is irradiated from the oblique direction to the alignment film surface symmetrically with the portion immediately below the slit of the optical mask as the center of symmetry, and the symmetry A two-part alignment is automatically generated in the alignment film with the center as a boundary. Furthermore, since the optical mask is provided with an ultraviolet light scattering mechanism, the light source is not limited to the light source that irradiates the scattered light, and a light source that irradiates parallel light can be sufficiently applied. It is possible to expand the applicable range of lamps that can be used.

更に、光学マスクのスリットを、データ電極(ゲート電極)と略平行に画素の左右(上下)の中心位置と略一致する部位のみならず、当該部位と共に、又は当該部位とは独立に、データ電極(ゲート電極)の近傍でこれと略平行する部位に位置するように形成しても好適である。この場合、前記分割配向に加え、または前記分割配向とは独立に、電極近傍おける電界の発生に起因する液晶分子の傾きを矯正することが可能となる。   Furthermore, the slit of the optical mask is not only a part that substantially coincides with the center position of the left and right (up and down) of the pixel substantially in parallel with the data electrode (gate electrode), but also with the part or independently of the part. It is also preferable that the gate electrode is formed so as to be positioned in the vicinity of the (gate electrode) and substantially parallel thereto. In this case, it is possible to correct the tilt of the liquid crystal molecules caused by the generation of an electric field in the vicinity of the electrode in addition to the divided alignment or independently of the divided alignment.

第7の態様は、第6の態様に対応した配向処理方法である。この場合、第5の態様と同様に、液晶層に対する諸般の要請に応じて様々な分割配向のパターンが選択される。   The seventh aspect is an alignment processing method corresponding to the sixth aspect. In this case, similarly to the fifth embodiment, various divided alignment patterns are selected according to various requests for the liquid crystal layer.

第8の態様は、それぞれ配向膜を対向させて所定間隔に保たれた一対の基板を備え、前記配向膜間に液晶層が挿入されてなる液晶表示装置を対象とする。この液晶表示装置は、一方の前記基板の前記配向膜下に画素電極が形成されており、前記画素電極の端部に相当する部位の液晶分子に、当該端部で発生する電界による配向を打ち消す方向へ向かう配向規制力が与えられていることを特徴とする。   The eighth aspect is directed to a liquid crystal display device that includes a pair of substrates that face each other with an alignment film facing each other and that is maintained at a predetermined interval, and in which a liquid crystal layer is inserted between the alignment films. In this liquid crystal display device, a pixel electrode is formed under the alignment film on one of the substrates, and the alignment due to the electric field generated at the end portion is canceled in the liquid crystal molecules corresponding to the end portion of the pixel electrode. It is characterized in that an orientation regulating force directed in the direction is given.

第8の態様の液晶表示装置においては、前記配向規制力により電界による配向が相殺され、前記端部における液晶分子の配向が垂直配向となってディスクリネーションの発生が抑止される。   In the liquid crystal display device according to the eighth aspect, the alignment due to the alignment regulating force cancels out the alignment due to the electric field, and the alignment of the liquid crystal molecules at the end becomes vertical alignment, thereby preventing the occurrence of disclination.

第9の態様は、第8の態様に対応した液晶表示装置の製造方法である。この場合具体的には、前述の各種光学マスク等を用いることにより、前記配向規制力の発現が可能となる。   The ninth aspect is a method of manufacturing a liquid crystal display device corresponding to the eighth aspect. In this case, specifically, by using the above-described various optical masks or the like, the orientation regulating force can be expressed.

第10の態様は、第8の態様と同様、液晶表示装置を対象とし、一方の前記基板の前記配向膜下に、画素電極と当該画素電極間に形成されたバスライン(ゲート電極、データ電極)とを有し、前記画素電極の前記バスライン近傍に当該バスラインに略平行なスリットが形成されていることを特徴とする。   The tenth aspect is similar to the eighth aspect, and is intended for a liquid crystal display device. Under the alignment film of one of the substrates, a bus line (gate electrode, data electrode) formed between the pixel electrode and the pixel electrode. And a slit substantially parallel to the bus line is formed in the vicinity of the bus line of the pixel electrode.

第10の態様の液晶表示装置においては、画素電極に形成されたスリットにより、バスライン近傍における電界の発生に起因して液晶分子に傾きが生ぜしめる力が発生するが、スリットの両側で液晶分子が傾こうとし、結局行き場を失ってスリットと平行な方向に傾くことになり、前記電界に起因する配向不良が解消されてディスクリネーションの発生が抑止される。   In the liquid crystal display device according to the tenth aspect, the slit formed in the pixel electrode generates a force that causes the liquid crystal molecules to tilt due to the generation of an electric field in the vicinity of the bus line. In the end, it loses its destination and inclines in the direction parallel to the slit, so that the alignment failure caused by the electric field is eliminated and the occurrence of disclination is suppressed.

本発明によれば、配向膜への紫外線の斜め照射に伴い照射量に変動が生じても、安定な所望のプレチルト角が得られるため、簡素な構造で、ラビングを行なうことなく簡便な配向処理が可能であって、液晶分子の適正なプレチルト角を極めて安定且つ容易に得ることができる配向膜を備えた液晶表示装置を実現することができる。   According to the present invention, a stable desired pretilt angle can be obtained even if the irradiation dose fluctuates due to oblique irradiation of ultraviolet rays onto the alignment film, so that a simple alignment process can be performed without rubbing with a simple structure. Therefore, it is possible to realize a liquid crystal display device including an alignment film that can obtain an appropriate pretilt angle of liquid crystal molecules extremely stably and easily.

更に、プロセスを増加させることなく容易且つ正確に分割配向を行なうことを可能とし、表示画面におけるコントラストの向上、表示の明暗の反転防止及びディスクリネーションラインの減少を図って高性能の極めて明るい液晶画面を実現することができる。   In addition, it is possible to easily and accurately perform divisional alignment without increasing the number of processes, improving the contrast on the display screen, preventing reversal of the display light and darkness, and reducing the disclination lines, and performing extremely bright liquid crystals. A screen can be realized.

本発明の第1の実施形態による液晶表示装置の概略構成を示す断面図である。It is sectional drawing which shows schematic structure of the liquid crystal display device by the 1st Embodiment of this invention. 2種のポリマーからなる配向膜について、紫外線照射量に対するプレチルト角の変化が大きく異なる様子を示す特性図である。It is a characteristic view which shows a mode that the change of the pretilt angle with respect to ultraviolet irradiation amount differs greatly about the alignment film which consists of two types of polymers. 1種のポリマーからなる配向膜について、紫外線照射量に対する表面自由エネルギーの変化を示す特性図である。It is a characteristic view which shows the change of the surface free energy with respect to the amount of ultraviolet irradiation about the orientation film which consists of 1 type of polymer. 好適な配向膜を実現するための指針を示す特性図である。It is a characteristic view which shows the guideline for implement | achieving a suitable orientation film. 配向膜に配向処理を施すための装置を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the apparatus for performing an alignment process to alignment film. 本発明の第1の実施形態による液晶表示装置の配向膜について、紫外線照射量に対してプレチルト角が理想的な変化を示す特性図である。FIG. 6 is a characteristic diagram showing an ideal change in pretilt angle with respect to the amount of ultraviolet irradiation in the alignment film of the liquid crystal display device according to the first embodiment of the present invention. 第2の実施形態の配向処理装置の主要構成を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the main structures of the orientation processing apparatus of 2nd Embodiment. 光学マスク102が撓んだ場合の紫外線照射の様子を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the mode of ultraviolet irradiation when the optical mask 102 bends. 配向膜の紫外線照射に伴うチルト角の変化を示す特性図である。FIG. 6 is a characteristic diagram showing a change in tilt angle accompanying ultraviolet irradiation of an alignment film. 2分割配向の際に、基板に土手状部材を設けた様子を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows a mode that the bank-like member was provided in the board | substrate in the case of 2 division orientation. 第2の実施形態の配向処理に用いる光源(ランプ)の構成を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the structure of the light source (lamp) used for the orientation process of 2nd Embodiment. 光学マスクに対して光源(ランプ)を走査させる様子を示す概略斜視図である。It is a schematic perspective view which shows a mode that a light source (lamp) is scanned with respect to an optical mask. TFT−LCDに上下に2分割配向した一例を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows an example which was vertically divided into two on the TFT-LCD. TFT−LCDに左右に2分割配向した一例を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows an example which carried out 2 division | segmentation orientation right and left on TFT-LCD. TFT−LCDに上下左右に4分割配向した一例を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows an example which carried out 4 division | segmentation orientation on the TFT-LCD vertically and horizontally. TFT−LCDに上下左右に4分割配向した一例を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows an example which carried out 4 division | segmentation orientation on the TFT-LCD vertically and horizontally. TFT−LCDに上下2分割配向した一例を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows an example which carried out the vertical and 2-part dividing orientation on TFT-LCD. 土手状部材と画素電極との位置関係を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the positional relationship of a bank-like member and a pixel electrode. 土手状部材と画素電極との重畳部分の幅と画素電極の端部における配向不良の幅との関係を示す特性図である。It is a characteristic view showing the relationship between the width of the overlapping portion of the bank-like member and the pixel electrode and the width of the alignment failure at the end of the pixel electrode. 第2の実施形態の他の例を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the other example of 2nd Embodiment. 配向状態が良好となった光学マスクのスリットの幅及び光学マスクと基板との距離の最適値についての検討結果を示す特性図である。It is a characteristic view which shows the examination result about the optimal value of the width | variety of the slit of the optical mask which the orientation state became favorable, and the distance of an optical mask and a board | substrate. 第3の実施形態の配向処理装置の主要構成を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the main structures of the orientation processing apparatus of 3rd Embodiment. 第3の実施形態の他の例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the other example of 3rd Embodiment. 第3の実施形態の更に他の例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the other example of 3rd Embodiment. 第4の実施形態の配向処理装置の主要構成を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the main structures of the orientation processing apparatus of 4th Embodiment. 配向処理装置の光学マスクを示す概略斜視図である。It is a schematic perspective view which shows the optical mask of an orientation processing apparatus. 光学マスクの配置状態を示す概略斜視図である。It is a schematic perspective view which shows the arrangement | positioning state of an optical mask. 第4の実施形態により製造された液晶表示装置の画像状態を示す概略平面図である。It is a schematic plan view which shows the image state of the liquid crystal display device manufactured by 4th Embodiment. 2分割の配向規制のみを施してなる液晶表示装置の画像状態を示す概略平面図である。It is a schematic plan view which shows the image state of the liquid crystal display device which gives only the orientation regulation of 2 divisions. 第4の実施形態の他の例における光学マスクを示す概略平面図である。It is a schematic plan view which shows the optical mask in the other example of 4th Embodiment. 第4の実施形態の更に他の例における光学マスクを示す概略平面図である。It is a schematic plan view which shows the optical mask in the further another example of 4th Embodiment. 第4の実施形態の更に他の例で用いる光源の一例を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows an example of the light source used in the further another example of 4th Embodiment. 光源の散乱性と光学マスクのスリットとの関係を示す概略平面図である。It is a schematic plan view which shows the relationship between the scattering property of a light source, and the slit of an optical mask. 第5の実施形態の液晶表示装置の画素電極近傍を示す概略平面図である。It is a schematic plan view which shows the pixel electrode vicinity of the liquid crystal display device of 5th Embodiment. スリットが形成された画素電極における液晶分子の配向の様子を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the mode of the orientation of the liquid crystal molecule in the pixel electrode in which the slit was formed. 第5の実施形態の他の例を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the other example of 5th Embodiment. 1種のポリマーからなる配向膜について、紫外線照射量に対するプレチルト角の変化を示す特性図である。It is a characteristic view which shows the change of the pretilt angle with respect to the amount of ultraviolet irradiation about the orientation film which consists of 1 type of polymer. 配向膜に対する斜め紫外線照射により、液晶分子に所定プレチルト角の配向が生じた様子を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows a mode that the alignment of the predetermined pretilt angle produced in the liquid crystal molecule by the oblique ultraviolet irradiation with respect to the alignment film. 従来の手法により、配向膜に2分割配向を施す場合の工程を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the process in the case of giving 2 division alignment to an alignment film with the conventional method. 光学マスクに撓みが生じた場合の不都合を説明するための概略断面図である。It is a schematic sectional drawing for demonstrating the inconvenience when bending arises in an optical mask.

以下、本発明を適用した具体的な諸実施形態について、図面を参照しながら詳細に説明する。   Hereinafter, specific embodiments to which the present invention is applied will be described in detail with reference to the drawings.

(第1の実施形態)
本実施形態では、液晶の配向膜に特徴のある液晶表示装置及びその製造方法を例示する。図1は、本実施形態の液晶表示装置の主要構成を示す概略断面図である。この液晶表示装置は、所定間隔をあけて対向する一対の透明ガラス基板11,12と、これら透明ガラス基板11,12間に狭持される液晶層13とを備えて構成されている。
(First embodiment)
In the present embodiment, a liquid crystal display device characterized by a liquid crystal alignment film and a manufacturing method thereof will be exemplified. FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing the main configuration of the liquid crystal display device of the present embodiment. The liquid crystal display device includes a pair of transparent glass substrates 11 and 12 facing each other with a predetermined interval, and a liquid crystal layer 13 sandwiched between the transparent glass substrates 11 and 12.

一方の透明ガラス基板11上には、絶縁層14を介して複数の画素電極15が形成され、画素電極15を覆うように透明の配向膜16aが形成されており、他方の透明ガラス基板12上には、カラーフィルター17、共通電極18及び配向膜16bが順次積層されている。そして、液晶層13を狭持するように配向膜16a,16bが突き合わせられてガラス基板11,12が固定され、各基板11,12の外側に偏光子19,20が設けられる。画素電極15はアクティブマトリクスと共に形成され、図示の例ではアクティブマトリクスのデータバスライン21が示されている。なお、電極は一方の基板のみに設けられることもある(例えば、IPSモードの場合)。   A plurality of pixel electrodes 15 are formed on one transparent glass substrate 11 via an insulating layer 14, and a transparent alignment film 16 a is formed so as to cover the pixel electrodes 15. The color filter 17, the common electrode 18, and the alignment film 16b are sequentially stacked. The alignment films 16 a and 16 b are abutted so as to sandwich the liquid crystal layer 13 to fix the glass substrates 11 and 12, and polarizers 19 and 20 are provided outside the substrates 11 and 12. The pixel electrode 15 is formed together with an active matrix, and in the illustrated example, a data bus line 21 of the active matrix is shown. Note that the electrode may be provided only on one of the substrates (for example, in the IPS mode).

配向膜16a(16b)は、液晶層13の液晶分子に対する所定配向性を有しており、ラビングすることなく液晶層13への斜め方向からの紫外線照射によって液晶分子のプレチルト角を伴った配向が実現されている。   The alignment film 16a (16b) has a predetermined alignment property with respect to the liquid crystal molecules of the liquid crystal layer 13, and the alignment with the pretilt angle of the liquid crystal molecules is performed by irradiating the liquid crystal layer 13 with ultraviolet rays from an oblique direction without rubbing. It has been realized.

具体的に、配向膜16a(16b)は、紫外線照射に応じたプレチルト角の変化率の異なる2種類のポリマーx1,x2を含む材料、ここでは、一方のポリマーx1が液晶分子の配向を初期状態である垂直配向から変化させ、例えばランダム水平配向とするものとし、他方のポリマーx2が液晶分子の配向を初期状態に維持するものを用い、これらを混合又は共重合させたものを含む材料から構成される。即ち、ポリマーx1は紫外線に対する反応性が極端に速く、少ない紫外線照射量でプレチルト角が急減する。それに対して、ポリマーx2は紫外線に対する反応性が極端に遅く、紫外線の照射によってもプレチルト角が殆ど変化しない。なお、プレチルト角の変化率の異なる3種類以上のポリマーを混合又は共重合させて用いることも考えられる。   Specifically, the alignment film 16a (16b) is a material containing two types of polymers x1 and x2 having different rates of change in pretilt angle in response to ultraviolet irradiation. Here, one polymer x1 is in an initial state of alignment of liquid crystal molecules. For example, a random horizontal alignment is used, and the other polymer x2 maintains the alignment of liquid crystal molecules in the initial state, and is composed of a material including a mixture or copolymer of them. Is done. That is, the polymer x1 has extremely fast reactivity with respect to ultraviolet rays, and the pretilt angle rapidly decreases with a small amount of ultraviolet irradiation. On the other hand, the polymer x2 has extremely low reactivity to ultraviolet rays, and the pretilt angle hardly changes even when irradiated with ultraviolet rays. It is also conceivable to use a mixture or copolymer of three or more polymers having different pretilt angle change rates.

ここで、紫外線照射に対してプレチルト角の所定変化率を呈する1種類のポリマーを用いて配向膜を構成する場合、紫外線照射量(J/cm2)とプレチルト角(°)との関係は例えば図38のようになる。この場合、紫外線照射量の変化に対するプレチルト角の変化量が大きいため、適正な紫外線照射が困難となる。 Here, when the alignment film is formed by using one kind of polymer exhibiting a predetermined change rate of the pretilt angle with respect to ultraviolet irradiation, the relationship between the ultraviolet irradiation amount (J / cm 2 ) and the pretilt angle (°) is, for example, As shown in FIG. In this case, since the amount of change in the pretilt angle with respect to the change in the amount of ultraviolet irradiation is large, proper ultraviolet irradiation becomes difficult.

そこで、紫外線照射量とプレチルト角との理想的な関係としては、紫外線の少ない照射量時でプレチルト角が速やかに所望値まで減衰し、その後は紫外線照射量が増加してもプレチルト角がほぼ当該所望値で保持されるようになればよい。本実施形態では、上記の理想的なプレチルト角を実現すべく、図2に示すように、紫外線照射量(J/cm2)に対してプレチルト角が急減するポリマーx1と、プレチルト角が紫外線照射量に殆ど依存せずに変化を示さないポリマーx2とを用いて配向膜16a(16b)を構成する。 Therefore, the ideal relationship between the UV irradiation amount and the pretilt angle is that the pretilt angle quickly decays to the desired value when the UV irradiation amount is small, and then the pretilt angle is almost the same even if the UV irradiation amount increases. What is necessary is just to come to hold | maintain with a desired value. In the present embodiment, in order to realize the above-mentioned ideal pretilt angle, as shown in FIG. 2, the polymer x1 whose pretilt angle rapidly decreases with respect to the ultraviolet irradiation amount (J / cm 2 ), and the pretilt angle is ultraviolet irradiation. The alignment film 16a (16b) is formed using a polymer x2 that hardly changes depending on the amount and shows no change.

配向膜16a(16b)のポリマーとしては、垂直配向型のポリイミド又はポリアミック酸を用いる。一例を以下に示す。   As the polymer of the alignment film 16a (16b), vertical alignment type polyimide or polyamic acid is used. An example is shown below.

Figure 2009282552
Figure 2009282552

前記ポリマーは、化学式1に示すようにアルキル側鎖(アルキル基)Rを有しており、これは配向膜16a(16b)の表面にランダムに突出していると考えられる。前記表面に紫外線が照射されると、アルキル側鎖Rを支えている直鎖に光開烈が生じて切断され、実質的にアルキル側鎖Rが減少し、その結果として液晶分子のプレチルト角の減衰として現れる。ポリマーx1は、アルキル側鎖Rを支えている直鎖がポリマーx2に比して格段に切断され易い構造を有する。具体的には、ポリマーx1のアルキル側鎖Rを支えている直鎖として光開烈が生じ易い部位、例えば二重結合部位を設ける。この二重結合部位に紫外線が照射されると、それが極少ない照射量でも光開烈が生じ、短時間でプレチルト角の大幅な減衰が惹起されることになる。   The polymer has an alkyl side chain (alkyl group) R as shown in Chemical Formula 1, which is considered to protrude randomly from the surface of the alignment film 16a (16b). When the surface is irradiated with ultraviolet light, photostraightening occurs in the straight chain supporting the alkyl side chain R and is cut, substantially reducing the alkyl side chain R. As a result, the pretilt angle of the liquid crystal molecules is reduced. Appears as decay. The polymer x1 has a structure in which the straight chain supporting the alkyl side chain R is much easier to cut than the polymer x2. Specifically, a site where photocleavage easily occurs, for example, a double bond site, is provided as a straight chain that supports the alkyl side chain R of the polymer x1. When this double bond site is irradiated with ultraviolet rays, photoexpansion occurs even when the irradiation amount is extremely small, and the pretilt angle is greatly attenuated in a short time.

ここで、ポリマーx1,x2の割合を例えばそれぞれ20%,80%とする。紫外線照射を開始して所定時間経過までにポリマーx1の状態が変化してプレチルト角を発現させるアルキル側鎖Rの実質的な量が減少して殆ど0となる。これに対して、ポリマーx2はポリマーx1の如きアルキル側鎖Rの直鎖に二重結合部位等を有しないため、初期状態の垂直配向状態を保持する。このため、前記所定時間経過後には配向膜16a(16b)全体として見ればアルキル側鎖Rの元からの割合が80に減少した状態でほぼ一定値を保つことを意味する。これは、ポリマーx2のみに紫外線照射を実行した場合に当てはめれば、アルキル側鎖Rの割合が100%から80%まで減少し、その後一定となることに相当する。即ち、ポリマーx1,x2の割合をそれぞれ20%,80%として両者を混合又は共重合させて配向膜16a(16b)を構成することにより、あたかもポリマーx2のみを含む材料からなる配向膜に紫外線を照射し、アルキル側鎖Rの割合が元の80%に達した状態が維持され、当該状態に相当する安定なプレチルト角が実現する。   Here, the ratio of the polymers x1 and x2 is, for example, 20% and 80%, respectively. By the start of UV irradiation, the polymer x1 changes its state by a predetermined time, and the substantial amount of the alkyl side chain R that develops the pretilt angle is decreased to almost zero. On the other hand, since the polymer x2 does not have a double bond site or the like in the straight chain of the alkyl side chain R like the polymer x1, it maintains the initial vertical alignment state. For this reason, when the alignment film 16a (16b) is viewed as a whole after the lapse of the predetermined time, it means that the ratio of the alkyl side chain R is kept at a substantially constant value with the ratio reduced to 80. This applies to the case where only the polymer x2 is irradiated with ultraviolet rays, and the proportion of the alkyl side chain R is reduced from 100% to 80% and then becomes constant. That is, by forming the alignment film 16a (16b) by mixing or copolymerizing the ratios of the polymers x1 and x2 to 20% and 80%, respectively, ultraviolet rays are applied to the alignment film made of a material containing only the polymer x2. Irradiated, the state where the ratio of the alkyl side chain R reaches 80% is maintained, and a stable pretilt angle corresponding to the state is realized.

次に、上記の如き特性を有する好適な配向膜を実現するためのポリマーx1,x2の具体的な選択基準について説明する。配向膜表面への紫外線照射時間(分)と表面自由エネルギー(γs:単位面積あたりのヘルムホルツ自由エネルギー)との関係を図3に示す。両者はある状態に達するまではほぼ比例関係にあり、紫外線照射量が少ないときは表面エネルギーも小さく、紫外線の照射に伴って表面自由エネルギーは大きくなり、最終的にはほぼ一定値となる。ここで、図4(a)に示すように、紫外線の照射時間の増加に伴って表面自由エネルギーが大きくなると、液晶注入時に注入口からいわゆる注入筋が発生する。更に照射時間が増加すると最早初期の垂直配向性を示さず、水平ランダム配向に移行する。即ち本発明者らは、紫外線照射時間(照射量)が増加するにつれて表面自由エネルギーは、領域(1):垂直配向を示す状態、領域(2):流動配向やスペーサ近傍の不良が発生せず、良好な画像表示が実現する状態、領域(3):流動配向により注入筋が発生する状態、領域(4):水平ランダム配向を示す状態に順次移行することを見出した。   Next, specific criteria for selecting the polymers x1 and x2 for realizing a suitable alignment film having the above characteristics will be described. FIG. 3 shows the relationship between the ultraviolet irradiation time (min) on the alignment film surface and the surface free energy (γs: Helmholtz free energy per unit area). The two are in a substantially proportional relationship until reaching a certain state. When the amount of ultraviolet irradiation is small, the surface energy is small, the surface free energy increases with the irradiation of ultraviolet rays, and finally becomes a substantially constant value. Here, as shown in FIG. 4A, when the surface free energy increases as the irradiation time of ultraviolet rays increases, so-called injection streaks are generated from the injection port during liquid crystal injection. When the irradiation time is further increased, the initial vertical alignment is not exhibited, and the horizontal random alignment is shifted. In other words, the inventors of the present invention have found that the surface free energy increases as the ultraviolet irradiation time (irradiation amount) increases. Region (1): State indicating vertical alignment, Region (2): Flow alignment and defects near the spacer do not occur. It was found that a state in which good image display is realized, region (3): a state in which injection streaks are generated by flow orientation, and region (4): a state in which horizontal random orientation is exhibited are sequentially shifted.

更に、図4(b)に示すように、表面自由エネルギーを基準として配向膜を分類すれば、配向膜を構成するポリマーの性質により、少量(短時間)の紫外線照射により領域(4)に移行し、水平ランダム配向となるもの(配向膜A)、紫外線照射時間の経過により領域(3)に移行し、ほぼこの状態で止まるもの(配向膜B)、依然として領域(1)に止まり、初期の垂直配向を維持するもの(配向膜C)の3種類が存在する。従って、配向膜A〜Cを適宜組み合わせることにより、理想的な状態である領域(2)を実現できることが示唆される。   Furthermore, as shown in FIG. 4B, if the alignment film is classified based on the surface free energy, it shifts to the region (4) by a small amount (short time) of ultraviolet irradiation depending on the properties of the polymer constituting the alignment film. Then, the film becomes horizontal random alignment (alignment film A), shifts to the region (3) with the passage of the ultraviolet irradiation time, stops almost in this state (alignment film B), still remains in the region (1), There are three types that maintain vertical alignment (alignment film C). Therefore, it is suggested that the ideal region (2) can be realized by appropriately combining the alignment films A to C.

配向膜A,B及び配向膜A,Cの各組み合わせによる紫外線照射量とプレチルト角との関係を図4(c)に示す。配向膜A,Bを組み合わせた場合では、紫外線照射量の増加に伴いプレチルト角は緩やかに下がり続け、マージンの向上に寄与せず、良好な配向も実現されない。これに対して配向膜A,Cを組み合わせた場合では、紫外線照射量の変化によってもプレチルト角が殆ど変化しない領域が実現され、マージンの広い配向が実現される。   FIG. 4C shows the relationship between the ultraviolet irradiation amount and the pretilt angle by each combination of the alignment films A and B and the alignment films A and C. In the case where the alignment films A and B are combined, the pretilt angle continues to gradually decrease with an increase in the amount of ultraviolet irradiation, does not contribute to the improvement of the margin, and good alignment is not realized. On the other hand, when the alignment films A and C are combined, a region in which the pretilt angle hardly changes even when the ultraviolet irradiation amount changes is realized, and an alignment with a wide margin is realized.

上述したように、ポリマーx1,x2としては、プレチルト角の発現に関して両極端の性質を示すもの、即ちポリマーx1が少量(短時間)の紫外線照射により水平ランダム配向となるのに対して、ポリマーx2は依然として初期の垂直配向を維持するものが好適である。従って、表面自由エネルギーを基準として、ポリマーx1を配向膜A(のポリマー)、ポリマーx2を配向膜Cとして選択することが好適である。   As described above, the polymers x1 and x2 exhibit extreme extreme properties regarding the expression of the pretilt angle, that is, the polymer x1 becomes horizontal random orientation by a small amount (short time) of ultraviolet irradiation, whereas the polymer x2 Those that still maintain the initial vertical alignment are preferred. Therefore, it is preferable to select the polymer x1 as the alignment film A (polymer) and the polymer x2 as the alignment film C on the basis of the surface free energy.

続いて、液晶表示装置の製造方法において、本実施形態の主要工程である配向処理工程について説明する。先ず、透明ガラス基板11については、表面に絶縁膜14を積層形成した後、カラーフィルター17及び画素電極15を順次形成する。他方、透明ガラス基板12については、表面にカラーフィルター17及び共通電極18を順次形成する。   Subsequently, in the method for manufacturing a liquid crystal display device, an alignment treatment process which is a main process of the present embodiment will be described. First, for the transparent glass substrate 11, the insulating film 14 is formed on the surface, and then the color filter 17 and the pixel electrode 15 are sequentially formed. On the other hand, the color filter 17 and the common electrode 18 are sequentially formed on the surface of the transparent glass substrate 12.

次に、透明ガラス基板11,12の各々の表面に、上記の性質を有するポリマーx1,x2として、例えば日本合成ゴム株式会社製の垂直配向型のポリイミド又はポリアミック酸(化学式1参照)を用い、x1,x2を2:8の割合で混合又は共重合させて透明ガラス基板11,12の各表面に配向膜16a,16bを形成する。そして、図5に示す配向処理装置を用いて当該被膜に以下に示す配向処理を施す。   Next, as the polymers x1 and x2 having the above properties on the surfaces of the transparent glass substrates 11 and 12, for example, a vertically oriented polyimide or polyamic acid (see Chemical Formula 1) manufactured by Nippon Synthetic Rubber Co., Ltd. is used. x1 and x2 are mixed or copolymerized at a ratio of 2: 8 to form alignment films 16a and 16b on the surfaces of the transparent glass substrates 11 and 12, respectively. And the orientation processing shown below is given to the said film using the orientation processing apparatus shown in FIG.

配向処理装置は、無偏光の紫外線を照射する光源31と、ミラー32と、配向膜16a(16b)が形成された透明ガラス基板11(12)を支持するホルダー33とを備えて構成されている。ホルダー33は紫外線の光軸に対して斜めに透明ガラス基板11(12)を支持する。即ち、光源31からの平行な紫外線が配向膜16a(16b)の表面に対してθ=45°の角度(又は45°以下の所定角度)で入射するようになされている。 The alignment processing apparatus includes a light source 31 that emits unpolarized ultraviolet light, a mirror 32, and a holder 33 that supports the transparent glass substrate 11 (12) on which the alignment film 16a (16b) is formed. . The holder 33 supports the transparent glass substrate 11 (12) obliquely with respect to the optical axis of the ultraviolet rays. That is, parallel ultraviolet rays from the light source 31 are incident on the surface of the alignment film 16a (16b) at an angle of θ = 45 ° (or a predetermined angle of 45 ° or less).

光源31は、ショートアーク型のキセノン水銀ランプであり、放物面リフレクタ3104aを含んで無偏光の紫外線をほぼ平行に照射するものであり、当該紫外線波長のスペクトル分布は250nm近傍にピークを持つものである。このスペクトル分布において、300nm以上の波長成分はプレチルト角の発現に寄与しないことが判っており、有効にプレチルト角を発現させることを考慮して波長が280nm以下の紫外線を用いることが好適である。なお、照射する紫外線としては、偏光として有するP波及びS波について、P波がS波より多い状態或いはP波のみの状態のものを用いてもよい。   The light source 31 is a short arc type xenon mercury lamp, which includes a parabolic reflector 3104a and irradiates non-polarized ultraviolet rays substantially in parallel. The spectral distribution of the ultraviolet wavelength has a peak near 250 nm. It is. In this spectral distribution, it has been found that wavelength components of 300 nm or more do not contribute to the expression of the pretilt angle, and it is preferable to use ultraviolet rays having a wavelength of 280 nm or less in consideration of effectively expressing the pretilt angle. In addition, as an ultraviolet-ray to irradiate, about the P wave and S wave which have polarization | polarized-light, the thing of a state with more P waves than an S wave or a state of only a P wave may be used.

上記構成の配向処理装置を用い、配向膜16a(16b)の表面に斜め45°の角度から紫外線を照射する。このとき、ポリマーx1は紫外線照射量が数10(mJ/cm2)でプレチルト角が減少するものであり、ポリマーx2は紫外線照射量が数(J/cm2)でもプレチルト角に殆ど変化がないものであるため、紫外線照射量を1(J/cm2)とする。 Using the alignment treatment apparatus having the above-described configuration, the surface of the alignment film 16a (16b) is irradiated with ultraviolet rays from an oblique angle of 45 °. At this time, the pre-tilt angle of the polymer x1 decreases when the ultraviolet irradiation amount is several tens (mJ / cm 2 ), and the pretilt angle of the polymer x2 hardly changes even when the ultraviolet irradiation amount is several (J / cm 2 ). Therefore, the irradiation amount of ultraviolet rays is 1 (J / cm 2 ).

なお、ポリマーx1,x2がそれぞれ前記各性質を確実に示すことを考慮し、紫外線照射量とプレチルト角の関係について、ポリマーx1については紫外線照射量が0.5(J/cm2)以下でプレチルト角の変化が2°以上となり、ポリマーx2については紫外線照射量が1(J/cm2)以下でプレチルト角の変化が0.5°以下となるものが好適である。 In consideration of the fact that each of the polymers x1 and x2 surely exhibits the above properties, regarding the relationship between the ultraviolet irradiation amount and the pretilt angle, the pre-tilt is performed when the ultraviolet irradiation amount is 0.5 (J / cm 2 ) or less for the polymer x1. It is preferable that the angle change is 2 ° or more, and the polymer x2 has an ultraviolet irradiation amount of 1 (J / cm 2 ) or less and a pretilt angle change of 0.5 ° or less.

これらの条件で実際に紫外線照射を行なったところ、図6に示すように、約89°の安定なプレチルト角が実現でき、紫外線照射量が1±0.3(J/cm2)の範囲におけるプレチルト角の変動は0.1°以下であった。従って、紫外線の斜め照射に伴い照射量に変動が生じても、安定な所望のプレチルト角が得られることが判る。 When UV irradiation is actually performed under these conditions, as shown in FIG. 6, a stable pretilt angle of about 89 ° can be realized, and the UV irradiation amount is in the range of 1 ± 0.3 (J / cm 2 ). The fluctuation of the pretilt angle was 0.1 ° or less. Therefore, it can be seen that a stable desired pretilt angle can be obtained even if the irradiation amount varies with oblique irradiation of ultraviolet rays.

続いて、一対の透明ガラス基板11,12間に液晶を注入して液晶層13を形成した後、注入口を封止する。しかる後、諸々の後工程を経て、液晶表示装置を完成させる。   Subsequently, after injecting liquid crystal between the pair of transparent glass substrates 11 and 12 to form the liquid crystal layer 13, the injection port is sealed. Thereafter, the liquid crystal display device is completed through various post-processes.

以上説明したように、本実施形態によれば、簡素な構造で、ラビングを行なうことなく簡便な配向処理が可能であって、液晶層13の液晶分子の適正なプレチルト角を極めて安定且つ容易に得ることができる配向膜16a(16b)を備えた液晶表示装置を実現することができる。   As described above, according to the present embodiment, a simple alignment process can be performed without rubbing, and an appropriate pretilt angle of the liquid crystal molecules of the liquid crystal layer 13 can be set extremely stably and easily. A liquid crystal display device including the alignment film 16a (16b) that can be obtained can be realized.

(第2の実施形態)
本実施形態では、液晶表示装置の構成要素である配向膜に分割配向を施す際に用いる配向処理装置及び方法を例示する。先ず始めに、本実施形態の概略的骨子について説明する。図7は、本実施形態の配向処理装置の主要構成を示す模式図である。この配向処理装置は、紫外線の散乱光を照射する光源101と、光源101下に設けられ、スリット111が形成された光学マスク102とを備えて構成される。
(Second Embodiment)
In the present embodiment, an alignment processing apparatus and method used when performing division alignment on an alignment film that is a constituent element of a liquid crystal display device will be exemplified. First, the outline of the present embodiment will be described. FIG. 7 is a schematic diagram showing the main configuration of the alignment processing apparatus of the present embodiment. The alignment processing apparatus includes a light source 101 that emits ultraviolet scattered light and an optical mask 102 that is provided under the light source 101 and in which a slit 111 is formed.

光源101は、散乱性を有する紫外線ランプを用いる。例えば、チューブタイプの低圧水銀ランプがこれにあたる。形状は通常の長い蛍光灯と同様であるが、気体の成分あるいは重光管のガラスの材質が異なっており紫外線、特に波長250nm付近の散乱光が照射される。   As the light source 101, an ultraviolet lamp having scattering properties is used. For example, a tube-type low-pressure mercury lamp corresponds to this. The shape is the same as that of a normal long fluorescent lamp, but the gas component or the glass material of the heavy light tube is different, and ultraviolet light, particularly scattered light having a wavelength of around 250 nm is irradiated.

光学マスク102を、配向膜103の塗布あるいは印刷された基板104から一定の距離、例えば50μm離して設置する。光学マスク102には、散乱した紫外線を透過させられるようにスリット111が形成されている。光源101として水銀ランプをこの光学マスク102の上で図7中矢印の方向にスキャンさせると、スリット111を中心として拡がる拡散光を生成し、当該拡散光が配向膜103に照射されて、スリット111直下を境界として拡散光の斜めの拡散方向に依存した2分割配向が形成される。このように、1回の紫外線照射により斜めの2分割配向を実現させる技術が本実施形態の第1の骨子である。   The optical mask 102 is placed at a certain distance, for example, 50 μm away from the substrate 104 on which the alignment film 103 is applied or printed. A slit 111 is formed in the optical mask 102 so that the scattered ultraviolet light can be transmitted. When a mercury lamp is scanned as the light source 101 on the optical mask 102 in the direction of the arrow in FIG. 7, diffused light spreading around the slit 111 is generated, and the diffused light is irradiated to the alignment film 103, and the slit 111 A two-divided orientation is formed depending on the oblique diffusion direction of the diffused light with the boundary immediately below. As described above, the technology for realizing the oblique two-divided orientation by one ultraviolet irradiation is the first outline of the present embodiment.

第1の骨子においては、光学マスク102のスリット111の直下部位を対称中心として対称に配向膜103の表面に対して斜め方向から紫外線の拡散光が照射される。これにより、前記対称中心を境界として配向膜103に自動的に2分割配向が生じることになる。この場合、拡散光は前記対称中心から離間するにつれて照射角度が変化し、これに応じた多数のプレチルト角を有する視覚特性に優れた液晶層が実現する。このような配向膜は、(1)液晶分子の倒れる方向が互いに逆方位であること、(2)倒れる中心部分での配向は垂直配向であること、(3)配向膜の表面エネルギーの大きさはスリットに近いほど大きい又は小さいこと、という性質を有するため、当該配向膜を備えた液晶表示装置は、液晶に所定の境界において複数の分割配向が施されており、配向膜の表面エネルギーは、前記配向分割の境界において最大値又は最小値となり、境界から離れるほど小さく又は大きくなるものとなる。   In the first skeleton, ultraviolet diffused light is radiated from an oblique direction to the surface of the alignment film 103 symmetrically with the portion immediately below the slit 111 of the optical mask 102 as the center of symmetry. As a result, the alignment film 103 is automatically divided into two parts with the symmetry center as a boundary. In this case, the diffusion angle of the diffused light changes as the distance from the center of symmetry changes, and a liquid crystal layer with excellent visual characteristics having a large number of pretilt angles corresponding to this is realized. In such an alignment film, (1) the directions in which the liquid crystal molecules are tilted are opposite to each other, (2) the alignment at the center portion to be tilted is a vertical alignment, and (3) the surface energy of the alignment film is large. Since the liquid crystal display device provided with the alignment film has a plurality of divided alignments at a predetermined boundary, the surface energy of the alignment film is: It becomes the maximum value or the minimum value at the boundary of the alignment division, and becomes smaller or larger as the distance from the boundary increases.

更に第1の骨子の構成によれば、光学マスク102に撓みが生じても、さしたる影響を受けることなく所期の分割配向が得られる。これは、例えば図8に示すように、光学マスク102が撓んだ場合においても元々の散乱光は光学マスク102に対して垂直な方向から入射されるので、光が照射される対称中心は変化しないからである。但し、回り込む光の範囲は変化するので、このマージンを見込んで光学マスク2と基板との間隙、スリット111の幅を設計する必要がある。   Furthermore, according to the structure of the first skeleton, even if the optical mask 102 is bent, the desired divided orientation can be obtained without being affected by much. For example, as shown in FIG. 8, since the original scattered light is incident from a direction perpendicular to the optical mask 102 even when the optical mask 102 is bent, the symmetry center irradiated with the light changes. Because it does not. However, since the range of light that wraps around changes, it is necessary to design the gap between the optical mask 2 and the substrate and the width of the slit 111 in consideration of this margin.

更に本実施形態では、第1の実施形態の液晶表示装置の主要構成である配向膜、即ち2種のポリマーからなり、紫外線の照射により垂直配向からプレチルト角が変化し始め、ある紫外線照射量を超えるとプレチルト角が90°近傍の一定値となるものを用いることが好適である。このような性質を有する配向膜を用いることにより、スリット111の直下では垂直配向を保ち、散乱光の照射角度及び照射量に応じて液晶層のプレチルト角が90°から前記一定値までの間で安定に分布する。   Further, in the present embodiment, the alignment film, which is the main component of the liquid crystal display device of the first embodiment, that is, composed of two types of polymers, the pretilt angle starts to change from the vertical alignment by the irradiation of ultraviolet rays, and a certain ultraviolet ray irradiation amount is set. If it exceeds, it is preferable to use a pretilt angle having a constant value in the vicinity of 90 °. By using the alignment film having such properties, the vertical alignment is maintained immediately below the slit 111, and the pretilt angle of the liquid crystal layer is between 90 ° and the predetermined value according to the irradiation angle and the irradiation amount of the scattered light. Stable distribution.

また、配向膜としては、紫外線の照射により垂直配向からプレチルト角が変化し始め、更に紫外線を照射することにより再び垂直配向に戻る特性を有するものを用いても好適である。この場合における配向膜の紫外線照射に伴うチルト角の変化を図9に示す。紫外線照射量を増加させるにしたがって、垂直配向から傾いた垂直配向に移行し、更に紫外線を照射すると再びプレチルト角は小さくなって垂直配向になる。   As the alignment film, a film having a characteristic that the pretilt angle starts to change from the vertical alignment by irradiation with ultraviolet rays and returns to the vertical alignment again by irradiation with ultraviolet rays may be used. FIG. 9 shows the change in tilt angle associated with the ultraviolet irradiation of the alignment film in this case. As the amount of ultraviolet irradiation increases, the vertical alignment shifts from the vertical alignment, and when the ultraviolet rays are further irradiated, the pretilt angle decreases again to become the vertical alignment.

この場合、紫外線が多く照射されるスリット111の直下であっても配向は水平配向にはならず垂直配向となるので、配向乱れが生じない。このスリット111の直下には紫外線が多く照射され、通常の配向膜では水平配向となってしまい、配向方位が規定されないため電圧の印加されていないときの黒表示状態にあっても白く光る配向不良領域となる。これに対して、本実施形態のような配向膜を用いている場合には、配向は連続的となり配向不良が生じることなく、垂直配向となるのみで黒表示の状態においても確実に画面全体が黒くなる。即ちこのような性質を有する配向膜を用いることにより、照射強度の高いスリット直下における配向を垂直配向に制御することができ、スリット直下以外の部位では所定のプレチルト角の範囲内で連続的な配向を生ぜしめて配向不良が抑止される。このように、当該配向処理装置を用いて好適な分割配向が施されることに優れた配向膜を利用することが、本実施形態における第2の骨子である。   In this case, even if it is directly under the slit 111 irradiated with a large amount of ultraviolet rays, the alignment is not horizontal alignment but vertical alignment, so that alignment disorder does not occur. Directly below the slit 111, a lot of ultraviolet rays are radiated, and in a normal alignment film, the alignment is horizontal, and the alignment orientation is not defined. Therefore, the alignment failure shines white even when no voltage is applied. It becomes an area. On the other hand, when the alignment film as in the present embodiment is used, the alignment is continuous and alignment failure does not occur, and the entire screen is surely displayed even in the black display state only by the vertical alignment. It becomes black. That is, by using an alignment film having such properties, the alignment immediately below the slit with high irradiation intensity can be controlled to a vertical alignment, and continuous alignment is performed within a predetermined pretilt angle range at a portion other than just below the slit. This prevents misalignment. Thus, the second main point in the present embodiment is to use an alignment film that is excellent in being subjected to suitable divided alignment using the alignment processing apparatus.

更に、本実施形態では、図10(a)に示すように、2分割配向を行なう場合の具体的な配向状態、及び土手状部材を併用するにあたっての液晶パネル構造を開示する。これが基本的な構成で、この考え方が4分割配向の場合にも援用されている。画素電極118の上下のゲート電極113から画素中央に向かって液晶層114の液晶分子が傾いて配向するように設定、又は(及び)画素電極118の左右のデータ電極115から画素中央に向かって液晶分子が傾いて配向するように設定される。更に、TFT基板104a側には光学マスク102のスリット111を画素中央に設定して紫外線を照射し、対向するCF側基板104bにおいては同様に紫外線を斜めに照射する。更に、TFT基板104a又は(及び)CF基板104b上に樹脂等からなる土手状部材116を設けて配向方向の規制を助けることが可能である。これらが本実施形態における第3の骨子である。   Furthermore, in the present embodiment, as shown in FIG. 10A, a specific alignment state in the case of performing two-part alignment and a liquid crystal panel structure when using a bank-like member are disclosed. This is a basic configuration, and this idea is also used in the case of quadrant orientation. The liquid crystal molecules of the liquid crystal layer 114 are set so as to be inclined from the upper and lower gate electrodes 113 of the pixel electrode 118 toward the center of the pixel, or (and) the liquid crystal from the left and right data electrodes 115 of the pixel electrode 118 toward the center of the pixel. It is set so that molecules are tilted and oriented. Further, the slit 111 of the optical mask 102 is set in the center of the pixel on the TFT substrate 104a side and irradiated with ultraviolet rays, and the opposite CF side substrate 104b is similarly irradiated with ultraviolet rays obliquely. Furthermore, a bank-like member 116 made of resin or the like can be provided on the TFT substrate 104a or (and) the CF substrate 104b to help regulate the alignment direction. These are the third outline in the present embodiment.

第3の骨子においては、例えば図10(a)に示すように、ゲート電極113からの漏れ電界による配向規制と同一の方向に液晶層112の配向規制を行う。これによりゲート電極115近傍から配向は連続的に変化してディスクリネーションが生じることがない。例えば、図10(a)における液晶の配向を逆にした場合には、図10(b)の中の破線の円で示した部位付近にディスクリネーションが生じてしまう。これに対して本実施形態では、光配向を用いているため、配向規制は表示電極面全体で生じており、応答は速く、且つディスクリネーションも発生しない。   In the third outline, for example, as shown in FIG. 10A, the alignment regulation of the liquid crystal layer 112 is performed in the same direction as the alignment regulation due to the leakage electric field from the gate electrode 113. Thereby, the orientation is continuously changed from the vicinity of the gate electrode 115 and disclination does not occur. For example, when the orientation of the liquid crystal in FIG. 10A is reversed, disclination occurs in the vicinity of the portion indicated by the dashed circle in FIG. 10B. On the other hand, in this embodiment, since photo-alignment is used, the alignment restriction is generated on the entire display electrode surface, the response is fast, and disclination does not occur.

ここで、土手状部材の作用について言及しておく。現在、土手状部材を設けて配向を制御する手法が実用化されており、このディスプレイにおいては土手状部材の側面の傾斜を利用して液晶の配向を規制するものである。本実施形態では、この土手状部材の作用を活用している。土手状部材のみを利用した調合には、隣接する土手状部材の間隙を狭くする必要がある。例えば30μm程度の間隙をとることが望ましい。しかしながらこの場合、土手状部材が表示画素内に多く存在してしまう。本実施形態においては、光配向が使われているので土手状部材の間隙を広げることができる。ところで、光配向を行なう場合には土手状部材が積極的に配向規制力を有する必要は必ずしもない。光配向で配向を行わせた場合には、図10(a)に示す中央の部分の位置が確実に決まらない可能性がある。例えば、光学マスクのスリットの幅が20μm程度あるような場合には、その中央に配向分割の中心を確実に持ってくることは難しいと考えられる。この配向分割の分割地点を土手の形成により確実にすることが、本実施形態における土手状部材の大きな役割である。   Here, the action of the bank-like member will be mentioned. At present, a method of controlling the orientation by providing a bank-like member has been put into practical use. In this display, the orientation of the liquid crystal is regulated by utilizing the inclination of the side surface of the bank-like member. In this embodiment, the action of the bank-like member is utilized. For blending using only a bank-like member, it is necessary to narrow the gap between adjacent bank-like members. For example, it is desirable to take a gap of about 30 μm. However, in this case, many bank-like members exist in the display pixel. In the present embodiment, since photo-alignment is used, the gap between the bank-like members can be widened. By the way, when performing photo-alignment, it is not always necessary that the bank-like member positively has an alignment regulating force. When alignment is performed by optical alignment, there is a possibility that the position of the central portion shown in FIG. For example, when the slit width of the optical mask is about 20 μm, it is difficult to reliably bring the center of the alignment division at the center. Ensuring the division point of this orientation division by forming a bank is a major role of the bank-like member in this embodiment.

以上説明した第1〜第3の骨子の内容を踏まえ、本実施形態の具体的構成について説明する。光配向を行わせるための配向膜としては、垂直配向性あるいは水平配向性のポリイミド、ポリアミック酸、架橋型の樹脂フィルム(例えばポリビニールシンナメートなど)を用いた。材料についてはこれらに限定されるものでないことは言うまでもなく、また、垂直配向、水平配向に限定されるものでもない。本実施形態では、垂直配向性のポリイミドを用いた構成として述べる。配向は望ましくは初期状態では垂直配向である。液晶としては誘電率の異方性が負の液晶、特にフッ素系の液晶を用いた。また、土手状部材の材料としてはポジ型のフォトレジストを用いた。   Based on the contents of the first to third points described above, a specific configuration of the present embodiment will be described. As the alignment film for performing photo-alignment, vertical alignment or horizontal alignment polyimide, polyamic acid, and a cross-linked resin film (for example, polyvinyl cinnamate) were used. Needless to say, the materials are not limited to these, and the materials are not limited to vertical alignment and horizontal alignment. In the present embodiment, a configuration using vertically oriented polyimide will be described. The orientation is preferably a vertical orientation in the initial state. As the liquid crystal, a liquid crystal having a negative dielectric anisotropy, particularly a fluorine-based liquid crystal was used. Further, a positive photoresist was used as a material for the bank-like member.

図11は、本実施形態の配向処理に用いる光源(ランプ)の構成を示す模式図であり、(a)がランプの長手方向に沿った断面図、(b)がランプの短手方向に沿った断面図である。ランプ121としてはウシオ電機株式会社製の低圧水銀ランプを用いた。図11(b)に示すように、ランプ121であるチューブ状の紫外線発光管と被照射体である配向膜103の表面との間には直接光が当該被照射物に達しないように遮蔽板122が設けられ、背面には赤外線を反射しない所謂コールドミラー123を設けている。このランプ構成においては、図11(a)に示すように、ランプ121の長手方位には紫外線はランダムに照射されるのに対して、ランプ121の短手方位においてはほぼ光学マスク102に垂直に紫外線が照射される。   FIG. 11 is a schematic diagram showing a configuration of a light source (lamp) used in the alignment process of the present embodiment, where (a) is a cross-sectional view along the longitudinal direction of the lamp, and (b) is along the short side direction of the lamp. FIG. As the lamp 121, a low-pressure mercury lamp manufactured by USHIO INC. Was used. As shown in FIG. 11B, a shielding plate is provided so that direct light does not reach the irradiated object between the tube-shaped ultraviolet light emitting tube as the lamp 121 and the surface of the alignment film 103 as the irradiated object. 122 is provided, and a so-called cold mirror 123 that does not reflect infrared rays is provided on the back surface. In this lamp configuration, as shown in FIG. 11A, ultraviolet rays are randomly irradiated in the longitudinal direction of the lamp 121, whereas in the short direction of the lamp 121, the lamp 121 is almost perpendicular to the optical mask 102. Ultraviolet rays are irradiated.

この場合、図11(a)に示すように、光学マスク2のスリット111とランプ121とが直交するように設定した。これによりスリット111からは、当該スリット111の短手方向に漏れる形で光が斜めに配向膜103に照射されることになる。そして、図12に示すように、スリット111に対してランプ121を垂直に保ったまま走査し、配向膜3全体に散乱光が均一に照射されるようにした。勿論この構成に限定される必要はなく、ランプ121の設置方向を90度異ならせることも可能であり、ランプ121の直下に設けている遮蔽板122を除去し、ランプ121から直接に散乱光を照射しつつ配向膜103の表面に向かう紫外線を積極的に用いることも可能である。しかしながら、本実施形態の遮蔽板122とコールドミラー123との組み合わせにより、本来液晶分子が傾いてほしい方向、即ちスリット111の伸びる方向と垂直な方向とは異なる方向へ光が照射される可能性が小さくなり、配向がより安定且つ確実に実現される。   In this case, as shown in FIG. 11A, the slit 111 of the optical mask 2 and the lamp 121 were set to be orthogonal to each other. As a result, the alignment film 103 is obliquely irradiated with light from the slit 111 so as to leak in the lateral direction of the slit 111. Then, as shown in FIG. 12, scanning was performed while keeping the lamp 121 perpendicular to the slit 111 so that the entire alignment film 3 was uniformly irradiated with scattered light. Of course, it is not necessary to be limited to this configuration, and the installation direction of the lamp 121 can be changed by 90 degrees, and the shielding plate 122 provided immediately below the lamp 121 is removed, and scattered light is directly emitted from the lamp 121. It is also possible to positively use ultraviolet rays directed toward the surface of the alignment film 103 while irradiating. However, the combination of the shielding plate 122 and the cold mirror 123 according to this embodiment may cause light to be irradiated in a direction different from the direction in which the liquid crystal molecules are originally intended to be tilted, that is, the direction perpendicular to the direction in which the slit 111 extends. The orientation becomes smaller and more stable and reliable.

スリット111から回り込む形の光においては、無偏光であっても偏光であっても良いが、垂直配向の配向膜を用いた場合に、無偏光を用いることが可能である。光の照射方法としては、光を回り込ませて照射するため、プロキシミティ露光となる。ここで、光学マスク102と配向膜103との距離としては、数μmから100μm程度が好ましい。この範囲を外れると、光の回り込みが十分でなくて、配向が得られず又は分割配向の境界を規定する事が難しくなるなどの弊害が発生するおそれがある。   The light that wraps around from the slit 111 may be either non-polarized light or polarized light, but it is possible to use non-polarized light when a vertically aligned alignment film is used. As a method of irradiating light, proximity exposure is performed because light is circulated and irradiated. Here, the distance between the optical mask 102 and the alignment film 103 is preferably about several μm to 100 μm. If it is out of this range, there is a possibility that adverse effects such as insufficient light wrapping and inability to obtain the alignment or difficulty in defining the boundary of the divided alignment.

また、光学マスク102のスリット111の幅としては、数μmから100μm程度が望ましい。この範囲を外れると、同様に光の回り込みが十分でなくなり、配向不良や分割配向の境界を規定する事が難しくなるなどの弊害が発生するおそれがある。   In addition, the width of the slit 111 of the optical mask 102 is preferably about several μm to 100 μm. If it is out of this range, similarly, the light wraps around insufficiently, and there is a possibility that bad effects such as alignment failure and difficulty in defining the boundary of divided alignment may occur.

以下、本実施形態の分割配向をTFT−LCDに適用した諸例について説明する。   Hereinafter, various examples in which the divided alignment of the present embodiment is applied to a TFT-LCD will be described.

図13は、TFT−LCDに上下に2分割配向した一例を示す模式図であり、(a)が画素電極近傍の拡大平面図、(b)がCF基板側の配向処理時の断面図、(c)がTFT基板側の配向処理時の断面図である。紫外線の照射はスリット111から散乱した光を照射するが、図13(b)では、スリット111はゲート電極113と平行に且つゲート電極113近傍に沿って配置してCF基板104bに対して紫外線を照射している。図13(c)では、スリットは蓄積容量(Cs)電極117(ゲート電極113)と平行に且つCs電極117と一致した位置に配置されてTFT基板104aに対して紫外線が照射されている。これら図13(a),(b)ともに、TFT基板104aのゲート電極113からCF基板104bの画素電極118の上下中央へ向かう方向に液晶分子が傾くように散乱光の照射がなされている。   13A and 13B are schematic views showing an example in which the TFT-LCD is vertically divided into two parts, where FIG. 13A is an enlarged plan view in the vicinity of the pixel electrode, and FIG. 13B is a cross-sectional view during the alignment process on the CF substrate side. c) is a cross-sectional view at the time of alignment processing on the TFT substrate side. In FIG. 13B, the slit 111 is arranged in parallel with the gate electrode 113 and along the vicinity of the gate electrode 113 so that the CF substrate 104b is irradiated with ultraviolet rays. Irradiating. In FIG. 13C, the slit is arranged in parallel with the storage capacitor (Cs) electrode 117 (gate electrode 113) and at a position coincident with the Cs electrode 117, and the TFT substrate 104a is irradiated with ultraviolet rays. 13A and 13B, the scattered light is irradiated so that the liquid crystal molecules are inclined in the direction from the gate electrode 113 of the TFT substrate 104a toward the vertical center of the pixel electrode 118 of the CF substrate 104b.

この光照射に加えて、土手状部材116を併設することが可能であって、CF基板104b側では画素電極118の中央付近にゲート電極113(CS電極117)に平行に設けることが有効である。また、光照射に加えて、土手状部材116を、TFT基板104a側のゲート電極113にほぼ一致する位置にゲート電極113(Cs電極117)に平行に設けることが有効である。   In addition to this light irradiation, it is possible to provide a bank-like member 116, and it is effective to provide the CF substrate 104b near the center of the pixel electrode 118 in parallel with the gate electrode 113 (CS electrode 117). . In addition to the light irradiation, it is effective to provide the bank-like member 116 in parallel with the gate electrode 113 (Cs electrode 117) at a position substantially coincident with the gate electrode 113 on the TFT substrate 104a side.

図14は、TFT−LCDに左右に2分割配向した一例を示す模式図であり、(a)が画素電極近傍の拡大平面図、(b)がCF基板側の配向処理時の断面図、(c)がTFT基板側の配向処理時の断面図である。CF基板104a側については、紫外線照射のスリット111をほぼデータ電極115の位置に一致してデータ電極115と平行に設置して紫外線を照射する。TFT基板104b側については、スリット111を画素電極118の左右中央部分にデータ電極115と平行に設定して散乱光を照射する。これにより、液晶分子が、TFT基板104b側のデータ電極115からCF基板104bの画素電極118の左右中央部分に向かって傾くように配向する。これは、データ電極115からの斜め漏れ電界による配向方向に一致する。ここで、この配向を安定させる、特に配向の境界部分のディスクリネーション発生の位置を固定することを勘案して、土手状部材116を形成することが有効である。   14A and 14B are schematic views showing an example in which the TFT-LCD is divided into two parts on the right and left sides. FIG. 14A is an enlarged plan view in the vicinity of the pixel electrode, and FIG. 14B is a cross-sectional view during the alignment process on the CF substrate side. c) is a cross-sectional view at the time of alignment processing on the TFT substrate side. On the CF substrate 104a side, the ultraviolet irradiation slit 111 is arranged substantially in line with the position of the data electrode 115 to irradiate the ultraviolet light. On the TFT substrate 104b side, the slit 111 is set in the center of the left and right of the pixel electrode 118 in parallel with the data electrode 115 to irradiate scattered light. Thereby, the liquid crystal molecules are aligned so as to be inclined from the data electrode 115 on the TFT substrate 104b side toward the left and right center portion of the pixel electrode 118 of the CF substrate 104b. This coincides with the alignment direction due to the oblique leakage electric field from the data electrode 115. Here, it is effective to form the bank-like member 116 in consideration of stabilizing the orientation, in particular, fixing the position of occurrence of disclination at the boundary portion of the orientation.

この場合、CF基板104a側については画素電極118の中央を上下に走る形で土手状部材116を形成することが有効であり、TFT基板104b側については、データ電極115にほぼ一致する位置にデータ電極115と平行に土手状部材116を形成することが有効である。   In this case, it is effective to form the bank-like member 116 so as to run up and down the center of the pixel electrode 118 on the CF substrate 104a side, and on the TFT substrate 104b side, the data is located at a position almost coincident with the data electrode 115. It is effective to form the bank-like member 116 in parallel with the electrode 115.

図15,図16は、TFT−LCDに上下左右に4分割配向した一例を示す模式図であり、(a)が画素電極近傍の拡大平面図、(b)がデータ電極に沿った配向処理時の断面図、(c)がゲート電極に沿った配向処理時の断面図である。   FIGS. 15 and 16 are schematic views showing an example in which the TFT-LCD is vertically divided into four parts vertically and horizontally, (a) is an enlarged plan view in the vicinity of the pixel electrode, and (b) is an alignment process along the data electrode. (C) is sectional drawing at the time of the alignment process along a gate electrode.

図15,図16の何れも液晶分子の傾きとして、CF基板104aを紙面手前に置いた場合に、TFT基板104bの画素電極118の四隅から画素電極118の中央に向かって液晶分子が倒れる方向へ配向方向を実現するものである。画素電極118上では上下左右に4分割配向されており、右上の領域では液晶分子は平均して北東から南西に向かって倒れるように配向し、以下同様に、液晶分子の傾きは右下では南東から北西へ左下では南西から北東へ左上では北西から南東へ向かって倒れるように配向する。   In both FIGS. 15 and 16, the liquid crystal molecules are inclined so that the liquid crystal molecules are tilted from the four corners of the pixel electrode 118 of the TFT substrate 104b toward the center of the pixel electrode 118 when the CF substrate 104a is placed in front of the paper surface. The orientation direction is realized. On the pixel electrode 118, the alignment is divided into four parts vertically and horizontally. In the upper right region, the liquid crystal molecules are averaged so as to fall from northeast to southwest. Similarly, the inclination of the liquid crystal molecules is southeast in the lower right. From northwest to northwest, it is oriented so that it falls from northwest to southeast.

この斜め45度に液晶分子を傾けさせるにあたっては、CF基板104a側の配向とTFT基板104b側の配向とを90度方向の真なる方向とし、これら2つの方位の中間方位に向けて液晶分子が倒れるようにする。この配向方向の原理については例えば、Digest of AM−LCD98に開示されている。ここで、液晶分子を北東から南西へ向けて傾斜させる場合、(1)TFT基板104b側を南向きに倒れるように配向処理し、CF基板104a側を西向きに倒れるように処理する手法と、(2)TFT基板104b側を西向きに倒れるように配向処理し、CF基板104a側を南向きに倒れるように配向処理する手法との、2つの手法が考えられる。   In tilting the liquid crystal molecules at 45 degrees, the orientation on the CF substrate 104a side and the orientation on the TFT substrate 104b side are set to the true direction of the 90 degree direction, and the liquid crystal molecules are directed toward the intermediate direction between these two orientations. Try to fall down. The principle of this orientation direction is disclosed in Digest of AM-LCD 98, for example. Here, when the liquid crystal molecules are inclined from northeast to southwest, (1) a method of performing an alignment process so that the TFT substrate 104b side is tilted southward, and a process of tilting the CF substrate 104a side westward; 2) Two methods are conceivable: an alignment process so that the TFT substrate 104b side is tilted westward, and an alignment process is performed so that the CF substrate 104a side is tilted southward.

図15は(1)に示した手法による配向処理を示している。TFT基板104b側では、紫外線照射の光学マスクのスリットをCS電極117の近傍にCs電極117と平行に設けて散乱光を照射する(図15(b))。CF基板104a側では、紫外線照射の光学マスクのスリットをデータ電極115の近傍にデータ電極115と平行に設けて散乱光を照射する(図15(c))。更に、土手状部材116をTFT基板104b,CF基板104aの双方に設けることが有効である。TFT基板104b側においては、データ電極115及びゲート電極113の近傍にデータ電極115及びゲート電極113のそれぞれに平行となるように土手状部材16を形成する。これにより液晶の4分割配向を助ける働きがある。また、CF基板104a側においては、画素電極118の中央から上下左右に伸びる形で土手状部材116を形成する。先述したように、この土手状部材の働きとしては、配向分割の境界を確定するのを助長する作用を行っている。   FIG. 15 shows an alignment process by the method shown in (1). On the TFT substrate 104b side, a slit of an optical mask for ultraviolet irradiation is provided in the vicinity of the CS electrode 117 in parallel with the Cs electrode 117 to irradiate scattered light (FIG. 15B). On the CF substrate 104a side, a slit of an optical mask for ultraviolet irradiation is provided in the vicinity of the data electrode 115 in parallel with the data electrode 115 to irradiate scattered light (FIG. 15C). Furthermore, it is effective to provide the bank-like member 116 on both the TFT substrate 104b and the CF substrate 104a. On the TFT substrate 104b side, the bank-like member 16 is formed in the vicinity of the data electrode 115 and the gate electrode 113 so as to be parallel to the data electrode 115 and the gate electrode 113, respectively. This has the function of helping the liquid crystal to be divided into four parts. On the CF substrate 104a side, the bank-like member 116 is formed so as to extend vertically and horizontally from the center of the pixel electrode 118. As described above, the bank-like member functions to help determine the boundary of the orientation division.

図16は(2)に示した手法による配向処理を示している。CF基板104a側では、紫外線照射の光学マスクのスリットをゲート電極113の近傍にゲート電極113と平行に設けて散乱光を照射する(図16(b))。TFT基板104b側では、紫外線照射の光学マスクのスリットを画素電極18の左右中央近傍にデータ電極115と平行に設けて散乱光を照射する(図16(c))。更に、土手状部材116をTFT基板104b,CF基板104a双方に設けることが有効である。TFT基板104b側においては、データ電極115及びゲート電極113の近傍にデータ電極115及びゲート電極113のそれぞれに平行に土手状部材116を形成した。これにより液晶の4分割配向を助ける働きがある。また、CF基板104a側においては、画素電極118の中央から上下左右に伸びる形となるように土手状部材116を形成した。   FIG. 16 shows an alignment process by the method shown in (2). On the CF substrate 104a side, a slit of an optical mask for ultraviolet irradiation is provided in the vicinity of the gate electrode 113 in parallel with the gate electrode 113 to irradiate scattered light (FIG. 16B). On the TFT substrate 104b side, a slit of an optical mask for ultraviolet irradiation is provided in the vicinity of the center of the pixel electrode 18 in parallel with the data electrode 115 to irradiate scattered light (FIG. 16C). Further, it is effective to provide the bank-like member 116 on both the TFT substrate 104b and the CF substrate 104a. On the TFT substrate 104 b side, a bank-like member 116 is formed in the vicinity of the data electrode 115 and the gate electrode 113 in parallel with each of the data electrode 115 and the gate electrode 113. This has the function of helping the liquid crystal to be divided into four parts. Further, on the CF substrate 104a side, the bank-like member 116 is formed so as to extend from the center of the pixel electrode 118 in the vertical and horizontal directions.

ここで、配向分割された液晶表示装置の画素内の配向膜の表面エネルギーとして、分割境界の表面エネルギーが最大となり、境界から離れた部位で最低となる。これは紫外線の照射される量自体が画素内で異なるためである。スリットの直下が分割の境界となるが、この部分に最も紫外線が照射されるため表面エネルギーは最大となり、境界から離れた部分には漏れ光が照射されるのみなので紫外線の照射される絶対量は小さく表面エネルギーは大きくならない。   Here, as the surface energy of the alignment film in the pixels of the alignment-divided liquid crystal display device, the surface energy at the division boundary becomes the maximum and becomes the lowest at the part away from the boundary. This is because the amount of UV irradiation itself varies within a pixel. The area directly below the slit is the boundary of the division, but the surface energy is maximized because this part is irradiated with the most ultraviolet rays, and since the leaked light is only irradiated to the part far from the boundary, the absolute amount irradiated with ultraviolet rays is Small surface energy does not increase.

図17は、TFT−LCDに上下2分割配向した場合において、データ電極からの横電界による配向の乱れをCF基板側に設けた土手状部材により抑える構成の模式図であり、(a)が画素電極近傍の拡大平面図、(b)がデータ電極に沿った(線分C−Dに沿った)配向処理時の断面図、(c)がゲート電極に沿った(線分A−Bに沿った)配向処理時の断面図である。   FIG. 17 is a schematic diagram of a configuration in which, when the TFT-LCD is vertically divided into two, the disorder of alignment due to the horizontal electric field from the data electrode is suppressed by a bank-like member provided on the CF substrate side. An enlarged plan view of the vicinity of the electrode, (b) is a cross-sectional view during alignment processing along the data electrode (along line segment CD), and (c) is along the gate electrode (along line segment AB). I) A cross-sectional view of the alignment treatment.

図17(a)に示すように、CF基板104a側において、画素電極18の中央左右方向及びデータ電極15に対向する部分に、データ電極15に平行に土手状部材116を形成する。このデータ電極115と平行に設けている土手状部材116の効果を図17(c)に基づいて説明する。データ電極115からの電界によってデータ電極115近傍の液晶分子は画素中央に向けて倒れるように配向しようとする。これに対して、対向するCF基板104a上に設けられた土手状部材116は、その斜面の効果により液晶分子を画素電極118から離れる方向に傾斜させる働きをする。これらの効果が相殺し合って、液晶分子は画素中央に向かって倒れることなく均一に上下方向に向くようになる。   As shown in FIG. 17A, on the CF substrate 104a side, a bank-like member 116 is formed in parallel to the data electrode 15 at the center left and right direction of the pixel electrode 18 and the portion facing the data electrode 15. The effect of the bank-like member 116 provided in parallel with the data electrode 115 will be described with reference to FIG. The liquid crystal molecules in the vicinity of the data electrode 115 try to align so as to fall toward the center of the pixel due to the electric field from the data electrode 115. On the other hand, the bank-like member 116 provided on the opposing CF substrate 104a functions to incline liquid crystal molecules in a direction away from the pixel electrode 118 due to the effect of the slope. These effects cancel each other, so that the liquid crystal molecules are uniformly directed vertically without falling toward the center of the pixel.

更にこの場合、図18に示すように、データ電極115と向かい合う土手状部材116の端部を、TFT基板104bの画素電極118の端部と一部重畳して対向するように形成する。この重畳部分116aの幅と画素電極118の端部における配向不良の幅との関係を図19に示す。このように、重畳部分116aの幅を1μm以上、好ましくは2μm以上とすることにより、配向不良の発生を抑止することが可能となる。そこで、実際に重畳部分116aを形成するに際して、合わせずれを3μm程度確保して、重畳部分116aの幅を確実に1μm以上得ることを考慮し、画素電極等の機能を損なわない程度で重畳部分116aの上限を5μmとすれば、1μm(必要な幅の下限)+3μm(合わせずれ)〜5μm(必要な幅の上限)+3μm(合わせずれ)=4μm以上8μm以下、5μm以上8μm以下に設計する。これにより、配向不良の発生を十分防止することができる。   Further, in this case, as shown in FIG. 18, the end of the bank-like member 116 facing the data electrode 115 is formed so as to partially overlap the end of the pixel electrode 118 of the TFT substrate 104b. FIG. 19 shows the relationship between the width of the overlapping portion 116a and the width of alignment failure at the end of the pixel electrode 118. Thus, by making the width of the overlapping portion 116a 1 μm or more, preferably 2 μm or more, it is possible to suppress the occurrence of alignment failure. Therefore, when the overlap portion 116a is actually formed, it is considered that a misalignment of about 3 μm is ensured and the width of the overlap portion 116a is surely obtained to be 1 μm or more, so that the function of the pixel electrode or the like is not impaired. Is set to 1 μm (lower limit of necessary width) +3 μm (misalignment) to 5 μm (upper limit of necessary width) +3 μm (misalignment) = 4 μm to 8 μm, 5 μm to 8 μm. Thereby, it is possible to sufficiently prevent the occurrence of alignment failure.

ここまで、CF基板104a上又はTFT基板104b上に土手状部材16を形成する構成を述べてきたが、これらの土手状部材116の替わりに、画素電極118において電極部分のないスリット状の抜けとして形成しても、同様の効果を得ることができる。具体例を図20に示す。ここで、(a)が図13(a)に対応し、画素電極118のCs電極117(ゲート電極113)と平行に且つCs電極117と一致した位置にスリット状の抜け131が形成された場合、(b)が図14(a)に対応し、データ電極115と平行に且つ画素電極118の中央部位に相当する位置の画素電極118にスリット状の抜け131が形成された場合、(c)が図15(a)に対応し、画素電極118に十字状にスリット状の抜け131が形成された場合をそれぞれ示す。   Up to this point, the configuration in which the bank-like member 16 is formed on the CF substrate 104a or the TFT substrate 104b has been described. However, instead of these bank-like members 116, the pixel electrode 118 has a slit-like omission having no electrode portion. Even if it forms, the same effect can be acquired. A specific example is shown in FIG. Here, FIG. 13A corresponds to FIG. 13A, and a slit-like omission 131 is formed at a position parallel to the Cs electrode 117 (gate electrode 113) of the pixel electrode 118 and coincident with the Cs electrode 117. (B) corresponds to FIG. 14 (a), and when a slit-like omission 131 is formed in the pixel electrode 118 at a position parallel to the data electrode 115 and corresponding to the central portion of the pixel electrode 118, (c) Corresponds to FIG. 15A, and shows a case where a slit-like drop 131 is formed in a cross shape on the pixel electrode 118, respectively.

図21は、配向状態が良好となった光学マスクのスリットの幅及び光学マスクと基板との距離(距離A)の最適値についての検討結果を示す特性図である。スリットの幅が3μmから100μm、マスクと基板との距離が3μmから100μmのときに良好な配向を実現することができる。更に、光学マスクと基板との距離は50μm〜100μm程度が好ましく、スリットの幅と距離Aとがほぼ等しいか、スリットの幅は距離Aと同程度から1/20程度の範囲に設定した時に特に良好な配向を実現することができる。   FIG. 21 is a characteristic diagram showing the examination results of the optimum value of the slit width of the optical mask and the distance (distance A) between the optical mask and the substrate in which the alignment state is good. Good alignment can be realized when the slit width is 3 μm to 100 μm and the distance between the mask and the substrate is 3 μm to 100 μm. Furthermore, the distance between the optical mask and the substrate is preferably about 50 μm to 100 μm, and the slit width and the distance A are almost equal, or the slit width is set to a range from about the same as the distance A to about 1/20. Good orientation can be achieved.

以上説明したように、本実施形態によれば、紫外線を用いた配向処理を最小限の工程数で正確に行ない、2分割あるいは4分割配向のディスクリネーションラインの少ない垂直配向型の液晶表示装置が実現され、その結果、TN型モードを用いた場合と遜色のない明るい画面を実現することができる。更に、応答速度としても土手状部材を多く設けた所謂MVA型の液晶表示装置と同様又はそれ以上の高速応答性を実現することが可能となる。   As described above, according to the present embodiment, a vertical alignment type liquid crystal display device with a small number of disclination lines of two-part or four-part orientation by accurately performing an alignment process using ultraviolet rays with a minimum number of steps. As a result, it is possible to realize a bright screen that is comparable to the case where the TN mode is used. In addition, as a response speed, it is possible to realize a high-speed response similar to or higher than that of a so-called MVA type liquid crystal display device provided with many bank-like members.

(第3の実施形態)
本実施形態では、液晶表示装置の構成要素である配向膜に分割配向を施す際に用いる配向処理装置及び方法を例示する。本実施形態においても、第2の実施形態と同様の配向膜、即ち、2種のポリマーからなり、紫外線の照射により垂直配向からプレチルト角が変化し始め、ある紫外線照射量を超えるとプレチルト角が90°近傍の一定値となるものや、紫外線の照射により垂直配向からプレチルト角が変化し始め、更に紫外線を照射することにより再び垂直配向に戻る特性を有するものを用いて好適である。
(Third embodiment)
In the present embodiment, an alignment processing apparatus and method used when performing division alignment on an alignment film that is a constituent element of a liquid crystal display device will be exemplified. Also in this embodiment, the alignment film is the same as that of the second embodiment, that is, composed of two kinds of polymers, and the pretilt angle starts to change from the vertical alignment by the irradiation of ultraviolet rays, and the pretilt angle exceeds a certain ultraviolet irradiation amount. It is preferable to use one having a constant value near 90 °, or one having a characteristic that the pretilt angle starts to change from vertical alignment by irradiation with ultraviolet rays and returns to vertical alignment again by irradiation with ultraviolet rays.

図22は、本実施形態の配向処理装置の主要構成を示す概略断面図である。外線の短波長領域(例えば254nm)を透過させる性質をもつ石英ガラスを、光学マスク201の材料とする。光学マスク201の一方の面には、金属クロムによるマスクパターンが形成されている、マスタパターンは、金属クロムにストライプ状のスリット211が設けられてなる。ストライプ状のスリット211は、配向分割を行う画素のピッチと同じピッチで並べるものとする。一例を挙げると、画素ピッチが200μmであった場合、スリット211の幅が10μm、スリット211から隣のスリット211までの金属クロムパターンの幅が190μmとなる。   FIG. 22 is a schematic cross-sectional view showing the main configuration of the alignment processing apparatus of the present embodiment. Quartz glass having a property of transmitting a short wavelength region (for example, 254 nm) of the outer line is used as the material of the optical mask 201. A mask pattern made of metallic chrome is formed on one surface of the optical mask 201. The master pattern is formed by providing striped slits 211 in metallic chrome. The stripe-shaped slits 211 are arranged at the same pitch as the pitch of the pixels for alignment division. For example, when the pixel pitch is 200 μm, the width of the slit 211 is 10 μm, and the width of the metal chrome pattern from the slit 211 to the adjacent slit 211 is 190 μm.

光学マスク201の光源側の面には、平行光を散乱光とする散乱機構221が形成されている。具体的には、前記光源側の面にサンドブラスト加工を施すことにより、すりガラス状にする。   On the light source side surface of the optical mask 201, a scattering mechanism 221 that uses parallel light as scattered light is formed. Specifically, the surface on the light source side is sandblasted to form a ground glass.

次に、ガラス基板202上の配向膜203に紫外線を照射する。TFT基板204b側に紫外線を照射する場合の光学マスク201の配置は、ストライプ状のスリット211の位置が、データ電極と平行に画素の左右の中心位置とほぼ一致するように配置する。   Next, the alignment film 203 on the glass substrate 202 is irradiated with ultraviolet rays. When irradiating the TFT substrate 204b with ultraviolet rays, the optical mask 201 is arranged so that the positions of the stripe-shaped slits 211 substantially coincide with the left and right center positions of the pixels in parallel with the data electrodes.

一方、逆に対向基板(CF基板)204a側に紫外線を照射する場合の光学マスク201の配置は、ストライプ状のスリット211の位置が、対向基板204aにおいてTFT基板204bのデータ電極の位置に、データ電極と平行な方向に配置する。   On the other hand, the optical mask 201 is arranged in the case where the counter substrate (CF substrate) 204a is irradiated with ultraviolet light, the stripe-shaped slit 211 is positioned at the data electrode position of the TFT substrate 204b in the counter substrate 204a. Arranged in a direction parallel to the electrodes.

以上のように光学マスク201を配置した後に、光学マスク201の光源側の面に対して垂直に、平行光の紫外線を照射する。照射された紫外線は、すりガラス状の部分で散乱を起こし、図示のようにスリット211の部分から中央部を境として2方向に分散されて照射される。   After the optical mask 201 is arranged as described above, ultraviolet rays of parallel light are irradiated perpendicularly to the light source side surface of the optical mask 201. The irradiated ultraviolet rays are scattered in the ground glass portion, and are distributed and irradiated in two directions from the slit 211 to the center as shown in the figure.

TFT基板204bと対向基板204aを貼り合わせた場合、お互いのスリット部分の位置は、スリットの並んだピッチの中心部に来ることになる。これにより、TFT基板204b側のスリットと対向基板204a側のスリットとの間、即ち幅90μmの間に、スリットに対して垂直の方向に傾斜配向する領域ができる。画素中心部のスリットの位置を境にし、お互いに反対方向に傾斜配向することにより、一画素内に2方向の配向分割を実現することができる。   When the TFT substrate 204b and the counter substrate 204a are bonded together, the positions of the mutual slit portions come to the center of the pitch where the slits are arranged. As a result, a region that is inclined and oriented in a direction perpendicular to the slit is formed between the slit on the TFT substrate 204b side and the slit on the counter substrate 204a side, that is, with a width of 90 μm. By using the slit position at the center of the pixel as a boundary and tilting in opposite directions to each other, it is possible to realize alignment division in two directions within one pixel.

図23は、本実施形態の他の例を示す概略断面図である。ここでは、散乱機能221を実現する手法として、上述のサンドブラスト加工を行う部分を、光学マスク201のマスタパターンがある側のスリット211が開口している部分にのみ行うことにより、すりガラス状にする。   FIG. 23 is a schematic cross-sectional view showing another example of the present embodiment. Here, as a method for realizing the scattering function 221, the portion to be subjected to the sandblasting described above is formed only in the portion where the slit 211 on the side where the master pattern of the optical mask 201 is open, thereby forming a ground glass shape.

光学マスク201の配置は上述と同様とし、光学マスク201の光源側の面に対して垂直に、平行光の紫外線を照射する。照射された紫外線は、すりガラス状の部分で散乱を起こし、図示のようにスリット211の部分から散乱光が出射される際に中央部を境として2方向に分散し、配向膜203上に照射される。   The arrangement of the optical mask 201 is the same as described above, and parallel light ultraviolet rays are irradiated perpendicularly to the surface of the optical mask 201 on the light source side. The irradiated ultraviolet rays are scattered in the ground glass-like portion, and when scattered light is emitted from the slit 211 portion as shown in the drawing, it is dispersed in two directions with the central portion as a boundary, and is irradiated onto the alignment film 203. The

TFT基板204bと対向基板204aを貼り合わせた場合、お互いのスリット部分の位置は、スリットの並んだピッチの中心部にあたることになる。これにより、TFT基板204b側のスリットと対向基板204a側のスリットとの間、即ち幅90μmの間に、スリットに対して垂直の方向に傾斜配向する領域ができる。画素の中心部のスリットの位置を境にし、互いに反対方向に傾斜配向することにより、1画素内に2方向の配向分割を実現することが可能となる。   When the TFT substrate 204b and the counter substrate 204a are bonded to each other, the positions of the mutual slit portions correspond to the central portion of the pitch where the slits are arranged. As a result, a region that is inclined and oriented in a direction perpendicular to the slit is formed between the slit on the TFT substrate 204b side and the slit on the counter substrate 204a side, that is, with a width of 90 μm. By performing tilt alignment in opposite directions with the slit position at the center of the pixel as a boundary, it is possible to realize alignment division in two directions within one pixel.

図24は、本実施形態の更に他の例を示す概略断面図である。上述の光学マスク201のスリット211の開口部分に、スリットの開口幅を底辺とする二等辺三角形の断面形状を持つプリズム212を設ける。光学マスク201の配置は上述と同様とし、光学マスク201の光源側の面に対して垂直に、平行光の紫外線を照射する。照射された紫外線は、プリズム212の部分で反射・屈折を起こし、図示のようにプリズム212の部分から散乱光が出射される際に、2方向の平行光として分割され、配向膜203上に照射される。   FIG. 24 is a schematic cross-sectional view showing still another example of the present embodiment. A prism 212 having an isosceles triangular cross-sectional shape with the opening width of the slit as a base is provided at the opening of the slit 211 of the optical mask 201 described above. The arrangement of the optical mask 201 is the same as described above, and parallel light ultraviolet rays are irradiated perpendicularly to the surface of the optical mask 201 on the light source side. The irradiated ultraviolet rays are reflected and refracted by the prism 212 portion, and when scattered light is emitted from the prism 212 portion as shown, it is divided as parallel light in two directions and irradiated onto the alignment film 203. Is done.

TFT基板204bと対向基板204aを貼り合わせた場合、お互いのスリット部分の位置は、スリットの並んだピッチの中心部にあたることになる。これにより、TFT基板204b側のスリットと対向基板204a側のスリットとの間、即ち幅90μmの問に、スリットに対して垂直の方向に傾斜配向する領域ができる。画素中心部のスリットの位置を境にし、お互いに反対方向に傾斜配向することにより、1画素内に2方向の配向分割を実現することが可能となる。   When the TFT substrate 204b and the counter substrate 204a are bonded to each other, the positions of the mutual slit portions correspond to the central portion of the pitch where the slits are arranged. As a result, a region that is inclined and oriented in a direction perpendicular to the slit is formed between the slit on the TFT substrate 204b side and the slit on the counter substrate 204a side, that is, with a width of 90 μm. With the slit position at the center of the pixel as a boundary, it is possible to realize alignment division in two directions within one pixel by tilting in opposite directions.

なお、本実施形態において、光学マスク201の光源側の面に対して照射させる紫外線を散乱光とした場合でも、平行光を照射した場合と同様に、配向膜203に対して照射される紫外線は2方向に分散され、所望の配向分割を実現することができる。この方法により、スリット直下にあたる配向膜203上に照射される紫外線が分散され、この部分における紫外線露光量が過剰になってしまうことがなくなり、且つ、一方の基板に対して1回の露光を行うことによって、配向分割を実現することができる。   In the present embodiment, even when the ultraviolet light applied to the light source side surface of the optical mask 201 is the scattered light, the ultraviolet light applied to the alignment film 203 is the same as when the parallel light is applied. Dispersed in two directions, a desired alignment division can be realized. By this method, the ultraviolet rays irradiated on the alignment film 203 immediately below the slit are dispersed, and the ultraviolet ray exposure amount in this portion will not be excessive, and one substrate is exposed once. Thus, alignment division can be realized.

以上説明したように、本実施形態によれば、光学マスク201に対する紫外線が平行光である場合でも、光学マスク201におけるすりガラス状の部分、あるいはプリズム212の部分にて紫外線が分散、または反射・屈折することにより、散乱光の紫外線を光学マスク201に対して照射した場合と同様の効果を得ることができる。これは、光源として平行光を出射する紫外線露光装置を利用できることを表している。   As described above, according to the present embodiment, even when the ultraviolet rays with respect to the optical mask 201 are parallel light, the ultraviolet rays are dispersed or reflected / refracted in the ground glass portion or the prism 212 portion of the optical mask 201. By doing so, the same effect as that obtained when the optical mask 201 is irradiated with ultraviolet rays of scattered light can be obtained. This indicates that an ultraviolet exposure device that emits parallel light can be used as a light source.

また、スリット211の開口部にあたる配向膜203の部分における紫外線を分散させることができるため、この部分の過剰な露光を防ぐことができ、この部分のチルト低下による白抜けや、流動配向を防ぐことが可能となる。   Moreover, since the ultraviolet rays in the portion of the alignment film 203 corresponding to the opening portion of the slit 211 can be dispersed, excessive exposure of this portion can be prevented, and white spots due to tilt reduction of this portion and flow alignment can be prevented. Is possible.

(第4の実施形態)
本実施形態では、液晶表示装置の構成要素である配向膜に分割配向を施す際に用いる配向処理装置及び方法を例示する。本実施形態においても、第2の実施形態と同様の配向膜、即ち、2種のポリマーからなり、紫外線の照射により垂直配向からプレチルト角が変化し始め、ある紫外線照射量を超えるとプレチルト角が90°近傍の一定値となるものや、紫外線の照射により垂直配向からプレチルト角が変化し始め、更に紫外線を照射することにより再び垂直配向に戻る特性を有するものを用いて好適である。
(Fourth embodiment)
In the present embodiment, an alignment processing apparatus and method used when performing division alignment on an alignment film that is a constituent element of a liquid crystal display device will be exemplified. Also in this embodiment, the alignment film is the same as that of the second embodiment, that is, composed of two kinds of polymers, and the pretilt angle starts to change from the vertical alignment by the irradiation of ultraviolet rays, and the pretilt angle exceeds a certain ultraviolet irradiation amount. It is preferable to use one having a constant value near 90 °, or one having a characteristic that the pretilt angle starts to change from vertical alignment by irradiation with ultraviolet rays and returns to vertical alignment again by irradiation with ultraviolet rays.

図25は、本実施形態の原理を説明する模式図であり、(a)が本実施形態の配向処理装置の主要構成を示す概略断面図、(b)が当該配向処理を施された液晶表示装置の主要構成を示す概略断面図である。紫外線の短波長領域(例えば254nm)を透過させる性質をもつ石英ガラスを、光学マスク301の材料とする。光学マスク301の一方の面には、図26に示すように、金属クロムによるマスクパターンが形成されている。マスクパターンは、金属クロムにストライプ状の配向規制スリット211が設けられている。この配向規制スリット211は、第3の実施形態で説明したスリット211と同様のものであり、液晶分子を所望の方向に配向させるためのものであり、配向分割を行う画素のピッチと同じピッチで並べるものとする。一例を挙げると、画素ピッチが200μmであった場合、スリット211の幅が10μm、スリットから隣のスリット211までの金属クロムパターンの幅が190μmとなる。   FIG. 25 is a schematic diagram for explaining the principle of the present embodiment, in which (a) is a schematic cross-sectional view showing the main configuration of the alignment processing apparatus of the present embodiment, and (b) is a liquid crystal display subjected to the alignment processing. It is a schematic sectional drawing which shows the main structures of an apparatus. Quartz glass having the property of transmitting a short wavelength region (for example, 254 nm) of ultraviolet rays is used as the material of the optical mask 301. As shown in FIG. 26, a mask pattern made of metallic chromium is formed on one surface of the optical mask 301. The mask pattern is provided with stripe-shaped alignment regulating slits 211 in metal chrome. The alignment regulating slit 211 is the same as the slit 211 described in the third embodiment, and is used for aligning liquid crystal molecules in a desired direction, and has the same pitch as the pitch of pixels that perform alignment division. It shall be arranged. For example, when the pixel pitch is 200 μm, the width of the slit 211 is 10 μm, and the width of the metal chromium pattern from the slit to the adjacent slit 211 is 190 μm.

更に、同一の光学マスク311上に、配向補正スリット311を設ける。このスリットは、液晶分子を所望の方向に配向させるスリットよりも細くなければならず、かつお互いに垂直の方向に配置されていなければならない。画素ピッチがおよそ3分の1の70μm、スリット311の幅は約1μmとする。   Furthermore, an alignment correction slit 311 is provided on the same optical mask 311. The slits must be narrower than the slits that orient the liquid crystal molecules in the desired direction, and must be arranged in directions perpendicular to each other. The pixel pitch is about one third, 70 μm, and the width of the slit 311 is about 1 μm.

次に、ガラス基板304上の配向膜303に紫外線を照射する。TFT基板304b側に紫外線を照射する場合の光学マスク301の配置は、図27に示すように、配向規制スリット211の位置が、データ電極315と垂直に画素の左右の中心位置とほぼ一致するように配置する。また、配向補正スリット311の位置は、データ電極315と平行に、互いに隣接する画素電極318の間の中心、即ち、データ電極315の中心部にあたるように配置する。   Next, the alignment film 303 on the glass substrate 304 is irradiated with ultraviolet rays. As shown in FIG. 27, the arrangement of the optical mask 301 when irradiating the TFT substrate 304b with ultraviolet rays is such that the position of the alignment regulating slit 211 substantially coincides with the left and right center positions of the pixels perpendicular to the data electrode 315. To place. The position of the alignment correction slit 311 is arranged in parallel with the data electrode 315 so as to correspond to the center between adjacent pixel electrodes 318, that is, the center of the data electrode 315.

一方、逆に対向基板304a側に紫外線を照射する場合の光学マスク301は、配向規制スリット211のみが必要となる。このスリット211の位置が、対向基板304aにおいてTFT基板304bのゲート電極313の位置に、データ電極315と垂直な方向に配置する。   On the other hand, the optical mask 301 in the case of irradiating the counter substrate 304 a with ultraviolet rays requires only the alignment regulating slit 211. The position of the slit 211 is arranged in the direction perpendicular to the data electrode 315 at the position of the gate electrode 313 of the TFT substrate 304b in the counter substrate 304a.

以上のように光学マスク301を配置した後に、光学マスク301の光源側の面に対して垂直に、散乱光の紫外線を照射する。照射された紫外線は、図25のようにスリットの部分から2方向に分散されて照射される。   After the optical mask 301 is arranged as described above, ultraviolet rays of scattered light are irradiated perpendicularly to the light source side surface of the optical mask 301. The irradiated ultraviolet rays are distributed and irradiated in two directions from the slit portion as shown in FIG.

即ち、スリット311により紫外線が照射された部分の近傍では、図25のように散乱光がスリット311を中心として扇状に広がって照射されるため、配向膜303に対し、液晶分子がスリット311のある方向に傾斜する配向規制力が与えられる。これによって、液晶分子が、画素電極318の端部の電界により配向しようとする力と、配向膜303の配向規制力の方向が互いに反対となり、それぞれの液晶を配向させようとする力を相殺させることにより、所望の液晶分子の傾斜配向方向に対して垂直方向の液晶分子の傾斜を引き起こすことを防ぐことができる。   That is, in the vicinity of the portion irradiated with the ultraviolet rays by the slit 311, since the scattered light is irradiated in a fan shape with the slit 311 as the center as shown in FIG. 25, the liquid crystal molecules have the slit 311 with respect to the alignment film 303. An orientation regulating force that is inclined in the direction is given. As a result, the direction in which the liquid crystal molecules are oriented by the electric field at the end of the pixel electrode 318 and the orientation regulating force of the orientation film 303 are opposite to each other, thereby canceling out the forces to orient the respective liquid crystals. Thus, it is possible to prevent the tilt of the liquid crystal molecules in the direction perpendicular to the tilt alignment direction of the desired liquid crystal molecules.

実際、本実施形態の手法により2分割の配向規制に加え、前記配向補正を施してなる画像表示装置(装置A)における輝度変化について、2分割の配向規制のみを行なった画像表示装置(装置B)との比較に基づいて検討した。その結果、装置Bでは、図28(a)のように画素電極318の端部の電界により液晶分子に傾斜が生じ、これにより図28(b)のように、ブラックマトリクス321の端部で輝度の低下が発生する。これに対して、装置Aでは、図29(a)のように画素電極318の端部における液晶分子の傾斜が解消されるため、図29(b)のように、ブラックマトリクス321の端部で輝度の低下が発生することなく、極めて良好な画像が得られる。   Actually, the image display apparatus (apparatus B) in which only the two-divided orientation restriction is applied to the luminance change in the image display apparatus (apparatus A) that is subjected to the orientation correction in addition to the two-part orientation restriction by the method of the present embodiment. ). As a result, in the device B, the liquid crystal molecules are inclined due to the electric field at the end of the pixel electrode 318 as shown in FIG. 28A, thereby causing the luminance at the end of the black matrix 321 as shown in FIG. Decrease occurs. On the other hand, in the device A, since the inclination of the liquid crystal molecules at the end of the pixel electrode 318 is eliminated as shown in FIG. 29A, at the end of the black matrix 321 as shown in FIG. An extremely good image can be obtained without causing a decrease in luminance.

TFT基板304bと対向基板304aを貼り合わせた場合、お互いのスリット部分の位置は、スリットの並んだピッチの中心部に来ることになる。これにより、TFT基板304b側のスリットと対向基板側のスリット304aとの間、即ち幅90μmの間に、スリットに対して垂直の方向に傾斜配向する領域ができる。画素電極318の中心部のスリットの位置を境にし、お互いに反対方向に傾斜配向することにより、1画素内に2方向の配向分割を実現することが可能となる。   When the TFT substrate 304b and the counter substrate 304a are bonded together, the positions of the mutual slit portions come to the center of the pitch where the slits are arranged. As a result, a region that is inclined and oriented in a direction perpendicular to the slit is formed between the slit on the TFT substrate 304b side and the slit 304a on the counter substrate side, that is, with a width of 90 μm. With the slit position at the center of the pixel electrode 318 as a boundary, the two layers can be divided in two directions within one pixel by tilting in opposite directions.

図30は、本実施形態の他の例における光学マスクを示す概略平面図である。光学マスクのスリットの形成までは上述と同様であるが、液晶分子を所望の方向に配向させるスリット211の、配向膜303と対峙する側の面に、入射された紫外線の散乱機構を設ける。散乱機構を具体的に挙げると、スリット211の開口部のみにサンドブラスト加工を施して、すりガラス状の部分211aを形成したり、レーザーパルスを照射することにより、断面が窪み状の溝を設ける等が考えられる。   FIG. 30 is a schematic plan view showing an optical mask in another example of the present embodiment. The process up to the formation of the slit of the optical mask is the same as described above, but a scattering mechanism for incident ultraviolet rays is provided on the surface of the slit 211 that aligns liquid crystal molecules in a desired direction on the side facing the alignment film 303. Specific examples of the scattering mechanism include sandblasting only the opening of the slit 211 to form a ground glass-like portion 211a, or irradiating a laser pulse to provide a groove having a hollow cross section. Conceivable.

照射された紫外線は、すりガラス状の部分211aで散乱を起こし、配向補正スリット211における照射の幅がこれにより狭くなり、液晶分子の本来の配向方向に対して悪影響を与えない。   The irradiated ultraviolet rays are scattered in the ground glass-like portion 211a, and the width of irradiation in the alignment correction slit 211 is thereby narrowed, so that the original alignment direction of the liquid crystal molecules is not adversely affected.

図31は、本実施形態の更に他の例における光学マスクを示す概略平面図である。ここでは、光学マスク301のうち、配向補正スリット311の部分のみを高さが所定高さ、例えば50μm程度高くなるように形成する。これにより、光学マスク301と配向膜304とが互いに対峙する間隔が、配向補正スリット311の部分のみ50μm程度狭くなることになり、この部分のみ入射した紫外線が散乱する幅を狭くすることができる、これにより、液晶分子の本来の配向方向に対して悪影響を与えない。   FIG. 31 is a schematic plan view showing an optical mask in still another example of the present embodiment. Here, only the portion of the alignment correction slit 311 in the optical mask 301 is formed to have a predetermined height, for example, about 50 μm. As a result, the distance between the optical mask 301 and the alignment film 304 facing each other is reduced by about 50 μm only at the portion of the alignment correction slit 311, and the width of scattering of the incident ultraviolet rays only at this portion can be reduced. This does not adversely affect the original alignment direction of the liquid crystal molecules.

図32は、本実施形態の更に他の例で用いる光源の一例を示す模式図((a)が短手方向、(b)が長手方向)であり、図33は、光源の散乱性と光学マスクのスリットとの関係を示す概略平面図である。ここでは、光源302の向きを変える方法を採る。例えば、紫外線を照射するチューブ状の光源302は図示のようになっており、光源302の短辺方向よりも、長辺方向の方が散乱性が高い性質がある。本実施形態ではこの性質を利用する。具体的には次のような方法である。   FIG. 32 is a schematic diagram showing an example of a light source used in still another example of the present embodiment ((a) is a short direction and (b) is a long direction), and FIG. It is a schematic plan view which shows the relationship with the slit of a mask. Here, a method of changing the direction of the light source 302 is adopted. For example, a tube-shaped light source 302 that irradiates ultraviolet rays is as shown in the figure, and has a property that the long side direction has a higher scattering property than the short side direction of the light source 302. In this embodiment, this property is used. Specifically, the method is as follows.

紫外線の光源302の長辺方向を、光学マスク301の配向補正スリット311の方向に対して平行に位置するように配置を行う。これにより、配向補正スリット311を通った紫外光は散乱の幅が狭くなり、逆に光源302の長辺方向と垂直の位置関係となる。液晶分子を所望の方向に配向させるスリット211を通った紫外光は散乱の幅が広くなる。これにより、液晶分子の本来の配向方向に対して悪影響を与えない。   Arrangement is made so that the long side direction of the ultraviolet light source 302 is positioned parallel to the direction of the alignment correction slit 311 of the optical mask 301. As a result, the ultraviolet light passing through the alignment correction slit 311 has a narrower scattering width, and conversely has a positional relationship perpendicular to the long side direction of the light source 302. Ultraviolet light that has passed through the slit 211 for aligning liquid crystal molecules in a desired direction has a wide scattering width. This does not adversely affect the original alignment direction of the liquid crystal molecules.

以上説明したように、本実施形態によれば、画素電極318の端部における配向規制力と電界により配向しようとする力の方向が互いに相殺されるため、所望の液晶分子の傾斜配向方向に対して垂直方向の液晶分子の傾斜を引き起こすことを防ぐことができる、これにより、ディスクリネーションの発生を防止し、画素端部における輝度低下を抑止することが可能となる。   As described above, according to the present embodiment, since the alignment regulating force at the end of the pixel electrode 318 and the direction of the force to be aligned by the electric field cancel each other, the tilt alignment direction of the desired liquid crystal molecules Thus, it is possible to prevent the tilt of the liquid crystal molecules in the vertical direction, thereby preventing the occurrence of disclination and suppressing the decrease in luminance at the pixel end.

一方、土手状部材を新たに形成する必要がなくなるため、また、光学マスク301に配向補正スリット211と共に配向規制スリット311を形成することにより、配向規制を与えるプロセスを簡略化させることが可能である。   On the other hand, since it is not necessary to newly form a bank-like member, it is possible to simplify the process of providing the alignment regulation by forming the alignment regulation slit 311 together with the orientation correction slit 211 in the optical mask 301. .

(第5の実施形態)本実施形態では、画素電極に特徴のある液晶表示装置を例示する。本実施形態においても、第2の実施形態と同様の配向膜、即ち、2種のポリマーからなり、紫外線の照射により垂直配向からプレチルト角が変化し始め、ある紫外線照射量を超えるとプレチルト角が90°近傍の一定値となるものや、紫外線の照射により垂直配向からプレチルト角が変化し始め、更に紫外線を照射することにより再び垂直配向に戻る特性を有するものを用いて好適である。   (Fifth Embodiment) In this embodiment, a liquid crystal display device characterized by pixel electrodes is exemplified. Also in this embodiment, the alignment film is the same as that of the second embodiment, that is, composed of two kinds of polymers, and the pretilt angle starts to change from the vertical alignment by the irradiation of ultraviolet rays, and the pretilt angle exceeds a certain ultraviolet irradiation amount. It is preferable to use one having a constant value near 90 °, or one having a characteristic that the pretilt angle starts to change from vertical alignment by irradiation with ultraviolet rays and returns to vertical alignment again by irradiation with ultraviolet rays.

図34は、本実施形態の液晶表示装置の画素電極近傍を示す概略平面図である。データ電極415からの横電界に起因する配向不良を防止するため、画素電極418のデータ電極415近傍にスリット411を設ける。スリット411は、データ電極415と平行な方向(ゲート電極413と直交する方向)に伸びている。このスリット411の幅としては、2μmから5μmの範囲にすることが有効である。特に、3μmの幅のスリットとした時にもっとも配向不良を抑制する効果の大きいことが確認できた。   FIG. 34 is a schematic plan view showing the vicinity of the pixel electrode of the liquid crystal display device of the present embodiment. A slit 411 is provided in the vicinity of the data electrode 415 of the pixel electrode 418 in order to prevent alignment failure caused by a lateral electric field from the data electrode 415. The slit 411 extends in a direction parallel to the data electrode 415 (a direction orthogonal to the gate electrode 413). The width of the slit 411 is effectively in the range of 2 μm to 5 μm. In particular, it was confirmed that the effect of suppressing the alignment failure was greatest when the slit having a width of 3 μm was used.

このように、画素電極418に細いスリット411を設けることにより、液晶分子は、このスリット411に平行な方向に倒れようとする特性を有する。本実施形態では、この作用を光配向に併用するものである、本来、液晶は画素電極に隙間部分が存在すると、その電界が斜めになるため、間隙から離れる方位に傾く(図35(a)参照)。しかしながら、細いスリット、例えば幅3μmのスリット411を設けた場合には、スリット411の両側で液晶分子が傾こうとし、行き場がなくなって結局スリット方向に傾くように配向するものである(図35(b)参照)。ここで、図34のようにスリット411が設けられていると、このスリット部分によって液晶分子の傾きは行き場を失って(図35(b)と同様に)結局スリット411と平行な方位に傾くことになり、データ電極に起因する配向不良が抑止される。   Thus, by providing the thin slit 411 in the pixel electrode 418, the liquid crystal molecules have a characteristic that the liquid crystal molecules tend to fall in a direction parallel to the slit 411. In this embodiment, this action is used in combination with the photo-alignment. Originally, when the gap portion exists in the pixel electrode, the electric field is inclined, so that the liquid crystal is inclined in the direction away from the gap (FIG. 35A). reference). However, when a thin slit, for example, a slit 411 having a width of 3 μm, is provided, the liquid crystal molecules try to tilt on both sides of the slit 411, and the orientation is lost so that it eventually tilts in the slit direction (FIG. 35 ( b)). Here, when the slit 411 is provided as shown in FIG. 34, the tilt of the liquid crystal molecules is lost due to the slit portion (similar to FIG. 35B) and eventually tilted in the direction parallel to the slit 411. Thus, poor alignment due to the data electrode is suppressed.

図36は本実施形態の他の例を示す模式図であり、(a)が画素電極近傍の平面図、(b)が断面図である。ここでは、複数のスリット411を画素電極418の全域に設ける。これにより、配向の安定性はより確実なものになる。また、これらスリット411を画素電極418の中央の接続部分421で繋げることが重要である。即ち、接続部分421とスリット411との関係を考察すると、接続部分421における電界は、図34(b)のようになり、電界は接続部分421から扇型に広がる。この効果により液晶分子はより好ましい方向に傾くようになる。   FIG. 36 is a schematic view showing another example of the present embodiment, in which (a) is a plan view in the vicinity of a pixel electrode, and (b) is a cross-sectional view. Here, a plurality of slits 411 are provided throughout the pixel electrode 418. Thereby, the stability of orientation becomes more reliable. In addition, it is important that these slits 411 are connected by a central connection portion 421 of the pixel electrode 418. That is, considering the relationship between the connection portion 421 and the slit 411, the electric field in the connection portion 421 is as shown in FIG. 34B, and the electric field spreads out from the connection portion 421 in a fan shape. This effect causes the liquid crystal molecules to tilt in a more preferred direction.

以上説明したように、本実施形態によれば、配向不良の無い、視野角の広い液晶表示装置を実現することができる。   As described above, according to the present embodiment, it is possible to realize a liquid crystal display device with no alignment failure and a wide viewing angle.

以下、本発明の諸態様を付記としてまとめて記載する。   Hereinafter, various aspects of the present invention will be collectively described as supplementary notes.

(付記1)それぞれ配向膜を対向させて所定間隔に保たれた一対の基板を備え、前記配向膜間に液晶層が挿入されてなる液晶表示装置であって、前記配向膜は、前記液晶層の液晶分子に対する所定の初期配向性を有し、紫外線照射に応じたプレチルト角の変化率の異なる少なくとも2種類のポリマーを含む材料からなることを特徴とする液晶表示装置。   (Supplementary note 1) A liquid crystal display device comprising a pair of substrates that face each other with an alignment film facing each other and maintained at a predetermined interval, and in which a liquid crystal layer is inserted between the alignment films, wherein the alignment film includes the liquid crystal layer A liquid crystal display device comprising a material including at least two kinds of polymers having a predetermined initial alignment property with respect to liquid crystal molecules and having different pretilt angle change rates according to ultraviolet irradiation.

(付記2)前記配向膜は、前記各ポリマーの混合物を含む材料からなるものであることを特徴とする付記1に記載の液晶表示装置。   (Supplementary note 2) The liquid crystal display device according to supplementary note 1, wherein the alignment film is made of a material containing a mixture of the respective polymers.

(付記3)前記配向膜は、前記各ポリマーの共重合体を含む材料からなるものであることを特徴とする付記1に記載の液晶表示装置。   (Supplementary note 3) The liquid crystal display device according to supplementary note 1, wherein the alignment film is made of a material containing a copolymer of each polymer.

(付記4)前記2種類のポリマーは、一方が液晶分子の配向を初期状態から変化させるものであり、他方が液晶分子の配向を初期状態に維持するものであることを特徴とする付記1に記載の液晶表示装置。   (Appendix 4) One of the two types of polymers described above is one that changes the orientation of the liquid crystal molecules from the initial state, and the other maintains the orientation of the liquid crystal molecules in the initial state. The liquid crystal display device described.

(付記5)前記初期状態が垂直配向であり、前記一方のポリマーによる配向が水平配向であることを特徴とする付記4に記載の液晶表示装置。   (Supplementary note 5) The liquid crystal display device according to supplementary note 4, wherein the initial state is vertical alignment, and the alignment by the one polymer is horizontal alignment.

(付記6)一対の基板にそれぞれ配向膜を形成し、前記各配向膜を対向させるように前記配向膜間に液晶層を挿入し、前記各基板間隔を一定に保持して液晶表示装置を製造する方法であって、前記配向膜を、前記液晶層の液晶分子に対する初期配向性を有し、紫外線照射に応じたプレチルト角の変化の異なる少なくとも2種類のポリマーを含む材料から構成して前記一対の基板に塗布し、前記配向膜の表面に対して斜め方向から紫外線を照射し、前記液晶層の液晶分子に対して所望の配向を実現することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。   (Appendix 6) An alignment film is formed on each of a pair of substrates, a liquid crystal layer is inserted between the alignment films so that the alignment films face each other, and a liquid crystal display device is manufactured by keeping the distance between the substrates constant. The alignment film is made of a material including at least two types of polymers having initial alignment with respect to liquid crystal molecules of the liquid crystal layer and having different pretilt angles depending on ultraviolet irradiation. A method of manufacturing a liquid crystal display device, comprising: applying to a surface of the alignment film, irradiating ultraviolet rays from an oblique direction to a surface of the alignment film, and realizing a desired alignment with respect to liquid crystal molecules of the liquid crystal layer.

(付記7)それぞれ配向膜を対向させて所定間隔に保たれた一対の基板を備え、前記配向膜間に液晶層が挿入されてなる液晶表示装置であって、前記配向膜は、前記液晶層の液晶分子に対する所定の初期配向性を有し、紫外線照射に応じた表面エネルギーの変化率の異なる少なくとも2種類のポリマーを含む材料からなり、前記配向膜に対する紫外線照射により所定の表面エネルギーに調節されていることを特徴とする液晶表示装置。   (Supplementary note 7) A liquid crystal display device comprising a pair of substrates each having an alignment film facing each other and maintained at a predetermined interval, wherein a liquid crystal layer is inserted between the alignment films, wherein the alignment film includes the liquid crystal layer Made of a material containing at least two kinds of polymers having a predetermined initial orientation with respect to liquid crystal molecules and having different rates of change in surface energy in response to ultraviolet irradiation, and adjusted to a predetermined surface energy by ultraviolet irradiation on the alignment film. A liquid crystal display device.

(付記8) 前記配向膜は前記各ポリマーの混合物を含む材料又は前記各ポリマーの共重合体を含む材料からなるものであることを特徴とする付記7に記載の液晶表示装置。 (Supplementary note 8) The liquid crystal display device according to supplementary note 7, wherein the alignment film is made of a material including a mixture of the polymers or a copolymer of the polymers.

(付記9)前記配向膜の初期配向状態を垂直配向のものとすることを特徴とする付記8に記載の液晶表示装置の製造方法。   (Supplementary note 9) The method for manufacturing a liquid crystal display device according to supplementary note 8, wherein an initial alignment state of the alignment film is a vertical alignment.

(付記10)前記少なくとも2種類のポリマーのうち、少なくとも1種を紫外線の照射によって配向が初期状態から変化し易く、少なくとも他の1種を紫外線の照射によって配向が初期状態から変化し難いものとすることを特徴とする付記8に記載の液晶表示装置の製造方法。   (Appendix 10) Of the at least two types of polymers, at least one of the polymers is easily changed in alignment from the initial state by irradiation with ultraviolet rays, and at least one of the other polymers is difficult to change in alignment from the initial state by irradiation with ultraviolet rays. The manufacturing method of a liquid crystal display device according to appendix 8, wherein:

(付記11)配向膜に紫外線を照射し、前記配向膜上に設けられる液晶を配向させる配向処理装置であって、紫外線の散乱光を照射する光源と、前記光源下に設けられ、スリットが形成された光学マスクとを備え、前記光学マスクを前記配向膜の上方に配置し、前記光源から前記光学マスクに散乱光を照射することにより、前記スリットを中心として拡がる拡散光を生成し、当該拡散光を前記配向膜に照射して、前記液晶に拡散光の拡散方向に依存した分割配向を生ぜしめることを特徴とする配向処理装置。   (Appendix 11) An alignment treatment apparatus for irradiating an alignment film with ultraviolet rays and aligning liquid crystals provided on the alignment film, wherein a light source for irradiating ultraviolet scattered light, and a slit formed in the light source. The optical mask is disposed above the alignment film, and the diffused light spreading around the slit is generated by irradiating the optical mask with scattered light from the light source, and the diffusion An alignment processing apparatus characterized by irradiating the alignment film with light and causing the liquid crystal to have a divided alignment depending on a diffusion direction of diffused light.

(付記12)前記光学マスクは、前記スリットがストライプ状に形成されてなるものであることを特徴とする付記11に記載の配向処理装置。   (Additional remark 12) The said optical mask is an alignment processing apparatus of Additional remark 11 characterized by the said slit being formed in stripe form.

(付記13)前記光学マスクは、前記スリットが前記配向膜の下部に形成されたデータ電極の近傍でこれと略平行する部位に位置するように配置されることを特徴とする付記11に記載の配向処理装置。   (Additional remark 13) The said optical mask is arrange | positioned so that the said slit may be located in the site | part substantially parallel to this in the vicinity of the data electrode formed in the lower part of the said alignment film, The additional remark 11 characterized by the above-mentioned. Orientation processing equipment.

(付記14)前記光学マスクは、前記スリットが前記配向膜の下部に形成されたデータ電極と略平行に画素の左右の中心位置と略一致する部位に位置するように配置されることを特徴とする付記11に記載の配向処理装置。   (Additional remark 14) The said optical mask is arrange | positioned so that the said slit may be located in the site | part which substantially corresponds to the data center formed in the lower part of the said alignment film, and the horizontal center position of a pixel. The alignment processing apparatus according to appendix 11.

(付記15)前記光学マスクは、前記スリットが前記配向膜の下部に形成されたゲート電極の近傍でこれと略平行する部位に位置するように配置されることを特徴とする付記11に記載の配向処理装置。   (Additional remark 15) The said optical mask is arrange | positioned so that the said slit may be located in the site | part substantially parallel to this in the vicinity of the gate electrode formed in the lower part of the said alignment film, The additional remark 11 characterized by the above-mentioned. Orientation processing equipment.

(付記16)前記光学マスクは、前記スリットが前記配向膜の下部に形成されたゲート電極と略平行に画素の上下の中心位置と略一致する部位に位置するように配置されることを特徴とする付記11に記載の配向処理装置。   (Supplementary Note 16) The optical mask is characterized in that the slit is disposed so as to be substantially parallel to a gate electrode formed in a lower part of the alignment film and at a position substantially coincident with a vertical center position of a pixel. The alignment processing apparatus according to appendix 11.

(付記17)前記光源はチューブ形状のランプであることを特徴とする付記11に記載の配向処理装置。   (Supplementary note 17) The alignment processing apparatus according to supplementary note 11, wherein the light source is a tube-shaped lamp.

(付記18)前記光学マスクと前記光源は、前記光学マスクの前記スリットの長手方向と前記光源の長手方向とが平行又は直交するように配置されることを特徴とする付記17に記載の配向処理装置。   (Supplementary note 18) The alignment process according to supplementary note 17, wherein the optical mask and the light source are arranged so that a longitudinal direction of the slit of the optical mask and a longitudinal direction of the light source are parallel or orthogonal to each other. apparatus.

(付記19)前記光源の背後を覆うように、赤外線を吸収するコールドミラーが設けられており、前記コールドミラーからの反射光は、前記光源の長手方向に沿った面内では散乱光として、前記光源の長手方向に直交した面内では平行光として、前記配向膜に照射されることを特徴とする付記17に記載の配向処理装置。   (Supplementary Note 19) A cold mirror that absorbs infrared rays is provided so as to cover the back of the light source, and the reflected light from the cold mirror is scattered as light within the plane along the longitudinal direction of the light source. The alignment processing apparatus according to appendix 17, wherein the alignment film is irradiated as parallel light in a plane orthogonal to the longitudinal direction of the light source.

(付記20)それぞれ配向膜を対向させて所定間隔に保たれた一対の基板を備え、前記配向膜間に液晶層が挿入されてなる液晶表示装置であって、前記液晶に所定の境界において複数の分割配向が施されており、前記配向膜の表面エネルギーは、前記配向分割の境界において最大値又は最小値となり、境界から離れるほど小さく又は大きくなることを特徴とする液晶表示装置。   (Supplementary note 20) A liquid crystal display device comprising a pair of substrates each having an alignment film opposed to each other and maintained at a predetermined interval, wherein a liquid crystal layer is inserted between the alignment films, and a plurality of liquid crystals are provided at predetermined boundaries on the liquid crystal. The liquid crystal display device is characterized in that a surface energy of the alignment film has a maximum value or a minimum value at a boundary of the alignment division and decreases or increases as the distance from the boundary increases.

(付記21)前記配向膜は、前記液晶の液晶分子に対する所定の初期配向性を有し、紫外線照射に応じたプレチルト角の変化率の異なる少なくとも2種類のポリマーを含む材料からなるものであることを特徴とする付記20に記載の液晶表示装置。   (Appendix 21) The alignment film is made of a material having a predetermined initial alignment property with respect to liquid crystal molecules of the liquid crystal and containing at least two kinds of polymers having different pretilt angle change rates in response to ultraviolet irradiation. Item 20. The liquid crystal display device according to appendix 20, wherein

(付記22)前記配向膜は、紫外線の照射により垂直配向からプレチルト角が変化し始め、ある紫外線照射量を超えるとプレチルト角が90°近傍の一定値となるものであることを特徴とする付記21に記載の液晶表示装置。   (Additional remark 22) The alignment film has a pretilt angle that starts to change from vertical alignment due to ultraviolet irradiation, and the pretilt angle becomes a constant value near 90 ° when a certain ultraviolet irradiation amount is exceeded. 22. A liquid crystal display device according to item 21.

(付記23)前記配向膜は、紫外線の照射により垂直配向からプレチルト角が変化し始め、更に紫外線を照射することにより再び垂直配向に戻る特性を有するものであることを特徴とする付記20に記載の液晶表示装置。   (Supplementary note 23) The supplementary note 20 is characterized in that the alignment film has a characteristic that the pretilt angle starts to change from the vertical alignment by irradiation of ultraviolet rays and returns to the vertical alignment again by irradiation of ultraviolet rays. Liquid crystal display device.

(付記24)配向膜に紫外線を照射し、前記配向膜上に設けられる液晶を配向させる配向処理方法であって、スリットが形成された光学マスクを前記配向膜の上方に配置し、紫外線の散乱光を照射する光源から前記光学マスクに散乱光を照射することにより、前記スリットを中心として拡がる拡散光を生成し、当該拡散光を前記配向膜に照射して、前記液晶に拡散光の拡散方向に依存した分割配向を生ぜしめることを特徴とする配向処理方法。   (Supplementary Note 24) An alignment treatment method for irradiating an alignment film with ultraviolet rays and aligning a liquid crystal provided on the alignment film, wherein an optical mask provided with a slit is disposed above the alignment film, and ultraviolet light is scattered. By irradiating the optical mask with scattered light from a light source that irradiates light, diffused light that spreads around the slit is generated, and the diffused light is applied to the alignment film to diffuse the diffused light to the liquid crystal. An alignment treatment method characterized by causing a divided alignment depending on the orientation.

(付記25)前記配向膜は、画素の複数の領域において互いに異なる配向となるように分割配向され、一対の基板にそれぞれ設けられて液晶表示装置の構成要素をなすものであって、初期配向は垂直配向又は水平配向であり、一方の前記基板における前記分割配向の分割数は2であり、前記画素において互いに逆方向に液晶分子が傾斜するように配向規制がなされることを特徴とする付記24に記載の配向処理方法。   (Supplementary Note 25) The alignment film is divided and aligned so as to have different alignments in a plurality of regions of the pixel, and is provided on each of a pair of substrates to form a component of a liquid crystal display device. Additional alignment 24, wherein the number of divisions of the divided alignment in one of the substrates is 2, and the alignment is regulated so that liquid crystal molecules are inclined in opposite directions in the pixel. The orientation treatment method according to 1.

(付記26)前記配向分割の前記各基板における方向は、ゲート電極及び/又はデータ電極との関係において、前記ゲート電極及び/又は前記データ電極から対向する前記基板の前記画素中央を結ぶ線分の方向であることを特徴とする付記24に記載の配向処理方法。   (Supplementary Note 26) The direction of the alignment division on each substrate is a line segment connecting the pixel center of the substrate facing the gate electrode and / or the data electrode in relation to the gate electrode and / or the data electrode. The orientation treatment method according to appendix 24, wherein the orientation treatment method is a direction.

(付記27)配向膜に紫外線を照射し、前記配向膜上に設けられる液晶を配向させる配向処理装置であって、紫外線を照射する光源と、前記光源下に設けられ、スリットが形成されるとともに紫外線の散乱機構を有する光学マスクとを備え、前記光学マスクを前記配向膜の上方に配置し、前記光源から前記光学マスクに紫外線を照射することにより、前記スリットを中心として拡がる拡散光を生成し、当該拡散光を前記配向膜に照射して、前記液晶に拡散光の拡散方向に依存した分割配向を生ぜしめることを特徴とする配向処理装置。   (Supplementary note 27) An alignment processing apparatus for irradiating an alignment film with ultraviolet light and aligning liquid crystal provided on the alignment film, the light source for irradiating with ultraviolet light, the light source provided under the light source, and a slit being formed An optical mask having an ultraviolet light scattering mechanism, and the optical mask is disposed above the alignment film, and the optical mask is irradiated with ultraviolet light from the light source to generate diffused light spreading around the slit. The alignment processing apparatus is characterized by irradiating the alignment film with the diffused light and causing the liquid crystal to have a split alignment depending on a diffusion direction of the diffused light.

(付記28)前記散乱機構は、前記光学マスクの前記光源側の面に形成された散乱手段であることを特徴とする付記27に記載の配向処理装置。   (Additional remark 28) The said scattering mechanism is a scattering means formed in the surface by the side of the said light source of the said optical mask, The orientation processing apparatus of Additional remark 27 characterized by the above-mentioned.

(付記29)前記散乱機構は、前記光学マスクの前記スリットの開口部分に形成された散乱手段であることを特徴とする付記27に記載の配向処理装置。   (Additional remark 29) The said scattering mechanism is a scattering means formed in the opening part of the said slit of the said optical mask, The orientation processing apparatus of Additional remark 27 characterized by the above-mentioned.

(付記30)前記光学マスクは、前記スリットがストライプ状に形成されてなるものであることを特徴とする付記27に記載の配向処理装置。   (Supplementary note 30) The alignment processing apparatus according to supplementary note 27, wherein the optical mask has the slit formed in a stripe shape.

(付記31)前記光学マスクは、前記配向膜の上部に配置された際に、前記スリットが前記配向膜の下部に形成されたデータ電極と略平行に画素の左右の中心位置と略一致する部位に位置するように形成されていることを特徴とする付記27に記載の配向処理装置。   (Supplementary Note 31) When the optical mask is disposed above the alignment film, the slit is substantially parallel to the data electrode formed below the alignment film and substantially coincides with the left and right center positions of the pixels. 28. The alignment processing apparatus according to appendix 27, wherein the alignment processing apparatus is positioned so as to be positioned at the position.

(付記32)前記光学マスクは、前記配向膜の上部に配置された際に、前記スリットが前記配向膜の下部に形成されたゲート電極と略平行に画素の上下の中心位置と略一致する部位に位置するように形成されていることを特徴とする付記27に記載の配向処理装置。   (Supplementary Note 32) When the optical mask is disposed above the alignment film, the slit is substantially parallel to the gate electrode formed below the alignment film and substantially coincides with the vertical center position of the pixel. 28. The alignment processing apparatus according to appendix 27, wherein the alignment processing apparatus is positioned so as to be positioned at the position.

(付記33)配向膜に紫外線を照射し、前記配向膜上に設けられる液晶を配向させる配向処理方法であって、スリットが形成されるとともに紫外線の散乱機構を有する光学マスクを前記配向膜の上方に配置し、光源から前記光学マスクに紫外線を照射することにより、前記スリットを中心として拡がる拡散光を生成し、当該拡散光を前記配向膜に照射して、前記液晶に拡散光の拡散方向に依存した分割配向を生ぜしめることを特徴とする配向処理方法。   (Supplementary note 33) An alignment treatment method for irradiating an alignment film with ultraviolet rays and aligning liquid crystals provided on the alignment film, wherein an optical mask having a UV light scattering mechanism is formed above the alignment film. And irradiating the optical mask with ultraviolet rays from a light source to generate diffused light spreading around the slit, irradiating the diffused light onto the alignment film, and diffusing the diffused light onto the liquid crystal in the diffusion direction An alignment treatment method characterized by causing dependent divided alignment.

(付記34)それぞれ配向膜を対向させて所定間隔に保たれた一対の基板を備え、前記配向膜間に液晶層が挿入されてなる液晶表示装置であって、一方の前記基板に画素電極が形成されており、前記画素電極の端部に相当する部位の液晶分子に、当該端部で発生する電界による配向を打ち消す方向へ向かう配向規制力が与えられていることを特徴とする液晶表示装置。   (Supplementary Note 34) A liquid crystal display device comprising a pair of substrates each having an alignment film facing each other and maintained at a predetermined interval, and a liquid crystal layer inserted between the alignment films, wherein a pixel electrode is provided on one of the substrates A liquid crystal display device, characterized in that the liquid crystal molecules formed in a portion corresponding to the end portion of the pixel electrode are given an alignment regulating force in a direction to cancel the alignment due to the electric field generated at the end portion. .

(付記35)前記液晶層は、前記配向膜の配向規制により前記画素電極上で所定の分割配向が施されていることを特徴とする請求項34に記載の液晶表示装置。   (Supplementary Note 35) The liquid crystal display device according to claim 34, wherein the liquid crystal layer is subjected to a predetermined division alignment on the pixel electrode according to an alignment regulation of the alignment film.

(付記36)それぞれ配向膜を対向させて所定間隔に保たれた一対の基板を備え、前記配向膜間に液晶層が挿入されてなる液晶表示装置を製造するに際して、一方の前記基板に形成された画素電極の端部に相当する部位の液晶分子に、当該端部で発生する電界による配向を打ち消す方向へ向かう配向規制力を与えることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。   (Supplementary Note 36) When manufacturing a liquid crystal display device including a pair of substrates each having an alignment film facing each other and kept at a predetermined interval, and having a liquid crystal layer inserted between the alignment films, the liquid crystal display device is formed on one of the substrates. A method of manufacturing a liquid crystal display device, wherein an alignment regulating force is applied to liquid crystal molecules in a portion corresponding to an end portion of the pixel electrode in a direction to cancel alignment due to an electric field generated at the end portion.

(付記37)スリットが形成された光学マスクを、前記スリットがゲート電極上又はデータ電極上でこれと平行となるように、前記配向膜の上部に配置し、前記光学マスクに上部から紫外線を照射することにより、前記スリットを中心として拡がる拡散光を生成し、当該拡散光を前記配向膜に照射して、前記画素電極の前記端部で発生する電界による配向を打ち消す方向へ向かう配向規制力を与えることを特徴とする付記36に記載の液晶表示装置の製造方法。   (Supplementary Note 37) An optical mask in which a slit is formed is arranged on the alignment film so that the slit is parallel to the gate electrode or the data electrode, and the optical mask is irradiated with ultraviolet rays from above. Thus, diffused light spreading around the slit is generated, and the alignment light is applied to the alignment film, and the alignment regulating force is directed toward canceling the alignment due to the electric field generated at the end of the pixel electrode. 37. A method of manufacturing a liquid crystal display device according to appendix 36, wherein:

(付記38)それぞれ配向膜を対向させて所定間隔に保たれた一対の基板を備え、前記配向膜間に液晶層が挿入されてなる液晶表示装置であって、一方の前記基板に、画素電極と当該画素電極間に形成されたバスラインとを有し、前記画素電極の前記バスライン近傍に当該バスラインに略平行なスリットが形成されていることを特徴とする液晶表示装置。   (Supplementary note 38) A liquid crystal display device comprising a pair of substrates each having an alignment film facing each other and kept at a predetermined interval, and having a liquid crystal layer inserted between the alignment films, wherein one of the substrates has a pixel electrode And a bus line formed between the pixel electrodes, and a slit substantially parallel to the bus line is formed near the bus line of the pixel electrode.

(付記39)前記画素電極の前記スリットにより、前記画素電極の端部に相当する部位の液晶分子に、当該端部で発生する電界による配向を打ち消す方向へ向かう配向規制力が与えられることを特徴とする付記38に記載の液晶表示装置。   (Supplementary note 39) The slit of the pixel electrode gives the liquid crystal molecules in a portion corresponding to the end of the pixel electrode an alignment regulating force in a direction to cancel the alignment due to the electric field generated at the end. 39. A liquid crystal display device according to appendix 38.

(付記40)前記画素電極には、前記スリットが少なくとも2本形成されていることを特徴とする付記38に記載の液晶表示装置。   (Supplementary note 40) The liquid crystal display device according to supplementary note 38, wherein at least two slits are formed in the pixel electrode.

(付記41)複数の前記スリットが前記画素電極の全面に形成されていることを特徴とする付記38に記載の液晶表示装置。   (Supplementary note 41) The liquid crystal display device according to supplementary note 38, wherein a plurality of the slits are formed on the entire surface of the pixel electrode.

(付記42)前記各スリットが前記画素電極の中央部位で途切れ、電極として繋がった領域が形成されていることを特徴とする付記41に記載の液晶表示装置。   (Supplementary note 42) The liquid crystal display device according to supplementary note 41, wherein each slit is interrupted at a central portion of the pixel electrode to form a region connected as an electrode.

11,12 透明ガラス基板
13,112 液晶層
14 絶縁層
15 画素電極
16a,16b 配向膜
17 カラーフィルター
18 共通電極
19,20 偏光子
31,101,302 光源
32 ミラー
33 ホルダー
102,201,301 光学マスク
103,203,303 配向膜
104 基板
104a,204a,304a CF基板
104b,204b,304b TFT基板
111,211,311,411 スリット
113,313 ゲート電極
115,315 データ電極
116 土手状部材
117 Cs電極
118,318,418 画素電極
121 ランプ
122 遮蔽板
123 コールドミラー
131 スリットの抜け
211a すりガラス状の部分
212 プリズム
312 ブラックマトリクス
421 接続部分
DESCRIPTION OF SYMBOLS 11, 12 Transparent glass substrate 13, 112 Liquid crystal layer 14 Insulating layer 15 Pixel electrode 16a, 16b Alignment film 17 Color filter 18 Common electrode 19, 20 Polarizer 31, 101, 302 Light source 32 Mirror 33 Holder 102, 201, 301 Optical mask 103, 203, 303 Alignment film 104 Substrate 104a, 204a, 304a CF substrate 104b, 204b, 304b TFT substrate 111, 211, 311, 411 Slit 113, 313 Gate electrode 115, 315 Data electrode 116 Bank-like member 117 Cs electrode 118, 318, 418 Pixel electrode 121 Lamp 122 Shield plate 123 Cold mirror 131 Slit opening 211a Frosted glass-like portion 212 Prism 312 Black matrix 421 Connection portion

Claims (1)

それぞれ配向膜を対向させて所定間隔に保たれた一対の基板を備え、前記配向膜間に液晶層が挿入されてなる液晶表示装置を製造するに際して、
一方の前記基板に形成された画素電極の端部に相当する部位の液晶分子に、当該端部で発生する電界による配向を打ち消す方向へ向かう配向規制力を与えることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
In manufacturing a liquid crystal display device comprising a pair of substrates each facing an alignment film and kept at a predetermined interval, and having a liquid crystal layer inserted between the alignment films,
A liquid crystal display device characterized in that an alignment regulating force is applied to a liquid crystal molecule at a portion corresponding to an end portion of a pixel electrode formed on one of the substrates in a direction to cancel alignment due to an electric field generated at the end portion. Production method.
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