JP2009240891A - 超純水の製造方法 - Google Patents

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Abstract

【課題】既存の超純水製造装置の設備を利用し、かつ、薬品使用量を増加させずに、ホウ素を低減する超純水の製造方法を目的とする。
【解決手段】本発明の超純水の製造方法は、強塩基性アニオン交換樹脂に被処理水を通水する工程と、前記強塩基性アニオン交換樹脂に前記被処理水よりも高い温度の水を通水する再生処理工程を有することよりなる。前記再生処理工程で通水する水は、強塩基性アニオン交換樹脂で処理済の水であることが好ましく、前記再生処理工程で通水する水の温度は、50℃以上であることが好ましい。
【選択図】図2

Description

本発明は超純水の製造方法に関する。
従来、半導体デバイス等の半導体製造分野や、医薬品製造分野、原子力や火力等の発電分野、食品工業等の各種の産業、または研究施設等、様々な分野での用水として、イオン成分、有機物、微粒子、細菌等の不純物が高度に除去された超純水が使用されている。中でも、半導体デバイスをはじめとする電子部品製造の洗浄工程では、多くの超純水が使用されており、年々、超純水の純度に対する要求は更に高まっている。
一般的に、超純水の製造には、前処理システム、一次純水システム、二次純水システム(サブシステム)で構成される超純水製造装置が用いられている。超純水製造装置における各システムの役割は次の通りである。前処理システムは、例えば凝集沈殿や砂ろ過により、原水中に含まれる懸濁物質やコロイド物質の除去を行う工程である。一次純水システムは、例えばイオン交換樹脂や逆浸透(RO)膜等を使用して、前記前処理システムで懸濁物質等が除去された原水の、イオンや有機成分の除去を行い、一次純水を得る工程である。サブシステムは、例えば紫外線酸化、イオン交換、ファイナルフィルタ(UF膜)等を使用して、一次純水システムで得られた一次純水の純度をさらに高めて、超純水を製造する工程である。
超純水の製造を継続すると、超純水製造装置に使用されているイオン交換樹脂は、一定のイオン交換容量を有しているため、通水量の増加に伴いイオン成分の除去能力が低下して、ある時点で原水中の金属・イオン成分を適切に除去できなくなる。このため、イオン交換樹脂にイオン交換された金属・イオン成分を溶離し、イオン交換樹脂の能力を復活させるために定期的に再生が行われる。ただし、サブシステムに設置したイオン交換装置については、非再生型イオン交換装置を用いるのが一般的である。
例えば一次純水系の再生型イオン交換装置の運用は、図5に示すように、一定期間のイオン交換処理202と、薬品再生処理204の交互実施により構成されている。イオン交換処理202は、2塔3床式イオン交換装置や複床型イオン交換装置等に被処理水を通水する工程である。薬品再生処理204は、酸または塩基性水溶液等を用い、超純水装置に用いられているイオン交換樹脂を再生する工程である。アニオン交換樹脂の再生には、一般的に40〜50℃程度の水酸化ナトリウム水溶液等が使用される。薬品再生処理204の頻度は、処理水のシリカ濃度や比抵抗を基準として設定される。一方で、サブシステムの非再生型イオン交換装置は、樹脂汚染を防止するために、薬品再生処理は実施せず、定期的に交換する手法がとられる。
半導体の微細化に伴い、半導体製造工程で使用される超純水の更なる高純度化が求められ、特にホウ素濃度の低減技術が必要となっている。ホウ素の除去が不充分な超純水を半導体デバイス製造用水として利用すると、例えば、基盤上にnチャンネルトランジスタを形成しようとした場合には、nチャンネルトランジスタのしきい値電圧は、基盤中のホウ素濃度に依存するので、製造工程における濃度管理が不安定になり、製品である半導体デバイス特性を著しく損なう可能性がある。また、医薬品製造分野においては、できるだけ不純物が低減されていることが求められる。
水中のホウ素は、RO膜や、強塩基性アニオン交換樹脂で除去できることが知られている。しかし、金属やアニオン、シリカ等と比較して、RO膜での除去率は低く、また、ホウ素に対するイオン交換樹脂の交換容量が小さいことから、比較的早期にイオン交換樹脂から漏洩(破過)する。このため、上述したシリカ濃度や比抵抗でイオン交換装置の再生頻度を管理した場合には、イオン交換装置からのホウ素のリークを適切に防止できない。
他方、ホウ素のリーク量を基準として、再生頻度を管理した例を図6に示す。図6に示すように、一次純水システムの再生型イオン交換装置は、イオン交換処理212と薬品による薬品再生処理214とを交互に行うが、ホウ素が早期に破過するため、ホウ素のリーク量を基準に再生頻度を定めると、図5のフローに比べて薬品再生処理214の頻度を増加せざるを得ない。再生頻度増の結果、再生薬品の使用量増に繋がる懸念がある。
これまでにも、超純水中のホウ素濃度低減のため、ホウ素選択性樹脂を用いた発明(例えば特許文献1、2)や、ホウ素選択性有機多孔質体を用いた発明(例えば、特許文献3)、ホウ素選択性イオン交換繊維を用いて、ホウ素を除去する発明が開示されている(例えば、特許文献4)。また、温度制御を行った水をイオン交換装置で処理することにより、ホウ素を取り除く発明が開示されている(例えば、特許文献5)。また、RO膜装置に導入する水のpHをアルカリ性にすることで、ホウ素を除去する発明が開示されている(例えば、特許文献6)。
特開平8−84986号公報 特開平9−192661号公報 特開2004−66153号公報 特開2005−246126号公報 特開2005−177564号公報 特開2004−283710号公報
しかしながら、特許文献1〜4の発明では、新たな設備の追加が必要となる上、使用する部材から溶出するTOC(全有機炭素)が問題となり、他の設備との組み合わせに工夫が必要であるという問題があった。また、特許文献5の発明では、熱交換器の増設が必要な上、劇的な交換容量の向上が見込めず、ホウ素の効率的な除去が困難であるという問題があった。さらに特許文献6の発明では、水中のホウ素が極低濃度である場合には対応ができず、また、pH調整のための薬注設備の追加や、薬品使用量の増加という問題があった。
そこで、本発明は、既存の超純水製造装置に特段の設備を追加することなく、かつ、薬品使用量を増加させずに、ホウ素を低減する超純水の製造方法を目的とする。
本発明の超純水の製造方法は、強塩基性アニオン交換樹脂に被処理水を通水する工程と、前記強塩基性アニオン交換樹脂に前記被処理水よりも高い温度の水を通水する再生処理工程とを有することを特徴とする。
前記再生処理工程で通水する水(以下、再生水という)は、強塩基性アニオン交換樹脂で処理済の水であることが好ましく、前記再生水の温度は、50℃以上であることが好ましい。
本発明の超純水の製造方法によれば、既存の超純水製造装置に特段の設備を追加することなく、かつ、薬品使用量を増加させずに、ホウ素を低減した超純水を得ることができる。
本発明の超純水の製造方法は、強塩基性アニオン交換樹脂に被処理水を通水する工程と、イオン交換処理の際の被処理水よりも高い温度の純水を通水して、前記強塩基性アニオン交換樹脂の再生を行う再生処理工程とを有するものである。
本発明の超純水の製造方法に用いる超純水製造装置の一例について、図1を用いて説明する。図1は、本発明の超純水の製造方法を実施する、超純水製造装置100の模式図である。
図1の通り、超純水装置100は、前処理システム110と、一次純水システム120と、サブシステム140とで構成されている。前処理システム110は、原水槽112と、凝集沈殿装置114、ろ過装置116、ろ過水槽118で構成されている。一次純水システム120は、前段再生型イオン交換ユニット122と、RO膜装置124と、後段再生型イオン交換ユニット126とで構成されている。サブシステム140は、一次純水槽142と、紫外線酸化装置144と、非再生型イオン交換ユニット(CPユニット:カートリッジポリッシャーユニット)146と、UF膜装置148とで構成され、超純水が循環できるように順に配置されている。そして、サブシステム140は、ユースポイント160、162、164と接続されている。
前処理システム110は、一時的に貯水した原水槽112の原水の、懸濁物質やコロイド物質の除去を行うことができれば特に限定されず、凝集沈殿装置114、ろ過装置116の組み合わせの他、既存の他の装置を用いても良い。
一次純水システム120は、前処理システム110で懸濁物質等が除去された原水の、イオンや有機成分の除去を行い、一次純水を得ることができれば特に限定されず、前段再生型イオン交換ユニット122、RO膜装置124、後段再生型イオン交換ユニット126の他、紫外線(UV)照射装置や脱気装置等を組み合わせることができる。
RO膜装置124は特に限定されることなく、既存の装置を使用することができる。
前段再生型イオン交換ユニット122は、前段再生型イオン交換装置122a、122b、バルブ121a、121bで構成されている。前段再生型イオン交換装置122a、122bは特に限定されず、例えば、カチオン交換樹脂を充填したカチオン交換塔、脱気塔、アニオン交換樹脂を充填したアニオン交換塔を有する2塔3床式、さらにアニオン交換塔もしくはカチオン交換塔を加えた3塔4床式、または、アニオン交換塔とカチオン交換塔の両方を加えた4塔5床式のイオン交換装置等を採用することができる。また、アニオン交換塔、カチオン交換塔の代わりに、アニオン交換樹脂とカチオン交換樹脂とを充填した複床型や混床型のイオン交換塔を用いることができる。このうち、アニオン交換塔やイオン交換塔に充填されるアニオン交換樹脂は、ホウ素の除去に効果のある、強塩基性アニオン交換樹脂が単独、あるいは他のアニオン交換樹脂と組み合わされて充填されていることが好ましい。
後段再生型イオン交換ユニット126は、後段再生型イオン交換装置126a、126b、バルブ125a、125bで構成されている。後段再生型イオン交換装置126a、126bは特に限定されず、アニオン交換樹脂、または、カチオン交換樹脂の単床形態であっても良いし、アニオン交換樹脂とカチオン交換樹脂との混床型もしくは複床型であっても良い。ただし、充填されるアニオン交換樹脂には、強塩基性アニオン交換樹脂が含まれていることが好ましい。
サブシステム140は、一次純水システムで得られた一次純水の純度をさらに高めて、超純水を製造することができれば特に限定されず、既存のものを用いることができる。UV酸化装置144、CPユニット146、UF膜装置148の他、脱気装置等を組み合わせて使用することもできる。
UV酸化装置144は、一次純水中のTOC成分を有効に分解できる能力を有すれば特に限定されず、既存の装置を用いることができる。
CPユニット146は、非再生型イオン交換装置(CP)146a、146b、バルブ145a、145bで構成されている。CP146a、146bは特に限定されず、UV酸化装置144で分解されたTOC成分、および、残存する微量の金属やイオン等を除去できるものであれば特に限定されない。一般的に、アニオン交換樹脂とカチオン交換樹脂との混床型が用いられる。アニオン交換樹脂としては、強塩基性アニオン交換樹脂が充填されていることが好ましい。
一次純水槽142、UF膜装置148は特に限定されず、既存の装置を使用することができる。
本発明の超純水の製造方法の一例について、図1、2を用いて説明する。図2は、本発明の実施形態における強塩基性アニオン交換樹脂の処理を示すフロー図である。図2の通り、超純水の製造において、強塩基性アニオン交換樹脂には、イオン交換処理12と、温水再生処理14と、イオン交換処理13と、薬品再生処理16とが順に、繰り返して行われる。
超純水製造装置100を使用した、超純水の製造方法について説明する。説明は、前段再生型イオン交換装置122a、122b、後段再生型イオン交換装置126a、126b、CP146a、146bのいずれにも、強塩基性アニオン交換樹脂が充填されている場合を例にして行う。
まず、原水を原水槽112に貯水した後、凝集沈殿装置114、ろ過装置116の順に処理し、原水中の懸濁物質が除去されたろ過水をろ過水槽118に貯水する。バルブ121a、125aを開、バルブ121b、125bを閉とする。被処理水として前記ろ過水を前段再生型イオン交換装置122aに通水し、水中のアニオン成分、カチオン成分、シリカ等を除去するイオン交換処理12が行われる。その後、RO膜装置124でTOC等を除去し、後段再生型イオン交換装置126aにてイオン交換処理12が行われ、さらに純度を向上させて一次純水を得る。得られた一次純水を一次純水槽142に貯水する。
次いで、バルブ145aを開、バルブ145bを閉とする。被処理水である一次純水にUV酸化装置144にて紫外線照射し、水中のTOC成分を有機酸、さらには二酸化炭素の状態にまで分解する。次いで、CP146aにて、微量のイオン成分ならびに紫外線照射により生成した有機酸や二酸化炭素を除去するイオン交換処理12が行われる。そして、UF膜装置148にて、微粒子を除去し、超純水を得る。得られた超純水の一部は、そのままユースポイント160、162、164へ送液し、超純水として採水する。得られた超純水の他の一部は、一次純水槽142に送水されて、サブシステム140内を循環する。
上述のように、前段再生型イオン交換装置122aや後段再生型イオン交換装置126a、CP146aにおいては、任意の期間、被処理水を通水するイオン交換処理12が行われる。前段再生型イオン交換装置122aでは、ホウ素破過が近づくと、バルブ121aを閉、バルブ121bを開として、前段再生型イオン交換装置122aへのろ過水の通水を前段再生型イオン交換装置122bへの通水に切り替える。次いで、イオン交換処理12を終了した前段再生型イオン交換装置122aの温水再生工程14が行われる。前段再生型イオン交換装置122aの温水再生処理14が行われている間、前段再生型イオン交換装置122bにろ過水が通水されて、超純水の製造は継続される。
同様に後段再生型イオン交換装置126aにおいても、ホウ素破過が近づくと、バルブ125aを閉、バルブ125bを開として、後段再生型イオン交換装置126aへのろ過水の通水を後段再生型イオン交換装置126bへの通水に切り替える。次いで、イオン交換処理12を終了した後段再生型イオン交換装置126aの温水再生工程14が行われる。後段再生型イオン交換装置126aの温水再生処理14が行われている間、後段再生型イオン交換装置126bにろ過水が通水されて、超純水の製造は継続される。
また、同様にCP146aにおいても、ホウ素破過が近づくと、バルブ145aを閉、バルブ145bを開として、CP146aへの一次純水の通水をCP146bへの通水に切り替える。次いで、イオン交換処理12を終了したCP146aの温水再生工程14が行われる。CP146aの温水再生処理14が行われている間、CP146bに一次純水が通水されて、超純水の製造は継続される。
温水再生処理14では、超純水製造装置100に使用されている強塩基性アニオン交換樹脂に、前記イオン交換処理12における被処理水の通水温度よりも高い温度の再生水を通水させる。即ち、ホウ素破過が近づきイオン交換処理12を終了した前段再生型イオン交換装置122a、後段再生型イオン交換装置126aには、ろ過水よりも温度の高い再生水を通水し、超純水製造装置100外へ排出する。同様に、CP146aには、一次純水よりも高い温度の再生水を通水し、超純水製造装置100外へ排出する。この間、再生水の温度が被処理水の温度より高いことで、強塩基性アニオン交換樹脂に対するホウ素の選択性が低下し、ホウ素が溶離する。そして、溶離したホウ素は再生水に取り込まれて排出される。任意の期間、再生水を通水させた後、前段再生型イオン交換装置122a、後段再生イオン交換装置126a、CP146aへの再生水の通水を停止し、温水再生処理14を終了する。
前記温水再生処理14の後、イオン交換処理13が行われる。イオン交換処理13は、イオン交換処理12と同じである。
一次純水システム120では、バルブ121a、125aを開、バルブ121b、125bを閉とする。前段再生型イオン交換装置122bへのろ過水の通水を前段再生型イオン交換装置122aへの通水に切り替える。同様に後段再生型イオン交換装置126bへのろ過水の通水を後段再生型イオン交換装置126aへ切り替える。サブシステム140では、バルブ145aを開、バルブ145bを閉とし、CP146bへの一次純水の通水をCP146aへの通水に切り替える。こうして、温水再生処理14を終えた前段再生型イオン交換装置122a、後段再生型イオン交換装置126a、CP146aに充填された強塩基性アニオン交換樹脂に被処理水を通水し、イオン交換処理13が行われる。この間、前段再生型イオン交換装置122b、後段再生型イオン交換装置126b、CP146bでは、温水再生処理14が行なわれる。
そして、前段再生型イオン交換装置122aでは、シリカや導電率、比抵抗等で管理された任意の採水期間、ろ過水を通水した後、バルブ121aを閉、バルブ121bを開として、前段再生型イオン交換装置122aへの通水を停止し、イオン交換処理13を終了し、薬品再生工程16が行われる。前段再生型イオン交換装置122aの薬品再生工程16が行われている間、前段再生型イオン交換装置122bにろ過水が通水されて、超純水の製造は継続される。
同様に、後段再生型イオン交換装置126aでは、任意の期間、ろ過水を通水した後、バルブ125aを閉、バルブ125bを開として、前段再生型イオン交換装置126aへの通水を停止し、イオン交換処理13を終了し、薬品再生工程16が行われる。後段再生型イオン交換装置126aの薬品再生工程16が行われている間、後段再生型イオン交換装置126bにろ過水が通水されて、超純水の製造は継続される。
同様に、CP146aにおいては、任意の期間、一次純水を通水した後、バルブ145aを閉、バルブ145bを開として、CP146aへの一次純水の通水を停止し、イオン交換処理13を終了する。そして、CP146aは新たなCPと交換される。CP146aの交換の間、CP146bへ一次純水が通水されて、超純水の製造は継続される。
温水再生処理14は、ホウ素とシリカの溶離に効果的であるが、他の成分の溶離には薬品による再生が必要となる。薬品再生処理16では、任意の期間、ろ過水を通水した前段再生型イオン交換装置122a、後段再生型イオン交換装置126aについて、再生用薬品の水溶液(以下、再生液という)を強塩基性アニオン交換樹脂に通液して再生する。再生液の通液により、強塩基性アニオン交換樹脂に吸着したアニオン成分が溶離され、強塩基性アニオン交換基が再生される。そして、溶離されたアニオン成分は、再生液中に取り込まれて超純水製造装置100外へ排出される。任意の量の再生液を通液させた後、強塩基性アニオン交換樹脂への再生液の通液を停止し、薬品再生処理16を終了する。
薬品再生処理16の後に、イオン交換処理12を再開する場合には、強塩基性アニオン交換樹脂内へ、純水または超純水を導入し、前記再生液を押し出して超純水製造装置100外へ排出する。かかる工程により、イオン交換処理12再開後に、超純水中に再生液の成分が混入することを防止する。
バルブ121a、125aを開、バルブ121b、125bを閉として、前段再生型イオン交換装置122bへのろ過水の通水を前段再生型イオン交換装置122aへ切り替え、後段再生型イオン交換装置126bへのろ過水の通水を後段再生型イオン交換装置126aへ切り替える。そして、前段再生型イオン交換装置122a、後段再生型イオン交換装置125aでのイオン交換処理12を行う一方、前段再生型イオン交換装置122b、後段再生型イオン交換装置125bの薬品再生処理16を行なう。
なお、CP146a、146bは、再生液による汚染を防止するため、薬品再生処理16を省略し、適宜交換する。
強塩基性アニオン交換樹脂に被処理水を通水する工程は、イオン交換処理12、13である。
強塩基性アニオン交換樹脂に被処理水を通水する工程は、超純水製造装置100中、前処理システム110以降で、ユースポイント160、162、164の前段までの間に行われれば特に限定されることはない。例えば、超純水製造装置100においては、前段再生型イオン交換ユニット122、後段再生型イオン交換ユニット126、CPユニット146のいずれかに強塩基性アニオン交換樹脂が充填されていれば、本発明の対象となる。
強塩基性アニオン交換樹脂はホウ素を捕捉する能力を有すれば特に限定されるものではなく、ゲル型であっても良いし、ポーラス型であっても良く、既存のものを用いることができる。例えば、市販品としてローム・アンド・ハース社製のアンバーライトIRA402BL(商品名)等を挙げることができる。
被処理水とは、前処理システム110で懸濁物質が除去された原水や、一次純水等を含み、強塩基性アニオン交換樹脂に通水される水を意味する。
本発明の、強塩基性アニオン交換樹脂に被処理水よりも高い温度の水を通水する再生処理工程は、温水再生処理14である。
温水再生処理14の頻度は特に限定されず、超純水に求めるホウ素濃度や、薬品再生処理16の頻度に応じて決定することができる。例えば、イオン交換処理12で得られる超純水中のホウ素濃度を経時的に測定し、一定のホウ素濃度となった時点で、温水再生処理14を行っても良いし、経験的に導かれた採水期間や処理水量を基に、温水再生処理14の頻度を決定しても良い。また、任意の薬品再生処理16と、他の薬品再生処理16との間に、1回行っても良いし、2回以上行っても良い。
再生水は特に限定されないが、被処理水よりもアニオン成分濃度の低いものを使用することが好ましい。例えば、強塩基性アニオン交換樹脂で処理済の水等を好適に用いることができる。例えば、後段再生型イオン交換ユニット126の再生水には、同ユニット126の処理水や、より後段のCPユニット146の処理水等を用いることが好ましい。ここで、「強塩基性アニオン交換樹脂で処理済の水」とは、強塩基性アニオン交換樹脂に接触させてアニオン成分を除去処理した直後の水や、強塩基性アニオン交換樹脂に接触させた後、RO膜装置で処理した一次純水や、さらにサブシステムで処理した超純水等を含む。例えば、超純水製造装置100の、前段再生型イオン交換ユニット122以降で採取した水を用いても良いし、別途装置で強塩基性アニオン交換樹脂に接触させて処理した水であっても良い。
このような再生水を用いることで、再生水がアニオン交換樹脂の負荷になることを抑制しつつ、再生を実施することができる。また、再生水中のホウ素濃度が、被処理水に比べて低いため、ホウ素の溶離を促進することができる。
再生水の温度は、被処理水の通水温度よりも高い温度であれば特に限定されることはなく、再生水の量や再生頻度を勘案して決めることができるが、被処理水の通水温度よりも20℃以上高い温度であることが好ましい。被処理水の通水温度よりも高い温度とすることで、少ない再生水の量で、効率的に温水再生ができるためである。また、再生水の温度は特に限定されないが、50℃以上であることが好ましい。50℃以上であれば、強塩基性アニオン交換樹脂の再生が効率的に行えるためである。なお、再生水の上限温度は、特に限定されないが、作業性の悪化や強塩基性アニオン交換樹脂等の性能劣化を考慮し、100℃以下とすることが好ましい。
再生水の通水量は特に限定されず、再生水の温度と再生の程度を勘案して決めることが好ましい。
温水再生処理14における再生水の通水方向は特に限定されず、イオン交換処理12の被処理水の通水方向と同じ方向であっても良いし、向流であっても良い。再生水の通水量を低減し、より効率的にホウ素を溶離させる観点からは、向流とすることが好ましい。
薬品再生処理16の頻度は特に限定されず、超純水に求める水質に応じて決定することができる。例えば、超純水の比抵抗を経時的に測定し、比抵抗が一定値に達した時点で、薬品再生処理16を実施しても良いし、超純水中のシリカ濃度を経時的に測定し、シリカ濃度が一定値に達した時点で薬品再生処理16を実施しても良い。また、経験的に導き出されたイオン交換処理12、13の合計期間や、処理水量を基準として薬品再生処理16を実施しても良い。
また、前段再生型イオン交換装置122a、122b、後段再生型イオン交換装置126a、126b、CP146a、146bのいずれにおいても、薬品再生処理16の実施に至る前に、ホウ素破過が近づいた場合には、再度の温水再生処理を行うことができる。
薬品再生処理16における再生液の通液方向は特に限定されないが、イオン交換処理13の通水方向と同じ方向であっても良いし、向流であっても良い。再生液の通液量を低減し、より効率的に再生する観点からは、向流とすることが好ましい。
再生液は、アニオン交換樹脂に吸着したホウ素を溶離できる塩基性水溶液であれば特に限定されず、中でも、取り扱いの容易性から、水酸化ナトリウム水溶液を用いることが好ましい。再生液の濃度は特に限定されないが、例えば水酸化ナトリウム水溶液であれば、2〜10質量%の範囲で設定することが好ましい。2質量%未満であると、再生液の使用量の増加という不都合があり、10質量%を超えるとイオン交換樹脂が膨潤収縮により破壊される等の不都合がある。
再生液の温度は被処理水よりも高い温度であれば特に限定されることはないが、40〜50℃であることが好ましい。
なお、強塩基性アニオン交換樹脂が、カチオン交換樹脂との混床型または複床型とされている場合には、酸性水溶液を併用して通液することができる。かかる通液により、カチオン交換樹脂に吸着したカチオン成分を溶離し、カチオン交換樹脂を再生できるためである。
上述の通り、本発明によれば、強塩基性アニオン交換樹脂への通水温度よりも高い温度の再生水を用いることで、強塩基性アニオン交換樹脂に吸着したホウ素を溶離できる。このため、超純水製造装置を既存の構成としたまま、新たなイオン交換樹脂塔を増設することなく、ホウ素を対象とした強塩基性アニオン交換樹脂の再生ができる。特に、再生水の温度を50℃以上とした場合には、より少量の再生水で、短持間に、効率的に再生を行うことができる。
また、温水再生処理と薬品再生処理とを組み合わせることで、薬品再生処理を既往の頻度としたまま、薬品使用量を増加させずに、早期に破過するホウ素を対象とした強塩基性アニオン交換樹脂の再生を行うことができる。この結果、ホウ素を高精度に除去することができ、超純水中のホウ素濃度を低減することができる。
さらに、本発明では、強塩基性アニオン交換樹脂に吸着しているホウ素の溶離に、薬品を使用しないため、CPがホウ素破過した場合に、薬剤を使用することなく、ホウ素を溶離し再生することができる。
加えて、温水再生処理で使用した再生水は充分に高純度であるため、ろ過水や純水製造用の原水として再利用したり、あるいは薬品再生処理における再生液の希釈水、前処理システムに用いられる活性炭の逆洗水として再利用することができる。
上述の実施形態では、前段再生型イオン交換ユニット122は2台の前段再生型イオン交換装置を備えているが、前段再生型イオン交換装置は1台であっても良いし、3台以上であっても良い。温水再生処理、薬品再生処理の間も超純水の製造を継続させる観点から、複数の前段再生型イオン交換装置を備え、適宜、切り替えられることが好ましい。
上述の実施形態では、後段再生型イオン交換ユニット126は2台の後段再生型イオン交換装置を備えているが、後段再生型イオン交換装置は1台であっても良いし、3台以上であっても良い。温水再生処理、薬品再生処理の間も超純水の製造を継続させる観点から、複数の後段再生型イオン交換装置を備え、適宜、切り替えられることが好ましい。
上述の実施形態では、CPユニット146は2台のCPを備えているが、CPは1台であっても良いし、3台以上であっても良い。温水再生処理、薬品再生処理の間も超純水の製造を継続させる観点から、複数のCPを備え、適宜、切り替えられることが好ましい。
以下、本発明について実施例を挙げて具体的に説明するが、実施例に限定されるものではない。
(測定方法)
<導電率・比抵抗>
比抵抗は、比抵抗計(873RS、FOXBORO社製)を用いて測定した。
<ホウ素濃度>
水中のホウ素濃度は、超純水用ホウ素分析系(DLM71000−01、SIEVERS社製)を用いて測定した。
<シリカ濃度>
水中のシリカ濃度は、分光光度計(U−3010、株式会社日立ハイテクノロジー製)を用い、モリブデン青吸光光度法により測定した。
(測定例1)
RO透過水のカチオン交換樹脂処理水(導電率:37μS/cm、シリカ濃度:250ppb、ホウ素濃度15ppb、20℃)を被処理水として、アニオン交換樹脂カラムに通水した。アニオン交換樹脂カラムは、アクリル樹脂製のカラム(直径:38mm)に強酸性カチオン交換樹脂(IRA402BL、ローム・アンド・ハース社製)を1.2L、層高1.4mで充填した。通水速度はSV=33とした。通水期間中、アニオン交換樹脂カラム出口水のサンプリングを行い、ホウ素、シリカ、比抵抗の測定を行った。その結果を図3に示す。なおSVとは、イオン交換樹脂の単位体積(L−R)に対して1時間に流通させる流量(L)であるL/L−R・h−1で表される空間速度である。
図3は、横軸に通水日数を取り、縦軸に比抵抗、ホウ素濃度、シリカ濃度を取った、通水日数とカラム出口の水質との関係を示すグラフである。図3中、凡例(a)は比抵抗を示し、凡例(b)はホウ素濃度を示し、凡例(c)はシリカ濃度を示す。
図3に示す通り、比抵抗(凡例(a))およびシリカ(凡例(c))は通水開始14日後に破過が生じたが、ホウ素(凡例(b))は通水開始10日後に破過が開始した。即ち、比抵抗あるいはシリカ濃度で管理しているイオン交換樹脂装置の運用方法をホウ素濃度での管理に置き換えると、およそ1.4倍の再生頻度増が示唆された。このことから、単にホウ素濃度での管理に置き換えて薬品再生を行うと、薬品の消費量が著しく増加することが明らかである。
(実施例1)
PFA(テトラフルオロエチレン・パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体)製のカラム(直径:25mm)に、強塩基性アニオン交換樹脂(IRA402BL、ローム・アンド・ハース社製)23℃において5ppbホウ素水溶液と平衡状態にある強塩基性アニオン交換樹脂(IRA−402BL、ローム・アンド・ハース社製)を300mL、層高60cmで充填してアニオン交換樹脂塔を得た。前記アニオン交換樹脂塔に、23℃の5ppbホウ素水溶液を下降流で通水し、カラム入口とカラム出口でのホウ素濃度が等しくなった時点で通水を終了し、模擬ホウ素破過樹脂カラムを調製した。上記カラムに再生水として、50℃の超純水(比抵抗18.2MΩ・cm(25℃)、ホウ素濃度5ppt以下)をSV=80で下降流で通水した。カラム出口水を冷却した後、超純水用ホウ素分析系(DLM71000−01、SIEVERS社製)にて測定した。その結果を図4に示す。
(比較例1)
再生水として通水させた超純水の温度を23℃とした以外は実施例1と同様の方法でカラムに通水した。カラム出口水のホウ素濃度を測定し、その結果を図4に示す。
図4は、横軸にBV(アニオン交換樹脂体積量に対する再生水の体積倍)を取り、縦軸にアニオン交換樹脂塔出口のホウ素濃度を取った、ホウ素溶離と通水量との関係を表すグラフである。図4中、凡例(d)は実施例1を示し、凡例(e)は比較例1を示す。
実施例1は、BV=1800で再生が完了したのに対し、比較例1では、BV=5000で再生が完了した。このことから、被処理水の温度よりも高い温度の水で再生した場合には、極めて少ない再生水の量、即ち、短時間でアニオン交換樹脂の再生が行えることが判った。さらに、再生水の温度を上げれば、さらなる再生時間の短縮が図れる。
本発明の超純水の製造方法を実施する超純水製造装置の一例を示す模式図である。 本発明の超純水の製造方法における強塩基性アニオン交換樹脂の処理の一例を示すフロー図である。 試験例1の結果を示すグラフである。 実施例1と比較例1との結果を示すグラフである。 従来の超純水製造における再生頻度を説明するフロー図である。 従来の超純水製造におけるホウ素低減を目的とした再生頻度を説明するフロー図である。
符号の説明
12、13 イオン交換処理
14 温水再生処理

Claims (3)

  1. 強塩基性アニオン交換樹脂に被処理水を通水する工程と、前記強塩基性アニオン交換樹脂に前記被処理水よりも高い温度の水を通水する再生処理工程を有することを特徴とする、超純水の製造方法。
  2. 前記再生処理工程で通水する水は、強塩基性アニオン交換樹脂で処理済の水であることを特徴とする請求項1に記載の超純水の製造方法。
  3. 前記再生処理工程で通水する水の温度は、50℃以上であることを特徴とする請求項1または2に記載の超純水の製造方法。
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Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010234297A (ja) * 2009-03-31 2010-10-21 Kurita Water Ind Ltd イオン交換樹脂の再生方法及び超純水製造装置
JP2012183476A (ja) * 2011-03-04 2012-09-27 Toshiba Corp ホウ素吸着剤の再生方法
JP2014036924A (ja) * 2012-08-15 2014-02-27 Japan Organo Co Ltd アニオン交換樹脂の精製方法
JP2014064971A (ja) * 2012-09-25 2014-04-17 Japan Organo Co Ltd 過酢酸含有排水の処理装置および過酢酸含有排水の処理方法
JP2014121709A (ja) * 2014-03-31 2014-07-03 Kurita Water Ind Ltd イオン交換樹脂のホウ素汚染防止方法
JP2015167884A (ja) * 2014-03-05 2015-09-28 三浦工業株式会社 処理水製造装置
JP2016067975A (ja) * 2014-09-26 2016-05-09 三浦工業株式会社 水処理システム
JP2020069429A (ja) * 2018-10-31 2020-05-07 三菱ケミカルアクア・ソリューションズ株式会社 純水製造装置および純水製造方法
KR20200121279A (ko) 2018-02-20 2020-10-23 쿠리타 고교 가부시키가이샤 붕소의 제거 방법, 및 순수 또는 초순수의 제조 방법
JP7462529B2 (ja) 2020-10-08 2024-04-05 オルガノ株式会社 水処理システムおよび水処理方法

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105618164A (zh) * 2016-03-30 2016-06-01 伊犁川宁生物技术有限公司 一种脱色树脂的再生方法

Citations (27)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5097579A (ja) * 1973-12-27 1975-08-02
JPS55430A (en) * 1978-06-19 1980-01-05 Mitsubishi Heavy Ind Ltd Method and apparatus for processing radioactive liquid waste
JPS58174241A (ja) * 1982-04-08 1983-10-13 Japan Organo Co Ltd 硼素選択性イオン交換樹脂の再生方法
JPS60102947A (ja) * 1983-11-11 1985-06-07 Mitsubishi Chem Ind Ltd ホウ素同位体の分離濃縮方法
JPS60102946A (ja) * 1983-11-11 1985-06-07 Mitsubishi Chem Ind Ltd ホウ素同位体の分離方法
JPS6242748A (ja) * 1985-08-14 1987-02-24 Mitsui Toatsu Chem Inc イオン交換樹脂の再生方法
JPH0289956A (ja) * 1988-09-27 1990-03-29 Matsushita Electric Ind Co Ltd 風呂装置
JPH0615263A (ja) * 1992-07-01 1994-01-25 Japan Organo Co Ltd 超純水製造装置
JPH0780454A (ja) * 1993-09-17 1995-03-28 Miura Kenkyusho:Kk 熱再生型イオン交換樹脂を用いた水処理方法
JPH0884986A (ja) * 1994-07-22 1996-04-02 Japan Organo Co Ltd 純水又は超純水の製造方法及び製造装置
JPH0889956A (ja) * 1994-09-20 1996-04-09 Daikin Ind Ltd 超純水製造装置
JPH08238478A (ja) * 1995-03-02 1996-09-17 Japan Organo Co Ltd ほう素を除去した純水又は超純水の製造方法及び装置
JPH09192661A (ja) * 1996-01-17 1997-07-29 Japan Organo Co Ltd 超純水製造装置
JPH10337485A (ja) * 1997-06-09 1998-12-22 Kurita Water Ind Ltd アニオン交換樹脂の再生方法
JP2000301145A (ja) * 1999-04-20 2000-10-31 Kurita Water Ind Ltd 純水製造装置
JP2001017866A (ja) * 1999-07-07 2001-01-23 Kurita Water Ind Ltd ホウ素選択吸着樹脂の調整方法
JP2001145879A (ja) * 1999-11-19 2001-05-29 Kurita Water Ind Ltd 純水製造装置
JP2001219163A (ja) * 2000-02-07 2001-08-14 Kurita Water Ind Ltd ホウ素含有水の処理方法
JP2002102719A (ja) * 2000-07-28 2002-04-09 Mitsubishi Chemicals Corp 混床式イオン交換樹脂床及びこれに用いるアニオン交換樹脂
JP2002126543A (ja) * 2000-10-27 2002-05-08 Showa Engineering Co Ltd イオン含有水の処理方法
JP2002233869A (ja) * 2001-02-08 2002-08-20 Nippon Denko Kk 再生処理されたホウ素吸着用イオン交換塔及びその管理方法
JP2002361247A (ja) * 2001-06-11 2002-12-17 Kurita Water Ind Ltd 純水製造方法
JP2003080086A (ja) * 2001-09-13 2003-03-18 Nippon Rensui Co Ltd 向流再生式イオン交換装置
JP2003080245A (ja) * 2001-09-13 2003-03-18 Nippon Rensui Co Ltd 純水製造装置
JP2004041915A (ja) * 2002-07-11 2004-02-12 Mitsubishi Chemicals Corp 塩基性陰イオン交換樹脂の精製方法
JP2004231816A (ja) * 2003-01-31 2004-08-19 Univ Nihon 熱再生アニオン吸着樹脂
JP2007313506A (ja) * 2007-07-25 2007-12-06 Mitsubishi Chemicals Corp 塩基性陰イオン交換樹脂の精製方法

Patent Citations (27)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5097579A (ja) * 1973-12-27 1975-08-02
JPS55430A (en) * 1978-06-19 1980-01-05 Mitsubishi Heavy Ind Ltd Method and apparatus for processing radioactive liquid waste
JPS58174241A (ja) * 1982-04-08 1983-10-13 Japan Organo Co Ltd 硼素選択性イオン交換樹脂の再生方法
JPS60102947A (ja) * 1983-11-11 1985-06-07 Mitsubishi Chem Ind Ltd ホウ素同位体の分離濃縮方法
JPS60102946A (ja) * 1983-11-11 1985-06-07 Mitsubishi Chem Ind Ltd ホウ素同位体の分離方法
JPS6242748A (ja) * 1985-08-14 1987-02-24 Mitsui Toatsu Chem Inc イオン交換樹脂の再生方法
JPH0289956A (ja) * 1988-09-27 1990-03-29 Matsushita Electric Ind Co Ltd 風呂装置
JPH0615263A (ja) * 1992-07-01 1994-01-25 Japan Organo Co Ltd 超純水製造装置
JPH0780454A (ja) * 1993-09-17 1995-03-28 Miura Kenkyusho:Kk 熱再生型イオン交換樹脂を用いた水処理方法
JPH0884986A (ja) * 1994-07-22 1996-04-02 Japan Organo Co Ltd 純水又は超純水の製造方法及び製造装置
JPH0889956A (ja) * 1994-09-20 1996-04-09 Daikin Ind Ltd 超純水製造装置
JPH08238478A (ja) * 1995-03-02 1996-09-17 Japan Organo Co Ltd ほう素を除去した純水又は超純水の製造方法及び装置
JPH09192661A (ja) * 1996-01-17 1997-07-29 Japan Organo Co Ltd 超純水製造装置
JPH10337485A (ja) * 1997-06-09 1998-12-22 Kurita Water Ind Ltd アニオン交換樹脂の再生方法
JP2000301145A (ja) * 1999-04-20 2000-10-31 Kurita Water Ind Ltd 純水製造装置
JP2001017866A (ja) * 1999-07-07 2001-01-23 Kurita Water Ind Ltd ホウ素選択吸着樹脂の調整方法
JP2001145879A (ja) * 1999-11-19 2001-05-29 Kurita Water Ind Ltd 純水製造装置
JP2001219163A (ja) * 2000-02-07 2001-08-14 Kurita Water Ind Ltd ホウ素含有水の処理方法
JP2002102719A (ja) * 2000-07-28 2002-04-09 Mitsubishi Chemicals Corp 混床式イオン交換樹脂床及びこれに用いるアニオン交換樹脂
JP2002126543A (ja) * 2000-10-27 2002-05-08 Showa Engineering Co Ltd イオン含有水の処理方法
JP2002233869A (ja) * 2001-02-08 2002-08-20 Nippon Denko Kk 再生処理されたホウ素吸着用イオン交換塔及びその管理方法
JP2002361247A (ja) * 2001-06-11 2002-12-17 Kurita Water Ind Ltd 純水製造方法
JP2003080086A (ja) * 2001-09-13 2003-03-18 Nippon Rensui Co Ltd 向流再生式イオン交換装置
JP2003080245A (ja) * 2001-09-13 2003-03-18 Nippon Rensui Co Ltd 純水製造装置
JP2004041915A (ja) * 2002-07-11 2004-02-12 Mitsubishi Chemicals Corp 塩基性陰イオン交換樹脂の精製方法
JP2004231816A (ja) * 2003-01-31 2004-08-19 Univ Nihon 熱再生アニオン吸着樹脂
JP2007313506A (ja) * 2007-07-25 2007-12-06 Mitsubishi Chemicals Corp 塩基性陰イオン交換樹脂の精製方法

Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010234297A (ja) * 2009-03-31 2010-10-21 Kurita Water Ind Ltd イオン交換樹脂の再生方法及び超純水製造装置
JP2012183476A (ja) * 2011-03-04 2012-09-27 Toshiba Corp ホウ素吸着剤の再生方法
US8680164B2 (en) 2011-03-04 2014-03-25 Kabushiki Kaisha Toshiba Method for recovering a boron adsorbent
JP2014036924A (ja) * 2012-08-15 2014-02-27 Japan Organo Co Ltd アニオン交換樹脂の精製方法
JP2014064971A (ja) * 2012-09-25 2014-04-17 Japan Organo Co Ltd 過酢酸含有排水の処理装置および過酢酸含有排水の処理方法
JP2015167884A (ja) * 2014-03-05 2015-09-28 三浦工業株式会社 処理水製造装置
JP2014121709A (ja) * 2014-03-31 2014-07-03 Kurita Water Ind Ltd イオン交換樹脂のホウ素汚染防止方法
JP2016067975A (ja) * 2014-09-26 2016-05-09 三浦工業株式会社 水処理システム
KR20200121279A (ko) 2018-02-20 2020-10-23 쿠리타 고교 가부시키가이샤 붕소의 제거 방법, 및 순수 또는 초순수의 제조 방법
JP2020069429A (ja) * 2018-10-31 2020-05-07 三菱ケミカルアクア・ソリューションズ株式会社 純水製造装置および純水製造方法
JP7197325B2 (ja) 2018-10-31 2022-12-27 三菱ケミカルアクア・ソリューションズ株式会社 純水製造装置および純水製造方法
JP7462529B2 (ja) 2020-10-08 2024-04-05 オルガノ株式会社 水処理システムおよび水処理方法

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