JP2009206009A - 発光装置、発光装置の貸し出し状態を管理するためのサーバ装置、および発光装置の再生産方法 - Google Patents
発光装置、発光装置の貸し出し状態を管理するためのサーバ装置、および発光装置の再生産方法 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】発光装置は、透光性の基材1と、透明電極層12bと、有機物層OLと、陰極層12gと、封止部110とを有している。透明陽極層12bは、基材1上に設けられている。有機物層OLは、透明陽極層12b上に設けられ、電界が印加されることにより発光することができる。陰極層12gは、有機物層OL上に設けられている。封止部110は、有機物層OLと陰極層12gとを含む領域を気密に封止するように、基材1に着脱可能に固定されている。
【選択図】図2
Description
(実施の形態1)
はじめに本実施の形態の発光装置の構成について説明する。図1および図2のそれぞれは、本発明の実施の形態1における発光装置の構成を概略的に示す外観図および断面図である。
上述したように、発光装置の電極112aと電極112bとの間に電圧が印加されることで、発光装置から発光が生じる。有機物層OLは、発光時間の経過により徐々に劣化していく。この劣化にともない、発光装置の輝度が低下していく。輝度が初期値の70%まで低下した時点を寿命時間と定義すると、この寿命時間は、たとえば4000時間である。寿命に到達した発光装置は、回収された後、以下に説明する発光装置の再生産に供される。
有機物層OLの除去後、排出口233から炭化水素系洗浄溶剤35が排出される。非塩素系有機溶剤導入口336から円筒管1内に非塩素系洗浄溶剤が導入されることで、円筒管1内に付着している炭化水素系洗浄溶剤35が洗い流される。この非塩素系洗浄溶剤は、たとえば住友スリーエム株式会社製「ノベック」(商標)HFE−7100、または旭硝子株式会社製「アサヒクリン」(商標)AE−3000である。次に純水導入口334から円筒管1内に純水が導入されることで、さらに洗浄が行なわれる。次に円筒管1内に加熱された窒素が導入されることで、円筒管1内が乾燥される。
再び図2を参照して、不活性ガス雰囲気中で、一時的に保管されていた封止部110と、配線113a、113bと、乾燥剤127とが、再び円筒管1に取り付けられる。封止部110は、Oリング124を有しているので、容易に円筒管1に取り付けることができる。
本実施の形態によれば、封止部110が円筒管1に着脱可能に固定されているので、封止部110は、取り外された後に再度取り付けられることができる。よって、有機物層OLが劣化した発光装置の封止部110が取り外され、有機物層OLおよび陰極層12gが新たにされ、そして封止部110が再度取り付けられることで、発光装置を再生産することができる。これにより、装置の一部が廃棄されずに部品として再利用されるので、廃棄物の量を抑制することができる。また発光装置の一部が形状を保ったまま再利用されるので、装置全体が材料段階から再度形成される場合に比して、装置を生産するためのコストを抑制することができる。
本実施の形態の発光装置の再生産方法では、実施の形態1における陰極層12gのウェットエッチング工程(図4)および有機物層OLのウェットエッチング工程(図5)のそれぞれに代わり、陰極層12gのプラズマエッチング工程および有機物層OLのプラズマアッシング工程が行なわれる。以下にこの工程について説明する。図8および図9は、本発明の実施の形態2における発光装置の再生産方法の第1および第2工程を順に示す概略的な断面図である。
はじめに本実施の形態の発光装置の構成について説明する。本実施の形態の発光装置の形状は、実施の形態1および2における管形状に代わり、平板形状を有している。図10は、本発明の実施の形態3における発光装置の構成を概略的に示す断面図である。
有機物層OLPの除去後、排出口233から炭化水素系洗浄溶剤35が排出される。非塩素系有機溶剤導入口336から容器629内に非塩素系洗浄溶剤が導入されることで、基板1P内に付着している炭化水素系洗浄溶剤35が洗い流される。次に純水導入口334から容器629内に純水が導入されることで、さらに洗浄が行なわれる。次に容器629内に加熱された窒素が導入されることで、基板1Pが乾燥される。
本実施の形態の発光装置の再生産方法では、実施の形態3における陰極層12Pgのウェットエッチング工程(図11)および有機物層OLPのウェットエッチング工程(図12)のそれぞれに代わり、陰極層12Pgのプラズマエッチング工程および有機物層OLPのプラズマアッシング工程が行なわれる。以下にこの工程について説明する。図13および図14は、本発明の実施の形態4における発光装置の再生産方法の第1および第2工程を順に示す概略的な断面図である。
<全体構成>
まず、本実施の形態に係る貸し出し管理システム40の全体構成について説明する。図15は、本実施の形態に係る貸し出し管理システム40の全体構成を示す概略図である。本実施の形態に係る貸し出し管理システム40を利用すると、上記実施の形態1〜4に記載の発光装置の貸し出し状態を管理することができる。
<サーバ装置50>
図16は、本実施の形態に係るサーバ装置50のハードウェア構成を示す制御ブロック図である。図16に示すように、コンピュータ本体51は、相互に内部バス58で接続されたCPU(Central Processing Unit)55と、メモリ56と、固定ディスク57と、通信インターフェイス59と、FD(Flexible Disk)駆動装置61と、CD−ROM(Compact Disk-Read Only Memory)駆動装置63とを含む。FD駆動装置61にはFD62が装着される。CD−ROM駆動装置63にはCD−ROM64が装着される。そして、コンピュータ本体51には、モニタ52、キーボード53、マウス54、バーコードリーダ65などが接続されている。
次に、本実施の形態に係る貸し出し管理システム40が有する各機能について説明する。図17は、本実施の形態に係る貸し出し管理システム40の機能構成を示す機能ブロック図である。
図17に示すように、本実施の形態に係るサーバ装置50は、貸し出しデータベース57−1と、在庫データベース57−2と、耐久データベース57−3と、サーバ制御部55−1と、サーバ送受信部59−1と、サーバ表示部52−1と、サーバ操作部53−1と、サーバ読取部65−1と、サーバ印刷部67−1とを有する。
図17に戻って、本実施の形態に係る端末装置80は、端末送受信部89−1と、端末制御部85−1と、端末操作部83−1と、端末表示部82−1と、端末読取部95−1と、端末印刷部97−1とを含む。
次に、本実施の形態に係る貸し出し管理システム40における貸し出し処理について説明する。図23は、本実施の形態に係る貸し出し管理システム40における貸し出し処理を示すシーケンス図である。
次に、本実施の形態に係るサーバ装置50における貸し出し受付処理について説明する。図24は、本実施の形態に係るサーバ装置50における貸し出し受付処理の処理手順を示すフローチャートである。
次に、本実施の形態に係るサーバ装置50における在庫データベース更新処理について説明する。図25は、本実施の形態に係るサーバ装置50における在庫データベース更新処理の処理手順を示すフローチャートである。
適正在庫数=製造個数の累積数×適正在庫率・・・(数1)
また、CPU55は、製造個数の累積数と在庫率に基づいて在庫データベース57−2の在庫率を更新する(ステップS306)。より詳細には、CPU55は、下記の式に基づいて在庫率を更新する。
在庫率=在庫数/製造個数の累積数・・・(数2)
また、CPU55は、適正在庫数と在庫数に基づいて在庫データベース57−2の不足数を更新する(ステップS308)。より詳細には、CPU55は、下記の式に基づいて在庫率を更新する。
不足数=適正在庫数−在庫数・・・(数3)
このように、本実施のサーバ装置50は製造個数の累積数が変更された際に即座に不足数を計算するので、サーバ装置50の管理者は製造個数の累積数が変更された際に即座に不足数を把握できる。なお、製造個数の累積数が変更された場合について説明を行ったが、サーバ装置50のCPU55は、貸し出し数や在庫数や適正在庫率などが変更された場合についても上記同様の処理を行なうため、ここでは説明を繰り返さない。
次に、本実施の形態に係るサーバ装置50における在庫管理処理(ステップS206)について説明する。図26は、本実施の形態に係るサーバ装置50における在庫管理処理(ステップS206)の処理手順を示すフローチャートである。
次に、本実施の形態に係るサーバ装置50における寿命表示処理について説明する。図27は、本実施の形態に係るサーバ装置50における寿命表示処理の処理手順を示すフローチャートである。
本発明は、システム或いは装置にプログラムを供給することによって達成される場合にも適用できることはいうまでもない。そして、本発明を達成するためのソフトウェアによって表されるプログラムを格納した記憶媒体を、システム或いは装置に供給し、そのシステム或いは装置のコンピュータ(又はCPUやMPU)が記憶媒体に格納されたプログラムコードを読出し実行することによっても、本発明の効果を享受することが可能となる。
Claims (11)
- 透光性を有する基材と、
前記基材上に設けられ、透光性を有する第1電極層と、
前記第1電極層上に設けられ、電界が印加されることにより発光することができる有機物層と、
前記有機物層上に設けられた第2電極層と、
前記有機物層と前記第2電極層とを含む領域を気密に封止するように、前記基材に着脱可能に固定された封止部とを備えた、発光装置。 - 前記第1電極層は導電性の酸化物層を含む、請求項1に記載の発光装置。
- 前記基材は管形状を有する、請求項1または2に記載の発光装置。
- 前記基材は平板形状を有する、請求項1または2に記載の発光装置。
- 請求項1〜4のいずれか1項に記載の複数種類の発光装置の貸し出し状態を管理するためのサーバ装置であって、
少なくとも1つの端末装置とネットワークを介して接続可能な送受信部と、
貸し出し単価を発光装置の種類に対応付けて格納する第1のデータベースと、
前記端末装置からの発光装置の種類と貸し出し期間とを含む貸し出し要求を受け付けて、前記第1のデータベースを参照して貸し出し料金を算出し、前記貸し出し料金を前記端末装置へ返信する制御部とを備える、サーバ装置。 - 前記発光装置の種類毎に、貸し出し可能総数と、貸し出し数と、前記貸し出し可能総数から前記貸し出し数を減じた在庫数と、所定の適正在庫数と、前記適正在庫数から前記在庫数を減じた不足数とを格納する第2のデータベースをさらに備え、
前記制御部は、前記製造個数と前記貸し出し数と前記在庫数の少なくともいずれかの変更命令を受け付けて、当該変更命令に基づいて前記第2のデータベースを更新する、請求項5に記載のサーバ装置。 - 前記第1のデータベースは、前記発光装置毎に貸し出し期間と発光装置の種類とを格納し、
前記制御部は、
前記第1のデータベースを参照して、前記発光装置毎の貸し出し合計期間を計算し、
前記発光装置毎の貸し出し合計期間に基づいて、前記発光装置の種類毎の貸し出し合計期間の度数分布を計算し、
前記発光装置の種類毎の貸し出し合計期間の度数分布を格納する第3のデータベースをさらに備える、請求項5または6に記載のサーバ装置。 - 透光性を有する基材と、前記基材上に設けられ、透光性を有する第1電極層と、前記第1電極層上に設けられ、電界が印加されることにより発光することができる有機物層と、前記有機物層上に設けられた第2電極層と、前記有機物層と前記第2電極層とを含む領域を気密に封止するように、前記基材に着脱可能に固定された封止部とを備えた発光装置の再生産方法であって、
前記封止部を取り外す工程と、
前記封止部を取り外す工程の後に、前記第2電極層を除去する工程と、
前記第2電極層を除去する工程の後に、前記有機物層を除去する工程とを備えた、発光装置の再生産方法。 - 前記第2電極層は金属層を含み、
前記第2電極層を除去する工程は、酸溶液で前記第2電極層をエッチングする工程と、有機ガス系プラズマおよびハロゲン系プラズマの少なくともいずれかで前記第2電極層をエッチングする工程との少なくともいずれかを含む、請求項8に記載の発光装置の再生産方法。 - 前記第1電極層は酸化物層を含み、
前記有機物層を除去する工程は、炭化水素系溶剤および高温純水の少なくともいずれかで前記有機物層をエッチングする工程と、酸素プラズマで前記有機物層をアッシングする工程との少なくともいずれかを含む、請求項8または9に記載の発光装置の再生産方法。 - 前記有機物層を除去する工程の後に、前記第1電極層の表面を研磨する工程をさらに備えた、請求項8〜10のいずれかに記載の発光装置の再生産方法。
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