JP2009196006A - Working waste fluid processing device - Google Patents
Working waste fluid processing device Download PDFInfo
- Publication number
- JP2009196006A JP2009196006A JP2008037694A JP2008037694A JP2009196006A JP 2009196006 A JP2009196006 A JP 2009196006A JP 2008037694 A JP2008037694 A JP 2008037694A JP 2008037694 A JP2008037694 A JP 2008037694A JP 2009196006 A JP2009196006 A JP 2009196006A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- waste liquid
- fresh water
- processing
- pure water
- filter
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000002699 waste material Substances 0.000 title claims abstract description 152
- 239000012530 fluid Substances 0.000 title abstract description 10
- 239000013505 freshwater Substances 0.000 claims abstract description 81
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 72
- 238000001914 filtration Methods 0.000 claims abstract description 51
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims abstract description 31
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 138
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 claims description 47
- 239000000470 constituent Substances 0.000 claims description 6
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 26
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 16
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 10
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 7
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 6
- NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenyl)benzene;1-ethenyl-2-ethylbenzene;styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1.CCC1=CC=CC=C1C=C.C=CC1=CC=CC=C1C=C NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000003456 ion exchange resin Substances 0.000 description 5
- 229920003303 ion-exchange polymer Polymers 0.000 description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 3
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 3
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 229910002601 GaN Inorganic materials 0.000 description 2
- -1 gallium nitride compound Chemical class 0.000 description 2
- 239000008213 purified water Substances 0.000 description 2
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P70/00—Climate change mitigation technologies in the production process for final industrial or consumer products
- Y02P70/10—Greenhouse gas [GHG] capture, material saving, heat recovery or other energy efficient measures, e.g. motor control, characterised by manufacturing processes, e.g. for rolling metal or metal working
Abstract
Description
本発明は、半導体ウエーハ等の被加工物を切削する切削装置等の加工装置に付設され、加工時に供給される加工液の廃液を処理する加工廃液液処理装置に関する。 The present invention relates to a processing waste liquid processing apparatus that is attached to a processing apparatus such as a cutting apparatus that cuts a workpiece such as a semiconductor wafer and processes a waste liquid of a processing liquid supplied during processing.
半導体デバイス製造工程においては、略円板形状である半導体ウエーハの表面に格子状に配列されたストリートと呼ばれる分割予定ラインによって複数の領域が区画され、この区画された領域にIC、LSI等のデバイスを形成する。そして、半導体ウエーハをストリートに沿って切断することによりデバイスが形成された領域を分割して個々の半導体デバイスを製造している。また、サファイヤ基板の表面に窒化ガリウム系化合物半導体等が積層された光デバイスウエーハもストリートに沿って切断することにより個々の発光ダイオード、レーザーダイオード等の光デバイスに分割され、電気機器に広く利用されている。 In the semiconductor device manufacturing process, a plurality of regions are partitioned by dividing lines called streets arranged in a lattice pattern on the surface of a substantially wafer-shaped semiconductor wafer, and devices such as ICs, LSIs, etc. are partitioned in the partitioned regions. Form. Then, the semiconductor wafer is cut along the streets to divide the region in which the device is formed to manufacture individual semiconductor devices. In addition, optical device wafers with gallium nitride compound semiconductors laminated on the surface of a sapphire substrate are also divided into individual optical devices such as light emitting diodes and laser diodes by cutting along the streets, and are widely used in electrical equipment. ing.
上述した半導体ウエーハや光デバイスウエーハ等のストリートに沿った切断は、通常、ダイサーと呼ばれる切削装置によって行われている。この切削装置は、半導体ウエーハ等の被加工物を保持するチャックテーブルと、該チャックテーブルに保持された被加工物を切削するための切削ブレードを備えた切削手段と、切削ブレードに加工水を供給する加工水供給手段を具備し、該加工水供給手段によって切削水を回転する切削ブレードに供給することにより切削ブレードを冷却するとともに、切削ブレードによる被加工物の切削部に加工水を供給しつつ切削作業を実施する。 Cutting along the streets of the above-described semiconductor wafer, optical device wafer or the like is usually performed by a cutting device called a dicer. This cutting apparatus includes a chuck table for holding a workpiece such as a semiconductor wafer, a cutting means having a cutting blade for cutting the workpiece held on the chuck table, and supplying processing water to the cutting blade. A cutting water supply means for cooling the cutting blade by supplying the cutting water to the cutting blade that rotates, and supplying the cutting water to the cutting portion of the workpiece by the cutting blade. Carry out cutting work.
上述したように切削時に供給された加工液にはシリコンや窒化ガリウム系化合物半導体を切削することによって発生する切削屑が混入される。この半導体素材からなる切削屑が混入された加工廃液は環境を汚染することから、廃液処理装置を用いて切削屑を除去した後に、再利用したり廃棄している。(例えば、特許文献1参照。)
廃液処理装置は、加工装置の加工の際に供給された加工液が加工によって生成された加工廃液を収容する廃液収容タンクと、該廃液収容タンクに収容された加工廃液を送給するポンプと、該ポンプによって送給された加工廃液を濾過して清水にするフィルターおよび該フィルターを支持する清水受けパンを備えた廃液濾過手段と、該廃液濾過手段によって精製された清水を貯水する清水貯水タンクと、該清水貯水タンクに貯水された清水を送給する清水送給ポンプと、該清水送給ポンプによって送給された清水を純水に精製するイオン交換手段を含む純水生成手段と、該純水生成手段によって精製された純水を所定の温度に調整する純水温度調整手段と、上記各構成手段を制御する制御手段と、該制御手段に処理情報等を入力する入力手段および制御手段による作動状況等を表示する表示手段と具備する操作盤とを具備しており、これらの各構成手段は装置ハウジング内に配置される。
しかるに、加工廃液を濾過して清水にする廃液濾過手段のフィルターは加工屑等が堆積してフィルターとしての機能が失われると交換する必要があり、従って、フィルターを容易に交換できることが望ましい。
The waste liquid treatment apparatus includes a waste liquid storage tank that stores the processing waste liquid generated by the processing liquid supplied during the processing of the processing apparatus, a pump that feeds the processing waste liquid stored in the waste liquid storage tank, A filter for filtering the processing waste liquid fed by the pump into fresh water, a waste liquid filtering means comprising a fresh water receiving pan that supports the filter, and a fresh water storage tank for storing fresh water purified by the waste liquid filtering means; A pure water feed pump for feeding the fresh water stored in the fresh water storage tank; a pure water generating means including an ion exchange means for purifying the fresh water fed by the fresh water feed pump into pure water; Pure water temperature adjusting means for adjusting the pure water purified by the water generating means to a predetermined temperature, control means for controlling each of the constituent means, and input means for inputting processing information and the like to the control means. And comprising a control panel comprising a display means for displaying the operating state or the like by the fine control means, each of these configuration means is disposed within the apparatus housing.
However, it is necessary to replace the filter of the waste liquid filtering means for filtering the processing waste liquid to obtain fresh water when the processing waste or the like accumulates and the filter function is lost. Therefore, it is desirable that the filter can be easily replaced.
本発明は上記事実に鑑みてなされたものであり、その主たる技術課題は、加工廃液を濾過して清水に精製する廃液濾過手段のフィルターを容易に交換することができる廃液処理装置を提供することにある。 The present invention has been made in view of the above-mentioned facts, and a main technical problem thereof is to provide a waste liquid treatment apparatus that can easily replace a filter of waste liquid filtering means for filtering processing waste liquid and purifying it into fresh water. It is in.
上記主たる技術課題を解決するため、本発明によれば、加工装置の加工の際に供給された加工液が加工によって生成された加工廃液を収容する廃液収容タンクと、該廃液収容タンクに収容された加工廃液を送給する廃液送給ポンプと、該廃液送給ポンプによって送給された加工廃液を濾過して清水に精製するフィルターおよび該フィルターを着脱可能に支持する清水受けパンを備えた廃液濾過手段と、該廃液濾過手段によって精製された清水を貯水する清水貯水タンクと、該清水貯水タンクに貯水された清水を送給する清水送給ポンプと、該清水送給ポンプによって送給された清水を純水に精製するイオン交換手段を含む純水生成手段と、該純水生成手段によって精製された純水を所定の温度に調整する純水温度調整手段と、上記各構成手段を制御する制御手段と、該制御手段に処理情報を入力する入力手段および該制御手段による作動状況等を表示する表示手段とを具備する操作盤と、上記各構成手段を収容する装置ハウジングと、を具備する加工廃液処理装置において、
該装置ハウジングは、底壁と上壁と左側壁と右側壁と後壁および前側開口を具備しており、
該廃液濾過手段は、該前側開口側に配置され、該前側開口を通して引き出し可能に構成されている、
ことを特徴とする加工廃液処理装置が提供される。
In order to solve the above main technical problem, according to the present invention, the processing liquid supplied at the time of processing by the processing apparatus is stored in the waste liquid storage tank that stores the processing waste liquid generated by the processing, and the waste liquid storage tank. Waste liquid feed pump that feeds the processed waste liquid, a filter that filters the process waste liquid fed by the waste liquid feed pump to purify it into fresh water, and a fresh water receiving pan that detachably supports the filter A fresh water storage tank for storing fresh water purified by the waste liquid filtration means, a fresh water feed pump for feeding fresh water stored in the fresh water storage tank, and a fresh water feed pump. Pure water generating means including ion exchange means for purifying clean water into pure water, pure water temperature adjusting means for adjusting pure water purified by the pure water generating means to a predetermined temperature, and each of the above-mentioned constituent means An operation panel including control means for controlling, input means for inputting processing information to the control means, and display means for displaying an operation status or the like by the control means, and an apparatus housing for housing the constituent means. In the processing waste liquid treatment equipment provided,
The device housing includes a bottom wall, an upper wall, a left side wall, a right side wall, a rear wall, and a front side opening,
The waste liquid filtering means is arranged on the front opening side and configured to be drawable through the front opening.
A processing waste liquid treatment apparatus is provided.
上記装置ハウジングの左側壁と右側壁の内面には前後方向に延びるガイドレールが配設されており、該ガイドレール上に上記廃液濾過手段の清水受けパンが引き出し可能に載置される。
また、上記清水貯水タンクは上記廃液濾過手段の下側に配置され、廃液濾過手段の清水受けパンと清水貯水タンクがフレキシブルホースによって接続されており、廃液濾過手段の後壁側にはフレキシブルホースが自重により下方に湾曲するのを防止しフレキシブルホースを清水受けパン側が常に高い位置に位置付けられるように維持するホース支持板が配設されていることが望ましい。
Guide rails extending in the front-rear direction are disposed on the inner surfaces of the left and right side walls of the apparatus housing, and a fresh water receiving pan of the waste liquid filtering means is placed on the guide rails so that it can be pulled out.
The fresh water storage tank is disposed below the waste liquid filtering means, the fresh water receiving pan of the waste liquid filtering means and the fresh water storage tank are connected by a flexible hose, and a flexible hose is provided on the rear wall side of the waste liquid filtering means. It is desirable that a hose support plate is provided that prevents the flexible hose from being bent downward by its own weight and maintains the flexible hose so that the fresh water receiving pan side is always positioned at a high position.
本発明による加工廃液処理装置においては、廃液濾過手段は装置ハウジングの前側開口側に配置され、該前側開口を通して引き出し可能に構成されているので、廃液濾過手段を前側開口を通して引き出すことにより、廃液濾過手段を構成する清水受けパンに着脱可能に支持されたフィルターの交換が容易となる。 In the processing waste liquid treatment apparatus according to the present invention, the waste liquid filtering means is arranged on the front opening side of the apparatus housing and is configured to be drawable through the front opening, so that the waste liquid filtration means can be obtained by pulling out the waste liquid filtering means through the front opening. It becomes easy to replace the filter supported detachably on the fresh water receiving pan constituting the means.
以下、本発明に従って構成された加工廃液処理装置の好適な実施形態について、添付図面を参照して詳細に説明する。 DESCRIPTION OF EMBODIMENTS Hereinafter, preferred embodiments of a processing waste liquid treatment apparatus configured according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
図1には本発明に従って構成された加工廃液処理装置の構成要素が加工廃液の流れに従って示されている。
図示の実施形態における加工廃液処理装置は、加工廃液を収容する廃液タンク2と、該廃液タンク2に収容された加工廃液を送給する廃液送給ポンプ3を具備している。廃液タンク2は、図示しない切削装置等の加工装置に装備される加工廃液送出手段に配管20によって接続される。従って、廃液タンク2には図示しない切削装置等の加工装置に装備される加工廃液送出手段から送られる加工廃液が配管20を介して導入される。この廃液タンク2の上壁に加工廃液を送給する廃液送給ポンプ3が配設されている。
FIG. 1 shows components of a processing waste liquid treatment apparatus constructed according to the present invention in accordance with the flow of processing waste liquid.
The processing waste liquid processing apparatus in the illustrated embodiment includes a
上記廃液送給ポンプ3によって送給される加工廃液は、フレキシブルホースからなる配管30を介して廃液濾過手段4に送られる。廃液濾過手段4は、清水受けパン41と、該清水受けパン41上に配置される第1のフィルター42aおよび第2のフィルター42bを具備している。この第1のフィルター42aおよび第2のフィルター42bは、清水受けパン41上に着脱可能に配置される。なお、上記廃液送給ポンプ3と第1のフィルター42aおよび第2のフィルター42bとを接続する配管30には電磁開閉弁43aおよび電磁開閉弁43bが配設されている。電磁開閉弁43aが附勢(ON)して開路すると廃液送給ポンプ3によって送給された加工廃液が第1のフィルター42aに導入され、電磁開閉弁43bが附勢(ON)して開路すると廃液送給ポンプ3によって送給された加工廃液が第2のフィルター42bに導入されるようになっている。第1のフィルター42aおよび第2のフィルター42bに導入された加工廃液は、第1のフィルター42aおよび第2のフィルター42bによって濾過され加工廃液に混入している切削屑が捕捉されて清水に精製され清水受けパン41に流出する。この清水受けパン41はフレキシブルホースからなる配管44によって清水貯水タンク5に接続されており、従って清水受けパン41に流出した清水はフレキシブルホースからなる配管44を介して清水貯水タンク5に送られ貯留される。
The processing waste liquid fed by the waste
上記配管30には、廃液濾過手段4の第1のフィルター42aおよび第2のフィルター42bに送給される加工廃液の圧力を検出する圧力検出手段31が配設されており、この圧力検出手段31は検出信号を後述する制御手段に送る。例えば、上記電磁開閉弁43aを附勢(ON)して加工廃液を第1のフィルター42aによって濾過している状態において、圧力検出手段31からの検出信号が所定圧力値以上に達したならば、後述する制御手段は第1のフィルター42aに加工屑が堆積してフィルターとしての機能が失われたと判断し、電磁開閉弁43bを除勢(OFF)して、電磁開閉弁43bを附勢(ON)する。そして、後述する制御手段は、第1のフィルター42aから第2のフィルター42bに切り換えたことを後述する操作盤に設けられた表示手段に表示する。このように表示手段に表示されたメッセージに基いてオペレータは第1のフィルター42aが寿命に達したことを感知し、フィルターを交換することができる。また、上記電磁開閉弁43bを附勢(ON)して加工廃液を第2のフィルター42bによって濾過している状態において、圧力検出手段31からの検出信号が所定圧力値以上に達したならば、後述する制御手段は第2のフィルター42bに加工屑が堆積してフィルターとしての機能が失われたと判断し、電磁開閉弁43bを除勢(OFF)して、電磁開閉弁43aを附勢(ON)する。そして、後述する制御手段は、第2のフィルター42bから第1のフィルター42aに切り換えたことを後述する操作盤に設けられた表示手段に表示する。
The
上記廃液濾過手段4からフレキシブルホースからなる配管44を介して送られ清水貯水タンク5に貯留された清水は、清水送給ポンプ50によって送給されフレキシブルホースからなる配管51を介して純水生成手段6に送られる。図示の実施形態における純水生成手段6は、支持台61と、該支持台61に立設された仕切り板611と、支持台61における仕切り板611の後側に配置された紫外線照射手段62と、支持台61における仕切り板611の前側に配置されたイオン交換樹脂を備えた第1のイオン交換手段63aおよび第2のイオン交換手段63bと、支持台61における仕切り板611の後側に配置された精密フィルター64を具備している。この第1のイオン交換手段63aおよび第2のイオン交換手段63bと精密フィルター64は、支持台61上に着脱可能に配置される。上記清水送給ポンプ50によって送給されフレキシブルホースからなる配管51を介して送られた清水は、紫外線照射手段62に導入され、ここで紫外線(UV)が照射されることによって殺菌される。紫外線照射手段62において殺菌処理された清水は、配管65を介して第1のイオン交換手段63aまたは第2のイオン交換手段63bに導入される。なお、配管65には電磁開閉弁66aおよび電磁開閉弁66bが配設されている。電磁開閉弁66aが附勢(ON)して開路すると殺菌処理された清水が第1のイオン交換手段63aに導入され、電磁開閉弁66bが附勢(ON)して開路すると殺菌処理された清水が第2のイオン交換手段63bに導入されるようになっている。第1のイオン交換手段63aまたは第2のイオン交換手段63bに導入された清水は、イオンが交換されて純水に精製される。このようにして清水がイオン交換されて精製された純水には、第1のイオン交換手段63aおよび第2のイオン交換手段63bを構成するイオン交換樹脂の樹脂屑等の微細な物質が混入されている場合がある。このため、図示の実施形態においては上述したように第1のイオン交換手段63aおよび第2のイオン交換手段63bによって清水がイオン交換されて精製された純水を配管67を介して精密フィルター64に導入し、この精密フィルター64によって純水に混入されているイオン交換樹脂の樹脂屑等の微細な物質を捕捉する。
The fresh water sent from the waste liquid filtering means 4 through the
なお、上記配管67には、第1のイオン交換手段63aおよび第2のイオン交換手段63bから精密フィルター64に送給される純水の圧力を検出する圧力検出手段68が配設されており、この圧力検出手段68は検出信号を後述する制御手段に送る。例えば、圧力検出手段68からの検出信号が所定圧力値以上に達したならば、後述する制御手段は精密フィルター64に樹脂屑等の微細な物質が堆積してフィルターとしての機能が失われたと判断し、後述する操作盤に設けられた表示手段に表示する。このように表示手段に表示されたメッセージに基いてオペレータは精密フィルター64が寿命に達したことを感知し、フィルターを交換することができる。
The
また、上記配管67には、第1のイオン交換手段63aまたは第2のイオン交換手段63bから精密フィルター64に送給される純水の比抵抗を検出するための比抵抗計69が配設されており、この比抵抗計69は検出信号を後述する制御手段に送る。後述する制御手段は、上記電磁開閉弁66aを附勢(ON)して清水を第1のイオン交換手段63aによって純水に精製している状態において、比抵抗計69からの検出信号が所定値(例えば10MΩ・cm)以下に達したならば、後述する制御手段は第1のイオン交換手段63aによる純水精製能力が低下したと判断し、電磁開閉弁66aを除勢(OFF)して、電磁開閉弁66bを附勢(ON)する。そして、後述する制御手段は、第1のイオン交換手段63aから第2のイオン交換手段63bに切り換えたことを後述する操作盤に設けられた表示手段に表示する。このように表示手段に表示されたメッセージに基いてオペレータは第1のイオン交換手段63aが寿命に達したことを感知し、第1のイオン交換手段63aのイオン交換樹脂を交換することができる。また、上記電磁開閉弁66bを附勢(ON)して第2のイオン交換手段63bによって清水を純水に精製している状態において、比抵抗計69からの検出信号が所定値(例えば10MΩ・cm)以下に達したならば、後述する制御手段は第2のイオン交換手段63bによる純水精製能力が低下したと判断し、電磁開閉弁66bを除勢(OFF)して、電磁開閉弁66aを附勢(ON)する。そして、後述する制御手段は、第2のイオン交換手段63bから第1のイオン交換手段63aに切り換えたことを後述する操作盤に設けられた表示手段に表示する。
The
上記純水生成手段6によって精製された純水は、フレキシブルホースからなる配管60を介して純水温度調整手段7に送られる。純水温度調整手段7に送られた純水は、ここで所定温度(例えば23℃)に調整され配管70を介して図示しない切削装置等の加工装置に装備される加工液供給手段に循環せしめられる。
The pure water purified by the pure water generating means 6 is sent to the pure water temperature adjusting means 7 through a
上述した廃液タンク2、廃液濾過手段4、純水生成手段6、純水温度調整手段7および各配管等は、図2および図3に示す装置ハウジング10内に配置される。図2には装置ハウジング10の斜視図が示されており、図3には装置ハウジング10を構成する後述する各壁を透視し装置ハウジング10内に上記廃液タンク2、廃液濾過手段4、純水生成手段6、純水温度調整手段7および各配管等が配置された状態が示されている。図示の実施形態における装置ハウジング10は、直方体状の収容室を形成する枠体110と、該枠体110に装着される底壁121と上壁122と左側壁123と右側壁124と後壁125および枠体110の前側に装着され枠体110の前側に形成される前側開口101を開閉する開閉扉126とからなっている。
The
このように構成された装置ハウジング10の底壁121上には、上記廃液タンク2と清水貯水タンク5および純水生成手段6が配置される。廃液タンク2は装置ハウジング10の底壁121における後壁125側に配置され、清水貯水タンク5は廃液タンク2に隣接して底壁121の中央部に配置され、純水生成手段6は清水貯水タンク5に隣接して底壁121における前側開口101側(開閉扉126側)に配置される。
On the
上記純水生成手段6は、図示の実施形態においては装置ハウジング10の前側開口101を通して引き出し可能に配置されている。即ち、装置ハウジング10を構成する左側壁123と右側壁124の内面下端部には、互いに対向して配設され底壁121の上面と平行に前後方向に延びる一対のガイドレール130、130が配設されている。この一対のガイドレール130、130上に純水生成手段6の支持台61を載置することにより、純水生成手段6は一対のガイドレール130、130に沿って装置ハウジング10の前側開口101を通して引き出し可能に支持される。従って、図4に示すように純水生成手段6を一対のガイドレール130、130に沿って装置ハウジング10の前側開口101を通して引き出すことにより、純水生成手段6を構成する支持台61に配置された第1のイオン交換手段63aおよび第2のイオン交換手段63bと精密フィルター64の交換を容易に実施することができる。
In the illustrated embodiment, the pure water generating means 6 is arranged so as to be drawn out through the
図示の実施形態における加工廃液処理装置においては、装置ハウジング10内における上記純水生成手段6および清水貯水タンク5の上側に上記廃液濾過手段4が装置ハウジング10の前側開口101を通して引き出し可能に配置されている。即ち、装置ハウジング10を構成する左側壁123と右側壁124の内面中間部には、互いに対向して配設され上記底壁121の上面と平行(一対のガイドレール130、130と平行)に前後方向に延びる一対のガイドレール140、140が配設されている。この一対のガイドレール140、140上に廃液濾過手段4の清水受けパン41を載置することにより、廃液濾過手段4は一対のガイドレール140、140に沿って装置ハウジング10の前側開口101を通して引き出し可能に支持される。なお、廃液濾過手段4の引き出し操作を容易にするために、廃液濾過手段4を構成する清水受けパン41の前端には下方に突出する把手411が設けられている。従って、図5に示すように廃液濾過手段4を一対のガイドレール140、140に沿って装置ハウジング10の前側開口101を通して引き出すことにより、廃液濾過手段4を構成する清水受けパン41に着脱可能に配置された第1のフィルター42aおよび第2のフィルター42bの交換を容易に実施することができる。このように廃液濾過手段4が引き出し可能に配置されているために、廃液濾過手段4の清水受けパン41と上記清水貯水タンク5とを接続する配管はフレキシブルホースからなる配管44によって接続されている。
In the processing waste liquid treatment apparatus in the illustrated embodiment, the waste liquid filtering means 4 is disposed so as to be able to be drawn out through the
上述したように廃液濾過手段4の清水受けパン41と上記清水貯水タンク5とをフレキシブルホースからなる配管44によって接続することに関連して、装置ハウジング10における廃液濾過手段4の後壁125側にはフレキシブルホースからなる配管44を支持するホース支持板150が配設されている。このホース支持板150は、後壁125側に向けて高くなるように傾斜するとともに右側壁124側に向けて高くなるように傾斜する形状に構成されており、フレキシブルホースからなる配管44が自重により下方に湾曲するのを防止し、フレキシブルホースからなる配管44を清水受けパン41側が常に高い位置に位置付けられるように維持する。従って、清水受けパン41に流出した清水は、自重によりフレキシブルホースからなる配管44を通して清水貯水タンク5に流入することができる。
As described above, in connection with the connection between the fresh
図示の実施形態における加工廃液処理装置においては、装置ハウジング10内における上記ホース支持板150の上側に上記純水温度調整手段7が配置される。即ち、装置ハウジング10を構成する左側壁123と右側壁124に装着された図示しない支持部材上に純水温度調整手段7が載置され、適宜の固定手段によって固定される。
In the processing waste liquid treatment apparatus in the illustrated embodiment, the pure water temperature adjusting means 7 is disposed above the
図示の実施形態における加工廃液処理装置は、上記各構成手段の作動を制御する制御手段8と、該制御手段8に廃液処理開始情報等の処理情報を入力する操作盤9を具備している。この制御手段8と操作盤9は、図示の実施形態においては一体的に構成されている。このように構成された制御手段8および操作盤9は、装置ハウジング10における廃液濾過手段4の上側に配置される。即ち、装置ハウジング10を構成する左側壁123と右側壁124に装着された図示しない支持部材上に制御手段8と、該制御手段8および操作盤9が載置され、適宜の固定手段によって固定される。このとき、操作盤9が装置ハウジング10前側(開閉扉126側に配置されている側)に位置付けられる。なお、操作盤9には処理情報等を入力する入力手段91と、制御手段8による処理情報を表示する表示手段92等が配設されている。
The processing waste liquid treatment apparatus in the illustrated embodiment includes a control means 8 for controlling the operation of each of the above-described constituent means, and an
図示の実施形態における加工廃液処理装置は以上のように構成されており、オペレータが操作盤9から廃液処理開始情報を入力すると、制御手段8は上記各構成手段を制御して上述したように廃液処理作業を実行する。そして、上述した廃液処理作業を実行している際に制御手段8は、上述したように廃液濾過手段4の電磁開閉弁43aを除勢(OFF)して電磁開閉弁43bを附勢(ON)した場合または電磁開閉弁43bを除勢(OFF)して電磁開閉弁43a附勢(ON)した場合には、第1のフィルター42aから第2のフィルター42bまたは第2のフィルター42bから第1のフィルター42aに切り換えたことを操作盤9の表示手段92に表示する。このように表示手段92に表示されたメッセージに基いてオペレータは、第1のフィルター42aまたは第2のフィルター42bが寿命に達したことを感知し、装置ハウジング10の開閉扉126を開け、廃液濾過手段4を一対のガイドレール140、140に沿って装置ハウジング10の前側開口101を通して引き出す。このとき、オペレータは廃液濾過手段4を構成する清水受けパン41に設けられた把手411を把持して引き出す。そして、オペレータは、表示手段92に表示されたメッセージに従って第1のフィルター42aまたは第2のフィルター42bを交換する。
The processing waste liquid treatment apparatus in the illustrated embodiment is configured as described above, and when the operator inputs waste liquid treatment start information from the
また、上述した廃液処理作業を実行している際に制御手段8は、上記圧力検出手段68からの検出信号が所定圧力値以上に達したならば、精密フィルター64の機能が失われたと判断し、操作盤9の表示手段92に表示する。このように表示手段に表示されたメッセージに基いてオペレータは、精密フィルター64が寿命に達したことを感知し、装置ハウジング10の開閉扉126を開け、純水生成手段6を一対のガイドレール130、130に沿って装置ハウジング10の前側開口101を通して引き出す。このとき、オペレータは純水生成手段6を構成する支持台61に立設された仕切り板611に設けられた把手612を把持して引き出す。そして、オペレータは、表示手段92に表示されたメッセージに従って精密フィルター64を交換する。
Further, the control means 8 determines that the function of the
更に、上述した廃液処理作業を実行している際に制御手段8は、上記比抵抗計69からの検出信号が所定値(例えば10MΩ・cm)以下に達し、純水生成手段6の電磁開閉弁66aを除勢(OFF)して電磁開閉弁66bを附勢(ON)した場合または電磁開閉弁66bを除勢(OFF)して電磁開閉弁66aを附勢(ON)した場合には、第1のイオン交換手段63aから第2のイオン交換手段63bまたは第2のイオン交換手段63bから第1のイオン交換手段63aに切り換えたことを操作盤9の表示手段92に表示する。このように表示手段92に表示されたメッセージに基いてオペレータは、第1のイオン交換手段63aまたは第2のイオン交換手段63bが寿命に達したことを感知し、装置ハウジング10の開閉扉126を開け、純水生成手段6を一対のガイドレール130、130に沿って装置ハウジング10の前側開口101を通して引き出す。このとき、オペレータは上述したように純水生成手段6を構成する支持台61に立設された仕切り板611に設けられた把手612を把持して引き出す。そして、オペレータは、表示手段92に表示されたメッセージに従って第1のイオン交換手段63aまたは第2のイオン交換手段63bのイオン交換樹脂を交換する。
Furthermore, when the waste liquid treatment operation described above is being performed, the control means 8 detects that the detection signal from the
図示の実施形態における加工廃液処理装置は以上のように構成されており、上記装置ハウジング10の底壁121上に廃液タンク2と清水貯水タンク5と純水生成手段6が配置され、純水生成手段6の上側に廃液濾過手段4が配置され、ホース支持板150の上側(廃液タンク2の上方)に純水温度調整手段7が配置され、純水温度調整手段7の上側に制御手段8および操作盤9が配置されているので、オペレータによる操作性を損なうことなく装置全体をコンパクトに構成することができ、維持コストの高いクリーンルームを有効利用することができる。また、純水生成手段6は装置ハウジング10の前側開口101側に配置され、該前側開口101を通して引き出し可能に構成されているので、第1のイオン交換手段63aおよび第2のイオン交換手段63bと精密フィルター64の交換を容易に実施することができる。更に、廃液濾過手段4も装置ハウジング10の前側開口101を通して引き出し可能に構成されているので、第1のフィルター42aおよび第2のフィルター42bの交換を容易に実施することができる。
The processing waste liquid treatment apparatus in the illustrated embodiment is configured as described above, and the
2:廃液タンク
3:廃液送給ポンプ
31:圧力検出手段
4:廃液濾過手段
41:清水受けパン
42a:第1のフィルター
42b:第2のフィルター
43a、43b:電磁開閉弁
5:清水貯水タンク
50:清水送給ポンプ
6:純水生成手段
61:支持台
62:紫外線照射手段
63a:第1のイオン交換手段
63b:第2のイオン交換手段
64:精密フィルター
66a、66b:電磁開閉弁
68:圧力検出手段
69:比抵抗計
7:純水温度調整手段
8:制御手段
9:操作盤
91:入力手段
92:表示手段
10:装置ハウジング
126:開閉蓋
2: Waste liquid tank 3: Waste liquid feed pump 31: Pressure detection means 4: Waste liquid filtration means 41: Fresh
Claims (3)
該装置ハウジングは、底壁と上壁と左側壁と右側壁と後壁および前側開口を具備しており、
該廃液濾過手段は、該前側開口側に配置され、該前側開口を通して引き出し可能に構成されている、
ことを特徴とする加工廃液処理装置。 A waste liquid storage tank for storing a processing waste liquid generated by processing with a processing liquid supplied during processing of the processing apparatus, a waste liquid feed pump for supplying the processing waste liquid stored in the waste liquid storage tank, and the waste liquid A filter for purifying processed waste liquid fed by a feed pump to be purified into fresh water, a waste liquid filtering means having a fresh water receiving pan that detachably supports the filter, and storing fresh water purified by the waste liquid filtering means Pure water generation comprising a fresh water storage tank, a fresh water feed pump for feeding fresh water stored in the fresh water storage tank, and an ion exchange means for purifying the fresh water fed by the fresh water feed pump into pure water Means, pure water temperature adjusting means for adjusting the pure water purified by the pure water generating means to a predetermined temperature, control means for controlling the respective constituent means, and processing information is input to the control means. A control panel having a display means for displaying the operating state or the like by the input means and control means, in the processing waste liquid treatment apparatus comprising a housing for accommodating the respective configuration means,
The device housing includes a bottom wall, an upper wall, a left side wall, a right side wall, a rear wall, and a front side opening,
The waste liquid filtering means is arranged on the front opening side and configured to be drawable through the front opening.
A processing waste liquid treatment apparatus characterized by that.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008037694A JP5086124B2 (en) | 2008-02-19 | 2008-02-19 | Processing waste liquid treatment equipment |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008037694A JP5086124B2 (en) | 2008-02-19 | 2008-02-19 | Processing waste liquid treatment equipment |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009196006A true JP2009196006A (en) | 2009-09-03 |
JP5086124B2 JP5086124B2 (en) | 2012-11-28 |
Family
ID=41140117
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008037694A Active JP5086124B2 (en) | 2008-02-19 | 2008-02-19 | Processing waste liquid treatment equipment |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5086124B2 (en) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101723399B1 (en) * | 2016-12-06 | 2017-04-05 | (주)유나 | Wastewater storage |
KR200490656Y1 (en) * | 2018-04-16 | 2019-12-12 | (주)에코 | Halogen exhaust clean-up device having alarm function |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS54114192U (en) * | 1978-01-24 | 1979-08-10 | ||
JPS59169592A (en) * | 1983-03-15 | 1984-09-25 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Apparatus for treatment of water containing noxious metal |
JPH06154509A (en) * | 1992-11-25 | 1994-06-03 | Kyodo Kumiai Gozenyama Yuugou | Device for treating cutting oil |
JP2000157996A (en) * | 1998-11-30 | 2000-06-13 | Disco Abrasive Syst Ltd | Working water control system |
JP2002119964A (en) * | 2000-10-13 | 2002-04-23 | Enzan Seisakusho:Kk | Waste water circulation system in semiconductor manufacturing process |
JP2004314225A (en) * | 2003-04-15 | 2004-11-11 | Toyota Motor Corp | Oil solution reproducing device, method of assemble verification of oil solution reproducing device, and method of operating oil solution reproducing device |
-
2008
- 2008-02-19 JP JP2008037694A patent/JP5086124B2/en active Active
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS54114192U (en) * | 1978-01-24 | 1979-08-10 | ||
JPS59169592A (en) * | 1983-03-15 | 1984-09-25 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Apparatus for treatment of water containing noxious metal |
JPH06154509A (en) * | 1992-11-25 | 1994-06-03 | Kyodo Kumiai Gozenyama Yuugou | Device for treating cutting oil |
JP2000157996A (en) * | 1998-11-30 | 2000-06-13 | Disco Abrasive Syst Ltd | Working water control system |
JP2002119964A (en) * | 2000-10-13 | 2002-04-23 | Enzan Seisakusho:Kk | Waste water circulation system in semiconductor manufacturing process |
JP2004314225A (en) * | 2003-04-15 | 2004-11-11 | Toyota Motor Corp | Oil solution reproducing device, method of assemble verification of oil solution reproducing device, and method of operating oil solution reproducing device |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5086124B2 (en) | 2012-11-28 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5086123B2 (en) | Processing waste liquid treatment equipment | |
JP5461918B2 (en) | Processing waste liquid treatment equipment | |
JP2009214193A (en) | Processing waste liquid treatment device | |
JP2009095941A (en) | Machining waste liquid processing device | |
JP5149035B2 (en) | Processing waste liquid treatment equipment | |
JP5086124B2 (en) | Processing waste liquid treatment equipment | |
JP5681029B2 (en) | Processing waste liquid treatment equipment | |
JP7343325B2 (en) | Waste liquid treatment equipment | |
JP5086125B2 (en) | Processing waste liquid treatment equipment | |
JP5770004B2 (en) | Processing waste liquid treatment equipment | |
JP2012223846A (en) | Machining waste liquid treating apparatus | |
JP5356768B2 (en) | Waste liquid treatment equipment | |
JP6360441B2 (en) | Water storage tank | |
KR20210012908A (en) | Waste liquid treatment apparatus | |
JP2022109399A (en) | Pure water generator and ultraviolet irradiation unit | |
JP2022103853A (en) | Pure water production device | |
TW202112680A (en) | Processing liquid circulating apparatus | |
JP2022156547A (en) | Pure water generator | |
JP2021087910A (en) | Ion exchange unit and treatment waste liquid processor |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20110124 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20120806 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120814 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120906 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5086124 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150914 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150914 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |