JP2009113004A - Cleaning method and cleaning apparatus - Google Patents
Cleaning method and cleaning apparatus Download PDFInfo
- Publication number
- JP2009113004A JP2009113004A JP2007292014A JP2007292014A JP2009113004A JP 2009113004 A JP2009113004 A JP 2009113004A JP 2007292014 A JP2007292014 A JP 2007292014A JP 2007292014 A JP2007292014 A JP 2007292014A JP 2009113004 A JP2009113004 A JP 2009113004A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cleaning
- ultrasonic
- jet
- tank
- cleaning liquid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 title claims abstract description 297
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 78
- 238000004506 ultrasonic cleaning Methods 0.000 claims abstract description 34
- 230000008569 process Effects 0.000 claims abstract description 31
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 124
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 10
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 claims description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 11
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 20
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 10
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 9
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 8
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 8
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 8
- 238000013020 steam cleaning Methods 0.000 description 6
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 5
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000012459 cleaning agent Substances 0.000 description 4
- 239000003125 aqueous solvent Substances 0.000 description 3
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 3
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 3
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 3
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 2
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 2
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 2
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 2
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 description 1
- 229910000040 hydrogen fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000014666 liquid concentrate Nutrition 0.000 description 1
- DAFIBNSJXIGBQB-UHFFFAOYSA-N perfluoroisobutene Chemical group FC(F)=C(C(F)(F)F)C(F)(F)F DAFIBNSJXIGBQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000644 propagated effect Effects 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 230000002195 synergetic effect Effects 0.000 description 1
- 230000010356 wave oscillation Effects 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
Abstract
Description
本発明は、非水系溶剤などの洗浄液を貯留した洗浄槽にワーク(被洗浄物)を浸漬して洗浄する洗浄方法、および洗浄装置に関するものである。 The present invention relates to a cleaning method and a cleaning apparatus for immersing and cleaning a work (object to be cleaned) in a cleaning tank storing a cleaning liquid such as a non-aqueous solvent.
従来、洗浄槽内において非水系溶剤などの洗浄液で電子部品、精密部品、あるいは基板などのワークを洗浄する洗浄方法として、特許文献1、2のような洗浄方法が提案されている。特許文献1の洗浄方法では、ワークを浸漬した洗浄液を超音波で加振し始めた後、ワークに向かってノズルから洗浄液を噴出する。そして、超音波振動および洗浄液の噴出を行いながら、ワークおよびノズルを揺動させて洗浄効果を高めている。また、特許文献2の洗浄方法では、洗浄槽内の液体洗浄エリアにおいて洗浄液にワークを浸漬し、ワークに超音波振動を与えて洗浄する。また、洗浄槽内において液体洗浄エリアの上に設けた蒸気洗浄エリアでワークを蒸気洗浄したり、洗浄槽の上蓋のシャワー配管から洗浄剤を流してワークを洗い流す。洗浄液は、液体洗浄エリアの容量を超えるとオーバーフロー槽に流れ、オーバーフローした洗浄液については循環させて再び洗浄槽に戻すようになっている。
しかしながら、特許文献1の洗浄方法では、超音波振動と洗浄液の噴出を同時に行うため、超音波振動が洗浄液の噴流で流されて超音波振動の利きが悪くなり、効果的な超音波洗浄を行うことができないという問題点があった。すなわち、洗浄槽1の底面に配設された超音波発生器からワークに対して超音波を発生させると、この超音波とノズルから噴出される洗浄液によって槽内の洗浄液に発生した回流とが干渉し、双方の洗浄効果が減少してしまうという問題があった。
However, in the cleaning method of
また、特許文献2の洗浄方法では、オーバーフローした洗浄液を冷却ユニットに通して循環させるため、洗浄液の温度が低い分だけ超音波の透過率が低く、超音波洗浄の効果が低下するという問題点があった。なお、洗浄液としてフッ素系溶剤を用いている。
Further, in the cleaning method of
以上の問題点に鑑みて、本発明の課題は、超音波洗浄法および噴流洗浄法の双方を利用して洗浄する際、超音波洗浄の効果を高めることのできる洗浄方法および洗浄装置を提供することにある。 In view of the above problems, an object of the present invention is to provide a cleaning method and a cleaning apparatus capable of enhancing the effect of ultrasonic cleaning when cleaning is performed using both the ultrasonic cleaning method and the jet cleaning method. There is.
上記課題を解決するために、本発明では、洗浄槽内においてワークが浸漬された洗浄液を超音波により加振する超音波洗浄法、および前記洗浄液に浸漬された前記ワークに向けて当該洗浄液の噴流を供給する噴流洗浄法の双方を利用した洗浄方法において、少なくとも、前記噴流の供給を停止した状態で前記超音波洗浄法により洗浄を行なう超音波単独洗浄工程と、前記噴流洗浄法により洗浄を行なう噴流洗浄工程とを交互に行なうことを特徴とする。 In order to solve the above problems, in the present invention, an ultrasonic cleaning method in which a cleaning liquid in which a work is immersed in a cleaning tank is ultrasonically vibrated, and a jet of the cleaning liquid toward the work immersed in the cleaning liquid In the cleaning method using both of the jet cleaning method for supplying the liquid, at least the ultrasonic cleaning step for cleaning by the ultrasonic cleaning method in a state where the supply of the jet is stopped, and the cleaning by the jet cleaning method are performed. The jet cleaning process is alternately performed.
また、本発明に係る洗浄装置は、ワークを洗浄液に浸漬するための洗浄槽と、当該洗浄槽内の洗浄液を超音波により加振する超音波発振手段と、前記洗浄液に浸漬された前記ワークに向かう洗浄液の噴流を発生させる噴流発生手段と、前記超音波発振手段および前記噴流発生手段を制御する制御手段と、を備え、前記制御手段は、少なくとも、前記噴流発生手段を休止させる一方、前記第1の超音波発振手段を作動させる超音波単独洗浄工程と、前記噴流発生手段を作動させる噴流洗浄工程とを実行することを特徴とする。 Further, the cleaning apparatus according to the present invention includes a cleaning tank for immersing the work in the cleaning liquid, an ultrasonic oscillation means for vibrating the cleaning liquid in the cleaning tank by ultrasonic waves, and the work immersed in the cleaning liquid. A jet flow generating means for generating a jet of cleaning liquid to be directed, and a control means for controlling the ultrasonic wave oscillation means and the jet flow generation means, wherein the control means pauses at least the jet flow generation means, An ultrasonic single cleaning process for operating one ultrasonic oscillation means and a jet cleaning process for operating the jet generating means are performed.
本発明の洗浄方法および洗浄装置では、超音波洗浄法および噴流洗浄法の双方を利用するため、一方のみで洗浄する場合と比較して効果的な洗浄を行なうことができる。また、超音波単独洗浄工程においては、噴流の発生を停止するため、超音波振動が洗浄液の流れに流されずにワークに効率よく伝播する。従って、超音波振動の利きを良くすることができ、効果的な超音波洗浄を行なうことができる。また、前記超音波単独洗浄工程でワークから洗い落とされた汚れ(ゴミなど)が、噴流洗浄工程でワークの周囲から移動する。このため、汚れがワークの周囲に滞留することがないので、ワークを効果的に洗浄することができる。 In the cleaning method and the cleaning apparatus of the present invention, since both the ultrasonic cleaning method and the jet cleaning method are used, it is possible to perform effective cleaning as compared with the case of cleaning with only one. Further, in the ultrasonic single cleaning process, since the generation of the jet flow is stopped, the ultrasonic vibration is efficiently propagated to the workpiece without flowing in the flow of the cleaning liquid. Therefore, the advantage of ultrasonic vibration can be improved and effective ultrasonic cleaning can be performed. Further, dirt (dust etc.) washed off from the work in the ultrasonic cleaning process moves from around the work in the jet cleaning process. For this reason, since dirt does not stay around the work, the work can be effectively cleaned.
本発明において、前記噴流洗浄工程では、前記洗浄液の噴流を超音波により加振しながら供給してもよい。また、噴流のみによる洗浄を行なってもよい。 In the present invention, in the jet cleaning step, the jet of the cleaning liquid may be supplied while being vibrated by ultrasonic waves. Moreover, you may perform washing | cleaning only by a jet.
本発明に係る洗浄方法において、前記洗浄液はフッ素系溶剤であり、前記超音波洗浄法を行なう際、前記洗浄槽内の前記洗浄液を35℃以上45℃以下の温度に調節することが好ましい。すなわち、本発明に係る洗浄装置において、前記洗浄液はフッ素系溶剤であり、前記洗浄槽内の前記洗浄液を35℃以上45℃以下の温度に維持する温度調節手段を備えていることが好ましい。フッ素系溶剤の場合、ある程度温度が高い方が超音波振動を効果的に伝播させることができる傾向にあるので、洗浄液を35℃以上の温度に保持することが好ましい。一方,温度が高すぎても振動を伝播させる効率が下がるので,45℃以下に保持することが望ましい。 In the cleaning method according to the present invention, it is preferable that the cleaning liquid is a fluorinated solvent, and the cleaning liquid in the cleaning tank is adjusted to a temperature of 35 ° C. or higher and 45 ° C. or lower when performing the ultrasonic cleaning method. That is, in the cleaning apparatus according to the present invention, it is preferable that the cleaning liquid is a fluorinated solvent and includes temperature adjusting means for maintaining the cleaning liquid in the cleaning tank at a temperature of 35 ° C. or higher and 45 ° C. or lower. In the case of a fluorinated solvent, it is preferable that the temperature of the cleaning liquid is kept at a temperature of 35 ° C. or higher because the temperature tends to be able to propagate ultrasonic vibrations effectively. On the other hand, even if the temperature is too high, the efficiency of propagation of vibration is lowered, so it is desirable to keep it at 45 ° C. or lower.
本発明を適用した洗浄装置において、前記超音波発振手段として、前記洗浄槽の底部に対して設置された第1の超音波発生手段と、前記噴流発生手段と一体に形成された前記第2の超音波発振手段とを備え、前記制御手段は、前記超音波単独洗浄工程では、前記第1の超音波発生手段のみ、あるいは前記第1の超音波発生手段および前記第2の超音波発生手段の双方を作動させ、前記噴流洗浄工程では、前記第2の超音波発生手段を作動または停止させることが好ましい。 In the cleaning apparatus to which the present invention is applied, as the ultrasonic wave oscillating means, a first ultrasonic wave generating means installed on the bottom of the cleaning tank, and the second ultrasonic wave generating means formed integrally with the jet flow generating means. Ultrasonic control means, and in the ultrasonic cleaning process, the control means includes only the first ultrasonic generation means, or the first ultrasonic generation means and the second ultrasonic generation means. It is preferable that both are operated, and in the jet cleaning step, the second ultrasonic wave generating means is operated or stopped.
本発明に係る洗浄装置において、前記洗浄槽は、上端縁が切り欠かれた切り欠き部を複数備えたオーバーフロー部を有していることが好ましい。このようにすると、切り欠き部に洗浄液が集中して流れ出すので、オーバーフローする際の洗浄液の流速が早くなり、洗浄液の液面に浮遊しているゴミなどが洗浄槽から流れ出しやすくなる。特に、洗浄槽の隅部分が切り欠き部となっていれば、洗浄槽の角部の澱みに溜まったゴミが洗浄槽から流れ出しやすくなる。つまり、洗浄槽が直方体である場合、洗浄槽の上縁における角部が前記切り欠きの谷部となっていることが好ましい。このようにすると、ゴミを洗浄槽から効率よく流出させることができる。 In the cleaning apparatus according to the present invention, it is preferable that the cleaning tank has an overflow portion including a plurality of cutout portions in which an upper end edge is cut out. In this way, since the cleaning liquid concentrates and flows out in the notch, the flow rate of the cleaning liquid at the time of overflow increases, and dust floating on the surface of the cleaning liquid easily flows out from the cleaning tank. In particular, if the corner portion of the cleaning tank is a notch, the dust collected on the corners of the cleaning tank can easily flow out of the cleaning tank. That is, when the cleaning tank is a rectangular parallelepiped, it is preferable that a corner portion at the upper edge of the cleaning tank is a valley portion of the notch. If it does in this way, garbage can be efficiently discharged from a washing tub.
本発明では、超音波洗浄法および噴流洗浄法の双方を利用するため、一方のみで洗浄する場合と比較して効果的な洗浄を行なうことができる。また、超音波単独洗浄工程において、噴流の発生を停止するため、超音波振動が洗浄液の流れに流されずに伝播する。従って、超音波振動の利きを良くすることができ、効果的な超音波洗浄を行なうことができる。 In the present invention, since both the ultrasonic cleaning method and the jet cleaning method are used, it is possible to perform effective cleaning as compared with the case of cleaning with only one. Further, in the ultrasonic single cleaning process, the generation of the jet flow is stopped, so that the ultrasonic vibration propagates without flowing in the flow of the cleaning liquid. Therefore, the advantage of ultrasonic vibration can be improved and effective ultrasonic cleaning can be performed.
以下に、図面を参照して、本発明を適用した洗浄装置および洗浄方法の一実施形態について説明する。 Hereinafter, an embodiment of a cleaning apparatus and a cleaning method to which the present invention is applied will be described with reference to the drawings.
(洗浄装置の構成)
図1は本発明の洗浄装置の概略構成図である。なお、図1には、後述する変形例で説明する超音波発振子36(第2の超音波発振手段)も表してある。
(Structure of the cleaning device)
FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a cleaning apparatus of the present invention. Note that FIG. 1 also shows an ultrasonic oscillator 36 (second ultrasonic oscillator) described in a later-described modification.
図1に示すように、本発明を適用した洗浄装置Sは、ワークWを洗浄するための洗浄液を所定の液位まで溜めることができる洗浄槽1と、洗浄槽1からの洗浄液のオーバーフロー流を受けるオーバーフロー槽2と、オーバーフロー槽2の洗浄液を洗浄槽1に還流させるためのメイン配管系3を備えている。また、洗浄装置Sは、洗浄液蒸気でワークWの蒸気を発生させるための蒸気発生槽4、洗浄槽1の上方位置で洗浄液蒸気を凝集させるための冷却コイル5、凝集液から水を分離するための水分離槽6、および制御盤7(制御装置)などを備えている。
As shown in FIG. 1, a cleaning apparatus S to which the present invention is applied includes a
本実施形態における洗浄液は非水系溶剤であり、かかる洗浄液としては、例えば、HFC(ハイドロフルオロカーボン)やHFE(ハイドロフルオロエーテル)などのフッ素系溶剤が用いられる。 The cleaning liquid in this embodiment is a non-aqueous solvent, and as such a cleaning liquid, for example, a fluorine-based solvent such as HFC (hydrofluorocarbon) or HFE (hydrofluoroether) is used.
図2は、本発明の洗浄装置Sに用いた洗浄槽1の斜視図である。図2に示すように、洗浄槽1は直方体の処理槽である。洗浄槽1の上縁11は多数の切り欠き12が形成されたオーバーフロー部になっており、四辺ともギザギザな形状になっている。ギザギザ形状の山部12aおよび谷部12bは、四辺において概略同じ高さになっている。本実施形態では、洗浄槽1の上縁11の四隅の角部11aがいずれも、切り欠き12の谷部12bになっている。
FIG. 2 is a perspective view of the
再び図1において、洗浄槽1の上縁11の上方に四方向にわたって隙間13が設けられており、洗浄槽1の上縁11を越えたオーバーフロー流は、この隙間13から四方向に向かって流れ出すようになっている。
In FIG. 1 again,
オーバーフロー槽2は、洗浄槽1の外周に沿って設けられた幅広の溝である。本実施形態では、洗浄槽1の四辺からオーバーフローする洗浄液のうち、少なくとも一辺から流れ出す洗浄液は蒸気発生槽4にも流入するように構成されている。
The
洗浄槽1の上部空間1aは、オーバーフロー流の流路となる隙間13を除いて密閉可能であり、蒸気洗浄エリアとして使用される。また、洗浄液が溜まる洗浄槽1の内部のうち、その底部には、超音波発振子14(第1の超音波発振手段)およびヒータ15(温度調節手段)が設けられている。ワークWは、不図示の取付け治具に取り付けられた状態で冷却コイル5の内側を通って洗浄槽1内に搬入搬出される。すなわち、ワークWは、取付け治具に取り付けられた状態で洗浄液に浸漬されたり、洗浄液の液面上の上部空間1aに引き上げられたりする。図示を省略するが、取付け治具を移動させる機構は、例えば、取付け治具を洗浄槽1内あるいは上部空間1aに吊り下げる吊り下げ部材と、吊り下げ部材を昇降させる昇降アームなどにより構成される。
The
洗浄槽1に導入された洗浄液は、超音波発振子14により加振され、超音波洗浄法により、ワークWを洗浄する。超音波発振子14による加振周波数は、ワークWの種別や洗浄すべき汚れの状態に応じて最も効果的な周波数に調整される。本形態では概ね40〜200kHzの範囲で行う。
The cleaning liquid introduced into the
また、洗浄液はヒータ15により加熱される。これにより、洗浄液は、洗浄槽1内において超音波振動の透過率が高い温度になるように温度調整される。例えば、洗浄液としてHFC(ハイドロフルオロカーボン)やHFE(ハイドロフルオロエーテル)を用いた場合には、洗浄液の温度は、超音波振動の透過率が最も高くなる35℃〜45℃に調整される。すなわち、洗浄液としてフッ素系溶剤を用いた場合、洗浄液の温度が高い方が超音波振動を効果的に伝播させることができる傾向にあるので、洗浄液を35℃以上の温度に保持することが好ましい。一方,温度が高すぎても振動を伝播させる効率が下がるので,45℃以下に保持することが望ましい。
The cleaning liquid is heated by the
メイン配管系3にはポンプ31(噴流発生手段)および除塵用のフィルタ32が設けられている。メイン配管系3の一端はオーバーフロー槽2の底部に接続されており、ポンプ31を作動させると、オーバーフロー槽2の洗浄液がメイン配管系3の配管内に吸引される。吸引された洗浄液は、フィルタ32を通過する際にゴミなどが除去されて浄化された後、メイン配管系3の他端から洗浄槽1に送り出される。なお、メイン配管系3を構成する各配管には必要に応じてバルブを設けることができ、必要に応じて各配管を閉鎖あるいは開放することができる。
The main piping system 3 is provided with a pump 31 (jet generation means) and a
さらに、ポンプ31から分岐し、バルブ81、フィルタ82を通して洗浄槽1の底に通じるサブ配管8を設けることも有効である。超音波洗浄工程および噴射洗浄工程が終了した後、ワークWを上部空間1aに引き上げるときに、メイン配管系3を止め、しばらくサブ配管系8を通して洗浄液を濾過循環させた後、サブ配管系8を止め、再びメイン配管系3を空けて、シャワーをワークWにかけながら洗浄槽から引き上げることにより、塵埃の再付着を防ぐことができる。なお、洗浄槽1から引き上げた後は、下記するシャワーユニット34を洗浄槽中に戻し、ワークWは、蒸気発生槽4からの洗浄剤蒸気が結露することによりすすぎ洗いが行なわれる。このように、メイン配管3、およびサブ配管8を組み合わせることによって、噴流停止時に塵埃が洗浄槽1の底部に溜まることを防止するとともに、液表面に浮遊する塵埃を効率良くオーバーフロー槽2へ排出することができる。
It is also effective to provide a
メイン配管系3の他端は上部空間1a側から洗浄槽1内に向かって延びており、その先端部分33にはシャワーユニット34(噴流発生手段)が接続されている。シャワーユニット34はワークWに対向配置されるシャワーヘッド35を有しており、シャワーヘッド35のワークW側の面には、複数の洗浄液噴出孔が形成されている。また、シャワーユニット34は、洗浄槽1内および上部空間1a内において、メイン配管系3に接続された状態を保ちながら、不図示の移動機構によってワークWの取付け治具と同期して移動する。これにより、ワークWが洗浄液に浸漬された状態においても、シャワーヘッド35とワークWが対向配置された状態が維持される。このように構成したシャワーユニット34は、ポンプ31とともに噴流発生手段として機能する。
The other end of the main piping system 3 extends from the
すなわち、シャワーユニット34が洗浄液に浸漬された状態において、ポンプ31を作動させると、シャワーヘッド35からワークWに向けて洗浄液が噴出し、洗浄液中においてワークWに向かう噴流を作り出す。それ故、かかる噴流を利用した噴流洗浄法(シャワー洗浄法)を行なうことができる。また、このような構成のシャワーユニット34を用いると、多数のシャワー管をワークWの周囲に配置して洗浄液を放出する構成に比べて、装置の構成が簡易化される。
That is, when the
洗浄槽1の上部空間1aは、隙間13に接続された流路13aにより、蒸気発生槽4に接続されている。流路13aは洗浄槽1の上縁11から斜め下向きに延びているので、上縁11を越えたオーバーフロー流は、自然に蒸気発生槽4側に流れ込む。蒸気発生槽4の底部にはヒータ41が設けられている。蒸気発生槽4に流れ込んだ洗浄液はこのヒータ41によって加熱され、洗浄液蒸気が発生する。発生した洗浄液蒸気は流路13aを通って上昇し、洗浄槽1の上部空間1aに供給される。
The
蒸気発生槽4に導入された洗浄液は、ポンプ42およびフィルタ43、44が設けられた循環流路45内を循環する。洗浄液は、フィルタ43、44を通過する際にゴミや有害物質などが除去されて浄化されたのち、蒸気発生槽4に戻される。フィルタ44はメイン配管系3に設けられたフィルタ32と同様の除塵フィルタであり、ワークWから落ちて洗浄液中を浮遊しているゴミなどがこのフィルタ44により除去される。
The cleaning liquid introduced into the steam generation tank 4 circulates in the
一方、フィルタ43は洗浄液中の分解生成物等を吸着して除去するためのものであり、例えば、活性アルミナフィルタが用いられる。蒸気発生槽4に導入された洗浄液が、ヒータ41によって高温に加熱されると有害な分解生成物(例えば、パーフロロイソブチレン、フッ化水素など)が生じる場合があり、活性アルミナフィルタを通すことにより、このような分解生成物を除去することができる。なお、活性アルミナフィルタを用いる場合には、循環流路45における洗浄液の流速を2L/min以下にすることが望ましい。活性アルミナフィルタは、フッ素系溶剤の分解生成物を吸着するが、その吸着力はそれほど高くないので、洗浄液の流速を遅くすることにより、分解生成物の吸着効果を高めることができる。なお、活性アルミナフィルタは、粉塵を発生させやすいが、かかる粉塵は、フィルタ44により除去される。
On the other hand, the
洗浄液蒸気が導入される上部空間1aには冷却コイル5が設けられており、洗浄液の蒸気は冷却コイル5の表面に凝集する。この凝集液は配管51に集められて水分離槽6に導入される。水分離槽6は中央に仕切り板61が設けられており、この仕切り板61によって区画された水分離槽6の一区画に配管51が接続されている。また、もう一つの区画にはオーバーフロー槽2内に延びる配管52が接続されている。このようにすると、洗浄液として水よりも比重の大きいフッ素系溶剤を用いた場合には、比重の小さい水は配管51側の区画において洗浄液の上に分離されて配管52側の区画に流れない。よって、水と洗浄液との比重の違いを利用して洗浄液から水を分離することができる。回収した洗浄液は配管52からオーバーフロー槽2に戻され、再循環される。なお、配管51は冷却コイル5から水分離槽6に向かって下方向に傾斜した勾配をつけることにより凝集液が自然に水分離槽6に流れるようになっている。また、配管52は水分離槽6からオーバーフロー槽2に向かって下方向に傾斜した勾配をつけることにより分離された水が自然に洗浄槽1に流れるようになっている。
A cooling
制御盤7(制御装置)は、メイン配管系3のポンプ31および超音波発振子14に制御信号を出力することにより、ポンプ31および超音波発振子14を制御して所定のタイミングで作動させる。また、ヒータ15、41あるいはポンプ42を制御盤7によって制御することにより、洗浄槽1内の洗浄液の温度調整を行ったり、蒸気発生槽4から洗浄液蒸気を供給することができる。
The control panel 7 (control device) outputs the control signal to the
(洗浄方法、および主な効果)
次に、本実施形態の洗浄装置SによるワークWの洗浄方法について説明する。本実施形態では、洗浄槽1にワークWを導入して洗浄液にワークWを浸漬し、超音波洗浄法および噴流洗浄法の双方を利用した洗浄を行なう。また、本形態では、以下に説明するように、シャワーヘッド35による噴流の供給を停止した状態で超音波洗浄法により洗浄を行なう超音波単独洗浄工程と、シャワーヘッド35により発生した噴流を利用した噴流洗浄法により洗浄を行なう噴流洗浄工程とを交互に行なう。
(Cleaning method and main effects)
Next, a method for cleaning the workpiece W by the cleaning apparatus S of the present embodiment will be described. In the present embodiment, the workpiece W is introduced into the
本構成の洗浄装置では、超音波発振子14から超音波を発振しているときにシャワーヘッド35からワークW側へ洗浄液を噴出させてワークWの周囲に洗浄液を流すと、洗浄液の流れによって超音波が流され、超音波振動の利きが悪くなって効果的な超音波洗浄を行なうことができない場合がある。そこで、本実施形態では、制御盤7は、超音波発振子14とポンプ31を交互に作動させる。このような制御を行なうと、超音波発振子14が作動しているときは、ポンプ31が停止してシャワーユニット34への洗浄液の供給が停止され、シャワーヘッド35からワークW側への洗浄液の噴出が停止する(超音波単独洗浄工程)。
In the cleaning apparatus of this configuration, when the cleaning liquid is jetted from the
そして、超音波単独洗浄工程と噴流洗浄工程とを交互に複数回行なうと、超音波単独洗浄工程において超音波洗浄で落ちた汚れ(ゴミなど)がワークの周囲に滞留した場合でも、噴流洗浄工程を行なった際、かかる汚れがワークWの周囲から移動するので、ワークWに汚れが再付着することがないので、ワークWの汚れを効果的に落とすことができる。 If the ultrasonic cleaning process and the jet cleaning process are alternately performed a plurality of times, even if dirt (dust etc.) dropped by the ultrasonic cleaning in the ultrasonic cleaning process stays around the workpiece, the jet cleaning process Since the dirt moves from the periphery of the workpiece W when the above is performed, the dirt does not reattach to the workpiece W, so that the dirt on the workpiece W can be effectively removed.
また、本実施形態の洗浄装置Sで上記洗浄方法を行なうと、噴射洗浄工程においてシャワーヘッド35から洗浄液が洗浄槽1に供給されるのに伴い、洗浄槽1の上縁11を越えて洗浄液がオーバーフローするが、このとき、洗浄液は、上縁11に形成された切り欠き12から集中的に流れ出す。従って、上縁11を直線状にした場合に比べてオーバーフロー流の流速が早くなるので、洗浄液の液面に浮遊しているゴミなどが洗浄槽1から流れ出しやすい。本実施形態では、角部11aが切り欠き12の谷部12bになっているので、四隅に溜まったゴミなどを流れ出させることができる。よって、洗浄槽1内に浮遊するゴミなどを減らすことができ、ワークWへのゴミの再付着を抑制することができる。
Further, when the above cleaning method is performed by the cleaning apparatus S of the present embodiment, the cleaning liquid passes over the
また、本形態では、超音波洗浄工程あるいはその直前において、ヒータ15による洗浄液の温度調整を行い、洗浄槽1内の洗浄液の温度を35℃以上45℃以下にする。洗浄液がHFCやHFEなどのフッ素系溶剤であるときは、35℃以上45℃以下において最も超音波の透過率が高いので、このように温度調整を行なうことにより、超音波洗浄の効果を高めることができる。
In this embodiment, the temperature of the cleaning liquid is adjusted by the
超音波洗浄工程および噴射洗浄工程が終了した後、ワークWを上部空間1aに引き上げる。この時は、メイン配管系3を止め、しばらくサブ配管系8を通して洗浄液を循環させた後、サブ配管系8を止め、再びメイン配管系3を空けて、シャワーをワークWにかけながら洗浄槽1から引き上げることにより、塵埃の再付着をさらに防ぐことができる。洗浄槽1から引き上げた後は、シャワーユニット34は洗浄槽1中に戻り、ワークWは、蒸気発生槽4からの洗浄剤蒸気が結露することにより、すすぎ洗いが行なわれる。蒸気洗浄が終了した後は、ワークWは冷却コイル5の位置に置かれ、乾燥工程が施される。
After the ultrasonic cleaning process and the jet cleaning process are finished, the workpiece W is pulled up to the
上記実施形態において、以下のような改変を行ってもよい。 In the above embodiment, the following modifications may be made.
(変形例1)
図1に示すように、シャワーヘッド35に、超音波発振子36(第2の超音波発振手段)が一体に設けられている構成としてもよい。詳細には、超音波発振子36はシャワーヘッド35のノズルの近傍に取り付けられており、超音波発振子36を利用してシャワーヘッド35により発生する噴流を超音波で加振するので、超音波発振子36から発振される超音波とシャワーヘッド35から噴出する洗浄液とが同じ方向となるため、超音波振動と洗浄液の流れが相乗して、効果的な洗浄を行うことができる。なお、この超音波発振子36により、シャワーヘッド35から噴出する洗浄液を、高周波(例えば、430kHz以上)の超音波で加振することが好ましい。
(Modification 1)
As shown in FIG. 1, the
なお、制御盤7から超音波発振子36に制御信号を出力し、その作動タイミングを制御することも可能である。その際、超音波発振子36とポンプ31を作動させると、その結果、シャワーヘッド35からワークWに向けて洗浄液が噴出され、噴流洗浄法による洗浄が行なわれる。また、超音波発振子36により、シャワーヘッド35から噴出する洗浄液は加振される。
It is also possible to output a control signal from the
このように、単なる洗浄液流で落としきれなかった微小ゴミをワークWから落とすことができる。また、このとき、制御盤7は、超音波発振子36の加振周波数を高周波(430kHz以上)とする。このように、高周波の超音波を用いると、より洗浄効果が高まる。
In this way, minute dust that could not be removed by a simple cleaning liquid flow can be dropped from the workpiece W. At this time, the
なお、ワークWを、洗浄液の液面上の上部空間1aに引き上げてから超音波発振子36を作動させてもよい。
Note that the ultrasonic oscillator 36 may be operated after the workpiece W is pulled up to the
(変形例2)
かかる噴流洗浄工程の間、超音波発振子14については停止している状態、および作動している状態のいずれであってもよい。
(Modification 2)
During the jet cleaning process, the
(変形例3)
変形例1における超音波単独洗浄工程の間、超音波発振子36については停止している状態、および作動している状態のいずれであってもよい。
(Modification 3)
During the ultrasonic single cleaning process in the first modification, the ultrasonic oscillator 36 may be in a stopped state or in an operating state.
(変形例4)
上記実施形態において、以下のような改変を行ってもよい。蒸気洗浄工程では、ワークWが洗浄液と共に加熱されていると、洗浄剤蒸気が結露しにくく蒸気洗浄の効果が低い。そこで、洗浄装置Sに冷浴槽を設け、蒸気洗浄工程の前に、洗浄液から引き上げたワークWを一端、冷浴槽に浸したり、オーバーフロー流の一部を低温タンクに導入して冷却し、この低温タンクから供給された洗浄液をワークWにかけることにより、ワークWの温度を下げるようにしてもよい。
(Modification 4)
In the above embodiment, the following modifications may be made. In the steam cleaning process, when the workpiece W is heated together with the cleaning liquid, the cleaning agent steam is less likely to condense and the effect of the steam cleaning is low. Therefore, a cooling tub is provided in the cleaning device S, and before the steam cleaning process, the workpiece W pulled up from the cleaning liquid is immersed in the cooling tub at one end, or a part of the overflow flow is introduced into a low-temperature tank to be cooled. The temperature of the workpiece W may be lowered by applying the cleaning liquid supplied from the tank to the workpiece W.
また、上記実施形態では、シャワーユニット34において、シャワーヘッド35がワークWの両側に対向配置された構造であったが、ワークWの形状などによっては、シャワーヘッド35の両側にワークWが配置され、シャワーヘッド35の両面から洗浄液が噴出する構造を採用してもよい。このように構成すると、シャワーヘッド35が1つで済むという利点がある。
Further, in the above embodiment, the shower unit 34 has a structure in which the
1 洗浄槽
2 オーバーフロー槽
3 メイン配管系
4 蒸気発生槽
5 冷却コイル
6 水分離槽
7 制御盤
8 サブ配管系
11 上縁
11a 角部
12 切り欠き
12a 山部
12b 谷部
13a 流路
14 超音波発振子(第1の超音波発生手段)
15 ヒータ
31 ポンプ(噴流発生手段)
32 フィルタ
33 先端部分
34 シャワーユニット(噴流発生手段)
35 シャワーヘッド
36 超音波発振子(第2の超音波発生手段)
41 ヒータ
43、44 フィルタ
45 循環流路
51、52 配管
81 バルブ
82 フィルタ
S 洗浄装置
W ワーク
DESCRIPTION OF
15
32
35 Shower head 36 Ultrasonic oscillator (second ultrasonic generator)
41
Claims (6)
少なくとも、前記噴流の供給を停止した状態で前記超音波洗浄法により洗浄を行なう超音波単独洗浄工程と、前記噴流洗浄法により洗浄を行なう噴流洗浄工程とを交互に行なうことを特徴とする洗浄方法。 Cleaning using both an ultrasonic cleaning method in which the cleaning liquid in which the work is immersed in the cleaning tank is ultrasonically vibrated and a jet cleaning method in which a jet of the cleaning liquid is supplied toward the work immersed in the cleaning liquid In the method
A cleaning method characterized in that at least an ultrasonic single cleaning step for cleaning by the ultrasonic cleaning method in a state where supply of the jet flow is stopped and a jet cleaning step for cleaning by the jet cleaning method are alternately performed. .
前記噴流洗浄工程では前記洗浄液の噴流を超音波により加振しながら供給することを特徴とする洗浄方法。 The cleaning method according to claim 1,
In the jet cleaning step, the cleaning liquid is supplied while being vibrated by ultrasonic waves.
前記洗浄液はフッ素系溶剤であり、
前記超音波洗浄法を行なう際、前記洗浄槽内の前記洗浄液を35℃以上45℃以下の温度に調節することを特徴とする洗浄方法。 The cleaning method according to claim 1 or 2,
The cleaning liquid is a fluorinated solvent,
When performing the ultrasonic cleaning method, the cleaning liquid in the cleaning tank is adjusted to a temperature of 35 ° C. or higher and 45 ° C. or lower.
当該洗浄槽内の洗浄液を超音波により加振する超音波発振手段と、
前記洗浄液に浸漬された前記ワークに向かう洗浄液の噴流を発生させる噴流発生手段と、
前記超音波発振手段および前記噴流発生手段を制御する制御手段と、を備え、
前記制御手段は、少なくとも、前記噴流発生手段を休止させた状態で前記第1の超音波発振手段を作動させる超音波単独洗浄工程と、前記噴流発生手段を作動させる噴流洗浄工程とを実行することを特徴とする洗浄装置。 A cleaning tank for immersing the workpiece in the cleaning liquid;
An ultrasonic oscillating means for vibrating the cleaning liquid in the cleaning tank by ultrasonic;
Jet generating means for generating a jet of cleaning liquid toward the workpiece immersed in the cleaning liquid;
Control means for controlling the ultrasonic oscillation means and the jet generation means,
The control means executes at least an ultrasonic single cleaning process for operating the first ultrasonic oscillation means in a state where the jet generating means is stopped and a jet cleaning process for operating the jet generating means. A cleaning device characterized by.
前記超音波発振手段として、前記洗浄槽の底部に対して設置された第1の超音波発生手段と、前記噴流発生手段と一体に形成された第2の超音波発振手段とを備え、
前記制御手段は、前記超音波単独洗浄工程では、前記第1の超音波発生手段のみ、あるいは前記第1の超音波発生手段および前記第2の超音波発生手段の双方を作動させ、前記噴流洗浄工程では、前記第2の超音波発生手段を作動または停止させることを特徴とする洗浄装置。 The cleaning apparatus according to claim 4, wherein
As the ultrasonic oscillating means, the first ultrasonic generating means installed on the bottom of the cleaning tank, and the second ultrasonic oscillating means formed integrally with the jet generating means,
In the ultrasonic single cleaning step, the control means operates only the first ultrasonic generation means, or both the first ultrasonic generation means and the second ultrasonic generation means, and the jet cleaning. In the process, the second ultrasonic wave generating means is operated or stopped.
前記洗浄槽は、上端縁が切り欠かれた切り欠き部を複数備えたオーバーフロー部を有していることを特徴とする洗浄装置。 The cleaning apparatus according to claim 4 or 5,
The cleaning apparatus according to claim 1, wherein the cleaning tank includes an overflow portion including a plurality of cutout portions having upper end edges cut out.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007292014A JP2009113004A (en) | 2007-11-09 | 2007-11-09 | Cleaning method and cleaning apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007292014A JP2009113004A (en) | 2007-11-09 | 2007-11-09 | Cleaning method and cleaning apparatus |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009113004A true JP2009113004A (en) | 2009-05-28 |
Family
ID=40780740
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007292014A Pending JP2009113004A (en) | 2007-11-09 | 2007-11-09 | Cleaning method and cleaning apparatus |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2009113004A (en) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014082234A (en) * | 2012-10-12 | 2014-05-08 | Shindengen Electric Mfg Co Ltd | Dip type developing device, and developing method for semiconductor wafer |
CN109365386A (en) * | 2018-12-06 | 2019-02-22 | 深圳市盈石科技有限公司 | A cleaning device and cleaning method thereof |
CN113769484A (en) * | 2021-09-18 | 2021-12-10 | 一汽解放汽车有限公司 | DPF carrier regeneration unit and regeneration method |
CN114272727A (en) * | 2021-12-27 | 2022-04-05 | 长春电子科技学院 | High-rise resident family indoor air purification is with purifying catalyst board activation device |
CN114851713A (en) * | 2022-05-30 | 2022-08-05 | 新明珠集团股份有限公司 | Ceramic printer nozzle cleaning system and cleaning method thereof |
-
2007
- 2007-11-09 JP JP2007292014A patent/JP2009113004A/en active Pending
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014082234A (en) * | 2012-10-12 | 2014-05-08 | Shindengen Electric Mfg Co Ltd | Dip type developing device, and developing method for semiconductor wafer |
CN109365386A (en) * | 2018-12-06 | 2019-02-22 | 深圳市盈石科技有限公司 | A cleaning device and cleaning method thereof |
CN113769484A (en) * | 2021-09-18 | 2021-12-10 | 一汽解放汽车有限公司 | DPF carrier regeneration unit and regeneration method |
CN114272727A (en) * | 2021-12-27 | 2022-04-05 | 长春电子科技学院 | High-rise resident family indoor air purification is with purifying catalyst board activation device |
CN114272727B (en) * | 2021-12-27 | 2022-10-25 | 长春电子科技学院 | High-rise resident family indoor air purification is with purifying catalyst board activation device |
CN114851713A (en) * | 2022-05-30 | 2022-08-05 | 新明珠集团股份有限公司 | Ceramic printer nozzle cleaning system and cleaning method thereof |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4705517B2 (en) | Substrate cleaning method, substrate cleaning apparatus, program, and recording medium | |
CN103229279B (en) | Ultrasonic cleaning equipment and method for suppersonic cleaning | |
JP2007311756A (en) | Ultrasonic cleaner and ultrasonic cleaning method | |
JP5701822B2 (en) | Cleaning apparatus and cleaning method | |
JP2009113004A (en) | Cleaning method and cleaning apparatus | |
CN101605615B (en) | Ultrasonic cleaning method | |
JP4890919B2 (en) | Substrate cleaning method, substrate cleaning apparatus, program, and recording medium | |
WO2018146836A1 (en) | Laminar flow ultrasonic cleaning device | |
JP6233570B2 (en) | Wafer cleaning equipment | |
TWI362066B (en) | ||
JP7284981B2 (en) | Deburring polishing method and deburring polishing device | |
JPH03259523A (en) | Washing equipment | |
JPH08141527A (en) | Ultrasonic washing apparatus | |
JP2008166426A (en) | Cleaning method and cleaning device | |
JP2006324495A (en) | Ultrasonic cleaning device | |
JP4144201B2 (en) | Wet cleaning processing equipment | |
JP2785923B2 (en) | Work cleaning device | |
JP2009231667A (en) | Method for processing substrate and substrate processing device | |
JPS59150584A (en) | Ultrasonic washing method and apparatus | |
JP2001179013A (en) | Filtering type water treatment apparatus and filter carrier washing method | |
JP2019181415A (en) | Electrolytic ultrasonic washing machine | |
JP2020116500A (en) | Ultrasonic cleaning method and ultrasonic cleaning device | |
JPH0671234A (en) | Work washer | |
JP4023103B2 (en) | Ultrasonic fluid processing equipment | |
KR100551413B1 (en) | Double Sided Megasonic Cleaner |