JP2009092738A - 液晶表示装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】斜め視野における波長分散特性を抑制できる液晶表示装置を提供する。
【解決手段】液晶セル110は、ホモジニアス配向の液晶層と、該液晶層を挟み込む一対の透明基板とを有する。偏光板(P1)104の偏光子保護層103は、光学的に等方性を有し、偏光板(P2)108の偏光子保護層107は、面内リタデーションがほぼ0nmで、厚み方向のリタデーションが20nm〜90nmの範囲にある。液晶表示装置は、液晶セル110と偏光板(P2)108との間に、液晶セル面に対して垂直方向に光軸を有する異方性層(Cp)116と、(ns−nz)/(ns−nf)≦0.5の二軸異方性層(Bi)115とを有する。異方性層(Cp)116により、二軸異方性層(Bi)115で生じる波長分散を補償することで、斜め視野における色付きを抑制できる。
【選択図】図1

Description

本発明は、液晶表示装置に関し、更に詳しくは、一対の透明基板と透明基板間に保持された液晶層とを有する液晶セルと、液晶セルを挟み込み、光軸が互いに直交するように配置された第1及び第2の偏光板とを有する液晶表示装置に関する。
初期配向がホモジニアス配向のノーマリーブラックタイプの液晶表示装置は、液晶層と、液晶層を挟み込む一対のガラス基板と、クロスニコル配置された一対の偏光板とを有する。このような液晶表示装置としては、例えばIPS(In Plane Switching)型やFFS(Fringe Field Switching)型と呼ばれる液晶表示装置がある。上記液晶表示装置は、液晶層に、ガラス基板と平行な方向の電界を印加し、液晶の配向方向を制御して表示を行う。IPS型やFFS型の液晶表示装置は、液晶の配向方向とガラス基板とが平行であることから、TN(Twist Nematic)型の液晶表示装置に比して、広視野角を実現できる利点がある。
ところで、IPS型やFFS型の液晶表示装置では、黒表示状態において、特に、一対の偏光板の偏光方向に対して45°の方位から視野角をつけて観察すると、光漏れや色度変化が観察され、表示品質が低下することが知られている。この問題に対し、光学補償層を用いることで、黒表示時の斜め視野光漏れと色変動を抑える技術がある(例えば、特許文献1参照)。
図8に、特許文献1に記載された液晶表示装置の一部を示す。液晶セル210は、ホモジニアス配向された液晶層と、液晶層を挟み込む一対のガラス基板とを有する。偏光板204は、偏光層を構成するPVA(ポリビニルアルコール)層から成る偏光子201と、偏光子201を挟み込む一対の偏光子保護層202、203とを有する。偏光板208は、偏光層を構成するPVA層から成る偏光子206と、偏光子206を挟み込む一対の偏光子保護層205、207とを有する。
偏光板204の光軸(光吸収軸又は光透過軸)と、偏光板208の光軸とは、互いに直交している。偏光板208の光吸収軸と液晶セル210における液晶配向方向は、ほぼ平行となっている。偏光子保護層202、203、及び、207は、光軸が厚み方向にあり、厚み方向に約50nmのリタデーションを有している。また、偏光子保護層205は、同様に、光軸が厚み方向にあり、厚み方向に0〜25nmのリタデーションを有している。
光学補償層214は、偏光板204と液晶セル210との間に配置される。光学補償層214は、面内の遅相軸方向の屈折率をns、面内の進相軸方向の屈折率をnf、厚み方向の屈折率をnzとしたとき、それぞれの関係が(ns−nz)/(ns−nf)≦0.5で、かつ、面内リタデーションReが80nm≦Re≦230nmの範囲にある二軸異方性層である。この光学補償層214を、面内の遅相軸と液晶配向方向とが平行となるように配置する。特許文献1では、斜め視野方向での偏光子保護層205の位相変化を小さく、望ましくは0nmの等方性にすることで、偏光子206を通過した光を直線偏光のまま液晶層へ入射させる。特許文献1では、液晶層の配向方向が光入射面にあることから偏光変化を受けないため、色付きを小さくできるとしている。
特開2005−196149号公報(段落0061)
特許文献1では、黒表示時の斜め視野での色度の変動幅は小さくなるものの、実質的に補償する層が二軸異方性層一層で、この二軸異方性層の複屈折率が正分散特性の構成のため、二軸異方性層の波長依存性が残る。このような構成では、バックライトスペクトルやカラーフィルタの透過スペクトルの変化によって色味変化が発生するため、最適な色味となるように、異方性層の位相差を調整する。しかし、このような調整を行っても、例えばバックライトスペクトルのB領域とR領域とのそれぞれのピーク位置が離れて波長依存性が大きくなる場合など、色変動を解決できない場合は、異方性層の波長依存性をより小さく、理想的にはなくす必要がある。波長依存性をなくすには、光の短波長領域になるほどリタデーションが小さくなる逆分散特性の材料が必要であるが、このような材料で、上記した構成を実現する二軸異方性層の製造は難しいという問題がある。
本発明は、斜め視野における波長分散特性を抑制できる液晶表示装置を提供することを目的とする。
上記目的を達成するために、本発明の液晶表示装置は、ホモジニアス配向の液晶層と、該液晶層を挟み込む一対の透明基板とを有する液晶セルと、前記液晶セルの光入射側に配置され、偏光子よりも前記液晶層側の偏光子保護層の光学特性が等方性の第1の偏光板と、前記液晶セルの光出射側に配置され、偏光子よりも前記液晶層側の偏光子保護層の面内リタデーションがほぼ0nmで厚み方向のリタデーションが20nm乃至90nmの範囲にある第2の偏光板とを有する液晶表示装置であって、前記液晶層と前記第2の偏光板との間に、前記第2の偏光板側から順次に、層面内遅相軸方向の屈折率をns、層面内進相軸方向の屈折率をnf、層厚み方向の屈折率をnzとしたときに(ns−nz)/(ns−nf)≦0.5の関係を満たす、光学的に二軸異方性を有する第1の光学異方性層と、液晶セル面に対してほぼ垂直方向に光軸を有する第2の光学異方性層とを有し、前記第1の偏光板の光軸と前記第2の偏光板の光軸とが直交し、前記第1の光学異方性層の遅相軸と電圧無印加時の液晶配向方向と前記第2の偏光板の光透過軸とがほぼ平行に配置されることを特徴とする。
本発明の液晶表示装置は、ホモジニアス配向の液晶層と、該液晶層を挟み込む一対の透明基板とを有する液晶セルと、前記液晶セルの光出射側に配置され、偏光子よりも前記液晶層側の偏光子保護層の光学特性が等方性であり、又は、偏光子よりも前記液晶層側に偏光子保護層を含まない第1の偏光板と、前記液晶セルの光入射側に配置され、偏光子よりも前記液晶層側の偏光子保護層の面内リタデーションがほぼ0nmで厚み方向のリタデーションが20nm乃至90nmの範囲にある第2の偏光板と、前記液晶層と前記第2の偏光板との間に配置され、層面内遅相軸方向の屈折率をns、層面内進相軸方向の屈折率をnf、層厚み方向の屈折率をnzとしたときに(ns−nz)/(ns−nf)≦0.5の関係を満たす、光学的に二軸異方性を有する第1の光学異方性層と、前記液晶層と前記第1の偏光板との間に、液晶セル面に対してほぼ垂直方向に光軸を有する第2の光学異方性層とを有し、前記第1の偏光板の光軸と前記第2の偏光板の光軸とが直交し、前記第1の光学異方性層の遅相軸と電圧無印加時の液晶配向方向と前記第2の偏光板の光透過軸とがほぼ平行に配置されることを特徴とする。
本発明の液晶表示装置では、液晶セル面に対して垂直方向に光軸を有する異方性層(第2の光学異方性層)により、斜め視野での光漏れを抑制する異方性層(第1の光学異方性層)で生じる波長依存性を打ち消すことで、斜め視野における波長分散特性を抑制することができる。
以下、図面を参照し、本発明の実施の形態を詳細に説明する。図1は、本発明の第1実施形態の液晶表示装置の構成を示している。液晶表示装置は、偏光板(P1)104、液晶セル110、異方性層(Cp)116(第2の光学異方性層)、二軸異方性層(Bi)115(第1の光学異方性層)、及び、偏光板(P2)108を有する。本実施形態の液晶表示装置の構成は、図8に示す関連技術の液晶表示装置の構成に、異方性層(Cp)116が追加された構成である。
液晶セル110は、ホモジニアス配向の液晶層と、液晶層を挟み込む一対の透明基板(ガラス基板)とを有している。透明基板のうちの一方には、カラーフィルタが形成されており、1画素は、少なくともRGBの各色に対応した領域を含んでいる。液晶セル110の液晶層における液晶は、正の比誘電率を有する。或いは、負の比誘電率を有する液晶を使用してもよい。偏光板(P1)104の背面側には、図示しないバックライトが配置されている。液晶表示装置は、バックライトを光源とし、液晶セル110で光の透過と遮光をコントロールして表示を行う。
偏光板(P1)104及び偏光板(P2)108は、液晶セル110を、光入射側及び光出射側から挟み込む。光入射側の偏光板(P1)104は、偏光子101と、偏光子101を挟み込む一対の偏光子保護層102、103とを有する。偏光板(P1)104における液晶セル110側の偏光子保護層103は、光学的に等方性を有する。光出射側の偏光板(P2)108は、偏光子105と、偏光子105を挟み込む一対の偏光子保護層106、107とを有する。偏光板(P2)108における液晶セル110側の偏光子保護層107は、面内リタデーションがほぼ0nmで、厚み方向のリタデーションが20nm以上で90nm以下の範囲にある。
偏光子101における光吸収軸と、偏光子105における光吸収軸とは、互いに直交する方向とする。具体的には、偏光子101における光吸収軸をY方向に平行な方向とし、偏光子105における光吸収軸をX方向に平行な方向とする。偏光子101、105における光透過軸は、光吸収軸と直交する方向であり、偏光子101における光透過軸と、偏光子105における光透過軸とは、互いに直交する。液晶セル110における液晶の初期配向方向(液晶の光学軸方向)は、偏光板(P1)104の偏光子101における光吸収軸と平行とする。
二軸異方性層(Bi)115及び異方性層(Cp)116は、偏光板(P2)108と液晶セル110内の液晶セルとの間に、偏光板(P2)108側からこの順で配置される。二軸異方性層(Bi)115の3次元屈折率の関係は、液晶セル面に平行な面内の遅相軸方向の屈折率をns、面内の進相軸方向の屈折率をnf、厚み方向の屈折率をnzとしたとき、(ns−nz)/(ns−nf)≦0.5である。異方性層(Cp)116は、液晶セル面に対してほぼ垂直方向に光軸を有する。二軸異方性層(Bi)115の遅相軸(ns)と、電圧無印加時の液晶配向方向と、偏光板(P2)108の光透過軸とは、ほぼ平行に配置される。3次元屈折率(ns,nf,nz)については、エリプソメータや平行ニコル回転法を利用した自動複屈折計(王子計測株式会社製KOBRA)等を用いて求めることができる。
二軸異方性層(Bi)115の波長550nmの光における面内リタデーションRe(Re=(ns−nf)×d)は、異方性層(Cp)116の波長550nmの光における厚み方向のリタデーションRth(Rth={(ns+nf)/2−nz}×d)をαとしたとき、80nm+α≦Re≦230nm+αの範囲にある。また、異方性層(Cp)116の画素内の赤、青、緑の領域におけるR(650nm)・G(550nm)・B(450nm)の各波長領域における厚み方向のリタデーションRthは、
青領域Rth(450nm)>緑領域Rth(550nm)>赤領域Rth(650nm)
の関係を満たしている。青領域のリタデーションと赤領域のリタデーションとの差は、
青領域Rth(450nm)−赤領域Rth(650nm)≦92nm
とする。
なお、図1では、二軸異方性層(Bi)115及び異方性層(Cp)116を、液晶セル110の外部に配置する例を示しているが、これらは、液晶セル110内の液晶層と偏光板(P2)108との間に配置されていればよいので、液晶セル110が、液晶層よりも偏光板(P2)108側に二軸異方性層(Bi)115及び異方性層(Cp)116の少なくとも一方を内蔵する構成も可能である。例えば、液晶セル110内のカラーフィルタ層にて、カラーフィルタの青、緑、赤に、それぞれ上記した関係の厚み方向のリタデーションを持たせ、カラーフィルタ層が異方性層(Cp)116を兼ねる構成も可能である。
液晶セル110の液晶層に電圧が印加されない状態で、液晶表示装置を正面視野から観察した場合を考える。この状態では、偏光板(P1)104の光透過軸、液晶層の光軸、液晶層面にほぼ垂直な方向の異方性層(Cp)116の光軸、液晶層面内に平行な面内にある二軸異方性層(Bi)115の遅相軸が、互いに直交又は平行な配置となる。このため、光入射側の偏光板(P1)104を通過した光は、偏光変化を起こさずに、光出射側の偏光板(P2)108に到達する。偏光板(P1)104の光透過軸と偏光板(P2)108の光透過軸とは直交しているため、偏光板(P2)108に入射した光は、偏光板(P2)108で吸収される。従って、正面視野では、液晶表示装置は黒表示となる。
次に、斜め方向から観察した場合を考える。斜め方向から液晶表示装置を観察すると、正面方向では直交していた偏光板(P1)104の光透過軸及び偏光板(P2)108の光透過軸とが、直交方向からずれる。これにより、光漏れが発生する。関連技術における光学補償手法(図8)では、この光漏れを、以下のようにして抑制している。まず、一方の液晶セル側の偏光子保護層、例えば光入射側の偏光板208の偏光子保護層205を等方性にする。この偏光子保護層205を、セル面に対して垂直方向に光軸を有する負の一軸異方性のものから等方性のものに代えることで、液晶層に対して、直線偏光のままで光を入射することができる。
液晶層では、配向方向(光軸)が光入射面にあるために偏光変化が起こらず、直線偏光のままで透過させることができる。このため、ここまでは入射直線偏光のままで各層を透過し、色付き(波長分散)は発生しない。ここで、等方性とした偏光子保護層205の代わりに、入手の容易な一軸位相差板を液晶層光軸方向と平行に配置して用いても、上記と同様の効果を得ることができる。これは、上記の液晶層で偏光変化が起きないのと同じ状態であるため、液晶層に入射する偏光状態は変わらないためである。
次に、光学補償層(二軸異方性層)214の3次元屈折率の関係が(ns−nz)/(ns−nf)≦0.5にある場合、光学補償層214と出射側偏光板204の液晶層側の偏光子保護層203のリタデーションとの組み合わせにより、斜め視野にて、これらを、液晶セル210を出射した直線偏光と出射側偏光板204の光吸収軸との間に光軸があるλ/2波長板とすることができる。この部分で、斜め視野にて、液晶セル210を出射した直線偏光の偏光方向を、出射側偏光板204の光透過軸と直交するように偏光変化させることで、斜め視野での光を漏れを抑えることができる。
図2に、方位角φ及び極角(90°−θ)の定義を示す。図2に示すX軸を偏光板の光軸方向として、偏光板の光軸方向を方位角φ=0と定義する。また、XY平面からZ軸への回転角をθと定義し、極角を(90°−θ)と定義する。図3に、光学補償層214の面内リタデーションReと、方位角45°、極角45°(θ=45°)での透過率比との関係を示す。図3では、透過率比(輝度比)は、光学補償層214(二軸異方性層(Bi)115)がない状態における方位角45°、極角45°での黒表示時の輝度(黒輝度)を1として規格化している。ここでは、光学補償しない場合に比べて、十分に光漏れを抑制できる範囲として、光学補償しない場合に比して黒輝度を半分以下とする範囲(輝度比0.5以下の範囲)を選定する。図3より、輝度比を0.5以下とする二軸異方性層(Bi)115の面内リタデーションReの範囲として、80nm≦Re≦230nmが得られる。
上記のように、二軸異方性層(Bi)115の面内リタデーションReを、80nm≦Re≦230nmとすることで、光漏れを抑制できる。しかし、二軸異方性層(Bi)115と偏光子保護層とによる位相差補償は、実質的に一方向の偏光変化であるため、二軸異方性層(Bi)115の複屈折波長依存性による色付きが発生する。本実施形態では、この部分の複屈折波長依存性を、液晶セル面に対してほぼ垂直方向に光軸を有する異方性層(Cp)116を追加することで抑える。すなわち、異方性層(Cp)116にて、二軸異方性層(Bi)115で生じる偏光変化と逆方向に偏光変化させることで、異方性層(Cp)116−二軸異方性層(Bi)115−偏光子保護層107の全体を、広帯域波長板化する。
異方性層(Cp)116を追加する場合、波長550nmの光における二軸異方性層(Bi)115の面内リタデーションをRe(550nm)、緑領域における異方性層(Cp)116の厚み方向のリタデーションRth(550nm)をαとおけば、これらの組合せのリタデーションは、Re−αで表せる。従って、これら2つの層の波長550nmの光におけるリタデーションを、光漏れが抑制できる範囲である80nm〜230nmとするためには、二軸異方性層(Bi)115の波長550nmの光における面内リタデーションReをα分だけシフトさせて、80nm+α≦Re≦230nm+αの範囲とすればよい。この範囲とすることで、光漏れの抑制が可能である。
図4に、二軸異方性層(Bi)の面内リタデーション及び異方性層(Cp)の厚み方向のリタデーションの波長依存性を示す。同図では、二軸異方性層(Bi)115の面内リタデーションRe/λ、及び、異方性層(Cp)116の厚み方向のリタデーションRth/λを、それぞれ550nmで規格化して示している。異方性層(Cp)116−二軸異方性層(Bi)115−偏光子保護層107の全体を広帯域波長板化するためには、図4に示すように、異方性層(Cp)116の光学特性条件は、二軸異方性層(Bi)115で生じる複屈折波長依存性を打ち消すだけの大きさであればよい。
広帯域波長板化できる条件を求めるために、異方性層(Cp)116の厚み方向をリタデーションRthをパラメータにしてシミュレーションを行った。シミュレーション条件を表1に、結果を表2から表4に示す。本シミュレーションでは、二軸異方性層(Bi)115の波長依存性(緑領域を基準として、緑領域と青領域との差、緑領域と赤領域との差)によって色付きが発生していることから、緑領域における波長550nmの光に対するリタデーションRth(550nm)を0nmに固定し、青領域における波長450nmの光に対するリタデーションRth(450nm)と赤領域における波長650nmの光に対するリタデーションRth(650nm)とをパラメータとして、計算を行った。結果には、偏光状態を表現するストークスパラメータ(s1,s2,s3)を用い、赤領域及び青領域それぞれのストークスパラメータが、緑領域のストークスパラメータに近づく範囲(緑領域の偏光状態に揃った状態、緑領域のストークスパラメータとの距離Rが小さい)から、異方性層(Cp)116の光学特性条件を導いた。
Figure 2009092738
Figure 2009092738
Figure 2009092738
Figure 2009092738
表2は、関連技術相当の異方性層(Cp)116なしのシミュレーション結果を示している。ここでは、緑領域(550nm)でのストークスパラメータは、(s1,s2,s3)=(0,0,0)とする。表3は、赤領域のリタデーションRth(650nm)のシミュレーション結果を示している。赤領域で、波長650nmの光に対するリタデーションRth(450nm)を0nmからマイナス方向に変化させると、緑領域のストークスパラメータ(s1,s2,s3)=(0,0,0)との距離Rは、約−26nmで最小となり、次第に離れて約−50nmで、0nmのときと同程度の距離となる。このことから、赤領域における波長650nmの光に対する厚み方向のリタデーションRth(650nm)を、−50nm≦赤領域Rth(650nm)<0nmの範囲とすることで、赤の色付きを抑えることができることがわかる。
次に、表4は、青領域のリタデーションRth(450nm)のシミュレーション結果を示している。青領域で、波長450nmの光に対するリタデーションを0nmからプラス方向に変化させると、緑領域のストークスパラメータとの距離Rは、約20nmで最小となり、次第に離れて約42nmで、0nmのときと同程度の距離となる。このことから、青領域における波長450nmの光に対する厚み方向のリタデーションRth(450nm)を、0nm<青領域Rth(450nm)≦42nmの範囲とすることで、青の色付きを抑えることができることがわかる。
上記シミュレーション結果から、異方性層(Cp)116の緑領域における波長550nmの光に対する厚み方向のリタデーションRth(550nm)をほぼ0nmとする場合は、異方性層(Cp)116の青領域における波長450nmの光に対する厚み方向のリタデーションRth(450nm)を青領域Rth(450nm)>0とし、赤領域における波長650nmの光に対する厚み方向のリタデーションRth(650nm)を赤領域Rth(650nm)<0とすることで、色付きを抑制できることがわかる。これは、3次元屈折率(ns,nf,nz)の関係で言えば、青領域は(ns−nz)/(ns−nf)≧1とし、赤領域は(ns−nz)/(ns−nf)≦−1とすることに相当する。
また、青領域における波長450nmの光に対する厚み方向のリタデーションと、赤領域における波長650nmの光に対する厚み方向のリタデーションとの差は、青領域Rth(450nm)−赤領域Rth(650nm)≧92nmとすればよい。より詳細には、異方性層(Cp)116の青領域における波長450nmの光に対する厚み方向のリタデーションRth(450nm)は、0nm<青領域Rth(450nm)≦42nmの範囲とし、赤領域における波長650nmの光に対する厚み方向のリタデーションRth(650nm)は、−50nm≦赤領域Rth(650nm)<0nmの範囲とすればよい。この範囲に設定することで、色ずれを抑えることができる。
上記シミュレーションでは、異方性層(Cp)116の緑領域における波長550nmの光に対するリタデーションRth(550nm)を、緑領域Rth(550nm)≒0nmとして計算した。緑領域Rth(550nm)≒0nmとする場合は、二軸異方性層(Bi)115の波長550nmの光における面内リタデーションReは、関連技術と同様に、80nm≦Re≦230nmとすればよい。この場合は、二軸異方性層(Bi)115として、関連技術と同様の光学特性のものを用いることができ、新しい光学特性のものを準備しなくても、異方性層(Cp)116の各波長におけるリタデーションを、画素内の青、緑、赤の各領域に対応させて、上記したリタデーションに設定することで、広帯域波長板化が可能である。
異方性層(Cp)116の緑領域のリタデーションを、Rht(550nm)≠0とする場合は、青領域及び赤領域のそれぞれにおける波長450nmの光及び波長650nmの光に対する厚み方向のリタデーションRth(450nm)、Rth(650nm)を、それぞれ緑領域Rthの厚み方向のリタデーション(α)分だけずらしてやればよい。この場合、各領域の各波長に対するリタデーションの関係は、青領域Rth(450nm)>緑領域Rth(550nm)>赤領域Rth(650nm)となる。異方性層(Cp)116の赤領域における波長650nmの光に対する厚み方向のリタデーションRth(650nm)は、上記した範囲からα分だけシフトさせて、−50nm+α≦赤領域Rth(650nm)<αの範囲とすればよい。同様に、青領域における波長450nmの光に対する厚み方向のリタデーションRth(450nm)は、α<青領域Rth(450nm)≦42nm+αとすればよい。
なお、上記で計算した結果は、二軸異方性層(Bi)115の波長450nmの光における位相差と波長550nmの光における位相差との比(450nm/550nm)が、一般的な約1.2のもので計算した結果である。この値が変われば、異方性層(Cp)116の光学特性範囲も変化することになる。そのときは、上記と同様な手順によって、広帯域波長板化が可能な異方性層(Cp)116の厚み方向のリタデーションRthの範囲を導けばよい。
図5に、図8に示す関連技術の構成での正面方向及び斜め視野での透過光スペクトルとバックライトスペクトルとを示す。斜め視野は、φ=偏光板光吸収軸+45°、極角90°−θ=45°の方向とする。正面方向では、液晶セルの透過率スペクトルがバックライトスペクトルピークの部分で強度差がないため色付きがない。これに対し、斜め視野では、液晶セルの透過率スペクトルが青領域と赤領域で大きく異なっており、色づきが発生する。また、例えば、図5中に矢印で示す部分のように、バックライトスペクトルの赤領域のピークが右(長波長側)にずれたときには、赤色の斜め視野での透過率が上昇し、赤の強度が強まるため、表示色が赤方向に色シフトする。
図6に、本実施形態における正面方向及び斜め視野での透過光スペクトルとバックライトスペクトルとを示す。図5と図6とを比較すると、本実施形態の構成とすることで、斜め視野での赤、緑、青の各領域の透過率の差を小さくできることがわかる。また、斜め視野での透過光スペクトルの波長変化に対する透過率変化が小さいため、図6中に矢印で示す部分のように、バックライトスペクトルの赤領域のピークが右にずれたときでも、赤色の斜め視野での透過率はあまり変化せず、色シフトが発生しない。このように、本実施形態では、斜め視野で観察した際に、正面方向との色度差が小さく、かつ、バックライトスペクトルによらない光学補償が可能である。
本実施形態では、二軸異方性層(Bi)115の液晶セル110側に、液晶セル面に対して垂直方向に光軸を有する異方性層(Cp)116を追加する。この異方性層(Cp)116により、二軸異方性層(Bi)115で生じる波長分散を補償することで、斜め視野における色付きを抑制できる。具体的には、異方性層(Cp)116の各波長の光に対する厚み方向のリタデーションを、画素内の赤領域、緑領域、青領域のそれぞれに対応して、赤領域Rth(650nm)>緑領域Rth(550nm)>青領域Rth(450nm)に設定する。このように設定することで、二軸異方性層(Bi)115と異方性層(Cp)116との組合せにおけるリタデーションの波長依存性を低くすることができ、色付きを抑制できる。本実施形態の液晶表示装置は、広視野角を実現できるため、広視野角が求められるデスクトップモニターやTVの用途に好適に用いることができる。
図7は、本発明の第2実施形態の液晶表示装置を示している。本実施形態の構成は、図8に示す構成にて、光入射側と光出射側とを入れ替え、液晶セル110と光出射側の偏光板(P1)104との間に異方性層(Cp)116を挿入した構成である。本実施形態では、二軸異方性層(Bi)115は、光入射側の偏光板(P2)108と液晶セル110との間に配置される。偏光板(P2)108の液晶セル110側の偏光子保護層107の面内リタデーションはほぼ0nmで、厚み方向のリタデーションRthは20nm乃至90nmである。
二軸異方性層(Bi)115の3次元屈折率の関係は、面内遅相軸方向の屈折率をns、面内進相軸方向の屈折率をnf、厚み方向の屈折率をnzとしたとき、(ns−nz)/(ns−nf)≦0.5である。二軸異方性層(Bi)115の遅相軸(ns)と、電圧無印加時の液晶配向方向と、偏光板(P2)108の光透過軸とは、平行に配置する。波長550nmの光に対する二軸異方性層(Bi)115の面内リタデーションReは、緑領域における異方性層(Cp)116の波長550nmの光に対する厚み方向のリタデーションRth(550nm)をαとして、80nm−α≦Re≦230nm−αの範囲とする。
異方性層(Cp)116は、光出射側の偏光板(P1)104と液晶セル110との間に配置される。偏光板(P1)104の液晶セル110側の偏光子保護層103は、光学特性が等方性を有する。この偏光子保護層103を配置しない構成も可能である。異方性層(Cp)116は、液晶セル面に対して、ほぼ垂直方向に光軸を有する。異方性層(Cp)116のR(650nm)、G(550nm)、B(450nm)の光に対するリタデーションRthは、青領域Rth(450nm)<緑領域Rth(550nm)<赤領域Rth(650nm)の関係を満たす。赤領域のリタデーションRth(650nm)と青領域のリタデーションRth(450nm)との差は、第1実施形態と同様に92nm以下、すなわち、赤領域Rth(650nm)−青領域Rth(450nm)≦92nmとする。緑領域のリタデーションRth(550nm)をほぼ0nm、すなわち、等方性とする場合は、青領域のリタデーションRth(450nm)をRth(450nm)<0とし、赤領域のリタデーションRth(650nm)をRth(650nm)>0とすればよい。このとき、0nm<赤領域Rth(650nm)≦50nm、−42nm≦青領域Rth(450nm)<0nmである。
二軸異方性層(Bi)115は、第1実施形態と同様に、斜め視野にて、光入射側偏光板(P2)108の偏光子105の光透過軸と、光出射側偏光板(P1)104の偏光子101の光吸収軸との間に光軸を有するλ/2板として機能する。光入射側の偏光子105を透過した直線偏光は、二軸異方性層(Bi)115で偏光方向が変化し、光出射側の偏光子101の光吸収軸に平行となる。ここで、全ての光の偏光状態が揃っていれば、液晶配向方向(光軸)は光入射面に含まれる配置であるため、液晶層を透過する間に偏光変化は生じない。しかし、正確には、光出射側の偏光子101の光吸収軸に一致するのは波長550nmの付近の光のみであり、波長450nmや650nmの光は、偏光子101と二軸異方性層(Bi)115の複屈折波長依存性により、異なる偏光状態(楕円偏光)になる。このような状態で液晶層に入射するため、波長450nmや650nmの光は、液晶層のほぼλ/2板リタデーション(正面方向で250nm〜450nm)によって変化し、液晶層を出射した光は、液晶入射前の偏光回転方向と左右逆回転の楕円偏光となる。そのため、第1実施形態で与えたのとは逆符号のリタデーションの異方性層(Cp)116を、偏光板(P1)104と液晶セル110との間に配置することで、偏光子保護層107と二軸異方性層(Bi)115と液晶層とで生じる複屈折波長依存性を打ち消し、全波長領域で、光出射側の偏光子101の光吸収軸方向に揃った直線偏光とすることができ、色付きの発生を抑えることができる。
以上、本発明をその好適な実施形態に基づいて説明したが、本発明の液晶表示装置は、上記実施形態にのみ限定されるものではなく、上記実施形態の構成から種々の修正及び変更を施したものも、本発明の範囲に含まれる。
本発明の第1実施形態の液晶表示装置の構成を示す斜視図。 方位角及び極角の定義を示す斜視図。 二軸異方性層(Bi)の面内リタデーションと透過率比との関係を示すグラフ。 二軸異方性層(Bi)の面内リタデーション及び異方性層(Cp)の厚み方向のリタデーションの波長依存性を示すグラフ。 関連技術における透過率の波長依存性を示すグラフ。 第1実施形態における透過率の波長依存性を示すグラフ。 本発明の第2実施形態の液晶表示装置の構成を示す斜視図。 関連技術の液晶表示装置の構成を示す斜視図。
符号の説明
101、105:偏光子
102、103、106、107:偏光子保護層
104、108:偏光板
110:液晶セル
115:二軸異方性層(Bi)
116:異方性層(Cp)

Claims (12)

  1. ホモジニアス配向の液晶層と、該液晶層を挟み込む一対の透明基板とを有する液晶セルと、前記液晶セルの光入射側に配置され、偏光子よりも前記液晶層側の偏光子保護層の光学特性が等方性の第1の偏光板と、
    前記液晶セルの光出射側に配置され、偏光子よりも前記液晶層側の偏光子保護層の面内リタデーションがほぼ0nmで厚み方向のリタデーションが20nm乃至90nmの範囲にある第2の偏光板とを有する液晶表示装置であって、
    前記液晶層と前記第2の偏光板との間に、前記第2の偏光板側から順次に、層面内遅相軸方向の屈折率をns、層面内進相軸方向の屈折率をnf、層厚み方向の屈折率をnzとしたときに(ns−nz)/(ns−nf)≦0.5の関係を満たす、光学的に二軸異方性を有する第1の光学異方性層と、液晶セル面に対してほぼ垂直方向に光軸を有する第2の光学異方性層とを有し、
    前記第1の偏光板の光軸と前記第2の偏光板の光軸とが直交し、前記第1の光学異方性層の遅相軸と電圧無印加時の液晶配向方向と前記第2の偏光板の光透過軸とがほぼ平行に配置されることを特徴とする液晶表示装置。
  2. 前記第2の光学異方性層のR(650nm)・G(550nm)・B(450nm)の各波長領域における厚み方向のリタデーションRthが、Rth(450nm)>Rth(550nm)>Rth(650nm)の関係を満たし、かつ、Rth(450nm)−Rth(650nm)≦92nmの関係を満たすことを特徴とする、請求項1に記載の液晶表示装置。
  3. 前記第2の光学異方性層のR(650nm)・G(550nm)・B(450nm)の各波長領域における厚み方向のリタデーションRthが、Rth(450nm)>0、Rth(550nm)≒0、Rth(650nm)<0であり、かつ、−50nm≦Rth(650nm)<0nm、0<Rth(450nm)≦42nmであることを特徴とする、請求項1に記載の液晶表示装置。
  4. 青領域における前記第2の光学異方性層の3次元屈折率の関係が、波長450nmの光に対して(ns−nz)/(ns−nf)≧1であり、赤領域における前記第2の光学異方性層の3次元屈折率の関係が、波長650nmの光に対して(ns−nz)/(ns−nf)≦−1であることを特徴とする、請求項1〜3の何れか一に記載の液晶表示装置。
  5. ホモジニアス配向の液晶層と、該液晶層を挟み込む一対の透明基板とを有する液晶セルと、
    前記液晶セルの光出射側に配置され、偏光子よりも前記液晶層側の偏光子保護層の光学特性が等方性であり、又は、偏光子よりも前記液晶層側に偏光子保護層を含まない第1の偏光板と、
    前記液晶セルの光入射側に配置され、偏光子よりも前記液晶層側の偏光子保護層の面内リタデーションがほぼ0nmで厚み方向のリタデーションが20nm乃至90nmの範囲にある第2の偏光板と、
    前記液晶層と前記第2の偏光板との間に配置され、層面内遅相軸方向の屈折率をns、層面内進相軸方向の屈折率をnf、層厚み方向の屈折率をnzとしたときに(ns−nz)/(ns−nf)≦0.5の関係を満たす、光学的に二軸異方性を有する第1の光学異方性層と、
    前記液晶層と前記第1の偏光板との間に、液晶セル面に対してほぼ垂直方向に光軸を有する第2の光学異方性層とを有し、
    前記第1の偏光板の光軸と前記第2の偏光板の光軸とが直交し、前記第1の光学異方性層の遅相軸と電圧無印加時の液晶配向方向と前記第2の偏光板の光透過軸とがほぼ平行に配置されることを特徴とする液晶表示装置。
  6. 前記第2の光学異方性層のR(650nm)・G(550nm)・B(450nm)の各波長領域における厚み方向のリタデーションRthが、Rth(450)<Rth(550)<Rth(650)を満たし、かつ、赤領域Rth(650)−青領域Rth(450)≦92nmを満たすことを特徴とする、請求項5に記載の液晶表示装置。
  7. 前記第2の光学異方性層のR(650nm)・G(550nm)・B(450nm)の各波長領域における厚み方向のリタデーションRthが、青領域Rth(450nm)<0、緑領域Rth(550nm)≒0、赤領域Rth(650nm)>0であり、かつ、0nm<赤領域Rth(650nm)≦50nm、−42nm≦青領域Rth(450nm)<0nmであることを特徴とする、請求項5又は6に記載の液晶表示装置。
  8. 青領域における前記第2の光学異方性層の3次元屈折率の関係が、波長450nmの光に対して(ns−nz)/(ns−nf)≦−1であり、赤領域における前記第2の光学異方性層の3次元屈折率の関係が、波長650nmの光に対して(ns−nz)/(ns−nf)≧1であることを特徴とする、請求項5〜7の何れか一に記載の液晶表示装置。
  9. 緑領域における前記第2の光学異方性層の波長550nmの光に対する厚み方向のリタデーション緑領域Rth(550nm)を、緑領域Rth(550nm)=αとしたとき、前記第1の光学異方性層の面内リタデーションReが、波長550nmの光に対して80nm+α≦Re≦230nm+αの範囲にあり、かつ、赤領域における前記第2の光学異方性層の波長650nmの光に対する厚み方向のリタデーション赤領域Rth(650nm)が−50nm+α≦赤領域Rth(650nm)<0nm+αで、青領域における前記第2の光学異方性層の波長450nmの光に対する厚み方向のリタデーション青領域Rth(450nm)が0nm+α<青領域Rth(450nm)≦42nm+αであるとことを特徴とする、請求項1〜4の何れか一に記載の液晶表示装置。
  10. 緑領域における前記第2の光学異方性層の波長550nmの光に対する厚み方向のリタデーション緑領域Rth(550nm)を、緑領域Rth(550nm)=αとしたとき、前記第1の光学異方性層の面内リタデーションReが波長550nmの光において80nm−α≦Re≦230nm−αの範囲にあり、かつ、赤領域における前記第2の光学異方性層の波長650nmの光に対する厚み方向のリタデーション赤領域Rth(650nm)が0nm+α≦赤領域Rth(650nm)≦50nm+αで、青領域における前記第2の光学異方性層の波長450nmの光に対する厚み方向のリタデーション青領域Rth(450nm)が−42nm+α<青領域Rth(450nm)≦0nm+αの範囲にあることを特徴とする、請求項5〜8の何れか一に記載の液晶表示装置。
  11. 緑領域における前記第2の光学異方性層が、光の波長が550nm±20nmの範囲で等方性であることを特徴とする、請求項1〜10の何れか一に記載の液晶表示装置。
  12. 前記液晶層の液晶が、正の比誘電率を有することを特徴とする、請求項1〜11の何れか一に記載の液晶表示装置。
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