JP2009083495A - インプリント用レジスト膜 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板側に配置された深層部と、前記深層部上に配置され、前記深層部に比してフッ素化合物含有量が多い表層部とを備えることを特徴とするインプリント用レジスト膜を要旨とする。
【選択図】図1
Description
本発明の第1の実施形態に係るインプリント用レジスト膜は、図1に示すように、基板10側に配置された深層部22aと、深層部22a上に配置され、深層部22aに比してフッ素化合物含有量が多い表層部26aとを備える。基板10には、シリコン基板等の半導体基板、通常のガラス基板及び石英ガラス基板等を用いることができる。
(イ)まず、図2に示すように、例えばシリコン等の半導体材料からなる基板10を用意する。そして、プロピレングリコールモノエチルアセテート(PGMEA)等の溶媒に高分子材料と、化学式(1)〜(6)に示すようなパーフルオロポリエーテル誘導体、及びHOCH2(CF2)8CH2OH、CF3O(CF2CF2O)2CF2COOCH3、[CF3(CF2)5]N、CF3CF2(CF2OCF(CF3))3COOCH3等のパーフルオロアルキル誘導体等のフッ素化合物を混入してレジスト溶液21aを調製する。高分子材料とフッ素化合物との混合を容易にするために、レジスト溶液21aに界面活性剤を加えても構わない。
本発明の第2の実施形態に係るインプリント用レジスト膜は、図2に示すように、第1の実施形態に係るレジスト膜と同様に、深層部22bと表層部26bとを備える。つまり図1に示したレジスト膜と実質的に同様であるので、重複した記載を省略する。
(イ)まず、図5に示すように、例えばシリコン等の半導体材料からなる基板10を用意する。そして、PGMEA等の溶媒にノボラック樹脂等の高分子材料を溶媒に溶解して等のパーフルオロアルキル誘導体等のフッ素化合物をレジスト溶液を調製する。
上記のように、本発明は実施形態によって記載したが、この開示の一部をなす記述及び図面はこの発明を限定するものであると理解するべきではない。この開示から当業者には様々な代替実施形態、実施例及び運用技術が明らかになるはずである。第1及び第2の実施形態で示したレジスト膜を、膜表面の汚れ防止などの保護層に適用することも当然できる。この様に、本発明はここでは記載していない様々な実施形態等を包含するということを理解すべきである。したがって、本発明はこの開示から妥当な特許請求の範囲の発明特定事項によってのみ限定されるものである。
21a…レジスト溶液
22a,22b…深層部
26a,26b…表層部
Claims (5)
- 基板側に配置された深層部と、
前記深層部上に配置され、前記深層部に比してフッ素化合物含有量が多い表層部
とを備えることを特徴とするインプリント用レジスト膜。 - 前記表層部は、フッ素化合物としてパーフルオロエーテル誘導体及びパーフルオロアルキル誘導体の少なくとも一方を含むことを特徴とする請求項1に記載のインプリント用レジスト膜。
- 前記深層部及び前記表層部は、
前記基板上にフッ素化合物を含むレジスト溶液を塗布しレジスト層を形成する工程と、
前記レジスト層中のフッ素化合物を、前記基板に接した主面に対向する主面方向に移行させることにより、前記基板側に配置された深層部及び前記深層部上に配置され前記深層部に比してフッ素化合物含有量が多い表層部を形成する工程
とを含む工程により形成されたものであって、
前記レジスト溶液は、高分子化合物と、パーフルオロエーテル誘導体及びパーフルオロアルキル誘導体の少なくとも一方と、の混合物であることを特徴とする請求項1記載のインプリント用レジスト膜。 - 前記深層部及び前記表層部は、
前記基板上にフッ素化合物を含むレジスト溶液をスピンコートしレジスト層を形成する工程と、
前記レジスト層中のフッ素化合物を、前記基板に接した主面に対向する主面方向に移行させることにより、前記基板側に配置された深層部及び前記深層部上に配置され前記深層部に比してフッ素化合物含有量が多い表層部を形成する工程
とを含む工程により形成されたものであって、
前記レジスト溶液は、パーフルオロエーテル誘導体及びパーフルオロアルキル誘導体の少なくとも一方を含むことを特徴とする請求項1記載のインプリント用レジスト膜。 - 前記深層部及び前記表層部は、
前記基板をフッ素化合物を含むレジスト溶液に浸漬することによりレジスト層を形成する工程と、
前記レジスト層中のフッ素化合物を、前記基板に接した主面に対向する主面方向に移行させることにより、前記基板側に配置された深層部及び前記深層部上に配置され前記深層部に比してフッ素化合物含有量が多い表層部を形成する工程
とを含む工程により形成されたものであって、
前記レジスト溶液は、パーフルオロエーテル誘導体及びパーフルオロアルキル誘導体の少なくとも一方を含むことを特徴とする請求項1記載のインプリント用レジスト膜。
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