JP2009050303A - 弾球遊技機の発射ハンドル装置 - Google Patents

Abstract

【課題】異物で任意の角度に固定された状態であることに気づかずにハンドルに触れることによる意図しない遊技球の発射を回避できる弾球遊技機の発射ハンドル装置の提供。
【解決手段】終端部にハンドル１２が設けられたベース体１１は、一体皿ユニット１にハンドル１２が最も近づく第１位置と、一体皿ユニット１からハンドル１２が最も離れる第２位置の間を上下方向に回動可能に一体皿ユニット１に保持されている。トーションスプリング１４により第１位置よりも低い位置にベース体１１の初期位置が設定されている。第１位置検出用センサ１５は初期位置にあるベース体１１を検知し、第２位置検出用センサ１６は第２位置にあるベース体１１を検知する。第１位置検出用センサ１５により検知された状態、または、第１，第２位置検出用センサ１５，１６いずれにもベース体１１が検知されない状態のないときに、発射装置が発射可能状態になることを禁止する。
【選択図】図３

Description

本発明は、ハンドルの回動角度に応じた発射強度で遊技球を遊技領域に発射する弾球遊技機の発射ハンドル装置に関するものである。

パチンコ機に代表される弾球遊技機の発射ハンドル装置は、通常、弾球遊技機から前方に突出したベース体と、このベース体の前端部に固定されたフェースカバーと、これらベース体とフェースカバーとの間に配置され回動操作可能で初期位置に自己復帰可能なハンドルとを備えている。

遊技球を遊技領域に発射する発射装置は、モータやソレノイド等の電動アクチュエータで打撃槌を駆動して遊技球を打つことより、遊技球を発射する。ハンドルの回動角度はロータリボリューム等の角度検出素子で検出され、この角度検出素子から出力された検出信号に基づいて電動アクチュエータの駆動力、すなわち発射強度が制御される。これにより、ハンドルの回動角度に応じた発射強度で遊技球が遊技領域に発射される。

ハンドルは樹脂成形品の表面に良導電性材料のメッキ加工を施してなる。この回動操作体の表面は、タッチ回路に含まれている。タッチ回路は、ハンドルの表面に電気的に接続されたコンデンサを有し、このコンデンサにおける静電容量の変化によってハンドルへの遊技者の接触を検知したときに、発射装置に電力を供給して発射装置を発射可能状態にするものである。

この種の発射ハンドル装置としては例えば特許文献１で開示されたものがある。
特開２０００−１４８６８号公報

前述した発射ハンドル装置では、ハンドルを任意の角度まで回動操作した状態で、固定側部材であるベース体やフェースカバーと可動側部材であるハンドルとの間にメダルやコイン等の異物を挟み込ませることによって、遊技者がハンドルから手を離しても、ハンドルが初期位置に戻らずにその任意の角度に固定された状態にすることができる。このことは、ハンドルに触れるだけで、発射装置に遊技球を一定の発射強度で発射させ続けるという不正行為を許す要因となっている。

その不正行為を行った遊技者の中には、異物によりハンドルを任意の角度に固定したまま遊技をやめて弾球遊技機から去る者がいる。ハンドルが任意の角度に固定された状態では、角度検出素子がその任意の角度に相応する検出信号を出力している状態なので、タッチ回路によりハンドルへの遊技者の接触が検知されれば、発射装置は直ちにその検出信号に応じた発射強度で遊技球を発射する。このため、異物により任意の角度に固定された状態であることを知らずにハンドルに触れると、遊技者の意図しない遊技球の発射が行われることになる。

本発明は、前述の実状を考慮してなされたものであり、異物により任意の角度に固定された状態であることに気づかずにハンドルに触れることによる意図しない遊技球の発射を回避できる弾球遊技機の発射ハンドル装置を提供することにある。

本発明は前述の目的を達成するために次のように構成されている。

〔１〕本発明は、弾球遊技機から突出したベース体と、このベース体の先端部に回動操作可能で初期位置に自己復帰可能に設けられたハンドルと、このハンドルの初期位置からの回動角度を検出して検出信号を出力する角度検出素子と、この角度検出素子からの検出信号に応じた発射強度で遊技球を発射する発射装置と、前記ハンドルへの遊技者の接触を検知したときに前記発射装置を発射可能状態にするタッチ回路とを備えた弾球遊技機の発射ハンドル装置において、前記弾球遊技機に前記ハンドルが最も近づく第１位置と前記弾球遊技機から前記ハンドルが最も離れる第２位置との間を移動可能に前記ベース体が前記弾球遊技機に保持され、前記ベース体を前記第２位置から前記第１位置に向う方向に付勢して、前記ベース体の初期位置を可動範囲の前記第１位置側に規定する付勢手段と、前記ベース体の位置を検出する位置検出手段と、この位置検出手段の検出結果および前記タッチ回路の検知結果に基づいて前記発射装置を制御する制御手段とが設けられ、前記制御手段は、前記初期位置から前記第２位置までの範囲の中央よりも前記第２位置側に予め設定された基準位置よりも前記第１位置側に前記ベース体が位置するときには、前記タッチ回路により前記ハンドルへの遊技者の接触が検知されることに関わらず前記発射装置が発射可能状態になることを禁止し、これ以外のときにはタッチ回路により前記ハンドルへの遊技者の接触が検知されたことに伴って前記発射装置が発射可能状態になることを許可することを特徴とする。なお、初期位置は第１位置と一致していてもよい。また、基準位置は第２位置と一致していてもよい。

このように構成された本発明では、遊技を行う際に、まず、ハンドルを把持してベース体を初期位置から基準位置に移動させる。この間、タッチ回路はハンドルへの遊技者の接触を検知した状態にあるから、位置検出手段によりベース体が基準位置に達したことが検出されると、すなわち、ベース体が基準位置よりも第１位置側の範囲に位置していない状態になると、制御手段は発射装置が発射可能状態になることを許可する。これにより、遊技者はハンドルを回動操作して所望の発射強度の遊技球を発射できるようになる。

一方、ベース体が基準位置よりも第１位置側の範囲に位置した状態では、制御手段はタッチ回路によりハンドルへの遊技者の接触が検知されることに関わらず発射装置が発射可能状態になることを禁止するので、異物により任意の角度に固定された状態であることに気づかずにハンドルに触れても、遊技球を発射しない。遊技者はベース体を基準位置よりも第１位置側の範囲に位置させた状態でハンドルを回動操作してみることによって、異物によりハンドルが固定された状態であるかどうかを確認でき、異物が見つかった場合にはその異物を排除してからハンドルを基準位置から第２位置までの範囲に移動させることができる。これにより、異物により任意の角度に固定された状態であることに気づかずにハンドルに触れることによる意図しない遊技球の発射を回避できる。

〔２〕本発明は、「〔１〕」に記載の発明において、前記第１位置に前記ベース体が位置するときの前記ハンドルの位置よりも、前記第２位置に前記ベース体が位置するときの前記ハンドルの位置が低くなるように前記第１，第２位置が設定され、前記ベース体が前記第１位置と前記第２位置との間を上下方向に回動可能に前記弾球遊技機に保持されたことを特徴とするものであってもよい。

このように構成された本発明では、ハンドルを把持した手の自重によりベース体を第１位置から第２位置に移動させることができる。また、ベース体を第２位置に手の自重により保持することができる。つまり、第１位置にベース体が位置するときのハンドルの位置よりも、第２位置にベース体が位置するときのハンドルの位置が高く設定された場合や、第１位置と第２位置とが同じ高さ位置に設定されてベース体が左右方向や前後方向に移動可能に設けられた場合と比較して、ベース体を操作したり第２位置に保持したりするのに要する体力的な負担を軽減させることができる。

〔３〕本発明は、「〔１〕」または「〔２〕」に記載の発明において、前記制御手段により制御される報知手段が設けられ、前記位置検出手段により前記ベース体が前記初期位置に位置していることが検知され、かつ、前記角度検出素子から検出信号が出力され、かつ、前記タッチ回路により前記ハンドルへの遊技者の接触が検知されないときに、前記制御手段が前記報知手段を作動させることを特徴とするものであってもよい。

異物により任意の角度に固定されたハンドルが放置されると、ベース体が初期位置に位置し、かつ、角度検出素子から検出信号が出力され、かつ、タッチ回路によりハンドルへの遊技者の接触が検知されない状態になる。したがって、「〔３〕」に記載の発明によれば、異物により任意の角度に固定されたハンドルが放置されたことを、報知手段によって遊技場の職員や遊技者に報知できる。

本発明によれば、ベース体が基準位置よりも第１位置側にある状態では、制御手段はタッチ回路によりハンドルへの遊技者の接触が検知されることに関わらず発射装置が発射可能状態になることを禁止するので、遊技者はベース体を基準位置よりも第１位置側に位置させた状態でハンドルを回動操作してみることによって、異物によりハンドルが固定されているかどうかを確認でき、異物が見つかった場合にはその異物を排除してからハンドルを基準位置から第２位置までの範囲に移動させることができる。これにより、異物により任意の角度に固定された状態であることに気づかずにハンドルに触れることによる意図しない遊技球の発射を回避できる。

本発明の一実施形態に係る弾球遊技機の発射ハンドル装置について図１〜９を用いて説明する。図１は本発明の一実施形態に係る発射ハンドル装置が設けられた弾球遊技機の一体皿ユニットの前面図である。図２は本発明の一実施形態に係る発射ハンドル装置に備えられたハンドルセットおよびその周辺の上面図である。図３は図２に示したハンドルセットおよびその周辺の左側面図である。図４は図２に示したベース体が第２位置に位置したときのハンドルセットおよびその周辺の上面図である。図５は図４に示したハンドルセットおよびその周辺の左側面図である。図６はベース体が第２位置に位置したときの一体皿ユニットの前面図である。図７は本発明の一実施形態に係る発射ハンドル装置のブロック図である。図８は発射装置が発射可能状態になることを許可または禁止する制御に関する制御装置での処理を示すフローチャートである。図９は報知ランプの制御に関する制御装置での処理を示すフローチャートである。

弾球遊技機は、図１に示す一体皿ユニット１を備えている。この一体皿ユニット１は弾球遊技機の下部前面を形成するものであって、図示しない遊技領域に向けて発射される遊技球を貯留するための受け皿２や灰皿３等が一体化された樹脂製の部材である。

本実施形態に係る発射ハンドル装置は、一体皿ユニット１の左部（図１の右側）に設けられたハンドルセット１０を備えている。このハンドルセット１０は、図２，３に示すように、一体皿ユニット１から突出して設けられた樹脂成形品からなるベース体１１と、このベース体１１の先端部１１ａに回動操作可能で自己復帰可能に設けられ、樹脂成形品の表面に良導電性材料のメッキ加工を施してなるハンドル１２と、このハンドル１２の前方でベース体１１に回転不能に固定された椀状のフェースカバー１３とを備えている。

ベース体１１の基端部１１ｂには、一対の軸部１１ｃ，１１ｄが設けられている。軸部１１ｃは基端部１１ｂから左方に突出していて、軸部１１ｄは基端部１１ｂから右方に突出している。一体皿ユニット１は、ベース体１１の基端部１１ｂを保持する保持部４を有する。この保持部４は後方に凹んだ空洞を形成し、その空洞にベース体１１の基端部１１ｂを収容している。保持部４の内部には、一対の軸部１１ｃ，１１ｄを回転可能に保持する軸受４ａ，４ｂが設けられている。つまり、ベース体１１は一体皿ユニット１の保持部４に上下方向に回動可能に保持されている。

一体皿ユニット１は、ベース体１１の上方への回動の限界位置である第１位置を規定する第１規制部５と、ベース体１１の下方への回動の限界位置である第２位置を規定する第２規制部６とを有する。第１規制部５は保持部４の開口の上縁からなる。第２規制部６は第１規制部５よりも前方に突出した平坦面からなる。ベース体１１が第２位置に位置するとき、ハンドルセット１０は図４〜６に示す姿勢になる。

左側の軸部１１ｃには、第２位置から第１位置に向かう方向にベース体１１を付勢してベース体１１の初期位置を規定する付勢手段としてのトーションスプリング１４が設けられている。ベース体１１の初期位置は、ベース体１１の可動範囲、すなわち第１位置から第２位置までの範囲の中央よりも第１位置側であって、第１位置よりも低い位置に設定されている。つまり、ベース体１１が初期位置よりも第１位置側に位置するときには、トーションスプリング１４が第１位置から初期位置に向かう方向にベース体１１を付勢するようにし、ベース体１１が第１規制部５に接触する際の衝撃が緩和されるようになっている。

保持部４が形成する空洞の奥には、ベース体１１の位置を検出するための第１，第２位置検出用センサ１５，１６が設けられている。これら第１，第２位置検出用センサ１５，１６は例えば赤外線センサからなり、図２，４に示す第２位置検出用センサ１６のように赤外線１６ｃを発する発光部１６ａと、この発光部１６ａと左右方向において対向して位置し、赤外線１６ｃを受光する受光部１６ｂとを有する。受光部１６ｂの出力信号は、受光部１６ｂが赤外線１６ｃを受光しているときにハイ（ｈｉｇｈ）状態になり、赤外線１６ｃが遮断されたときにロウ（ｌｏｗ）状態になる。ベース体１１の始端部１１ａには、第１，第２位置検出用センサ１５，１６のそれぞれが発する赤外線をベース体１１の位置に応じて遮断する被検知部 １１ｅが突出して設けられている。この被検知部 １１ｅは、ベース体１１が第１位置に位置したときに第１位置検出用センサ１５の発光部と受光部との間に位置して赤外線を遮断し、ベース体１１が第２位置に位置したときに第２位置検出用センサ１６の発光部１６ａと受光部１６ｂとの間に位置して赤外線１６ｃを遮断する。

図７に示すように、遊技球を遊技領域に発射する発射装置１７は制御装置１８により制御されるようになっている。発射装置１７は、図示しないが、遊技球を遊技領域に向って打つ打撃槌と、この打撃槌を駆動する電動アクチュエータ、例えばモータとを備えている。制御装置１８は図示しないがＣＰＵ、ＲＡＭ、ＲＯＭおよび補助記憶装置を有する。制御装置１８には、ハンドル１２の初期位置からの回動角度を検出し角度検出信号を出力する角度検出素子としてのロータリボリューム１９が電気的に接続されている。制御装置１８は、ロータリボリューム１９からの角度検出信号に基づいてモータへの供給電力を制御するように設定されている。

制御装置１８は、タッチ回路２０にも電気的に接続されている。タッチ回路２０は、良導電性材料のメッキ加工が施されたハンドル１２の表面を含み、この表面に電気的に接続された図示しないコンデンサを有する。コンデンサにおける静電容量の変化によってハンドル１２への遊技者の接触が検知され、接触検知信号が制御装置１８に出力されるようになっている。

制御装置１８は、第１，第２位置検出用センサ１５，１６にも電気的に接続されていて、これら第１，第２位置検出用センサ１５，１６からの出力信号の状態変化に基づいて、ベース体１１が初期位置、第２位置、およびそれら以外の位置の何れにあるかを検出するようになっている。つまり、制御装置１８と第１，第２位置検出用センサ１５，１６とから、ベース体１１の位置を検出する位置検出手段が構成されている。

制御装置１８は、位置検出手段の検出結果およびタッチ回路２０の検知結果に基づいて発射装置１７を制御する制御手段として機能するように設定されている。具体的には、図８に示す処理を行うように設定されている。つまり、初期位置にあるベース体１１を第１位置検出用センサ１５が検知した状態（手順Ｓ１でＹＥＳ）のとき、第１，第２位置検出用センサ１５，１６のいずれにも検知されない状態（手順Ｓ３でＮＯ）のとき、および、第２位置にあるハンドル１２を第２位置検出用センサ１６が検知したがタッチ回路２０がハンドル１２への遊技者の接触を検知していない状態（手順Ｓ４でＮＯ）のときには、発射装置１７が発射可能状態になることを禁止する（手順Ｓ２）。さらに、第２位置にあるベース体１１を第２位置検出用センサ１６が検知した状態（手順Ｓ３でＹＥＳ）、かつ、タッチ回路２０によりハンドル１２への遊技者の接触が検知された状態（手順Ｓ４でＹＥＳ）ときに、発射装置１７が発射可能状態になるのを許可する（手順Ｓ５）。要するに、制御装置１８は、ベース体１１が第２位置よりも第１位置側に位置するときには、タッチ回路２０によりハンドル１２への遊技者の接触が検知されることに関わらず発射装置１７が発射可能状態になることを禁止し、これ以外のときにはタッチ回路２０によりハンドル１２への遊技者の接触が検知されたことに伴って発射装置１７が発射可能状態になることを許可する。

制御装置１８は、図９に示す処理を行うように設定されていることによって、報知手段としての報知ランプ２１を、ロータリボリューム１９の検出結果、第１位置検出用センサ１５の検知結果およびタッチ回路２０の検知結果に基づいて制御する制御手段として機能する。つまり、初期位置にあるベース体１１を第１位置検出用センサ１５が検知した状態（手順Ｓ２１でＹＥＳ）、かつ、ロータリボリューム１９が任意の角度に相応する角度検出信号を出力した状態（手順Ｓ２２でＹＥＳ）、かつ、タッチ回路２０によりハンドル１２への遊技者の接触が検知されない状態（手順Ｓ２３でＮＯ）のとき、報知ランプ２１を点灯させる（手順Ｓ２４）。また、報知ランプ２１を点灯させた後、ロータリボリューム１９が角度検出信号を出力しない状態（手順Ｓ２５でＮＯ）になると、報知ランプ２１を消灯させる（手順Ｓ２６）。

このように構成された本実施形態に係る発射ハンドル装置は次のように動作する。

遊技者は、遊技を行う際、まず、ハンドル１２を把持してベース体１１を初期位置から第２位置まで移動させる。この間、タッチ回路２０はハンドル１２への遊技者の接触を検知した状態にあるから、ベース体１１が第２位置に達して第２位置検出用センサ１６により検知されると、すなわち、ベース体１１が第２位置よりも第１位置側の範囲に位置していない状態になると、制御装置１８は発射装置１７が発射可能状態になることを許可する（図８の手順Ｓ１→手順Ｓ３→手順Ｓ４→手順Ｓ５参照）。

その後、遊技者は、ハンドル１２に手を載せて、その手の自重でベース体１１を第２位置に保持し、この状態でハンドル１２を回動操作する。これに伴い、ロータリボリューム１９がハンドル１２の初期位置からの回転角度に相応する角度検出信号を出力し、この角度検出信号が制御装置１８に入力される。制御装置１８はその角度検出信号に基づいて発射装置１７の電動モータへの供給電力を制御し、この結果、電動モータにより駆動される打撃槌の打撃力、すなわち遊技球の発射強度が、ハンドル１２の回動角度に対応した発射強度を設定されて、遊技球が発射される。

遊技者がハンドル１２から手を離すと、タッチ回路２０によりハンドル１２への遊技者の接触が検知されなくなるので、制御装置１８は発射装置１７が発射可能状態になるのを禁止するとともに、ベース体１１はトーションスプリング１４により付勢されて初期位置に復帰する。

「発明が解決しようとする課題」の欄でも述べたように、遊技者の中には、異物によりハンドル１２を任意の角度に固定して遊技を行った後、そのハンドル１２の固定を放置して弾球遊技機から去る者がいる。従来は、異物により任意の角度に固定された状態であることを知らずにハンドルに触れると、遊技者の意図しない遊技球の発射が行われることになるが、本実施形態に係る発射ハンドル装置では、ベース体１１が第２位置よりも第１位置側に位置した状態にあるとき、タッチ回路２０によりハンドル１２への遊技者の接触が検知されることに関わらず、発射装置１７が発射可能状態になることを制御装置１８が禁止する（図８の手順Ｓ１→手順Ｓ２、または手順Ｓ１→手順Ｓ３→手順Ｓ２参照）。これによって、異物により任意の角度に固定された状態であることに気づかずに遊技者がハンドル１２に触れても、ベース体１１が第２位置よりも第１位置側に位置した状態では遊技球は発射されない。したがって、遊技者は、ベース体１１を第２位置よりも第１位置側に位置させた状態でハンドル１２を回動操作してみることによって、異物によりハンドル１２が固定された状態であるかどうかを確認することができ、異物によりハンドル１２が固定されている場合にはその異物を排除した後に発射装置１７を発射可能状態にすることができる。

なお、遊技者が異物によりハンドル１２を任意の位置に固定した状態で弾球遊技機から去った場合、ハンドルセット１０は、ベース体１１が初期位置に位置した状態でハンドル１２が任意の角度に回動した状態に保持されることになる。この状態は、初期位置に位置したベース体１１が第１位置検出用センサ１５により検知され、かつ、ロータリボリューム１９から角度検出信号が出力され、かつ、タッチ回路２０によりハンドル１２への遊技者の接触が検知されない状態であるため、制御装置１８が報知ランプ２１を点灯させる（図９の手順Ｓ２１→手順Ｓ２２→手順Ｓ２３→手順Ｓ２４参照）。つまり、遊技場の職員は、点灯した報知ランプ２１を見ることによって、異物によりハンドル１２が任意の角度に固定された状態で放置されていることを知ることができ、遊技者が遊技を始める前に異物を取り除いておくことができる。異物が取り除かれると、ハンドル１２が初期位置に自己復帰してロータリボリューム１９から角度検出信号が出力されなくなるので、制御装置１８は報知ランプ２１を消灯する（図９の手順Ｓ２５→手順Ｓ２６参照）。

本実施形態に係る発射ハンドル装置によれば次の効果を得られる。

本実施形態に係る発射ハンドル装置によれば、ベース体１１が第２位置よりも第１位置側に位置するときには、タッチ回路２０によりハンドル１２への遊技者の接触が検知されることに関わらず発射装置１７が発射可能状態になることを禁止するので、遊技者はベース体１１を第２位置よりも第１位置側に位置させた状態でハンドル１２を回動操作してみることによって、異物によりハンドル１２が固定された状態であるかどうかを確認でき、異物が見つかった場合にはその異物を排除してからハンドル１２を第２位置に移動させることができる。これにより、異物により任意の角度に固定された状態であることに気づかずにハンドル１２に触れることによる意図しない遊技球の発射を回避できる。

本実施形態に係る発射ハンドル装置によれば、第１位置にベース体１１が位置するときのハンドル１２の位置よりも、第２位置にベース体１１が位置するときのハンドル１２の位置が低くなるように第１，第２位置が設定されているので、ハンドル１２を把持した手の自重によりベース体１１を第１位置から第２位置に移動させることができる。また、ハンドル１２を使用するときのベース体１１の位置である第２位置に、ベース体１１を手の自重により保持することができる。つまり、第１位置にベース体１１が位置するときのハンドル１２の位置よりも、第２位置にベース体１１が位置するときのハンドル１２の位置が高く設定された場合や、第１位置と第２位置とが同じ高さ位置に設定されてベース体１１が左右方向や前後方向に移動可能に設けられた場合と比較して、ベース体１１を操作したりハンドル１２を第２位置に保持したりするのに要する体力的な負担を軽減させることができる。

本実施形態に係る発射ハンドル装置は、異物により任意の角度に固定されたハンドル１２が放置されたことを、報知ランプ２１によって遊技場の職員に報知することができる。これにより、職員は遊技者が遊技を始める前に異物を取り除いておくことができる。

本実施形態に係る発射ハンドル装置によれば、ベース体１１の初期位置がハンドル１２の非使用時の位置を使用時よりも一体皿ユニット１側に位置させるように設定されているので、ハンドル１２の非使用時に一体皿ユニット１の前方のスペースを広くすることができる。

なお、前述の実施形態では、トーションスプリング１４の復元力がベース体１１の初期位置を第１位置よりも低くするように設定されているが、本発明におけるトーションスプリング１４の復元力はそれに限定されるものではなく、ベース体１１の初期位置が第１位置と一致するように設定されていてもよい。この場合、ベース体１１および第１規制部５の少なくとも一方にゴム等の弾性材料製の緩衝部材を設けることが好ましい。

前述の実施形態に係る発射ハンドル装置では、位置検出手段の構成要素である位置検出用センサ１５，１６が赤外線センサであるが、位置検出用センサは初期位置や第２位置に位置するベース体１１を検知できるものであればよく、したがって、赤外線センサ以外の光学式センサや、磁気式センサなどの非接触型センサであってもよいし、リミットスイッチ等の接触型センサであってもよい。また、被検知部が軸部１１ｃや軸部１１ｄに設けられていて、ベース体１１の初期位置および第２位置に対応する位置にある被検知部が検知されるようにしてもよい。

前述の実施形態に係る発射ハンドル装置では、ベース体１１の位置を検出する位置検出手段は第１，第２位置検出用センサ１５，１６を用いた構成になっているが、本発明における位置検出手段はそれらの第１，第２位置検出用センサ１５，１６を用いたものに限定されるものではなく、ベース体の回動角度を検出するロータリエンコーダやポテンショメータ等の角度検出器を用いてもよい。この場合、第２位置よりも第１位置側に基準位置を設定し、この基準位置よりも第１位置側の範囲を、発射装置１７が発射可能状態になることを禁止するベース体１１の移動範囲に設定してもよい。これにより、ベース体１１が基準位置から第２位置までの範囲に位置するときには、発射装置１７が発射可能状態になることが許可され、ベース体１１が第２位置から僅かでも離れると遊技球の発射が停止するという事態の発生を防止することができる。基準位置を第２位置に一致させると、前述の実施形態と同様に、発射装置１７が発射可能状態になることを禁止するベース体１１の移動範囲が、第２位置よりも第１位置側の範囲全体に設定される。基準位置は、第１位置から第２位置までの範囲内のどこでもよいのではなく、ハンドル１２の初期位置との間に、異物によりハンドル１２が固定されているかどうかを確認したり異物を取り除いたりするときに遊技球が発射されることのない十分な間隔を形成する位置、すなわち、初期位置から第２位置までの範囲の中央よりも第２位置側に設定される。

前述の実施形態に係る発射ハンドル装置では、ベース体１１を下方に回動操作したり第２位置に保持したりするのに要する体力的な負担を軽減させるために、第１位置にベース体１１が位置するときのハンドル１２の位置よりも、第２位置にベース体１１が位置するときのハンドル１２の位置が低くなるように設定されているが、本発明における第１，第２位置の位置関係はそれに限定されるものでない。体力的な負担の軽減を考慮しないならば、第１位置にベース体が位置するときのハンドルの位置よりも、第２位置にベース体が位置するときのハンドルの位置が高く設定されるものであってもよし、ベース体が第１位置に位置するときと第２位置に位置するときとでハンドルの位置が左右方向において異なるよう設定されるものであってもよい。

前述の実施形態に係る発射ハンドル装置では、ベース体１１が回動可能に保持されていたが、本発明はベース体が回動に保持されるものに限定されるものではなく、スライド可能に保持されるものであってもよい。

本発明の一実施形態に係る発射ハンドル装置が設けられた弾球遊技機の一体皿ユニットの前面図である。 本発明の一実施形態に係る発射ハンドル装置に備えられたハンドルセットおよびその周辺の上面図である。 図２に示したハンドルセットおよびその周辺の左側面図である。 図２に示したベース体が第２位置に位置したときのハンドルセットおよびその周辺の上面図である。 図４に示したハンドルセットおよびその周辺の左側面図である。 ベース体が第２位置に位置したときの一体皿ユニットの前面図である。 本発明の一実施形態に係る発射ハンドル装置のブロック図である。 発射装置が発射可能状態になることを許可または禁止する制御に関する制御装置での処理を示すフローチャートである。 報知ランプの制御に関する制御装置での処理を示すフローチャートである。

符号の説明

１ 一体皿ユニット
４ 保持部
４ａ，４ｂ 軸受
５ 第１規制部
６ 第２規制部
１０ ハンドルセット
１１ ベース体
１１ａ 先端部
１１ｂ 基端部
１１ｃ，１１ｄ 軸部
１１ｅ 被検知部
１２ ハンドル
１３ フェースカバー
１４ トーションスプリング
１５ 第１位置検出用センサ
１６ 第２位置検出用センサ
１６ａ 発光部
１６ｂ 受光部
１６ｃ 赤外線
１７ 発射装置
１８ 制御装置
１９ ロータリボリューム
２０ タッチ回路
２１ 報知ランプ

Claims (3)

1. 弾球遊技機から突出したベース体と、このベース体の先端部に回動操作可能で初期位置に自己復帰可能に設けられたハンドルと、このハンドルの初期位置からの回動角度を検出して検出信号を出力する角度検出素子と、この角度検出素子からの検出信号に応じた発射強度で遊技球を発射する発射装置と、前記ハンドルへの遊技者の接触を検知したときに前記発射装置を発射可能状態にするタッチ回路とを備えた弾球遊技機の発射ハンドル装置において、
   前記弾球遊技機に前記ハンドルが最も近づく第１位置と前記弾球遊技機から前記ハンドルが最も離れる第２位置との間を移動可能に前記ベース体が前記弾球遊技機に保持され、
   前記ベース体を前記第２位置から前記第１位置に向う方向に付勢して、前記ベース体の初期位置を可動範囲の前記第１位置側に規定する付勢手段と、
   前記ベース体の位置を検出する位置検出手段と、
   この位置検出手段の検出結果および前記タッチ回路の検知結果に基づいて前記発射装置を制御する制御手段とが設けられ、
   前記制御手段は、前記初期位置から前記第２位置まで範囲の中央よりも前記第２位置側に予め定められた基準位置よりも前記ベース体が前記第１位置側に位置するときには、前記タッチ回路により前記ハンドルへの遊技者の接触が検知されることに関わらず前記発射装置が発射可能状態になることを禁止し、これ以外のときにはタッチ回路により前記ハンドルへの遊技者の接触が検知されたことに伴って前記発射装置が発射可能状態になることを許可することを特徴とする発射ハンドル装置。
2. 前記第１位置に前記ベース体が位置するときの前記ハンドルの位置よりも、前記第２位置に前記ベース体が位置するときの前記ハンドルの位置が低くなるように前記第１，第２位置が設定され、前記ベース体が前記第１位置と前記第２位置との間を上下方向に回動可能に前記弾球遊技機に保持されたことを特徴とする請求項１に記載の発射ハンドル装置。
3. 前記制御手段により制御される報知手段が設けられ、
   前記位置検出手段により前記ベース体が前記初期位置に位置していることが検知され、かつ、前記角度検出素子から検出信号が出力され、かつ、前記タッチ回路により前記ハンドルへの遊技者の接触が検知されないときに、前記制御手段が前記報知手段を作動させることを特徴とする請求項１または２記載の発射ハンドル装置。

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