JP2009042561A - 光学部品およびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】基材上に厚みの均一性が良好な反射防止膜を形成することができる光学部品の製造方法を提供する。
【解決手段】所定方向に分布する複数のノズルを有するヘッドアセンブリを用いて、このヘッドアセンブリに対して基材を前記所定方向と直交する直交方向に移動させながら当該基材上に前記ノズルの全部または一部からインクを滴下して反射防止膜を形成する。その際、基材上にインクが滴下されることにより形成されるドットの径をD、前記所定方向におけるドットピッチをP1、前記直交方向におけるドットピッチをP2とすると、P1とP2が略同じになるように、かつ、0.2D<P1<0.7Dおよび0.2D<P2<0.7Dの関係が満たされるように、ノズルからのインクの滴下を行う。
【選択図】図6
【解決手段】所定方向に分布する複数のノズルを有するヘッドアセンブリを用いて、このヘッドアセンブリに対して基材を前記所定方向と直交する直交方向に移動させながら当該基材上に前記ノズルの全部または一部からインクを滴下して反射防止膜を形成する。その際、基材上にインクが滴下されることにより形成されるドットの径をD、前記所定方向におけるドットピッチをP1、前記直交方向におけるドットピッチをP2とすると、P1とP2が略同じになるように、かつ、0.2D<P1<0.7Dおよび0.2D<P2<0.7Dの関係が満たされるように、ノズルからのインクの滴下を行う。
【選択図】図6
Description
本発明は、各種ディスプレイや光学デバイスに用いられる、反射防止膜を有する光学部品およびその製造法に関する。
近年、家庭においてもオフィスにおいても映像機器や情報機器、携帯機器の利用が急拡大している。それぞれの機器にはディスプレイが装着されており、最近の傾向としてそれらの画面サイズの大型化や高画質化が進展している。大型化や高画質化にともなってより見やすくなるよう視認性の改善が求められ、一般的には反射防止膜が形成された光学フィルムをディスプレイ前面に貼り付けることがなされている。
反射防止膜を形成する方法としては蒸着法やスパッタ法を用いたドライプロセスやダイコート法やスピンコート法、デップコート法などを用いたウェットプロセスが実用化されている。ドライプロセスによる反射防止膜の形成では、反射防止性能に優れているものの材料利用効率が低いことや高価な大型の真空装置を必要とすることからコストを低くすることが困難という課題がある。ウェットプロセスによる反射防止膜の形成では、コストや量産性に優れているものの多層化が難しく高性能な反射防止膜が得られない。また、両者ともフィルム上に反射防止膜を形成するため、フィルムを基板に貼り付けるための粘着層が必要となる。
最近では、ウェットプロセスの一種であるインクジェット方式により反射防止膜を基材上に直接形成することも検討され始めている(例えば、特許文献1〜特許文献3参照)。しかし、インクジェット方式で反射防止膜の形成を行うと、特許文献1に記載されているように、虹模様として観察される光学干渉ムラが発生することがある。これは、反射防止膜の厚みの均一性が悪いことがその一因となっていると考えられる。
特開2005−254096号公報
特開2003−270403号公報
特開2005−224754号公報
本発明は、このような事情に鑑み、基材上に厚みの均一性が良好な反射防止膜を形成することができる光学部品の製造方法およびこの製造方法により得られる光学部品を提供することを目的とする。
前記目的を達成するために、本発明は、所定方向に分布する複数のノズルを有するヘッドアセンブリを用いて、このヘッドアセンブリに対して基材を前記所定方向と直交する直交方向に移動させながら当該基材上に前記ノズルの全部または一部からインクを滴下して反射防止膜を形成することにより光学部品を製造する方法であって、前記基材上に前記インクが滴下されることにより形成されるドットの径をD、前記所定方向における前記ドットのドットピッチをP1、前記直交方向における前記ドットのドットピッチをP2とすると、P1とP2が略同じになるように、かつ、0.2D<P1<0.7Dおよび0.2D<P2<0.7Dの関係が満たされるように、前記ノズルからのインクの滴下を行う光学部品の製造方法を提供する。
ここで、所定方向または直交方向におけるドットピッチとは、その方向に並ぶドットの中心間に対応する距離をいう。例えば、図6に示すようにドットが所定方向(図中ではY方向)および直交方向(図中ではドット形成方向)に共に直線状に並んでいる場合には、どちらの方向でもドットの中心間の距離がそのままピッチとなり、図8に示すように直交方向(図中ではドット形成方向)にはドットが直線状に並んでいるが、所定方向(図中ではY方向)にはドットが千鳥状に並んでいる場合には、直交方向ではドットの中心間の距離がそのままピッチとなるが、所定方向ではその方向におけるドットの中心同士の離間距離がピッチとなる。なお、図8に示すように、所定方向で隣り合うドットは直交方向にずれていてもよいが、そのずれ量は、P2の1/2であることが好ましい。
また、本発明は、所定方向に分布する複数のノズルを有するヘッドアセンブリを用いて、このヘッドアセンブリに対して基材を前記所定方向と直交する直交方向に移動させながら当該基材上に前記ノズルの全部または一部からインクを滴下して形成された反射防止膜を有する光学部品であって、前記反射防止膜は、前記基材上に前記インクが滴下されることにより形成されるドットの径をD、前記所定方向における前記ドットのドットピッチをP1、前記直交方向における前記ドットのドットピッチをP2とすると、P1とP2が略同じになるように、かつ、0.2D<P1<0.7Dおよび0.2D<P2<0.7Dの関係が満たされるように、前記ノズルからのインクの滴下が行われて形成されたものである光学部品を提供する。
本発明によれば、所定方向におけるドットピッチと直交方向におけるドットピッチが略同じになるとともにドットの径の0.2倍より大きくかつ0.7倍より小さくなるようにしたから、厚みの均一性が良好な反射防止膜を得ることができる。
以下、本発明を実施するための形態を図面を参照しながら説明する。
(実施形態1)
図1は、本発明の実施形態1に係る製造方法によって製造されるディスプレイ板用の光学部品の一例を示す断面図である。図1において、光学部品は、基材1と反射防止膜2から構成されている。ディスプレイ板用では、基材1は、透明なものであり、1〜3mmの強化ガラスや、50〜200μmのPET(ポリエチレンテレフタレート)、TAC(トリアセチルセルロース)、アクリル、ポリイミドなどのプラスチックフィルムである。この上に形成された反射防止膜2は、屈折率の低いフッ素系の無機微粒子やフッ素樹脂材料で構成された低屈折率層形成用組成物(反射防止組成物)からなる低屈折率層がインクジェット方式で形成されることにより形成されたものである。なお、レンズ用の場合は、基材としては形状は異なるものの基本的には同様の材質のものを用い、反射防止膜2に関しても同様の材料で形成する。プラスチックフィルムやプラスチックレンズの場合はガラスに比べ硬度が低く耐擦傷性に劣るため、図示は省略するが、基材1と反射防止膜2の間に熱硬化型のセルロースエステル樹脂やポリカーボネイト樹脂、あるいは紫外線硬化型のアクリレート系樹脂やシリコーン系樹脂などのハードコート層を設けるとよい。
図1は、本発明の実施形態1に係る製造方法によって製造されるディスプレイ板用の光学部品の一例を示す断面図である。図1において、光学部品は、基材1と反射防止膜2から構成されている。ディスプレイ板用では、基材1は、透明なものであり、1〜3mmの強化ガラスや、50〜200μmのPET(ポリエチレンテレフタレート)、TAC(トリアセチルセルロース)、アクリル、ポリイミドなどのプラスチックフィルムである。この上に形成された反射防止膜2は、屈折率の低いフッ素系の無機微粒子やフッ素樹脂材料で構成された低屈折率層形成用組成物(反射防止組成物)からなる低屈折率層がインクジェット方式で形成されることにより形成されたものである。なお、レンズ用の場合は、基材としては形状は異なるものの基本的には同様の材質のものを用い、反射防止膜2に関しても同様の材料で形成する。プラスチックフィルムやプラスチックレンズの場合はガラスに比べ硬度が低く耐擦傷性に劣るため、図示は省略するが、基材1と反射防止膜2の間に熱硬化型のセルロースエステル樹脂やポリカーボネイト樹脂、あるいは紫外線硬化型のアクリレート系樹脂やシリコーン系樹脂などのハードコート層を設けるとよい。
インクジェット方式による低屈折率層の形成は、インクとして低屈折率層形成用組成物を用い、これをヘッドアセンブリから吐出して基材上に塗布し、さらにこれを硬化させることにより行う。ヘッドアセンブリは複数個のヘッドモジュールから構成され、さらにヘッドモジュールは複数個のヘッドセルの集合体から構成されている。図2は、本実施形態および後述する各実施形態で用いるヘッドセルの模式図を示す。ヘッドセルはヘッドモジュールの、さらにはヘッドアセンブリの基本構成要素である。ヘッドセルAはSUSからなる圧力室部材3とその上に配置されたピエゾアクチュエーターB、およびその下に配置されたノズル板4から構成されている。ピエゾアクチュエーターBは、ピエゾ素子5が電極6で挟まれた構造を有している。ノズル板4の材質はSUSであり、その吐出面側の表面には撥水処理が施されていて、ここには直径10μm〜20μmのノズル7が開けられている。
まず、低屈折率層形成用組成物からなるインク8が圧力室部材3の圧力室31に導入される。圧力室31の上に配置されているピエゾ素子5に電極6から電圧を印加することにより、圧力室31内のインク8に圧力をかけ、ノズル7からインク8を微小液滴9として吐出させる。このときのピエゾ素子5にかける振動周波数やパルス数、電圧を調整したり、ノズル形状などの最適化を図ったりすることにより、ノズル7から吐出する液滴のサイズを直径10〜100μmに制御する。このようにしてインクジェット方式では微小ノズルから微小液滴としてインクを吐出して基材上に滴下し、塗膜を形成する。ピエゾアクチュエーターBにかける印加電圧のオンオフにより吐出のオンオフの制御もでき、インク8の滴下により形成されるドットの任意のパターンが基材上に形成できる。このときパターンに対応したオンオフの信号は装置に接続されたパーソナルコンピュターから送られる。本実施形態では材料の選択性の広さからピエゾ方式を採用しているが、インクを加熱して気泡を発生させる、いわゆるバブルジェット(登録商標)方式やサーマル方式も用いることができる。
図3は、本実施形態で用いるヘッドモジュールの模式図を示す。これはヘッドモジュールCを吐出面側からみた概略図である。図3ではノズル板4とノズル7のみが示されているが、その裏側には圧力室31やピエゾアクチュエーターBがそれぞれのノズル7に対応して形成されている。ヘッドモジュールCは、幅が1.5cm、長さが4.5cmの長方形状の形状を有している。ヘッドモジュールCには、その長手方向に40μmの配列ピッチP0で一列に並ぶように、直径20μmのノズル7が500個形成されている。インクを吐出させるノズル7を適宜選択することにより、最狭40μmピッチからその整数倍のピッチで微小液滴を吐出できる。図4は、本実施形態で用いるヘッドアセンブリの模式図を示す。ヘッドアセンブリDでは、広い面積の塗布に対応させるためにヘッドモジュールCが複数個千鳥状に配置されていて、ノズル7が所定方向(以下、「Y方向」という。)に配列ピッチP0で連続的に直線状に配列されている。本実施形態では50cmの幅で塗布するために25個のヘッドモジュールCからなるヘッドアセンブリDを採用している。ただし、モジュール数はこれに限定されるものではなく、基材の幅に応じて決定すればよい。
次に、該インクジェット方式によるディスプレイ板用の光学部品の作製について説明する。図5はインクの塗布を行う状況を示している。25個のヘッドモジュールからなるヘッドアセンブリDを有する塗布装置は温湿度やクリーン度が管理された部屋に置かれている。特に、低屈折率層形成用組成物からなるインクの粘度は周囲温度に強く影響を受けるために、部屋の温度はプラスマイナス1℃以内と厳密に管理する。基材1はサイズが縦50cm、横85cmで厚さ3mmの強化ガラスである。基材はこれに限定されるものではなくPET、TAC、アクリルなどのプラスチックフィルムでもよい。また、サイズや厚み形状もこれに限定されるものではなく目的やデバイスに応じて決定する。基材1の表面は、事前に前の工程で紫外線の照射や放電ガスとの接触を通じて洗浄されている。本実施形態では185nmや254nmの短波長紫外線を利用した表面改質装置を用いて1〜2分間の処理をしている。この表面処理された基材1の上にインクジェット方式で低屈折率層形成用組成物からなる低屈折率層を形成していく。
低屈折率層形成用組成物は、重合性有機化合物、低屈折微粒子、有機溶剤、添加剤から構成されている。低反射率を実現するためには、屈折率が低い低屈折微粒子を用いることと、重合性有機化合物はできるだけ少なくすることが重要である。重合性有機化合物はいわゆるバインダーであり、ビニル基、アリル基などの不飽和結合を有しラジカル重合で硬化する化合物やシロキサンなどのカチオン重合で硬化する化合物などである。本実施形態では紫外線硬化樹脂であるシリコーン樹脂を用いているが、熱硬化樹脂でも硬化温度が基板の物性に影響を与えない範囲であるなら使用可能である。低屈折微粒子は、中空球状シリカ、フッ化マグネシウム、フッ化カルシウムなどの無機微粒子やフッ素系樹脂からなる有機微粒子であり、その粒径は10〜100nmである。本実施形態ではフッ素系樹脂の有機微粒子を用いている。200nmより大きな粒子を使用した場合はノズルで目詰まりが発生しやすい傾向にあることから上記の範囲が適切である。このほかフッ素をもつ架橋構造を有するポリマーをバインダー兼低屈折材料として用いることも何ら問題はない。有機溶剤は、例えば、炭化水素類、アルコール類、ケトン類、エステル類、グリコールエーテル類、その他有機溶媒の中から適宜選択し、あるいはこれらを混合したものを用いる。本実施形態ではエタノール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ダイアセトンアルコールを混合したものを用いている。添加剤は硬化触媒や界面活性剤、表面張力調整剤などである。微粒子とバインダーの比率は微粒子1質量部に対して、バインダーが0.5〜2質量部である。バインダー量を増やすと硬化後の基板との接着性はよくなるが、一方で反射防止膜の屈折率が低下するため、それらのバランスを考慮して決める。
有機溶剤が重量比率で92〜96%と最も高く、その他の材料、すなわち、重合性有機化合物、低屈折微粒子、添加剤を合わせたものは残りの4〜8%である。このように低濃度の設計をしているのはその他の材料の重量比率を上げていくとノズルでの目詰まりが発生しやすい傾向にありそれを避けるためである。このように作製された低屈折率層形成用組成物からなるインクの粘度は3〜10mPa・s、表面張力は20〜40dyne/cmであり、インクジェット方式で安定に塗布できるような材料構成や配合比となっている。
次に、低屈折率層形成用組成物のインクジェット方式による塗布条件について説明する。ヘッドモジュールの吐出面と基材の間の距離は約0.8mmであり、この間で球状の液滴が形成される。ヘッドアセンブリDと基材1を平行に配置し、ヘッドアセンブリDを固定した状態で、基材をY方向と直交する直交方向(以下、「X方向」という。)に移動させながら、より詳しくはX方向の一方に搬送しながら発生した液滴を基材上に着弾させることにより塗布を行う。塗布厚みは1〜10μmであり、その厚みはY方向の吐出距離間隔や基材搬送速度および吐出時間間隔(吐出タイミング)、ピエゾアクチュエーターの駆動パルス数や駆動電圧で調整できる。ドット位置の規制から、吐出距離間隔などが所定の値に決められている場合は、ピエゾアクチュエーターの駆動パルス数と駆動電圧を調整しておこなう。ピエゾアクチュエーターの駆動パルス数を増やすことや駆動電圧を上げることにより吐出量を増やすことができ厚く塗布できる。本実施形態では塗布厚は2〜5μmが中心であり、硬化後の厚みが70〜120nmとなり、いわゆる光学膜厚(光学膜厚とは、層の屈折率とnと膜厚dとの積により定義される量である)がλ/4近傍となるように調整する。λとしては、可視域内の波長、具体的には、視感度が高い550nm程度の値を採用するとよい。
次に図6を参照して基材上にインクが滴下されることにより形成されるドット10のドットピッチの条件について説明する。本実施形態では、ドット10はマトリクス状に配置される。Y方向のドットピッチP1はヘッドモジュールのノズルのうちどのノズルから吐出を行うかを選択して調整する。すなわち、ドットピッチP1は、全てのノズルから吐出させると配列ピッチP0と同じ40μmとなり、一つおきに吐出させると配列ピッチP0の2倍の80μm、二つおきに吐出させると配列ピッチP0の3倍の120μmとなる。同様にして、160μm、200μm、240μm、280μmと、配列ピッチP0の整数倍のドットピッチP1を実現できる。また、X方向のドットピッチP2はY方向のドットピッチP1と基本的には同じ長さとし、そのドットピッチP2は吐出時間間隔と基材搬送速度で調整する。すなわち吐出時間間隔を500μsecと一定にすると基材搬送速度を8cm/sec、16cm/sec、24cm/sec、32cm/sec、40cm/sec、48cm/sec、56cm/secとすることで40μm、80μm、120μm、160μm、200μm、240μm、280μmのドットピッチP2が得られる。あるいは、基材搬送速度を32cm/secと一定にすると吐出時間間隔を125μsec、250μsec、375μsec、500μsec、625μsec、750μsec、875μsecとすることで、40μm、80μm、120μm、160μm、200μm、240μm、280μmのドットピッチが得られる。
上記のようにドットピッチP1,P2を共に40μmから280μmまで40μm刻みに設定したときに、ドットの径(ドットサイズ)Dによって反射防止膜の厚みの均一性がどう変わるかを調べる検証実験を行った。ドットサイズDは基材1を停止してワンショット信号でインクを一滴吐出し、硬化させて光学顕微鏡で観察して確認する。ドットサイズは溶剤の種類の選択や基板の表面処理によって変化させることができ、本実施形態ではドットサイズが100μm、150μm、200μm、250μm、300μmの5種類について検証実験を行った。例えば、ドットサイズを200μmとする場合は、50〜80nmのフッ素樹脂微粒子が3重量%、シリコーン系バインダーと光硬化開始剤が1.5重量%、残りはエタノール、イソピプロピルアルコール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ダイアセトンアルコールの混合溶剤であるインクを用い、基材の表面処理としては、卓上型紫外線洗浄改質装置PL16−110(セン特殊光源株式会社製)を用い、低圧水銀ランプからの185nmや257nmの短波長紫外線を60秒照射する。
表1は検証結果をまとめたものである。
表1は検証結果をまとめたものである。
均一性の評価としては、3波長蛍光灯で照らす角度と目視する角度をいろいろ変えて干渉ムラを観察することと、光学顕微鏡でドットの様子を観察することの二通りの方法で評価した。表中、○は塗布の外周以外は干渉ムラが見られなく、また、明瞭なドットも見られないものである。一方、×(a)は顕微鏡でドットの輪郭が見えるものであり、×(b)は明らかに干渉ムラが見えるものである。かっこの中の数値はドットピッチPのドットサイズDに対する比率である。この表より、検証したドットサイズ100〜300μmの範囲において、ドットピッチPが0.2D〜0.7Dという範囲に入るときは均一性が良好であることがわかる。すなわち、使用するインクおよび基材の表面処理の状態に応じて、予め測定しておいたまたは想定されるドットサイズDから、0.2D<P1<0.7Dとなるようにどのノズルからインクの吐出を行うかを決定するとともに、P2=P1となるように基材搬送速度および吐出時間間隔を決定すればよい。なお、厚みの均一性をより高いレベルで得るためには、ドットサイズDは、150μm以上250μm以下であり、ドットピッチP1,P2は、40μm以上160μm以下であることが好ましい。
塗布後は塗膜の乾燥、硬化をおこなう。塗膜中の溶剤を蒸発させるためには、熱風を吹きかける、ヒーターで加熱する、赤外線ランプなどの輻射熱を利用するなどの方法がある。溶剤の特性に合わせて上記の乾燥方法を単独で、あるいは組み合わせて行い、また、熱のかけ方も塗膜面側から、あるいは裏側から、あるいは両方からと最適化な条件で行う。本実施形態では急激な乾燥による塗布むらを避けるため、室温で1分間放置する自然乾燥をとった。ただし、高沸点溶剤の比率が多い場合は、50〜100℃のオーブンに1〜3分入れて乾燥させてもよい。
乾燥後、高圧水銀ランプやメタルハライドランプ、キセノンランプなどを有する紫外線硬化装置で塗膜を硬化させる。このとき照射時間は3〜10秒で、積算光量は200〜1500mJ/cm2である。この条件下では塗膜は十分硬化し、基材にしっかりと密着する。
金属アルコキシド材料からなる反射防止組成物を用いてゾルゲル法によって反射防止膜を形成してもよいが、このときには反応に200〜300℃と高温が必要とされるため使用できる基材に制限がある。
以上の工程を経てディスプレイ板用の光学部品は完成する。完成した反射防止膜のヘイズは0.2%、膜強度は鉛筆硬度で3H、屈折率は1.35〜1.40であった。反射防止性能を評価するため分光光度計UV−3100PC(島津製作所社製)により350〜850nmの範囲の反射率を測定した。その結果、視感度の高い550nmの波長における反射率はガラスのみの場合は4.5%であり、本発明の反射防止膜を形成することにより1.0〜1.5%へと抑えることができた。
この方式では、ガラス基材上に反射防止膜を直接形成することができ、コストダウンできるメリットもある。一方、フィルムやシート上にも形成することができるが、その場合は粘着剤でフィルムやシートをガラス基材に接着させる必要がある。
なお、図11(a)および図11(b)に示すように、ヘッドモジュールCを斜めに傾けた状態で並べてヘッドアセンブリDを構成してもよい。このようにすれば、ノズル7がY方向に所定の配列ピッチP0で鋸歯状に配列されるようになる。例えば、ヘッドモジュールCの角度を約26.6度にすれば、図8に示すようなドットがY方向に千鳥状に並ぶとともにP1=P2=P0となるドットパターンを形成することができる。このように、本実施形態では、ノズル7はY方向に分布していればよく、その態様は種々変更可能である。
(実施形態2)
次に、実施形態2について、図7、図8を用いて説明する。この実施形態2が実施形態1と異なる点は、Y方向のドット配置が異なることである。上記以外は実施形態1とまったく同じ材料やプロセスを採用しており、共通する内容に関し詳細は割愛する。図7は、ヘッドアセンブリDを構成するヘッドモジュールCの吐出面側から見た模式図である。図7にはノズル板4とノズル7a、7bのみが示されているが、その裏側には圧力室3やピエゾアクチュエーターBがそれぞれのノズル7a、7bに対応して形成されているのは実施形態1と同じである。ヘッドモジュールCは幅が1.5cm、長さが4.5cmの長方形の形状を有している。ヘッドモジュールCには、2列のノズル群、ノズル7a群とノズル7b群が形成されている。各ノズル群はY方向に240μmのピッチで並ぶ250個のノズルを有しており、その2列のノズル群はY方向に120μm、X方向に60μmずれて配置されている。ノズルの直径はそれぞれのノズル群とも20μmである。すなわち、実施形態2では、ノズル7が60μmX方向に振れながら120μmの配列ピッチP0でY方向に千鳥状に配列されていて、合計500個のノズルにより120μmの間隔で微小液滴を吐出できるようになっている。このときのドット配置を図8で説明する。ドットピッチP1とP2は同じであるが隣との位置関係が相対的にX方向の距離で0.5P2、すなわち60μmずれている。
次に、実施形態2について、図7、図8を用いて説明する。この実施形態2が実施形態1と異なる点は、Y方向のドット配置が異なることである。上記以外は実施形態1とまったく同じ材料やプロセスを採用しており、共通する内容に関し詳細は割愛する。図7は、ヘッドアセンブリDを構成するヘッドモジュールCの吐出面側から見た模式図である。図7にはノズル板4とノズル7a、7bのみが示されているが、その裏側には圧力室3やピエゾアクチュエーターBがそれぞれのノズル7a、7bに対応して形成されているのは実施形態1と同じである。ヘッドモジュールCは幅が1.5cm、長さが4.5cmの長方形の形状を有している。ヘッドモジュールCには、2列のノズル群、ノズル7a群とノズル7b群が形成されている。各ノズル群はY方向に240μmのピッチで並ぶ250個のノズルを有しており、その2列のノズル群はY方向に120μm、X方向に60μmずれて配置されている。ノズルの直径はそれぞれのノズル群とも20μmである。すなわち、実施形態2では、ノズル7が60μmX方向に振れながら120μmの配列ピッチP0でY方向に千鳥状に配列されていて、合計500個のノズルにより120μmの間隔で微小液滴を吐出できるようになっている。このときのドット配置を図8で説明する。ドットピッチP1とP2は同じであるが隣との位置関係が相対的にX方向の距離で0.5P2、すなわち60μmずれている。
実施形態2においても実施形態1と同様に、ドットサイズDが100μm、150μm、200μm、250μm、300μmの5種類について検証実験を行った。試作したサンプルについては、実施形態1と同様の評価、3波長蛍光灯で照らす角度と目視する角度をいろいろ変えて干渉ムラを観察することと、光学顕微鏡でドットの様子を観察することを行った。その結果、ドットピッチP1,P2が120μmの場合、このようなドット配置においてもドットピッチP1,P2が0.2D〜0.7Dという関係を満足するドットサイズD領域においては厚みの均一性が良好であることを確認した。すなわち、ドットサイズDが200〜300μm程度になると考えられる場合は、全てのノズルからインクの吐出を行うようにするとともに、P2=120μmとなるように基材搬送速度および吐出時間間隔を決定すればよい。
なお、例えば、P0を60μmにした場合には、ノズル7a群のノズルからのみインクを吐出させるとともに、吐出時間間隔を500μsec、基材搬送速度を24cm/secにすれば、P1=P2=2P0となる図6のようなマトリクス状のドットパターンを形成することも可能である。
(実施形態3)
よりいっそう反射率を低減させるためには反射防止膜を多層構造とし、各層の屈折率や膜厚を最適化し、表面反射光と界面反射光を干渉、打ち消しあわせることが有効である。実施形態3は、反射防止膜を2層とした構成に本発明を適用したものであり、図9の光学部品の断面図を用いて説明する。図9において基材1は実施形態1と同様の材質である。この上に高屈折率層2aが、さらにその上に低屈折率層2bが積層されていて、この2層により反射防止効果を得ている。それぞれの層は、それぞれの層に対応した2種類の材料組成物、すなわち高屈折率層形成用組成物と低屈折率形成用組成物がインクとして用いられ、これらが個々にインクジェット方式で塗布されて形成される。
よりいっそう反射率を低減させるためには反射防止膜を多層構造とし、各層の屈折率や膜厚を最適化し、表面反射光と界面反射光を干渉、打ち消しあわせることが有効である。実施形態3は、反射防止膜を2層とした構成に本発明を適用したものであり、図9の光学部品の断面図を用いて説明する。図9において基材1は実施形態1と同様の材質である。この上に高屈折率層2aが、さらにその上に低屈折率層2bが積層されていて、この2層により反射防止効果を得ている。それぞれの層は、それぞれの層に対応した2種類の材料組成物、すなわち高屈折率層形成用組成物と低屈折率形成用組成物がインクとして用いられ、これらが個々にインクジェット方式で塗布されて形成される。
次に、2層構造の反射防止膜の作製について説明するが、材料やプロセスで実施形態1と共通する内容の詳細は割愛する。基材1は、事前に前の工程で185nmや254nmの短波長紫外線を利用した表面改質装置を用いて1〜2分間処理されている。この表面処理された基材1の上にまず高屈折率層形成用組成物をインクジェット方式で塗布する。高屈折率層形成用組成物は、基本的な構成は実施形態1で説明した低屈折率層形成用組成物と同じである。すなわち、重合性有機化合物、低屈折微粒子の代わりとなる高屈折微粒子、有機溶剤、添加剤である。このとき低反射率を実現するためには、高屈折率層2aは屈折率が高いほうがよく、そのためにはより高い屈折率の微粒子を用いること、また、重合性有機化合物はできるだけ少なくすることが重要である。重合性有機化合物はいわゆるバインダーであり高屈折微粒子材料と相性のよいものを選択する。高屈折微粒子は、二酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化インジウム、酸化スズ、ITOなどの無機微粒子であり、その粒径は10〜100nmである。本実施形態では二酸化チタンの無機微粒子を用いている。200nmより大きな粒子を使用した場合はノズルで目詰まりが発生しやすい傾向があるのは実施形態1と同じである。
高屈折率層形成用組成物の塗布は実施形態1と同じ構成のヘッドモジュールやヘッドアセンブリで行う。液滴のドットピッチP1,P2は120μmであり、インクを吐出させるノズルを二つおきにすることと、吐出時間間隔を500μsec、基材搬送速度を24cm/secと設定することにより得られる。ドットサイズDは250μmである。塗布厚みは2〜5μmであり、硬化後の厚みが60〜90nm、すなわち光学膜厚でλ/4近傍となるように調整する。
この後、塗布された高屈折率層2aを室温で1分間放置して自然乾燥させ、続いて、高圧水銀ランプやメタルハライドランプ、キセノンランプなどを有する紫外線硬化装置で硬化させる。硬化後の高屈折率層2aのヘイズは0.2%、膜強度は鉛筆硬度で3H、屈折率は1.65〜1.80となっていた。
次に、低屈折層形成用組成物をインクジェット方式で塗布する前に、基材の前処理に使ったものと同じ表面改質装置を用いて高屈折率層2aの表面を1〜2分間処理する。その後、低屈折率層形成用組成物をインクジェット方式で塗布する。低屈折率層形成用組成物の材料や塗布プロセス条件は実施形態1と同じである。すなわち、ヘッドアセンブリは同じ構成のものを用い、ドットピッチP1,P2は120μmであり、インクを吐出させるノズルを二つおきにすることと、吐出時間間隔が500μsec、基材搬送速度を24cm/secと設定することにより得られる。ドットサイズDは250μmである。塗布厚みは2〜5μmであり、硬化後の厚みが70〜120nm、すなわち光学膜厚でλ/4近傍となるように調整する。
この後、塗布された低屈折率層2bを室温で1分間放置して自然乾燥させ、続いて、高圧水銀ランプやメタルハライドランプ、キセノンランプなどを有する紫外線硬化装置で硬化させる。
反射防止性能を評価するため分光光度計UV−3100PC(島津製作所社製)により350〜850nmの範囲の反射率を測定した。その結果、550nmという視感度の高い波長での反射率を0.5%に抑えることができた。3波長蛍光灯での干渉ムラの観察や光学顕微鏡でのドットの観察においても、厚みの均一性が良好であることを確認した。
(実施形態4)
次に、実施形態4について、図10の光学部品の断面図を用いて説明する。この実施形態4は、実施形態3よりもさらに350〜850nmという広範囲の波長領域で反射率を下げるために、反射防止膜を4層とした構成に本発明を適用したものである。図10において基材1は実施形態1、3と同様の材質、形状である。この上に高屈折率層2aを、さらにその上に低屈折率層2b、高屈折率層2c、低屈折率層2dを順次積層し、この4層により反射防止効果を得ている。高屈折率層2aと高屈折率層2cは同じ組成の高屈折層形成用組成物が、低屈折率層2bと低屈折率層2dも同じ組成の低屈折層形成用組成物がそれぞれインクジェット方式で塗布され形成されている。
次に、実施形態4について、図10の光学部品の断面図を用いて説明する。この実施形態4は、実施形態3よりもさらに350〜850nmという広範囲の波長領域で反射率を下げるために、反射防止膜を4層とした構成に本発明を適用したものである。図10において基材1は実施形態1、3と同様の材質、形状である。この上に高屈折率層2aを、さらにその上に低屈折率層2b、高屈折率層2c、低屈折率層2dを順次積層し、この4層により反射防止効果を得ている。高屈折率層2aと高屈折率層2cは同じ組成の高屈折層形成用組成物が、低屈折率層2bと低屈折率層2dも同じ組成の低屈折層形成用組成物がそれぞれインクジェット方式で塗布され形成されている。
次に、4層構造の反射防止膜の作製について説明するが、材料やプロセスで実施形態1や3と共通する内容は割愛する。基材1は、事前に前の工程で短波長紫外線を利用した表面改質装置を用いて1〜2分間処理されている。この表面処理された基材1の上に高屈折率層2aを形成するために高屈折率層形成用組成物をインクジェット方式で塗布する。高屈折率層2aのための高屈折率層形成用組成物は重合性有機化合物、高屈折微粒子、有機溶剤、添加剤から成り、高屈折微粒子は粒径10〜100nmの二酸化チタンの無機微粒子である。
高屈折率層形成用組成物の塗布は実施形態1や3と同じ構成のヘッドモジュールやヘッドアセンブリで行う。液滴のドットピッチPはP1,P2は120μmであり、インクを吐出させるノズルを二つおきにすることと、吐出時間間隔を500μsec、基材搬送速度を24cm/secと設定することにより得られる。ドットサイズDは250μmである。塗布厚みは4〜8μmであり、硬化後の厚みが100〜200nm、すなわち光学膜厚でλ/2近傍となるように調整する。
この後、塗布された高屈折率層2aを室温で1分間放置して自然乾燥させ、続いて、高圧水銀ランプやメタルハライドランプ、キセノンランプなどを有する紫外線硬化装置で硬化させる。
次に、この上に積層する低屈折率層2bのための前処理として、短波長紫外線を利用した表面改質装置を用いて高屈折率層2aの表面を1〜2分間処理する。その後、低屈折率層形成用組成物をインクジェット方式で塗布する。低屈折率層2bのための低屈折率層形成用組成物のインク材料は重合性有機化合物、低屈折微粒子、有機溶剤、添加剤から成り、低屈折微粒子は粒径10〜100nmのフッ素系樹脂の有機微粒子である。低屈折率層形成用組成物の塗布は実施形態1や3と同じ構成のヘッドモジュールやヘッドアセンブリでおこなう。液滴のドットピッチDは120μmであり、吐出間隔を500μsec、基材搬送速度を24cm/secと設定することにより得られる。ドットサイズDは250μmである。塗布厚みは4〜8μmであり、硬化後の厚みが150〜250nm、すなわち光学膜厚でλ/2近傍となるように調整する。
この後、塗布された低屈折率層2bを室温で1分間放置して自然乾燥させ、続いて、高圧水銀ランプやメタルハライドランプ、キセノンランプなどを有する紫外線硬化装置で硬化させる。次に、この上に積層する高屈折率層2cのための前処理として、短波長紫外線を利用した表面改質装置を用いて低屈折率層2bの表面を1〜2分間処理する。その後、高屈折率層形成用組成物をインクジェット方式で塗布する。
高屈折率層2cのための高屈折率層形成用組成物は重合性有機化合物、高屈折微粒子、有機溶剤、添加剤から成り、高屈折微粒子は粒径10〜100nmの二酸化チタンの無機微粒子である。高屈折率層形成用組成物の塗布は実施形態1や3と同じ構成のヘッドモジュールやヘッドアセンブリで行う。液滴のドットピッチP1,P2は120μmであり、インクを吐出させるノズルを二つおきにすることと、吐出時間間隔を500μsec、基材搬送速度を24cm/secと設定することにより得られる。ドットサイズDは250μmである。塗布厚みは2〜5μmであり、硬化後の厚みが60〜90nm、すなわち光学膜厚でλ/4近傍となるように調整する。この後、塗布された高屈折率層2cを室温で1分間放置して自然乾燥させ、続いて、高圧水銀ランプやメタルハライドランプ、キセノンランプなどを有する紫外線硬化装置で硬化させる。
次に、この上に積層する低屈折率層2dの形成のための前処理として、短波長紫外線を利用した表面改質装置を用いて高屈折率層2cの表面を1〜2分間処理する。その後、低屈折率層形成用組成物をインクジェット方式で塗布する。低屈折率層2dのための低屈折率層形成用組成物は重合性有機化合物、低屈折微粒子、有機溶剤、添加剤から成り、低屈折微粒子は粒径10〜100nmのフッ素系樹脂の有機微粒子である。低屈折率層形成用組成物の塗布は実施形態1や3と同じ構成のヘッドモジュールやヘッドアセンブリで行う。液滴のドットピッチP1,P2は120μmであり、インクを吐出させるノズルを二つおきにすることと、吐出時間間隔を500μsec、基材搬送速度を24cm/secと設定することにより得られる。ドットサイズDは250μmである。塗布厚みは2〜5μmであり、硬化後の厚みが70〜120nm、すなわち光学膜厚でλ/4近傍となるように調整する。この後、塗布された低屈折率層2dを室温で1分間放置して自然乾燥させ、続いて、高圧水銀ランプやメタルハライドランプ、キセノンランプなどを有する紫外線硬化装置で硬化させる。
以上の工程を経てディスプレイ板用の4層の反射防止膜を有する光学部品は完成する。反射防止性能を評価するため分光光度計UV−3100PC(島津製作所社製)により350〜850nmの範囲の反射率を測定した。その結果、550nmという視感度の高い波長での反射率を0.3%に抑えることができ、かつ2層では5%と高かった400nmや700nmの反射率を、4層では2.5%に抑えることができた。また、3波長蛍光灯での干渉ムラの観察や光学顕微鏡でのドットの観察においても、厚みの均一性が良好であることを確認した。
本発明にかかる光学部品およびその製造方法は、単層や多層において、均一で高性能な反射防止膜、すなわち、光学干渉ムラがなく反射率の低い反射防止膜を有する光学部品を得ることが可能となること、また、シンプルで小型な生産設備を用いることができるため生産のタクトが短縮されて高スループットが実現でき、結果的には低コストで製造できることから光学部品の製造にはきわめて有用である。
1 基材
2 反射防止膜
2a,2c 高屈折率層
2b,2d 低屈折率層
3 圧力室部材
31 圧力室
4 ノズル板
5 ピエゾ素子
6 電極
7 ノズル
7a ノズル
7b ノズル
8 インク
9 液滴
10 ドット
A ヘッドセル
B ピエゾアクチュエーター
C ヘッドモジュール
D ヘッドアセンブリ
P1 所定方向におけるドットピッチ
P2 直交方向におけるドットピッチ
2 反射防止膜
2a,2c 高屈折率層
2b,2d 低屈折率層
3 圧力室部材
31 圧力室
4 ノズル板
5 ピエゾ素子
6 電極
7 ノズル
7a ノズル
7b ノズル
8 インク
9 液滴
10 ドット
A ヘッドセル
B ピエゾアクチュエーター
C ヘッドモジュール
D ヘッドアセンブリ
P1 所定方向におけるドットピッチ
P2 直交方向におけるドットピッチ
Claims (11)
- 所定方向に分布する複数のノズルを有するヘッドアセンブリを用いて、このヘッドアセンブリに対して基材を前記所定方向と直交する直交方向に移動させながら当該基材上に前記ノズルの全部または一部からインクを滴下して反射防止膜を形成することにより光学部品を製造する方法であって、
前記基材上に前記インクが滴下されることにより形成されるドットの径をD、前記所定方向における前記ドットのドットピッチをP1、前記直交方向における前記ドットのドットピッチをP2とすると、P1とP2が略同じになるように、かつ、0.2D<P1<0.7Dおよび0.2D<P2<0.7Dの関係が満たされるように、前記ノズルからのインクの滴下を行う光学部品の製造方法。 - 前記ドットの径Dは、150μm以上250μm以下であり、前記ドットピッチP1,P2は、40μm以上160μm以下である請求項1に記載の光学部品の製造方法。
- 前記ノズルは前記所定方向に所定の配列ピッチで直線状に配列されていて、前記ドットピッチP1は前記配列ピッチの整数倍である請求項1または2に記載の光学部品の製造方法。
- 前記ノズルは前記所定方向に所定の配列ピッチで千鳥状に配列されていて、前記ドットピッチP1は前記配列ピッチの整数倍である請求項1または2に記載の光学部品の製造方法。
- 前記インクとして低屈折率層形成用組成物を用い、前記基材上に前記低屈折率層形成用組成物からなる低屈折率層を形成することにより前記反射防止膜を形成する請求項1〜4のいずれか一項に記載の光学部品の製造方法。
- 前記インクとして高屈折率層形成用組成物と低屈折率層形成用組成物を用い、前記基材上に前記高屈折率層形成用組成物からなる高屈折率層と前記低屈折率層形成用組成物からなる低屈折率層を順に形成することにより前記反射防止膜を形成する請求項1〜4のいずれか一項に記載の光学部品の製造方法。
- 前記低屈折率層形成用組成物は、重合性有機化合物、低屈折微粒子、有機溶剤、添加剤を含むものである請求項5または6に記載の光学部品の製造方法。
- 前記高屈折率層形成用組成物は、重合性有機化合物、高屈折微粒子、有機溶剤、添加剤を含むものである請求項6に記載の光学部品の製造方法。
- 前記重合性有機化合物は、紫外線硬化樹脂である請求項7または8に記載の光学部品の製造方法。
- 所定方向に分布する複数のノズルを有するヘッドアセンブリを用いて、このヘッドアセンブリに対して基材を前記所定方向と直交する直交方向に移動させながら当該基材上に前記ノズルの全部または一部からインクを滴下して形成された反射防止膜を有する光学部品であって、
前記反射防止膜は、前記基材上に前記インクが滴下されることにより形成されるドットの径をD、前記所定方向における前記ドットのドットピッチをP1、前記直交方向における前記ドットのドットピッチをP2とすると、P1とP2が略同じになるように、かつ、0.2D<P1<0.7Dおよび0.2D<P2<0.7Dの関係が満たされるように、前記ノズルからのインクの滴下が行われて形成されたものである光学部品。 - 前記ドットの径Dは、150μm以上250μm以下であり、前記ドットピッチP1,P2は、40μm以上160μm以下である請求項10に記載の光学部品。
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JP2007208215A JP2009042561A (ja) | 2007-08-09 | 2007-08-09 | 光学部品およびその製造方法 |
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JP2012225992A (ja) * | 2011-04-15 | 2012-11-15 | Dainippon Printing Co Ltd | 表示用前面板の製造方法 |
-
2007
- 2007-08-09 JP JP2007208215A patent/JP2009042561A/ja active Pending
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