JP2009026815A - Electromagnetic wave shield sheet and optical filter - Google Patents

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Takehiro Yamashita
雄大 山下
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an electromagnetic wave shield sheet of a new structure hardly causing damage in the manufacturing process having a new grounding structure for enabling direct connection with an external ground terminal and achieved in the cost reduction of a plasma display device without requiring special design or an idea for a plasma display panel, and to provide an optical filter. <P>SOLUTION: This electromagnetic wave shield sheet 1a comprises a base film 2a, an electromagnetic wave shield layer 3a composed of a mesh-like pattern and a ground layer 4a electrically connected to the electromagnetic wave shield layer 3a which are formed on one surface 13a of the base film 2a, and an electrically conductive ground extraction portion 5a is arranged which has two legs L1 and L2 penetrating the other surface 14a of the base film 2a toward the surface 15a of the ground layer 4a, and a connecting portion B1 for connecting these two legs L1 and L2. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、電磁波シールドシート及び該電磁波シールドシートを用いた光学フィルタに関する。   The present invention relates to an electromagnetic wave shielding sheet and an optical filter using the electromagnetic wave shielding sheet.

ディスプレイ装置はテレビやパーソナルコンピュータのモニター等、各種の分野で用いられているが、その種類は多岐にわたる。ディスプレイ装置の種類としては、例えば、CRTディスプレイ装置、液晶ディスプレイ装置(LCD)、プラズマディスプレイ装置、及びELディスプレイ装置等を挙げることができる。   Display devices are used in various fields such as televisions and monitors for personal computers, but there are many types. Examples of the display device include a CRT display device, a liquid crystal display device (LCD), a plasma display device, and an EL display device.

上記の様々なディスプレイ装置のうち、大画面ディスプレイ装置の分野では、プラズマディスプレイ装置が注目されている。プラズマディスプレイ装置は、画像表示領域に微細な画素区画パターンが形成されたプラズマディスプレイパネルを有する高精細な表示装置であり、その奥行きが薄いこと、また軽量であることから、テレビジョン、モニター等の種々の用途に利用され、今後も需要の増加が期待されている。   Of the various display devices described above, plasma display devices have attracted attention in the field of large screen display devices. The plasma display device is a high-definition display device having a plasma display panel in which a fine pixel partition pattern is formed in an image display region, and since its depth is thin and lightweight, it can be used for televisions, monitors, etc. It is used for various purposes and is expected to increase in the future.

しかし、こうしたプラズマディスプレイ装置は、発光にプラズマ放電を利用するため、30MHz〜1GHz帯域の不要な電磁波が外部に漏洩して他の機器(例えば、遠隔制御機器、情報処理装置等)に影響を与えるおそれがある。そのため、プラズマディスプレイ装置に用いられるプラズマディスプレイパネルの前面側(観察者側)に、漏洩する電磁波をシールドするための電磁波シールドフィルムを設けるのが一般的である。   However, since such plasma display devices use plasma discharge for light emission, unnecessary electromagnetic waves in the 30 MHz to 1 GHz band leak outside and affect other devices (for example, remote control devices, information processing devices, etc.). There is a fear. Therefore, it is common to provide an electromagnetic wave shielding film for shielding leaked electromagnetic waves on the front side (observer side) of the plasma display panel used in the plasma display device.

電磁波シールドフィルムは、プラズマディスプレイパネルの表示の視認性を落とすことなく電磁波を効率的にシールドするために、通常、金属メッシュ、及びこの金属メッシュと電気的に接続された電極部が、透明基材フィルム上に形成された形態を有する。こうした電磁波シールドフィルムは、粘着剤を用いてディスプレイパネルの表示面に貼付される。そして、外部のアース端子と上記の電極部とを電気的に接続することにより、金属メッシュが接地される。   In order to effectively shield the electromagnetic wave without reducing the visibility of the display of the plasma display panel, the electromagnetic wave shielding film usually has a metal mesh and an electrode part electrically connected to the metal mesh. It has the form formed on the film. Such an electromagnetic wave shielding film is affixed to the display surface of a display panel using an adhesive. Then, the metal mesh is grounded by electrically connecting the external earth terminal and the electrode part.

金属メッシュを接地するための構造として、特許文献1では、ディスプレイパネルの周縁に接地電極を配置し、この接地電極に設けられた突起又は突条を電磁波シールドフィルムの電極部に貫通させることにより、金属メッシュの接地を行う構造が提案されている。
特開2006−196760号公報(第0033段落〜第0036段落、図5、図6)
As a structure for grounding the metal mesh, in Patent Document 1, a ground electrode is disposed on the periphery of the display panel, and a protrusion or a protrusion provided on the ground electrode is passed through the electrode portion of the electromagnetic shielding film. A structure for grounding a metal mesh has been proposed.
Japanese Patent Laying-Open No. 2006-196760 (paragraphs 0033 to 0036, FIGS. 5 and 6)

特許文献1においては、例えば同文献の図5,6に示されるように、金属メッシュ(以下、「金属メッシュ」を「メッシュ状パターンからなる電磁波シールド層」又は、単に「電磁波シールド層」という。)を、粘着剤を介してディスプレイパネルに対向するように設置する構成を採用している。これは、ディスプレイパネルと電磁波シールド層とを近接(数十μmの間隔)して設けることにより、ディスプレイパネルから漏洩する電磁波を効率的にシールドするためであると考えられる。ところが、上記のような構成は、電磁波シールド層とディスプレイパネルとが近接して設けられる分、ディスプレイパネル側に接地用の電極を設けることなく、電磁波シールド層を接地するための端子を外部に取り出すことが困難となる。このため、特許文献1に記載された発明においては、ディスプレイパネルの周縁に接地電極を配置し、この接地電極に設けられた突起又は突条を電磁波シールドフィルムの電極部に貫通させることにより、電磁波シールド層の接地をとる構造を採用している(以下、「電磁波シールドフィルム」を「電磁波シールドシート」という。また、電極部を「接地層」という。)。   In Patent Document 1, for example, as shown in FIGS. 5 and 6 of the same document, a metal mesh (hereinafter, “metal mesh” is referred to as an “electromagnetic wave shielding layer comprising a mesh pattern”) or simply “an electromagnetic wave shielding layer”. ) Is installed so as to face the display panel via an adhesive. This is considered to be because the electromagnetic waves leaking from the display panel are efficiently shielded by providing the display panel and the electromagnetic wave shielding layer close to each other (interval of several tens of μm). However, in the configuration as described above, since the electromagnetic wave shielding layer and the display panel are provided close to each other, a terminal for grounding the electromagnetic wave shielding layer is taken out without providing a grounding electrode on the display panel side. It becomes difficult. For this reason, in the invention described in Patent Document 1, a ground electrode is disposed on the periphery of the display panel, and a projection or a protrusion provided on the ground electrode is made to penetrate the electrode portion of the electromagnetic wave shielding film. A structure in which the shield layer is grounded is employed (hereinafter, “electromagnetic wave shield film” is referred to as “electromagnetic wave shield sheet”, and the electrode portion is referred to as “ground layer”).

しかしながら、特許文献1で提案された構造では、ディスプレイパネル側に接地電極を設ける必要があるためにディスプレイパネルにおいて所定の設計変更が必要となる課題があるが、ディスプレイパネルは表面がガラス基板であることが多いのでその設計変更は容易ではない。また、接地電極に突起又は突条を設ける分、ディスプレイ装置全体のコストが増加する課題もある。さらに、同文献の図6に記載されるように、接地電極に設けられた突起又は突条を接地層に貫通させるために圧縮ロールを用いているが、こうした圧縮ロールの採用により、圧縮ロールの押圧により電磁波シールドシートに傷が付きやすくなるという課題もある。   However, in the structure proposed in Patent Document 1, since it is necessary to provide a ground electrode on the display panel side, there is a problem that a predetermined design change is required in the display panel, but the surface of the display panel is a glass substrate. In many cases, it is not easy to change the design. In addition, there is a problem that the cost of the entire display device increases due to the provision of the protrusion or protrusion on the ground electrode. Furthermore, as described in FIG. 6 of the same document, a compression roll is used to allow protrusions or protrusions provided on the ground electrode to penetrate the ground layer. By adopting such a compression roll, There is also a problem that the electromagnetic wave shield sheet is easily damaged by the pressing.

本発明は、上記課題を解決するためになされたものであって、その目的は、外部のアース端子との直接の接続が可能となる新しい接地構造を有し、プラズマディスプレイパネルに特別な設計や工夫を施すことなく、プラズマディスプレイ装置のコストダウンを実現し、製造過程で傷が付きにくい、新構造の電磁波シールドシートを提供することにある。   The present invention has been made to solve the above-described problems, and has an object of having a new grounding structure that enables direct connection to an external grounding terminal, and having a special design or plasma display panel. The object is to provide an electromagnetic wave shielding sheet having a new structure that can reduce the cost of the plasma display device without any ingenuity and is less likely to be damaged during the manufacturing process.

また、本発明の他の目的は、外部のアース端子との直接の接続が可能となる新しい接地構造を有し、プラズマディスプレイパネルに特別な設計や工夫を施すことなく、プラズマディスプレイ装置のコストダウンを実現し、製造過程で傷が付きにくい、新構造の光学フィルタを提供することにある。   Another object of the present invention is to provide a new grounding structure that enables direct connection to an external grounding terminal, thereby reducing the cost of the plasma display device without applying any special design or ingenuity to the plasma display panel. Is to provide an optical filter having a new structure that is less likely to be damaged during the manufacturing process.

上記課題を解決するための本発明の電磁波シールドシートは、基材フィルムと、該基材フィルムの一方の面に形成された、メッシュ状パターンからなる電磁波シールド層及び該電磁波シールド層に電気的に接続された接地層と、を有する電磁波シールドシートにおいて、前記基材フィルムの他方の面から前記接地層の表面まで貫通して設けられる2つの脚部と、該2つの脚部を連結する連結部と、を有する導電性の接地取り出し部が設けられることを特徴とする。   The electromagnetic wave shielding sheet of the present invention for solving the above-mentioned problems is a substrate film, an electromagnetic wave shielding layer comprising a mesh pattern formed on one surface of the substrate film, and the electromagnetic wave shielding layer electrically In the electromagnetic wave shielding sheet having a connected ground layer, two leg portions penetrating from the other surface of the base film to the surface of the ground layer, and a connecting portion that couples the two leg portions And a conductive ground take-out part having the following.

この発明によれば、基材フィルムの他方の面から接地層の表面まで貫通して設けられる2つの脚部と、これら2つの脚部を連結する連結部と、を有する導電性の接地取り出し部が設けられるので、基材フィルムの他方の面と接地層の表面とが電気的に接続され、その結果、外部のアース端子との直接の接続が可能となる接地構造を有する電磁波シールドシートを得ることができる。   According to this invention, the conductive grounding extraction part which has two leg parts provided by penetrating from the other surface of the base film to the surface of the grounding layer, and a connecting part for connecting these two leg parts. Therefore, the other surface of the base film is electrically connected to the surface of the grounding layer, and as a result, an electromagnetic wave shielding sheet having a grounding structure that enables direct connection to an external grounding terminal is obtained. be able to.

本発明の電磁波シールドシートの好ましい態様においては、前記連結部が前記他方の面に配置されている。   In the preferable aspect of the electromagnetic wave shielding sheet of this invention, the said connection part is arrange | positioned at the said other surface.

この発明によれば、連結部が基材フィルムの他方の面に配置されているので、接地取り出し部と外部のアース端子との接触面積が大きくなり、その結果、接地取り出し部と外部のアース端子との接触抵抗を低減することができる。   According to this invention, since the connecting portion is disposed on the other surface of the base film, the contact area between the ground take-out portion and the external ground terminal is increased, and as a result, the ground take-out portion and the external ground terminal are increased. The contact resistance with can be reduced.

本発明の電磁波シールドシートの好ましい他の態様においては、前記接地取り出し部が前記他方の面の面内に複数設けられている。   In another preferable aspect of the electromagnetic wave shielding sheet of the present invention, a plurality of the ground extraction portions are provided in the surface of the other surface.

この発明によれば、接地取り出し部が基材フィルムの他方の面の面内に複数設けられているので、接地取り出し部と接地層とが電気的に接続される箇所が増加し、その結果、電磁波シールド層の接地を行いやすくなる。   According to this invention, since a plurality of ground take-out portions are provided in the surface of the other surface of the base film, the number of places where the ground take-out portion and the ground layer are electrically connected increases. This makes it easier to ground the electromagnetic shielding layer.

本発明の電磁波シールドシートの好ましい他の態様においては、前記接地取り出し部を金属金具とする。   In another preferable aspect of the electromagnetic wave shielding sheet of the present invention, the ground extraction portion is a metal fitting.

この発明によれば、接地取り出し部を金属金具とするので、接地取り出し部の導電性及び剛性が確保され、その結果、接地層と接地取り出し部との電気的な接続が確保されやすくなるとともに、剛性の高い外部のアース端子との接続が行いやすくなる。   According to this invention, since the ground extraction part is a metal fitting, the conductivity and rigidity of the ground extraction part are ensured, and as a result, electrical connection between the ground layer and the ground extraction part is easily ensured, It becomes easy to connect to a highly rigid external grounding terminal.

上記課題を解決するための本発明に係る第1の光学フィルタは、基材フィルムと、該基材フィルムの一方の面に形成された、メッシュ状パターンからなる電磁波シールド層及び該電磁波シールド層に電気的に接続された接地層と、前記基材フィルムの他方の面に設けられた光学調整層と、を有する光学フィルタにおいて、前記基材フィルムの他方の面のうち前記光学調整層が設けられていない基材フィルム面から前記接地層の表面まで貫通して設けられる2つの脚部と、該2つの脚部を連結する連結部と、を有する導電性の接地取り出し部が設けられていることを特徴とする。   A first optical filter according to the present invention for solving the above problems includes a base film, an electromagnetic wave shield layer formed on one surface of the base film, and formed of a mesh pattern, and the electromagnetic wave shield layer. In an optical filter having an electrically connected grounding layer and an optical adjustment layer provided on the other surface of the base film, the optical adjustment layer is provided on the other surface of the base film. There is provided a conductive ground extraction portion having two legs provided so as to penetrate from the base film surface not to the surface of the ground layer and a connecting portion for connecting the two legs. It is characterized by.

この発明によれば、基材フィルムの他方の面のうち光学調整層が設けられていない基材フィルム面から接地層の表面まで貫通して設けられる2つの脚部と、これら2つの脚部を連結する連結部と、を有する導電性の接地取り出し部が設けられているので、基材フィルムの他方の面と接地層の表面とが電気的に接続され、その結果、外部のアース端子との直接の接続が可能となる接地構造を有する光学フィルタを得ることができる。   According to this invention, two legs provided so as to penetrate from the base film surface on which the optical adjustment layer is not provided to the surface of the grounding layer among the other surfaces of the base film, and these two legs A conductive ground extraction portion having a connection portion to be connected, so that the other surface of the base film is electrically connected to the surface of the ground layer, and as a result, the external ground terminal An optical filter having a grounding structure that allows direct connection can be obtained.

本発明に係る第1の光学フィルタの好ましい態様においては、前記連結部が前記基材フィルム面に配置されている。   In the preferable aspect of the 1st optical filter which concerns on this invention, the said connection part is arrange | positioned at the said base film surface.

この発明によれば、連結部が基材フィルム面に配置されているので、接地取り出し部と外部のアース端子との接触面積が大きくなり、その結果、接地取り出し部と外部のアース端子との接触抵抗を低減することができる。   According to this invention, since the connecting portion is disposed on the base film surface, the contact area between the ground take-out portion and the external ground terminal is increased, and as a result, the contact between the ground take-out portion and the external ground terminal is increased. Resistance can be reduced.

本発明に係る第1の光学フィルタの好ましい他の態様においては、前記接地取り出し部が前記基材フィルム面の面内に複数設けられている。   In another preferable aspect of the first optical filter according to the present invention, a plurality of the ground extraction portions are provided in the surface of the base film surface.

この発明によれば、接地取り出し部が基材フィルム面の面内に複数設けられているので、接地取り出し部と接地層とが電気的に接続される箇所が増加し、その結果、電磁波シールド層の接地を行いやすくなる。   According to the present invention, since a plurality of ground take-out portions are provided in the plane of the base film surface, the number of places where the ground take-out portion and the ground layer are electrically connected increases, and as a result, the electromagnetic wave shielding layer Makes it easier to ground.

上記課題を解決するための本発明に係る第2の光学フィルタは、基材フィルムと、該基材フィルムの一方の面に形成された、メッシュ状パターンからなる電磁波シールド層及び該電磁波シールド層に電気的に接続された接地層と、前記基材フィルムの他方の面に設けられた光学調整層と、を有する光学フィルタにおいて、前記光学調整層の表面から前記接地層の表面まで貫通して設けられる2つの脚部と、該2つの脚部を連結する連結部と、を有する導電性の接地取り出し部が設けられていることを特徴とする。   The second optical filter according to the present invention for solving the above problems includes a base film, an electromagnetic wave shield layer formed on one surface of the base film, and formed of a mesh pattern, and the electromagnetic wave shield layer. In an optical filter having an electrically connected ground layer and an optical adjustment layer provided on the other surface of the base film, the optical filter is provided penetrating from the surface of the optical adjustment layer to the surface of the ground layer. A conductive grounding portion having two legs and a connecting portion for connecting the two legs is provided.

この発明によれば、光学調整層の表面から接地層の表面まで貫通して設けられる2つの脚部と、これら2つの脚部を連結する連結部と、を有する導電性の接地取り出し部が設けられているので、光学調整層の表面と接地層の表面とが電気的に接続され、その結果、外部のアース端子との直接の接続が可能となる接地構造を有する光学フィルタを得ることができる。   According to the present invention, there is provided a conductive ground extraction portion having two legs provided so as to penetrate from the surface of the optical adjustment layer to the surface of the ground layer, and a connecting portion connecting the two legs. Therefore, the surface of the optical adjustment layer and the surface of the grounding layer are electrically connected, and as a result, an optical filter having a grounding structure that enables direct connection to an external grounding terminal can be obtained. .

本発明に係る第2の光学フィルタの好ましい態様においては、前記連結部が前記光学調整層の表面に配置されている。   In a preferred aspect of the second optical filter according to the present invention, the connecting portion is disposed on the surface of the optical adjustment layer.

この発明によれば、連結部が光学調整層の表面に配置されているので、接地取り出し部と外部のアース端子との接触面積が大きくなり、その結果、接地取り出し部と外部のアース端子との接触抵抗を低減することができる。   According to the present invention, since the connecting portion is disposed on the surface of the optical adjustment layer, the contact area between the ground extraction portion and the external ground terminal is increased, and as a result, the ground extraction portion and the external ground terminal are Contact resistance can be reduced.

本発明に係る第2の光学フィルタの好ましい他の態様においては、前記接地取り出し部が前記光学調整層の表面の面内に複数設けられている。   In another preferable aspect of the second optical filter according to the present invention, a plurality of the ground extraction portions are provided in the surface of the optical adjustment layer.

この発明によれば、接地取り出し部が光学調整層の表面の面内に複数設けられているので、接地取り出し部と接地層とが電気的に接続される箇所が増加し、その結果、電磁波シールド層の接地を行いやすくなる。   According to the present invention, since a plurality of ground take-out portions are provided in the surface of the optical adjustment layer, the number of places where the ground take-out portions and the ground layer are electrically connected increases, and as a result, the electromagnetic wave shield It is easier to ground the layer.

本発明の光学フィルタの好ましい他の態様においては、前記接地取り出し部を金属金具とする。   In another preferable aspect of the optical filter of the present invention, the ground extraction portion is a metal fitting.

この発明によれば、接地取り出し部を金属金具とするので、接地取り出し部の導電性及び剛性が確保され、その結果、接地層と接地取り出し部との電気的な接続が確保されやすくなるとともに、剛性の高い外部のアース端子との接続が行いやすくなる。   According to this invention, since the ground extraction part is a metal fitting, the conductivity and rigidity of the ground extraction part are ensured, and as a result, electrical connection between the ground layer and the ground extraction part is easily ensured, It becomes easy to connect to a highly rigid external grounding terminal.

本発明の電磁波シールドシートによれば、基材フィルムの他方の面から接地層の表面まで貫通して設けられる2つの脚部と、これら2つの脚部を連結する連結部と、を有する導電性の接地取り出し部が設けられるので、外部のアース端子との直接の接続が可能となる接地構造を有する電磁波シールドシートを得ることができる。そして、本発明の電磁波シールドシートによれば、プラズマディスプレイパネルに特別な設計や工夫を施すことなく、プラズマディスプレイ装置のコストダウンを実現し、製造過程で傷が付きにくい、新構造の電磁波シールドシートを提供できる。   According to the electromagnetic wave shielding sheet of the present invention, the conductive material having two leg portions penetrating from the other surface of the base film to the surface of the grounding layer, and a connecting portion for connecting these two leg portions. Therefore, an electromagnetic wave shielding sheet having a grounding structure that can be directly connected to an external grounding terminal can be obtained. And according to the electromagnetic wave shielding sheet of the present invention, it is possible to reduce the cost of the plasma display device without applying special design or ingenuity to the plasma display panel, and to have a new structure that is difficult to be damaged in the manufacturing process. Can provide.

本発明に係る第1の光学フィルタによれば、基材フィルムの他方の面のうち光学調整層が設けられていない基材フィルム面から接地層の表面まで貫通して設けられる2つの脚部と、これら2つの脚部を連結する連結部と、を有する導電性の接地取り出し部が設けられているので、外部のアース端子との直接の接続が可能となる接地構造を有する光学フィルタを得ることができる。そして、本発明に係る第1の光学フィルタによれば、プラズマディスプレイパネルに特別な設計や工夫を施すことなく、プラズマディスプレイ装置のコストダウンを実現し、製造過程で傷が付きにくい、新構造の光学フィルタを提供できる。   According to the first optical filter of the present invention, two legs provided so as to penetrate from the base film surface on which the optical adjustment layer is not provided to the surface of the ground layer among the other surfaces of the base film; Since an electrically conductive grounding part having a connecting part for connecting these two legs is provided, an optical filter having a grounding structure that can be directly connected to an external grounding terminal is obtained. Can do. And according to the 1st optical filter which concerns on this invention, without giving a special design and device to a plasma display panel, the cost reduction of a plasma display apparatus is implement | achieved and it is hard to be damaged in a manufacture process, and is of a new structure An optical filter can be provided.

本発明に係る第2の光学フィルタによれば、光学調整層の表面から接地層の表面まで貫通して設けられる2つの脚部と、これら2つの脚部を連結する連結部と、を有する導電性の接地取り出し部が設けられているので、外部のアース端子との直接の接続が可能となる接地構造を有する光学フィルタを得ることができる。そして、本発明に係る第2の光学フィルタによれば、プラズマディスプレイパネルに特別な設計や工夫を施すことなく、プラズマディスプレイ装置のコストダウンを実現し、製造過程で傷が付きにくい、新構造の光学フィルタを提供できる。   According to the second optical filter of the present invention, a conductive material having two legs provided so as to penetrate from the surface of the optical adjustment layer to the surface of the ground layer, and a connecting part that connects these two legs. Therefore, an optical filter having a grounding structure that can be directly connected to an external grounding terminal can be obtained. And according to the 2nd optical filter which concerns on this invention, without giving a special design and device to a plasma display panel, the cost reduction of a plasma display apparatus is implement | achieved and it is hard to be damaged in a manufacture process, and is of a new structure An optical filter can be provided.

次に、本発明の実施の形態について詳細に説明するが、本発明は以下の実施の形態に限定されるものではなく、その要旨の範囲内で種々変形して実施することができる。   Next, embodiments of the present invention will be described in detail, but the present invention is not limited to the following embodiments, and various modifications can be made within the scope of the gist of the present invention.

[電磁波シールドシート及びその製造方法]
(電磁波シールドシート)
図1は、本発明の電磁波シールドシートの一例を示す模式的な斜視図であり、図2は、図1におけるA−A’面の模式的な断面図であり、図3は、図2の一部を拡大して示す模式的な断面図である。
[Electromagnetic wave shielding sheet and manufacturing method thereof]
(Electromagnetic wave shield sheet)
FIG. 1 is a schematic perspective view showing an example of the electromagnetic wave shielding sheet of the present invention, FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of the AA ′ plane in FIG. 1, and FIG. It is typical sectional drawing which expands and shows a part.

本発明の電磁波シールドシート1aは、基材フィルム2aと、基材フィルム2aの一方の面13aに形成された、メッシュ状パターンからなる電磁波シールド層3a及び電磁波シールド層3aに電気的に接続された接地層4aと、を有し、基材フィルム2aの他方の面14aから接地層4aの表面15aまで貫通して設けられる2つの脚部L1,L2と、2つの脚部L1,L2を連結する連結部B1と、を有する導電性の接地取り出し部5aが設けられる。   The electromagnetic wave shielding sheet 1a of the present invention was electrically connected to the base film 2a and the electromagnetic wave shielding layer 3a and the electromagnetic wave shielding layer 3a formed on one surface 13a of the base film 2a, each having a mesh pattern. A ground layer 4a, and the two legs L1 and L2 provided through the other surface 14a of the base film 2a to the surface 15a of the ground layer 4a are connected to the two legs L1 and L2. A conductive grounding portion 5a having a connecting portion B1 is provided.

電磁波シールドシート1aにおいては、基材フィルム2aの他方の面14aから接地層4aの表面15aまで貫通して設けられる2つの脚部L1,L2と、これら2つの脚部L1,L2を連結する連結部B1と、を有する導電性の接地取り出し部5aが設けられるので、基材フィルム2aの他方の面14aと接地層4aの表面15aとが電気的に接続され、その結果、外部のアース端子との直接の接続が可能となる接地構造が形成される。   In the electromagnetic wave shielding sheet 1a, two legs L1 and L2 provided penetrating from the other surface 14a of the base film 2a to the surface 15a of the ground layer 4a, and a connection for connecting these two legs L1 and L2 Since the conductive ground extraction portion 5a having the portion B1 is provided, the other surface 14a of the base film 2a and the surface 15a of the ground layer 4a are electrically connected, and as a result, an external ground terminal and Thus, a grounding structure that enables direct connection is formed.

基材フィルム2aは、透明なフィルムであり、従来公知のものを用いることができる。具体的には、透明性の高い樹脂フィルムが用いられる。基材フィルム2aの透明性は、分光光度計等を利用して測定される可視光線透過率で80%以上であることが好ましい。樹脂フィルムの材料としては、透明性、耐熱性、コスト等の観点から、通常、ポリエチレンテレフタレートが用いられる。また、こうした樹脂フィルムは、1軸延伸又は2軸延伸した延伸シートが用いられ、より好ましくは2軸延伸した延伸シートが用いられる。基材フィルム2aの厚さは、機械的強度、反りや弛み、破断、及び帯状で供給して加工すること等を考慮して、通常12μm以上、通常1000μm以下とする。   The base film 2a is a transparent film, and a conventionally known film can be used. Specifically, a highly transparent resin film is used. The transparency of the base film 2a is preferably 80% or more in terms of visible light transmittance measured using a spectrophotometer or the like. As a material for the resin film, polyethylene terephthalate is usually used from the viewpoint of transparency, heat resistance, cost, and the like. In addition, such a resin film is a uniaxially or biaxially stretched sheet, and more preferably a biaxially stretched sheet. The thickness of the base film 2a is usually 12 μm or more and usually 1000 μm or less in consideration of mechanical strength, warpage or slack, breakage, and supply and processing in a strip shape.

基材フィルム2aの表面には、電磁波シールド層3a及びこの電磁波シールド層3aに電気的に接続された接地層4aがそれぞれ設けられている。   On the surface of the base film 2a, an electromagnetic wave shielding layer 3a and a ground layer 4a electrically connected to the electromagnetic wave shielding layer 3a are provided.

電磁波シールド層3aは、プラズマディスプレイパネルから漏洩する電磁波をシールドするために、基材フィルム2aの一方の面13aに設けられる。電磁波シールド層3aは、プラズマディスプレイパネルの視認性を低下させずに電磁波シールド機能を奏するために、互いに交差する細い導電性の線群で形成されるメッシュ状パターンからなる。   The electromagnetic wave shielding layer 3a is provided on one surface 13a of the base film 2a in order to shield electromagnetic waves leaking from the plasma display panel. The electromagnetic wave shielding layer 3a is formed of a mesh pattern formed of thin conductive lines intersecting each other in order to perform an electromagnetic wave shielding function without reducing the visibility of the plasma display panel.

電磁波シールド層3aは、図1には図示していないが、プラズマディスプレイパネルと対向するようにして、電磁波シールドシート1aとプラズマディスプレイパネルとが貼り合わせられる。これにより、電磁波シールド層3aとプラズマディスプレイパネルとが数十μmのオーダーで近接して配置されることになり、電磁波シールド機能がより効果的に発現するようになる。一方で、こうした電磁波シールド層3aとプラズマディスプレイパネルのガラスの表示面とが近接することにより、電磁波シールド層3aの外部のアース端子への接続方法が課題となるが、この点については、接地取り出し部5aを用いることにより、外部のアース端子との直接の接続が可能となる接地構造が得られる。   Although the electromagnetic wave shielding layer 3a is not shown in FIG. 1, the electromagnetic wave shielding sheet 1a and the plasma display panel are bonded together so as to face the plasma display panel. Thereby, the electromagnetic wave shielding layer 3a and the plasma display panel are arranged close to each other on the order of several tens of μm, and the electromagnetic wave shielding function is more effectively exhibited. On the other hand, since the electromagnetic wave shielding layer 3a and the glass display surface of the plasma display panel are close to each other, there is a problem of how to connect the electromagnetic wave shielding layer 3a to an external earth terminal. By using the part 5a, a grounding structure that can be directly connected to an external grounding terminal is obtained.

電磁波シールド層3aには、通常、電磁波シールド機能以外に、プラズマディスプレイパネルに入射する外光を吸収するという機能が付加される。このため、電磁波シールド層3aを構成するメッシュ状パターンの線群は、通常、電磁波をシールドするための金属材料で構成される金属層と、外光を吸収するための黒化層との少なくとも2層で構成される。そして、外光が入射する側に黒化層が設けられ、プラズマディスプレイパネルと対向する側に金属層が設けられるように構成される。より詳しくは、上記で説明したように、プラズマディスプレイパネルの表示面は電磁波シールド層3aに対向するように電磁波シールドシート1aに貼り合わせられる(図1では図示していない。)ので、電磁波シールド層3aは、基材フィルム2aの一方の面13aから、黒化層及び金属層の順番になるように形成される。こうした電磁波シールド層3aは、通常、黒化処理によって得られる黒化層と、銅等の金属層との2層を少なくとも有する薄膜を基材フィルム2aの全面に形成し、フォトリソグラフィー法等でメッシュ状パターンにパターニングして得る。   In addition to the electromagnetic wave shielding function, the electromagnetic wave shielding layer 3a usually has a function of absorbing external light incident on the plasma display panel. For this reason, the line group of the mesh pattern which comprises the electromagnetic wave shielding layer 3a is normally at least 2 of the metal layer comprised with the metal material for shielding electromagnetic waves, and the blackening layer for absorbing external light. Composed of layers. And it is comprised so that a blackening layer may be provided in the side into which external light injects, and a metal layer may be provided in the side facing a plasma display panel. More specifically, as described above, the display surface of the plasma display panel is bonded to the electromagnetic wave shielding sheet 1a so as to face the electromagnetic wave shielding layer 3a (not shown in FIG. 1), so the electromagnetic wave shielding layer. 3a is formed so that it may become the order of a blackening layer and a metal layer from the one surface 13a of the base film 2a. Such an electromagnetic wave shielding layer 3a is usually formed by forming a thin film having at least two layers of a blackened layer obtained by blackening treatment and a metal layer such as copper on the entire surface of the base film 2a, and meshing it by a photolithography method or the like. It is obtained by patterning into a pattern.

電磁波シールド層3aは、通常、プラズマディスプレイパネルの表示面と同等またはそれより大きくなるように形成され、図1に示すように略長方形の形状を有する。   The electromagnetic wave shielding layer 3a is usually formed to be equal to or larger than the display surface of the plasma display panel, and has a substantially rectangular shape as shown in FIG.

接地層4aは、電磁波シールド層3aと外部のアース端子とを電気的に接続するために用いられるものである。このため、接地層4aは、メッシュ状パターンからなる電磁波シールド層3aと電気的に接続され、電磁波シールド層3aと同様に、基材フィルム2aの一方の面13a上に設けられている。より詳しくは、図1では、接地層4aは、電磁波シールド層3aを囲むようにして基材フィルム2a上に額縁状に設けられている。接地層4aと電磁波シールド層3aとの電気的な接続は、通常、電磁波シールド層3aのメッシュ状パターンを構成する線群と、接地層4aとを連続的に形成することによって行われる。例えば、上記のフォトリソグラフィー法でメッシュ状パターンからなる電磁波シールド層3aを形成する場合には、黒化処理によって得られる黒化層と、銅等の金属層との2層を少なくとも有する薄膜を基材フィルム2aの全面に形成する。その後フォトリソグラフィー法で、電磁波シールド層3aに該当する領域をメッシュ状パターンにパターニングすれば、パターニングが行われなかった電磁波シールド層3aの周囲の領域が接地層4aとなる。こうして得られる接地層4aの、材料、層構成、及び厚さ等は、電磁波シールド層3aと同様となる。なお、接地層は、必ずしも額縁状である必要はない。例えば、電磁波シールド層と同様にメッシュ状パターンに形成してもよい。   The ground layer 4a is used to electrically connect the electromagnetic wave shield layer 3a and an external earth terminal. For this reason, the ground layer 4a is electrically connected to the electromagnetic wave shielding layer 3a made of a mesh pattern, and is provided on the one surface 13a of the base film 2a in the same manner as the electromagnetic wave shielding layer 3a. More specifically, in FIG. 1, the ground layer 4a is provided in a frame shape on the base film 2a so as to surround the electromagnetic wave shielding layer 3a. The electrical connection between the ground layer 4a and the electromagnetic wave shield layer 3a is usually performed by continuously forming a group of lines constituting the mesh pattern of the electromagnetic wave shield layer 3a and the ground layer 4a. For example, when the electromagnetic wave shielding layer 3a having a mesh pattern is formed by the photolithography method described above, a thin film having at least two layers of a blackening layer obtained by blackening treatment and a metal layer such as copper is used. It is formed on the entire surface of the material film 2a. Thereafter, if the region corresponding to the electromagnetic wave shielding layer 3a is patterned into a mesh pattern by photolithography, the region around the electromagnetic wave shielding layer 3a that has not been patterned becomes the ground layer 4a. The material, layer configuration, thickness, and the like of the ground layer 4a thus obtained are the same as those of the electromagnetic wave shielding layer 3a. Note that the ground layer does not necessarily have a frame shape. For example, you may form in a mesh-like pattern similarly to the electromagnetic wave shield layer.

接地取り出し部5aは、基材フィルム2aの他方の面14aと接地層4aとの間の電気的な接続を確保するために用いられるものである。より詳しくは、接地取り出し部5aは、2つの脚部L1,L2と、2つの脚部L1,L2を連結する脚部B1を有し、断面が略コの字型である。また、2つの脚部L1,L2は、基材フィルム2aの他方の面14aから接地層4aの表面15aまで貫通して設けられている。さらに、脚部L1,L2のうち、接地層4aの表面15aから突出する部分は、接地層4aの表面15aに沿って、互いに向かい合うように内側に折り返されている。これにより、接地取り出し部5aが基材フィルム2aから脱落しにくくなる。なお、脚部L1,L2のうち、接地層4aの表面15aから突出する部分が接地層4aの表面15aに沿って折り返されているので、接地層4aの表面15aにおけるアンカーやターミナルとしての役割を接地取り出し部5aに付与することもできる。一方、連結部B1は、基材フィルム2aの他方の面14aの側に位置する脚部L1,L2の端部を連結し、基材フィルム2aの他方の面14aに接して配置されている。連結部B1が基材フィルム2aの他方の面14aに配置されているので、接地取り出し部5aと外部のアース端子との接触面積が大きくなり、その結果、接地取り出し部5aと外部のアース端子との接触抵抗を低減することができる。   The ground take-out part 5a is used to ensure electrical connection between the other surface 14a of the base film 2a and the ground layer 4a. More specifically, the ground contact extraction portion 5a has two leg portions L1 and L2 and a leg portion B1 connecting the two leg portions L1 and L2, and has a substantially U-shaped cross section. The two legs L1 and L2 are provided so as to penetrate from the other surface 14a of the base film 2a to the surface 15a of the ground layer 4a. Furthermore, portions of the leg portions L1 and L2 that protrude from the surface 15a of the ground layer 4a are folded inward so as to face each other along the surface 15a of the ground layer 4a. This makes it difficult for the ground take-out portion 5a to fall off the base film 2a. In addition, since the part which protrudes from the surface 15a of the grounding layer 4a among the leg parts L1 and L2 is folded along the surface 15a of the grounding layer 4a, the role as an anchor or terminal in the surface 15a of the grounding layer 4a It can also be given to the ground extraction portion 5a. On the other hand, connecting part B1 connects the edge part of the leg parts L1 and L2 located in the other surface 14a side of the base film 2a, and is arrange | positioned in contact with the other surface 14a of the base film 2a. Since the connecting portion B1 is disposed on the other surface 14a of the base film 2a, the contact area between the ground take-out portion 5a and the external ground terminal is increased. As a result, the ground take-out portion 5a and the external ground terminal are The contact resistance can be reduced.

接地取り出し部5aの幅Wは、図3に示すように、通常0.5mm以上、好ましくは1.0mm以上とする。上記範囲とすれば、連結部B1の面積が大きくなり、外部のアース端子との接触面積を確保しやすく、外部のアース端子と接地取り出し部5aひいては電磁波シールド層3aと間の電気抵抗を低減しやすくなる。   As shown in FIG. 3, the width W of the ground extraction portion 5a is usually 0.5 mm or more, preferably 1.0 mm or more. If it is in the above range, the area of the connecting portion B1 is increased, it is easy to ensure a contact area with the external grounding terminal, and the electrical resistance between the external grounding terminal and the ground extraction portion 5a and the electromagnetic wave shielding layer 3a is reduced. It becomes easy.

接地取り出し部5aの長さLは、図1に示すように、通常0.1mm以上、好ましくは1.0mm以上とする。上記範囲とすれば、脚部L1,L2と接地層4aとの接触面積を確保しやすく、接地取り出し部5aと電磁波シールド層3aとの間の電気抵抗を低減しやすくなる。   As shown in FIG. 1, the length L of the ground extraction portion 5a is usually 0.1 mm or more, preferably 1.0 mm or more. If it is the said range, it will be easy to ensure the contact area of leg part L1, L2 and the grounding layer 4a, and it will become easy to reduce the electrical resistance between the grounding extraction part 5a and the electromagnetic wave shielding layer 3a.

接地取り出し部5aは導電性を有するが、本発明で「導電性」とは、実使用上の接地特性が確保できる程度の導電性をいう。導電性を付与する観点から、接地取り出し部5aの材質としては、金属を用いることが好ましい。金属としては、例えば、銅、アルミニウム、鉄、銅合金、アルミニウム合金、及びステンレス等を挙げることができる。これらのうち、接地層4aに用いられる金属層と材料をそろえるという観点からは銅又は銅合金が好ましく、汎用性の観点からはアルミニウム合金、ステンレスを用いることが好ましい。好ましくは、接地取り出し部5aを金属金具とすることである。金属金具とすることにより、接地取り出し部5aの導電性及び剛性が確保され、その結果、接地層4aと接地取り出し部5aとの電気的な接続が確保されやすくなるとともに、剛性の高い外部のアース端子との接続が行いやすくなる。   The ground extraction portion 5a has conductivity. In the present invention, “conductivity” refers to conductivity sufficient to ensure ground characteristics in actual use. From the viewpoint of imparting electrical conductivity, it is preferable to use a metal as the material of the ground extraction portion 5a. Examples of the metal include copper, aluminum, iron, copper alloy, aluminum alloy, and stainless steel. Of these, copper or a copper alloy is preferable from the viewpoint of aligning the metal layer and material used for the ground layer 4a, and an aluminum alloy or stainless steel is preferably used from the viewpoint of versatility. Preferably, the ground extraction part 5a is a metal fitting. By using the metal fitting, the electrical conductivity and rigidity of the ground take-out portion 5a are ensured. As a result, the electrical connection between the ground layer 4a and the ground take-out portion 5a is easily secured, and a highly rigid external ground is provided. It becomes easy to connect with the terminal.

接地取り出し部5aは、図1〜3に示すように、連結部B1が基材フィルム2aの他方の面14aに接して設けられている。しかしながら、本発明においては、連結部が必ずしも基材フィルムの他方の面に接して設けられている必要はなく、連結部を基材フィルムの他方の面から浮かせて存在させてもよい。また、図1〜3において、接地取り出し部の上下をひっくり返して設置し、連結部を接地層の表面に配置してもよい。この場合においては、基材フィルムの他方の面から突出する2つの脚部の部分と外部のアース端子とを接続することになるが、基材フィルムの他方の面から突出する2つの脚部の部分の長さを所定の長さとし、必要に応じてこれらを折り返すことにより、外部のアース端子との接触面積を確保することができる。さらに、脚部L1,L2においては、接地層4aの表面15aから突出する部分は互いに向き合うように内側に折り返されているが、折り返す必要は必ずしもなく、また、折り返す方向も、上記のように内側でなく外側であってもよい。さらに、接地取り出し部5aの断面は略コの字型をしているが、例えば、断面が略H型であっても、またアーチ型に近いようなものであってもよい。こうした接地取り出し部5aを金属金具で形成する場合の変形例についてさらに説明する。   As shown in FIGS. 1 to 3, the ground take-out portion 5 a is provided with the connecting portion B <b> 1 in contact with the other surface 14 a of the base film 2 a. However, in the present invention, the connecting portion is not necessarily provided in contact with the other surface of the base film, and the connecting portion may be floated from the other surface of the base film. Moreover, in FIGS. 1-3, you may set up and down the upper and lower sides of a ground extraction part, and may arrange | position a connection part on the surface of a grounding layer. In this case, the two leg portions projecting from the other surface of the base film and the external ground terminal are connected, but the two leg portions projecting from the other surface of the base film are By setting the length of the portion to a predetermined length and folding them back as necessary, the contact area with the external ground terminal can be ensured. Furthermore, in the leg portions L1 and L2, the portions protruding from the surface 15a of the ground layer 4a are folded back inward so as to face each other, but it is not always necessary to fold back, and the folding direction is also the inner side as described above. It may be outside. Furthermore, although the cross section of the ground extraction part 5a is substantially U-shaped, for example, the cross section may be substantially H-shaped or close to an arch shape. A modified example in the case where such a ground extraction portion 5a is formed of a metal fitting will be further described.

図4は、接地取り出し部に用いる金属金具の変形例を示す模式的な斜視図である。より詳しくは、図4(a)〜(c)には、接地取り出し部を金属金具で形成する場合の変形例が示されている。接地取り出し部5bは、連結部が一定の面積を有するように脚部を長く設けたものであり、図1〜3に示した接地取り出し部5aを改良したものである。具体的には、図4(a)に示されるように、脚部の先端を鋭利に形成して、脚部が基材フィルム及び接地層を貫通しやすくしている。また、図4(b)に示す接地取り出し部5cは、金属線であり、図4(c)に示す接地取り出し部5dは、金属線を束にして、接地取り出し部5bに類似する形状としたものである。これらはいずれも良好に使用できるが、好ましくは、接地取り出し部を金属線とする。金属線とすることにより、接地取り出し部の汎用性が高くなり、その結果、電磁波シールドシートの生産性が向上する。   FIG. 4 is a schematic perspective view showing a modified example of the metal fitting used for the ground extraction portion. More specifically, FIGS. 4A to 4C show a modified example in which the ground extraction portion is formed of a metal fitting. The ground extraction part 5b is provided with long legs so that the connecting part has a certain area, and is an improvement of the ground extraction part 5a shown in FIGS. Specifically, as shown in FIG. 4A, the tip of the leg is sharply formed so that the leg easily penetrates the base film and the grounding layer. 4B is a metal wire, and the ground take-out portion 5d shown in FIG. 4C has a shape similar to the ground take-out portion 5b by bundling metal wires. Is. Any of these can be used satisfactorily, but preferably, the ground extraction portion is a metal wire. By using a metal wire, the versatility of the ground extraction part is enhanced, and as a result, the productivity of the electromagnetic wave shielding sheet is improved.

図5は、接地取り出し部の他の一例を示す模式的な断面図である。より詳しくは、接地取り出し部として金属線を用いた場合における、接地取り出し部の断面を拡大して示したものである。電磁波シールドシート1bは、金属線である接地取り出し部5cを用い、基材フィルム2cの他方の面14cと接地取り出し部5cとの間に導電層6が挿入されている。導電層6を用いるのは、接地取り出し部5cが金属線であるため、外部のアース端子と接地取り出し部5cとの接触面積が小さくなる傾向となるためであり、導電層6を接地取り出し部5cに接して設けることにより、外部のアース端子との接触面積を確保しやすくなる。導電層6を用いることに伴い、接地取り出し部5cの2つの脚部は、導電層6、基材フィルム2c、及び接地層4cを貫通しており、これら2つの脚部のうち、接地層4の表面15cから突出した部分は、接地層4cの表面15cに沿って内側に向かい合うように折り返されている。   FIG. 5 is a schematic cross-sectional view showing another example of the ground extraction portion. More specifically, an enlarged cross-sectional view of the ground take-out portion when a metal wire is used as the ground take-out portion. The electromagnetic shielding sheet 1b uses a ground extraction portion 5c that is a metal wire, and the conductive layer 6 is inserted between the other surface 14c of the base film 2c and the ground extraction portion 5c. The conductive layer 6 is used because the ground extraction portion 5c is a metal wire, so that the contact area between the external ground terminal and the ground extraction portion 5c tends to be small, and the conductive layer 6 is connected to the ground extraction portion 5c. By providing in contact with, it becomes easy to ensure a contact area with an external earth terminal. With the use of the conductive layer 6, the two legs of the ground extraction portion 5 c penetrate the conductive layer 6, the base film 2 c, and the ground layer 4 c, and among these two legs, the ground layer 4 The portion protruding from the surface 15c is folded back so as to face inward along the surface 15c of the ground layer 4c.

図6は、電磁波シールドシートの他の一例を示す模式的な斜視図である。電磁波シールドシート1cは、接地取り出し部5eが基材フィルム2dの他方の面の面内に複数、より詳しくは、4カ所設けられている。そして、4カ所の接地取り出し部5eの2つの脚部がそれぞれ、基材フィルム2dの他方の面から接地層4dの表面まで貫通して設けられている。図6に示すように、接地取り出し部5eが基材フィルム2dの他方の面における異なる位置に複数配置されることにより、接地取り出し部5eが接地層4dの表面の面内に複数設けられることになる。   FIG. 6 is a schematic perspective view showing another example of the electromagnetic wave shielding sheet. In the electromagnetic wave shielding sheet 1c, a plurality of ground extraction portions 5e are provided in the surface of the other surface of the base film 2d, more specifically, four locations. Then, two leg portions of the four ground extraction portions 5e are provided so as to penetrate from the other surface of the base film 2d to the surface of the ground layer 4d. As shown in FIG. 6, a plurality of ground take-out portions 5e are provided in the surface of the ground layer 4d by arranging a plurality of ground take-out portions 5e at different positions on the other surface of the base film 2d. Become.

電磁波シールドシート1cにおいては、接地取り出し部5eが基材フィルム2dの他方の面の面内に複数設けられているので、接地取り出し部5eと接地層4dとが電気的に接続される箇所が増加し、その結果、電磁波シールド層3dの接地を行いやすくなる。このように、本発明においては、接地取り出し部が基材フィルムの他方の面の面内に複数設けられること、すなわち、接地取り出し部が基材フィルムの他方の面上の異なる位置に複数設けられることが好ましいが、電磁波シールドシートに設けられる接地取り出し部の数は、通常1以上、好ましくは4以上とする。この範囲とすれば、電磁波シールド層の接地が行いやすくなる。   In the electromagnetic wave shielding sheet 1c, since a plurality of ground extraction portions 5e are provided in the surface of the other surface of the base film 2d, the number of places where the ground extraction portions 5e and the ground layer 4d are electrically connected increases. As a result, the electromagnetic wave shielding layer 3d can be easily grounded. As described above, in the present invention, a plurality of ground extraction portions are provided in the surface of the other surface of the base film, that is, a plurality of ground extraction portions are provided at different positions on the other surface of the base film. However, the number of ground extraction portions provided on the electromagnetic wave shielding sheet is usually 1 or more, preferably 4 or more. If it is within this range, the electromagnetic wave shielding layer can be easily grounded.

(電磁波シールドシートの製造方法)
本発明の電磁波シールドシートは、通常、一方の面に電磁波シールド層及び接地層が設けられた基材フィルムを準備した後、2つの脚部の先端を基材フィルムの他方の面から接地層の表面まで貫通させて、接地取り出し部を設置することによって製造される。
(Method for producing electromagnetic shielding sheet)
The electromagnetic wave shielding sheet of the present invention usually has a base film provided with an electromagnetic wave shielding layer and a grounding layer on one side, and then the two leg portions are connected to the grounding layer from the other side of the base film. It is manufactured by penetrating to the surface and installing a ground extraction part.

一方の面に電磁波シールド層及び接地層が形成された基材フィルムの製造は、例えば、上記で一部説明したとおり、基材フィルム上にスパッタリングや印刷等により、黒化層と金属層とを少なくとも形成し、これをフォトリソグラフィー法でパターニングして基材フィルム上に電磁波シールド層及び接地層を形成することによって行われる。こうした製造方法は、従来公知の方法をそのまま用いることができるので、ここでは詳細な説明は省略する。   Production of a base film having an electromagnetic wave shielding layer and a grounding layer formed on one surface is performed by, for example, forming a blackened layer and a metal layer on the base film by sputtering or printing, as partially explained above. It is performed by forming at least and patterning this by a photolithography method to form an electromagnetic wave shielding layer and a grounding layer on the base film. Since such a manufacturing method can use a conventionally well-known method as it is, detailed description is abbreviate | omitted here.

次に、電磁波シールド層及び接地層が形成された基材フィルムに接地取り出し部を設置する。接地取り出し部の設置は、連続的に行ってもよいし、間欠的に行っても良い。連続的に行う場合は、通常、長尺の基材フィルム表面に一組の電磁波シールド層及び接地層が連続的かつ断続的に複数設けられてロール状に巻き取られたものを準備し、長尺の基材フィルムをロールから引き出しながら、一組の電磁波シールド層及び接地層ごとに接地取り出し部の設置を行う。一方、接地取り出し部の設置を間欠的に行う場合は、通常、上記のロール状に形成された長尺の基材フィルムから、一組の電磁波シールド層及び接地層毎に基材フィルムを切り出し、これら1枚1枚の基材フィルム毎に、接地取り出し部の設置を行う。   Next, a ground extraction portion is installed on the base film on which the electromagnetic wave shielding layer and the ground layer are formed. The installation of the ground take-out unit may be performed continuously or intermittently. When performing continuously, a long base film surface is usually provided with a set of electromagnetic wave shielding layers and grounding layers that are continuously and intermittently wound and wound into a roll. While pulling out the base film of the scale from the roll, the ground extraction part is installed for each set of the electromagnetic shielding layer and the ground layer. On the other hand, when intermittently setting the ground take-out part, usually cut out the base film for each set of electromagnetic wave shielding layer and grounding layer from the long base film formed in the above roll shape, A grounding take-out portion is installed for each of these base films.

このような接地取り出し部は、従来公知の技術を応用することによって設置することができる。例えば、接地取り出し部として金属線を用いる場合には、特開2006−79252号公報に記載された技術を利用することができる。   Such a ground extraction portion can be installed by applying a conventionally known technique. For example, when a metal wire is used as the ground extraction portion, the technique described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2006-79252 can be used.

[光学フィルタ及びその製造方法]
(光学フィルタ)
図7は、本発明の光学フィルタの一例を示す模式的な斜視図であり、図8は、図7におけるB−B’面の模式的な断面図である。
[Optical filter and manufacturing method thereof]
(Optical filter)
FIG. 7 is a schematic perspective view showing an example of the optical filter of the present invention, and FIG. 8 is a schematic cross-sectional view of the BB ′ plane in FIG.

本発明に係る第1の光学フィルタ10aは、基材フィルム2fと、基材フィルム2fの一方の面13fに形成された、メッシュ状パターンからなる電磁波シールド層3f及び電磁波シールド層3fに電気的に接続された接地層4fと、基材フィルム2fの他方の面14fに設けられた光学調整層7aと、を有し、基材フィルム2fの他方の面14fのうち光学調整層7aが設けられていない基材フィルム面から接地層4fの表面15fまで貫通して設けられる2つの脚部L3,L4と、2つの脚部L3,L4を連結する連結部B2と、を有する導電性の接地取り出し部(以下、「第1接地取り出し部」という。)11aが設けられている。そして、連結部B2が基材フィルム2fの他方の面14fのうち光学調整層7aが設けられていない基材フィルム面に配置されている。   The first optical filter 10a according to the present invention is electrically connected to the base film 2f and the electromagnetic wave shielding layer 3f and the electromagnetic wave shielding layer 3f, which are formed on one surface 13f of the base film 2f. It has a grounding layer 4f connected and an optical adjustment layer 7a provided on the other surface 14f of the base film 2f, and the optical adjustment layer 7a is provided on the other surface 14f of the base film 2f. Conductive grounding portion having two leg portions L3 and L4 provided penetrating from the surface of the non-base film to the surface 15f of the grounding layer 4f and a connecting portion B2 connecting the two leg portions L3 and L4 (Hereinafter referred to as “first ground extraction portion”) 11 a is provided. And the connection part B2 is arrange | positioned in the base film surface in which the optical adjustment layer 7a is not provided among the other surfaces 14f of the base film 2f.

光学フィルタ10aにおいては、基材フィルム2fの他方の面14fのうち光学調整層7aが設けられていない基材フィルム面から接地層4fの表面15fまで貫通して設けられる2つの脚部L3,L4と、2つの脚部L3,L4を連結する連結部B2と、を有する導電性の第1接地取り出し部11aが設けられているので、基材フィルム2fの他方の面14fと接地層4fの表面15fとが電気的に接続され、その結果、外部のアース端子との直接の接続が可能となる接地構造が形成される。   In the optical filter 10a, two legs L3 and L4 provided penetrating from the base film surface on which the optical adjustment layer 7a is not provided to the surface 15f of the ground layer 4f on the other surface 14f of the base film 2f. And a conductive first ground extraction portion 11a having two connecting portions B2 for connecting the two leg portions L3 and L4, so that the other surface 14f of the base film 2f and the surface of the ground layer 4f are provided. As a result, a grounding structure that allows direct connection to an external ground terminal is formed.

光学フィルタ10aにおいては、連結部B2が、基材フィルム2fの他方の面14fのうち光学調整層7aが設けられていない基材フィルム面に配置されている。連結部B2が上記の基材フィルム面に配置されているので、第1接地取り出し部11aと外部のアース端子との接触面積が大きくなり、その結果、第1接地取り出し部11aと外部のアース端子との接触抵抗を低減することができる。   In the optical filter 10a, the connecting portion B2 is disposed on the base film surface where the optical adjustment layer 7a is not provided in the other surface 14f of the base film 2f. Since the connecting portion B2 is disposed on the base film surface, the contact area between the first ground extraction portion 11a and the external ground terminal is increased, and as a result, the first ground extraction portion 11a and the external ground terminal are increased. The contact resistance with can be reduced.

光学フィルタ10aは、光学調整層7aを間欠的に基材フィルム2fに貼り合わせて製造される形態のものである。より具体的には、光学フィルタ10aは、長尺の基材フィルム表面に一組の電磁波シールド層及び接地層が連続的かつ断続的に複数設けられてロール状に巻き取られたものを準備し、このロール状に形成された長尺の基材フィルムから、一組の電磁波シールド層3f及び接地層4f毎に基材フィルム2fを切り出し、こうして得られた基材フィルム2f毎に、電磁波シールド層3fと同程度の大きさの光学調整層7aを、基材フィルム2fの他方の面14fに、電磁波シールド層3fが形成された領域をカバーするように貼り合わせて得られるものである。   The optical filter 10a has a configuration in which the optical adjustment layer 7a is intermittently bonded to the base film 2f. More specifically, the optical filter 10a is prepared by winding a roll of a plurality of sets of electromagnetic shielding layers and grounding layers that are continuously and intermittently provided on the surface of a long base film. The base film 2f is cut out for each set of the electromagnetic shielding layer 3f and the grounding layer 4f from the long base film formed in a roll shape, and the electromagnetic shielding layer is separated for each of the base films 2f thus obtained. The optical adjustment layer 7a having the same size as 3f is bonded to the other surface 14f of the base film 2f so as to cover the region where the electromagnetic wave shielding layer 3f is formed.

光学フィルタ10aは、電磁波シールド層3fとほぼ同等の大きさの光学調整層7aが基材フィルム2fの他方の面14fに貼り付けられていること以外は、基本的には、図1〜3で説明した電磁波シールドシート1aと同様とすればよい。したがって、光学フィルタ10aにおける好ましい態様や変形例等も、基本的に電磁波シールドシート1aと同様とすればよい。以下、光学フィルタ10aの好ましい態様について代表的なものをいくつか説明する。   The optical filter 10a is basically the same as that shown in FIGS. 1 to 3 except that the optical adjustment layer 7a having substantially the same size as the electromagnetic wave shielding layer 3f is attached to the other surface 14f of the base film 2f. What is necessary is just to be the same as that of the electromagnetic wave shielding sheet 1a demonstrated. Therefore, a preferable aspect or modification of the optical filter 10a may be basically the same as that of the electromagnetic wave shielding sheet 1a. Hereinafter, some typical examples of preferred embodiments of the optical filter 10a will be described.

第1接地取り出し部11aは金属金具とすることが好ましい。金属金具とすることにより、第1接地取り出し部11aの導電性及び剛性が確保され、その結果、接地層4fと第1接地取り出し部11aとの電気的な接続が確保されやすくなるとともに、剛性の高い外部のアース端子との接続が行いやすくなる。なお、接地取り出し部を金属金具とする場合に用いる材質については、図1〜3で説明した電磁波シールドシート1aと同様とすればよい。   The first ground extraction portion 11a is preferably a metal fitting. By using the metal fitting, the conductivity and rigidity of the first ground extraction portion 11a are ensured. As a result, the electrical connection between the ground layer 4f and the first ground extraction portion 11a can be easily ensured, and the rigidity can be increased. Easy connection to a high external grounding terminal. In addition, what is necessary is just to make it the same as that of the electromagnetic wave shield sheet 1a demonstrated in FIGS. 1-3 about the material used when a grounding extraction part is used as a metal metal fitting.

光学フィルタ10aは、上記で説明したように、電磁波シールド層3fとほぼ同等の大きさの光学調整層7aが基材フィルム2fの他方の面14fに貼り付けられている点で電磁波シールドシート1aと異なる。そこで、以下では、電磁波シールドシート1aとの相違点である光学調整層7aについて説明を行う。   As described above, the optical filter 10a is similar to the electromagnetic wave shielding sheet 1a in that the optical adjustment layer 7a having substantially the same size as the electromagnetic wave shielding layer 3f is attached to the other surface 14f of the base film 2f. Different. Therefore, hereinafter, the optical adjustment layer 7a, which is different from the electromagnetic wave shielding sheet 1a, will be described.

光学調整層7aとしては、従来公知のものをそのまま用いればよい。例えば近赤外線吸収層、ネオン光吸収層、紫外線吸収層、反射防止層、ハードコート層、防汚層、及び防眩層等を挙げることができる。これら層を複数用いる場合における層を積層する順番は、用いる用途に応じて適宜調整すればよい。また、それぞれの層の厚さはそれぞれの光学調整層7a毎に適当な厚さが設定される。   As the optical adjustment layer 7a, a conventionally known layer may be used as it is. For example, a near infrared ray absorbing layer, a neon light absorbing layer, an ultraviolet ray absorbing layer, an antireflection layer, a hard coat layer, an antifouling layer, an antiglare layer and the like can be mentioned. What is necessary is just to adjust suitably the order which laminates | stacks the layer in the case of using two or more of these layers according to the use to be used. The thickness of each layer is set to an appropriate thickness for each optical adjustment layer 7a.

近赤外線吸収層は、通常、プラズマディスプレイパネルから放射される近赤外線を吸収するために設けることができる。近赤外線吸収層を設けることにより、プラズマディスプレイ装置の近くで使用されるリモートコントロール装置の誤作動等を防止することができる。近赤外線吸収層は、例えば、ジインモニウム系化合物、フタロシアニン系化合物等の近赤外線吸収剤をバインダ樹脂中に添加した塗料を、基材フィルム2fの他方の面14f上に塗工する、又は透明基材上にかかる近赤外線吸収塗料を塗工したものを基材フィルム2fの他方の面14f上に接着剤で接着することにより設けることができる。   A near-infrared absorption layer can be provided in order to absorb the near-infrared rays normally radiated | emitted from a plasma display panel. By providing the near-infrared absorbing layer, it is possible to prevent malfunction of a remote control device used near the plasma display device. The near-infrared absorbing layer is formed by, for example, applying a paint obtained by adding a near-infrared absorber such as a diimmonium compound or a phthalocyanine compound into a binder resin on the other surface 14f of the substrate film 2f, or a transparent substrate What applied the near-infrared-absorption paint concerning the top can be provided by adhere | attaching on the other surface 14f of the base film 2f with an adhesive agent.

ネオン光吸収層は、通常、プラズマディスプレイパネルから放射されるネオン光を吸収するために設けることができる。ネオン原子の発光スペクトル帯域は波長550〜640nmであるので、ネオン光吸収層は、通常、少なくとも550〜640nmの波長領域内に吸収極大を有する色素をバインダ樹脂に分散させた層とすることが好ましく、中心波長590nmにおける光線透過率が50%以下になるように含有量等を調整することがより好ましい。   The neon light absorbing layer can be provided to absorb neon light emitted from the plasma display panel. Since the emission spectrum band of neon atoms has a wavelength of 550 to 640 nm, it is preferable that the neon light absorption layer is usually a layer in which a dye having an absorption maximum in a wavelength region of at least 550 to 640 nm is dispersed in a binder resin. It is more preferable to adjust the content and the like so that the light transmittance at a center wavelength of 590 nm is 50% or less.

紫外線吸収層は、外光としてプラズマディスプレイパネルに入射する紫外線を吸収して、プラズマディスプレイパネルを構成する材料の紫外線劣化を防ぐために設けることができる。また、上記のような有機系の近赤外線吸収剤を含有する近赤外線吸収層を設ける場合には、この近赤外線吸収剤は紫外線により劣化しやすいため、紫外線吸収層を近赤外線吸収層より外側に積層することが好ましい。紫外線吸収層は、通常、紫外線吸収剤をバインダ樹脂に分散させた層を基材フィルム2fの他方の面14f上に設ける、又は紫外線吸収層を有するシートを基材フィルム2fの他方の面14f上に貼り合わせて設けることができる。   The ultraviolet absorbing layer can be provided to absorb ultraviolet rays incident on the plasma display panel as external light and prevent ultraviolet deterioration of the material constituting the plasma display panel. Further, when providing a near infrared absorbing layer containing the organic near infrared absorber as described above, the near infrared absorbing agent is easily deteriorated by ultraviolet rays, so that the ultraviolet absorbing layer is placed outside the near infrared absorbing layer. It is preferable to laminate. In the ultraviolet absorbing layer, a layer in which an ultraviolet absorber is dispersed in a binder resin is usually provided on the other surface 14f of the base film 2f, or a sheet having an ultraviolet absorbing layer is provided on the other surface 14f of the base film 2f. Can be attached to each other.

反射防止層(AR(Anti Reflection)層)は、通常、光干渉で反射光を抑制するために設けることができる。反射防止層としては、通常、低屈折率層が最表面に位置する様にして低屈性率層と高屈折率層とを交互に積層した多層構成からなるものが好ましく用いられる。   An antireflection layer (AR (Anti Reflection) layer) can usually be provided to suppress reflected light by optical interference. As the antireflection layer, a layer having a multilayer structure in which low refractive index layers and high refractive index layers are alternately laminated so that the low refractive index layer is positioned on the outermost surface is preferably used.

ハードコート層(HC(Hard Coat)層)は、通常、光学調整層7aの表面を保護するために設けることができる。ハードコート層は、通常、電離放射線硬化性樹脂、熱硬化性樹脂等で形成される。   A hard coat layer (HC (Hard Coat) layer) can usually be provided to protect the surface of the optical adjustment layer 7a. The hard coat layer is usually formed of an ionizing radiation curable resin, a thermosetting resin, or the like.

防眩層(AG(Anti Glare)層)は、光拡散によって外光の鏡面反射を低減し、ギラツキを防止するために設けることができる。防眩層は、通常、透明樹脂バインダ中にこれと屈折率の異なるシリカ等の無機フィラーを分散させた層として、又は透明樹脂層表面にエンボス加工等で光拡散性の微小な凹凸を賦形したものとして形成することができる。   The antiglare layer (AG (Anti Glare) layer) can be provided in order to reduce specular reflection of external light by light diffusion and prevent glare. The antiglare layer is usually formed as a layer in which an inorganic filler such as silica having a different refractive index is dispersed in a transparent resin binder, or by embossing on the surface of the transparent resin layer to form light diffusive minute irregularities. Can be formed.

防汚層は、通常、基材フィルム2fに付着する汚れを防止するために設けることができる。防汚層は、撥水性や撥油性を有する層であり、通常、シロキサン系化合物や、フッ素化アルキルシリル化合物等が用いられる。   The antifouling layer can be usually provided in order to prevent dirt adhering to the base film 2f. The antifouling layer is a layer having water repellency and oil repellency, and usually a siloxane compound, a fluorinated alkylsilyl compound, or the like is used.

光学調整層7aは、求められる性能に応じて、以上説明した各層を適宜選択して用いればよい。   The optical adjustment layer 7a may be selected and used as appropriate according to the required performance.

図9は、本発明の光学フィルタの他の一例を示す模式的な斜視図であり、図10は、図9におけるC−C’面の模式的な断面図である。   FIG. 9 is a schematic perspective view showing another example of the optical filter of the present invention, and FIG. 10 is a schematic cross-sectional view of the C-C ′ plane in FIG. 9.

本発明に係る第2の光学フィルタ10bは、基材フィルム2gと、基材フィルム2gの一方の面13gに形成された、メッシュ状パターンからなる電磁波シールド層3g及び電磁波シールド層3gに電気的に接続された接地層4gと、基材フィルム2gの他方の面14gに設けられた光学調整層7bと、を有し、光学調整層7bの表面16から接地層4gの表面15gまで貫通して設けられる2つの脚部L5,L6と、2つの脚部L5,L6を連結する連結部B3と、を有する導電性の接地取り出し部(以下、「第2接地取り出し部」という。)12aが設けられている。そして、連結部B3が光学調整層7bの表面16に配置されている。   The second optical filter 10b according to the present invention is electrically connected to the base film 2g and the electromagnetic wave shielding layer 3g and the electromagnetic wave shielding layer 3g, which are formed on one surface 13g of the base film 2g and are formed of a mesh pattern. It has a grounding layer 4g connected and an optical adjustment layer 7b provided on the other surface 14g of the base film 2g, and is provided penetrating from the surface 16 of the optical adjustment layer 7b to the surface 15g of the grounding layer 4g. A conductive ground extraction portion (hereinafter referred to as “second ground extraction portion”) 12a having two leg portions L5 and L6 and a connecting portion B3 connecting the two leg portions L5 and L6 is provided. ing. And the connection part B3 is arrange | positioned at the surface 16 of the optical adjustment layer 7b.

光学フィルタ10bにおいては、光学調整層7bの表面16から接地層4gの表面15gまで貫通して設けられる2つの脚部L5,L6と、2つの脚部L5,L6を連結する連結部B3と、を有する導電性の第2接地取り出し部12aが設けられているので、光学調整層7bの表面16と接地層4gの表面15gとが電気的に接続され、その結果、外部のアース端子との直接の接続が可能となる接地構造が形成される。   In the optical filter 10b, two leg portions L5 and L6 provided penetrating from the surface 16 of the optical adjustment layer 7b to the surface 15g of the ground layer 4g, and a connecting portion B3 connecting the two leg portions L5 and L6, Is provided, the surface 16 of the optical adjustment layer 7b and the surface 15g of the ground layer 4g are electrically connected, and as a result, directly connected to the external ground terminal. Thus, a grounding structure is formed that enables connection.

光学フィルタ10bにおいては、連結部B3が光学調整層7bの表面16に配置されている。連結部B3が光学調整層7bの表面16に配置されているので、第2接地取り出し部12aと外部のアース端子との接触面積が大きくなり、その結果、第2接地取り出し部12aと外部のアース端子との接触抵抗を低減することができる。   In the optical filter 10b, the connecting portion B3 is disposed on the surface 16 of the optical adjustment layer 7b. Since the connecting portion B3 is disposed on the surface 16 of the optical adjustment layer 7b, the contact area between the second ground extraction portion 12a and the external ground terminal is increased. As a result, the second ground extraction portion 12a and the external ground are connected. Contact resistance with the terminal can be reduced.

光学フィルタ10bは、光学調整層7bを連続的に基材フィルム2gに貼り合わせて製造される形態のものである。具体的には、長尺の基材フィルム表面に一組の電磁波シールド層及び接地層が連続的かつ断続的に複数設けられてロール状に巻き取られたものを準備し、また、長尺の光学調整層がロール状に形成されたものを準備する。ここで、光学調整層の幅は、基材フィルムの幅よりも小さく、電磁波シールド層の短辺の長さと略同一となっている。そして、これら二つのロールから基材フィルムと光学調整層を引き出し、電磁波シールド層と光学調整層とを重ねるようにして、基材フィルムの他方の面に光学調整層を貼り合わせた後、光学フィルタ10bを1枚ずつ切り出す。   The optical filter 10b has a configuration in which the optical adjustment layer 7b is continuously bonded to the base film 2g. Specifically, a long base film surface is provided with a set of electromagnetic wave shielding layers and grounding layers that are continuously and intermittently wound in a roll shape. A layer in which the optical adjustment layer is formed in a roll shape is prepared. Here, the width of the optical adjustment layer is smaller than the width of the base film, and is substantially the same as the length of the short side of the electromagnetic wave shielding layer. Then, the base film and the optical adjustment layer are pulled out from these two rolls, and the optical adjustment layer is bonded to the other surface of the base film so as to overlap the electromagnetic wave shielding layer and the optical adjustment layer. Cut out 10b one by one.

光学フィルタ10bは、図9に示すように、光学調整層7bの長辺が基材フィルム2gの長辺の長さと同一になっているために、第2接地取り出し部12aの連結部B3が光学調整層7bの表面16に設けられていること、第2接地取り出し部12aの2つの脚部L5,L6が光学調整層7bの表面16から接地層4gの表面15gまで貫通して設けられること、以外は、図7,8で説明した光学フィルタ10aひいては図1〜3で説明した電磁波シールドシート1aと同様とすればよい。したがって、光学フィルタ10bにおける好ましい態様や変形例等も、基本的に光学フィルタ10aひいては図1〜3で説明した電磁波シールドシート1aと同様とすればよい。以下、光学フィルタ10bの好ましい態様について代表的なものをいくつか説明する。   As shown in FIG. 9, in the optical filter 10b, since the long side of the optical adjustment layer 7b is the same as the long side of the base film 2g, the connecting portion B3 of the second ground extraction portion 12a is optical. Being provided on the surface 16 of the adjustment layer 7b, two legs L5 and L6 of the second ground extraction portion 12a being provided penetrating from the surface 16 of the optical adjustment layer 7b to the surface 15g of the ground layer 4g, Except for the above, the optical filter 10a described with reference to FIGS. 7 and 8 and the electromagnetic shield sheet 1a described with reference to FIGS. Therefore, a preferable aspect or modification of the optical filter 10b may be basically the same as that of the electromagnetic wave shielding sheet 1a described in FIGS. Hereinafter, some typical examples of preferred embodiments of the optical filter 10b will be described.

第2接地取り出し部12aは金属金具とすることが好ましい。金属金具とすることにより、第2接地取り出し部12aの導電性及び剛性が確保され、その結果、接地層4gと第2接地取り出し部12aとの電気的な接続が確保されやすくなるとともに、剛性の高い外部のアース端子との接続が行いやすくなる。なお、接地取り出し部を金属金具とする場合に用いる材質については、図1〜3で説明した電磁波シールドシート1aと同様とすればよい。   The second ground extraction portion 12a is preferably a metal fitting. By using the metal fitting, the conductivity and rigidity of the second ground extraction portion 12a are ensured. As a result, the electrical connection between the ground layer 4g and the second ground extraction portion 12a can be easily ensured, and the rigidity can be increased. Easy connection to a high external grounding terminal. In addition, what is necessary is just to make it the same as that of the electromagnetic wave shield sheet 1a demonstrated in FIGS. 1-3 about the material used when a grounding extraction part is used as a metal metal fitting.

光学フィルタ10bは、上記で説明したように、第2接地取り出し部12aの連結部B3が光学調整層7bの表面16に設けられている点、第2接地取り出し部12aの2つの脚部L5,L6が光学調整層7bの表面16から接地層4gの表面15gまで貫通して設けられる点、の2点において光学フィルタ10aと異なる。そこで、以下では、光学フィルタ10aとの上記2点の相違点について説明する。   As described above, the optical filter 10b has the connection portion B3 of the second ground extraction portion 12a provided on the surface 16 of the optical adjustment layer 7b, and the two legs L5 of the second ground extraction portion 12a. L6 differs from the optical filter 10a in two points, that is, L6 is provided penetrating from the surface 16 of the optical adjustment layer 7b to the surface 15g of the ground layer 4g. Therefore, the difference between the above two points from the optical filter 10a will be described below.

光学フィルタ10bにおいては、光学調整層7bの表面16と、接地層4gひいては電磁波シールド層3gとの間での電気的な接続を確保するために、第2接地取り出し部12aの連結部B3が光学調整層7bの表面16に設けられている。より詳しくは、図10に示すように、連結部B3は、光学調整層7bの表面16に接して設けられている。また、第2接地取り出し部12aの2つの脚部L5,L6は、光学調整層7bの表面16から接地層4gの表面15gまで貫通して設けられている。より詳しくは、図10に示すように、2つの脚部L5,L6として所定の長さを有するものを用い、これら脚部L5,L6が、光学調整層7b、基材フィルム2g、及び接地層4gを貫通している。そして、脚部L5,L6のうち、接地層4gの表面15gから突出した部分は、接地層4gの表面15gに沿って互いに向き合うように内向きに折り返されている。   In the optical filter 10b, in order to ensure electrical connection between the surface 16 of the optical adjustment layer 7b and the grounding layer 4g and thus the electromagnetic wave shielding layer 3g, the connecting portion B3 of the second ground extraction portion 12a is optically connected. It is provided on the surface 16 of the adjustment layer 7b. More specifically, as shown in FIG. 10, the connecting portion B3 is provided in contact with the surface 16 of the optical adjustment layer 7b. Further, the two leg portions L5 and L6 of the second ground extraction portion 12a are provided so as to penetrate from the surface 16 of the optical adjustment layer 7b to the surface 15g of the ground layer 4g. More specifically, as shown in FIG. 10, two legs L5 and L6 having a predetermined length are used, and these legs L5 and L6 include the optical adjustment layer 7b, the base film 2g, and the grounding layer. It penetrates 4g. The portions of the legs L5 and L6 that protrude from the surface 15g of the ground layer 4g are folded inward so as to face each other along the surface 15g of the ground layer 4g.

図11は、本発明の光学フィルタのさらに他の一例を示す模式的な斜視図である。光学フィルタ10cでは、第1接地取り出し部11bが、基材フィルム2hの他方の面のうち光学調整層7cが設けられていない基材フィルム面(以下、「基材フィルム2hの他方の面のうち光学調整層が設けられていない基材フィルム面」を、「基材フィルム面」ということがある。)の面内に複数設けられている。同様に、第2接地取り出し部12bが、光学調整層7cの表面の面内に複数設けられている。より詳しくは、図7,8に示した第1接地取り出し部11aと同様の構造を有する第1接地取り出し部11bを4カ所、図9,10に示した第2接地取り出し部12aと同様の構造を有する第2接地取り出し部12bを4カ所設けたものである。こうして、第1接地取り出し部11bが基材フィルム面の面内、及び第2接地取り出し部12bが光学調整層7cの表面の面内に複数設けられているので、第1接地取り出し部11bと接地層4hとが電気的に接続される箇所が増加するとともに、第2接地取り出し部12bと接地層4hとが電気的に接続される箇所が増加し、その結果、電磁波シールド層3hの接地を行いやすくなる。このように、本発明においては、第1接地取り出し部が基材フィルム面の面内に複数設けられていること、すなわち、第1接地取り出し部が基材フィルム面上の異なる位置に複数設けられることが好ましく、また、第2接地取り出し部が光学調整層の表面の面内に複数設けられていること、すなわち、第2接地取り出し部が光学調整層の表面上の異なる位置に複数設けられることが好ましい。光学フィルタに設けられる接地取り出し部の数は、通常1以上、好ましくは4以上とする。この範囲とすれば、電磁波シールド層の接地が行いやすくなる。   FIG. 11 is a schematic perspective view showing still another example of the optical filter of the present invention. In the optical filter 10c, the first ground take-out portion 11b has a base film surface on which the optical adjustment layer 7c is not provided in the other face of the base film 2h (hereinafter referred to as “of the other face of the base film 2h. A plurality of “base film surfaces that are not provided with an optical adjustment layer” may be referred to as “base film surfaces”). Similarly, a plurality of second ground extraction portions 12b are provided in the surface of the optical adjustment layer 7c. More specifically, four first ground extraction portions 11b having the same structure as the first ground extraction portion 11a shown in FIGS. 7 and 8 and the same structure as the second ground extraction portion 12a shown in FIGS. There are provided four second ground extraction portions 12b having Thus, a plurality of the first ground take-out portions 11b are provided in the plane of the base film surface and a plurality of second ground take-out portions 12b are provided in the surface of the optical adjustment layer 7c. As the number of places where the ground layer 4h is electrically connected increases, the number of places where the second ground extraction portion 12b and the ground layer 4h are electrically connected increases. As a result, the electromagnetic wave shielding layer 3h is grounded. It becomes easy. As described above, in the present invention, a plurality of first ground extraction portions are provided in the surface of the base film surface, that is, a plurality of first ground extraction portions are provided at different positions on the base film surface. Preferably, a plurality of second ground extraction portions are provided in the surface of the surface of the optical adjustment layer, that is, a plurality of second ground extraction portions are provided at different positions on the surface of the optical adjustment layer. Is preferred. The number of ground extraction portions provided in the optical filter is usually 1 or more, preferably 4 or more. If it is within this range, the electromagnetic wave shielding layer can be easily grounded.

(光学フィルタの製造方法)
本発明の光学フィルタは、通常、一方の面に電磁波シールド層及び接地層が設けられ、他方の面には光学調整層が設けられた基材フィルムを準備した後、2つの脚部の先端を基材フィルムの他方の面又は光学調整層の表面から接地層の表面まで貫通させて、接地取り出し部を設置することによって製造される。
(Optical filter manufacturing method)
The optical filter of the present invention usually has a base film provided with an electromagnetic wave shielding layer and a ground layer on one surface and an optical adjustment layer on the other surface, and then the tips of the two legs are attached. It is manufactured by penetrating from the other surface of the base film or the surface of the optical adjustment layer to the surface of the grounding layer, and installing a grounding takeout part.

光学フィルタは、電磁波シールドシートにおける基材フィルムの他方の面に光学調整層を貼り付けることによって製造される。光学フィルタの製造方法は、従来公知の方法をそのまま用いることができるので、ここでは詳細な説明は省略する。また、光学フィルタにおける接地取り出し部の設置を行う工程についても、電磁波シールドシートで説明した製造方法をそのまま用いるか、適宜応用すればよいので、ここでの説明は省略する。   The optical filter is manufactured by attaching an optical adjustment layer to the other surface of the base film in the electromagnetic wave shielding sheet. Since a conventionally known method can be used as it is for the manufacturing method of the optical filter, detailed description is omitted here. Moreover, since the manufacturing method demonstrated by the electromagnetic wave shield sheet may be used as it is or it may apply suitably also about the process of installing the ground extraction part in an optical filter, description here is abbreviate | omitted.

[プラズマディスプレイ装置への適用]
図12は、本発明の光学フィルタを適用したプラズマディスプレイ装置の模式的断面図である。より詳しくは、7,8図に示す光学フィルタ10aをプラズマディスプレイ装置に適用したものである。
[Application to plasma display devices]
FIG. 12 is a schematic cross-sectional view of a plasma display device to which the optical filter of the present invention is applied. More specifically, the optical filter 10a shown in FIGS. 7 and 8 is applied to a plasma display device.

プラズマディスプレイ装置100は、プラズマディスプレイパネル80と、光学フィルタ10aの電磁波シールド層3fとが、粘着層70を挟んで向かい合うように設置されている。そして、基材フィルム2fの他方の面14fに存在する第1接地取り出し部11aの連結部と、外部アース端子90とを電気的に接続することにより、電磁波シールド層3fが接地されている。この構成では、電磁波シールド層3fとプラズマディスプレイパネル80とが数十μmのオーダーに近接して設置されることになるので、電磁波シールドの機能が向上する。一方、電磁波シールド層3fとプラズマディスプレイパネル80とが近接して位置する分、光学フィルタ10aとプラズマディスプレイパネル80との間に存在する粘着層70が形成する空間に外部アース端子を挿入することは現実的でない。無理に外部アース端子を設置すると、外部アース端子がプラズマディスプレイパネル80の表面に接触して傷を付ける可能性もある。そこで、第1接地取り出し部11aを設けて基材フィルム2fの他方の面14fから外部アース端子90に接地を行う、本発明の光学フィルタ10aにおいて採用する設置構造の有効性が発揮されることになる。   The plasma display device 100 is installed such that the plasma display panel 80 and the electromagnetic wave shielding layer 3f of the optical filter 10a face each other with the adhesive layer 70 in between. The electromagnetic wave shielding layer 3f is grounded by electrically connecting the connecting portion of the first ground extraction portion 11a existing on the other surface 14f of the base film 2f and the external ground terminal 90. In this configuration, the electromagnetic wave shielding layer 3f and the plasma display panel 80 are installed close to the order of several tens of μm, so that the function of the electromagnetic wave shield is improved. On the other hand, inserting the external grounding terminal into the space formed by the adhesive layer 70 existing between the optical filter 10a and the plasma display panel 80 is equivalent to the electromagnetic wave shielding layer 3f and the plasma display panel 80 being located close to each other. Not realistic. If the external ground terminal is forcibly installed, the external ground terminal may come into contact with the surface of the plasma display panel 80 and be damaged. Therefore, the effectiveness of the installation structure employed in the optical filter 10a of the present invention in which the first ground extraction portion 11a is provided to perform grounding from the other surface 14f of the base film 2f to the external ground terminal 90 is exhibited. Become.

プラズマディスプレイ装置100では、図7,8の光学フィルタ10aについてのみ説明したが、上記において紹介したその他の電磁波シールドシート1a,1b,1cや、光学フィルタ10b,10cにおいても同様の効果が奏される。   In the plasma display device 100, only the optical filter 10a shown in FIGS. 7 and 8 has been described. However, the same effect can be obtained in the other electromagnetic wave shielding sheets 1a, 1b, and 1c introduced above and the optical filters 10b and 10c. .

本発明の電磁波シールドシートの一例を示す模式的な斜視図である。It is a typical perspective view which shows an example of the electromagnetic wave shield sheet of this invention. 図1におけるA−A’面の模式的な断面図である。It is typical sectional drawing of the A-A 'surface in FIG. 図2の一部を拡大して示す模式的な断面図である。It is typical sectional drawing which expands and shows a part of FIG. 接地取り出し部に用いる金属金具の変形例を示す模式的な斜視図である。It is a typical perspective view which shows the modification of the metal metal fitting used for a ground extraction part. 接地取り出し部の他の一例を示す模式的な断面図である。It is typical sectional drawing which shows another example of a ground extraction part. 電磁波シールドシートの他の一例を示す模式的な斜視図である。It is a typical perspective view which shows another example of an electromagnetic wave shield sheet. 本発明の光学フィルタの一例を示す模式的な斜視図である。It is a typical perspective view which shows an example of the optical filter of this invention. 図7におけるB−B’面の模式的な断面図である。It is typical sectional drawing of the B-B 'surface in FIG. 本発明の光学フィルタの他の一例を示す模式的な斜視図である。It is a typical perspective view which shows another example of the optical filter of this invention. 図9におけるC−C’面の模式的な断面図である。It is typical sectional drawing of the C-C 'surface in FIG. 本発明の光学フィルタのさらに他の一例を示す模式的な斜視図である。It is a typical perspective view which shows another example of the optical filter of this invention. 本発明の光学フィルタを適用したプラズマディスプレイ装置の模式的断面図である。It is typical sectional drawing of the plasma display apparatus to which the optical filter of this invention is applied.

符号の説明Explanation of symbols

1a,1b,1c 電磁波シールドシート
2a,2c,2d,2f,2g,2h 基材フィルム
3a,3d,3f,3g,3h 電磁波シールド層
4a,4c,4d,4f,4g,4h 接地層
5a,5b,5c,5d,5e 接地取り出し部
6 導電層
L1,L2,L3,L4,L5,L6 脚部
B1,B2,B3 連結部
7a,7b,7c 光学調整層
10a,10b,10c 光学フィルタ
11a,11b 第1接地取り出し部
12a,12b 第2接地取り出し部
13a,13f,13g 基材フィルムの一方の面
14a,14c,14f,14g 基材フィルムの他方の面
15a,15c,15f,15g 接地層の表面
16 光学調整層の表面
70 粘着層
80 プラズマディスプレイパネル
90 外部アース端子
100 プラズマディスプレイ装置
1a, 1b, 1c Electromagnetic shield sheet 2a, 2c, 2d, 2f, 2g, 2h Base film 3a, 3d, 3f, 3g, 3h Electromagnetic shield layer 4a, 4c, 4d, 4f, 4g, 4h Grounding layer 5a, 5b , 5c, 5d, 5e Ground extraction part 6 Conductive layer L1, L2, L3, L4, L5, L6 Leg part B1, B2, B3 Connection part 7a, 7b, 7c Optical adjustment layer 10a, 10b, 10c Optical filter 11a, 11b 1st ground extraction part 12a, 12b 2nd ground extraction part 13a, 13f, 13g One side of base film 14a, 14c, 14f, 14g The other side of base film 15a, 15c, 15f, 15g Surface of grounding layer 16 Surface of optical adjustment layer 70 Adhesive layer 80 Plasma display panel 90 External ground terminal 100 Plasma display Equipment

Claims (11)

基材フィルムと、該基材フィルムの一方の面に形成された、メッシュ状パターンからなる電磁波シールド層及び該電磁波シールド層に電気的に接続された接地層と、を有する電磁波シールドシートにおいて、
前記基材フィルムの他方の面から前記接地層の表面まで貫通して設けられる2つの脚部と、該2つの脚部を連結する連結部と、を有する導電性の接地取り出し部が設けられることを特徴とする電磁波シールドシート。
In an electromagnetic wave shielding sheet having a base film, an electromagnetic wave shielding layer formed of a mesh pattern formed on one surface of the base film, and a ground layer electrically connected to the electromagnetic wave shielding layer,
A conductive grounding portion having two legs provided so as to penetrate from the other surface of the base film to the surface of the grounding layer and a connecting portion for connecting the two legs is provided; An electromagnetic wave shielding sheet characterized by.
前記連結部が前記他方の面に配置されている、請求項1に記載の電磁波シールドシート。   The electromagnetic wave shielding sheet according to claim 1, wherein the connecting portion is disposed on the other surface. 前記接地取り出し部が前記他方の面の面内に複数設けられている、請求項1又は2に記載の電磁波シールドシート。   The electromagnetic wave shielding sheet according to claim 1, wherein a plurality of the ground extraction portions are provided in the surface of the other surface. 前記接地取り出し部を金属金具とする、請求項1〜3のいずれか1項に記載の電磁波シールドシート。   The electromagnetic wave shielding sheet according to any one of claims 1 to 3, wherein the ground extraction portion is a metal fitting. 基材フィルムと、該基材フィルムの一方の面に形成された、メッシュ状パターンからなる電磁波シールド層及び該電磁波シールド層に電気的に接続された接地層と、前記基材フィルムの他方の面に設けられた光学調整層と、を有する光学フィルタにおいて、
前記基材フィルムの他方の面のうち前記光学調整層が設けられていない基材フィルム面から前記接地層の表面まで貫通して設けられる2つの脚部と、該2つの脚部を連結する連結部と、を有する導電性の接地取り出し部が設けられていることを特徴とする光学フィルタ。
A base film, an electromagnetic wave shielding layer formed of a mesh pattern formed on one surface of the base film, a ground layer electrically connected to the electromagnetic wave shielding layer, and the other surface of the base film In an optical filter having an optical adjustment layer provided in
Of the other surface of the base film, two legs provided so as to penetrate from the base film surface where the optical adjustment layer is not provided to the surface of the grounding layer, and a connection for connecting the two legs And an electrically conductive grounding portion having a portion.
前記連結部が前記基材フィルム面に配置されている、請求項5に記載の光学フィルタ。   The optical filter according to claim 5, wherein the connecting portion is disposed on the base film surface. 前記接地取り出し部が前記基材フィルム面の面内に複数設けられている、請求項5又は6に記載の光学フィルタ。   The optical filter according to claim 5 or 6, wherein a plurality of the ground extraction portions are provided in a plane of the base film surface. 基材フィルムと、該基材フィルムの一方の面に形成された、メッシュ状パターンからなる電磁波シールド層及び該電磁波シールド層に電気的に接続された接地層と、前記基材フィルムの他方の面に設けられた光学調整層と、を有する光学フィルタにおいて、
前記光学調整層の表面から前記接地層の表面まで貫通して設けられる2つの脚部と、該2つの脚部を連結する連結部と、を有する導電性の接地取り出し部が設けられていることを特徴とする光学フィルタ。
A base film, an electromagnetic wave shielding layer formed of a mesh pattern formed on one surface of the base film, a ground layer electrically connected to the electromagnetic wave shielding layer, and the other surface of the base film In an optical filter having an optical adjustment layer provided in
There is provided a conductive ground extraction portion having two legs provided so as to penetrate from the surface of the optical adjustment layer to the surface of the ground layer, and a connecting portion for connecting the two legs. An optical filter characterized by.
前記連結部が前記光学調整層の表面に配置されている、請求項8に記載の光学フィルタ。   The optical filter according to claim 8, wherein the connecting portion is disposed on a surface of the optical adjustment layer. 前記接地取り出し部が前記光学調整層の表面の面内に複数設けられている、請求項8又は9に記載の光学フィルタ。   The optical filter according to claim 8 or 9, wherein a plurality of the ground extraction portions are provided in the surface of the optical adjustment layer. 前記接地取り出し部を金属金具とする、請求項5〜10のいずれか1項に記載の光学フィルタ。   The optical filter according to claim 5, wherein the ground extraction portion is a metal fitting.
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