JP2008530618A - 高分子分離液晶セルの形成方法、その方法により形成されたセルおよびそのセルの使用 - Google Patents
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Abstract
Description
a)第1および第2の基板の間でモノマーおよび/またはオリゴマーの多孔質ポリマーマトリクスを調製し、ここでは、前記多孔性ポリマーマトリクスの気孔は第1の材料好ましくは第1液晶材料で充填され、
b)前記多孔質ポリマーマトリクスの表面から前記第2の基板をリフト・オフし、
c)前記多孔質ポリマーマトリクスから前記第1の材料を除去し、
d)工程b)において前記第2の基板がリフト・オフされた、前記多孔質ポリマーマトリクスの表面に第3の基板を配置し、
e)いくつかのまたは実質的に全ての前記多孔質ポリマーマトリクスの前記気孔を液晶である第2の材料で充填する。
一実施形態において、この発明は付加的なリフト・オフ基板(S')を使用し、図1に示すように、ポリマーマトリックスが接着されない。この方法はポリマーマトリックスの製造を1つの基板(S1)で可能にする。LCのウォッシュアウト(washout)および乾燥は、溶剤に耐性を示すS1で行われ得る。他の基板(S2)はS1に配置され、ポリマーマトリクスによりセルを形成し、次に、セルは所望の液晶(LC)で再充填(refilled)され得る。
柔軟なPDLCの製造について、本発明者は第1に従来のPDLCを彼等の以前の報告書[A. Masutani, A. Roberts, A. Yasuda, A. Sakaigawa, G. Cross and D. Bloor, "A Novel Polariser-Free Dye Doped Polymer Dispersed Liquid Crystal for Reflective TFT Display", 22nd International Display Research Conference Proceedings, pp47-50 (2002.10, Nice)]に記載されているように作成した。差異は、今回彼等が、ITO被覆されたPETフィルム(Sheldahl, 60Ω/sq & 110nm ITO, 5mm厚)をS1とS2基板、またリフト・オフされた付加的な基板のような普通のPET基板(Goodfellow, 0.25mm厚)に対して使用したことである。これはPN393ポリマーが被覆されていないPETに接着しないからである。
柔軟なD-SPDLCの特徴
柔軟なD-SPDLCs の電気光学反応特性は、実施例1において生産されるように、様々な0重量%と3重量%で色素濃度が測定された。テストセルは、増幅されたDAQPCMCIAカード(6024E, National Instruments)を使用して起動され、ラップトップコンピュータ上で動くラボウインドウズ(LabWindows(登録商標))CVIソフトウェア(社内でプログラムされた)を使用して制御される。セルの反応は、フォトダイオード(Edmund Optics NT54035)が取り付けられた光学顕微鏡(DMRX-HC, Leica)で観測された。6セルは全体で観測された。3セルは0重量%のB4(ドープされていない)TL203で再充填され、3セルは3重量%のB4(ドープされていない)TL203で再充填された。データポイントのそれぞれは3セルで得られた測定値の平均を示す。
Claims (33)
- 高分子分散液晶セルを形成する方法であって、
a)第1および第2の基板の間でモノマーおよび/またはオリゴマーから多孔質ポリマーマトリクスを調製し、ここでは、前記多孔性ポリマーマトリクスの気孔は第1の材料好ましくは第1液晶材料で充填され、
b)前記多孔質ポリマーマトリクスの表面から前記第2の基板をリフト・オフし、
c)前記多孔質ポリマーマトリクスから前記第1の材料を除去し、
d)工程b)において前記第2の基板の表面がリフト・オフされた、前記多孔質ポリマーマトリクスの表面に第3の基板を配置し、
e)いくつかのまたは実質的に全ての前記多孔質ポリマーマトリクスの前記気孔を液晶である第2の材料で充填する、
工程を具備する高分子分散液晶セルを形成する方法。 - 少なくとも前記第2の基板は、前記多孔質ポリマーマトリクスの表面特性と十分に異なる表面特性を有し、前記第2の基板を工程b)において容易にリフト・オフ可能とすることを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 前記第2の基板は、第1の溶媒に溶解する表面層を有し、および前記第2の基板が前記第1の溶媒に浸漬された後に工程b)を行われることを特徴とする先行の請求項のいずれかに記載の方法。
- 前記ポリマーマトリクスが実質的に親水性の表面特性を有する場合、前記第2の基板が実質的に疎水性の表面特性を有する、および、その逆であることを特徴とする先行の請求項のいずれかに記載の方法。
- 前記第2の基板は、前記第2の基板に対して、0から180度の範囲、好ましくは0から10から180度、より好ましくは90度より大きい範囲である、モノマー溶液またはオリゴマー溶液またはモノマーおよびオリゴマー溶液の接触角を有することを特徴とする先行の請求項のいずれかに記載の方法。
- 前記第2の基板は、滑らかな、好ましくは20μm以下の表面粗さがある表面を有することを特徴とする先行の請求項のいずれかに記載の方法。
- 前記第2の基板は、低表面エネルギーを有し、また好ましくは、ポリエチレンテレフタレート(PET、ポリメタクリル酸メチル、ポリ酢酸ビニル(PVA)、ポリスチレン、アセタール、エチル酢酸ビニル(EVA)、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリフッ化ビニリデン(PVDF、テドラー(tedlar))、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE、テフロン)、表面が改質されたガラス、例えばシラン化ガラスを具備する群から選択されることを特徴とする先行の請求項のいずれかに記載の方法。
- 前記多孔質ポリマーマトリクスは、PN393プレポリマー、ポリメタクリル酸、ポリウレタン、PVA、エポキシを有する群から選択される材料で形成されることを特徴とする先行の請求項のいずれかに記載の方法。
- 前記第2の基板は、PET、ポリ酢酸ビニル(PVA)、ポリスチレン、アセタール、エチル酢酸ビニル(EVA)、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリフッ化ビニリデン(PVDF、テドラー(tedlar))、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE、テフロン)を具備する群から選択され、
また前記多孔質ポリマーマトリクスはポリメタクリル酸、ポリウレタン、PVA、エポキシを具備する群から選択される材料で製造されることを特徴とする請求項7および8のいずれかに記載の方法。 - 前記工程d)は、工程e)の後または工程e)と同時に生じることを特徴とする先行の請求項のいずれかに記載の方法。
- 前記工程b)は、工程c)の後に生じることを特徴とする先行の請求項のいずれかに記載の方法。
- 前記工程c)および工程e)は同時に生じることを特徴とする先行の請求項、請求項10および11を含む、いずれかに記載の方法。
- 前記工程c)、d)およびe)は同時に生じることを特徴とする請求項12に記載の方法。
- 工程c)は、以下の第2の溶媒での洗浄、蒸発、昇華、分解、気体除去および吸引の処理のいずれかひとつまたは組み合わせにより生じることを特徴とする先行の請求項のいずれかに記載の方法。
- 前記第2の溶媒は、前記第1の材料を溶解する能力があることを特徴とする請求項14に記載の方法。
- 前記第2および前記第1の溶媒は、メタノール、アセトン、トルエン、ジクロロメタン、テトラヒドロフラン(THF)、2-プロパノール、1-プロパノール、水、ジメチルホルムアミド(DMF)、ジメチルスルホキシド(DMSO)を具備する群から独立して選択されることを特徴とする請求項15に記載の方法。
- 工程c)の後に、c‘)好ましくは真空下で乾燥する工程が後に続くことを特徴とする請求項14から1216のいずれかに記載の方法。
- 前記乾燥は20℃〜200℃、好ましくは50℃〜90℃、好ましくは80℃前後の温度範囲において行われることを特徴とする請求項17に記載の方法。
- 前記第1の基板は前記溶媒中での溶解に耐性を示すことを特徴とする請求項14〜18のいずれかに記載の方法。
- 前記第2の基板は前記溶媒中での溶解に耐性を示さないことを特徴とする請求項14〜19のいずれかに記載の方法。
- 前記第1および第3の基板の少なくとも1つは可視光線を通すことを特徴とする先行の請求項のいずれかに記載の方法。
- 前記第1および第3の基板は導電性である、または、導電層で被覆されていることを特徴とする先行の請求項のいずれかに記載の方法。
- l)前記多孔質ポリマーマトリクスの他の表面から前記第1の基板をリフト・オフする付加的な工程を含み、工程l)は以下のa)とb)との間、工程b)と同時、b)とc)との間、c)とd)との間、d)とe)との間、工程b)とe)と同時および工程b)、c)およびe)と同時、から
選択されるいずれかの点で行われる、
ことを特徴とする先行の請求項のいずれかに記載の方法。 - 前記第1の基板は、前記多孔質ポリマーマトリクスの表面特性と十分に異なる表面特性を有し、前記第1の基板を工程l)において容易にリフト・オフ可能とすることを特徴とする請求項23に記載の方法。
- 前記第1の基板は、請求項2〜7のいずれかにおいて、前記第2の基板に関して定義されたような少なくとも1つの特性を有することを特徴とする請求項23〜24のいずれかに記載の方法。
- m)第4の基板を、工程l)の後に工程m)が生じる前記多孔質ポリマーマトリクスの前記他の表面に配置する付加的な工程を具備することを特徴とする請求項23〜25のいずれかに記載の方法。
- 前記ポリマーマトリクスの前記他の表面は、工程d)において前記第3の基板が配置された前記表面の反対側であることを特徴とする請求項26に記載の方法。
- 前記第2の材料、ここでは液晶は、色素がドープされていることを特徴とする先行の請求項のいずれかに記載の方法。
- 前記第1の材料は液晶材料であることを特徴とする先行の請求項のいずれかに記載の方法。
- 前記第1および第2の液晶材料は異なることを特徴とする請求項29に記載の方法。
- 先行の請求項のいずれかに記載の方法によって、製造された高分子分散液晶セル。
- 前記多孔質ポリマーマトリクスは、第1と第3の基板とが接触しているにもかかわらず、1つの基板、例えば、第1の基板にだけ接着し、あるいは、それは、第3と第4の基板とが接触しているのもかかわらず、基板に接着していない、
ことを特徴とする請求項31に記載のセル。 - ディスプレイ、スマートウインドウ、膜、オプティカルバルブ、ブラッグ格子、光学的に敏感なメモリ、赤外線シャッター、ガスフローセンサー、光学波面センサー、光学波面コレクター、圧力センサーおよび/または偏光板における請求項31〜32のいずれかに記載の高分子分散液晶セルの使用。
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