JP2008526671A5

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Publication number: JP2008526671A5
Application number: JP2007549484A
Authority: JP
Filing date: 2005-12-21
Publication date: 2009-02-12
Anticipated expiration: 2025-12-21

Claims

酸化物基準で、
（ｉ）少なくとも３０モルパーセントのＰ_２Ｏ_５、および
（ｉｉ）少なくとも３０モルパーセントのＹ_２Ｏ_３、Ｓｃ_２Ｏ_３、Ｅｒ_２Ｏ_３、Ｌｕ_２Ｏ_３、Ｙｂ_２Ｏ_３、Ｔｍ_２Ｏ_３、Ｈｏ_２Ｏ_３、Ｄｙ_２Ｏ_３、Ｔｂ_２Ｏ_３、Ｇｄ_２Ｏ_３またはそれらの組合せ、を含む、第Ｉ相と呼ばれる相と、
酸化物基準で、
（ｉｉｉ）２．５〜１３．０モルパーセントのＰ_２Ｏ_５、
（ｉｖ）２．５〜１３．０モルパーセントのＹ_２Ｏ_３、Ｓｃ_２Ｏ_３、Ｅｒ_２Ｏ_３、Ｌｕ_２Ｏ_３、Ｙｂ_２Ｏ_３、Ｔｍ_２Ｏ_３、Ｈｏ_２Ｏ_３、Ｄｙ_２Ｏ_３、Ｔｂ_２Ｏ_３、Ｇｄ_２Ｏ_３またはその組合せ、および
（ｖ）ＺｒＳｉＯ_４、ＨｆＳｉＯ_４、ＴｈＳｉＯ_４またはそれらの組合せである残りの部分、からなり、ここで（ｉｉｉ）および（ｉｖ）は（ｖ）中に溶解した状態にある、第ＩＩ相と呼ばれる相と、のうちの少なくとも１つを含む耐火体であって、
（ａ）前記耐火体が少なくとも２００立方センチメートルの体積を有し、および
（ｂ）第Ｉ相が、前記本体の少なくとも９０体積パーセントを構成するか、または第ＩＩ相が、前記本体の少なくとも９０体積パーセントを構成するか、または第Ｉ相および第ＩＩ相が合わせて前記本体の少なくとも９０体積パーセントを構成していることを特徴とする耐火体。
前記本体が溶融ガラスまたは溶融ガラスセラミックと接触するように構成された表面を有することを特徴とする請求項１に記載の耐火体。
前記本体が溶融ガラスまたは溶融ガラス−セラミック流を導くように構成された表面を有することを特徴とする請求項１または２に記載の耐火体。
前記本体が融合ダウンドロープロセス内で形成用構造として使用するのに適した形態を有することを特徴とする請求項１から３いずれか１項に記載の耐火体。
（ａ）未焼成体を形成するステップと、
（ｂ）１５９０℃より高い温度で前記未焼成体を焼成するステップと、
を含むことを特徴とする請求項１に記載の耐火体の製造方法。
前記未焼成体を形成する際に使用される前記最大圧力が１０，０００ｐｓｉ（約６９ＭＰａ）であり、前記焼成された未焼成体がその最大理論密度の少なくとも８５パーセントの密度を有することを特徴とする請求項５に記載の方法。
ステップ（ｂ）の前記焼成が白金またはジルコニア上で実施されることを特徴とする請求項５に記載の方法。
融解ダウンドロープロセス内でガラス形成用構造として使用するのに適した形態を有する本体を含むガラスまたはガラスセラミックを製造するのに使用するための装置であって、前記本体が、
酸化物基準で
（ｉ）少なくとも３０モルパーセントのＰ_２Ｏ_５、および
（ｉｉ）少なくとも３０モルパーセントのＹ_２Ｏ_３、Ｓｃ_２Ｏ_３、Ｅｒ_２Ｏ_３、Ｌｕ_２Ｏ_３、Ｙｂ_２Ｏ_３、Ｔｍ_２Ｏ_３、Ｈｏ_２Ｏ_３、Ｄｙ_２Ｏ_３、Ｔｂ_２Ｏ_３、Ｇｄ_２Ｏ_３またはそれらの組合せ、
を含む、第Ｉ相と呼ばれる相と、
酸化物基準で、
（ｉｉｉ）２．５〜１３．０モルパーセントのＰ_２Ｏ_５、
（ｉｖ）２．５〜１３．０モルパーセントのＹ_２Ｏ_３、Ｓｃ_２Ｏ_３、Ｅｒ_２Ｏ_３、Ｌｕ_２Ｏ_３、Ｙｂ_２Ｏ_３、Ｔｍ_２Ｏ_３、Ｈｏ_２Ｏ_３、Ｄｙ_２Ｏ_３、Ｔｂ_２Ｏ_３、Ｇｄ_２Ｏ_３またはその組合せ、および
（ｖ）ＺｒＳｉＯ_４、ＨｆＳｉＯ_４、ＴｈＳｉＯ_４またはそれらの組合せである残りの部分、
からなり、ここで（ｉｉｉ）および（ｉｖ）は（ｖ）中に溶解した状態にある、第ＩＩ相と呼ばれる相と、のうちの少なくとも１つを含むことを特徴とする装置。
第Ｉ相が前記本体の少なくとも９０体積パーセントを構成することを特徴とする請求項８に記載の装置。
（ａ）未焼成体を形成するステップと、
（ｂ）１５９０℃より高い温度で前記未焼成体を焼成するステップと、
を含むことを特徴とする請求項８に記載の装置の製造方法。
前記未焼成体を形成する際に使用される前記最大圧力が１０，０００ｐｓｉ（約６９ＭＰａ）であり、前記焼成された未焼成体がその最大理論密度の少なくとも８５パーセントの密度を有することを特徴とする請求項１０に記載の方法。
予め選択された形状に形成された未焼成体であって、前記形状が少なくとも２００立方センチメートルの体積を有し、前記本体が、酸化物基準で
（ｉ）少なくとも１．０重量％のＳｉＯ_２、
（ｉｉ）少なくとも２．０重量％のＺｒＯ_２、ＨｆＯ_２、ＴｈＯ_２またはそれらの組合せ、
（ｉｉｉ）少なくとも１．０重量％のＰ_２Ｏ_５、および
（ｉｖ）少なくとも２．０重量％のＹ_２Ｏ_３、Ｓｃ_２Ｏ_３、Ｅｒ_２Ｏ_３、Ｌｕ_２Ｏ_３、Ｙｂ_２Ｏ_３、Ｔｍ_２Ｏ_３、Ｈｏ_２Ｏ_３、Ｄｙ_２Ｏ_３、Ｔｂ_２Ｏ_３、Ｇｄ_２Ｏ_３またはそれらの組合せ、
または
（ｖ）少なくとも５．０重量％のＰ_２Ｏ_５、および
（ｖｉ）少なくとも１０．０重量％のＹ_２Ｏ_３、Ｓｃ_２Ｏ_３、Ｅｒ_２Ｏ_３、Ｌｕ_２Ｏ_３、Ｙｂ_２Ｏ_３、Ｔｍ_２Ｏ_３、Ｈｏ_２Ｏ_３、Ｄｙ_２Ｏ_３、Ｔｂ_２Ｏ_３、Ｇｄ_２Ｏ_３またはそれらの組合せ、を含む無機構成要素を含むことを特徴とする未焼成体。
ガラスまたはガラスセラミックを生産するための方法であって、
（Ｉ）ガラスまたはガラスセラミックを生産するための装置を用意するステップであって、
（Ａ）前記装置は、ガラスまたはガラスセラミックが溶融状態にあるときにそれと接触するように構成された表面を含み、かつ
（Ｂ）前記装置の少なくとも一部分は、
（ｉ）１〜５０モルパーセントのＰ_２Ｏ_５（第１成分）、および
（ｉｉ）１〜５０モルパーセントのＹ_２Ｏ_３、Ｓｃ_２Ｏ_３、Ｅｒ_２Ｏ_３、Ｌｕ_２Ｏ_３、Ｙｂ_２Ｏ_３、Ｔｍ_２Ｏ_３、Ｈｏ_２Ｏ_３、Ｄｙ_２Ｏ_３、Ｔｂ_２Ｏ_３、Ｇｄ_２Ｏ_３またはその組合せ（第２成分）を酸化物基準で含む耐火材料で構成されているステップと、
（ＩＩ）溶融状態にある前記ガラスまたはガラスセラミックと前記表面の少なくとも一部分を接触させるステップと、
を含むことを特徴とする方法。
前記耐火材料で構成された装置の前記部分が装置全体であることを特徴とする請求項１３に記載の方法。
（ｉ）前記装置がコアおよびコア上のコーティングを含み、前記コアおよびコーティングが異なる組成を有し、
（ｉｉ）前記溶融ガラスまたは前記溶融ガラスセラミックと接触するように構成された前記表面が、前記コーティングの表面または表面の一部分であり、
（ｉｉｉ）前記耐火材料で構成された前記装置の前記一部分が、前記コーティングの少なくとも一部分を含むか、または前記耐火材料を含む前記装置の前記一部分が、前記コアの少なくとも一部分を含むか、または前記耐火材料で構成されている前記装置の前記一部分が前記コーティングの少なくとも一部分および前記コアの少なくとも一部分を含むことを特徴とする請求項１３に記載の方法。
前記装置が融合プロセスの形成用トラフであることを特徴とする請求項１３に記載の方法。
前記第１および第２成分が実質的に組成構造式ＹＰＯ_４を満たしていることを特徴とする請求項１３に記載の方法。
酸化物基準で、前記耐火材料が、
（ｉ）１〜４９モルパーセントのＳｉＯ_２（第３成分）、および
（ｉｉ）１〜４９モルパーセントのＺｒＯ_２、ＨｆＯ_２、ＴｈＯ_２またはそれらの組合せ（第４成分）、
を含むことを特徴とする請求項１３に記載の方法。
前記第３および第４成分が実質的に、前記組成構造式ＺｒＳｉＯ_４を満たしていることを特徴とする請求項１８に記載の方法。
前記第１および第２成分が実質的に前記組成構造式ＹＰＯ_４を満たしていることを特徴とする請求項１８または１９に記載の方法。
少なくとも２００立方センチメートルの体積を有する耐火体であって、酸化物基準で、
（ｉ）１．０〜２０．０モルパーセントのＶ_２Ｏ_５、
（ｉｉ）１．０〜２０．０モルパーセントのＹ_２Ｏ_３、Ｓｃ_２Ｏ_３、ＲＥ_２Ｏ_３（ＲＥが希土類元素またはその組合せである）、および
（ｉｉｉ）ＺｒＳｉＯ_４、ＨｆＳｉＯ_４、ＴｈＳｉＯ_４またはそれらの組合せである残りの部分、
からなる相を少なくとも９０体積パーセント含み、ここで（ｉ）および（ｉｉ）は（ｉｉｉ）中で溶解した状態にあることを特徴とする耐火体。
ＺｒＳｉＯ_４、ＨｆＳｉＯ_４、ＴｈＳｉＯ_４またはその組合せを含む耐火材料の分解温度を上昇させるための方法であって、前記材料中に、前記材料の分解温度を高めるのに充分な量の第１および第２成分を含ませるステップを含む方法において、前記第１成分がＰ_２Ｏ_５を含み、前記第２成分がＹ_２Ｏ_３、Ｓｃ_２Ｏ_３、Ｅｒ_２Ｏ_３、Ｌｕ_２Ｏ_３、Ｙｂ_２Ｏ_３、Ｔｍ_２Ｏ_３、Ｈｏ_２Ｏ_３、Ｄｙ_２Ｏ_３、Ｔｂ_２Ｏ_３、Ｇｄ_２Ｏ_３またはその組合せを含むことを特徴とする方法。
ゼノタイムタイプの材料を含むことを特徴とするアイソパイプ。
ゼノタイム安定化されたジルコンタイプの材料を含むことを特徴とするアイソパイプ。
ディスプレイガラスまたはディスプレイガラスセラミックを製造するためのアイソパイプであって、
（ａ）前記アイソパイプの使用中に溶融状態にある前記ガラスまたはガラスセラミックと接触し、（ｂ）耐火材料が完成したガラスまたは完成したガラスセラミック中１ポンドあたりの欠陥が０．１個を超える欠陥レベルで前記ガラスまたはガラスセラミック中で結晶を成長させることがないという点で前記溶融ガラスまたは前記溶融ガラスセラミックと適合性があり、かつ（ｃ）４５×１０^−６／時未満である１２５０℃および１０００ｐｓｉ（約６．９ＭＰａ）での曲げクリープ速度を有する耐火材料を含んでなることを特徴とするアイソパイプ。