JP2008303391A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2008303391A5
JP2008303391A5 JP2008128547A JP2008128547A JP2008303391A5 JP 2008303391 A5 JP2008303391 A5 JP 2008303391A5 JP 2008128547 A JP2008128547 A JP 2008128547A JP 2008128547 A JP2008128547 A JP 2008128547A JP 2008303391 A5 JP2008303391 A5 JP 2008303391A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
acid
polyamide
absorber
polyamide molding
macmi
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2008128547A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2008303391A (ja
JP5241318B2 (ja
Filing date
Publication date
Priority claimed from EP07108313.3A external-priority patent/EP1992659B1/de
Application filed filed Critical
Publication of JP2008303391A publication Critical patent/JP2008303391A/ja
Publication of JP2008303391A5 publication Critical patent/JP2008303391A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5241318B2 publication Critical patent/JP5241318B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Claims (16)

  1. UV吸収剤を使用して透明なポリアミド製品又はポリアミド成形品製造する法であって、少なくとも1個の置換ベンゾイル基を有する少なくとも1種のUV吸収剤をポリアミド成形材料へ添加することにより、該UV吸収剤を含有するポリアミド成形材料の溶融物が、ポリアミド製品又はポリアミド成形品の製造中又は加工中に該溶融物と接触する表面上に視認可能なブルーミングをもたらさないことを特徴とする該法。
  2. 少なくとも1種のUV吸収剤がジベンゾイルメタン化合物又はアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸エステルである請求項1記載の法。
  3. 少なくとも1種のUV吸収剤が1−(4−メトキシフェニル)−3−(4−t−ブチルフェニル)プロパン−1,3−ジオン又は2−(4’−ジエチルアミノ−2’−ヒドロキシベンゾイル)安息香酸−n−ヘキシルエステルである請求項1記載の法。
  4. 少なくとも1種のUV吸収剤が、1−(4−メトキシフェニル)−3−(4−t−ブチルフェニル)プロパン−1,3−ジオンと2−(4’−ジエチルアミノ−2’−ヒドロキシベンゾイル)安息香酸−n−ヘキシルエステルとの混合物である請求項1記載の法。
  5. 少なくとも1種の該UV吸収剤へ、非塩素化ヒドロキシフェニルベンズトリアゾール、アミノヒドロキシベンゾイル安息香酸エステル及びジベンゾイルメタンから成る群から選択される少なくとも1種の別のUV吸収剤を添加する請求項1記載の法。
  6. 少なくとも1種のUV吸収剤を含有するポリアミド成形材料の溶融物を用いる加工サイクルに250回付した後においても、成形用具の内壁の表面上に視認可能なブルーミングがもたらされない請求項1記載の法。
  7. 該表面が可塑化装置ユニットの表面、成形型の表面、及びフィルム押出システムの冷却ローラーの表面から成る群から選択される表面である請求項6記載の法。
  8. 透明なポリアミド製品又はポリアミド成形品が下記の群から選択される請求項1記載の法:サングラスレンズ、矯正用レンズ、非矯正用レンズ、眼鏡用レンズ、眼鏡用部品、保護めがね、観測窓、保護窓、照準器、ディスプレイ、時計皿、機器のケーシング、ランプのカバー、光学装置/光学システム用レンズ、フィルター及びフィルム。
  9. 請求項1記載の法に従って製造される少なくとも1種のUV吸収剤を含有するポリアミド成形材料であって、下記の(a)〜(c)から成る少なくとも1つの群から形成される透明ポリアミド、該透明ポリアミドの混合物、又は該透明ポリアミドと少なくとも1種の部分結晶性ポリアミドとの混合物から形成される該ポリアミド成形材料:
    (a)エチレンジアミン、ブタンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、トリメチルヘキサメチレンジアミン、メチルペンタンジアミン、ビス(アミノシクロヘキシル)メタン及びそのアルキル誘導体、ビス(アミノシクロヘキシル)プロパン及びそのアルキル誘導体、イソホロンジアミン、ノルボルナンジアミン、ビス(アミノメチル)ノルボルナン、キシリレンジアミン、並びにビス(アミノメチル)シクロヘキサン及びそのアルキル誘導体から成る群から選択される少なくとも1種のジアミン、
    (b)コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ウンデカン二酸、ドデカン二酸、ブラシル酸、テトラデカン二酸、ペンタデカン二酸、ヘキサデカン二酸、ヘプタデカン二酸、オクタデカン二酸、ノナデカン二酸、エイコサン二酸、日本酸、シクロヘキサンジカルボン酸、36個又は44個の炭素原子を有するダイマー脂肪酸、イソフタル酸、テレフタル酸、及びナフタリンジカルボン酸から成る群から選択される少なくとも1種のジカルボン酸、及び所望による
    (c)4〜15個の炭素原子を有するラクタム及び/又は4〜15個の炭素原子を有するα、ω−アミノ酸。
  10. 部分結晶性ポリアミドが下記の群から選択される請求項9記載のポリアミド成形材料:PA6、PA46、PA49、PA410、PA411、PA412、PA413、PA414、PA415、PA416、PA418、PA436、PA66、PA69、PA610、PA611、PA612、PA613、PA614、PA615、PA616、PA617、PA618、PA66/6、PA6/66/12、PA6/12、PA11、PA12、PA912、PA1212、6T/6I、MXD6、MXD6/MXDI、MXD9、MXD10、MXD11、MXD12、MXD13、MXD14、MXD15、MXD16、MXD17、MXD18、MXD36、PACM9、PACM10、PACM11、PACM12、PACM13、PACM14、PACM15、PACM16、PACM17、PACM18、PACM36、ポリエーテルアミド、ポリエーテルエステルアミド及びポリエステルアミド、又はこれらの混合物若しくはコポリマー。
  11. ジアミンが下記の群から選択される請求項9記載のポリアミド成形材料:ヘキサメチレンジアミン、トリメチルヘキサメチレンジアミン、2−メチル−1,5−ペンタンジアミン、ビス(4−アミノ−3−メチル−シクロヘキシル)メタン、ビス(4−アミノ−シクロヘキシル)メタン、イソホロンジアミン、ノルボルナンジアミン、m−キシリレンジアミン及び1,3−ビス(アミノメチル)シクロヘキサン。
  12. ジカルボン酸が下記の群から選択される請求項9記載のポリアミド成形材料:アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、1,12−ドデカン二酸、ブラシル酸、1,14−テトラデカン二酸、1,15−ペンタデカン二酸、1,16−ヘキサデカン二酸、1,18−オクタデカン二酸、1,3−シクロヘキサンジカルボン酸、1,4−シクロヘキサンジカルボン酸、36個又は44個の炭素原子を有するダイマー脂肪酸、イソフタル酸、テレフタル酸及び2,6−ナフタリンジカルボン酸。
  13. ラクタム又はα、ω−アミノ酸が4個、6個、7個、8個、11個又は12個の炭素原子を有する請求項9記載のポリアミド成形材料。
  14. 透明ポリアミドが下記の群から選択される請求項9記載のポリアミド成形材料:PA6I/6T/6NDC/MACMI/MACMT/MACMNDC、PA6I/6T/6NDC、PA MXDI/6I、PA MXDI/MXDT/6I/6T、PA6I、PA6I/6T、PA MXDI/12I、PA MXDI、PA MACM9、PA MACM10、PA MACM11、PA MACM12、PA MACM13、PA MACM14、PA MACM15、PA MACM16、PA MACM17、PA MACM18、PA 6−3−T、PA MACMI/12、PA MACM6/12、PA MACMT/12、PA MACMI/MACMNDC、PA MACMT/MACMNDC、PA MACMI/MACM36、PA MACMT/MACM36、PA MACMI/MACMT/12、PA 6I/MACMI/12、PA 6I/6T/MACMI/MACMT、PA 6I/6T/MACMI/MACMT/12及びPA 6I/6T/MACMI/MACMT/MACM12/612(この場合、MACMは所望により、PACMによって完全に又は部分的に置換されていてもよく、及び/又はω−ラウロラクタムは所望によりε−カプロラクタム及び/又はα、ω−アミノウンデカン酸によって完全に又は部分的に置換されていてもよい)。
  15. 少なくとも1個の置換ベンゾイル基を有する化合物形態の少なくとも1種のUV吸収剤と共に、アントラキノン染料群の染料がポリアミド成形材料中へ添加された請求項9記載のポリアミド成形材料。
  16. 請求項9記載のポリアミド成形材料を用いて製造されるプラスチック製品又はプラスチック成形品であって、400nmの波長を有する光に対して20%未満(好ましくは10%未満、特に好ましくは5%未満、就中1%未満)の透過率を示す該製品又は成形品。
JP2008128547A 2007-05-16 2008-05-15 透明なポリアミド成形品の製造におけるuv吸収剤の用法 Active JP5241318B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP07108313.3A EP1992659B1 (de) 2007-05-16 2007-05-16 Polyamidformmassen-Schmelze zur Herstellung von transparenten Formteilen
EP07108313.3 2007-05-16

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2008303391A JP2008303391A (ja) 2008-12-18
JP2008303391A5 true JP2008303391A5 (ja) 2011-05-19
JP5241318B2 JP5241318B2 (ja) 2013-07-17

Family

ID=38512182

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008128547A Active JP5241318B2 (ja) 2007-05-16 2008-05-15 透明なポリアミド成形品の製造におけるuv吸収剤の用法

Country Status (7)

Country Link
US (1) US8138243B2 (ja)
EP (1) EP1992659B1 (ja)
JP (1) JP5241318B2 (ja)
KR (1) KR101521298B1 (ja)
CN (1) CN101328313B (ja)
AU (1) AU2008202150B2 (ja)
HK (1) HK1122056A1 (ja)

Families Citing this family (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2547719B1 (de) 2010-03-17 2014-04-30 Evonik Röhm GmbH Chemikalienbeständige folien in hoher optischer qualität
EP2558264A1 (en) * 2010-04-16 2013-02-20 DSM IP Assets B.V. Injection molded parts produced from a polymer composition comprising polyamide 410 (pa-410)
CN102884105B (zh) * 2010-05-06 2015-04-01 帝斯曼知识产权资产管理有限公司 制备pa-410的方法和通过该方法可得的pa-410
US20130244047A1 (en) * 2010-06-23 2013-09-19 Dsm Ip Assets B.V. Film or plate
EP2570459B1 (en) * 2010-07-08 2018-02-21 Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. Polyamide resin composition
JP5729189B2 (ja) * 2010-07-23 2015-06-03 三菱瓦斯化学株式会社 ポリアミド樹脂組成物
EA023632B1 (ru) 2010-07-26 2016-06-30 ДСМ АйПи АССЕТС Б.В. Деталь топливной системы и способ изготовления детали топливной системы
JP5696001B2 (ja) * 2011-08-19 2015-04-08 Hoya株式会社 プラスチックレンズの製造方法
US20130052384A1 (en) * 2011-08-29 2013-02-28 E I Du Pont De Nemours And Company Copolyamide compositions derived from vegetable oil
JP6065496B2 (ja) * 2012-09-25 2017-01-25 Dic株式会社 光重合性組成物、その硬化物、及びプラスチックレンズシート
EP2927273B1 (de) 2014-04-02 2017-06-07 Ems-Patent Ag Polyamidformmasse, hieraus hergestellte Formkörper sowie Verwendung der Polyamidformmassen
EP2957598A1 (de) * 2014-06-20 2015-12-23 Ems-Patent Ag Komposit enthaltend ein matrixmaterial aus einem amorphen polyamid und dessen verwendung
CN104172562B (zh) * 2014-08-01 2015-09-30 杭州形尚众至服饰有限公司 具有360°超弹力的无痕托腹裤的生产工艺
CN108139607B (zh) 2015-09-29 2022-05-24 视觉缓解公司 Uv和高能可见吸收验眼透镜
JP6917187B2 (ja) * 2016-05-10 2021-08-11 住友化学株式会社 光学フィルム、及びこれを用いたフレキシブルデバイス
KR20180089860A (ko) * 2017-02-01 2018-08-09 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 폴리이미드 필름
WO2018165641A1 (en) 2017-03-10 2018-09-13 Advansix Resins & Chemicals Llc Wire and cable jacket composition of pa6/66 copolymer base resin for improved processability and properties
EP3444113B1 (de) * 2017-08-18 2021-01-20 Ems-Chemie Ag Verstärkte polyamid-formmassen mit geringem haze und formkörper daraus
KR20200055727A (ko) 2017-09-28 2020-05-21 듀폰 폴리머스, 인크. 중합 공정
KR20200093069A (ko) * 2017-12-18 2020-08-04 바스프 에스이 개선된 광학 특성을 갖는 폴리아미드 성형 조성물 및 그 조성물에서의 착색제의 용도
EP3502189A1 (de) * 2017-12-22 2019-06-26 EMS-Patent AG Verwendung einer polyamid-formmassen zur reduktion von belagsbildung bei der thermoplastischen verarbeitung, polyamid-formmasse und verfahren zur herstellung von gebrauchsgegenständen
EP3502191B1 (de) 2017-12-22 2021-02-17 Ems-Chemie Ag Polyamid-formmasse
EP3502164B1 (de) 2017-12-22 2022-10-05 Ems-Chemie Ag Polyamid-formmasse
KR102466771B1 (ko) * 2018-11-02 2022-11-14 주식회사 엘지화학 편광판
KR102318724B1 (ko) * 2018-11-02 2021-10-28 주식회사 엘지화학 적층 필름
WO2020159085A1 (ko) 2019-02-01 2020-08-06 주식회사 엘지화학 폴리아미드 수지 필름 및 이를 이용한 수지 적층체
US11724848B2 (en) * 2020-02-14 2023-08-15 Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. Multilayer container, method for manufacturing same, and method for manufacturing reclaimed polyester
CN112480662A (zh) * 2020-11-23 2021-03-12 山东广垠新材料有限公司 可吸收红外线透明尼龙及其制备方法

Family Cites Families (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL279763A (ja) * 1961-06-16
US3826752A (en) * 1970-03-11 1974-07-30 Ciba Geigy Corp Protective agents against light rays
US3988363A (en) * 1973-09-25 1976-10-26 Ciba-Geigy Corporation 2,4,6-Trialkyl L-3-hydroxyphenylalkanoates
EP0610155A1 (en) * 1993-02-04 1994-08-10 Ciba-Geigy Ag Stabilized polyamide compositions
DE4310970A1 (de) * 1993-04-03 1994-10-06 Huels Chemische Werke Ag Farblose und transparente, amorph zu verarbeitende Polyamidformmassen mit guter Spannungsrißbeständigkeit und Schlagzähigkeit
US5500209A (en) * 1994-03-17 1996-03-19 The Mennen Company Deodorant and antiperspirant compositions containing polyamide gelling agent
JP3354066B2 (ja) * 1996-01-26 2002-12-09 帝人化成株式会社 眼鏡レンズ
US6277358B1 (en) * 1997-12-15 2001-08-21 Revlon Consumer Products Corporation Cosmetic compositions containing crosslinkable polymers
US6592857B2 (en) * 1999-01-04 2003-07-15 Arizona Chemical Company Tertiary amide terminated polyamides in cosmetics
US6855755B1 (en) * 1999-08-04 2005-02-15 Mitsubishi Engineering-Plastics Corporation Polyamide resin composition having improved weathering resistance and its molded products
JP3676138B2 (ja) 1999-09-20 2005-07-27 Hoya株式会社 紫外線吸収性に優れたプラスチック眼鏡レンズ及びその製造方法
JP3824455B2 (ja) 1999-09-20 2006-09-20 Hoya株式会社 紫外線吸収性に優れたプラスチック眼鏡レンズ及びその製造方法
WO2001036396A1 (en) * 1999-11-16 2001-05-25 Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. Use of benzotriazole uv absorbers
US6537670B1 (en) * 2000-11-03 2003-03-25 Cytec Technology Corp. Bis(alkyleneoxybenzophenone) ultraviolet light absorbers
US20020111330A1 (en) * 2000-12-12 2002-08-15 Carlos Pinzon Compositions containing heteropolymers and methods of using same
DE10122188B4 (de) * 2001-05-08 2007-04-12 Ems-Chemie Ag Polyamidformmassen zur Herstellung optischer Linsen
JP2003019279A (ja) * 2001-07-10 2003-01-21 Maruhon Ind Co Ltd 遊技機、プログラム、記録媒体
JP2003192798A (ja) * 2001-12-25 2003-07-09 Toyobo Co Ltd 透明ポリアミド系成形体
CN1290911C (zh) * 2002-06-05 2006-12-20 昭和电工株式会社 包含涂有二氧化硅的氧化锌的粉末,含有该粉末的有机聚合物组合物及其成型制品
AU2003268631A1 (en) * 2002-08-30 2004-04-30 Toyo Boseki Kabushiki Kaisha Method for continuous production of polyamide
DE10254548A1 (de) * 2002-11-21 2004-06-17 Basf Ag Verwendung UV-Absorber enthaltender Polymerpulver zur Stabilisierung von Polymeren gegen die Einwirkung von UV-Strahlung
WO2004069216A1 (en) * 2003-02-03 2004-08-19 Dsm Ip Assets B.V. Novel stabilized cinnamic ester sunscreen compositions
DE10308226A1 (de) * 2003-02-25 2004-09-23 Degussa Ag Transparente Formmasse für optische Anwendungen
US20050154180A1 (en) * 2003-09-04 2005-07-14 Yin Hessefort Water-soluble polyaminoamides as sunscreen agents
WO2005053631A1 (en) * 2003-12-04 2005-06-16 Dsm Ip Assets B.V. Microcapsules with uv filter activity and process for producing them
DE102004032120A1 (de) * 2004-07-01 2006-02-09 Merck Patent Gmbh Beugungsfarbmittel für die Kosmetik
JP5086802B2 (ja) * 2005-02-17 2012-11-28 出光興産株式会社 410nmの波長光に対して吸収能を持つ熱可塑性透明組成物およびその成形体
MX2009010484A (es) * 2007-04-05 2009-10-19 Basf Se Composiciones de protectores solares que comprenden un terpolimero aleatorio.

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2008303391A5 (ja)
JP5241318B2 (ja) 透明なポリアミド成形品の製造におけるuv吸収剤の用法
JP6813256B2 (ja) 非晶質あるいは微結晶性ポリアミドの低ストレス射出成形方法およびそれによって製造された低ストレスポリアミド成形品
US7993755B2 (en) Photochromic molding compositions and articles produced therefrom
JP6353393B2 (ja) ポリアミド成形材料、それから製造された成形品並びにポリアミド成形材料の使用
US10767011B2 (en) Transparent polyamide moulding compositions with high tensile strain at break
JP6215274B2 (ja) コポリアミドと、このコポリアミドを含む組成物と、その使用
US7053169B2 (en) Polyamide molding compounds for producing optical lenses
US6943231B2 (en) Transparent polyamide molding materials having improved transparency, resistance to chemicals and high permanent fatigue strength
KR101618658B1 (ko) 높은 노치 충격강도, 낮은 흡수도, 및 우수한 약품 저항성을 가진 고도로 유연한 투명 성형 부품을 생산하기 위한 반결정성 투명 코폴리아미드를 함유한 폴리아미드 성형물
CN103333334A (zh) 抗刮伤、透明且坚韧的共聚多酰胺模塑复合物、由其制造的模塑制品及其用途
TW201920477A (zh) 具有低混濁度之強化聚醯胺模製化合物及其模製物
JP2007520377A (ja) 透明または半透明な可染性プラスチック成形コンパウンドの成形品の複合材料
JP2008144170A (ja) ポリアミド成形材料から成る透明成形物
KR102270593B1 (ko) 폴리아미드 블록 및 폴리에테르 블록을 갖는 공중합체
JP5604137B2 (ja) 光学フィルター
JP2004175996A (ja) ポリアミド及びそれを用いたポリアミド成形物