JP2008291262A - 光学用フィルム - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 上記課題は、
フィルムの少なくとも片面の5m2当りの最大キズの大きさが1個単独あるいは複数のキズが結合して形成された1個のキズが長さ50μm以下、幅15μm以下、深さ0.1μm以下であるセルロースアセテートフィルムと、
フィルムを溶液製膜法で製造する際の乾燥工程において、駆動サクションロールの表面温度及び該駆動ロール直前のフィルム温度を150℃未満とし、サクション圧力を50mmAq〜450mmAqとし、かつ該駆動ロール表面温度とフィルムの温度差を50℃未満とすることを特徴とする厚さ20〜200μmのセルロースアセテートフィルムからなる上記の光学用フィルムの製造方法、
によって解決される。
【選択図】 なし
Description
(1)駆動ロール(サクションドラム)の孔部でフィルムが吸引される際に生じる微小スリップ
(2)前後でテンション差が大きい駆動ロール上でフィルム幅が変わることによる微小スリップ
が原因であった。これらのスリップは本質的に避けることはできない。ただし、スリキズの大きさを明確にし、設備・条件を最適化することにより実質欠陥とならないレベルまで改良することができることがわかった。
フィルムの少なくとも片面の5m2当りの最大キズの大きさが1個単独あるいは複数のキズが結合して形成された1個のキズが長さ50μm以下、幅15μm以下、深さ0.1μm以下である光学用フィルムと、
フィルムの少なくとも表層に0.01μm〜10μmの固体粒子が分散され、かつヘイズが0.5以下の上記の光学用フィルムと、
フィルムを溶液製膜法で製造する際の乾燥工程において、駆動サクションロールの表面温度及び該駆動ロール直前のフィルム温度を150℃未満とし、サクション圧力を50mmAq〜450mmAqとし、かつ該駆動ロール表面温度とフィルムの温度差を50℃未満とすることを特徴とする厚さ20〜200μmのセルロースアセテートフィルムからなる上記の光学用フィルムの製造方法と、
駆動ロール(サクションロールに限定されない)前後のフィルムの温度差を40℃未満とし、前後のテンション差による応力差を0.1kg/mm2未満とすることを特徴とする上記の光学用フィルムの製造方法
に関するものである。
(微粒子分散液aの調製)
シリカ(日本アエロジル(株)製,『アエロジルR972』) 0.67重量%
セルロースアセテート(置換度2.8) 2.93重量%
トリフェニルフォスフェート 0.23重量%
ビフェニルジフェニルフォスフェート 0.12重量%
メチレンクロライド 88.37重量%
メタノール 7.68重量%
なる溶液を調製し、アトライターにて体積平均粒径0.7μmになるよう分散を行った。
セルローストリアセテート(置換度2.8) 89.3重量%
トリフェニルフォスフェート 7.1重量%
ビフェニルジフェニルフォスフェート 3.6重量%
なる固形分100重量部に対し上記微粒子分散液aを17.9重量部添加し、さらに、
ジクロルメタン 92重量%
メタノール 8重量%
なる混合溶媒を適宜添加、攪拌溶解しドープを調製した。ドープの固形分濃度は18.5%であった。このドープを濾紙(東洋濾紙(株)製,『#63』)にて濾過後さらに燒結金属フィルタ(日本精線(株)製,『06N』、公称孔径10μm)で濾過し、さらにメッシュフィルタ(日本ポール(株)製,『RM』、公称孔径45μ)で濾過した。
2(2'−ヒドロキシ−3',5'−ジ−tert−ブチルフェニル)−5−クロルベンゾトリアゾール 11.66重量%
2(2'−ヒドロキシ−3',5'−ジ−tert−アミルフェニル)ベンゾトリアゾール 5.83重量%
セルロースアセテート(置換度2.8) 1.48重量%
トリフェニルフォスフェート 0.12重量%
ビフェニルジフェニルフォスフェート 0.06重量%
メチレンクロライド 74.38重量%
メタノール 6.47重量%
上記処方で紫外線吸収剤溶液を調製し、富士写真フイルム(株)製,『アストロポア10フィルタ』にて濾過した。
2(2'−ヒドロキシ−3',5'−ジ−tert−ブチルフェニル)−5−クロルベンゾトリアゾール 5.40重量%
2(2'−ヒドロキシ−3',5'−ジ−tert−アミルフェニル)ベンゾトリアゾール 10.79重量%
シリカ(日本アエロジル(株)製,『アエロジルR972』) 0.39重量%
セルロースアセテート(置換度2.8) 2.58重量%
トリフェニルフォスフェート 0.28重量%
ビフェニルジフェニルフォスフェート 0.14重量%
メチレンクロライド 67.71重量%
メタノール 10.86重量%
n−ブタノール 1.85重量%
なる溶液を調製し、アトライターにてシリカ粒子の体積平均粒径が0.6μmになるように分散を行った。分散後の溶液を富士写真フイルム(株)製,『アストロポア10フィルタ』にて濾過し、さらに燒結金属フィルタ(日本精線(株)製,『07N』)にて濾過した。
前記微粒子分散液a及び微粒子分散・紫外線吸収剤溶液cにおける体積平均粒径は、MALVERN社製,『マスターサイザーMS20』にて測定した。
前記原料ドープAにおけるドープ固形分濃度(%)は、湿量基準で、
(ドープを120℃,2時間加熱した減量分重量)/(元のドープ重量)
×100
で求めた。
1m×5mサンプルにおける最大のキズ。
まずルーペ・顕微鏡で長さと幅を測定し、大きく強いキズを抽出し、電子顕微鏡、光干渉計でさらに詳細に測定して求めた。
偏光板適性:
得られたフィルムを偏光膜の両側に保護フィルムとして貼着して作製した偏光板を評価した。
LCD適性:
LCDにフィルムを仮装着して評価した。
評価基準:
透過でキズが認識できない。透明性・ヘイズの低下及び白濁(表面が白っぽくなり、文字等のにじみが認められること)がない。光学特性を乱さない(LCD表示時、キズを認識できない。画像に異常(色の変化、欠陥、輝点・暗点)が認められない。
マット剤:
SiO2流延する前の溶液中のマット剤の粒径分布をマスターサイザーで測定するとともに、製膜後のフィルムを表面走査型電子顕微鏡で観察、大きさを測定した。
Claims (3)
- フィルムの少なくとも片面の5m2当りの最大キズの大きさが1個単独あるいは複数のキズが結合して形成された1個のキズが長さ50μm以下、幅15μm以下、深さ0.1μm以下であるセルロースアセテートフィルム
- フィルムの少なくとも表層に0.01μm〜10μmの固体粒子が分散され、かつヘイズが0.5以下の請求項1記載のセルロースアセテートフィルム
- 請求項1もしくは2記載のセルロースアセテートフィルムを保護フィルムとして装着した偏光板
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