JP2008227417A - 有機薄膜トランジスタ - Google Patents
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Abstract
Description
また、高分子有機半導体材料として、ポリ(3−アルキルチオフェン)(非特許文献1)やジアルキルフルオレンとビチオフェンとの共重合体(非特許文献2)等が提案されている。これらの高分子有機半導体材料は、アルキル基の導入により、低いながらも溶解性を有するため、真空蒸着工程を経ず、塗布や印刷で薄膜化が可能である。しかしながら、これらの高分子有機半導体材料は、分子間が整列した状態において、高移動度が実現されるため、その薄膜形成に際し、溶媒種、塗工方法等により配列状態が異なり、結果としてトランジスタ特性にバラツキが生じたり、特性の再現性に欠けるということが問題になっている。
すなわち上記課題は、本発明は以下の(1)〜(4)によって解決される。
(1)「有機半導体層を具備する有機薄膜トランジスタにおいて、有機半導体層が下記一般式(I)で示される繰り返し単位を有する重合体を主成分とすることを特徴とする有機薄膜トランジスタ;
(2)「上記一般式(I)で示される繰返し単位を有する重合体を含む有機半導体層が下記一般式(II)で示される繰り返し単位を有する重合体を主成分とすることを特徴とする前記第(1)項に記載の有機薄膜トランジスタ;
(3)「上記一般式(I)で示される繰返し単位を有する重合体を含む有機半導体層が下記一般式(III)で示される繰り返し単位を有する重合体を主成分とすることを特徴とする前記第(1)項に記載の有機薄膜トランジスタ;
(4)「上記一般式(I)で示される繰返し単位を有する重合体を含む有機半導体層が下記一般式(IV)で示される繰り返し単位を有する重合体を主成分とすることを特徴とする前記第(1)項に記載の有機薄膜トランジスタ;
<トランジスタ構造>
図1の(A)〜(D)は本発明に係わる有機薄膜トランジスタの概略構造である。本発明に係わる有機薄膜トランジスタの有機半導体層(1)は、一般式で示した繰り返し単位を有する重合体を主成分とする。本発明の有機薄膜トランジスタには、空間的に分離されたソース電極(2)、ドレイン電極(3)およびゲート電極(4)が設けられており、ゲート電極(4)と有機半導体層(1)の間には絶縁膜(5)が設けられていてもよい。有機薄膜トランジスタはゲート電極(4)への電圧の印加により、ソース電極(2)とドレイン電極(3)の間の有機半導体層(1)内を流れる電流がコントロールされる。
一般式(a)で表わされるハロゲン化アリリデンフルオレン誘導体と一般式(b)で表わされるボロン酸誘導体とを反応させることにより一般式(I)で表わされるπ共役ポリマーが製造される。
一般式(a)で表わされるハロゲン化アリリデンフルオレン誘導体におけるハロゲン原子としては反応性の点からヨウ素化物あるいは臭素化物が好ましい。
また一般式(b)で表わされるボロン酸誘導体としては、アリールボロン酸のほか、熱的に安定で空気中で容易に扱えるビス(ピナコラト)ジボロンを用いハロゲン化アリールから合成されるアリールボロン酸エステルを用いても良い。
パラジウム触媒としてはPd(PPh3)4、PdCl2(PPh3)2,Pd(OAc)2およびPdCl2など種々の触媒を用いることができるが、最も汎用的にはPd(PPh3)4が用いられる。
トリエチルアミン等の有機塩基も用いることができる。
また、以上の重合操作において分子量を調節するために分子量調節剤または、末端修飾基として重合体の末端を封止するための封止剤を反応途中または反応後に添加することも可能であり、反応開始時に添加しておくことも可能である。従って、本発明におけるπ共役ポリマーの末端には停止剤に基づく置換基が結合してもよい。
前記一般式(I)中、Ar1が置換または無置換の芳香族炭素水素基あるいは複素環基の2価基を表わす場合、以下のものを挙げることができる。
ベンゼン、ナフタレン、ビフェニル、ターフェニル、ピレン、フルオレン、9,9−ジメチルフルオレン、アズレン、アントラセン、トリフェニレン、クリセン、9−ベンジリデンフルオレン、5H−ジベンゾ[a,d]シクロヘプテン、[2,2]−パラシクロファン、トリフェニルアミン、チオフェン、ベンゾチオフェン、ジチエニルベンゼン、フラン、ベンゾフラン、カルバゾール、等の2価基が挙げられ、これらは置換もしくは無置換のアルキル基およびアルコキシ基、を置換基として有していてもよい。置換もしくは無置換のアルキル基としては、炭素数が1〜25の直鎖、分岐鎖又は環状のアルキル基であり、これらのアルキル基は更にフッ素原子、シアノ基、フェニル基又はハロゲン原子もしくは直鎖又は分岐鎖のアルキル基で置換されたフェニル基を含有してもよい。
また置換もしくは無置換のアルコキシ基である場合は、上記アルキル基の結合位に酸素原子を挿入してアルコキシ基としたものが具体例として挙げられる。
一般式(I)中のRが置換また無置換のアルキル基である場合は、前述した芳香族炭化水素基あるいは複素環基上の置換基として定義されたものと同一である。
上記一般式(b)で表わされるボロン酸誘導体の好ましい具体例を以下に示す。
本発明に係わる有機半導体材料は、例えばジクロロメタン、テトラヒドロフラン、クロロホルム、トルエン、ジクロロベンゼン及びキシレン等の溶剤に溶解して、支持体上に塗布することによって薄膜を形成することができる。
有機半導体薄膜の厚みは、一般に1μm以下、特に5〜200nmが好ましい。
本発明の有機薄膜トランジスタに用いられるゲート電極、ソース電極、ゲート電極としては、導電性材料であれば特に限定されず、白金、金、銀、ニッケル、クロム、銅、鉄、錫、アンチモン、鉛、タンタル、インジウム、アルミニウム、亜鉛、マグネシウム等、及びこれらの合金やインジウム・錫酸化物等の導電性金属酸化物、あるいはドーピング等で導電率を向上させた無機及び有機半導体、例えば、シリコン単結晶、ポリシリコン、アモルファスシリコン、ゲルマニウム、グラファイト、ポリアセチレン、ポリパラフェニレン、ポリチオフェン、ポリピロール、ポリアニリン、ポリチエニレンビニレン、ポリパラフェニレンビニレン、ポリエチレンジオキシチオフェンとポリスチレンスルホン酸の錯体等が挙げられる。
ソース電極及びドレイン電極は、上記導電性の中でも半導体層との接触面において、電気抵抗が少ないものが好ましい。
また、本発明の有機薄膜トランジスタは、必要に応じて各電極からの引出し電極を設けることができる。
本発明の有機薄膜トランジスタにおいて用いられる絶縁膜には、種々の絶縁膜材料を用いることができる。例えば、酸化ケイ素、窒化ケイ素、酸化アルミニウム、窒化アルミニウム、酸化チタン、酸化タンタル、酸化スズ、酸化バナジウム、チタン酸バリウムストロンチウム、ジルコウム酸化チタン酸バリウム、ジルコニウム酸チタン酸鉛、チタン酸鉛ランタン、チタン酸ストロンチウム、チタン酸バリウム、フッ化バリウムマグネシウム、タンタル酸ニオブ酸ビスマス、トリオキサイドイットリウム等の無機系絶縁材料が挙げられる。
さらに、上記絶縁材料を2種以上合わせて用いても良い。特に材料は限定されないが、中でも誘電率が高く、導電率が低いものが好ましい。
本発明の有機薄膜トランジスタにおいて、絶縁膜と有機半導体層の接着性を向上、ゲート電圧の低減、リーク電流低減等の目的で、これら層間に有機薄膜を設けても良い。有機薄膜は有機半導体層に対し、化学的影響を与えなければ、特に限定されないが、例えば、有機分子膜や高分子薄膜が利用できる。
本発明の有機トランジスタは、大気中でも安定に駆動するものであるが、機械的破壊からの保護、水分やガスからの保護、またはデバイスの集積の都合上の保護等のため必要に応じて保護層を設けることもできる。
本発明の有機薄膜トランジスタは、液晶、有機EL、電気泳動等の表示画像素子を駆動するための素子として利用でき、これらの集積化により、いわゆる「電子ペーパー」と呼ばれるディスプレイを製造することが可能である。また、ICタグ等のデバイスとして、本発明の有機薄膜トランジスタを集積化したICを利用することが可能である。
<合成例1>
下記(式1)で示されるジブロモ化合物0.432g(1.0mmol)、(式2)で示されるジボロン酸エステル0.643g(1.0mmol)、
テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム12mg(0.01mmol)、トリカプリルメチルアンモニウムクロライド(Aliquat 336)0.16mlをトルエン8mlに採り、これに1M炭酸ナトリウム水溶液9mlを加え、窒素気流下6時間加熱還流した。ブロモベンゼンを数滴加え1時間加熱還流、その後フェニルボロン酸数滴を加え1時間加熱還流したのち室温まで放冷した。トルエンで希釈し、トルエン層を分離後、5%塩酸水溶液で洗浄、ついでイオン交換水で洗浄液の伝導度がイオン交換水と同等になるまで水洗を繰り返した。トルエンを留去したのちテトラヒドロフラン(THF)に溶解し、メタノール中に滴下し得られたポリマーをろ取し、加熱乾燥し黄色の下式で表わされるポリマーNo.1:0.36gを得た。
元素分析値(計算値)は、C:87.53%(87.20%)、H:7.55%(7.94%)、S:4.66%(4.85%)。
ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによるポリスチレン換算分子量は、数平均分子量:6436、重量平均分子量:19554であった。
合成例1におけるジブロモ化合物の代りに下記(式3)で示されるジブロモ化合物を0.548g(0.92mmol)、合成例1の(式2)で示されるジボロン酸エステル0.591g(0.92mmol)、
テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム11mg(0.01mmol)、トリカプリルメチルアンモニウムクロライド(Aliquat 336)0.16mlをトルエン8mlに採り、これに1M炭酸ナトリウム水溶液9mlを加え、窒素気流下12時間加熱還流した。合成例1と同様に末端処理したのち、トルエンで内容物を希釈し、トルエン層を分離、水洗後、パラジウムスカベンジャー(3−メルカプトプロピル基で修飾されたシリカゲル)40mgを加えてろ過したのち、5%塩酸水溶液で洗浄、ついでイオン交換水で洗浄した。トルエン溶液を濃縮したのち、メタノール中に滴下して黄色のポリマーを得た。得られたポリマーを塩化メチレンに溶解し、ショートカラム(シリカゲルおよび少量のフロリジル)で処理したのちメタノールに滴下して、沈殿物をろ取、乾燥して下式で示されるポリマーNo.2:0.56gを得た。
元素分析値(計算値)は、C:87.39%(88.76%)、H:9.42%(9.30%)。
ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによるポリスチレン換算分子量は数平均分子量:9056、重量平均分子量:21402であった。
下記(式4)で示されるジブロモ化合物0.400g(0.76mmol)、
前記(式2)で示されるジボロン酸エステル0.488g(0.76mmol)、トリカプリルメチルアンモニウムクロライド(Aliquat 336)0.16mlをトルエン8mlに採り、これに2M炭酸ナトリウム水溶液4mlを加え、窒素気流下30分攪拌した後、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム9.1mg(0.79×10−2mmol)を加え15時間加熱還流した。ブロモベンゼンを数滴加え3時間加熱還流、その後フェニルボロン酸数滴を加え3時間加熱還流したのち室温まで放冷した。トルエンで希釈し、トルエン層を分離、水洗後、パラジウムスカベンジャー(3−メルカプトプロピル基で修飾されたシリカゲル)で処理したのち、シルカゲルショートカラムクロマトで処理し、濃縮後エタノールに滴下し、沈殿物をろ取、乾燥して下式で示されるポリマーNo.3:0.53gを得た。
元素分析値(計算値)は、C:88.10%(89.05%)、H:8.93%(8.83%)、S:4.66%(4.85%)。
ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによるポリスチレン換算分子量は数平均分子量:11346、重量平均分子量:29965。
合成例1におけるジブロモ化合物の代りに下記(式5)で示されるジブロモ化合物0.607g(1.0mmol)、
前記(式2)で示されるジボロン酸エステル0.642g(1.0mmol)、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム12mg(0.01mmol)、トリカプリルメチルアンモニウムクロライド(Aliquat 336)0.16mlをトルエン10mlに採り、これに1M炭酸ナトリウム水溶液10mlを加え、窒素気流下16時間加熱還流した。合成例1と同様に末端処理したのち、トルエンで内容物を希釈し、トルエン層を分離、水洗後、パラジウムスカベンジャー(3−メルカプトプロピル基で修飾されたシリカゲル)40mgを加えてろ過したのち、メタノール中に滴下して黄色のポリマーを得た。得られたポリマーをトルエンに溶解し、シルカゲルショートカラムで処理したのち、トルエン溶液をイオン交換水で、洗浄液の伝導度がイオン交換水と同等になるまで水洗を繰り返した。洗浄した後メタノールに滴下して、沈殿物をろ取、乾燥して下式で示されるポリマーNo.4:0.80gを得た。
元素分析値(計算値)は、C:88.35%(90.47%)、H:7.89%(7.85%)N:1.66%(1.68%)。
ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによるポリスチレン換算分子量は数平均分子量:4704、重量平均分子量:14994。
前記(式5)で示されるジブロモ化合物を0.607g(1.0mmol)、下記(式6)で示されるジボロン酸エステル0.498g(1.0mmol)、
元素分析値(計算値)は、C:88.85%(90.24%)、H:7.45%(7.73%)N:2.07%(2.02%)。
ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによるポリスチレン換算分子量は数平均分子量:1200、重量平均分子量:2150。
アルミニウム電極が蒸着されたポリエチレンテレフタラート(PET)基板上に、合成例2および合成例3で合成した重合体の10wt%のメシチレン溶液をブレード塗工し、80℃で10分間乾燥し、さらに120℃で30分乾燥し、膜厚が約10μmの有機半導体膜を形成した後、この半導体フィルムに金電極を蒸着し、作製した。TOF法を用いて、有機半導体のキャリア移動度はTime of Flight(TOF)法により求めた。TOF法によるキャリア移動度測定は、キャリアが有機半導体材料の膜厚中を横切る時間から求める測定である。
すなわち、この試料の片面に、窒素レーザーを用いてパルス光を照射して、光キャリアを生成させ、二つの金電極間に電界を与えた際の変位電流を抵抗で電圧に変換し、これをオシロスコープで記録した。電極間距離(L)を走行する時間(Tr)を光電流の波形より求めた。ついで、キャリアの速度はV=L/Trで表され、印加電圧(V)が電極間で均一とした時、電界E=V/Lより、キャリア移動度の算出には、以下の式を用いた。
μ=L^2/V・Tr
(ただし、μはTOFキャリア移動度、Vは電極間の印加電圧、Trはキャリアの膜厚走行時間)
重合体No.2およびNo.3のTOF移動度電界強度依存性を図2に示す。
重合体No.2の各アニール温度によるTOF移動度電界強度依存性を図3に示す。
このように、重合体No.2およびNo.3は電界強度依存性が比較的低いことが分かり、アニールによってキャリア移動度が向上することが分かった。
30mm×30mmのp−ドープされたシリコン基板表面を熱酸化してSiO2の絶縁膜を200nm形成した後、片面だけレジスト膜(東京応化製:TSMR8800)で覆い、もう片面をフッ酸により酸化膜を除去した。次いで、この熱酸化膜を除去した面にアルミニウムを300nm蒸着した。その後、レジスト膜をアセトンで除去し、有機薄膜トランジスタ評価用基板を作製した。
<実施例1>
上記方法にて作製した有機薄膜トランジスタ評価用基板上に、合成例3で合成した重合体を用いて、下記の有機薄膜トランジスタを作製した。
基板をヘキサメチレンジシラザンの蒸気に3分間曝露し、120℃で5分間乾燥し、表面処理を行なった。その後、上記重合体1の約1.0wt%のメシチレン溶液を基板上にスピンコートして乾燥することにより、膜厚30nmの有機半導体層を作製した。
次いで、チャネル長30μm、チャネル幅10mmとなるように、金を蒸着することにより膜厚100nmのソース電極およびドレイン電極を形成し、有機薄膜トランジスタを作製した。
さらに、この有機薄膜トランジスタの特性の再現性を確認するため、同様の操作をさらに2回繰り返し、合計3つの有機薄膜トランジスタを作製した。
これら作製した有機薄膜トランジスタは、図1(D)の構造を有し、支持体として用いたp−ドープされたシリコン基板は下部に設けたアルミニウム薄膜とともにゲート電極として作用する。
このように作製した有機薄膜トランジスタの特性を図4に示す。これより電界効果移動度を求めた。
なお、有機薄膜トランジスタの電界効果移動度の算出には、以下の式を用いた。
Ids=μCinW(Vg−Vth)2/2L
(ただし、Cinはゲート絶縁膜の単位面積あたりのキャパシタンス、Wはチャネル幅、Lはチャネル長、Vgはゲート電圧、Idsはソースドレイン電流、μは移動度、Vthはチャネルが形成し始めるゲートの閾値電圧である。)
作製した有機薄膜トランジスタの電界効果移動度は、それぞれ、2.5×10−6cm2/Vs、2.1×10−6cm2/Vs、2.3×10−6cm2/Vsであった。
このように、作製したトランジスタは、素子間のバラツキが少なく、再現性良くトランジスタ特性が得られていることがわかる。
実施例1において、SiO2絶縁膜上に、9,9−ジオクチルフルオレンとビチオフェンとの共重合体の0.5wt%キシレン溶液をスピンコートして成膜した以外は実施例1と同様にして有機薄膜トランジスタを作製した。
この有機薄膜トランジスタの電界効果移動度は、5.1×10−4cm2/Vs、1.6×10−3cm2/Vs、8.0×10−4cm2/Vsであった。
以上の結果から、9,9−ジオクチルフルオレンとビチオフェンとの共重合体は、トランジスタ特性がバラツキを示すのに対し、本発明の高分子有機半導体を用いた有機薄膜トランジスタは、再現性が良いことがわかる。
すなわち、簡便な製造プロセスでバラツキが少なく、特性の再現性の高い有機薄膜トランジスタを提供できることが明らかになった。
2 ソース電極
3 ドレイン電極
4 ゲート電極
5 ゲート絶縁膜
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