JP2008192477A - 有機el装置、有機el装置の製造方法、及び電子機器 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板上に各々の画素に対応して形成された有機機能層15R、15G、15Bを有する有機EL装置であって、各々の画素領域Aに対応する画素電極と、画素電極を区画して略矩形状に開口する画素領域Aを形成する隔壁17と、少なくとも画素領域Aに形成された有機機能層15R、15G、15Bと、有機機能層15R、15G、15B上及び隔壁17上に形成された共通電極と、共通電極の上面または下面に積層され、共通電極の導電性を補助する補助配線22とを有し、補助配線22は、画素領域Aの長辺と交差して画素領域Aを横断し、画素領域Aを複数の領域に分断していることを特徴とする有機EL装置とした。
【選択図】図3
Description
前記第1電極を区画して、略矩形状に開口する画素領域を形成する隔壁と、
少なくとも前記画素領域に形成された有機機能層と、
前記有機機能層上及び前記隔壁上に形成された第2電極と、
前記第2電極の上面または下面に積層され、前記第2電極の導電性を補助する補助配線とを有し、前記補助配線は、少なくとも前記画素領域の長辺を横断する形状で配設されていることを特徴とする有機EL装置である。この構造を有する有機EL装置では、画素領域上に補助配線を形成するので、隔壁における補助配線の領域と、補助配線の製造マージンを確保するための領域とが不要になり隔壁の幅を狭く形成することができる。これにより、開口部を広く形成し1画素当りの開口率を向上させ、より少ない電流で十分な光量を得ることができるため、有機EL装置の寿命を延ばすことができる。
前記各々の画素に対応する第1電極を形成する工程と、
前記第1電極を区画して、略矩形状に開口する画素領域を形成する隔壁を形成する工程と、少なくとも前記画素領域に有機機能層を形成する工程と、
前記有機機能層上及び前記隔壁上に第2電極を形成する工程と、
前記第2電極の上面または下面に、少なくとも前記画素領域の長辺を横断する形状で補助配線を配設する工程とを有することを特徴とする有機EL装置の製造方法である。この製造方法を用いると、前記補助配線は、隔壁上に形成する場合と比較して、十分な製造マージンを持って配設されるため、製品の歩留まりが向上し、製造コスト低減に繋がる。
図1は本発明における有機EL装置1の等価回路図である。有機EL装置1は、X軸方向に延びる複数の走査線101と、走査線101に対して交差する方向(Y軸方向)に延びる複数の信号線102と、信号線102と平行に延びる複数の発光用電源配線103とを備えている。走査線101と信号線102との交点付近には、画素領域Aが設けられている。
図5は本発明における有機EL装置1の製造方法を示す工程図である。次に、上記有機EL装置1の製造方法について、図5を用いて説明する。本実施形態では、基板2上に各種配線や駆動用TFT5等を形成する工程、該駆動用TFT5上に画素電極14を形成する工程、当該画素電極14上に隔壁17を形成する工程、この隔壁上に有機機能層15を形成する工程、有機機能層15上に補助配線22を形成する工程、有機機能層15と補助配線22とを覆う共通電極21を形成する工程を実施することにより、有機EL装置1を製造するものである。これら各工程のうち、各種配線や駆動用TFT5等を形成する工程については、周知の工程と同様なので、これ以降の工程について説明する。
まず、図5(a)に示すように、基板2上に駆動用TFT5と、駆動用TFT5を覆って第2層間絶縁膜13が形成されたものを用意する。第2層間絶縁膜13はドレイン電極11上に開口部を有して形成されている。この表面に、スパッタ法を用いてアルミニウム、ITO、IXO等を全面成膜した後、フォトリソグラフィ法及びエッチング法を用いてパターニングすることで、図5(b)に示すような画素電極14を形成する。なお、本実施形態の有機EL表示装置1は、前述したようにトップエミッション構造を持つので、画素電極14は、透明である必要はなく、適当な導電材料によって形成することができる。
次に、図5(c)に示すように、第2層間絶縁膜13、画素電極14上に隔壁17を形成する。この隔壁17は、例えば、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂等の耐熱性、耐溶剤性を有する有機樹脂を材料として用いることができる。隔壁17は、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂等の有機樹脂を溶媒に溶かしたものを、スピンコート、ディップコート等により、第2層間絶縁膜13、画素電極14上に塗布し溶剤を乾燥させ、熱処理させることによって形成される。そして、画素領域Aとなる開口部は、隔壁17をフォトリソグラフィ法によりパターニングすることで設けられる。
次に、図5(d)に示すように、画素電極14、隔壁17の全面に正孔注入/輸送層18を形成し、さらにその上に発光層19を形成し、さらにその上に電子注入/輸送層20を形成することによって有機機能層を形成する。正孔注入/輸送層18、発光層19及び電子注入/輸送層20は、各層に好適な蒸着材料を周知の蒸着法に基づいて蒸着することによって形成される。
次に、図5(d)に示すように、補助配線22をマスク蒸着法によって、複数の画素領域Aに渡って直線状に横断するように形成する。補助配線22に用いられる材質は、アルミニウム等の電気抵抗の小さい材質が用いられる。
そして、図5(d)に示すように、電子注入/輸送層20と補助配線22とを覆う全面に共通電極21を形成する。この共通電極21は、マグネシウム銀、ITO、IXO等の透光性、導電性を有する材質を用いた蒸着法により形成される。
次に、図6を用いて、本発明の有機EL装置を備えた電子機器の実施形態について説明する。図6は、本発明の有機EL装置の一例である図1の有機EL装置1を携帯電話の表示部に適用した例についての概略構成図である。同図に示す携帯電話1300は、上記実施形態の有機EL装置を小サイズの表示部1301として備え、複数の操作ボタン1302、受話口1303、及び送話口1304を備えて構成されている。上記各実施の形態の有機EL装置は、上記携帯電話に限らず、電子ブック、プロジェクタ、パーソナルコンピュータ、ディジタルスチルカメラ、テレビジョン受像機、ビューファインダ型あるいはモニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、POS端末、タッチパネルを備えた機器等々の画像表示手段として好適に用いることができ、かかる構成とすることで、長寿命で発光特性に優れた電子機器を提供できる。
本実施例において作製した有機EL装置1は、200ppi(Pixel Per Inch)の実表示領域4を有するものである。各部のサイズは、図3に示すように、1画素127μm×127μm、画素領域A(46+46)μm×22.3μm、補助配線22の幅15μm、画素領域Aの間隔20μmであった。これらの数値を用いて1画素当りの開口率を計算すると、およそ38.2%であった。
Claims (6)
- 基板上に、各々の画素に対応して形成された有機機能層を有する有機EL装置であって、前記各々の画素に対応する第1電極と、
前記第1電極を区画して、略矩形状に開口する画素領域を形成する隔壁と、
少なくとも前記画素領域に形成された有機機能層と、
前記有機機能層上及び前記隔壁上に形成された第2電極と、
前記第2電極の上面または下面に積層され、前記第2電極の導電性を補助する補助配線とを有し、
前記補助配線は、前記画素領域の長辺と交差して画素領域を横断し、前記画素領域を複数の領域に分断していることを特徴とする有機EL装置。 - 基板上に、各々の画素に対応して形成された有機機能層を有する有機EL装置の製造方法であって、
前記各々の画素に対応する第1電極を形成する工程と、
前記第1電極を区画して、略矩形状に開口する画素領域を形成する隔壁を形成する工程と、少なくとも前記画素領域に有機機能層を形成する工程と、
前記有機機能層上及び前記隔壁上に第2電極を形成する工程とを有し、
前記第2電極の上面または下面に、前記画素領域の長辺と交差して画素領域を横断し、前記画素領域を、複数の領域に分断する補助配線を形成する工程を有することを特徴とする有機EL装置の製造方法。 - 請求項2に記載の有機EL装置の製造方法において、前記補助配線を配設する工程は、マスク蒸着法を用いて行うことを特徴とする有機EL装置の製造方法。
- 請求項2又は3に記載の有機EL装置の製造方法において、前記有機機能層を形成する工程は、蒸着法を用いて行うことを特徴とする有機EL装置の製造方法。
- 請求項2から4の何れか1項に記載の有機EL装置の製造方法において、前記第2電極を形成する工程は、蒸着法を用いて行うことを特徴とする有機EL装置の製造方法。
- 請求項1に記載の有機EL装置又は請求項2から5の何れか1項に記載の有機EL装置の製造方法により製造されてなる有機EL装置を備えることを特徴とする電子機器。
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