JP2008179677A - Transparent electroconductive film - Google Patents

Transparent electroconductive film Download PDF

Info

Publication number
JP2008179677A
JP2008179677A JP2007013064A JP2007013064A JP2008179677A JP 2008179677 A JP2008179677 A JP 2008179677A JP 2007013064 A JP2007013064 A JP 2007013064A JP 2007013064 A JP2007013064 A JP 2007013064A JP 2008179677 A JP2008179677 A JP 2008179677A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
transparent conductive
lactone ring
polymer
mass
film
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2007013064A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hidetaka Nakanishi
秀高 中西
Mitsuru Nakajima
充 中島
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Shokubai Co Ltd
Original Assignee
Nippon Shokubai Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Shokubai Co Ltd filed Critical Nippon Shokubai Co Ltd
Priority to JP2007013064A priority Critical patent/JP2008179677A/en
Publication of JP2008179677A publication Critical patent/JP2008179677A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a transparent electroconductive film having both of durability and low birefringence, and suitably usable for a touch panel. <P>SOLUTION: The transparent electroconductive film has a transparent electroconductive layer at least on one surface of a base material film consisting essentially of an acrylic resin having a ring structure in the main chain and ≥120°C glass transition temperature. The acrylic resin having ≥120°C glass transition temperature is preferably the one comprising a lactone ring-containing polymer as a main component. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は透明導電性フィルムに関する。   The present invention relates to a transparent conductive film.

近年、画像表示素子として液晶表示素子が注目され、液晶表示素子の上に透明なタッチパネルを搭載した入力装置が情報端末等に用いられている。ここで、タッチパネルの基板としては、ポリエチレンテレフタレート(以下、単に「PET」と言う場合がある。)フィルム上に、インジウムとスズの複合酸化物(以下、単に「ITO」と言う場合がある。)などの金属酸化物からなる透明導電膜が設けられた透明導電性フィルムが用いられている。   In recent years, a liquid crystal display element has attracted attention as an image display element, and an input device in which a transparent touch panel is mounted on the liquid crystal display element is used for an information terminal or the like. Here, as a substrate of the touch panel, a composite oxide of indium and tin (hereinafter sometimes simply referred to as “ITO”) is formed on a polyethylene terephthalate (hereinafter sometimes simply referred to as “PET”) film. A transparent conductive film provided with a transparent conductive film made of a metal oxide such as is used.

最近の液晶表示素子の分野での表示品質の改善に合わせて、表示素子に組み合わせるタッチパネルの品質に対する要求が高まっている。特にタッチパネル搭載によるコントラストの低下、あるいは外光の反射による表示品位の低下は、表示品質を大きく劣化させるため大きな問題となっている。特に、PETフィルムは、結晶性で、かつ複屈折性の大きな高分子フィルムであるため、液晶の表示品位を大きく損なうという問題があった。   With the recent improvement in display quality in the field of liquid crystal display elements, there is an increasing demand for the quality of touch panels combined with display elements. In particular, a decrease in contrast due to the touch panel mounting or a decrease in display quality due to reflection of external light is a serious problem because the display quality is greatly deteriorated. In particular, the PET film is a polymer film that is crystalline and has a large birefringence, so that there is a problem that the display quality of the liquid crystal is greatly impaired.

そこで、PETフィルムに代えて、ポリカーボネート(以下、単に「PC」と言う場合がある。)のような非晶質高分子からなる、複屈折の制御されたフィルムを用いて透明導電性フィルムを作製する試みがなされてきた(例えば特許文献1参照)。
特開平8−290515号公報
Therefore, instead of the PET film, a transparent conductive film is produced using a film having a controlled birefringence made of an amorphous polymer such as polycarbonate (hereinafter, sometimes simply referred to as “PC”). Attempts have been made (see, for example, Patent Document 1).
JP-A-8-290515

しかしながら、PCを使用した透明導電性フィルムは、PETを用いた従来の透明導電性フィルムと比較して耐久性が悪いことから、タッチパネルを作製し摺動筆記試験を行うと、直線性あるいは接触抵抗が大きく劣化するという場合があった。一方、ポリメチルメタクリレート(PMMA)に代表されるアクリル樹脂は、透明性があり、屈折率が低いといった特徴を有しているが、耐熱性が低いため、スパッタリング加工による導電性膜形成の際、あるいは、その他のコーティング層を設ける際に、透明性や平面性が悪化するといった問題があった。   However, since the transparent conductive film using PC has poor durability as compared with the conventional transparent conductive film using PET, linearity or contact resistance is obtained when a touch panel is manufactured and a sliding writing test is performed. There was a case where the quality deteriorated greatly. On the other hand, an acrylic resin typified by polymethyl methacrylate (PMMA) has characteristics such as transparency and low refractive index. However, since heat resistance is low, when forming a conductive film by sputtering, Or when providing other coating layers, there existed a problem that transparency and planarity deteriorated.

本発明は、上記問題に鑑みてなされたものであり、その目的は、耐久性および低複屈折性を兼ね備え、且つ、タッチパネルとして好適に用いられ得る透明導電性フィルムを提供することにある。   This invention is made | formed in view of the said problem, The objective is to provide durability and low birefringence, and to provide the transparent conductive film which can be used suitably as a touch panel.

上記問題点に着目して、本発明者らが鋭意検討した結果、主鎖に環構造を有し、ガラス転移温度が120℃以上であるアクリル樹脂を主成分とする樹脂フィルムを基材フィルムとし、その表面に透明導電層を設ければ、複屈折が低レベルに抑えられた透明導電性フィルムが得られることを見出して、本発明を完成した。   As a result of intensive studies by the present inventors paying attention to the above problems, a base film is a resin film mainly composed of an acrylic resin having a ring structure in the main chain and a glass transition temperature of 120 ° C. or higher. The inventors have found that a transparent conductive film having a birefringence suppressed to a low level can be obtained by providing a transparent conductive layer on the surface thereof, thereby completing the present invention.

すなわち、本発明の透明導電性フィルムは、主鎖に環構造を有し、ガラス転移温度が120℃以上のアクリル樹脂を主成分とする基材フィルムの少なくとも片面に、透明導電層を有するところに要旨を有するものである。   That is, the transparent conductive film of the present invention has a transparent conductive layer on at least one side of a base film mainly composed of an acrylic resin having a ring structure in the main chain and a glass transition temperature of 120 ° C. or higher. It has a gist.

上記ガラス転移温度120℃以上のアクリル樹脂の中でも、主鎖にラクトン環構造を有する重合体を主成分とする樹脂フィルムは、高い光学的等方性を有し、位相差が非常に小さいことから、この樹脂フィルムを基材フィルムとすることで、より光学特性に優れる透明導電性フィルムが得られるので好ましい。   Among the acrylic resins having a glass transition temperature of 120 ° C. or higher, a resin film mainly composed of a polymer having a lactone ring structure in the main chain has high optical isotropy and a very small retardation. By using this resin film as a base film, a transparent conductive film having more excellent optical properties can be obtained, which is preferable.

また、ラクトン環構造含有重合体を主成分とする樹脂(基材)フィルムは、高い光学的等方性(低位相差、低複屈折)を有するのみならず、優れた透明性や耐熱性を有するものである。さらに、当該基材フィルム中に含まれるラクトン環が高い極性を有するため、基材フィルム表面に設けられる透明導電層と、基材フィルムとの間に分子間力が働き、優れた密着性を示す。したがって、本発明の透明導電性フィルムは、低複屈折性と優れた耐久性を兼ね備えたものである。   In addition, a resin (base material) film containing a lactone ring structure-containing polymer as a main component has not only high optical isotropy (low retardation and low birefringence), but also excellent transparency and heat resistance. Is. Furthermore, since the lactone ring contained in the base film has high polarity, intermolecular force works between the transparent conductive layer provided on the base film surface and the base film, and exhibits excellent adhesion. . Therefore, the transparent conductive film of the present invention has both low birefringence and excellent durability.

上記本発明の透明導電性フィルムは、可視光線透過率が80%以上であるのが好ましく、光弾性係数は10−102/N以下、位相差は0〜100nmであるのが好ましい。本発明に係る透明導電層は、インジウム−錫酸化物からなるものであるのが望ましい。 The transparent conductive film of the present invention preferably has a visible light transmittance of 80% or more, a photoelastic coefficient of 10 −10 m 2 / N or less, and a retardation of 0 to 100 nm. The transparent conductive layer according to the present invention is preferably made of indium-tin oxide.

本発明の透明導電性フィルムにおいて、上記主鎖に有する環構造としては、ラクトン環、N−置換マレイミド環、無水マレイン酸環、N−置換メタクリルイミド環などが挙げられるが、特に、ラクトン環を有することが好ましい。上記ラクトン環含有重合体は、下記式(1)で示されるラクトン環構造を有するものであることが好ましい。   In the transparent conductive film of the present invention, examples of the ring structure in the main chain include a lactone ring, an N-substituted maleimide ring, a maleic anhydride ring, and an N-substituted methacrylimide ring. It is preferable to have. The lactone ring-containing polymer preferably has a lactone ring structure represented by the following formula (1).

Figure 2008179677
Figure 2008179677

[式中、R1、R2およびR3は、互いに独立して、水素原子または炭素数1〜20の有機残基を表す;なお、有機残基は、水素、酸素、窒素、硫黄、リン、ハロゲンの各原子を含有していてもよい] [Wherein R 1 , R 2 and R 3 independently represent a hydrogen atom or an organic residue having 1 to 20 carbon atoms; the organic residue is hydrogen, oxygen, nitrogen, sulfur, phosphorus And may contain halogen atoms]

なお、強度の観点からは、前記基材フィルムは延伸処理されたものであるのが好ましい。   From the viewpoint of strength, the base film is preferably stretched.

上記透明導電性フィルムを備えたタッチパネルは、推奨される本発明の実施態様である。   The touch panel provided with the transparent conductive film is a recommended embodiment of the present invention.

本発明の透明導電性フィルムは、透明性や耐熱性に優れるだけでなく、耐久性や低複屈折性をも兼ね備えるものである。したがって、本発明の透明導電性フィルムは、使用時における耐久性や高い視覚特性が求められる、液晶ディスプレイやプラズマディスプレイなどの表示装置に搭載されるタッチパネルとして有用である。   The transparent conductive film of the present invention has not only excellent transparency and heat resistance, but also durability and low birefringence. Therefore, the transparent conductive film of the present invention is useful as a touch panel mounted on a display device such as a liquid crystal display or a plasma display that requires durability and high visual characteristics during use.

以下、本発明について詳しく説明するが、本発明の範囲はこれらの説明に拘束されることはなく、以下の例示以外についても、本発明の趣旨を損なわない範囲で適宜変更実施し得る。   Hereinafter, the present invention will be described in detail. However, the scope of the present invention is not limited to these descriptions, and modifications other than the following examples can be made as appropriate without departing from the spirit of the present invention.

本発明の透明導電性フィルムとは、主鎖に環構造を有し、ガラス転移温度が120℃以上のアクリル樹脂を主成分とする基材フィルムの少なくとも片面に、透明導電層を有するところに特徴を有するものである。   The transparent conductive film of the present invention is characterized in that it has a transparent conductive layer on at least one side of a base film mainly composed of an acrylic resin having a cyclic structure in the main chain and a glass transition temperature of 120 ° C. or higher. It is what has.

上記環構造としては、ラクトン環、N−置換マレイミド環、無水マレイン酸環、N−置換メタクリルイミド環などが挙げられるが、これらの中でも特に、ラクトン環を有するものであるのが好ましい。主鎖にラクトン環構造を有する重合体を主成分とするものは、優れた透明性や耐熱性に加えて、高い光学適等方性(低位相差、低服屈折)を有するからである。そこで、まず、本発明に係る基材フィルムの主成分であるラクトン環含有重合体について説明する。   Examples of the ring structure include a lactone ring, an N-substituted maleimide ring, a maleic anhydride ring, and an N-substituted methacrylimide ring. Among these, a ring having a lactone ring is particularly preferable. This is because those having a polymer having a lactone ring structure in the main chain as a main component have high optical isotropy (low retardation and low refraction) in addition to excellent transparency and heat resistance. Therefore, first, the lactone ring-containing polymer that is the main component of the base film according to the present invention will be described.

[ラクトン環含有重合体]
本発明の透明導電性フィルムに係る基材フィルムとは、ラクトン環含有重合体を主成分とする熱可塑性樹脂フィルムである。上記基材フィルムの主成分であるラクトン環含有重合体は、好ましくは、下記式(1):
[Lactone ring-containing polymer]
The base film according to the transparent conductive film of the present invention is a thermoplastic resin film containing a lactone ring-containing polymer as a main component. The lactone ring-containing polymer that is the main component of the base film is preferably the following formula (1):

Figure 2008179677
Figure 2008179677

[式中、R、RおよびRは、互いに独立して、水素原子または炭素数1〜20の有機残基を表す;なお、有機残基は、水素、酸素、窒素、硫黄、リン、ハロゲンの各原子を含有していてもよい]
で表されるラクトン環構造を有するものであるのが好ましい。
[Wherein R 1 , R 2 and R 3 independently represent a hydrogen atom or an organic residue having 1 to 20 carbon atoms; the organic residue is hydrogen, oxygen, nitrogen, sulfur, phosphorus And may contain halogen atoms]
It preferably has a lactone ring structure represented by

本明細書において「有機残基」とは、炭素原子と、この炭素原子に共有結合を介して、水素、酸素、窒素、硫黄、リン、ハロゲンの各原子を有していてもよい基である。なお、上記炭素数1〜20の有機残基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基、シクロヘキシル基などの炭素数1〜20のアルキル基、フェニル基などのアリール基、ベンジル基などのアラルキル基が挙げられる。   In the present specification, the “organic residue” is a group which may have a carbon atom and each atom of hydrogen, oxygen, nitrogen, sulfur, phosphorus and halogen via a covalent bond to the carbon atom. . In addition, as said C1-C20 organic residue, C1-C20, such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, n-butyl group, an isobutyl group, t-butyl group, a cyclohexyl group, etc. Examples include alkyl groups, aryl groups such as phenyl groups, and aralkyl groups such as benzyl groups.

ラクトン環含有重合体の構造中における上記式(1)で示されるラクトン環構造の含有割合は、好ましくは5〜90質量%、より好ましくは10〜70質量%、さらに好ましくは10〜60質量%、特に好ましくは10〜50質量%である。ラクトン環構造の含有割合が5質量%未満であると、得られた重合体の耐熱性、耐溶剤性および表面硬度が低下することがある。逆に、ラクトン環構造の含有割合が90質量%を超えると、得られた重合体の成形加工性が低下することがある。また、ラクトン環構造は、重合体に正の位相差を与えるので、ラクトン環構造の含有割合が多い場合には、得られる重合体の位相差が大きくなる傾向があり、かかる場合には、後述する他の構造体単位(負の位相差を与える)を共重合あるいはブレンドしても、面方向の位相差を調整し難い場合がある。なお、上記ラクトン環構造の含有割合は、NMR、ラクトン環構造を有する(共)重合体のダイナミックTG測定(150〜300℃)による質量減少から算出される脱アルコール反応率と、使用した原料単量体におけるヒドロキシ基を有する原料単量体のモル比との値から求められる。   The content of the lactone ring structure represented by the above formula (1) in the structure of the lactone ring-containing polymer is preferably 5 to 90% by mass, more preferably 10 to 70% by mass, and still more preferably 10 to 60% by mass. Especially preferably, it is 10-50 mass%. When the content of the lactone ring structure is less than 5% by mass, the heat resistance, solvent resistance, and surface hardness of the obtained polymer may be lowered. On the contrary, when the content of the lactone ring structure exceeds 90% by mass, the moldability of the obtained polymer may be deteriorated. In addition, since the lactone ring structure gives a positive retardation to the polymer, when the content ratio of the lactone ring structure is large, the retardation of the obtained polymer tends to increase. Even if other structural units (which give a negative retardation) are copolymerized or blended, it may be difficult to adjust the retardation in the plane direction. The content ratio of the lactone ring structure is determined by the dealcoholization reaction rate calculated from the mass reduction by dynamic TG measurement (150 to 300 ° C.) of NMR and (co) polymer having a lactone ring structure, and the raw material used alone. It is calculated | required from the value with the molar ratio of the raw material monomer which has a hydroxyl group in a monomer.

ラクトン環含有重合体は、上記式(1)で示されるラクトン環構造以外の構造を有していてもよい。上記式(1)で示されるラクトン環構造以外の構造としては、特に限定されるものではないが、例えば、ラクトン環含有重合体の製造方法として後述するような、(メタ)アクリル酸エステル、ヒドロキシ基含有単量体、不飽和カルボン酸、下記式(2):   The lactone ring-containing polymer may have a structure other than the lactone ring structure represented by the above formula (1). The structure other than the lactone ring structure represented by the above formula (1) is not particularly limited. For example, (meth) acrylic acid ester, hydroxy as described later as a method for producing a lactone ring-containing polymer. Group-containing monomer, unsaturated carboxylic acid, the following formula (2):

Figure 2008179677
Figure 2008179677

[式中、Rは水素原子またはメチル基を表し、Xは水素原子、炭素数1〜20のアルキル基、アリール基、−OAc基、−CN基、−CO−R基、または−C(O)−O−R6基を表し、Acはアセチル基を表し、RおよびRは水素原子または炭素数1〜20の有機残基(上記式(1)と同様)を表す] [Wherein, R 4 represents a hydrogen atom or a methyl group, and X represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group, an —OAc group, a —CN group, a —CO—R 5 group, or —C (O) —O—R 6 group, Ac represents an acetyl group, R 5 and R 6 represent a hydrogen atom or an organic residue having 1 to 20 carbon atoms (similar to the above formula (1)).

で示される単量体からなる群より選択される少なくとも1種の単量体を重合して形成される重合体構造単位(繰り返し構造単位)が好ましい。上記ラクトン環構造は、得られる重合体の耐熱性の向上に寄与するものの、過度に存在する場合には、ラクトン環構造に由来する正の位相差が大きくなる。したがって、ラクトン環構造の含有量を調整するため、重合体にラクトン環構造以外の構造を与え得る単量体や、負の位相差を与え得る単量体を採用するのが好ましい。 A polymer structural unit (repeating structural unit) formed by polymerizing at least one monomer selected from the group consisting of monomers represented by Although the lactone ring structure contributes to the improvement of the heat resistance of the resulting polymer, when it exists excessively, the positive phase difference derived from the lactone ring structure becomes large. Therefore, in order to adjust the content of the lactone ring structure, it is preferable to employ a monomer that can give the polymer a structure other than the lactone ring structure or a monomer that can give a negative phase difference.

ラクトン環含有重合体の構造中における上記式(1)で示されるラクトン環構造以外の構造の含有割合は、(メタ)アクリル酸エステルを重合して形成される重合体構造単位(繰り返し構造単位)の場合、好ましくは10〜95質量%、より好ましくは20〜90質量%、さらに好ましくは40〜90質量%、特に好ましくは50〜90質量%であり、ヒドロキシ基含有単量体を重合して形成される重合体構造単位(繰り返し構造単位)の場合、好ましくは0〜30質量%、より好ましくは0〜20質量%、さらに好ましくは0〜15質量%、特に好ましくは0〜10質量%である。また、不飽和カルボン酸を重合して形成される重合体構造単位(繰り返し構造単位)の場合、好ましくは0〜30質量%、より好ましくは0〜20質量%、さらに好ましくは0〜15質量%、特に好ましくは0〜10質量%である。さらに、上記式(2)で示される単量体を重合して形成される重合体構造単位(繰り返し構造単位)の場合、好ましくは0〜30質量%、より好ましくは0〜20質量%、さらに好ましくは0〜15質量%、特に好ましくは0〜10質量%である。   The content ratio of the structure other than the lactone ring structure represented by the above formula (1) in the structure of the lactone ring-containing polymer is a polymer structural unit (repeated structural unit) formed by polymerizing (meth) acrylic acid ester. In this case, it is preferably 10 to 95% by mass, more preferably 20 to 90% by mass, still more preferably 40 to 90% by mass, and particularly preferably 50 to 90% by mass, by polymerizing the hydroxy group-containing monomer. In the case of the polymer structural unit to be formed (repeating structural unit), it is preferably 0 to 30% by mass, more preferably 0 to 20% by mass, further preferably 0 to 15% by mass, and particularly preferably 0 to 10% by mass. is there. In the case of a polymer structural unit (repeating structural unit) formed by polymerizing an unsaturated carboxylic acid, it is preferably 0 to 30% by mass, more preferably 0 to 20% by mass, and still more preferably 0 to 15% by mass. Especially preferably, it is 0-10 mass%. Furthermore, in the case of a polymer structural unit (repeating structural unit) formed by polymerizing the monomer represented by the above formula (2), preferably 0 to 30% by mass, more preferably 0 to 20% by mass, Preferably it is 0-15 mass%, Most preferably, it is 0-10 mass%.

ラクトン環含有重合体の製造方法は、特に限定されるものではないが、例えば、重合工程によって分子鎖中にヒドロキシ基とエステル基とを有する重合体(a)を得た後、得られた重合体(a)を加熱処理することによりラクトン環構造を重合体に導入するラクトン環化縮合工程を行うことによって得られる。   The method for producing the lactone ring-containing polymer is not particularly limited. For example, after the polymer (a) having a hydroxy group and an ester group in the molecular chain is obtained by a polymerization step, the obtained heavy polymer is obtained. It can be obtained by carrying out a lactone cyclization condensation step for introducing a lactone ring structure into the polymer by heat-treating the compound (a).

重合工程においては、例えば、下記式(3):   In the polymerization step, for example, the following formula (3):

Figure 2008179677
Figure 2008179677

[式中、RおよびRは、互いに独立して、水素原子または炭素数1〜20の有機残基(上記式(1)と同様)を表す]
で示される単量体を配合した単量体成分の重合反応を行うことにより、分子鎖中にヒドロキシ基とエステル基とを有する重合体が得られる。
[Wherein R 7 and R 8 each independently represent a hydrogen atom or an organic residue having 1 to 20 carbon atoms (similar to the above formula (1))]
A polymer having a hydroxy group and an ester group in the molecular chain can be obtained by performing a polymerization reaction of a monomer component containing the monomer represented by

上記式(3)で表される単量体としては、例えば、2−(ヒドロキシメチル)アクリル酸メチル、2−(ヒドロキシメチル)アクリル酸エチル、2−(ヒドロキシメチル)アクリル酸イソプロピル、2−(ヒドロキシメチル)アクリル酸n−ブチル、2−(ヒドロキシメチル)アクリル酸t−ブチルなどが挙げられる。上記一般式(3)であらわされる単量体は、単独で用いても2種以上を併用してもよい。これらの単量体のうち、2−(ヒドロキシメチル)アクリル酸メチル、2−(ヒドロキシメチル)アクリル酸エチルが好ましく、耐熱性を向上させる効果が高いことから、2−(ヒドロキシメチル)アクリル酸メチルが特に好ましい。   Examples of the monomer represented by the above formula (3) include methyl 2- (hydroxymethyl) acrylate, ethyl 2- (hydroxymethyl) acrylate, isopropyl 2- (hydroxymethyl) acrylate, 2- ( Hydroxymethyl) n-butyl acrylate, 2- (hydroxymethyl) acrylate t-butyl and the like. The monomer represented by the general formula (3) may be used alone or in combination of two or more. Among these monomers, 2- (hydroxymethyl) methyl acrylate and 2- (hydroxymethyl) ethyl acrylate are preferable, and since the effect of improving heat resistance is high, methyl 2- (hydroxymethyl) acrylate Is particularly preferred.

重合工程に供する単量体成分中における上記式(3)で示される単量体の含有割合は、好ましくは5〜90質量%、より好ましくは10〜70質量%、さらに好ましくは10〜60質量%、特に好ましくは10〜50質量%である。上記式(3)で示される単量体の含有割合が5質量%未満であると、得られた重合体の耐熱性、耐溶剤性および表面硬度が不十分になることがある。逆に、上記式(3)で示される単量体の含有割合が90質量%を超えると、重合工程やラクトン環化縮合工程においてゲル化が生じたり、得られた重合体の成形加工性が低下することがある。   The content ratio of the monomer represented by the formula (3) in the monomer component to be subjected to the polymerization step is preferably 5 to 90% by mass, more preferably 10 to 70% by mass, and still more preferably 10 to 60% by mass. %, Particularly preferably 10 to 50% by mass. When the content ratio of the monomer represented by the above formula (3) is less than 5% by mass, the obtained polymer may have insufficient heat resistance, solvent resistance and surface hardness. On the contrary, when the content ratio of the monomer represented by the above formula (3) exceeds 90% by mass, gelation occurs in the polymerization step or the lactone cyclization condensation step, and the molding processability of the obtained polymer is low. May decrease.

重合工程に供する単量体成分には、上記式(3)で示される単量体以外の単量体を配合してもよい。このような単量体としては、特に限定されるものではないが、例えば、(メタ)アクリル酸エステル、ヒドロキシ基含有単量体、不飽和カルボン酸、および、下記式(2):   You may mix | blend monomers other than the monomer shown by the said Formula (3) with the monomer component with which it uses for a superposition | polymerization process. Such a monomer is not particularly limited, and examples thereof include (meth) acrylic acid esters, hydroxy group-containing monomers, unsaturated carboxylic acids, and the following formula (2):

Figure 2008179677
Figure 2008179677

[式中、R4は水素原子またはメチル基を表し、Xは水素原子、炭素数1〜20のアルキル基、アリール基、−OAc基、−CN基、−CO−R基、または−C(O)−O−R6基を表し、Acはアセチル基を表し、R5およびR6は水素原子または炭素数1〜20の有機残基(上記式(1)と同様)を表す。]
で示される単量体などが挙げられる。これらの単量体は、単独で用いても2種以上を併用してもよい。
[Wherein, R 4 represents a hydrogen atom or a methyl group, and X represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group, an —OAc group, a —CN group, a —CO—R 5 group, or —C (O) —O—R 6 group is represented, Ac represents an acetyl group, R 5 and R 6 represent a hydrogen atom or an organic residue having 1 to 20 carbon atoms (similar to the above formula (1)). ]
And the like. These monomers may be used alone or in combination of two or more.

(メタ)アクリル酸エステルとしては、上記式(3)で示される単量体以外の(メタ)アクリル酸エステルである限り、特に限定されるものではないが、例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸n−ブチル、アクリル酸イソブチル、アクリル酸t−ブチル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸ベンジルなどのアクリル酸エステル;メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸n−ブチル、メタクリル酸イソブチル、メタクリル酸t−ブチル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸ベンジルなどのメタクリル酸エステル;などが挙げられる。これらの(メタ)アクリル酸エステルは、単独で用いても2種以上を併用してもよい。これらの(メタ)アクリル酸エステルのうち、得られた重合体の耐熱性や透明性が優れることから、メタクリル酸メチルが特に好ましい。   The (meth) acrylic acid ester is not particularly limited as long as it is a (meth) acrylic acid ester other than the monomer represented by the above formula (3). For example, methyl acrylate, ethyl acrylate Acrylates such as n-butyl acrylate, isobutyl acrylate, t-butyl acrylate, cyclohexyl acrylate, and benzyl acrylate; methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, n-butyl methacrylate, methacrylic acid And methacrylic acid esters such as isobutyl, t-butyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, and benzyl methacrylate. These (meth) acrylic acid esters may be used alone or in combination of two or more. Among these (meth) acrylic acid esters, methyl methacrylate is particularly preferable because the obtained polymer has excellent heat resistance and transparency.

上記式(3)で示される単量体以外の(メタ)アクリル酸エステルを用いる場合、重合工程に供する単量体成分中におけるその含有割合は、本発明の効果を充分に発揮させる上で、好ましくは10〜95質量%、より好ましくは10〜90質量%、さらに好ましくは40〜90質量%、特に好ましくは50〜90質量%である。   When using a (meth) acrylic acid ester other than the monomer represented by the above formula (3), the content ratio in the monomer component to be subjected to the polymerization step is sufficient to exert the effect of the present invention. Preferably it is 10-95 mass%, More preferably, it is 10-90 mass%, More preferably, it is 40-90 mass%, Most preferably, it is 50-90 mass%.

ヒドロキシ基含有単量体としては、上記式(3)で示される単量体以外のヒドロキシ基含有単量体である限り、特に限定されるものではないが、例えば、α−ヒドロキシメチルスチレン、α−ヒドロキシエチルスチレン、2−(ヒドロキシエチル)アクリル酸メチルなどの2−(ヒドロキシアルキル)アクリル酸エステル;2−(ヒドロキシエチル)アクリル酸などの2−(ヒドロキシアルキル)アクリル酸;などが挙げられる。これらのヒドロキシ基含有単量体は、単独で用いても2種以上を併用してもよい。   The hydroxy group-containing monomer is not particularly limited as long as it is a hydroxy group-containing monomer other than the monomer represented by the above formula (3). For example, α-hydroxymethylstyrene, α -2- (hydroxyalkyl) acrylic acid ester such as hydroxyethylstyrene and methyl 2- (hydroxyethyl) acrylate; 2- (hydroxyalkyl) acrylic acid such as 2- (hydroxyethyl) acrylic acid; and the like. These hydroxy group-containing monomers may be used alone or in combination of two or more.

上記式(3)で示される単量体以外のヒドロキシ基含有単量体を用いる場合、重合工程に供する単量体成分中におけるその含有割合は、本発明の効果を充分に発揮させる上で、好ましくは0〜30質量%、より好ましくは0〜20質量%、さらに好ましくは0〜15質量%、特に好ましくは0〜10質量%である。   When using a hydroxy group-containing monomer other than the monomer represented by the above formula (3), the content ratio in the monomer component to be subjected to the polymerization step is sufficient to exert the effect of the present invention. Preferably it is 0-30 mass%, More preferably, it is 0-20 mass%, More preferably, it is 0-15 mass%, Most preferably, it is 0-10 mass%.

不飽和カルボン酸としては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、α−置換アクリル酸、α−置換メタクリル酸などが挙げられる。これらの不飽和カルボン酸は、単独で用いても、2種以上を併用してもよい。これらの不飽和カルボン酸のうち、本発明の効果が充分に発揮されることから、アクリル酸、メタクリル酸が特に好ましい。   Examples of the unsaturated carboxylic acid include acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, α-substituted acrylic acid, α-substituted methacrylic acid and the like. These unsaturated carboxylic acids may be used alone or in combination of two or more. Among these unsaturated carboxylic acids, acrylic acid and methacrylic acid are particularly preferable because the effects of the present invention are sufficiently exhibited.

不飽和カルボン酸を用いる場合、重合工程に供する単量体成分中における不飽和カルボン酸の含有割合は、本発明の効果を充分に発揮させる上で、好ましくは0〜30質量%、より好ましくは0〜20質量%、さらに好ましくは0〜15質量%、特に好ましくは0〜10質量%である。   When the unsaturated carboxylic acid is used, the content of the unsaturated carboxylic acid in the monomer component to be subjected to the polymerization step is preferably 0 to 30% by mass, more preferably, in order to sufficiently exhibit the effects of the present invention. It is 0-20 mass%, More preferably, it is 0-15 mass%, Most preferably, it is 0-10 mass%.

上記式(2)で示される単量体としては、例えば、スチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエン、アクリロニトリル、メチルビニルケトン、エチレン、プロピレン、酢酸ビニルなどが挙げられる。特に、上記式(2)中、Xがアリール基である単量体は、重合体に負の位相差を与える構造単位となる。具体的には、スチレン、2−メチルスチレン、3−メチルスチレン、4−メチルスチレン、2,4−ジメチルスチレン、2,5−ジメチルスチレン、2−メチル−4−クロロスチレン、2,4,6−トリメチルスチレン、α―メチルスチレン、cis−β−メチルスチレン、trans−β−メチルスチレン、4−メチル−α−メチルスチレン、4−フルオロ−α−メチルスチレン、4−クロロ−α−メチルスチレン、4−ブロモ−α−メチルスチレン、4−t−ブチルスチレン、2−フルオロスチレン、3−フルオロスチレン、4−フルオロスチレン、2,4−ジフルオロスチレン、2,3,4,5,6−ペンタフルオロスチレン、2−クロロスチレン、3−クロロスチレン、4−クロロスチレン、2,4−ジクロロスチレン、2,6−ジクロロスチレン、オクタクロロスチレン、2−ブロモスチレン、3−ブロモスチレン、4−ブロモスチレン、2,4−ジブロモスチレン、α−ブロモスチレン、β−ブロモスチレン、2−ヒドロキシスチレン、4−ヒドロキシスチレンなどが挙げられる。これらの単量体は、単独で用いても2種以上を併用してもよい。これらの単量体の中でも、共重合が容易なことから、スチレン、α−メチルスチレンを用いることが特に好ましい。   Examples of the monomer represented by the formula (2) include styrene, α-methylstyrene, vinyl toluene, acrylonitrile, methyl vinyl ketone, ethylene, propylene, and vinyl acetate. In particular, in the above formula (2), a monomer in which X is an aryl group is a structural unit that gives a negative phase difference to the polymer. Specifically, styrene, 2-methylstyrene, 3-methylstyrene, 4-methylstyrene, 2,4-dimethylstyrene, 2,5-dimethylstyrene, 2-methyl-4-chlorostyrene, 2,4,6 -Trimethylstyrene, α-methylstyrene, cis-β-methylstyrene, trans-β-methylstyrene, 4-methyl-α-methylstyrene, 4-fluoro-α-methylstyrene, 4-chloro-α-methylstyrene, 4-Bromo-α-methylstyrene, 4-t-butylstyrene, 2-fluorostyrene, 3-fluorostyrene, 4-fluorostyrene, 2,4-difluorostyrene, 2,3,4,5,6-pentafluoro Styrene, 2-chlorostyrene, 3-chlorostyrene, 4-chlorostyrene, 2,4-dichlorostyrene, 2,6-dichloro Examples include styrene, octachlorostyrene, 2-bromostyrene, 3-bromostyrene, 4-bromostyrene, 2,4-dibromostyrene, α-bromostyrene, β-bromostyrene, 2-hydroxystyrene, 4-hydroxystyrene, and the like. It is done. These monomers may be used alone or in combination of two or more. Among these monomers, styrene and α-methylstyrene are particularly preferable because copolymerization is easy.

上記式(2)で示される単量体を用いる場合、重合工程に供する単量体成分中におけるその含有割合は、本発明の効果を充分に発揮させる上で、好ましくは0〜30質量%、より好ましくは0〜20質量%、さらに好ましくは0〜15質量%、特に好ましくは0〜10質量%である。上記式(2)で示される単量体が、重合体に負の位相差を与えるものである場合、当該単量体の含有量が少なすぎると、ラクトン環構造に由来する面方向の位相差を充分に相殺できないことがあり、一方、多すぎると、負の位相差が大きくなりすぎ、正の位相差を与えるラクトン環構造で位相差を相殺できないことがある。但し、上記式(2)で表される単量体を用いずとも、後述するフィルム化の際の熱可塑性樹脂組成物に上記式(2)より選択される単量体成分からなる(共)重合体をブレンドすることでも位相差を調整することができる。   When the monomer represented by the above formula (2) is used, the content ratio in the monomer component to be subjected to the polymerization step is preferably 0 to 30% by mass in order to sufficiently exhibit the effects of the present invention. More preferably, it is 0-20 mass%, More preferably, it is 0-15 mass%, Most preferably, it is 0-10 mass%. When the monomer represented by the formula (2) gives a negative retardation to the polymer, if the content of the monomer is too small, the retardation in the plane direction derived from the lactone ring structure On the other hand, if the amount is too large, the negative phase difference becomes too large, and the lactone ring structure that gives a positive phase difference may not cancel the phase difference. However, even if the monomer represented by the above formula (2) is not used, the thermoplastic resin composition at the time of film formation described later comprises a monomer component selected from the above formula (2) (co). The phase difference can also be adjusted by blending the polymers.

単量体成分を重合して分子鎖中にヒドロキシ基とエステル基とを有する重合体を得るための重合反応の形態としては、溶剤を使用する重合形態であることが好ましく、溶液重合が特に好ましい。   As a form of the polymerization reaction for polymerizing the monomer component to obtain a polymer having a hydroxy group and an ester group in the molecular chain, a polymerization form using a solvent is preferable, and solution polymerization is particularly preferable. .

重合温度や重合時間は、使用する単量体の種類や割合などに応じて変化するが、例えば、好ましくは、重合温度が0〜150℃、重合時間が0.5〜20時間であり、より好ましくは、重合温度が80〜140℃、重合時間が1〜10時間である。   The polymerization temperature and the polymerization time vary depending on the type and ratio of the monomer used. For example, the polymerization temperature is preferably 0 to 150 ° C., the polymerization time is 0.5 to 20 hours, and more Preferably, the polymerization temperature is 80 to 140 ° C. and the polymerization time is 1 to 10 hours.

溶剤を使用する重合形態の場合、重合溶剤としては特に限定されるものではなく、例えば、トルエン、キシレン、エチルベンゼンなどの芳香族炭化水素系溶剤;メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン系溶剤;テトラヒドロフランなどのエーテル系溶剤;などが挙げられる。これらの溶剤は、単独で用いても2種以上を併用してもよい。なお、溶剤の沸点が高すぎると、最終的に得られるラクトン環含有重合体の残存揮発分が多くなることから、沸点が50〜200℃の溶剤を用いるのが好ましい。   In the case of a polymerization form using a solvent, the polymerization solvent is not particularly limited. For example, aromatic hydrocarbon solvents such as toluene, xylene and ethylbenzene; ketone solvents such as methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone; tetrahydrofuran and the like And ether solvents. These solvents may be used alone or in combination of two or more. In addition, since the residual volatile matter of the lactone ring containing polymer finally obtained will increase when the boiling point of a solvent is too high, it is preferable to use a solvent with a boiling point of 50-200 degreeC.

重合反応時には、必要に応じて、重合開始剤を添加してもよい。重合開始剤としては、特に限定されるものではないが、例えば、クメンハイドロパーオキサイド、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド、ジ−t−ブチルパーオキサイド、ラウロイルパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド、t−ブチルパーオキシイソプロピルカーボネート、t−アミルパーオキシ−2−エチルヘキサノエートなどの有機過酸化物;2,2’−アゾビス(イソブチロニトリル)、1,1’−アゾビス(シクロヘキサンカルボニトリル)、2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)などのアゾ化合物;などが挙げられる。これらの重合開始剤は、単独で用いても2種以上を併用してもよい。重合開始剤の使用量は、用いる単量体の組合せや反応条件などに応じて適宜設定すればよく、特に限定されるものではない。   During the polymerization reaction, a polymerization initiator may be added as necessary. The polymerization initiator is not particularly limited. For example, cumene hydroperoxide, diisopropylbenzene hydroperoxide, di-t-butyl peroxide, lauroyl peroxide, benzoyl peroxide, t-butylperoxyisopropyl Organic peroxides such as carbonate and t-amylperoxy-2-ethylhexanoate; 2,2′-azobis (isobutyronitrile), 1,1′-azobis (cyclohexanecarbonitrile), 2,2 ′ -Azo compounds such as azobis (2,4-dimethylvaleronitrile); These polymerization initiators may be used alone or in combination of two or more. The amount of the polymerization initiator used is not particularly limited as long as it is appropriately set according to the combination of the monomers used and the reaction conditions.

重合を行う際には、反応液のゲル化を抑制するために、重合反応混合物中に生成した重合体の濃度が50質量%以下となるように制御することが好ましい。具体的には、重合反応混合物中に生成した重合体の濃度が50質量%を超える場合には、重合溶剤を重合反応混合物に適宜添加して50質量%以下となるように制御することが好ましい。重合反応混合物中に生成した重合体の濃度は、より好ましくは45質量%以下、さらに好ましくは40質量%以下である。なお、重合反応混合物中に生成した重合体の濃度があまりに低すぎると生産性が低下するので、重合反応混合物中に生成した重合体の濃度は、好ましくは10質量%以上、より好ましくは20質量%以上である。   When performing the polymerization, it is preferable to control the concentration of the polymer produced in the polymerization reaction mixture to be 50% by mass or less in order to suppress gelation of the reaction solution. Specifically, when the concentration of the polymer formed in the polymerization reaction mixture exceeds 50% by mass, it is preferable that the polymerization solvent is appropriately added to the polymerization reaction mixture and controlled to be 50% by mass or less. . The concentration of the polymer formed in the polymerization reaction mixture is more preferably 45% by mass or less, and further preferably 40% by mass or less. In addition, since productivity will fall when the density | concentration of the polymer produced | generated in the polymerization reaction mixture is too low, the density | concentration of the polymer produced | generated in the polymerization reaction mixture becomes like this. Preferably it is 10 mass% or more, More preferably, 20 mass % Or more.

重合溶剤を重合反応混合物に適宜添加する形態としては、特に限定されるものではなく、例えば、連続的に重合溶剤を添加してもよいし、間欠的に重合溶剤を添加してもよい。このように重合反応混合物中に生成した重合体の濃度を制御することによって、反応液のゲル化をより充分に抑制することができ、特に、ラクトン環含有割合を増やして耐熱性を向上させるため、分子鎖中のヒドロキシ基とエステル基との割合を高めた場合であっても、ゲル化を充分に抑制することができる。添加する重合溶剤としては、例えば、重合反応の初期仕込み時に使用した溶剤と同じ種類の溶剤であってもよいし、異なる種類の溶剤であってもよいが、重合反応の初期仕込み時に使用した溶剤と同じ種類の溶剤を用いることが好ましい。また、添加する重合溶剤は、1種のみの単一溶剤であっても2種以上の混合溶剤であってもよい。   The form in which the polymerization solvent is appropriately added to the polymerization reaction mixture is not particularly limited, and for example, the polymerization solvent may be added continuously or the polymerization solvent may be added intermittently. By controlling the concentration of the polymer formed in the polymerization reaction mixture in this way, the gelation of the reaction solution can be more sufficiently suppressed, and in particular, to increase the lactone ring content and improve the heat resistance. Even when the ratio of the hydroxy group and the ester group in the molecular chain is increased, gelation can be sufficiently suppressed. The polymerization solvent to be added may be, for example, the same type of solvent used during the initial charging of the polymerization reaction or a different type of solvent, but the solvent used during the initial charging of the polymerization reaction. It is preferable to use the same type of solvent. Moreover, the polymerization solvent to be added may be only one kind of single solvent or two or more kinds of mixed solvents.

以上の重合工程を終了した時点で得られる重合反応混合物中には、通常、得られた重合体以外に溶剤が含まれているが、溶剤を完全に除去して重合体を固体状態で取り出す必要はなく、溶剤を含んだ状態で、続くラクトン環化縮合工程に導入することが好ましい。また、必要な場合は、固体状態で取り出した後に、続くラクトン環化縮合工程に好適な溶剤を再添加してもよい。   The polymerization reaction mixture obtained when the above polymerization step is completed usually contains a solvent in addition to the obtained polymer, but it is necessary to completely remove the solvent and take out the polymer in a solid state. Rather, it is preferably introduced into the subsequent lactone cyclization condensation step in a state containing a solvent. If necessary, after taking out in a solid state, a solvent suitable for the subsequent lactone cyclization condensation step may be added again.

重合工程で得られた重合体は、分子鎖中にヒドロキシ基とエステル基とを有する重合体(a)であり、重合体(a)の重量平均分子量は、好ましくは1,000〜2,000,000、より好ましくは5,000〜1,000,000、さらに好ましくは10,000〜500,000、特に好ましくは50,000〜500,000である。重合工程で得られた重合体(a)は、続くラクトン環化縮合工程において、加熱処理されることによりラクトン環構造が重合体に導入され、ラクトン環含有重合体となる。   The polymer obtained in the polymerization step is a polymer (a) having a hydroxy group and an ester group in the molecular chain, and the weight average molecular weight of the polymer (a) is preferably 1,000 to 2,000. 5,000, more preferably 5,000 to 1,000,000, still more preferably 10,000 to 500,000, and particularly preferably 50,000 to 500,000. The polymer (a) obtained in the polymerization step is subjected to heat treatment in the subsequent lactone cyclization condensation step, whereby a lactone ring structure is introduced into the polymer to become a lactone ring-containing polymer.

重合体(a)にラクトン環構造を導入するための反応は、加熱により、重合体(a)の分子鎖中に存在するヒドロキシ基とエステル基とが環化縮合してラクトン環構造を生じる反応であり、その環化縮合によってアルコールが副生する。ラクトン環構造が重合体の主鎖中(重合体の主骨格中)に形成されることにより、高い耐熱性が付与される。ラクトン環構造を導く環化縮合反応の反応率が不充分であると、耐熱性が充分に向上しないことや、成形時の加熱処理によって成形途中に縮合反応が起こり、生じたアルコールが成形品中に泡やシルバーストリークとなって存在することがある。   The reaction for introducing a lactone ring structure into the polymer (a) is a reaction in which a hydroxy group and an ester group present in the molecular chain of the polymer (a) are cyclized and condensed to form a lactone ring structure by heating. The alcohol is by-produced by the cyclized condensation. High heat resistance is imparted by forming a lactone ring structure in the main chain of the polymer (in the main skeleton of the polymer). If the reaction rate of the cyclization condensation reaction leading to the lactone ring structure is insufficient, the heat resistance will not be improved sufficiently, or a condensation reaction will occur during the molding due to the heat treatment during molding, and the resulting alcohol will be contained in the molded product. May exist as bubbles or silver streaks.

ラクトン環化縮合工程において得られるラクトン環含有重合体は、好ましくは、下記式(1):   The lactone ring-containing polymer obtained in the lactone cyclization condensation step is preferably the following formula (1):

Figure 2008179677
Figure 2008179677

[式中、R1、R2、R3は、互いに独立して、水素原子または炭素数1〜20の有機残基を(上記式(1)と同様)表す;なお、有機残基、水素、酸素、窒素、硫黄、リン、ハロゲンの各原子を含有していてもよい]
で示されるラクトン環構造を有する。
[Wherein R 1 , R 2 and R 3 independently represent a hydrogen atom or an organic residue having 1 to 20 carbon atoms (similar to the above formula (1)); , Oxygen, nitrogen, sulfur, phosphorus and halogen atoms may be contained]
Having a lactone ring structure.

重合体(a)を加熱処理する方法については、特に限定されるものではなく、従来公知の方法を利用すればよい。例えば、重合工程によって得られた、溶剤を含む重合反応混合物を、そのまま加熱処理してもよい。あるいは、溶剤の存在下で、必要に応じて閉環触媒を用いて加熱処理してもよい。あるいは、揮発成分を除去するための真空装置あるいは脱揮装置を備えた加熱炉や反応装置、脱揮装置を備えた押出機などを用いて加熱処理を行うこともできる。   The method for heat-treating the polymer (a) is not particularly limited, and a conventionally known method may be used. For example, you may heat-process the polymerization reaction mixture containing the solvent obtained by the superposition | polymerization process as it is. Or you may heat-process using a ring-closure catalyst as needed in presence of a solvent. Or heat processing can also be performed using the heating furnace and reaction apparatus provided with the vacuum apparatus or devolatilization apparatus for removing a volatile component, the extruder provided with the devolatilization apparatus, etc.

環化縮合反応を行う際に、重合体(a)に加えて、他の熱可塑性樹脂を共存させてもよい。また、環化縮合反応を行う際には、必要に応じて、環化縮合反応の触媒として一般に使用されるp−トルエンスルホン酸などのエステル化触媒またはエステル交換触媒を用いてもよいし、酢酸、プロピオン酸、安息香酸、アクリル酸、メタクリル酸などの有機カルボン酸類を触媒として用いてもよい。さらに、例えば、特開昭61−254608号公報や特開昭61−261303号公報に開示されているように、塩基性化合物、有機カルボン酸塩、炭酸塩などを用いてもよい。   In carrying out the cyclization condensation reaction, in addition to the polymer (a), another thermoplastic resin may coexist. When performing the cyclization condensation reaction, if necessary, an esterification catalyst or a transesterification catalyst such as p-toluenesulfonic acid generally used as a catalyst for the cyclization condensation reaction may be used. Organic carboxylic acids such as propionic acid, benzoic acid, acrylic acid, and methacrylic acid may be used as a catalyst. Furthermore, as disclosed in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 61-254608 and 61-261303, basic compounds, organic carboxylates, carbonates, and the like may be used.

環化縮合反応を行う際には、有機リン化合物を触媒として用いることが好ましい。触媒として有機リン化合物を用いることにより、環化縮合反応率を向上させると共に、得られるラクトン環含有重合体の着色を大幅に低減することができる。また、有機リン化合物を触媒として用いた場合には、後述の脱揮工程を併用する場合に起こり得る分子量低下が抑制されるので、ラクトン環含有重合体の優れた機械的強度を確保できる。   In carrying out the cyclization condensation reaction, it is preferable to use an organic phosphorus compound as a catalyst. By using an organophosphorus compound as a catalyst, the cyclization condensation reaction rate can be improved, and coloring of the resulting lactone ring-containing polymer can be greatly reduced. Moreover, when an organophosphorus compound is used as a catalyst, since the molecular weight fall which can occur when using the below-mentioned devolatilization process is suppressed, the outstanding mechanical strength of a lactone ring containing polymer is securable.

環化縮合反応の際に触媒として用いられる有機リン化合物としては、例えば、メチル亜ホスホン酸、エチル亜ホスホン酸、フェニル亜ホスホン酸などのアルキル(アリール)亜ホスホン酸(ただし、これらは、互変異性体であるアルキル(アリール)ホスフィン酸になっていてもよい)およびこれらのモノエステルまたはジエステル;ジメチルホスフィン酸、ジエチルホスフィン酸、ジフェニルホスフィン酸、フェニルメチルホスフィン酸、フェニルエチルホスフィン酸などのジアルキル(アリール)ホスフィン酸およびこれらのエステル;メチルホスホン酸、エチルホスホン酸、トリフルオロメチルホスホン酸、フェニルホスホン酸などのアルキル(アリール)ホスホン酸およびこれらのモノエステルまたはジエステル;メチル亜ホスフィン酸、エチル亜ホスフィン酸、フェニル亜ホスフィン酸などのアルキル(アリール)亜ホスフィン酸およびこれらのエステル;亜リン酸メチル、亜リン酸エチル、亜リン酸フェニル、亜リン酸ジメチル、亜リン酸ジエチル、亜リン酸ジフェニル、亜リン酸トリメチル、亜リン酸トリエチル、亜リン酸トリフェニルなどの亜リン酸モノエステル、ジエステルまたはトリエステル;リン酸メチル、リン酸エチル、リン酸2−エチルヘキシル、リン酸オクチル、リン酸イソデシル、リン酸ラウリル、リン酸ステアリル、リン酸イソステアリル、リン酸フェニル、リン酸ジメチル、リン酸ジエチル、リン酸ジ−2−エチルヘキシル、リン酸オクチル、リン酸ジイソデシル、リン酸ジラウリル、リン酸ジステアリル、リン酸ジイソステアリル、リン酸ジフェニル、リン酸トリメチル、リン酸トリエチル、リン酸トリイソデシル、リン酸トリラウリル、リン酸トリステアリル、リン酸トリイソステアリル、リン酸トリフェニルなどのリン酸モノエステル、ジエステルまたはトリエステル;メチルホスフィン、エチルホスフィン、フェニルホスフィン、ジメチルホスフィン、ジエチルホスフィン、ジフェニルホスフィン、トリメチルホスフィン、トリエチルホスフィン、トリフェニルホスフィンなどのモノ−、ジ−またはトリ−アルキル(アリール)ホスフィン;メチルジクロロホスフィン、エチルジクロロホスフィン、フェニルジクロロホスフィン、ジメチルクロロホスフィン、ジエチルクロロホスフィン、ジフェニルクロロホスフィンなどのアルキル(アリール)ハロゲンホスフィン;酸化メチルホスフィン、酸化エチルホスフィン、酸化フェニルホスフィン、酸化ジメチルホスフィン、酸化ジエチルホスフィン、酸化ジフェニルホスフィン、酸化トリメチルホスフィン、酸化トリエチルホスフィン、酸化トリフェニルホスフィンなどの酸化モノ−、ジ−またはトリ−アルキル(アリール)ホスフィン;塩化テトラメチルホスホニウム、塩化テトラエチルホスホニウム、塩化テトラフェニルホスホニウムなどのハロゲン化テトラアルキル(アリール)ホスホニウム;などが挙げられる。これらの有機リン化合物は、単独で用いても2種以上を併用してもよい。これらの有機リン化合物のうち、触媒活性が高くて着色性が低いことから、アルキル(アリール)亜ホスホン酸、亜リン酸モノエステルまたはジエステル、リン酸モノエステルまたはジエステル、アルキル(アリール)ホスホン酸が好ましく、アルキル(アリール)亜ホスホン酸、亜リン酸モノエステルまたはジエステル、リン酸モノエステルまたはジエステルがより好ましく、アルキル(アリール)亜ホスホン酸、リン酸モノエステルまたはジエステルが特に好ましい。   Examples of the organic phosphorus compound used as a catalyst in the cyclocondensation reaction include alkyl (aryl) phosphonous acids such as methylphosphonous acid, ethylphosphonous acid, and phenylphosphonous acid (however, these are tautomers) Which may be an alkyl (aryl) phosphinic acid which is an active substance) and monoesters or diesters thereof; dialkyl (such as dimethylphosphinic acid, diethylphosphinic acid, diphenylphosphinic acid, phenylmethylphosphinic acid, phenylethylphosphinic acid) Aryl) phosphinic acids and their esters; alkyl (aryl) phosphonic acids such as methylphosphonic acid, ethylphosphonic acid, trifluoromethylphosphonic acid, phenylphosphonic acid and their monoesters or diesters; methylphosphite Acids, alkyl (aryl) phosphinic acids such as ethylphosphinic acid, phenylphosphinic acid and their esters; methyl phosphite, ethyl phosphite, phenyl phosphite, dimethyl phosphite, diethyl phosphite, Phosphorous acid monoester, diester or triester such as diphenyl phosphite, trimethyl phosphite, triethyl phosphite, triphenyl phosphite; methyl phosphate, ethyl phosphate, 2-ethylhexyl phosphate, octyl phosphate , Isodecyl phosphate, lauryl phosphate, stearyl phosphate, isostearyl phosphate, phenyl phosphate, dimethyl phosphate, diethyl phosphate, di-2-ethylhexyl phosphate, octyl phosphate, diisodecyl phosphate, dilauryl phosphate, Distearyl phosphate, diisostearyl phosphate, diphosphate phosphate Phosphoric monoesters, diesters or triesters such as phenyl, trimethyl phosphate, triethyl phosphate, triisodecyl phosphate, trilauryl phosphate, tristearyl phosphate, triisostearyl phosphate, triphenyl phosphate; methylphosphine, ethylphosphine , Phenylphosphine, dimethylphosphine, diethylphosphine, diphenylphosphine, trimethylphosphine, triethylphosphine, triphenylphosphine and the like mono-, di- or trialkyl (aryl) phosphine; methyldichlorophosphine, ethyldichlorophosphine, phenyldichlorophosphine, Alkyl (aryl) halogen phosphines such as dimethylchlorophosphine, diethylchlorophosphine, diphenylchlorophosphine; Mono-, di- or tri-alkyl (aryl) oxides such as ruphosphine, ethylphosphine oxide, phenylphosphine oxide, dimethylphosphine oxide, diethylphosphine oxide, diphenylphosphine oxide, trimethylphosphine oxide, triethylphosphine oxide, triphenylphosphine oxide Phosphine; tetraalkyl (aryl) phosphonium halides such as tetramethylphosphonium chloride, tetraethylphosphonium chloride, tetraphenylphosphonium chloride; and the like. These organic phosphorus compounds may be used alone or in combination of two or more. Among these organophosphorus compounds, since the catalytic activity is high and the colorability is low, alkyl (aryl) phosphonous acid, phosphorous acid monoester or diester, phosphoric acid monoester or diester, and alkyl (aryl) phosphonic acid Preferably, alkyl (aryl) phosphonous acid, phosphorous acid monoester or diester, phosphoric acid monoester or diester is more preferable, and alkyl (aryl) phosphonous acid, phosphoric acid monoester or diester is particularly preferable.

環化縮合反応の際に用いる触媒の使用量は、特に限定されるものではないが、例えば、重合体(a)に対して、好ましくは0.001〜5質量%、より好ましくは0.01〜2.5質量%、さらに好ましくは0.01〜1質量%、特に好ましくは0.05〜0.5質量%である。触媒の使用量が0.001質量%未満であると、環化縮合反応の反応率が充分に向上しないことがある。逆に、触媒の使用量が5質量%を超えると、得られた重合体が着色したり、重合体が架橋して、溶融成形が困難になることがある。   Although the usage-amount of the catalyst used in the case of a cyclization condensation reaction is not specifically limited, For example, Preferably it is 0.001-5 mass% with respect to a polymer (a), More preferably, it is 0.01. -2.5 mass%, More preferably, it is 0.01-1 mass%, Most preferably, it is 0.05-0.5 mass%. When the amount of the catalyst used is less than 0.001% by mass, the reaction rate of the cyclization condensation reaction may not be sufficiently improved. On the other hand, when the amount of the catalyst used exceeds 5% by mass, the obtained polymer may be colored or the polymer may be cross-linked, making melt molding difficult.

触媒の添加時期は、特に限定されるものではなく、例えば、反応初期に添加してもよいし、反応途中に添加してもよいし、それらの両方で添加してもよい。   The addition timing of the catalyst is not particularly limited. For example, the catalyst may be added at the beginning of the reaction, may be added during the reaction, or may be added in both of them.

環化縮合反応を溶剤の存在下で行い、かつ、環化縮合反応の際に、脱揮工程を併用することが好ましい。この場合、環化縮合反応の全体を通じて脱揮工程を併用する形態、および、脱揮工程を環化縮合反応の過程全体にわたっては併用せずに過程の一部においてのみ併用する形態が挙げられる。脱揮工程を併用する方法では、縮合環化反応で副生するアルコールを強制的に脱揮させて除去するので、反応の平衡が生成側に有利となる。   It is preferable to carry out the cyclization condensation reaction in the presence of a solvent and to use a devolatilization step in combination with the cyclization condensation reaction. In this case, a mode in which the devolatilization step is used throughout the cyclization condensation reaction and a mode in which the devolatilization step is not used over the entire cyclization condensation reaction but only in a part of the process. In the method using the devolatilization step in combination, the alcohol produced as a by-product in the condensation cyclization reaction is forcibly devolatilized and removed, so that the equilibrium of the reaction is advantageous for the production side.

脱揮工程とは、溶剤、残存単量体などの揮発分と、ラクトン環構造を導く環化縮合反応により副生したアルコールを、必要に応じて減圧加熱条件下で、除去処理する工程を意味する。この除去処理が不充分であると、得られた重合体中の残存揮発分が多くなり、成形時の変質などにより着色することや、泡やシルバーストリークなどの成形不良が起こることがある。   The devolatilization process means a process of removing volatile components such as solvents and residual monomers and alcohol by-produced by a cyclization condensation reaction leading to a lactone ring structure under reduced pressure heating conditions as necessary. To do. If this removal treatment is insufficient, residual volatile components in the obtained polymer increase, and coloring may occur due to deterioration during molding, and molding defects such as bubbles and silver streaks may occur.

環化縮合反応の全体を通じて脱揮工程を併用する形態の場合、用いる装置については、特に限定されるものではないが、例えば、本発明をより効果的に行うために、熱交換器と脱揮槽とからなる脱揮装置やベント付き押出機、また、脱揮装置と押出機を直列に配置したものを用いることが好ましく、熱交換器と脱揮槽とからなる脱揮装置またはベント付き押出機を用いることがより好ましい。   In the case of using a devolatilization step throughout the cyclization condensation reaction, the apparatus to be used is not particularly limited. For example, in order to more effectively perform the present invention, a devolatilization step and devolatilization are performed. It is preferable to use a devolatilizer comprising a tank and an extruder with a vent, or a devolatilizer and an extruder arranged in series, and a devolatilizer comprising a heat exchanger and a devolatilizer or an extrusion with a vent It is more preferable to use a machine.

熱交換器と脱揮槽とからなる脱揮装置を用いる場合の反応処理温度は、好ましくは150〜350℃、より好ましくは200〜300℃である。反応処理温度が150℃未満であると、環化縮合反応が不充分となって残存揮発分が多くなることがある。逆に、反応処理温度が350℃を超えると、得られた重合体の着色や分解が起こることがある。   The reaction treatment temperature in the case of using a devolatilizer comprising a heat exchanger and a devolatilizer is preferably 150 to 350 ° C, more preferably 200 to 300 ° C. If the reaction treatment temperature is less than 150 ° C., the cyclization condensation reaction may be insufficient and the residual volatile matter may increase. Conversely, when the reaction treatment temperature exceeds 350 ° C., the obtained polymer may be colored or decomposed.

熱交換器と脱揮槽とからなる脱揮装置を用いる場合の反応処理圧力は、好ましくは931〜1.33hPa(700〜1mmHg)、より好ましくは798〜66.5hPa(600〜50mmHg)である。反応処理圧力が931hPa(700mmHg)を超えると、アルコールを含めた揮発分が残存しやすいことがある。逆に、反応処理圧力が1.33hPa(1mmHg)未満であると、工業的な実施が困難になることがある。   The reaction treatment pressure when using a devolatilizer comprising a heat exchanger and a devolatilizer is preferably 931 to 1.33 hPa (700 to 1 mmHg), more preferably 798 to 66.5 hPa (600 to 50 mmHg). . When the reaction treatment pressure exceeds 931 hPa (700 mmHg), volatile components including alcohol may easily remain. Conversely, if the reaction treatment pressure is less than 1.33 hPa (1 mmHg), industrial implementation may be difficult.

ベント付き押出機を用いる場合、ベントは1個でも複数個でもいずれでもよいが、複数個のベントを有する方が好ましい。   When using an extruder with a vent, one or a plurality of vents may be used, but it is preferable to have a plurality of vents.

ベント付き押出機を用いる場合の反応処理温度は、好ましくは150〜350℃、より好ましくは200〜300℃である。反応処理温度が150℃未満であると、環化縮合反応が不充分となって残存揮発分が多くなることがある。逆に、反応処理温度が350℃を超えると、得られた重合体の着色や分解が起こることがある。   The reaction treatment temperature when using an extruder with a vent is preferably 150 to 350 ° C, more preferably 200 to 300 ° C. If the reaction treatment temperature is less than 150 ° C., the cyclization condensation reaction may be insufficient and the residual volatile matter may increase. Conversely, when the reaction treatment temperature exceeds 350 ° C., the obtained polymer may be colored or decomposed.

ベント付き押出機を用いる場合の反応処理圧力は、好ましくは931〜1.33hPa(700〜1mmHg)、より好ましくは798〜13.3hPa(600〜10mmHg)である。反応処理圧力が931hPa(700mmHg)を超えると、アルコールを含めた揮発分が残存しやすいことがある。逆に、反応処理圧力が1.33hPa(1mmHg)未満であると、工業的な実施が困難になることがある。   The reaction processing pressure when using an extruder with a vent is preferably 931 to 1.33 hPa (700 to 1 mmHg), more preferably 798 to 13.3 hPa (600 to 10 mmHg). When the reaction treatment pressure exceeds 931 hPa (700 mmHg), volatile components including alcohol may easily remain. Conversely, if the reaction treatment pressure is less than 1.33 hPa (1 mmHg), industrial implementation may be difficult.

なお、環化縮合反応の全体を通じて脱揮工程を併用する形態の場合、後述するように、厳しい熱処理条件では得られるラクトン環含有重合体の物性が劣化することがあるので、前述した脱アルコール反応の触媒を用い、できるだけ温和な条件で、ベント付き押出機などを用いて行うことが好ましい。   In the case of a form in which a devolatilization step is used throughout the cyclization condensation reaction, the physical properties of the lactone ring-containing polymer obtained may deteriorate under severe heat treatment conditions, as will be described later. It is preferable to carry out by using an extruder with a vent etc. on the conditions as mild as possible.

また、環化縮合反応の全体を通じて脱揮工程を併用する形態の場合、好ましくは、重合工程で得られた重合体(a)を溶剤と共に環化縮合反応装置に導入するが、この場合、必要に応じて、もう一度ベント付き押出機などの環化縮合反応装置に通してもよい。   In the case where the devolatilization step is used in combination throughout the cyclization condensation reaction, the polymer (a) obtained in the polymerization step is preferably introduced into the cyclization condensation reaction device together with a solvent. Depending on the situation, it may be passed once again through a cyclocondensation reaction apparatus such as a vented extruder.

脱揮工程を環化縮合反応の過程全体にわたっては併用せずに、過程の一部においてのみ併用する形態を行ってもよい。例えば、重合体(a)を製造した装置を、さらに加熱し、必要に応じて脱揮工程を一部併用して、環化縮合反応を予めある程度進行させておき、その後に引き続いて脱揮工程を同時に併用した環化縮合反応を行い、反応を完結させる形態である。   You may perform the form used together only in a part of process, without using a devolatilization process over the whole process of cyclization condensation reaction. For example, the apparatus for producing the polymer (a) is further heated, and if necessary, a part of the devolatilization step is used together to advance the cyclization condensation reaction to some extent in advance, followed by the devolatilization step. Is a form in which a cyclization condensation reaction is simultaneously used to complete the reaction.

先に述べた環化縮合反応の全体を通じて脱揮工程を併用する形態では、例えば、重合体(a)を、二軸押出機を用いて、250℃付近、あるいはそれ以上の高温で熱処理する時に、熱履歴の違いにより環化縮合反応が起こる前に一部分解などが生じ、得られるラクトン環含有重合体の物性が劣化することがある。そこで、脱揮工程を同時に併用した環化縮合反応を行う前に、予め環化縮合反応をある程度進行させておくと、後半の反応条件を緩和でき、得られるラクトン環含有重合体の物性の劣化を抑制できるので好ましい。特に好ましい形態としては、例えば、脱揮工程を環化縮合反応の開始から時間をおいて開始する形態、すなわち、重合工程で得られた重合体(a)の分子鎖中に存在するヒドロキシ基とエステル基とを予め環化縮合反応させて環化縮合反応率をある程度上げておき、引き続き、脱揮工程を同時に併用した環化縮合反応を行う形態が挙げられる。具体的には、例えば、予め釜型反応器を用いて溶剤の存在下で環化縮合反応をある程度の反応率まで進行させておき、その後、脱揮装置を備えた反応器、例えば、熱交換器と脱揮槽とからなる脱揮装置や、ベント付き押出機などで、環化縮合反応を完結させる形態が好ましく挙げられる。特に、この形態の場合、環化縮合反応用の触媒が存在していることがより好ましい。   In the form of using the devolatilization step throughout the cyclization condensation reaction described above, for example, when the polymer (a) is heat-treated at a high temperature of about 250 ° C. or higher using a twin-screw extruder. Depending on the thermal history, partial decomposition or the like may occur before the cyclization condensation reaction occurs, and the physical properties of the resulting lactone ring-containing polymer may deteriorate. Therefore, if the cyclization condensation reaction is allowed to proceed to some extent before the cyclization condensation reaction using the devolatilization process at the same time, the latter reaction conditions can be relaxed, and the physical properties of the resulting lactone ring-containing polymer deteriorated. Is preferable. As a particularly preferred form, for example, a form in which the devolatilization step is started after a lapse of time from the start of the cyclization condensation reaction, that is, a hydroxy group present in the molecular chain of the polymer (a) obtained in the polymerization step A form in which an ester group is preliminarily subjected to a cyclization condensation reaction to increase the cyclization condensation reaction rate to some extent and then a cyclization condensation reaction using a devolatilization step simultaneously is performed. Specifically, for example, a cyclization condensation reaction is allowed to proceed to a certain reaction rate in the presence of a solvent in advance using a kettle reactor, and then a reactor equipped with a devolatilizer, for example, heat exchange Preferred is a mode in which the cyclization condensation reaction is completed with a devolatilizer comprising a vessel and a devolatilization tank, an extruder with a vent, or the like. In particular, in the case of this form, it is more preferable that a catalyst for the cyclization condensation reaction is present.

前述したように、重合工程で得られた重合体(a)の分子鎖中に存在するヒドロキシ基とエステル基とを予め環化縮合反応させて環化縮合反応率をある程度上げておき、引き続き、脱揮工程を同時に併用した環化縮合反応を行う方法は、本発明においてラクトン環含有重合体を得る上で好ましい形態である。この形態により、ガラス転移温度がより高く、環化縮合反応率もより高まり、耐熱性に優れたラクトン環含有重合体が得られる。   As described above, the hydroxy group and the ester group present in the molecular chain of the polymer (a) obtained in the polymerization step are preliminarily subjected to a cyclization condensation reaction to increase the cyclization condensation reaction rate to some extent, The method of carrying out the cyclization condensation reaction using the devolatilization step at the same time is a preferred mode for obtaining a lactone ring-containing polymer in the present invention. With this form, a lactone ring-containing polymer having a higher glass transition temperature, a higher cyclization condensation reaction rate, and excellent heat resistance can be obtained.

脱揮工程を同時に併用した環化縮合反応の前に予め行う環化縮合反応の際に採用できる反応器は、特に限定されるものではないが、例えば、オートクレーブ、釜型反応器、熱交換器と脱揮槽とからなる脱揮装置などが挙げられ、さらに、脱揮工程を同時に併用した環化縮合反応に好適なベント付き押出機も使用可能である。これらの反応器のうち、オートクレーブ、釜型反応器が特に好ましい。しかし、ベント付き押出機などの反応器を用いる場合でも、ベント条件を温和にしたり、ベントをさせなかったり、温度条件やバレル条件、スクリュー形状、スクリュー運転条件などを調整することにより、オートクレーブや釜型反応器での反応状態と同じ様な状態で環化縮合反応を行うことが可能である。   The reactor that can be employed in the cyclization condensation reaction performed in advance before the cyclization condensation reaction using the devolatilization process at the same time is not particularly limited. For example, an autoclave, a kettle reactor, a heat exchanger And a devolatilizer comprising a devolatilization tank, and a vented extruder suitable for a cyclization condensation reaction using a devolatilization step at the same time can also be used. Of these reactors, an autoclave and a kettle reactor are particularly preferable. However, even when a reactor such as an extruder with a vent is used, the autoclave or kettle can be adjusted by adjusting the temperature conditions, barrel conditions, screw shape, screw operating conditions, etc. It is possible to carry out the cyclization condensation reaction in the same state as the reaction state in the type reactor.

脱揮工程を同時に併用した環化縮合反応の前に予め行う環化縮合反応の際には、例えば、重合工程で得られた重合体(a)と溶剤とを含む混合物を、(i)触媒を添加して、加熱反応させる方法、(ii)無触媒で加熱反応させる方法、および、前記(i)または(ii)を加圧下で行う方法などが挙げられる。   In the case of the cyclization condensation reaction carried out in advance before the cyclization condensation reaction using the devolatilization step at the same time, for example, a mixture containing the polymer (a) and the solvent obtained in the polymerization step is used as (i) a catalyst. And (ii) a method of performing a heat reaction without a catalyst, a method of performing the above (i) or (ii) under pressure, and the like.

なお、ラクトン環化縮合工程において環化縮合反応に導入する「重合体(a)と溶剤とを含む混合物」とは、重合工程で得られた重合反応混合物それ自体、あるいは、いったん溶剤を除去した後に環化縮合反応に適した溶剤を再添加して得られた混合物を意味する。   The “mixture containing the polymer (a) and the solvent” introduced into the cyclization condensation reaction in the lactone cyclization condensation step refers to the polymerization reaction mixture obtained in the polymerization step itself or once the solvent is removed. It means a mixture obtained by re-adding a solvent suitable for the cyclization condensation reaction later.

脱揮工程を同時に併用した環化縮合反応の前に予め行う環化縮合反応の際に再添加できる溶剤としては、特に限定されるものではなく、例えば、トルエン、キシレン、エチルベンゼンなどの芳香族炭化水素類;メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン類;クロロホルム、ジメチルスルホキシド、テトラヒドロフラン;などが挙げられる。これらの溶媒は、単独で用いても2種以上を併用してもよい。重合工程に用いた溶剤と同じ種類の溶剤を用いることが好ましい。   The solvent that can be re-added in the cyclization condensation reaction that is carried out in advance before the cyclization condensation reaction using the devolatilization step at the same time is not particularly limited. For example, aromatic carbonization such as toluene, xylene, ethylbenzene, etc. Hydrogens; ketones such as methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone; chloroform, dimethyl sulfoxide, tetrahydrofuran; and the like. These solvents may be used alone or in combination of two or more. It is preferable to use the same type of solvent as that used in the polymerization step.

方法(i)で添加する触媒としては、例えば、一般に使用されるp−トルエンスルホン酸などのエステル化触媒またはエステル交換触媒、塩基性化合物、有機カルボン酸塩、炭酸塩などが挙げられるが、本発明においては、前述の有機リン化合物を用いることが好ましい。触媒の添加時期は、特に限定されるものではないが、例えば、反応初期に添加してもよいし、反応途中に添加してもよいし、それらの両方で添加してもよい。触媒の添加量は、特に限定されるものではないが、例えば、重合体(a)の質量に対して、好ましくは0.001〜5質量%、より好ましくは0.01〜2.5質量%、さらに好ましくは0.01〜1質量%、特に好ましくは0.05〜0.5質量%である。方法(i)の加熱温度や加熱時間は、特に限定されるものではないが、例えば、加熱温度は、好ましくは室温〜180℃、より好ましくは50〜150℃であり、加熱時間は、好ましくは1〜20時間、より好ましくは2〜10時間である。加熱温度が室温未満であるか、あるいは、加熱時間が1時間未満であると、環化縮合反応率が低下することがある。逆に、加熱温度180℃を超えるか、あるいは、加熱時間が20時間を超えると、樹脂の着色や分解が起こることがある。   Examples of the catalyst to be added in the method (i) include commonly used esterification catalysts such as p-toluenesulfonic acid or transesterification catalysts, basic compounds, organic carboxylates, and carbonates. In the invention, it is preferable to use the aforementioned organophosphorus compound. The addition timing of the catalyst is not particularly limited. For example, the catalyst may be added at the beginning of the reaction, may be added during the reaction, or may be added in both of them. The addition amount of the catalyst is not particularly limited, but for example, is preferably 0.001 to 5% by mass, more preferably 0.01 to 2.5% by mass with respect to the mass of the polymer (a). More preferably, it is 0.01-1 mass%, Most preferably, it is 0.05-0.5 mass%. Although the heating temperature and heating time of method (i) are not particularly limited, for example, the heating temperature is preferably room temperature to 180 ° C., more preferably 50 to 150 ° C., and the heating time is preferably 1 to 20 hours, more preferably 2 to 10 hours. If the heating temperature is less than room temperature or the heating time is less than 1 hour, the cyclization condensation reaction rate may be lowered. Conversely, if the heating temperature exceeds 180 ° C. or the heating time exceeds 20 hours, the resin may be colored or decomposed.

方法(ii)は、例えば、耐圧性の釜型反応器などを用いて、重合工程で得られた重合反応混合物をそのまま加熱すればよい。方法(ii)の加熱温度や加熱時間は、特に限定されるものではないが、例えば、加熱温度は、好ましくは100〜180℃、より好ましくは100〜150℃であり、加熱時間は、好ましくは1〜20時間、より好ましくは2〜10時間である。加熱温度が100℃未満であるか、あるいは、加熱時間が1時間未満であると、環化縮合反応率が低下することがある。逆に、加熱温度が180℃を超えるか、あるいは加熱時間が20時間を超えると、樹脂の着色や分解が起こることがある。   In the method (ii), for example, the polymerization reaction mixture obtained in the polymerization step may be heated as it is using a pressure-resistant kettle reactor or the like. Although the heating temperature and heating time of method (ii) are not particularly limited, for example, the heating temperature is preferably 100 to 180 ° C, more preferably 100 to 150 ° C, and the heating time is preferably 1 to 20 hours, more preferably 2 to 10 hours. When the heating temperature is less than 100 ° C. or the heating time is less than 1 hour, the cyclization condensation reaction rate may be lowered. Conversely, if the heating temperature exceeds 180 ° C. or the heating time exceeds 20 hours, the resin may be colored or decomposed.

いずれの方法においても、条件によっては、加圧下となっても何ら問題はない。   In any method, there is no problem even under pressure depending on conditions.

脱揮工程を同時に併用した環化縮合反応の前に予め行う環化縮合反応の際には、溶剤の一部が反応中に自然に揮発しても何ら問題ではない。   In the case of the cyclization condensation reaction performed in advance before the cyclization condensation reaction using the devolatilization step at the same time, there is no problem even if part of the solvent volatilizes spontaneously during the reaction.

脱揮工程を同時に併用した環化縮合反応の前に予め行う環化縮合反応の終了時、すなわち、脱揮工程開始直前における、ダイナミックTG測定における150〜300℃の範囲内における質量減少率は、好ましくは2%以下、より好ましくは1.5%以下、さらに好ましくは1%以下である。質量減少率が2%を超えると、続けて脱揮工程を同時に併用した環化縮合反応を行っても、環化縮合反応率が充分高いレベルまで上がらず、得られるラクトン環含有重合体の物性が劣化することがある。なお、上記の環化縮合反応を行う際に、重合体(a)に加えて、他の熱可塑性樹脂を共存させてもよい。   The mass reduction rate within the range of 150 to 300 ° C. in the dynamic TG measurement at the end of the cyclization condensation reaction performed in advance before the cyclization condensation reaction simultaneously used in combination with the devolatilization step, that is, immediately before the start of the devolatilization step is Preferably it is 2% or less, More preferably, it is 1.5% or less, More preferably, it is 1% or less. When the mass reduction rate exceeds 2%, the cyclization condensation reaction rate does not rise to a sufficiently high level even if the cyclization condensation reaction is performed simultaneously with the devolatilization step, and the physical properties of the resulting lactone ring-containing polymer. May deteriorate. In addition, when performing said cyclization condensation reaction, in addition to a polymer (a), you may coexist other thermoplastic resins.

重合工程で得られた重合体(a)の分子鎖中に存在するヒドロキシ基とエステル基とを予め環化縮合反応させて環化縮合反応率をある程度上げておき、引き続き、脱揮工程を同時に併用した環化縮合反応を行う形態の場合、予め行う環化縮合反応で得られた重合体(分子鎖中に存在するヒドロキシ基とエステル基との少なくとも一部が環化縮合反応した重合体)と溶剤を、そのまま脱揮工程を同時に併用した環化縮合反応に導入してもよいし、必要に応じて、前記重合体(分子鎖中に存在するヒドロキシ基とエステル基との少なくとも一部が環化縮合反応した重合体)を単離してから溶剤を再添加するなどのその他の処理を経てから脱揮工程を同時に併用した環化縮合反応に導入しても構わない。   The hydroxy group and the ester group present in the molecular chain of the polymer (a) obtained in the polymerization step are preliminarily subjected to a cyclization condensation reaction to increase the cyclization condensation reaction rate to some extent. In the case of a form in which a combined cyclization condensation reaction is carried out, a polymer obtained by a cyclization condensation reaction carried out in advance (a polymer in which at least a part of a hydroxy group and an ester group present in a molecular chain is subjected to a cyclization condensation reaction) And the solvent may be introduced into the cyclization condensation reaction using the devolatilization step at the same time, and if necessary, the polymer (at least a part of the hydroxy group and ester group present in the molecular chain is present). It may be introduced into a cyclization condensation reaction in which a devolatilization step is used at the same time after other treatments such as re-addition of a solvent after the cyclization condensation reaction polymer is isolated.

脱揮工程は、環化縮合反応と同時に終了することには限らず、環化縮合反応の終了から時間をおいて終了しても構わない。   The devolatilization step is not limited to being completed at the same time as the cyclization condensation reaction, and may be completed after a lapse of time from the completion of the cyclization condensation reaction.

ラクトン環含有重合体の重量平均分子量は、好ましくは1,000〜2,000,000、より好ましくは5,000〜1,000,000、さらに好ましくは10,000〜500,000、特に好ましくは50,000〜500,000である。   The weight average molecular weight of the lactone ring-containing polymer is preferably 1,000 to 2,000,000, more preferably 5,000 to 1,000,000, still more preferably 10,000 to 500,000, particularly preferably. 50,000 to 500,000.

ラクトン環含有重合体は、ダイナミックTG測定における150〜300℃の範囲内における質量減少率が好ましくは1%以下、より好ましくは0.5%以下、さらに好ましくは0.3%以下である。   The lactone ring-containing polymer preferably has a mass reduction rate in the range of 150 to 300 ° C. in dynamic TG measurement of 1% or less, more preferably 0.5% or less, and still more preferably 0.3% or less.

ラクトン環含有重合体は、環化縮合反応率が高いので、成形後の成形品中に泡やシルバーストリークが入るという欠点が回避できる。さらに、高い環化縮合反応率によってラクトン環構造が重合体に充分に導入されるので、得られたラクトン環含有重合体が充分に高い耐熱性を有している。   Since the lactone ring-containing polymer has a high cyclization condensation reaction rate, it is possible to avoid the disadvantage that bubbles and silver streaks enter the molded product after molding. Furthermore, since the lactone ring structure is sufficiently introduced into the polymer due to the high cyclization condensation reaction rate, the obtained lactone ring-containing polymer has sufficiently high heat resistance.

ラクトン環含有重合体は、濃度15質量%のクロロホルム溶液にした場合、その着色度(YI)が、好ましくは6以下、より好ましくは3以下、さらに好ましくは2以下、特に好ましくは1以下である。着色度(YI)が6を超えると、着色により透明性が損なわれ、本来目的とする用途に使用できないことがある。   The lactone ring-containing polymer has a coloring degree (YI) of preferably 6 or less, more preferably 3 or less, still more preferably 2 or less, and particularly preferably 1 or less when a chloroform solution having a concentration of 15% by mass is used. . If the degree of coloring (YI) exceeds 6, transparency may be impaired by coloring, and it may not be used for the intended purpose.

ラクトン環含有重合体は、熱質量分析(TG)における5%質量減少温度が、好ましくは330℃以上、より好ましくは350℃以上、さらに好ましくは360℃以上である。熱質量分析(TG)における5%質量減少温度は、熱安定性の指標であり、これが330℃未満であると、充分な熱安定性を発揮できないことがある。   The lactone ring-containing polymer has a 5% mass reduction temperature in thermal mass spectrometry (TG) of preferably 330 ° C. or higher, more preferably 350 ° C. or higher, and still more preferably 360 ° C. or higher. The 5% mass reduction temperature in thermal mass spectrometry (TG) is an index of thermal stability, and if it is less than 330 ° C., sufficient thermal stability may not be exhibited.

本発明に係るラクトン環含有重合体は、ガラス転移温度(Tg)が、好ましくは115℃以上、より好ましくは125℃以上、さらに好ましくは130℃以上、特に好ましくは140℃以上である。なお、可撓性の点からは、200℃以下であるのが好ましい。より好ましくは170℃以下である。ガラス転移温度が高すぎる場合には、フィルム成形が困難になる場合がある。   The lactone ring-containing polymer according to the present invention has a glass transition temperature (Tg) of preferably 115 ° C. or higher, more preferably 125 ° C. or higher, still more preferably 130 ° C. or higher, and particularly preferably 140 ° C. or higher. In addition, it is preferable that it is 200 degrees C or less from a flexible point. More preferably, it is 170 degrees C or less. If the glass transition temperature is too high, film formation may be difficult.

ラクトン環含有重合体は、それに含まれる残存揮発分の総量が、好ましくは1,500ppm以下、より好ましくは1,000ppm以下である。残存揮発分の総量が1,500ppmを超えると、成形時の変質などによって着色したり、発泡したり、シルバーストリークなどの成形不良の原因となる。   The total amount of residual volatile components contained in the lactone ring-containing polymer is preferably 1,500 ppm or less, more preferably 1,000 ppm or less. If the total amount of residual volatile components exceeds 1,500 ppm, it may be colored due to alteration during molding, foaming, or molding defects such as silver streak.

<ラクトン環含有重合体を主成分とする基材フィルム>
本発明に係る透明導電性フィルムに使用される基材フィルムは、上述のラクトン環含有重合体を主成分として含むものであるのが好ましい。
<Base film with lactone ring-containing polymer as main component>
It is preferable that the base film used for the transparent conductive film according to the present invention contains the above-mentioned lactone ring-containing polymer as a main component.

基材フィルムにおけるラクトン環含有重合体の含有割合は、好ましくは50〜100質量%、より好ましくは60〜100質量%、さらに好ましくは70〜100質量%、特に好ましくは80〜100質量%である。基材フィルム中のラクトン環含有重合体の含有割合が50質量%未満であると、本発明の効果を充分に発揮できないことがある。   The content ratio of the lactone ring-containing polymer in the base film is preferably 50 to 100% by mass, more preferably 60 to 100% by mass, still more preferably 70 to 100% by mass, and particularly preferably 80 to 100% by mass. . When the content ratio of the lactone ring-containing polymer in the base film is less than 50% by mass, the effects of the present invention may not be sufficiently exhibited.

ラクトン環含有重合体を主成分とする基材フィルムには、その他の成分として、ラクトン環含有重合体以外の重合体(以下「その他の重合体」ということがある。)を含有していてもよい。その他の重合体としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン共重合体、ポリ(4−メチル−1−ペンテン)などのオレフィン系重合体;塩化ビニル、塩化ビニリデン、塩素化ビニル樹脂などのハロゲン化ビニル系重合体;ポリメタクリル酸メチルなどのアクリル系重合体;ポリスチレン、スチレン−メタクリル酸メチル共重合体、スチレン−アクリロニトリル共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレンブロック共重合体などのスチレン系重合体;ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル;ナイロン6、ナイロン66、ナイロン610などのポリアミド;ポリアセタール;ポリカーボネート;ポリフェニレンオキシド;ポリフェニレンスルフィド;ポリエーテルエーテルケトン;ポリスルホン;ポリエーテルスルホン;ポリオキシベンジレン;ポリアミドイミド;ポリブタジエン系ゴム、アクリル系ゴムを配合したABS樹脂やASA樹脂などのゴム質重合体;などが挙げられる。   The base film containing the lactone ring-containing polymer as a main component may contain a polymer other than the lactone ring-containing polymer (hereinafter sometimes referred to as “other polymer”) as the other component. Good. Examples of other polymers include olefin polymers such as polyethylene, polypropylene, ethylene-propylene copolymer, poly (4-methyl-1-pentene); halogens such as vinyl chloride, vinylidene chloride, and chlorinated vinyl resins. Acrylic polymers such as polymethyl methacrylate; Styrene polymers such as polystyrene, styrene-methyl methacrylate copolymer, styrene-acrylonitrile copolymer, acrylonitrile-butadiene-styrene block copolymer Polyesters such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate and polyethylene naphthalate; polyamides such as nylon 6, nylon 66 and nylon 610; polyacetal; polycarbonate; polyphenylene oxide; Sulfides; polyetheretherketone; polysulfones; polyethersulfones; polyoxyethylene benzylidene alkylene; polyamideimide; polybutadiene rubber, rubber-like polymer such as ABS resin or ASA resin containing an acrylic rubber; and the like.

なお、ゴム質重合体の平均粒子径は、フィルム状とした際の透明性向上の観点から、100nm以下である事が好ましく、70nm以下である事が更に好ましい。また、ゴム質重合体は、その表面に、本発明で用いるラクトン環構造を有する重合体と相溶し得る組成のグラフト部を有するのが好ましい。   The average particle size of the rubber polymer is preferably 100 nm or less, and more preferably 70 nm or less, from the viewpoint of improving the transparency when it is formed into a film. Further, the rubbery polymer preferably has a graft portion on the surface thereof having a composition compatible with the polymer having a lactone ring structure used in the present invention.

上記他の重合体の中でも、ラクトン環構造を有する重合体(あるいはラクトン環構造を有する共重合体)と熱力学的に相溶する重合体は、得られる樹脂フィルムの透明性や機械強度を低下させ難いため好ましい。なお、ラクトン環構造を有する重合体(あるいは共重合体)とその他の重合体とが熱力学的に相溶することは、これらを混合して得られた樹脂組成物のTgを示差走査熱量測定器などで測定した場合に、観測されるTgが1点であることにより確認できる。   Among the other polymers mentioned above, polymers that are thermodynamically compatible with a polymer having a lactone ring structure (or a copolymer having a lactone ring structure) reduce the transparency and mechanical strength of the resulting resin film. It is preferable because it is difficult to make it. Note that the polymer (or copolymer) having a lactone ring structure and other polymers are thermodynamically compatible with each other because the Tg of the resin composition obtained by mixing them is differential scanning calorimetry. This can be confirmed by the fact that the observed Tg is one point when measured with a measuring instrument.

基材フィルムにおけるその他の重合体の含有割合は、好ましくは0〜50質量%、より好ましくは0〜40質量%、さらに好ましくは0〜30質量%、特に好ましくは0〜20質量%である。   The content ratio of the other polymer in the base film is preferably 0 to 50% by mass, more preferably 0 to 40% by mass, further preferably 0 to 30% by mass, and particularly preferably 0 to 20% by mass.

ラクトン環含有重合体を主成分とする基材フィルムは、種々の添加剤を含有していてもよい。添加剤としては、例えば、ヒンダードフェノール系、リン系、イオウ系などの酸化防止剤;耐光安定剤、耐候安定剤、熱安定剤などの安定剤;ガラス繊維、炭素繊維などの補強材;フェニルサリチレート、(2,2’−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−ヒドロキシベンゾフェノンなどの紫外線吸収剤;近赤外線吸収剤;トリス(ジブロモプロピル)ホスフェート、トリアリルホスフェート、酸化アンチモンなどの難燃剤;アニオン系、カチオン系、ノニオン系の界面活性剤などの帯電防止剤;無機顔料、有機顔料、染料などの着色剤;有機フィラーや無機フィラー;樹脂改質剤;有機充填剤や無機充填剤;可塑剤;滑剤;帯電防止剤;難燃剤;などが挙げられる。   The base film mainly composed of a lactone ring-containing polymer may contain various additives. Examples of additives include antioxidants such as hindered phenols, phosphorus, and sulfur; stabilizers such as light stabilizers, weather stabilizers, and heat stabilizers; reinforcing materials such as glass fibers and carbon fibers; phenyls UV absorbers such as salicylate, (2,2′-hydroxy-5-methylphenyl) benzotriazole, 2-hydroxybenzophenone; near infrared absorbers; tris (dibromopropyl) phosphate, triallyl phosphate, antimony oxide, etc. Flame retardants; Antistatic agents such as anionic, cationic and nonionic surfactants; Colorants such as inorganic pigments, organic pigments and dyes; Organic fillers and inorganic fillers; Resin modifiers; Organic fillers and inorganic fillers Agents, plasticizers, lubricants, antistatic agents, flame retardants, and the like.

ラクトン環含有重合体を主成分とする基材フィルム中における添加剤の含有割合は、好ましくは0〜5質量%、より好ましくは0〜2質量%、さらに好ましくは0〜0.5質量%である。   The content of the additive in the base film mainly composed of a lactone ring-containing polymer is preferably 0 to 5% by mass, more preferably 0 to 2% by mass, and still more preferably 0 to 0.5% by mass. is there.

ラクトン環含有重合体を主成分とする基材フィルムの製造方法としては、特に限定されるものではないが、例えば、ラクトン環含有重合体と、必要により、その他の重合体や添加剤などを、従来公知の混合方法で充分に混合し、予め熱可塑性樹脂組成物としてから、これをフィルム成形する方法;ラクトン環含有重合体と、その他の重合体や添加剤などを溶媒にそれぞれ溶解あるいは分散させた後、これらを混合して均一な混合液とし、フィルム状に成形する方法などが挙げられる。また、上述のようにして得られた未延伸フィルムを延伸することによって延伸フィルムとしてもよい。   The method for producing a base film mainly composed of a lactone ring-containing polymer is not particularly limited. For example, a lactone ring-containing polymer and, if necessary, other polymers and additives, A method of forming a thermoplastic resin composition in advance by mixing it well by a conventionally known mixing method, and then forming this into a film; dissolving or dispersing a lactone ring-containing polymer and other polymers and additives in a solvent, respectively. Thereafter, these are mixed to obtain a uniform mixed solution, which is then formed into a film. Moreover, it is good also as a stretched film by extending | stretching the unstretched film obtained as mentioned above.

なお、熱可塑性樹脂組成物を製造するには、例えば、オムニミキサーなど、従来公知の混合機で上記のフィルム原料をプレブレンドした後、得られた混合物を押出混練すればよい。この場合、押出混練に用いる混合機は、特に限定されるものではなく、例えば、単軸押出機、二軸押出機などの押出機や加圧ニーダーなど、従来公知の混合機を用いることができる。   In order to produce the thermoplastic resin composition, for example, the above-mentioned film raw material is pre-blended with a conventionally known mixer such as an omni mixer, and then the obtained mixture is extruded and kneaded. In this case, the mixer used for extrusion kneading is not particularly limited. For example, a conventionally known mixer such as an extruder such as a single screw extruder or a twin screw extruder or a pressure kneader can be used. .

具体的なフィルム成形の方法としては、例えば、溶液キャスト法(溶液流延法)、溶融押出法、カレンダー法、圧縮成形法など、従来公知のフィルム成形法が挙げられる。これらのフィルム成形法のうち、溶液キャスト法(溶液流延法)、溶融押出法が好ましい。   Specific examples of the film forming method include conventionally known film forming methods such as a solution casting method (solution casting method), a melt extrusion method, a calendar method, and a compression molding method. Among these film forming methods, the solution casting method (solution casting method) and the melt extrusion method are preferable.

溶液キャスト法(溶液流延法)に用いられる溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類;シクロヘキサン、デカリンなどの脂肪族炭化水素類;酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル類;アセトン、メチルエチエルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン類;メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、イソブタノール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブなどのアルコール類;テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル類;ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素などのハロゲン化炭化水素類;ジメチルホルムアミド;ジメチルスルホキシド;などが挙げられる。これらの溶媒は、単独で用いても2種以上を併用してもよい。   Examples of the solvent used in the solution casting method (solution casting method) include aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene; aliphatic hydrocarbons such as cyclohexane and decalin; esters such as ethyl acetate and butyl acetate Ketones such as acetone, methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone; alcohols such as methanol, ethanol, isopropanol, butanol, isobutanol, methyl cellosolve, ethyl cellosolve and butyl cellosolve; ethers such as tetrahydrofuran and dioxane; dichloromethane, Halogenated hydrocarbons such as chloroform and carbon tetrachloride; dimethylformamide; dimethyl sulfoxide; These solvents may be used alone or in combination of two or more.

溶液キャスト法(溶液流延法)を行うための装置としては、例えば、ドラム式キャスティングマシン、バンド式キャスティングマシン、スピンコーターなどが挙げられる。   Examples of the apparatus for performing the solution casting method (solution casting method) include a drum casting machine, a band casting machine, and a spin coater.

溶融押出法としては、例えば、Tダイ法、インフレーション法などが挙げられ、その際の成形温度は、好ましくは150〜350℃、より好ましくは200〜300℃である。   Examples of the melt extrusion method include a T-die method and an inflation method, and the molding temperature at that time is preferably 150 to 350 ° C., more preferably 200 to 300 ° C.

Tダイ法でフィルム成形する場合は、公知の単軸押出機や二軸押出機の先端部にTダイを取り付け、フィルム状に押出されたフィルムを巻取って、ロール状のフィルムを得ることができる。この際、巻取りロールの温度を適宜調整して、押出方向に延伸を加えることで、1軸延伸することも可能である。また、押出方向と垂直な方向にフィルムを延伸することにより、同時2軸延伸、逐次2軸延伸などを行うこともできる。   When forming a film by the T-die method, a roll-shaped film can be obtained by attaching a T-die to the tip of a known single-screw extruder or twin-screw extruder and winding the film extruded into a film. it can. At this time, it is possible to perform uniaxial stretching by appropriately adjusting the temperature of the winding roll and adding stretching in the extrusion direction. Further, simultaneous biaxial stretching, sequential biaxial stretching, and the like can be performed by stretching the film in a direction perpendicular to the extrusion direction.

ラクトン環含有重合体を主成分とする基材フィルムは、未延伸フィルムまたは延伸フィルムのいずれでもよい。延伸フィルムである場合は、1軸延伸フィルムまたは2軸延伸フィルムのいずれでもよい。2軸延伸フィルムである場合は、同時2軸延伸フィルムまたは逐次2軸延伸フィルムのいずれでもよい。2軸延伸した場合は、機械的強度が向上し、フィルム性能が向上する。ラクトン環含有重合体を主成分とする基材フィルムは、その他の熱可塑性樹脂を混合することにより、延伸しても位相差の増大を抑制することができ、光学的等方性を保持することができる。   The base film mainly composed of the lactone ring-containing polymer may be either an unstretched film or a stretched film. In the case of a stretched film, either a uniaxially stretched film or a biaxially stretched film may be used. In the case of a biaxially stretched film, either a simultaneous biaxially stretched film or a sequential biaxially stretched film may be used. In the case of biaxial stretching, the mechanical strength is improved and the film performance is improved. A base film mainly composed of a lactone ring-containing polymer can suppress an increase in retardation even when stretched by mixing other thermoplastic resins, and retain optical isotropy. Can do.

延伸温度は、フィルム原料である熱可塑性樹脂組成物のガラス転移温度近傍であることが好ましく、具体的には、好ましくは(ガラス転移温度−30℃)〜(ガラス転移温度+100℃)、より好ましくは(ガラス転移温度−20℃)〜(ガラス転移温度+80℃)の範囲内である。延伸温度が(ガラス転移温度−30℃)未満であると、充分な延伸倍率が得られないことがある。逆に、延伸温度が(ガラス転移温度+100℃)を超えると、樹脂組成物の流動(フロー)が起こり、安定した延伸が行えなくなることがある。   The stretching temperature is preferably in the vicinity of the glass transition temperature of the thermoplastic resin composition that is the film raw material, and specifically, preferably (glass transition temperature-30 ° C) to (glass transition temperature + 100 ° C), more preferably. Is within the range of (glass transition temperature−20 ° C.) to (glass transition temperature + 80 ° C.). If the stretching temperature is less than (glass transition temperature-30 ° C.), a sufficient stretching ratio may not be obtained. Conversely, when the stretching temperature exceeds (glass transition temperature + 100 ° C.), the resin composition may flow, and stable stretching may not be performed.

面積比で定義した延伸倍率は、好ましくは1.1〜25倍、より好ましくは1.3〜10倍の範囲内である。延伸倍率が1.1倍未満であると、延伸に伴う靭性の向上につながらないことがある。逆に、延伸倍率が25倍を超えると、延伸倍率を上げるだけの効果が認められないことがある。   The draw ratio defined by the area ratio is preferably in the range of 1.1 to 25 times, more preferably 1.3 to 10 times. If the draw ratio is less than 1.1 times, the toughness accompanying the drawing may not be improved. On the other hand, when the draw ratio exceeds 25 times, the effect of increasing the draw ratio may not be recognized.

延伸速度は、一方向で、好ましくは10〜20,000%/min、より好ましく100〜10,000%/minの範囲内である。延伸速度が10%/min未満であると、充分な延伸倍率を得るために時間がかかり、製造コストが高くなることがある。逆に、延伸速度が20,000%/minを超えると、延伸フィルムの破断などが起こることがある。   The stretching speed is unidirectional, preferably 10 to 20,000% / min, more preferably 100 to 10,000% / min. When the stretching speed is less than 10% / min, it takes time to obtain a sufficient stretching ratio, and the production cost may increase. On the contrary, when the stretching speed exceeds 20,000% / min, the stretched film may be broken.

なお、ラクトン環含有重合体を主成分とするフィルムは、その光学的等方性や機械的特性を安定化させるために、延伸処理後に熱処理(アニーリング)などを行ってもよい。熱処理の条件は、従来公知の延伸フィルムに対して行われる熱処理の条件と同様に適宜選択すればよく、特に限定されるものではない。   In addition, the film containing a lactone ring-containing polymer as a main component may be subjected to a heat treatment (annealing) or the like after the stretching treatment in order to stabilize its optical isotropy and mechanical properties. The conditions for the heat treatment may be appropriately selected similarly to the conditions for the heat treatment performed on a conventionally known stretched film, and are not particularly limited.

ラクトン環含有重合体を主成分とする基材フィルムは、その厚さが好ましくは5〜200μm、より好ましくは10〜100μmである。厚さが5μm未満であると、フィルムの強度が低下する。逆に、厚さが200μmを超えると、フィルムの透明性が低下したり、タッチパネルが厚くなる上、コスト面が問題となる場合がある。   The base film mainly composed of a lactone ring-containing polymer has a thickness of preferably 5 to 200 μm, more preferably 10 to 100 μm. If the thickness is less than 5 μm, the strength of the film decreases. On the other hand, if the thickness exceeds 200 μm, the transparency of the film may be reduced, the touch panel may be thick, and the cost may be a problem.

なお、本発明に係るラクトン環含有重合体を主成分とする基材フィルムは、必要に応じて、例えば、コロナ放電処理、オゾン吹き付け、紫外線照射、火炎処理、化学薬品処理、その他の従来公知の表面処理を施すことができる。   In addition, the base film mainly composed of the lactone ring-containing polymer according to the present invention is, for example, corona discharge treatment, ozone spraying, ultraviolet irradiation, flame treatment, chemical treatment, and other conventionally known ones. Surface treatment can be applied.

本発明に係る基材フィルムは、高透明性を有するものであるが、液晶ディスプレイやフラットパネルディスプレイなどの画像表示装置などと組み合わせて用いるタッチパネルとして用いる観点からは、ASTM−D−1003に準じた方法で測定される可視光線透過率(400〜700nmにおける平均透過率)が、80%以上であるのが好ましく、より好ましくは90%以上、特に好ましくは92%以上である。   Although the base film according to the present invention has high transparency, it conforms to ASTM-D-1003 from the viewpoint of use as a touch panel used in combination with an image display device such as a liquid crystal display or a flat panel display. The visible light transmittance (average transmittance at 400 to 700 nm) measured by the method is preferably 80% or more, more preferably 90% or more, and particularly preferably 92% or more.

本発明に係る基材フィルムは、光弾性係数が−1.0×10-102/N以上、1.0×10-10以下であることが好ましい。より好ましくは−1.0×10-112/N以上、1.0×10-11以下であり、さらに好ましくは−1.0×10-122/N以上、1.0×10-122/N以下である。光弾性係数とは、材料に固有の値であり、応力複屈折の起こりやすさの目安となる。本発明に係る基材フィルムは、各種表示装置などと組み合わせて用いるタッチパネルなどの光学関連の用途に用いることも視野に入れているため、応力複屈折はできるだけ低減されているのが望ましく、光弾性係数は小さいほど好ましい。光弾性係数が10-102/Nより大きい場合には、基材フィルムに負荷をかけた時の位相差が大きくなり、当該基材フィルムを表示装置と組み合わせて用いた場合に、充分な視覚特性が得られ難い場合がある。 The base film according to the present invention preferably has a photoelastic coefficient of −1.0 × 10 −10 m 2 / N or more and 1.0 × 10 −10 or less. More preferably, it is −1.0 × 10 −11 m 2 / N or more and 1.0 × 10 −11 or less, and further preferably −1.0 × 10 −12 m 2 / N or more, 1.0 × 10. -12 m 2 / N or less. The photoelastic coefficient is a value specific to the material and is a measure of the likelihood of stress birefringence. Since the base film according to the present invention is also used for optical applications such as a touch panel used in combination with various display devices, it is desirable that stress birefringence is reduced as much as possible, and photoelasticity The smaller the coefficient, the better. When the photoelastic coefficient is larger than 10 −10 m 2 / N, the phase difference when a load is applied to the base film becomes large, which is sufficient when the base film is used in combination with a display device. Visual characteristics may be difficult to obtain.

なお、応力複屈折とは、応力負荷によって発現する複屈折のことをいい、基材フィルムに応力ひずみが残っている場合や、外力が加えられた場合に発現する。応力複屈折は、以下の式で表される値である。
Δn=C・δ
(上記式中、Δnは応力複屈折、Cは光弾性係数(m2/N)、δは応力(gf)を示す。)
The stress birefringence refers to birefringence that is manifested by stress loading, and is manifested when stress strain remains in the base film or when an external force is applied. The stress birefringence is a value represented by the following formula.
Δn = C · δ
(In the above formula, Δn represents stress birefringence, C represents a photoelastic coefficient (m 2 / N), and δ represents stress (gf).)

また、一般的に、光弾性係数は、エスプリ法で求めることができる。エスプリ法とは、適当なサイズの試験片を引張治具にセットし、複数の応力をかけた際のレタデーションの変化を位相差測定装置で測定し、得られた値を、縦軸:レタデーション、横軸:応力としてプロットし、直線近似したときの傾きとして求めることができる。   In general, the photoelastic coefficient can be obtained by the Esprit method. With the Esprit method, a test piece of an appropriate size is set on a tension jig, the change in retardation when a plurality of stresses are applied is measured with a phase difference measuring device, and the obtained value is expressed as the vertical axis: retardation, Horizontal axis: Plotted as stress and can be obtained as slope when approximated by a straight line.

本発明に係る基材フィルムのガラス転移温度(Tg)は、120℃以上であるのが好ましく、より好ましくは125℃以上、さらに好ましくは130℃以上であり、200℃以下であるのが好ましく、より好ましくは170℃以下である。基材フィルムのガラス転移温度が高すぎる場合には、基材フィルムの可撓性が低下する虞がある。   The glass transition temperature (Tg) of the substrate film according to the present invention is preferably 120 ° C. or higher, more preferably 125 ° C. or higher, more preferably 130 ° C. or higher, and preferably 200 ° C. or lower, More preferably, it is 170 degrees C or less. If the glass transition temperature of the base film is too high, the flexibility of the base film may be reduced.

本発明に係る基材フィルムは、ASTM−D−882−61Tに基づいて測定した引張強度が10MPa以上、300MPa未満であることが好ましく、より好ましくは30MPa以上、250MPa以下である。10MPa未満の場合には、十分な機械的強度を発現できなくなるおそれがあるため好ましくない。300MPaを超えると、加工性が悪くなるため好ましくない。   The base film according to the present invention preferably has a tensile strength measured based on ASTM-D-882-61T of 10 MPa or more and less than 300 MPa, more preferably 30 MPa or more and 250 MPa or less. If it is less than 10 MPa, it is not preferable because sufficient mechanical strength may not be exhibited. When it exceeds 300 MPa, workability is deteriorated, which is not preferable.

さらに、本発明に係る基材フィルムは、面方向の厚さ100μmあたりの位相差が−100nm以上、100nm以下であるのが好ましく、より好ましくは−50nm以上、50nm以下、さらに好ましくは−10nm以上、10nm以下である。面方向の位相差は複屈折の指標であり、本発明に係る基材フィルムは複屈折が低い。面方向の厚さ100μmあたりの位相差が−100nm未満、もしくは100nmを超える場合には、屈折率の異方性が上昇し、低複屈折を要求される用途には使用し難い場合がある。   Further, the base film according to the present invention preferably has a retardation per 100 μm thickness in the plane direction of −100 nm or more and 100 nm or less, more preferably −50 nm or more, 50 nm or less, and further preferably −10 nm or more. 10 nm or less. The retardation in the plane direction is an index of birefringence, and the base film according to the present invention has low birefringence. When the phase difference per 100 μm thickness in the plane direction is less than −100 nm or exceeds 100 nm, the anisotropy of the refractive index increases, which may be difficult to use for applications requiring low birefringence.

本発明に係る基材フィルムは、同一面内における位相差分布が10nm以下であるのが好ましい。より好ましくは5nm以下である。   The base film according to the present invention preferably has a retardation distribution in the same plane of 10 nm or less. More preferably, it is 5 nm or less.

本発明に係る基材フィルムの260℃以下における揮発成分の含有量は3000ppm以下であるのが好ましい。より好ましくは2000ppm以下であり、さらに好ましくは1000ppm以下である。基材フィルムに含まれる揮発成分量が多い場合には、後述する透明導電層を形成する際に、導電性や透明性が均一な透明導電層の形成を妨げることがある。また、発泡し、基材フィルムの透明性が失われたり、変形したり、さらには機械的強度が低下する場合がある。なお、揮発成分の含有量は、後述する実施例に記載の方法により測定される。   The content of the volatile component at 260 ° C. or less of the base film according to the present invention is preferably 3000 ppm or less. More preferably, it is 2000 ppm or less, More preferably, it is 1000 ppm or less. When the amount of volatile components contained in the base film is large, formation of a transparent conductive layer having uniform conductivity and transparency may be hindered when a transparent conductive layer described later is formed. Moreover, it may foam and the transparency of the base film may be lost or deformed, and the mechanical strength may be lowered. In addition, content of a volatile component is measured by the method as described in the Example mentioned later.

<透明導電層>
本発明の透明導電性フィルムは、上記基材フィルムの少なくとも片面に、透明導電層を有するものである。上記透明導電層を構成する材料としては、従来、当該分野で導電性材料として用いられているものはいずれも使用可能であり、具体的には、有機導電性化合物、有機導電性ポリマー、酸化インジウム、酸化錫、酸化亜鉛、インジウム−錫酸化物(ITO)、アンチモン−錫酸化物(ATO)、亜鉛−アルミニウム酸化物、インジウム−亜鉛酸化物(IZO)などの金属酸化物;金、銀、銅、パラジウム、アルミニウムなどの金属が挙げられる。これらの中でも、酸化亜鉛、又は、酸化インジウムを主成分として含むものが好ましく、特に、酸化インジウムを主成分として含むものが好ましい。中でも、インジウム−錫酸化物は、高い透明性と導電性を兼ね備えているため好ましい。
<Transparent conductive layer>
The transparent conductive film of the present invention has a transparent conductive layer on at least one side of the substrate film. As the material constituting the transparent conductive layer, any material conventionally used as a conductive material in the field can be used, and specifically, an organic conductive compound, an organic conductive polymer, indium oxide. , Tin oxide, zinc oxide, indium-tin oxide (ITO), antimony-tin oxide (ATO), zinc-aluminum oxide, indium-zinc oxide (IZO), etc .; gold, silver, copper , Metals such as palladium and aluminum. Among these, those containing zinc oxide or indium oxide as a main component are preferable, and those containing indium oxide as a main component are particularly preferable. Among these, indium-tin oxide is preferable because it has both high transparency and conductivity.

なお、上記「主成分」とは、透明導電層中、酸化インジウムが60質量%以上含まれることを意味し、好ましくは酸化インジウムの含有量は80〜99質量%であり、より好ましくは90〜95質量%である。   The “main component” means that the transparent conductive layer contains 60% by mass or more of indium oxide, preferably the content of indium oxide is 80 to 99% by mass, more preferably 90 to 90% by mass. 95% by mass.

上記透明導電層の厚みは、20〜300nmとするのが好ましい。より好ましくは25〜200nmであり、さらに好ましくは30〜100nmである。透明導電層の厚みが薄すぎる場合には、厚みや組成が不均一になるおそれがあり、一方、厚すぎる場合には、透明性が失われるおそれがある。   The thickness of the transparent conductive layer is preferably 20 to 300 nm. More preferably, it is 25-200 nm, More preferably, it is 30-100 nm. If the thickness of the transparent conductive layer is too thin, the thickness and composition may be non-uniform. On the other hand, if it is too thick, the transparency may be lost.

本発明において、基材フィルム上に透明導電層を形成する方法としては、コーティング法、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法などの薄膜形成手段が挙げられる。これらの中でも、透明導電層の膜厚および組成の制御が容易で、基材フィルムへの密着性、生産性に優れるスパッタリング法を採用するのが好ましい。   In the present invention, examples of a method for forming a transparent conductive layer on a substrate film include thin film forming means such as a coating method, a vacuum deposition method, a sputtering method, and an ion plating method. Among these, it is preferable to employ a sputtering method that can easily control the film thickness and composition of the transparent conductive layer, and is excellent in adhesion to the substrate film and productivity.

スパッタリング法を採用する場合、所望の透明導電層と同一の組成を有する金属酸化物ターゲットを用いる通常のスパッタリング法や、金属のターゲットを用い、スパッタリングガスに酸素、窒素などを混合したものを用い、ターゲットまたは基板上で反応させることによって所望の組成の透明導電層を成膜してもよい。スパッタの方式も特に限定されず、2極スパッタ、3極スパッタ、4極スパッタ、マグネトロンスパッタ、対向ターゲット式スパッタ(FTS)法、アンバランスドマグネトロンスパッタなどのプラズマ方式、イオンビームスパッタ、ECR(電子サイクロトロン共鳴)スパッタなどのビーム方式などが挙げられる。これらの中でも、マグネトロンスパッタ法、対向ターゲット式スパッタ(FTS)法が好ましい。なお、使用する電源は、高周波電源(RF)、直流電源(DC)のいずれであってもよい。   When adopting the sputtering method, using a normal sputtering method using a metal oxide target having the same composition as the desired transparent conductive layer, or using a metal target, a mixture of sputtering gas, oxygen, nitrogen, etc., A transparent conductive layer having a desired composition may be formed by reacting on a target or a substrate. The sputtering method is not particularly limited, and plasma methods such as dipole sputtering, tripolar sputtering, quadrupole sputtering, magnetron sputtering, opposed target sputtering (FTS) method, unbalanced magnetron sputtering, ion beam sputtering, ECR (electron). (Cyclotron resonance) Beam method such as sputtering. Among these, the magnetron sputtering method and the opposed target sputtering (FTS) method are preferable. The power source to be used may be either a high frequency power source (RF) or a direct current power source (DC).

スパッタリング法で透明導電層を形成する際のスパッタガスとしては、アルゴン、ヘリウム、ネオンなどの希ガスが用いられる。また、反応性ガスとして、酸素や窒素などを用いてもよい。なお、スパッタリング時の真空度は、0.01〜2.0Paとするのが好ましい。より好ましくは0.1〜1.0Paである。真空度が上記範囲内であれば、放電が安定に起こるため、スパッタリングが安定し、均一な膜厚、組成の透明導電膜(層)が得られ易い。また、透明導電層と基材フィルムとの密着性も良好となり易い。なお、本発明に係る基材フィルムにラクトン環が含まれる場合には、当該ラクトン環と金属酸化物との間に分子間力が働くため、基材フィルムと透明導電膜と密着性がより良好となる。   A rare gas such as argon, helium, or neon is used as a sputtering gas for forming the transparent conductive layer by sputtering. Further, oxygen or nitrogen may be used as the reactive gas. In addition, it is preferable that the vacuum degree at the time of sputtering shall be 0.01-2.0 Pa. More preferably, it is 0.1-1.0 Pa. When the degree of vacuum is within the above range, discharge occurs stably, so that sputtering is stable and a transparent conductive film (layer) having a uniform film thickness and composition is easily obtained. Moreover, the adhesiveness of a transparent conductive layer and a base film tends to become favorable. In addition, when the base film according to the present invention contains a lactone ring, intermolecular force works between the lactone ring and the metal oxide, so that the adhesion between the base film and the transparent conductive film is better. It becomes.

また、透明導電性層を積層する工程では、基材フィルムの表面温度が、基材フィルムのガラス転移温度+30℃を超えない範囲で行うことが好ましい。より好ましくは、基材フィルムのガラス転移温度+20℃を超えない範囲であり、最も好ましいのは、基材フィルムのガラス転移温度を超えない範囲である。基材フィルムのガラス転移温度+30℃を超えると、基材フィルムが変形したり、基材フィルムの表面平滑性が失われるおそれがある。   In the step of laminating the transparent conductive layer, the surface temperature of the base film is preferably within a range not exceeding the glass transition temperature of the base film + 30 ° C. More preferably, it is the range which does not exceed the glass transition temperature +20 degreeC of a base film, Most preferably, it is the range which does not exceed the glass transition temperature of a base film. If the glass transition temperature of the base film exceeds 30 ° C., the base film may be deformed or the surface smoothness of the base film may be lost.

<透明導電性フィルム>
本発明の透明導電性フィルムは、上述のように、主鎖に環構造を融資ガラス転移温度が120℃以上のアクリル樹脂を主成分とする基材フィルム、より好ましくはラクトン環構造含有重合体を主成分とする基材フィルムの少なくとも片面に、透明導電層を有するものである。本発明の透明導電性フィルムは、ASTM−D−1003に準拠した方法で測定される可視光線透過率が、好ましくは80%以上であり、より好ましくは85%以上、さらに好ましくは90%以上である。全光線透過率が80%未満では、透明性が低下し、高い透明性が要求される用途に用いることが困難な場合がある。
<Transparent conductive film>
As described above, the transparent conductive film of the present invention comprises a base film mainly composed of an acrylic resin having a ring structure in the main chain and a glass transition temperature of 120 ° C. or higher, more preferably a lactone ring structure-containing polymer. It has a transparent conductive layer on at least one side of a base film as a main component. The transparent conductive film of the present invention has a visible light transmittance of preferably 80% or more, more preferably 85% or more, still more preferably 90% or more, as measured by a method based on ASTM-D-1003. is there. When the total light transmittance is less than 80%, the transparency is lowered, and it may be difficult to use in applications requiring high transparency.

さらに、本発明の透明導電性フィルムは、位相差測定装置により測定される面方向の厚さ100μmあたりの位相差が−100nm以上、100nm以下であるのが好ましく、より好ましくは−50nm以上、50nm以下、さらに好ましくは−10nm以上、10nm以下である。面方向の位相差は複屈折の指標であり、本発明に係る透明導電性フィルムは複屈折が低い。面方向の厚さ100μmあたりの位相差が−100nm未満、もしくは100nmを超える場合には、屈折率の異方性が上昇し、低複屈折を要求される用途には使用し難い場合がある。   Furthermore, the transparent conductive film of the present invention preferably has a phase difference of -100 nm or more and 100 nm or less, more preferably -50 nm or more and 50 nm, per 100 μm thickness in the plane direction measured by a retardation measuring device. Hereinafter, it is more preferably −10 nm or more and 10 nm or less. The retardation in the plane direction is an index of birefringence, and the transparent conductive film according to the present invention has low birefringence. When the phase difference per 100 μm thickness in the plane direction is less than −100 nm or exceeds 100 nm, the anisotropy of the refractive index increases, which may be difficult to use for applications requiring low birefringence.

また、本発明の導電性フィルムは、同一面内における位相差分布が10nm未満であるのが好ましい。より好ましくは5nm以下である。   The conductive film of the present invention preferably has a retardation distribution in the same plane of less than 10 nm. More preferably, it is 5 nm or less.

<タッチパネル>
本発明の透明導電性フィルムは、高い透明性を有し、かつ、耐久性および低複屈折性を兼ね備えたものであるため、各種表示装置と組み合わせて使用するタッチパネルに好適に用いられる。また、基材フィルムと透明導電層との密着性が良好であるため、ペンなどで繰り返し入力を行った場合にも、電極(透明導電層)間の摩擦による透明導電層の剥離が生じ難い。本発明の透明導電性フィルムを用いたタッチパネルとは、上方と、下方の2枚の透明導電性フィルムが、透明導電層が対向し、かつ、上下の透明導電層間に所定の間隙が保たれるようにスペーサーを介して積層された構造を有するものである。当該積層構造体を、タッチパネルとして使用する場合、一方(上方)の透明導電性フィルムの透明導電層非形成面が、指やペンで押され、その押圧で上下の透明導電層が接触することで、指やペンによる入力情報が認識される。すなわち、上下の透明導電層が接触箇所でショートされるため、これが電気信号として処理され、指やペンによる入力内容が認識されるのである。なお、本発明に係るタッチパネルは上述のように、2枚の透明導電性フィルムからなるものであっても良く、また、フィルム表面のギラツキや映り込み、耐キズ付き性、耐指紋性、繰り返し使用時の耐久性を向上させるため透明導電層非形成面に表面処理(ハードコート処理、耐指紋付着処理)を施したり、機能性層を設けてもよい。また、使用時における入力のし易さを確保するため、透明導電層非形成面に、ガラスや、高分子樹脂フィルムを積層することもできる。
<Touch panel>
Since the transparent conductive film of the present invention has high transparency and has both durability and low birefringence, it is suitably used for a touch panel used in combination with various display devices. Moreover, since the adhesiveness of a base film and a transparent conductive layer is favorable, even if it inputs repeatedly with a pen etc., peeling of the transparent conductive layer by the friction between electrodes (transparent conductive layer) does not arise easily. In the touch panel using the transparent conductive film of the present invention, the upper and lower transparent conductive films face each other, the transparent conductive layers face each other, and a predetermined gap is maintained between the upper and lower transparent conductive layers. Thus, it has the structure laminated | stacked through the spacer. When the laminated structure is used as a touch panel, the transparent conductive layer non-formation surface of one (upper) transparent conductive film is pressed with a finger or a pen, and the upper and lower transparent conductive layers are brought into contact with the pressing. , Input information with a finger or a pen is recognized. That is, since the upper and lower transparent conductive layers are short-circuited at the contact portion, this is processed as an electric signal, and the input content by the finger or the pen is recognized. In addition, as described above, the touch panel according to the present invention may be composed of two transparent conductive films. Further, the surface of the film is glaring or reflected, scratch resistance, fingerprint resistance, repeated use. In order to improve durability at the time, a surface treatment (hard coat treatment, fingerprint adhesion treatment) may be applied to the surface where the transparent conductive layer is not formed, or a functional layer may be provided. Moreover, in order to ensure the ease of input at the time of use, glass and a polymer resin film can also be laminated | stacked on a transparent conductive layer non-formation surface.

本発明のタッチパネルは、透明性に優れ、且つ、光学的に等方である(実質的に複屈折を有さない)本発明の透明導電性フィルムを使用するものであるため、これを液晶ディスプレイパネルや、プラズマディスプレイパネル、CRTなどの表示装置に重ねて用いた場合にも、コントラストの低下が生じ難く、高い視認性を有するなど、優れた表示品位を示す。   Since the touch panel of the present invention uses the transparent conductive film of the present invention which is excellent in transparency and optically isotropic (substantially has no birefringence), it is used as a liquid crystal display. Even when used over a display device such as a panel, a plasma display panel, or a CRT, the contrast is hardly lowered and the display has excellent visibility such as high visibility.

以下に、実施例および比較例によって本発明をより具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。以下では、便宜上、「質量部」を「部」、「質量%」を「wt%」、「リットル」を単に「L」と記すことがある。   Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to Examples and Comparative Examples, but the present invention is not limited to these. Hereinafter, for convenience, “parts by mass” may be referred to as “parts”, “mass%” as “wt%”, and “liter” as simply “L”.

<屈折率異方性(位相差)>
屈折率異方性(レタデーション:Re)は、位相差測定装置(王子計測器社製「KOBRA−WR」)を用いて、平衡ニコル回転法により、波長590nm、試料の測定面積3.3mm2として測定を行った。
<Refractive index anisotropy (phase difference)>
Refractive index anisotropy (retardation: Re) was measured using a phase difference measuring device (“KOBRA-WR” manufactured by Oji Scientific Instruments) as a wavelength of 590 nm and a sample measurement area of 3.3 mm 2 by the balanced Nicol rotation method. Measurements were made.

<位相差分布の測定方法>
位相差測定装置(王子計測器社製「KOBRA−WR」)を用いて、平衡ニコル回転法により、波長590nm、測定面積3.3mm2にて、試料サイズ25cm2の試験片内の3点を測定して、その最大値と最小値の差を位相差分布とした。
<Measurement method of phase difference distribution>
Using a phase difference measurement device (“KOBRA-WR” manufactured by Oji Scientific Instruments), three points in a test piece having a sample size of 25 cm 2 were measured at a wavelength of 590 nm and a measurement area of 3.3 mm 2 by the balanced Nicol rotation method. The difference between the maximum value and the minimum value was measured as a phase difference distribution.

<光弾性係数>
エリプソメーター(日本電子社製「M−150」)を用い、各種の引張強度(0N/mm2、2.5N/mm2、5.0N/mm2、7.5N/mm2、10.0N/mm2)における400nmの光弾性率を測定し、これをプロット(縦軸:レタデーション、横軸:引張強度)し、その直線の傾きから光弾性係数を求めた。
<Photoelastic coefficient>
Using an ellipsometer (manufactured by JEOL Ltd. "M-150"), a variety of tensile strength (0N / mm 2, 2.5N / mm 2, 5.0N / mm 2, 7.5N / mm 2, 10.0N / Mm 2 ) was measured for a photoelastic modulus of 400 nm, plotted (vertical axis: retardation, horizontal axis: tensile strength), and a photoelastic coefficient was determined from the slope of the straight line.

<可視領域の透過率>
可視光透過率は、分光光度計(株式会社島津製作所製「UV−3100」)を使用し、波長350〜1100nmにおける透過スペクトルを測定し、波長400〜700nmにおける平均透過率を求めた。
<Transmission in the visible region>
The visible light transmittance was determined by measuring a transmission spectrum at a wavelength of 350 to 1100 nm using a spectrophotometer (“UV-3100” manufactured by Shimadzu Corporation), and obtaining an average transmittance at a wavelength of 400 to 700 nm.

<フィルムのガラス転移温度>
フィルムのガラス転移温度は、示差走査熱量計(DSC)((株)リガク社製「DSC−8230」)を用いて、試料約10mg、昇温速度20℃/min、窒素フロー50cc/minの条件で、中点法により求めた。
<Glass glass transition temperature>
The glass transition temperature of the film was determined by using a differential scanning calorimeter (DSC) (“DSC-8230” manufactured by Rigaku Corporation) under the conditions of about 10 mg of sample, a heating rate of 20 ° C./min, and a nitrogen flow of 50 cc / min. Thus, the midpoint method was used.

<揮発成分量>
測定装置:Thermo Plus 2TG−812 Dynamic TG((株)リガク社製、装置名:DSC−8230)を用い、以下の条件で260℃に達するまでに減少した質量を揮発成分量とした。
測定条件
試料量 :10mg
昇温速度:20℃/min
雰囲気 :窒素フロー 200ml/min
<Amount of volatile components>
Using a measuring apparatus: Thermo Plus 2TG-812 Dynamic TG (manufactured by Rigaku Corporation, apparatus name: DSC-8230), the mass reduced until reaching 260 ° C. under the following conditions was defined as the amount of volatile components.
Measurement conditions Sample amount: 10mg
Temperature increase rate: 20 ° C / min
Atmosphere: Nitrogen flow 200ml / min

製造例1
撹拌装置、温度センサー、冷却管、窒素ガス導入管を備えた容量30Lの反応釜に、2−(ヒドロキシメチル)アクリル酸メチル20部、メタクリル酸メチル80部、トルエン100部を仕込んだ。この反応容器に窒素ガスを導入しながら、混合溶液を105℃まで昇温させ、還流したところで、重合開始剤としてt−アミルパーオキシイソノナノエート(アルケマ吉富株式会社製「ルパゾール570」、「ルパゾール」はアーケマ・インコーポレイテッドの登録商標)0.1部を添加すると同時に、トルエン1部とt−アミルパーオキシイソノナノエート0.2部からなる溶液を2時間かけて反応容器内に滴下しながら、還流下、105〜110℃で溶液重合を行い、さらに4時間かけて熟成を行った。
Production Example 1
20 parts of methyl 2- (hydroxymethyl) acrylate, 80 parts of methyl methacrylate, and 100 parts of toluene were charged into a 30 L reaction kettle equipped with a stirrer, temperature sensor, cooling pipe, and nitrogen gas introduction pipe. While introducing the nitrogen gas into this reaction vessel, the mixed solution was heated to 105 ° C. and refluxed. As a polymerization initiator, t-amyl peroxyisononanoate (“Lupazole 570”, “Lupazole” manufactured by Arkema Yoshitomi Co., Ltd.) was used. "Akema Incorporated (registered trademark)" 0.1 part was added, and at the same time, a solution comprising 1 part of toluene and 0.2 part of t-amylperoxyisononanoate was dropped into the reaction vessel over 2 hours. Then, solution polymerization was carried out at 105 to 110 ° C. under reflux, followed by further aging for 4 hours.

得られた重合体溶液に、リン酸ステアリル/リン酸ジステアリル混合物(堺化学工業株式会社製「Phoslex A-18」)0.1部を添加し、還流下、100〜110℃で5時間、環化縮合反応を行った。次いで、得られた重合体溶液を、バレル温度260℃、回転数100rpm、減圧度13.3〜400hPa(10〜300mmHg)、リアベント数1個、フォアベント数4個のベントタイプスクリュー二軸押出機(φ=30mm、L/D=42)に、樹脂量換算で、2.0kg/hの処理速度で導入し、この押出機内で、さらに環化縮合反応と脱気を行った後、押し出すことにより、ラクトン環含有重合体の透明なペレット(a)を得た。   To the obtained polymer solution, 0.1 part of a stearyl phosphate / distearyl phosphate mixture (“Phoslex A-18” manufactured by Sakai Chemical Industry Co., Ltd.) was added and refluxed at 100 to 110 ° C. for 5 hours. Cyclocondensation reaction was performed. Next, the obtained polymer solution was a vent type screw twin screw extruder having a barrel temperature of 260 ° C., a rotation speed of 100 rpm, a degree of vacuum of 13.3 to 400 hPa (10 to 300 mmHg), a rear vent number of 1, and a forevent number of 4. (Φ = 30 mm, L / D = 42) Introduced at a processing rate of 2.0 kg / h in terms of resin amount, and after further cyclization condensation reaction and deaeration in this extruder, extrude. As a result, a transparent pellet (a) of the lactone ring-containing polymer was obtained.

得られたペレット(a)90部と、AS樹脂(アクリロニトリル−スチレン樹脂、旭化成株式会社製「スタイラック783」、「スタイラック」は旭化成ケミカルズ株式会社の登録商標)、酢酸亜鉛400ppmからなる混合物を、ベントタイプスクリュー二軸押出機(φ=30mm、L/D=42)を用い、押出温度260℃で溶融混練を行い、ペレット(A)を得た。   A mixture of 90 parts of the obtained pellet (a), AS resin (acrylonitrile-styrene resin, “Stylac 783” manufactured by Asahi Kasei Corporation, “Stylac” is a registered trademark of Asahi Kasei Chemicals Corporation), and 400 ppm of zinc acetate. Using a bent type screw twin screw extruder (φ = 30 mm, L / D = 42), melt kneading was performed at an extrusion temperature of 260 ° C. to obtain pellets (A).

<基材フィルムの製造>
基材フィルムの製造には、東洋精機製作所製の混練機「ラボプラストミル20C200型」に、東洋精機製作所製の「D20−25型ベント式押出機」をセットしたものを押出機として用いて行った。
<Manufacture of base film>
For the production of the base film, a Toyo Seiki Seisakusho's kneader "Lab Plast Mill 20C200 type" and a Toyo Seiki Seisakusho's "D20-25 type vent type extruder" are used as an extruder. It was.

ペレット(A)を、シリンダー温度を270℃に加熱した押出機内に導入し、ベント口より押出機内で発生したガスを排出し、押出機内を0.001MPaに減圧しながら、280℃に温度調節したTダイ(東洋精機製作所製「T150C型」)より溶融押出し、キャスティングロールの温度を95℃に温度調整したキャスティング引取り装置(東洋精機製作所製「FT2B15型」)により成膜し、厚さ100μmの基材フィルムを得た。   The pellet (A) was introduced into an extruder heated to a cylinder temperature of 270 ° C., and the gas generated in the extruder was discharged from the vent port, and the temperature was adjusted to 280 ° C. while the pressure in the extruder was reduced to 0.001 MPa. Film-extruded from a T-die (“T150C type” manufactured by Toyo Seiki Seisakusho), and formed into a film with a casting take-up device (“FT2B15 type” manufactured by Toyo Seiki Seisakusho) with the temperature of the casting roll adjusted to 95 ° C. A base film was obtained.

次いで、得られたフィルムを90×90mmにカットし、1辺に10個(計40個)のチャッククリップを有する同時二軸延伸機(東洋精機製作所製)を用いて、温度160℃で、縦および横方向に1.9×1.9倍に延伸し、厚さ50μmの延伸フィルム(A)を得た。   Next, the obtained film was cut into 90 × 90 mm and longitudinally stretched at a temperature of 160 ° C. using a simultaneous biaxial stretching machine (manufactured by Toyo Seiki Seisakusho) having 10 (total 40) chuck clips on one side. And it extended | stretched 1.9 * 1.9 time in the horizontal direction, and the 50-micrometer-thick stretched film (A) was obtained.

延伸フィルム(A)のガラス転移温度(Tg)は127℃であり、260℃以下における揮発成分量は2300ppmであった。   The stretched film (A) had a glass transition temperature (Tg) of 127 ° C., and the amount of volatile components at 260 ° C. or lower was 2300 ppm.

製造例2
製造例1と同様の反応容器に、2−(ヒドロキシメチル)アクリル酸メチル15部、メタクリル酸メチル80部、トルエン100部を仕込んだ。この反応容器に窒素ガスを導入しながら、混合溶液を105℃まで昇温させ、還流したところで、重合開始剤としてt−アミルパーオキシイソノナノエート(アルケマ吉富株式会社製「ルパゾール(登録商標)570」)0.1部を添加すると同時に、t−アミルパーオキシノナノエート0.2部、トルエン1部およびスチレン5部からなる溶液を2時間かけて反応容器内に滴下しながら、還流下、105〜110℃で溶液重合を行い、さらに4時間かけて熟成を行った。
Production Example 2
In a reaction vessel similar to Production Example 1, 15 parts of methyl 2- (hydroxymethyl) acrylate, 80 parts of methyl methacrylate, and 100 parts of toluene were charged. While introducing the nitrogen gas into the reaction vessel, the mixed solution was heated to 105 ° C. and refluxed. As a polymerization initiator, t-amylperoxyisononanoate (“Lupazole (registered trademark) 570 manufactured by Arkema Yoshitomi Co., Ltd.) was used. )) While adding 0.1 part, a solution consisting of 0.2 part of t-amylperoxynonanoate, 1 part of toluene, and 5 parts of styrene was dropped into the reaction vessel over 2 hours while refluxing. Solution polymerization was performed at ˜110 ° C., and further aging was performed for 4 hours.

得られた重合体溶液に、リン酸ステアリル/リン酸ジステアリル混合物(堺化学工業株式会社製「Phoslex A-18」)0.1部を添加し、還流下、100〜110℃で5時間、環化縮合反応を行った。次いで、得られた重合体溶液を、バレル温度260℃、回転数100rpm、減圧度13.3〜400hPa(10〜300mmHg)、リアベント数1個、フォアベント数4個のベントタイプスクリュー二軸押出機(φ=30mm,L/D=42)に、樹脂量換算で、2.0kg/hの処理速度で導入し、この押出機内でさらに環化縮合反応と脱揮を行った後、押し出すことで、ラクトン環含有重合体の透明なペレット(B)を得た。   To the obtained polymer solution, 0.1 part of a stearyl phosphate / distearyl phosphate mixture (“Phoslex A-18” manufactured by Sakai Chemical Industry Co., Ltd.) was added and refluxed at 100 to 110 ° C. for 5 hours. Cyclocondensation reaction was performed. Next, the obtained polymer solution was a vent type screw twin screw extruder having a barrel temperature of 260 ° C., a rotation speed of 100 rpm, a degree of vacuum of 13.3 to 400 hPa (10 to 300 mmHg), a rear vent number of 1, and a forevent number of 4. (Φ = 30 mm, L / D = 42) in terms of resin amount, introduced at a processing rate of 2.0 kg / h, and after further cyclization condensation reaction and devolatilization in this extruder, it is extruded A transparent pellet (B) of the lactone ring-containing polymer was obtained.

<基材フィルムの製造>
得られたペレット(B)を用い、製造例1と同様の方法で、厚さ50μmの延伸フィルム(B)を得た。得られた延伸フィルム(B)のガラス転移温度(Tg)は125℃であり、260℃以下における揮発成分量は2000ppmであった。
<Manufacture of base film>
Using the obtained pellet (B), a stretched film (B) having a thickness of 50 μm was obtained in the same manner as in Production Example 1. The stretched film (B) obtained had a glass transition temperature (Tg) of 125 ° C., and the volatile component content at 260 ° C. or lower was 2000 ppm.

実施例1
製造例1で得られた延伸フィルム(A)にスパッタ装置(対向ターゲット式スパッタリング装置、大阪真空機器製作所製)を用いてITO層を形成した。スッパッタリングには、酸化錫を10質量%含む酸化インジウム−酸化錫のターゲットを用い、真空度0.5Paで、5体積%酸素を添加したアルゴンガス雰囲気下、0.4Å/secの速度で20分間スパッタリングを行い、ITOの透明導電層(厚さ50nm)を有する透明導電性フィルム(A)を得た。
Example 1
An ITO layer was formed on the stretched film (A) obtained in Production Example 1 using a sputtering apparatus (opposite target type sputtering apparatus, manufactured by Osaka Vacuum Equipment Co., Ltd.). For the sputtering, an indium oxide-tin oxide target containing 10% by mass of tin oxide was used, and the vacuum was 0.5 Pa and an argon gas atmosphere containing 5% by volume of oxygen was added at a rate of 0.4 liter / sec. Sputtering was performed for 20 minutes to obtain a transparent conductive film (A) having an ITO transparent conductive layer (thickness 50 nm).

実施例2
実施例1と同様の方法および条件で延伸フィルム(B)にITO層(厚さ50nm)を形成して、透明導電性フィルム(B)を得た。
Example 2
An ITO layer (thickness 50 nm) was formed on the stretched film (B) by the same method and conditions as in Example 1 to obtain a transparent conductive film (B).

比較例1
膜厚が50μmのPETフィルム(東レ株式会社「ルミラー」、「ルミラー」は東レ株式会社の登録商標)を使用し、実施例1と同様の方法で、PETフィルム上にITO層(厚さ50nm)を形成した透明導電性フィルム(C)を得た。
Comparative Example 1
Using a PET film with a film thickness of 50 μm (Toray Industries, Inc. “Lumirror”, “Lumirror” is a registered trademark of Toray Industries, Inc.), an ITO layer (thickness 50 nm) is formed on the PET film in the same manner as in Example 1. A transparent conductive film (C) was obtained.

上記実施例および比較例で得られた透明導電性フィルム(A)〜(C)の物性を表1に示す。   Table 1 shows the physical properties of the transparent conductive films (A) to (C) obtained in the above Examples and Comparative Examples.

Figure 2008179677
Figure 2008179677

表1より、実施例1および2の透明導電性フィルム(A)および(B)は、PETフィルムを基材として用いた比較例1の透明導電性フィルム(C)と比較して、100μmあたりの位相差が小さく、また、光弾性係数も小さく、高い光学的等方性(低複屈折性)および可視光線透過率を有するものである。したがって、本発明の透明導電性フィルムは、各種表示素子と組み合わせて使用するタッチパネルなどに好適であると考えられる。   From Table 1, the transparent conductive films (A) and (B) of Examples 1 and 2 are 100 μm per 100 μm compared with the transparent conductive film (C) of Comparative Example 1 using a PET film as a base material. It has a small phase difference, a small photoelastic coefficient, high optical isotropy (low birefringence) and visible light transmittance. Therefore, it is considered that the transparent conductive film of the present invention is suitable for a touch panel used in combination with various display elements.

本発明の透明導電性フィルムは、耐熱性、各種光学特性(透明性、光学等方性、低複屈折性)に優れるラクトン環含有重合体を主成分とする樹脂フィルムを基材として用いているため、ITO層などの金属酸化物からなる透明導電層形成後にも、基材フィルムの寸法の変化が生じ難く、また、優れた光学特性(透明性、光学等方性、低複屈折性)が維持されるので、液晶ディスプレイやプラズマディスプレイなどの表示素子と組み合わせて用いるタッチパネルとして好適である。   The transparent conductive film of the present invention uses, as a base material, a resin film mainly composed of a lactone ring-containing polymer having excellent heat resistance and various optical properties (transparency, optical isotropy, low birefringence). Therefore, even after forming a transparent conductive layer made of a metal oxide such as an ITO layer, the substrate film hardly changes in dimensions and has excellent optical properties (transparency, optical isotropy, low birefringence). Therefore, it is suitable as a touch panel used in combination with a display element such as a liquid crystal display or a plasma display.

Claims (9)

主鎖に環構造を有し、ガラス転移温度が120℃以上のアクリル樹脂を主成分とする基材フィルムの少なくとも片面に、透明導電層を有することを特徴とする透明導電性フィルム。   A transparent conductive film comprising a transparent conductive layer on at least one surface of a base film having a cyclic structure in the main chain and a glass transition temperature of 120 ° C. or higher as a main component. 上記ガラス転移温度120℃以上のアクリル樹脂が、ラクトン環構造含有重合体を主成分とするものである請求項1に記載の透明導電性フィルム。   The transparent conductive film according to claim 1, wherein the acrylic resin having a glass transition temperature of 120 ° C. or higher is mainly composed of a lactone ring structure-containing polymer. 可視光線透過率が80%以上である請求項1または2に記載の透明導電性フィルム。   The transparent conductive film according to claim 1, which has a visible light transmittance of 80% or more. 光弾性係数が−1.0×10-102/N以上、1.0×10-102/N以下である請求項1〜3のいずれかに記載の透明導電性フィルム。 The transparent conductive film according to claim 1, which has a photoelastic coefficient of −1.0 × 10 −10 m 2 / N or more and 1.0 × 10 −10 m 2 / N or less. 位相差が0〜100nmである請求項1〜4のいずれかに記載の透明導電性フィルム。   The phase difference is 0-100 nm, The transparent conductive film in any one of Claims 1-4. 上記透明導電層がインジウム−錫酸化物からなるものである請求項1〜5のいずれかに記載の透明導電性フィルム。   The transparent conductive film according to claim 1, wherein the transparent conductive layer is made of indium-tin oxide. 上記ラクトン環含有重合体が、下記式(1)で示されるラクトン環構造を有する請求項2〜6のいずれかに記載の透明導電性フィルム。
Figure 2008179677
[式中、R1、R2およびR3は、互いに独立して、水素原子または炭素数1〜20の有機残基を表す;なお、有機残基は、水素、酸素、窒素、硫黄、リン、ハロゲンの各原子を含有していてもよい]
The transparent conductive film according to any one of claims 2 to 6, wherein the lactone ring-containing polymer has a lactone ring structure represented by the following formula (1).
Figure 2008179677
[Wherein R 1 , R 2 and R 3 independently represent a hydrogen atom or an organic residue having 1 to 20 carbon atoms; the organic residue is hydrogen, oxygen, nitrogen, sulfur, phosphorus And may contain halogen atoms]
上記基材フィルムが延伸処理されたものである請求項1〜7のいずれかに記載の透明導電性フィルム。   The transparent conductive film according to claim 1, wherein the base film is stretched. 請求項1〜8のいずれかに記載の透明導電性フィルムを備えたタッチパネル。   A touch panel comprising the transparent conductive film according to claim 1.
JP2007013064A 2007-01-23 2007-01-23 Transparent electroconductive film Pending JP2008179677A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007013064A JP2008179677A (en) 2007-01-23 2007-01-23 Transparent electroconductive film

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007013064A JP2008179677A (en) 2007-01-23 2007-01-23 Transparent electroconductive film

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2008179677A true JP2008179677A (en) 2008-08-07

Family

ID=39723832

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007013064A Pending JP2008179677A (en) 2007-01-23 2007-01-23 Transparent electroconductive film

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2008179677A (en)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010111729A (en) * 2008-11-05 2010-05-20 Nippon Shokubai Co Ltd Method for manufacturing thermoplastic resin composition
JP2011001525A (en) * 2009-06-22 2011-01-06 Asahi Kasei Chemicals Corp Transparent plastic substrate plate
WO2018168402A1 (en) * 2017-03-13 2018-09-20 コニカミノルタ株式会社 Optical film, polarizing plate having same, and display device

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004002711A (en) * 2002-03-26 2004-01-08 Toray Ind Inc Thermoplastic polymer, method for producing the same and molded product
WO2005100014A1 (en) * 2004-04-15 2005-10-27 Teijin Limited Transparent gas barrier multilayer film
WO2005105918A1 (en) * 2004-04-28 2005-11-10 Toray Industries, Inc. Acrylic resin films and process for producing the same
JP2006134872A (en) * 2004-10-06 2006-05-25 Toray Ind Inc Transparent conductive film and touch panel

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004002711A (en) * 2002-03-26 2004-01-08 Toray Ind Inc Thermoplastic polymer, method for producing the same and molded product
WO2005100014A1 (en) * 2004-04-15 2005-10-27 Teijin Limited Transparent gas barrier multilayer film
WO2005105918A1 (en) * 2004-04-28 2005-11-10 Toray Industries, Inc. Acrylic resin films and process for producing the same
JP2006134872A (en) * 2004-10-06 2006-05-25 Toray Ind Inc Transparent conductive film and touch panel

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010111729A (en) * 2008-11-05 2010-05-20 Nippon Shokubai Co Ltd Method for manufacturing thermoplastic resin composition
JP2011001525A (en) * 2009-06-22 2011-01-06 Asahi Kasei Chemicals Corp Transparent plastic substrate plate
WO2018168402A1 (en) * 2017-03-13 2018-09-20 コニカミノルタ株式会社 Optical film, polarizing plate having same, and display device
JP6996552B2 (en) 2017-03-13 2022-01-17 コニカミノルタ株式会社 Optical film, polarizing plate and display device having it

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4825409B2 (en) Optical sheet thermoplastic resin molding, polarizing plate using the same, and liquid crystal display device
JP4928187B2 (en) Low birefringence copolymer
JP4430922B2 (en) Method for producing optical thermoplastic resin molding material
JP5483572B2 (en) Optical sheet thermoplastic resin molding, polarizing plate, and liquid crystal display device
JP4878302B2 (en) Polarizer protective film and polarizing plate
JP5283701B2 (en) Acrylic thermoplastic resin and molded article thereof
WO2007099927A1 (en) Retardation film
US20100168363A1 (en) Low Birefringent Copolymers
JP2010096919A (en) Optical film
JP6114459B1 (en) Methacrylic resin
JP5154169B2 (en) the film
JP5004770B2 (en) Retardation film
JP5230011B2 (en) Transparent plastic substrate
JP2008179677A (en) Transparent electroconductive film
JP2007127892A (en) Polarizing plate
JP5086727B2 (en) Acrylic polymer and method for producing optical film
TW200916857A (en) Liquid-crystal display device
JP4509628B2 (en) Thermoplastic resin composition
JP5901158B2 (en) Conductive substrate
JP5308891B2 (en) Acrylic polymer, method for producing the same, acrylic resin composition, retardation film, and image display device
JP2010037523A (en) Film and method for producing the same
JP5715773B2 (en) Method for producing retardation film
JP5334516B2 (en) Stretched film
JP2010012768A (en) Coating composition or laminated body
JP2010058455A (en) Stretched film

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20090924

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100922

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20111122

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20111227

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20120717