JP2008177435A - Ptc device - Google Patents

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Yasuhide Yamashita
保英 山下
Tsutomu Hatakeyama
勤 畠山
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a PTC device in which the effect of the curvature of a clad plate on a PTC element can be reduced. <P>SOLUTION: A PTC device 1 includes a PTC element 2. A terminal electrode 3A is fixed onto the lower surface of the PTC element 2. A terminal electrode 3B is fixed onto the upper surface of the PTC element 2. The terminal electrodes 3A and 3B are formed of Ni and the like. The terminal electrode 3A is bonded with solder S<SB>1</SB>to a clad plate 4 constituted by laminating an Ni plate 4a and an Al plate 4b. The solder S<SB>1</SB>is provided on a region corresponding to a portion other than the edge of the terminal electrode 3A between the terminal electrode 3A and the clad plate 4. That is, a void 6 constituting a buffer portion for reducing the deformation of the PTC element 2 caused by the curvature of the clad plate 4 is formed in a region corresponding to the edge of the terminal electrode 3A between the terminal electrode 3A and the clad plate 4. The terminal electrode 3B is bonded to the Ni plate 5 with solder S<SB>2</SB>. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、温度上昇と共に抵抗値が大きくなる特性を有するPTC(Positive Temperature Coefficient)素子に関するものである。   The present invention relates to a PTC (Positive Temperature Coefficient) element having a characteristic that a resistance value increases as a temperature rises.

従来のPTC素子としては、例えば特許文献1に記載されているように、正の抵抗温度特性を有するPTC素体の表面に、端子電極を形成する金属板(Cu箔)を接合したものが知られている。
特開平5−9921号公報
As a conventional PTC element, for example, as described in Patent Document 1, a metal plate (Cu foil) for forming a terminal electrode is bonded to the surface of a PTC element body having a positive resistance temperature characteristic. It has been.
JP-A-5-9921

ところで、PTC素子を備えた電子機器においては、小型化や低コスト化のために、例えば2種類の金属を重ね合わせてなるクラッド板にPTC素子を実装することがある。しかし、このようなクラッド板実装型のPTC素子では、例えばリフロー処理や試験等において熱が加えられると、クラッド板を構成する2種類の金属の線膨張差によってクラッド板がPTC素体側に反り、PTC素体を変形させることがある。このクラッド基板の反りによるPTC素体の変形が繰り返されると、PTC素体にダメージが与えられ、PTC素子の特性が悪化してしまう。   By the way, in an electronic device including a PTC element, the PTC element may be mounted on a clad plate formed by stacking two kinds of metals, for example, in order to reduce the size and cost. However, in such a clad plate mounting type PTC element, for example, when heat is applied in a reflow process or a test, the clad plate warps to the PTC element body side due to a difference in linear expansion of two kinds of metals constituting the clad plate, The PTC element body may be deformed. When the deformation of the PTC element body due to the warping of the clad substrate is repeated, the PTC element body is damaged and the characteristics of the PTC element are deteriorated.

本発明の目的は、クラッド板の反りによるPTC素体への影響を軽減することができるPTC素子を提供することである。   An object of the present invention is to provide a PTC element capable of reducing the influence on the PTC element body due to the warping of the clad plate.

本発明のPTC素子は、PTC素体と、PTC素体を挟んで対向するようにPTC素体に固定された第1端子電極及び第2端子電極と、第1端子電極に接合され、複数種類の金属を重ね合わせてなるクラッド板と、第2端子電極に接合された金属板とを備え、第1端子電極とクラッド板との間における第1端子電極の縁部に対応する領域には、クラッド板の反りによるPTC素体の変形を緩和するための緩衝部が設けられていることを特徴とするものである。   The PTC element of the present invention is bonded to a PTC element body, a first terminal electrode and a second terminal electrode fixed to the PTC element body so as to face each other with the PTC element element sandwiched therebetween, and a plurality of types. And a metal plate joined to the second terminal electrode, and in a region corresponding to the edge of the first terminal electrode between the first terminal electrode and the clad plate, A buffer portion for reducing deformation of the PTC element body due to warpage of the clad plate is provided.

このように本発明のPTC素子においては、複数種類の金属を重ね合わせてなるクラッド板に第1端子電極が接合されているため、例えばリフロー処理や試験等により熱が加えられると、クラッド板を構成する複数種類の金属の線膨張差によってクラッド板がPTC素体側に反ることがある。このとき、第1端子電極とクラッド板との間における第1端子電極の縁部に対応する領域には緩衝部が設けられているので、クラッド板がPTC素体側に反っても、その反りによるPTC素体の変形が緩衝部によって緩和される。これにより、クラッド板の反りがPTC素体に与える影響を軽減することができる。   As described above, in the PTC element of the present invention, since the first terminal electrode is joined to the clad plate formed by superimposing a plurality of kinds of metals, for example, when heat is applied by a reflow process or a test, the clad plate The clad plate may warp to the PTC element body side due to the difference in linear expansion of a plurality of types of metals. At this time, since the buffer portion is provided in the region corresponding to the edge of the first terminal electrode between the first terminal electrode and the clad plate, even if the clad plate warps to the PTC element body side, The deformation of the PTC element body is mitigated by the buffer portion. Thereby, the influence which the curvature of a clad board has on a PTC element body can be reduced.

好ましくは、第1端子電極とクラッド板との間における第1端子電極の縁部に対応する領域には、緩衝部を構成する空隙が形成されている。この場合には、PTC素子に熱が加えられることで、クラッド板がPTC素体側に反っても、第1端子電極とクラッド板との間に形成された空隙(空間)をクラッド板がスムーズに動くことが可能となる。このため、クラッド板の反りによりPTC素体に加わる力が十分低減されるため、クラッド板の反りによるPTC素体の変形を十分に緩和することができる。   Preferably, a gap constituting the buffer portion is formed in a region corresponding to the edge portion of the first terminal electrode between the first terminal electrode and the clad plate. In this case, by applying heat to the PTC element, even if the clad plate warps to the PTC element body side, the clad plate can smoothly pass through the gap (space) formed between the first terminal electrode and the clad plate. It becomes possible to move. For this reason, since the force applied to the PTC element body due to the warp of the clad plate is sufficiently reduced, the deformation of the PTC element body due to the warp of the clad plate can be sufficiently mitigated.

また、第1端子電極とクラッド板との間における第1端子電極の縁部に対応する領域には、緩衝部を構成するコーティング樹脂部が設けられていても良い。この場合には、PTC素子に熱が加えられると、第1端子電極とクラッド板との間に設けられたコーティング樹脂部を形成する樹脂が熱によって柔らかくなる。このため、PTC素子に熱が加えられることで、クラッド板がPTC素体側に反っても、コーティング樹脂部をクラッド板が動くことが可能となる。このため、クラッド板の反りによりPTC素体に加わる力が低減されるため、クラッド板の反りによるPTC素体の変形を緩和することができる。また、そのようなコーティング樹脂部を設けることで、第1端子電極とクラッド板との接合強度を高めることができる。   Further, a coating resin portion constituting a buffer portion may be provided in a region corresponding to the edge portion of the first terminal electrode between the first terminal electrode and the clad plate. In this case, when heat is applied to the PTC element, the resin that forms the coating resin portion provided between the first terminal electrode and the clad plate is softened by the heat. For this reason, by applying heat to the PTC element, the clad plate can move in the coating resin portion even if the clad plate is warped toward the PTC element body. For this reason, since the force added to a PTC element body by the curvature of a clad board is reduced, the deformation | transformation of the PTC element body by the curvature of a clad board can be relieved. Further, by providing such a coating resin portion, the bonding strength between the first terminal electrode and the clad plate can be increased.

また、好ましくは、クラッド板は、第1端子電極にハンダで接合されており、ハンダは、第1端子電極とクラッド板との間における第1端子電極の縁部を除く部分に対応する領域に設けられている。これにより、クラッド板と第1端子電極とをハンダで接合する場合でも、第1端子電極とクラッド板との間における第1端子電極の縁部に対応する領域に緩衝部を確実に形成することができる。   Preferably, the clad plate is joined to the first terminal electrode by solder, and the solder is in a region corresponding to a portion excluding the edge of the first terminal electrode between the first terminal electrode and the clad plate. Is provided. Thus, even when the clad plate and the first terminal electrode are joined by solder, the buffer portion is reliably formed in the region corresponding to the edge of the first terminal electrode between the first terminal electrode and the clad plate. Can do.

また、クラッド板は、第1端子電極に金属スペーサを介して溶接接合されており、金属スペーサは、第1端子電極とクラッド板との間における第1端子電極の縁部を除く部分に対応する領域に介在されていても良い。これにより、クラッド板と第1端子電極とを溶接接合する場合でも、第1端子電極とクラッド板との間における第1端子電極の縁部に対応する領域に緩衝部を確実に形成することができる。   The clad plate is welded to the first terminal electrode via a metal spacer, and the metal spacer corresponds to a portion excluding the edge of the first terminal electrode between the first terminal electrode and the clad plate. It may be interposed in the region. Thereby, even when the clad plate and the first terminal electrode are joined by welding, the buffer portion can be reliably formed in the region corresponding to the edge of the first terminal electrode between the first terminal electrode and the clad plate. it can.

本発明によれば、クラッド基板の反りによるPTC素体への影響を軽減することができる。これにより、PTC素子の抵抗温度特性の劣化を防止することが可能となる。   According to the present invention, the influence on the PTC element body due to the warping of the clad substrate can be reduced. Thereby, it becomes possible to prevent the deterioration of the resistance temperature characteristic of the PTC element.

以下、本発明に係わるPTC素子の好適な実施形態について、図面を参照して詳細に説明する。   Hereinafter, preferred embodiments of a PTC element according to the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

図1は、本発明に係わるPTC素子の第1実施形態を示す断面図であり、図2は、図1に示したPTC素子の平面図である。各図において、本実施形態のPTC素子1は、例えば携帯電話の二次電池パック保護用として使用されるポリマーPTC(P−PTC)素子である。   FIG. 1 is a sectional view showing a first embodiment of the PTC element according to the present invention, and FIG. 2 is a plan view of the PTC element shown in FIG. In each figure, the PTC element 1 of this embodiment is a polymer PTC (P-PTC) element used for protecting a secondary battery pack of a mobile phone, for example.

PTC素子1は、例えば結晶性高分子樹脂に導電性フィラーを分散させてなる直方体状のPTC素体2を備えている。PTC素体2は、正の抵抗温度特性、つまり温度が上昇すると電気抵抗が増加する特性を有している。結晶性高分子樹脂としては、直鎖状低密度ポリエチレン樹脂等の熱可塑性樹脂が挙げられるが、熱硬化性樹脂であっても良い。導電性フィラーとしては、Ni粉等を使用する。PTC素体2の寸法は、例えば縦3.0mm×横4.0mm程度である。また、PTC素体2の厚さは、例えば0.4〜0.5mm程度である。   The PTC element 1 includes a rectangular parallelepiped PTC element body 2 in which a conductive filler is dispersed in a crystalline polymer resin, for example. The PTC element body 2 has a positive resistance-temperature characteristic, that is, a characteristic that electric resistance increases as the temperature rises. Examples of the crystalline polymer resin include thermoplastic resins such as linear low-density polyethylene resins, but thermosetting resins may also be used. Ni powder or the like is used as the conductive filler. The dimensions of the PTC element body 2 are, for example, about 3.0 mm long × 4.0 mm wide. Further, the thickness of the PTC element body 2 is, for example, about 0.4 to 0.5 mm.

PTC素体2の下面には端子電極3Aが固定され、PTC素体2の上面には端子電極3Bが固定されている。つまり、端子電極3A,3Bは、PTC素体2を挟んで対向している。端子電極3A,3Bは、Ni(ニッケル)やNi合金等で形成されている。端子電極3A,3Bの厚みは、例えば20〜200μm程度である。   A terminal electrode 3 A is fixed to the lower surface of the PTC element body 2, and a terminal electrode 3 B is fixed to the upper surface of the PTC element body 2. That is, the terminal electrodes 3A and 3B are opposed to each other with the PTC element body 2 interposed therebetween. The terminal electrodes 3A and 3B are made of Ni (nickel), Ni alloy or the like. The thickness of the terminal electrodes 3A and 3B is, for example, about 20 to 200 μm.

端子電極3Aは、クラッド板4にハンダSで接合されている。クラッド板4は、Ni板(ニッケル板)4aとAl板(アルミ板)4bとを圧延等により重ね合わせて1枚の板としたものである。端子電極3Aは、クラッド板4のNi板4aに接合されている。クラッド板4のAl板4bは、電池セル(図示せず)に溶接接合される。 Terminal electrodes 3A is joined to the clad plate 4 with solder S 1. The clad plate 4 is a single plate obtained by superimposing a Ni plate (nickel plate) 4a and an Al plate (aluminum plate) 4b by rolling or the like. The terminal electrode 3 </ b> A is bonded to the Ni plate 4 a of the clad plate 4. The Al plate 4b of the clad plate 4 is welded to a battery cell (not shown).

このとき、ハンダSは、端子電極3Aとクラッド板4との間における端子電極3Aの縁部全体を除く部分に対応する領域に設けられている。これにより、端子電極3Aとクラッド板4との間における端子電極3Aの縁部全体に対応する領域には、空隙6が形成されることとなる。この空隙6は、クラッド板4の反りによるPTC素体2の変形を緩和するための緩衝部を構成するものである。なお、ハンダSの厚み、つまり端子電極3Aとクラッド板4との間隔は、例えば50〜150μm程度であるのが好ましい。また、空隙6(緩衝部)の幅W、つまり端子電極3Aの縁とハンダSの縁との間の長さは、例えば0.3〜1.5mm程度であるのが好ましい。 At this time, the solder S 1 is provided in a region corresponding to the portion except for the entire edge of the terminal electrodes 3A between the terminal electrodes 3A and the cladding plate 4. As a result, a gap 6 is formed in a region corresponding to the entire edge of the terminal electrode 3A between the terminal electrode 3A and the clad plate 4. The gap 6 constitutes a buffer portion for relaxing deformation of the PTC element body 2 due to warpage of the clad plate 4. Incidentally, the solder S 1 thickness, i.e. the distance between the terminal electrodes 3A and the cladding plate 4, for example, is preferably about 50 to 150 [mu] m. The length between the width W, i.e. the edge of the edge and the solder S 1 terminal electrode 3A of the gap 6 (buffer portion) is, for example, is preferably about 0.3 to 1.5 mm.

端子電極3Bは、Ni板5にハンダSで接合されている。Ni板5は、保護回路基板(図示せず)に溶接接合される。ハンダSは、上記のハンダSに対応させて、端子電極3BとNi板5との間における端子電極3Bの縁部全体を除く部分に対応する領域に設けられている。これにより、端子電極3BとNi板5との間における端子電極3Bの縁部全体に対応する領域には、空隙7が形成されることとなる。 Terminal electrodes 3B are joined with solder S 2 to Ni plate 5. The Ni plate 5 is welded to a protection circuit board (not shown). Solder S 2 is in correspondence with the solder S 1 described above, is provided in a region corresponding to the portion excluding the entire edge of the terminal electrode 3B between the terminal electrodes 3B and Ni plate 5. Thereby, the space | gap 7 will be formed in the area | region corresponding to the whole edge part of the terminal electrode 3B between the terminal electrode 3B and the Ni plate 5. FIG.

次に、上記のように構成したPTC素子1を製造する方法について、図3を用いて説明する。   Next, a method for manufacturing the PTC element 1 configured as described above will be described with reference to FIG.

まず、PTC素体2を作製する。具体的には、Ni粉等の導電性フィラーとポリエチレン樹脂等の結晶性高分子とを用意し、これらを混錬してブロックを形成する。そして、このブロックを円盤状に加熱・加圧(熱圧着)した後、チップサイズにカットすることにより、図3(a)に示すようなPTC素体2を得る。   First, the PTC element body 2 is produced. Specifically, a conductive filler such as Ni powder and a crystalline polymer such as polyethylene resin are prepared, and these are kneaded to form a block. And after heating and pressurizing (thermocompression bonding) this block to a disk shape, it cuts into chip size, thereby obtaining a PTC element body 2 as shown in FIG.

続いて、2枚のNi箔によりPTC素体2を上下から挟んだ状態で、各Ni箔を熱圧着することにより、図3(b)に示すように、PTC素体2に端子電極3A,3Bを形成する。これにより、PTC素体2及び端子電極3A,3Bからなる素子本体8が得られる。このとき、例えば加熱温度150℃、加圧時間1分、加圧力1トンという条件で熱圧着処理を行う。そして、素子本体8を、図3(c)に示すように所定の寸法に打ち抜く。   Subsequently, each Ni foil is thermocompression bonded in a state where the PTC element body 2 is sandwiched from above and below by two Ni foils, whereby the terminal electrode 3A, 3B is formed. Thereby, the element main body 8 which consists of the PTC element | base_body 2 and terminal electrode 3A, 3B is obtained. At this time, for example, the thermocompression treatment is performed under the conditions of a heating temperature of 150 ° C., a pressing time of 1 minute, and a pressing force of 1 ton. Then, the element body 8 is punched into a predetermined dimension as shown in FIG.

続いて、図3(d)に示すように、クラッド板4のNi板4aの所定領域にハンダSを印刷すると共に、Ni板5の所定領域にハンダSを印刷する。このとき、使用するハンダS,Sとしては、リフロー処理(後述)において溶融した際に、印刷した形状を保持できるもの(例えば、千住金属工業製エコソルダー M705)を選定する必要がある。 Subsequently, as shown in FIG. 3 (d), the solder S 1 is printed on a predetermined area of the Ni plate 4 a of the clad plate 4, and the solder S 2 is printed on a predetermined area of the Ni plate 5. At this time, as the solders S 1 and S 2 to be used, it is necessary to select a solder (for example, Eco Solder M705 manufactured by Senju Metal Industry Co., Ltd.) that can maintain the printed shape when melted in a reflow process (described later).

続いて、図3(e)に示すように、リフロー半田付けによって、端子電極3Aにクラッド板4を接合すると共に、端子電極3BにNi板5を接合する。具体的には、ハンダSが印刷されたクラッド板4の上に素子本体8を重ね、更にハンダSが印刷されたNi板5を素子本体8の上に重ねた状態でリフロー炉に入れて、ハンダS,Sを加熱溶融させる。この時の加熱温度は、例えば230℃程度である。その後、ハンダS,Sを固化させることで、端子電極3Aとクラッド板4とがハンダSによって接合され、端子電極3BとNi板5とがハンダSによって接合されるようになる。以上により、上述したPTC素子1が完成する。 Subsequently, as shown in FIG. 3E, the clad plate 4 is joined to the terminal electrode 3A and the Ni plate 5 is joined to the terminal electrode 3B by reflow soldering. Specifically, overlapping element body 8 on the cladding plate 4 solder S 1 is printed, placed in a reflow furnace in a further state overlaid on the Ni plate 5 an element body 8 in which the solder S 2 is printed Then, the solders S 1 and S 2 are heated and melted. The heating temperature at this time is about 230 ° C., for example. Thereafter, by solidifying the solders S 1 and S 2 , the terminal electrode 3A and the clad plate 4 are joined by the solder S 1 , and the terminal electrode 3B and the Ni plate 5 are joined by the solder S 2 . Thus, the above-described PTC element 1 is completed.

なお、PTC素子1の製造方法としては、上記の工程には限られない。例えば、クラッド板4のNi板4aと端子電極3Aとを予めハンダSで接合すると共に、端子電極3BとNi板5とを予めハンダSで接合した後、クラッド板4付きの端子電極3AとNi板5付きの端子電極3BとでPTC素体2を上下から挟み込んだ状態で、端子電極3A,3BをPTC素体2に対して熱圧着しても良い。 In addition, as a manufacturing method of the PTC element 1, it is not restricted to said process. For example, the bonding in advance by solder S 1 and Ni plate 4a and the terminal electrode 3A of the cladding plate 4, after joining the terminal electrodes 3B and Ni plate 5 beforehand with solder S 2, clad plate 4 with the terminal electrodes 3A The terminal electrodes 3A and 3B may be thermocompression bonded to the PTC element body 2 in a state where the PTC element body 2 is sandwiched from above and below by the terminal electrode 3B with the Ni plate 5 attached.

ところで、クラッド板4はNi板4a及びAl板4bから構成されているが、Ni及びAlの線膨張は大きく異なる。このため、上記のリフロー処理において、230℃程度の熱がクラッド板4に加えられると、PTC素体2の反対側に位置するAl板4bが先に溶け出すため、Al板4bがNi板4aよりも伸びやすくなる。その結果、クラッド板4が変形して、PTC素体2側に向けてU字状に反ろうとする。   By the way, although the clad plate 4 is comprised from the Ni plate 4a and the Al plate 4b, the linear expansion of Ni and Al differs greatly. For this reason, when heat of about 230 ° C. is applied to the clad plate 4 in the above reflow process, the Al plate 4b located on the opposite side of the PTC element body 2 is melted first, so that the Al plate 4b becomes the Ni plate 4a. It becomes easier to stretch. As a result, the clad plate 4 is deformed and tends to warp in a U shape toward the PTC element body 2 side.

図4は、比較例として従来のPTC素子を示す断面図及び平面図である。本図に示すPTC素子50は、ハンダSが端子電極3Aの全面に印刷されることで、端子電極3Aとクラッド板4との間における端子電極3Aの縁部に対応する領域に上記の空隙6が存在しない構造をなしている。 FIG. 4 is a cross-sectional view and a plan view showing a conventional PTC element as a comparative example. PTC element 50 shown in this figure, that the solder S 1 is printed on the entire surface of the terminal electrodes 3A, above the gap in the region corresponding to the edge of the terminal electrodes 3A between the terminal electrodes 3A and the cladding plate 4 6 has a structure that does not exist.

このような構造では、クラッド板4がPTC素体2側に反ろうとすると、そのクラッド板4の反りによる力がハンダS及び端子電極3Aを介してPTC素体2に加えられ、PTC素体2が変形するようになる。このクラッド板4の反りによるPTC素体2の変形が繰り返されると、PTC素体2がダメージを受けるため、PTC素子50の抵抗値が高くなったまま戻らなくなる等、PTC素子50の特性が劣化してしまう。その現象は、PTC素子50の温度試験等により熱を受けたときにも発生する。 In this structure, the clad plate 4 is going Hanro the PTC element body 2 side, the force due to warping of the cladding plate 4 is added to the PTC element body 2 through the solder S 1 and the terminal electrodes 3A, PTC element body 2 becomes deformed. When the deformation of the PTC element body 2 due to the warping of the clad plate 4 is repeated, the PTC element body 2 is damaged, and therefore the characteristics of the PTC element 50 are deteriorated such that the resistance value of the PTC element 50 cannot be returned while increasing. Resulting in. This phenomenon also occurs when the PTC element 50 receives heat from a temperature test or the like.

これに対し本実施形態では、端子電極3Aとクラッド板4との間における端子電極3Aの縁部に対応する領域に空隙6を設けたので、クラッド板4が熱を受けたときには、クラッド板4が空隙6の部分でPTC素体2側に都合良く曲がって反るようになるため、クラッド板4の反りによる力がPTC素体2に加わりにくくなる。これにより、クラッド板4の反りによるPTC素体2の変形が抑えられ、PTC素体2に与えるダメージが軽減される。その結果、PTC素子1の特性を劣化させず、所望の抵抗温度特性を確保することが可能となる。   In contrast, in the present embodiment, since the gap 6 is provided in the region corresponding to the edge of the terminal electrode 3A between the terminal electrode 3A and the clad plate 4, when the clad plate 4 receives heat, the clad plate 4 However, it is difficult for the force due to the warping of the clad plate 4 to be applied to the PTC element body 2 because it is bent and warped in the gap 6 portion conveniently toward the PTC element body 2 side. Thereby, deformation of the PTC element body 2 due to warping of the clad plate 4 is suppressed, and damage to the PTC element body 2 is reduced. As a result, it is possible to ensure desired resistance-temperature characteristics without degrading the characteristics of the PTC element 1.

そのような作用効果を実証すべく、図1に示すような本実施形態のPTC素子と図4に示すような比較例のPTC素子とについて、所定の電圧を断続的にかけるオンオフ試験を実施し、評価を行った。   In order to demonstrate such an operational effect, an on / off test is performed in which a predetermined voltage is intermittently applied to the PTC element of the present embodiment as shown in FIG. 1 and the PTC element of the comparative example as shown in FIG. And evaluated.

具体的には、通常6V程度の電圧で動作するPTC素子を使用し、20V−20Aの条件で15秒間通電した後、165秒間通電を停止するサイクルを、PTC素子が破壊するまで繰り返した。実際の製品では、その程度の異常電圧をかけても破壊しないことが望まれており、例えば10サイクル程度は破壊しないことが必要である。   Specifically, a cycle in which the PTC element that normally operates at a voltage of about 6 V was used and energized for 15 seconds under the condition of 20 V-20 A and then stopped for 165 seconds was repeated until the PTC element was destroyed. In an actual product, it is desired not to be destroyed even when such an abnormal voltage is applied. For example, it is necessary not to break for about 10 cycles.

このようなオンオフ試験を行い、何サイクルで破壊に至ったかを比較した。その試験結果を下記に示す。

Figure 2008177435

サンプル1〜5は、比較例のPTC素子についての試験結果であり、サンプル6〜10は、本実施形態のPTC素子についての試験結果である。 Such an on / off test was performed, and the number of cycles at which destruction occurred was compared. The test results are shown below.
Figure 2008177435

Samples 1 to 5 are test results for the PTC element of the comparative example, and samples 6 to 10 are test results for the PTC element of the present embodiment.

表1から分かるように、比較例のPTC素子では、早いものは1サイクル目で破壊し、最も良好なものでも7サイクル目で破壊した。その原因としては、高電圧をかけることでクラッド板に熱が発生した結果、クラッド板の反りによるPTC素体の変形が繰り返し起きたためである。   As can be seen from Table 1, the PTC element of the comparative example was destroyed in the first cycle, and the best one was broken in the seventh cycle. This is because the PTC element body is repeatedly deformed due to warpage of the clad plate as a result of heat generated in the clad plate by applying a high voltage.

これに対し本実施形態のPTC素子では、破壊に至るまでには10〜15サイクルかかり、比較例の2倍程度までオンオフ試験に耐えられることが、表1から明らかである。その理由としては、端子電極とクラッド板との間における端子電極の縁部に対応する領域に空隙を設けることにより、クラッド板の反りによるPTC素体の変形が抑制されるためである。以上により、本発明の有効性が十分実証されたと言える。   On the other hand, it is clear from Table 1 that the PTC element of this embodiment takes 10 to 15 cycles to break down and can withstand the on / off test up to about twice that of the comparative example. The reason is that by providing a gap in a region corresponding to the edge of the terminal electrode between the terminal electrode and the clad plate, deformation of the PTC element body due to the warp of the clad plate is suppressed. From the above, it can be said that the effectiveness of the present invention has been sufficiently demonstrated.

図5は、本発明に係わるPTC素子の第2実施形態を示す断面図である。図中、第1実施形態と同一または同等の部材には同じ符号を付し、その説明を省略する。   FIG. 5 is a cross-sectional view showing a second embodiment of the PTC element according to the present invention. In the figure, the same or equivalent members as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted.

同図において、本実施形態のPTC素子10は、コーティング樹脂部11が追加して設けられている点のみ、第1実施形態のPTC素子1と異なっている。コーティング樹脂部11は、クラッド板4の反りによるPTC素体2の変形を緩和するための緩衝部を構成するものである。   In the figure, the PTC element 10 of this embodiment is different from the PTC element 1 of the first embodiment only in that a coating resin portion 11 is additionally provided. The coating resin part 11 constitutes a buffer part for alleviating deformation of the PTC element body 2 due to warpage of the clad plate 4.

具体的には、コーティング樹脂部11は、クラッド板4とNi板5との間の領域において、PTC素体2の側面の全部または一部を覆うように設けられている。また、コーティング樹脂部11は、端子電極3Aとクラッド板4との間における端子電極3Aの縁部に対応する領域、端子電極3BとNi板5との間における端子電極3Bの縁部に対応する領域にも設けられている。コーティング樹脂部11を形成する樹脂としては、例えば100℃以上の温度の熱が加えられると柔らかくなるエポキシ樹脂等が好ましい。   Specifically, the coating resin portion 11 is provided so as to cover all or part of the side surface of the PTC element body 2 in the region between the clad plate 4 and the Ni plate 5. The coating resin portion 11 corresponds to a region corresponding to the edge portion of the terminal electrode 3A between the terminal electrode 3A and the clad plate 4 and an edge portion of the terminal electrode 3B between the terminal electrode 3B and the Ni plate 5. It is also provided in the area. As resin which forms the coating resin part 11, the epoxy resin etc. which become soft when heat | fever of the temperature of 100 degreeC or more is added, for example are preferable.

このようにPTC素体2の側面を覆うようにコーティング樹脂部11を設けたので、PTC素体2を酸素から保護することができる。また、端子電極3Aとクラッド板4との間、端子電極3BとNi板5との間にもコーティング樹脂部11が設けられているので、アンカー効果によって端子電極3Aとクラッド板4との接合強度、端子電極3BとNi板5との接合強度が高くなり、端子電極3A,3Bの剥がれを確実に防止することができる。   Thus, since the coating resin part 11 was provided so that the side surface of the PTC element body 2 might be covered, the PTC element body 2 can be protected from oxygen. Further, since the coating resin portion 11 is also provided between the terminal electrode 3A and the clad plate 4 and between the terminal electrode 3B and the Ni plate 5, the bonding strength between the terminal electrode 3A and the clad plate 4 due to the anchor effect. The bonding strength between the terminal electrode 3B and the Ni plate 5 is increased, and the terminal electrodes 3A and 3B can be reliably prevented from peeling off.

ここで、リフロー処理等においてクラッド板4に熱が加えられると、クラッド板4がPTC素体2側に向けて反ろうとする。しかし、コーティング樹脂部11は、上述したように230℃程度の熱が加えられると十分柔らかくなる。このため、クラッド板4が柔らかいコーティング樹脂部11の部分でPTC素体2側に曲がって反るようになるため、クラッド板4の反りによる力がPTC素体2に加わりにくくなる。これにより、クラッド板4の反りによるPTC素体2の変形が抑えられるため、PTC素体2に与えるダメージを軽減することができる。   Here, when heat is applied to the clad plate 4 in a reflow process or the like, the clad plate 4 tends to warp toward the PTC element body 2 side. However, the coating resin portion 11 becomes sufficiently soft when heat of about 230 ° C. is applied as described above. For this reason, since the clad plate 4 bends and warps toward the PTC element body 2 at the soft coating resin portion 11, the force due to the warp of the clad plate 4 is less likely to be applied to the PTC element body 2. Thereby, since the deformation | transformation of the PTC element body 2 by the curvature of the clad board 4 is suppressed, the damage given to the PTC element body 2 can be reduced.

図6は、本発明に係わるPTC素子の第3実施形態を示す断面図である。図中、第1実施形態と同一または同等の部材には同じ符号を付し、その説明を省略する。   FIG. 6 is a cross-sectional view showing a third embodiment of the PTC element according to the present invention. In the figure, the same or equivalent members as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted.

同図において、本実施形態のPTC素子20は、端子電極3Aとクラッド板4との接合、端子電極3BとNi板5との接合を、第1実施形態のようなハンダではなく、溶接より行ったものである。   In the figure, the PTC element 20 of the present embodiment performs the joining of the terminal electrode 3A and the clad plate 4 and the joining of the terminal electrode 3B and the Ni plate 5 not by soldering as in the first embodiment but by welding. It is a thing.

具体的には、PTC素子20は、端子電極3Aとクラッド板4との間に介在されたNiスペーサ21Aと、端子電極3BとNi板5との間に介在されたNiスペーサ21Bとを備えている。Niスペーサ21Aと端子電極3A及びクラッド板4のNi板4aとは溶接接合され、Niスペーサ21Bと端子電極3B及びNi板5とは溶接接合されている。端子電極3A,3Bの厚みは、例えば0.1mm程度である。Niスペーサ21A,21Bの厚みは、例えば50μmm程度である。   Specifically, the PTC element 20 includes a Ni spacer 21A interposed between the terminal electrode 3A and the clad plate 4, and a Ni spacer 21B interposed between the terminal electrode 3B and the Ni plate 5. Yes. The Ni spacer 21A, the terminal electrode 3A, and the Ni plate 4a of the clad plate 4 are welded, and the Ni spacer 21B, the terminal electrode 3B, and the Ni plate 5 are welded. The terminal electrodes 3A and 3B have a thickness of about 0.1 mm, for example. The thickness of the Ni spacers 21A and 21B is, for example, about 50 μmm.

Niスペーサ21Aは、端子電極3Aとクラッド板4との間における端子電極3Aの縁部全体を除く部位に対応する領域に介在されている。これにより、端子電極3Aとクラッド板4との間における端子電極3Aの縁部全体に対応する領域には、空隙22が形成されることとなる。この空隙22は、クラッド板4の反りによるPTC素体2の変形を緩和するための緩衝部を構成するものである。空隙22は、前述した空隙6と同様の幅Wを有している。Niスペーサ21Bは、Niスペーサ21Aに対応するように配置されている。   The Ni spacer 21 </ b> A is interposed in a region corresponding to a portion excluding the entire edge portion of the terminal electrode 3 </ b> A between the terminal electrode 3 </ b> A and the clad plate 4. As a result, a gap 22 is formed in a region corresponding to the entire edge of the terminal electrode 3 </ b> A between the terminal electrode 3 </ b> A and the clad plate 4. The air gap 22 constitutes a buffer portion for relaxing deformation of the PTC element body 2 due to warpage of the clad plate 4. The gap 22 has the same width W as the gap 6 described above. The Ni spacer 21B is disposed to correspond to the Ni spacer 21A.

次に、上記のように構成したPTC素子20を製造する方法について、図7を用いて説明する。   Next, a method for manufacturing the PTC element 20 configured as described above will be described with reference to FIG.

まず、上記の第1実施形態と同様にして、図7(a)に示すようなPTC素体2を作製する。続いて、2枚のNi板によりPTC素体2を上下から挟んだ状態で、各Ni板を熱圧着することにより、図7(b)に示すように、PTC素体2に端子電極3A,3Bを形成する。これにより、PTC素体2及び端子電極3A,3Bからなる素子本体8が得られる。この時の熱圧着処理の条件は、第1実施形態と同様である。   First, in the same manner as in the first embodiment, a PTC element body 2 as shown in FIG. Subsequently, each Ni plate is thermocompression bonded in a state where the PTC element body 2 is sandwiched from above and below by two Ni plates, so that as shown in FIG. 7B, the terminal electrodes 3A, 3B is formed. Thereby, the element main body 8 which consists of the PTC element | base_body 2 and terminal electrode 3A, 3B is obtained. The conditions for the thermocompression treatment at this time are the same as in the first embodiment.

続いて、図7(c)に示すように、端子電極3Bの上にNiスペーサ21Bを介してNi板5を重ね、その状態で溶接端子24a,24bを配置する。そして、溶接端子24a,24bにより図示矢印方向に通電を行うことにより、端子電極3BとNi板5とをNiスペーサ21Bを介して溶接する。   Subsequently, as shown in FIG. 7C, the Ni plate 5 is stacked on the terminal electrode 3B via the Ni spacer 21B, and the welding terminals 24a and 24b are arranged in this state. Then, the terminal electrode 3B and the Ni plate 5 are welded through the Ni spacer 21B by energizing the welding terminals 24a and 24b in the direction of the arrow shown in the drawing.

続いて、図7(d)に示すように、Ni板5が溶接された素子本体8をクラッド板4の上にNiスペーサ21Aを介して重ね、その状態で溶接端子24a,24bを配置する。そして、溶接端子24a,24bにより図示矢印方向に通電を行うことにより、端子電極3Bとクラッド板4とをNiスペーサ21Aを介して溶接する。以上により、上述したPTC素子20が完成する。   Subsequently, as shown in FIG. 7 (d), the element body 8 to which the Ni plate 5 is welded is stacked on the clad plate 4 via the Ni spacer 21A, and the welding terminals 24a and 24b are arranged in this state. Then, the terminal electrode 3B and the clad plate 4 are welded via the Ni spacer 21A by energizing the welding terminals 24a and 24b in the direction indicated by the arrows. Thus, the above-described PTC element 20 is completed.

以上のような本実施形態においては、端子電極3Aとクラッド板4との間における端子電極3Aの縁部に対応する領域に空隙22を設けたので、クラッド板4が熱を受けてPTC素体2側に反っても、そのクラッド板4の反りによりPTC素体2に加わるダメージが軽減される。これにより、PTC素子20の特性劣化を防止することができる。   In the present embodiment as described above, since the gap 22 is provided in the region corresponding to the edge of the terminal electrode 3A between the terminal electrode 3A and the clad plate 4, the clad plate 4 receives heat and receives the PTC element body. Even if warped to the second side, damage to the PTC element body 2 due to warpage of the clad plate 4 is reduced. Thereby, the characteristic deterioration of the PTC element 20 can be prevented.

なお、上記第3実施形態では、端子電極3Aとクラッド板4との間にNiスペーサ21Aを介在させることにより、端子電極3Aとクラッド板4との間に空隙22を形成したが、そのようなNiスペーサ21Aを設けずに、例えば端子電極3Aの縁部に段部(切り欠き)を形成して端子電極3Aを凸状構造とすることにより、端子電極3Aとクラッド板4との間に空隙を形成しても良い。   In the third embodiment, the gap 22 is formed between the terminal electrode 3A and the clad plate 4 by interposing the Ni spacer 21A between the terminal electrode 3A and the clad plate 4. Without providing the Ni spacer 21A, for example, a step (notch) is formed at the edge of the terminal electrode 3A so that the terminal electrode 3A has a convex structure, whereby a gap is formed between the terminal electrode 3A and the clad plate 4. May be formed.

また、上記第2実施形態と同様に、端子電極3Aとクラッド板4との間に形成された空隙22に樹脂を充填してコーティング樹脂部を形成しても良い。   Further, as in the second embodiment, a resin resin may be filled in the gap 22 formed between the terminal electrode 3A and the clad plate 4 to form a coating resin portion.

以上、本発明に係わるPTC素子の好適な実施形態について幾つか説明してきたが、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。例えば上記実施形態では、端子電極3BとNi板5との間における端子電極3Bの縁部に対応する領域に空隙またはコーティング樹脂部を形成したが、端子電極3BとNi板5との間には特に空隙及びコーティング樹脂部を形成しなくても良い。   Although several preferred embodiments of the PTC element according to the present invention have been described above, the present invention is not limited to the above embodiments. For example, in the above embodiment, the gap or the coating resin portion is formed in the region corresponding to the edge portion of the terminal electrode 3B between the terminal electrode 3B and the Ni plate 5, but between the terminal electrode 3B and the Ni plate 5 In particular, the voids and the coating resin portion need not be formed.

また、上記実施形態では、端子電極3Aとクラッド板4との間における端子電極3Aの縁部全体に対応する領域に、緩衝部を構成する空隙またはコーティング樹脂部を形成したが、そのような緩衝部は、端子電極3Aとクラッド板4との間における端子電極3Aの縁部の一部分に対応する領域のみにあっても良い。   In the above embodiment, the gap or the coating resin portion constituting the buffer portion is formed in the region corresponding to the entire edge portion of the terminal electrode 3A between the terminal electrode 3A and the clad plate 4. The portion may be only in a region corresponding to a part of the edge of the terminal electrode 3A between the terminal electrode 3A and the clad plate 4.

また、上記実施形態では、NiとAlとを重ね合わせたクラッド板4を使用したが、クラッド板4を構成する複数種類の金属材質としては、特にこれに限られず、クラッド板4が溶接接合される電池セル等の金属材料に応じて決定すれば良い。   In the above embodiment, the clad plate 4 in which Ni and Al are overlapped is used. However, the plurality of types of metal materials constituting the clad plate 4 are not particularly limited, and the clad plate 4 is welded. What is necessary is just to determine according to metal materials, such as a battery cell.

本発明に係わるPTC素子の第1実施形態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows 1st Embodiment of the PTC element concerning this invention. 図1に示したPTC素子の平面図である。It is a top view of the PTC element shown in FIG. 図1に示したPTC素子の製造工程を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the manufacturing process of the PTC element shown in FIG. 比較例として従来のPTC素子を示す断面図及び平面図である。It is sectional drawing and a top view which show the conventional PTC element as a comparative example. 本発明に係わるPTC素子の第2実施形態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows 2nd Embodiment of the PTC element concerning this invention. 本発明に係わるPTC素子の第3実施形態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows 3rd Embodiment of the PTC element concerning this invention. 図6に示したPTC素子の製造工程を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the manufacturing process of the PTC element shown in FIG.

符号の説明Explanation of symbols

1…PTC素子、2…PTC素体、3A…端子電極(第1端子電極)、3B…端子電極(第2端子電極)、4…クラッド板、4a…Ni板、4b…Al板、5…Ni板(金属板)、6…空隙(緩衝部)、10…PTC素子、11…コーティング樹脂部(緩衝部)、20…PTC素子、21A…Niスペーサ(金属スペーサ)、22…空隙(緩衝部)S…ハンダ。 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... PTC element, 2 ... PTC element | base_body, 3A ... Terminal electrode (1st terminal electrode), 3B ... Terminal electrode (2nd terminal electrode), 4 ... Cladding plate, 4a ... Ni plate, 4b ... Al plate, 5 ... Ni plate (metal plate), 6 ... gap (buffer part), 10 ... PTC element, 11 ... coating resin part (buffer part), 20 ... PTC element, 21A ... Ni spacer (metal spacer), 22 ... gap (buffer part) ) S 1 ... Solder.

Claims (5)

PTC素体と、
前記PTC素体を挟んで対向するように前記PTC素体に固定された第1端子電極及び第2端子電極と、
前記第1端子電極に接合され、複数種類の金属を重ね合わせてなるクラッド板と、
前記第2端子電極に接合された金属板とを備え、
前記第1端子電極と前記クラッド板との間における前記第1端子電極の縁部に対応する領域には、前記クラッド板の反りによる前記PTC素体の変形を緩和するための緩衝部が設けられていることを特徴とするPTC素子。
A PTC body;
A first terminal electrode and a second terminal electrode fixed to the PTC element body so as to face each other with the PTC element body interposed therebetween;
A clad plate bonded to the first terminal electrode and overlaid with a plurality of types of metals;
A metal plate joined to the second terminal electrode,
In a region corresponding to the edge portion of the first terminal electrode between the first terminal electrode and the clad plate, a buffer portion is provided for alleviating deformation of the PTC element body due to warpage of the clad plate. A PTC element characterized by comprising:
前記第1端子電極と前記クラッド板との間における前記第1端子電極の縁部に対応する領域には、前記緩衝部を構成する空隙が形成されていることを特徴とする請求項1記載のPTC素子。   2. The air gap constituting the buffer portion is formed in a region corresponding to an edge portion of the first terminal electrode between the first terminal electrode and the clad plate. PTC element. 前記第1端子電極と前記クラッド板との間における前記第1端子電極の縁部に対応する領域には、前記緩衝部を構成するコーティング樹脂部が設けられていることを特徴とする請求項1記載のPTC素子。   The coating resin part which comprises the said buffer part is provided in the area | region corresponding to the edge part of the said 1st terminal electrode between the said 1st terminal electrode and the said clad board, The said resin part is provided. The PTC element described. 前記クラッド板は、前記第1端子電極にハンダで接合されており、
前記ハンダは、前記第1端子電極と前記クラッド板との間における前記第1端子電極の縁部を除く部分に対応する領域に設けられていることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項記載のPTC素子。
The clad plate is joined to the first terminal electrode by solder;
4. The solder according to claim 1, wherein the solder is provided in a region corresponding to a portion excluding an edge of the first terminal electrode between the first terminal electrode and the clad plate. The PTC element according to one item.
前記クラッド板は、前記第1端子電極に金属スペーサを介して溶接接合されており、
前記金属スペーサは、前記第1端子電極と前記クラッド板との間における前記第1端子電極の縁部を除く部分に対応する領域に介在されていることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項記載のPTC素子。
The clad plate is welded to the first terminal electrode through a metal spacer,
The said metal spacer is interposed in the area | region corresponding to the part except the edge part of the said 1st terminal electrode between the said 1st terminal electrode and the said clad board. The PTC element according to claim 1.
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