JP2008129765A - 流量制御装置 - Google Patents

流量制御装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2008129765A
JP2008129765A JP2006312770A JP2006312770A JP2008129765A JP 2008129765 A JP2008129765 A JP 2008129765A JP 2006312770 A JP2006312770 A JP 2006312770A JP 2006312770 A JP2006312770 A JP 2006312770A JP 2008129765 A JP2008129765 A JP 2008129765A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
flow rate
pressure
signal
valve
control
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2006312770A
Other languages
English (en)
Inventor
Takao Goto
崇夫 後藤
Makoto Tanaka
田中  誠
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Proterial Ltd
Original Assignee
Hitachi Metals Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Metals Ltd filed Critical Hitachi Metals Ltd
Priority to JP2006312770A priority Critical patent/JP2008129765A/ja
Publication of JP2008129765A publication Critical patent/JP2008129765A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Measuring Volume Flow (AREA)
  • Flow Control (AREA)

Abstract

【課題】 圧力変動を吸収することができて流量の制御性が高い流量制御装置を提供する。
【解決手段】 流体を流す流路6に、流量を検出して流量信号を出力する流量検出手段8と、バルブ駆動信号により弁開度を変えることによって流量を制御する流量制御弁機構10とを設ける。そして、外部から入力される流量設定信号S0と流量信号S1とに基づいて流量制御弁機構を制御する制御手段44を設けてなる流量制御装置において、流路に流体の圧力を検出して圧力検出信号を出力する圧力検出手段42を設ける。前記制御手段は流量検出手段から得られる流量信号に基づいて、圧力検出信号を用いることなく流量信号と流量設定信号とに基づいて流量制御を行う第1制御モードがある。そして、圧力検出信号と流量設定信号とに基づいて流量制御を行う第2制御モードとを選択的に切り替える。
【選択図】 図1

Description

本発明は、ガス等の比較的小流量の流体の流量を計測する流量制御装置に関する。
一般に、半導体集積回路等の半導体製品等を製造するためには、半導体ウエハ等に対して例えばCVD成膜やエッチング操作等が種々の半導体製造装置において繰り返し行われる。しかし、この場合に微量の処理ガスの供給量を精度良く制御する必要から例えばマスフローコントローラのような流量制御装置が用いられている
しかしながら、一般的な半導体製造装置にあっては、複数のプロセスガスを流す、または他の流量制御装置にガスを流すために一部の配管系管路が共通に使用される場合がある。このような場合には配管系管路は途中で分岐されて、他のガス種が途中で合流して流される。このような場合、他のガス種の供給開始、或いは停止等の流量変動に応じて圧力変動が発生する。この発生した圧力変動がガス管4内を伝搬して上記流量制御装置2内に到達し、流量の制御に悪影響を与える場合があった。また上記したような圧力変動は、他の要因でも発生して流量の制御性を劣化させる場合があった。
そこで、特許文献1に開示されているように、流量制御装置に圧力検出手段を設け圧力検出信号から得られる圧力変化量に基づいて制御する。すなわち、圧力検出信号を用いることなく流量信号と流量設定信号とに基づいて流量制御を行う第1制御モード(通常の制御モード)と、圧力検出信号と流量信号と流量設定信号とに基づいて流量の制御を行う第2の制御モード(圧力変動があったときの制御モード)とを選択的に切り替える点が示されている。
特開平2005−222173号公報(第6頁〜第11頁、図3)
しかしながら、特許文献1に示す流量制御装置にあっては、圧力検出信号が閾値を越えた場合の第2制御モードで圧力検出信号と流量信号と流量設定信号との3つのファクタに基づいて流量の制御を行っていた。更に、バルブ駆動電圧と流量との関係を示す特性が、特定の圧力下の特性のみを制御手段の記憶部に予め記憶されていた。
即ち、第2制御モードにおいてアクチュエータに印加すべきバルブ駆動電圧Vnは、以下の演算式(1)で求めている。
Vn=Vb+(1−Pb/Pn)/k (1)
ここでk=(Q/Vmb)・(Pb/Pm)
Pb:閾値以上の圧力変化前の圧力検出値(記憶された最新の流体圧力値)
Pn:検出された現在の圧力検出値
Vb:閾値以上の圧力変化前のバルブ駆動電圧(記憶された最新のバルブ駆動電圧)
k :閾値以上の圧力変化前のバルブ駆動電圧での単位ボルト当たりの流量変化率
Q :閾値以上の圧力変化前の質量流量値(記憶された最新の質量流量値)
Vmb:閾値以上の圧力変化前のマスター電圧
Pm:バルブ特性マスターの取得ガス圧力(例えば、0.4MPa)
したがって、バルブ特性マスターの取得ガス圧力Pmと閾値以上の圧力変化前の圧力検出値Pbとの比例関係にてバルブ駆動電圧Vnを求めているために、バルブ特性マスターの取得ガス圧力Pmと閾値以上の圧力変化前の圧力検出値Pbとの乖離が大きくなると、実際の流量には誤差が生じやすいという問題を有していた。
本発明の目的は、上流側から流れてくるガスの圧力変動があっても下流側へ精度のよい流量制御を可能とする流量制御装置を提供することにある。
本発明は、流体を流す流路に、流量を検出して流量信号を出力する流量検出手段と、バルブ駆動信号により弁開度を変えることによって流量を制御する流量制御弁機構とを設け、外部から入力される流量設定信号に基づいて前記流量制御弁機構を制御する制御手段を設けてなる流量制御装置において、
前記流路に前記流体の圧力を検出して圧力検出信号を出力する圧力検出手段を設け、
前記制御手段は、前記圧力検出信号を用いることなく、前記流量信号と前記流量設定信号とに基づいて流量の制御を行う第1制御モードと、前記圧力検出信号から得られる圧力変化量と前記流量設定信号とに基づいて流量の制御を行う第2制御モードとを選択的に切り替えるように構成した流量制御装置である。
また、前記制御手段は、前記圧力変化量が所定の閾値以上になった時に前記第1制御モードから前記第2制御モードに切り替わり、前記第2制御モードでは、予め用意された流体の圧力とバルブ駆動電圧と流体の実流量との関係に基づいて前記バルブ駆動電圧を調整することが望ましい。
また、前記予め用意された流体の圧力とバルブ駆動電圧と流体の実流量との関係は、前記流体の圧力毎に記憶されている構成とすることができる。
更に、前記第2制御モードでは、前記圧力変化量が前記所定の閾値以上変化する直前の流量値と、前記圧力変化量が前記所定の閾値以上変化する直前の圧力検出値と、現在の圧力検出値と、前記圧力変化量が前記所定の閾値以上変化する直前のバルブ駆動電圧と、予め用意された流体の圧力とバルブ駆動電圧と流体の実流量との関係とに基づいて印加すべきバルブ駆動電圧を求めることが望ましい。
また、前記制御手段は、前記第2制御モードでは、前記圧力変化量が前記所定の閾値以上変化する直前の流量値を、外部へ流量出力信号として出力するように構成することができる。
本発明の流量制御装置によれば、前記流路に前記流体の圧力を検出して圧力検出信号を出力する圧力検出手段を設け、前記制御手段は、前記圧力検出信号を用いることなく、前記流量信号と前記流量設定信号とに基づいて流量の制御を行う第1制御モードと、前記圧力検出信号から得られる圧力変化量と前記流量設定信号とに基づいて流量の制御を行う第2制御モードとを選択的に切り替えるように構成しているので、
第2制御モードにおいては、前記流量信号の影響を受けることなく、前記圧力変化量と前記流量設定信号に基づき、精度の良い流量制御装置とすることができる。
以下に、本発明に係る流量制御装置の一実施例を添付図面に基づいて詳述する。
図1は本発明に係る流量制御装置の第1実施例を示す構成図、図2はアクチュエータとして積層圧電素子を用いた場合の流量制御弁機構のバルブ特性の一例を示すバルブ特性図、図3は、本発明に係る第2制御モードで用いる予め準備された圧力毎の設定流量とバルブ駆動電圧との一例を示す相関関係図である。
図示するように、この流量制御装置40は、液体や気体等の流体を流す流体通路、例えばガス管4の途中に介設されて、この流量を制御するようになっている。尚、このガス管4の一端に接続される半導体製造装置内は例えば真空引きされている。この流量制御装置40は、例えばステンレススチール等により成形された流路6Bがガス管6の下流側に接続され、流路6Bがガス管6の下流側に接続される。この流量制御装置40は、流体の流量を検出する流量検出手段8と、流体の流れを制御する流量制御弁機構10と、本発明の特徴とする圧力検出手段42とを有している。この装置全体の動作を制御するのは、例えばマイクロコンピュータ等よりなる制御手段44を有している。
そして、上記制御手段44は、半導体製造装置の全体の動作を制御するホストコンピュータ46から、この流量制御装置において流すべきガス流量を表す流量設定信号S0を受ける。それと共に、現在流しているガス流量を表す外部流量出力信号Soutを出力するようになっている。この図示例では、流路6の上流側から下流側に向けて、ガス流体の圧力を排出するための圧力検出手段42、ガス流量を検出する流量検出手段8及び流量制御弁機構10がこの順序で順次介設されている。上記圧力検出手段42は、例えば圧力トランスデューサよりなり、所定の時間間隔、例えば10msec毎にガス圧力をサンプリングして検出し、その検出された圧力値を圧力検出信号Svとして上記制御手段44に向けて出力するようになっている。
また、上記流量検出手段8は、上記流路6のガス流体の流れ方向の上流側に設けられて複数のバイパス管を束ねてなるバイパス群12を有している。上記バイパス群12の両端側には、これを迂回するようにセンサ管14が接続されており、これにバイパス群12と比較して小量のガス流体を一定の比率で流すようになっている。すなわち、このセンサ管14には全ガス流量に対して一定比率の一部のガスを常に流すようになっている。このセンサ管14には直列に接続された制御用の一対の抵抗線R1、R4が巻回されており、これに接続されたセンサ回路16により流量値を示す流量信号S1を出力するようになっている。
この流量信号S1は、例えばマイクロコンピュータ等よりなる制御手段44へ導入されて、上記流量信号S1に基づいて現在流れているガスの流量が出力される。それと共に、その流量が外部より入力される流量設定信号S0で表される流量に一致するように、上記流量制御弁機構10を制御することになる。尚、この際、後述するように必要に応じて圧力検出信号Svにより表される圧力値が流量制御に加味されることになる。この流量制御弁機構10は、上記流路6の下流側に設けられた流量制御弁20を有しており、この流量制御弁20は、ガス流体の流量を直接的に制御するための弁体として例えば金属板製の屈曲可能になされたダイヤフラム22を有している。
そして、このダイヤフラム22を弁口24に向けて適宜屈曲変形させて移動(進退)させることによって、上記弁口24の弁開度を任意に制御し得るようになっている。そして、このダイヤフラム22の上面は、例えば積層圧電素子(ピエゾ素子)よりなるアクチュエータ26の下端部に接続されており、これにより、その弁開度が上記したように調整できるようになっている。そして、このダイヤフラム26の下端部に剛的に連結されており、これにより、その弁開度が上記したように調整できるようになっている。
具体的には、上記アクチュエータ26の下端部には、例えば金属製の押し台48が取り付けられ、他方、上記ダイヤフラム22の上面にも例えば金属製のベース台50が取り付けられている。そして、上記押し台48とベース台50との表面に浅い凹部をそれぞれ設けてこの凹部に例えば剛球52を介在させて全体を剛的に連続している。これにより、上記アクチュエータ26の機械的伸縮を直接的にダイヤフラム22に伝えることができる。それと共に、ガス流体の圧力変動が生じてもダイヤフラム22の弁開度が変化しないようにしている。更には上記剛球52の作用により、上下方向に伝わる力が偏在しないようにしている。
ここで積層圧電素子とは、例えば多数のPZTセラミック板の電極を介在させて積層した構造よりなり、印加する電圧によってその長手方向に機械的に伸縮できるようになっている。またアクチュエータ26の全体はケース27によって全体が囲まれている。そして、このアクチュエータ26は、上記制御手段44からの駆動信号S3を受けてバルブ駆動回路28が出力するバルブ駆動信号としてのバルブ駆動電圧S4により作動する。
本発明の特徴となる流量制御を行う上記制御手段44は、当然のこととして演算処理に必要な各種のデータ(情報)を記憶するために例えばRAMやROMを組み合わせてなる記憶部44Aを有している。この記憶部44Aには予め測定した上記流量制御弁機構10のバルブ特性が記憶されている。このバルブ特性について説明すると、図2(A)に示すようにバルブ駆動電圧(バルブ駆動信号)S4(弁開度に対応)が増加すると、流量は曲線的に増加する傾向にある。しかも入口側のガス圧を0.18〜0.40MPaまで変化させると、ガス圧力が大きくなる程、その密度が高くなるので流量も多くなっている。また、図2(B)は図2(A)に示すバルブ特性を横軸に入口側ガス圧力をとって書き替えたバルブ特性である。このバルブ特性より明らかなように、バルブ駆動電圧(バルブ駆動信号)S4が一定の場合には、入口側ガス圧力と流量との関係は比例して直線的に変形している。
上記流量制御弁機構10はこのようなバルブ特性を有している。この実施例では例えば図3に示すように、例えば、0.0〜0.4MPa範囲の入力側ガス圧力毎のバルブ駆動電圧S4と設定流量との関係を示す特性が、入力側ガス圧力0.05MPa刻みで制御手段44の記憶部44Aに予め記憶されている。
次に、以上のように構成された本発明の流量制御装置の動作について説明する。
本発明の特徴は、上記制御手段44が、上記流量信号S1と上記流量設定信号S0とに基づいて流量の制御を行う第1制御モードと、上記圧力検出信号Svと上記流量信号S0とに基づいて流量制御を行う第2制御モードとを選択的に切り替えるようにした点である。
まず、ガス管4を流れてきたガスは、流体入口6Aから流量制御装置40の流路6内に流れ込み、このガスはその圧力が圧力検出手段42により検出された後に流量検出手段8に至る。そしてこのガスの大部分はバイパス管群12を介して流れると共に、全ガス流量に対して一定の分流比となる一部のガスはセンサ管14内を流れ、各ガスはその下流側で合流した後に流量制御機構10の流量制御弁20の弁口24を流れる。その後は流体出口6Bを通過して図示しない半導体製造装置に向けて流れて行く。尚、半導体製造装置の処理チャンバは真空雰囲気、減圧雰囲気及び常圧程度の雰囲気等の種々圧力状態で使用される。
ここで、センサ管14には抵抗線R1、R4が巻回されており、センサ管14内を流れるガスによりガス管4内を流れる全体のガスの流量がセンサ回路16により検出される。この検出値が流量信号S1で表される流量が外部より入力される流量設定信号S0で表される流量と一致するようにバルブ駆動回路28を介してバルブ駆動電圧S4を発生させる。そして、これをアクチュエータ26に印加してアクチュエータ26を伸縮駆動してダイヤフラム22を屈曲変形することにより、流量制御弁20の弁開度を調整することになる。これにより、ガス流体の流量を制御しつつ下流側に向けて流すことができる。
ここで、この流量制御装置40よりも上流側のガス管4に何らかの理由で圧力変動が生じた場合には、この圧力変動が下流側に向って伝搬し、この流量制御装置40内へ到達しようとする。
しかし、本発明ではこのガス圧の圧力変化量に応じて第1制御モードと第2制御モードとを選択的に切り替えて流量制御を行っているので、この圧力変動を吸収して悪影響が発生することを防止することができる。尚、ここで第1制御モードとは、流量信号S1の検出値と外部からの流量設定信号S0の設定値とが常に同一になるように制御する従来の制御方法を示す。
ここで、具体的な制御方法について説明する。
図4は本発明の流量制御装置で行われる制御フローを示す図、図5は第1制御モードの制御フローを示す図、図6は第2制御モードの制御フローを示す図である。
まず、図4を参照して本発明装置による全体の動作について説明する。圧力検出手段42により流体(ガス)圧力が検出されて、この検出値が圧力検出信号Svとして出力される(S1)。また流量検出手段8においても流体の流量が検出されて、この検出値が流量信号S1として出力される(S2)。これらの流体圧力や流量のサンプリング測定は、所定の間隔、例えば10msec毎に連続的に行われている。
上記流体圧力値(検出値)は、記憶されているその直前の検出値(ここでは例えば10msec前の検出値)と常時比較されてその圧力変化量が求められており(S3)、この圧力変化量が基準値である所定の閾値と比較される(S4)。この閾値は、流体であるガスの供給圧力にもよるが、例えば100Pa程度である。ここで圧力変化量が閾値である100Paよりも小さい場合には(S4のNO)、まず、最新のバルブ駆動電圧値(Vb)、最新の圧力検出値(Sv)及び最新の流量値(Q)をそれぞれ記憶部44Aの専用のエリアに記憶する(S5)。ここで「最新の」とは今現在の値であり、直前の(10msec前の)値ではない。そして、第1制御モードを実行する(S6)。すなわち、この第1制御モードは上流側の流体の圧力変化が非常に少ない時の制御モードである。
これに対して、ステップS4においてYESの場合、すなわち圧力変化量が閾値以上になった場合には、第2制御モードを実行する(S7)。すなわち、この第2制御モードでは上流側の流体の圧力変化がある程度大きい時の制御モードである。そして、流量制御装置が制御状態にある間は、これが繰り返される。
次に、上記第1制御モードの流れについて説明する。
図5に示すように、この第1制御モードは、前述したように従来の制御方法と同様である。まず、外部より入力されている現在の流量設定信号S0の流量設定値と流量検出手段8からの現在の流量信号S1の流量値とが比較されて、これが一致するようにバルブ駆動電圧S4が求められる(S11)。これにより、実際の流体流量が、外部のホストコンピュータ46より流量設定信号S0で指示された流体流量と同じになるように制御される。
そして、上記操作と同時に、この制御手段44は、上記ホストコンピュータ46に向けて、検出された現在の流量値を外部流量出力信号Soutとして出力する(S12)。具体的には、この外部流量出力信号Soutの表す流量値は、上記流量信号S1の表す流量値と同じになる。この外部流量出力信号Soutは、ホストコンピュータ46において、例えばオペレータによりモニタされており、適正なガス流量が供給されているか否かの確認のために用いられることになる。そして、上記求められたバルブ駆動電圧S4でアクチュエータ26をバルブ駆動することになる(S13)。実際には、制御手段44は上記したように求めたバルブ駆動電圧S4を出力するようにバルブ駆動回路28へ駆動信号S3で指示を出すことになる。このようにバルブ駆動が終了したならば、図4に示すステップS8へ進むことになる。
次に、第2制御モードの流れについて説明する。
この第2制御モードは、前述したようにガス圧力の変化量が閾値以上になった時の制御モードである。図6に示すように、まず、圧力変化量が閾値以上になる直前の流量値と、圧力変化量が閾値以上になる直前の圧力検出値を記憶する。そして、圧力変化量が閾値以上になる直前の圧力検出値と、現在の圧力検出値とを比較する。次に、圧力変化量が閾値以上になる直前のバルブ駆動電圧値と、現在の圧力検出値と、予め求められたバルブ特性とに基づいてバルブ駆動電圧を求める(S21)。上記圧力変化量が閾値以上になる直前の各値は、例えば10msec前に図4中のステップS5において記載した各値であり、バルブ特性は図3に示したような予め記憶された特性である。
ここで、図3に示すように、例えば、0.05MPa毎に予め準備された設定流量とバルブ電圧との相関関係を使用してバルブ電圧を制御している。
そして、これと同時に、現在、検出された流量値ではなく、例えば上記10msec前に記憶された流量値を外部流量出力信号Soutとしてホストコンピュータ46に向けて出力する(S22)。これにより、ホストコンピュータ46におけるオペレータは、流量が変化していないものとして認識することになる。更に、これと同時に、上記求めたバルブ駆動電圧S4をバルブ駆動回路28より出力するように駆動信号S3で指示を出し、このバルブ駆動電圧S4でアクチュエータ26をバルブ駆動することになる(S23)。これにより、入力側のガス流に圧力変動が生じてもこの圧力変動を吸収して、流量を高い精度で制御性よく制御することができる。
このように、バルブ駆動が終了したならば、図4に示すステップ8へ進むことになる。尚、この全体のフローから明らかなように、通常のガス管では、一度大きな圧力変動が生ずると、数サンプリング期間〜数十サンプリング期間はこの圧力変動が生ずる。そして、この間、ホストコンピュータ46へは圧力変動が生ずる直前に記憶された流量値が外部流量出力信号Soutとして出力し続けられることになる。
次に、本発明の特徴である上記ステップ21におけるバルブ駆動電圧の算出過程について説明する。
印加すべき目標とするバルブ駆動電圧Va(=S4)は以下の演算式(2)で求められる。
Va=Vb+(Vpn−Vpb)・・・・(2)
Vb:閾値以上の圧力変化前のバルブ駆動電圧(記憶された最新のバルブ駆動電圧)
Vpn:検出された現在の圧力検出値と閾値以上の圧力変化前の流量出力と図3のバルブ特性テーブルから求められるバルブ電圧
Vpb:閾値以上の圧力変化前の圧力検出値と閾値以上の圧力変化前の流量出力と図3のバルブ特性テーブルから求められるバルブ電圧
ここで、図3に示すような0.05MPa毎に予め記憶されたバルブ特性からバルブ電圧Vpn、Vpbを求める。具体的な数値例を用いて説明すると流量設定信号S0が一定な場合において、例えば流量が120cc/min(=Q)、ガス流体の圧力が0.20MPaで安定して動作している時に、ガス流に閾値以上の圧力変化量が生じたと仮定する。
この時の、閾値以上の圧力変化前のバルブ駆動電圧Vb(例えば、66V)を保持し、圧力の変化量に応じたバルブ電圧の操作量が、図3に示すバルブ特性から求まる。
圧力が0.20MPaから0.25MPaに変化した場合を仮定すると、図3に示すバルブ特性から、流量120cc/minのときの圧力が0.20MPaのバルブ電圧は66V、圧力が0.25MPaのバルブ電圧は60Vになる。
式(2)から印加すべき目標とするバルブ駆動電圧Vnは、
Vn=66+(60−66)=60
と求められ、第2制御モードではこの求めたバルブ駆動電圧Vn(S4)をアクチュエータに印加することで、流量制御が行われることになる。
このように、アクチュエータに印加すべきバルブ駆動電圧Vnが求まる。そして、第2制御モードではこの求めたバルブ駆動電圧Vn(S4)をアクチュエータに印加することになる。
尚、ここではバルブ駆動信号としてバルブ駆動電圧Vn(=S4)を求めている。しかし、前述したようにアクチュエータとして電磁式のアクチュエータを用いた場合には、これは電流で駆動される。このことからバルブ駆動信号として上述したのと同様な計算式及び電流対応のバルブ特性に基づいてバルブ駆動電流を求めることになる。
これらにより、従来の装置の場合、ある程度の脈動が発生してしまいガス流量の制御性を低下させてしまっている。一方、本発明の装置の場合、流量信号S1の大きな変化が生ずる。しかし、この時に第1制御モードから第2制御モードに切り替わり、先に説明したような演算によりバルブ駆動電圧が求められ、この求められたバルブ駆動電圧S4がアクチュエータに印加されることになる。この結果、流量制御弁20の弁開度が適正に制御されることになるので、流体出口より流れ出るガス流量は、上流側のガス流に圧力変動が生じたにもかかわらず、一定の流量を保ち続けることができる。
従って、上流側のガス量の圧力変動を吸収して流量の制御性を高く維持することができる。この場合、流量信号S1の値を、そのまま外部流量出力信号Soutとして出力していた従来の装置と異なり、本発明では、閾値以上の圧力変動が生ずる直前の流量信号S1の値を、外部流量出力信号Soutとして出力している(図6中のS22参照)。従って、ホストコンピュータ46側でモニタしているオペレータは、半導体製造装置に実際に流れこんでいるガス流量は正常であると確認することができる。
本発明に係る流量制御装置の第1実施例を示す構成図である。 アクチュエータとして積層圧電素子を用いた場合の流量制御弁機構のバルブ特性の一例を示すバルブ特性図である。 本発明に係る第2制御モードで用いる予め準備された圧力毎の設定流量とバルブ駆動電圧との一例を示す相関関係図 本発明の流量制御装置で行われる制御フローを示す図である。 第1制御モードの制御フローを示す図である。 第2制御モードの制御フローを示す図である。
符号の説明
4 ガス管(流体通路)
6 流路
8 流量検出手段
10 流量制御弁機構
12 バイパス管群
14 センサ管
20 流量制御弁
22 ダイヤフラム
26 アクチュエータ
40 流量制御装置
42 圧力検出手段
44 制御手段
S0 流量設定手段
S1 流量信号
Sout 外部流量出力信号
S4 バルブ駆動電圧(バルブ駆動信号)

Claims (5)

  1. 流体を流す流路に、流量を検出して流量信号を出力する流量検出手段と、バルブ駆動信号により弁開度を変えることによって流量を制御する流量制御弁機構とを設け、外部から入力される流量設定信号に基づいて前記流量制御弁機構を制御する制御手段を設けてなる流量制御装置において、
    前記流路に前記流体の圧力を検出して圧力検出信号を出力する圧力検出手段を設け、
    前記制御手段は、前記圧力検出信号を用いることなく、前記流量信号と前記流量設定信号とに基づいて流量の制御を行う第1制御モードと、前記圧力検出信号から得られる圧力変化量と前記流量設定信号とに基づいて流量の制御を行う第2制御モードとを選択的に切り替えるように構成することを特徴とする流量制御装置。
  2. 前記制御手段は、前記圧力変化量が所定の閾値以上になった時に前記第1制御モードから前記第2制御モードに切り替わり、
    前記第2制御モードでは、予め用意された流体の圧力とバルブ駆動電圧と流体の実流量との関係に基づいて
    前記バルブ駆動電圧を調整することを特徴とする請求項1記載の流量制御装置。
  3. 前記予め用意された流体の圧力とバルブ駆動電圧と流体の実流量との関係は、前記流体の圧力毎に記憶されていることを特徴とする請求項2記載の流量制御装置。
  4. 前記第2制御モードでは、前記圧力変化量が前記所定の閾値以上変化する直前の流量値と、
    前記圧力変化量が前記所定の閾値以上変化する直前の圧力検出値と、
    現在の圧力検出値と、
    前記圧力変化量が前記所定の閾値以上変化する直前のバルブ駆動電圧と、
    予め用意された流体の圧力とバルブ駆動電圧と流体の実流量との関係とに基づいて印加すべきバルブ駆動電圧を求めることを特徴とする請求項1乃至3記載の流量制御装置。
  5. 前記制御手段は、前記第2制御モードでは、
    前記圧力変化量が前記所定の閾値以上変化する直前の流量値を、外部へ流量出力信号として出力するようにしたことを特徴とする請求項1乃至4のいずれかに記載の流量制御装置。
JP2006312770A 2006-11-20 2006-11-20 流量制御装置 Pending JP2008129765A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006312770A JP2008129765A (ja) 2006-11-20 2006-11-20 流量制御装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006312770A JP2008129765A (ja) 2006-11-20 2006-11-20 流量制御装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2008129765A true JP2008129765A (ja) 2008-06-05

Family

ID=39555528

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2006312770A Pending JP2008129765A (ja) 2006-11-20 2006-11-20 流量制御装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2008129765A (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011048502A (ja) * 2009-08-25 2011-03-10 Horiba Stec Co Ltd 流量制御装置
JP2012160215A (ja) * 2012-05-28 2012-08-23 Horiba Stec Co Ltd 流量制御装置
JP2015500542A (ja) * 2011-12-13 2015-01-05 日立金属株式会社 複数種類の気体を用いることができる、適応的な圧力無感応性のマスフローコントローラ及び方法
JP2020079981A (ja) * 2018-11-12 2020-05-28 アズビル株式会社 制御システムおよび制御方法

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11259140A (ja) * 1998-03-13 1999-09-24 Kokusai Electric Co Ltd 流量制御装置
JP2005222173A (ja) * 2004-02-03 2005-08-18 Hitachi Metals Ltd 質量流量制御装置

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11259140A (ja) * 1998-03-13 1999-09-24 Kokusai Electric Co Ltd 流量制御装置
JP2005222173A (ja) * 2004-02-03 2005-08-18 Hitachi Metals Ltd 質量流量制御装置

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011048502A (ja) * 2009-08-25 2011-03-10 Horiba Stec Co Ltd 流量制御装置
US9081388B2 (en) 2009-08-25 2015-07-14 Horiba Stec, Co., Ltd. Flow rate control device
US9304030B2 (en) 2009-08-25 2016-04-05 Horiba Stec, Co. Ltd. Flow rate control device
JP2015500542A (ja) * 2011-12-13 2015-01-05 日立金属株式会社 複数種類の気体を用いることができる、適応的な圧力無感応性のマスフローコントローラ及び方法
JP2012160215A (ja) * 2012-05-28 2012-08-23 Horiba Stec Co Ltd 流量制御装置
JP2020079981A (ja) * 2018-11-12 2020-05-28 アズビル株式会社 制御システムおよび制御方法
JP7139222B2 (ja) 2018-11-12 2022-09-20 アズビル株式会社 制御システムおよび制御方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4186831B2 (ja) 質量流量制御装置
JP5499381B2 (ja) 流量制御装置
KR102250967B1 (ko) 압력식 유량 제어 장치 및 유량 제어 방법
KR101209762B1 (ko) 유량 센서 및 이것을 사용한 질량 유량 제어 장치
US6561218B2 (en) Small internal volume fluid mass flow control apparatus
JP5090559B2 (ja) マスフローコントローラ
JP2006038832A (ja) 質量流量制御装置及びこの検定方法
JP2010512571A (ja) 質量流量コントローラのコントローラ利得スケジューリング
KR20010052885A (ko) 병렬분류형 유체공급장치와, 이것에 사용하는 유체가변형압력식 유량제어방법 및 유체가변형 압력식 유량제어장치
JP2008170410A (ja) 質量流量制御装置、その検定方法及び半導体製造装置
JPH11212653A (ja) 流体供給装置
JP2013156801A (ja) 半導体製造装置のガス分流供給装置
US20100037959A1 (en) Method for supplying process gas, system for supplying process gas, and system for processing object to be processed
JP2008129765A (ja) 流量制御装置
JP2020013269A (ja) 流量制御装置
TWI695244B (zh) 流體控制系統及流量測定方法
JP2007034550A (ja) マスフローコントローラ
JP2002099330A (ja) 流量制御装置
JP3893115B2 (ja) マスフローコントローラ
JPH07160338A (ja) 流量制御方法
TWI765472B (zh) 流量控制裝置以及流量控制方法
JPH08335118A (ja) 流量制御方法
JP6600854B2 (ja) 圧力式流量制御装置、その流量算出方法および流量制御方法
KR101842160B1 (ko) 유량제어장치 및 방법
JP4784338B2 (ja) 質量流量制御装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Effective date: 20091016

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20101116

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20110518

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20110527

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20111007