JP2008101980A - 容量式半導体センサ装置 - Google Patents

容量式半導体センサ装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2008101980A
JP2008101980A JP2006283854A JP2006283854A JP2008101980A JP 2008101980 A JP2008101980 A JP 2008101980A JP 2006283854 A JP2006283854 A JP 2006283854A JP 2006283854 A JP2006283854 A JP 2006283854A JP 2008101980 A JP2008101980 A JP 2008101980A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
bumps
dummy
chip
sensor chip
origin
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2006283854A
Other languages
English (en)
Inventor
Mineichi Sakai
峰一 酒井
Michihiro Masuda
道広 増田
Kimiji Kayukawa
君治 粥川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Denso Corp
Original Assignee
Denso Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Denso Corp filed Critical Denso Corp
Priority to JP2006283854A priority Critical patent/JP2008101980A/ja
Priority to US11/882,135 priority patent/US8156804B2/en
Publication of JP2008101980A publication Critical patent/JP2008101980A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01PMEASURING LINEAR OR ANGULAR SPEED, ACCELERATION, DECELERATION, OR SHOCK; INDICATING PRESENCE, ABSENCE, OR DIRECTION, OF MOVEMENT
    • G01P15/00Measuring acceleration; Measuring deceleration; Measuring shock, i.e. sudden change of acceleration
    • G01P15/02Measuring acceleration; Measuring deceleration; Measuring shock, i.e. sudden change of acceleration by making use of inertia forces using solid seismic masses
    • G01P15/08Measuring acceleration; Measuring deceleration; Measuring shock, i.e. sudden change of acceleration by making use of inertia forces using solid seismic masses with conversion into electric or magnetic values
    • G01P15/125Measuring acceleration; Measuring deceleration; Measuring shock, i.e. sudden change of acceleration by making use of inertia forces using solid seismic masses with conversion into electric or magnetic values by capacitive pick-up
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B81MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY
    • B81CPROCESSES OR APPARATUS SPECIALLY ADAPTED FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF MICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS
    • B81C1/00Manufacture or treatment of devices or systems in or on a substrate
    • B81C1/00015Manufacture or treatment of devices or systems in or on a substrate for manufacturing microsystems
    • B81C1/00222Integrating an electronic processing unit with a micromechanical structure
    • B81C1/0023Packaging together an electronic processing unit die and a micromechanical structure die
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01PMEASURING LINEAR OR ANGULAR SPEED, ACCELERATION, DECELERATION, OR SHOCK; INDICATING PRESENCE, ABSENCE, OR DIRECTION, OF MOVEMENT
    • G01P1/00Details of instruments
    • G01P1/02Housings
    • G01P1/023Housings for acceleration measuring devices
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01PMEASURING LINEAR OR ANGULAR SPEED, ACCELERATION, DECELERATION, OR SHOCK; INDICATING PRESENCE, ABSENCE, OR DIRECTION, OF MOVEMENT
    • G01P15/00Measuring acceleration; Measuring deceleration; Measuring shock, i.e. sudden change of acceleration
    • G01P15/02Measuring acceleration; Measuring deceleration; Measuring shock, i.e. sudden change of acceleration by making use of inertia forces using solid seismic masses
    • G01P15/08Measuring acceleration; Measuring deceleration; Measuring shock, i.e. sudden change of acceleration by making use of inertia forces using solid seismic masses with conversion into electric or magnetic values
    • G01P15/0802Details
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B81MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY
    • B81BMICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS, e.g. MICROMECHANICAL DEVICES
    • B81B2201/00Specific applications of microelectromechanical systems
    • B81B2201/02Sensors
    • B81B2201/0228Inertial sensors
    • B81B2201/0235Accelerometers
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/02Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/04Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
    • H01L2224/05Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
    • H01L2224/0554External layer
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/02Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/04Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
    • H01L2224/05Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
    • H01L2224/0554External layer
    • H01L2224/0556Disposition
    • H01L2224/05568Disposition the whole external layer protruding from the surface
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/02Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/04Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
    • H01L2224/05Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
    • H01L2224/0554External layer
    • H01L2224/05573Single external layer
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/15Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
    • H01L2224/16Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
    • H01L2224/161Disposition
    • H01L2224/16135Disposition the bump connector connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip
    • H01L2224/16145Disposition the bump connector connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip the bodies being stacked
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/15Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
    • H01L2224/16Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
    • H01L2224/161Disposition
    • H01L2224/16151Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/16221Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/16225Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/00014Technical content checked by a classifier the subject-matter covered by the group, the symbol of which is combined with the symbol of this group, being disclosed without further technical details
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/161Cap
    • H01L2924/1615Shape
    • H01L2924/16195Flat cap [not enclosing an internal cavity]

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Pressure Sensors (AREA)
  • Wire Bonding (AREA)

Abstract

【課題】センサチップを回路チップに対してバンプを介してフリップチップ接続するものにあって、それらの接合強度を高める。
【解決手段】センサチップ12を回路チップ13に対しフェースダウン状態とし、4個のバンプ29により接続する。このとき、センサチップ12と回路チップ13との間に、バンプ29に加えて、両者の機械的な接続を行う8個のダミーバンプ31を設ける。ダミーバンプ31(ダミーパッド23)を、第1〜第4の仮想線L1〜L4が形成する仮想四角形の各頂点部に4個配置すると共に、第3の仮想線L3に沿って、各頂点と第3の電極パッド21との中間点に位置して2個、第4の仮想線L4に沿って、各頂点と第4の電極パッド22との中間点に位置して2個配置する。各バンプ29及び各ダミーバンプ31の、原点OからのX軸方向の距離の総和ΣXと、原点OからのX軸方向の距離の総和ΣYとの関係が、ΣX>ΣYとなる。
【選択図】図1

Description

本発明は、例えば加速度センサやヨーレートセンサ等の、力学量を静電容量の変化として検出する容量式半導体センサ装置に関する。
この種の容量式半導体センサ装置、例えば自動車のエアバッグ用の半導体加速度センサとして、加速度検出部を有するセンサチップを、信号処理回路を有する回路チップ上に実装し、さらに、前記回路チップを、セラミック基板からなるパッケージ内に実装するようにしたいわゆるスタック構造を備えたものが供されている。この場合、従来では、センサチップと回路チップとの電気的接続、及び、回路チップとパッケージ側との電気的接続が、夫々ボンディングワイヤによりなされるようになっていた。
これに対し、近年では、ボンディングワイヤを用いることに代えて、センサチップと回路チップとの間、及び、回路チップとパッケージとの間をバンプにより接続することが提案されている(例えば特許文献1参照)。
具体的には、図10に示すように、センサチップ1は回路チップ2に対しフェースダウン状態とされ、センサチップの各電極パッド1aと回路チップ2の各電極パッドとの間がバンプ3により接続される。このとき、4個のバンプ3(各電極パッド1a)は、センサチップ1の各辺の中央部に配置される。そして、そのマルチチップモジュールの状態で、回路チップ2がパッケージ4に対しフェースダウン状態とされ、回路チップ2の各電極パッド2aとパッケージ4に設けられた各電極リードとの間がバンプ5より接続される。
特開2004−271312号公報
上記した特許文献1の構成によれば、センサチップ1と回路チップ2との間の電気的接続部(バンプ3)相互間における寄生容量による悪影響を防止して特性の向上を図ることができ、しかも、実装作業性の向上や、チップの設計の自由度を高めることができるといったメリットを得ることができる。ところが、その後の本発明者らの研究によれば、次のような点で改善の余地が残されていることが判明した。
即ち、センサチップ1と回路チップ2との間は、4個のバンプ3によって電気的及び機械的に接続されているが、機械的接合箇所が、4箇所のみであるため、衝撃に比較的弱く、高い衝撃が加えられると、バンプ3部分が損傷し、ひどい場合バンプ3の破損を招く虞があった。
本発明は上記事情に鑑みてなされたもので、その目的は、センサチップを回路チップに対してバンプを介してフリップチップ接続するようにしたものにあって、センサチップと回路チップとの接合強度を高めることができる容量式半導体センサ装置を提供することにある。
上記目的を達成するために、本発明の容量式半導体センサ装置は、センサチップを回路チップに対してバンプを介してフリップチップ接続するようにしたものにあって、センサチップと回路チップとの間に、前記バンプに加えて、両者の機械的な接続を行うダミーバンプを設けたところに特徴を有する(請求項1の発明)。
これによれば、センサチップと回路チップとの間の機械的な接続を行うダミーバンプを設けたことにより、バンプによる接続箇所をその分だけ多くすることができ、接合強度を高めることができる。また、センサチップと回路チップとのバンプによる接続と、ダミーバンプによる接続とは一括して行うことができるので、ダミーバンプを設けるための別途の作業工程を設けずとも済ませることができる。
ところで、上記構成においては、センサチップは、回路チップに対し、バンプ及びダミーバンプ部分で拘束される(拘束力を受ける)ことになる。他方、センサチップは、使用時に熱応力を受けること等に起因して、多少なりとも反り変形が生ずる事情がある。この場合、一方向の検出軸を有する力学量検出部を有するセンサチップにあっては、その反りが、検出軸方向に生ずると、出力が大きく変動してしまい、検出精度の低下を招いてしまうことになる。これに対し、センサチップの反り変形が検出軸と直交する方向に生じた場合には、出力に対する影響は比較的小さいものとなる。
そこで、本発明では、熱応力に起因するセンサチップの反り変形の発生が避けられないものであるとしても、その反り変形が、検出軸方向でなくそれとは直交する方向に極力生ずるように、以下のようにして、バンプ及びダミーバンプの配置の工夫を施すことができる。
即ち、前記センサチップの力学量検出部の中心を原点Oとし、前記検出軸方向をY軸方向、それと直交する方向をX軸方向としたときに、前記各バンプ及び各ダミーバンプの、前記原点からのX軸方向の距離の総和ΣXと、前記原点からのX軸方向の距離の総和ΣYとの関係が、ΣX>ΣYとなるように、バンプ及びダミーバンプを配置することができる(請求項2の発明)。
これによれば、バンプ及びダミーバンプの位置が、原点OからY軸方向に比較的近く、原点OからX軸方向に比較的遠くなり、センサチップにおける、原点Oを挟んだバンプ及びダミーバンプによる拘束位置が、全体として、Y軸(検出軸)方向には間隔が比較的短く、X軸方向にはそれに比べて長く離れた状態となる。従って、X軸方向に関する反り変形の余地が大きくなり、反り変形は、Y軸方向に比べてX軸方向に生じやすくなる。
より具体的には、前記バンプとして、原点Oを挟んだY軸上の2箇所に位置する第1,第2バンプと、原点Oを挟んだX軸上の2箇所に位置する第3,第4バンプとの4個を設けることができる。このようなバンプの配置にあっては、ダミーバンプを、少なくともそれら4個のバンプを各辺の中央とした仮想四角形の各頂点部分に位置して設けるようにしたり(請求項3の発明)、或いは、ダミーバンプを、第1、第2バンプを通りX軸方向に平行な第1,第2の仮想線の間の領域に位置して設けるようにしたり(請求項4の発明)、或いは、ダミーバンプを、第3、第4バンプを通りY軸方向に平行な第3,第4の仮想線に沿って複数個ずつ設けるようにしたり(請求項5の発明)することができる。
更にこれらの場合に、前記バンプ及びダミーバンプを、Y軸に関して線対称であり且つ、原点Oに関して点対称となるように配置することが望ましい(請求項6の発明)。これにより、センサチップの回路チップに対する機械的な接合性を、バランスの良いものとすることができる。また、前記バンプを、センサチップの一辺部に並んで複数個設けたものにあっては、ダミーバンプを、センサチップの他の辺部に位置して設けるように構成することもできる(請求項7の発明)。
本発明においては、前記センサチップと回路チップとの間の隙間に、両者を接着する軟質接着部材を設けるようにしても良い(請求項8の発明)。これによれば、軟質接着部材による補強効果を併せて得ることができると共に、反り変形の抑制効果を得ることができる。このとき、センサチップの裏面側にも、同材質の軟質接着部材を設けるようにすれば(請求項9の発明)、センサチップの表裏両面が同材質の軟質接着部材で覆われるようになり、反り変形防止効果をより高めることができる。
更に、本発明においては、回路チップに、複数のダミーバンプ間の電気特性を検査するための検査用回路を設ける構成とすることもできる(請求項10の発明)。これによれば、例えば2つのダミーバンプ間の電気抵抗値を容易に測定することができ、ダミーバンプの接合異常ひいては、バンプの接合異常を検査すること等が可能となる。
以下、本発明を具体化したいくつかの実施例について、図1ないし図9を参照しながら説明する。尚、以下に述べる各実施例は、本発明を、例えば自動車のエアバッグシステム(衝突検出)用の容量式の半導体加速度センサに適用したものである。
(1)第1の実施例
まず、図1及び図2を参照して、本発明の第1の実施例(請求項1、2に対応)について述べる。図2は、本実施例に係る容量式半導体センサ装置たる半導体加速度センサ11の全体構成を概略的に示す縦断正面図であり、図1は、そのうちセンサチップ12の構成を示す図である。ここで、図2に示すように、この半導体加速度センサ11は、センサチップ12を回路チップ13に実装したスタック構造を備え、それらを例えばセラミック製のパッケージ14内に収容して構成される。
そのうち、まず、前記センサチップ12の構成の概略について述べる。図1(b)、(c)に示すように、このセンサチップ12は、例えば、シリコンからなる支持基板12a上に酸化膜12cを介して単結晶シリコン層12cを形成した矩形状(正方形状)のSOI基板をベースとし、マイクロマシニング技術によって、その表面の単結晶シリコン層12cに溝を形成することにより、中央部の矩形領域に位置して力学量検出部としての加速度検出部15を有している。
この場合、加速度検出部15は、図1(a)で前後方向(Y軸方向)加速度を検出するものとされ、一方向の検出軸(Y軸)を有するものとなっている。尚、この実施例では、図1(a)に示すように、加速度検出部15の中心を原点Oとし、前後方向(検出軸方向)をY軸方向とし、それとは直交する左右方向をX軸方向としている。
図1(a)に示すように、前記加速度検出部15は、加速度の作用に応じてY軸方向に変位する可動電極部16と、左右一対の固定電極部17,18とを有して構成される。そのうち可動電極部16は、加速度検出部15の中心部を前後方向に延びる錘部16aの前後両端部に左右方向に細長い矩形枠状をなす梁部16bを有すると共に、図で手前側の梁部16bの更に前端側にアンカ部16cを有している。そして、前記錘部16aから左右方向に夫々いわば櫛歯状に延びる多数本の細幅状の可動電極16dを有して構成されている。
また、前記アンカ部16cの上面部には、第1の電極パッド19が設けられている。そして、加速度検出部15を囲む枠状領域のうち錘部16aの後端側(前記第1の電極パッド19と原点Oを挟んだ反対側)の上面には、第2の電極パッド20が設けられている。尚、前記可動電極部16は、前記アンカ部16cを除いて、下面側の絶縁膜12bが除去されており、アンカ部16cのみが支持基板12aに支持されたいわゆる片持ち状に浮いた状態とされている。
これに対し、左側の固定電極部17は、原点Oの左方に位置する矩形状の基部17aから、右方にいわば櫛歯状に延びる多数本の細幅状の固定電極17bを有して構成されている。これら固定電極17bは、前記可動電極16dのすぐ後側に微小な隙間を介して平行に隣合うように設けられている。前記基部17aの上面には、第3の電極パッド21が設けられている。
右側の固定電極部18は、原点Oの右方に位置する矩形状の基部18aから、左方にいわば櫛歯状に延びる多数本の細幅状の固定電極18bを有して構成されている。これら固定電極18bは、前記可動電極16dのすぐ前側に微小な隙間を介して平行に隣合うように設けられている。前記基部18aの上面(前記第3の電極パッド21と原点Oに関して対称的な位置)には、第4の電極パッド22が設けられている。
これにて、前記可動電極部16(可動電極16d)と固定電極部17(固定電極17b)との間、及び、可動電極部16(可動電極16d)と固定電極部18(固定電極18b)との間に夫々コンデンサが形成され、これらコンデンサの静電容量は、Y軸方向の加速度の作用に伴う可動電極部16の変位に応じて差動的に変化することになり、もって、加速度を容量値の変化として取出すことができるようになっているのである。
尚、前記各電極パッド19、20、21、22は、夫々例えばアルミニウムから四角形状に形成されている。そして、このセンサチップ12の上面には、前記各電極パッド19、20、21、22に加えて、複数個のダミーパッド23が形成されるようになっている。このダミーパッド23の詳細に関しては後述する。
一方、前記回路チップ13は、図2に示すように、前記センサチップ12よりもやや大きな矩形板状をなし、図示はしないが、前記センサチップ12の加速度検出部15からの信号を処理する信号処理回路、具体的には、容量変化を電圧変化に変換して所定の出力に増幅するための、容量−電圧変換部、フィルタ、信号増幅部等を備えて構成されている。そして、図2に示すように、この回路チップ13の表面(図2では下面)中央部が前記センサチップ12が搭載されるマウント領域とされている。
詳しく図示はしないが、この回路チップ13のマウント領域には、前記センサチップ12の電極パッド19〜22及びダミーパッド23に対応して、それらに夫々接続される電極パッド24(一部のみ図示)及びダミーパッド(図示せず)が設けられる。また、この回路チップ13の表面(図2で下面)の左右の両辺部には、パッケージ14との接続のための複数個の電極パッド25(一部のみ図示)が夫々形成されている。さらに、本実施例では、この回路チップ13には、検査用回路が設けられるようになっている。
前記パッケージ14は、例えば多層セラミック基板からなり、全体として薄型の矩形容器状に構成されている。このパッケージ14の底部中央部には、前記センサチップ12を収容するための凹部14aが形成されている。そして、詳しく図示はしないが、このパッケージ14には、前記回路チップ13の電極パッド25に対応した複数個の接続用電極26aを含んで構成される配線26が設けられている。この配線26は、パッケージ14の底部の外面部に位置して外部と接続される接続部26bを有している。また、このパッケージ14の上面開口部は、蓋27が例えば銀製のろう28によりろう付けされ、気密に塞がれるようになっている。
さて、図2に示すように、前記センサチップ12は回路チップ13に対し、フェースダウン状態(フリップチップ方式)で、各電極パッド19〜22と各電極パッド24との間が合計4個のバンプ29により接続されるようになっている。このとき、各電極パッド19〜22部分に設けられるバンプ29が、順に夫々第1〜第4バンプ29となる。これにて、センサチップ12は回路チップ13に対しバンプ接続により実装(電気的及び機械的な接続)され、いわばマルチチップモジュールの状態となる。
そして、これと共に、そのマルチチップモジュールの状態で、回路チップ13はパッケージ14に対し、フェースダウン状態(フリップチップ方式)で、各電極パッド25とパッケージ14の接続電極26aとの間がバンプ30により接続され、電気的及び機械的な接続がなされるようになっている。前記バンプ29、30としては、半田、金などを用いることができる。
このとき、センサチップ12と回路チップ13との間には、前記バンプ29に加えて、両者の機械的な接続を行う複数個この場合8個のダミーバンプ31(図1(a)に想像線で示す)が設けられるようになっている。これらダミーバンプ31は、センサチップ12の表面に設けられたダミーパッド23と、回路チップ13の表面に設けられたダミーパッドとの間を夫々接続するように設けられる。本実施例では、前記ダミーパッド23(ひいてはダミーバンプ31)は、図1(a)に示すように配置される。
即ち、前記第1の電極パッド19(第1バンプ29)を通りX軸方向に平行な第1の仮想線L1、第2の電極パッド20(第2バンプ29)を通りX軸方向に平行な第2の仮想線L2、第3の電極パッド21(第3バンプ29)を通りY軸方向に平行な第3の仮想線L3、第4の電極パッド22(第4バンプ29)を通りY軸方向に平行な第4の仮想線L4を仮想する。すると、4個の電極パッド19〜22(バンプ29)を各辺の中央とした四角形(正方形)が仮想される。
ダミーパッド23(ひいてはダミーバンプ31)は、まず、前記仮想四角形の各頂点部分(各仮想線L1〜L4が交差する点の部分)に合計4個が設けられる。そして、これと共に、前記第3の仮想線L3に沿って、仮想四角形の前後の各頂点と、第3の電極パッド21(第3バンプ29)との夫々中間点に位置して2個のダミーパッド23(ひいてはダミーバンプ31)が設けられ、前記第4の仮想線L4に沿って、仮想四角形の前後の各頂点と、第4の電極パッド22(第4バンプ29)との夫々中間点に位置して2個のダミーパッド23(ひいてはダミーバンプ31)が設けられる。
これにより、電極パッド19〜22(4個のバンプ29)及びダミーパッド23(8個のダミーバンプ31)は、Y軸に関して線対称であり、且つ、原点Oに関して点対称となるように配置される。またこのとき、各バンプ29及び各ダミーバンプ31の、前記原点OからのX軸方向の距離の総和ΣXと、前記原点OからのX軸方向の距離の総和ΣYとの関係が、ΣX>ΣYとなる。
尚、図示はしないが、前記回路チップ13におけるダミーパッドについても、上記ダミーパッド23と対応した位置に設けられることは勿論である。そして、本実施例では、回路チップ13には、外部から複数のダミーパッド間(ひいてはダミーバンプ31間)に通電を行い、電気特性(例えば2つのダミーバンプ31間の電気抵抗値)を測定するための検査用回路(通電用回路)が形成されるようになっている。
この場合、センサチップ12と回路チップ13とを接合するにあたっては、予め回路チップ13の各電極パッド24及びダミーパッド部分に、予め、前記バンプ29及びダミーバンプ31を、例えばメッキ法を用いて、或いはフリップチップボンダによるスタッドバンプとして同時に形成しておくことができる。回路チップ13にセンサチップ12を接合する方法としては、超音波圧着を用いることができ、その他、熱圧着やリフロー法も用いることができる。パッケージ14に回路チップ13を接合する場合も同様の方法を採用することができる。
以上のように構成された本実施例の半導体加速度センサ11においては、センサチップ12と回路チップ13とは、4箇所のバンプ29により電気的及び機械的に接続されていると共に、8箇所のダミーバンプ31により機械的に接続されるようになる。従って、従来のようなセンサチップ1と回路チップ2とが4個のバンプ3によって接続されているものと異なり、バンプ29,31による接続箇所をその分だけ多くすることができ、センサチップ12と回路チップ13との接合強度を高めることができる。
また、センサチップ12と回路チップ13とのバンプ29による接続と、ダミーバンプ31による接続とは一括して行うことができるので、ダミーバンプ31を設けるための別途の作業工程を設けずとも済ませることができる。更に、バンプ29及びダミーバンプ31の配置により、センサチップ12の回路チップ13に対する機械的な接合性をバランスの良いものとすることができる。
ここで、上記構成においては、センサチップ12は、回路チップ13に対し、バンプ29及びダミーバンプ31部分で拘束される(拘束力を受ける)ことになる。他方、センサチップ12は、使用時に熱応力を受けること等に起因して、多少なりとも反り変形が生ずる事情がある。
この場合、図1(c)に矢印Wyで示すように、センサチップ12の反りが、もし、検出軸方向(Y軸方向)に生ずると、可動電極16dと固定電極17b,18bとの間の隙間が変化してしまい、センサ出力が大きく変動して検出精度の低下を招いてしまうことになる。これに対し、図1(b)に矢印Wxで示すように、センサチップ12の反り変形が検出軸と直交する方向(X軸方向)に生じた場合には、出力に対する悪影響は比較的小さいものとなる。
本実施例では、ダミーバンプ31を、仮想四角形の4個の頂点、及び、仮想線L3,L4に沿って配置し、各バンプ29及び各ダミーバンプ31の、原点OからのX軸方向の距離の総和ΣXと、原点OからのX軸方向の距離の総和ΣYとの関係が、ΣX>ΣYとなるように構成した。これにより、熱応力に起因するセンサチップ12の反り変形の発生が避けられないものであるとしても、その反り変形が、検出軸(Y軸)方向でなくX軸方向に極力生ずるようになる。従って、センサチップ12の反り変形に起因する検出精度の低下を防止することができる。
また、本実施例では、回路チップ13に、外部から複数のダミーバンプ31間に通電を行ってダミーバンプ31間の電気抵抗値を測定するための検査用回路を設けたので、適宜の時期に、ダミーバンプ31間の電気抵抗値を測定する検査を容易に行うことができる。この場合、2個のダミーバンプ31間の電気抵抗値が正常範囲内にあれば、各ダミーバンプ31やバンプ29に異常がないと判断でき、2個のダミーバンプ31間の電気抵抗値が異常に大きくなった場合には、ダミーバンプ31に破損(電極パッドからの剥がれ)等の異常が発生したと判断(診断)することができる。
このように本実施例によれば、センサチップ12を回路チップ13に対してバンプ29,31を介してフリップチップ接続するようにしたものにあって、バンプ29に加えて複数個のダミーバンプ31を設けたことにより、センサチップ12と回路チップ13との接合強度を高めることができ、高衝撃に耐えるものとすることができるという優れた効果を得ることができる。しかも、本実施例では、バンプ29及びダミーバンプ31の配置の工夫により、センサチップ12の反り変形に起因する悪影響を少なく抑えることができるといった利点も得ることができる。
(2)第2〜第6の実施例
次に、本発明の第2〜第6の実施例について、図3〜図7を参照しながら順に述べる。尚、以下に述べる各実施例においては、やはり、本発明を上記第1の実施例と同様の半導体加速度センサに適用したものであり、上記第1の実施例と異なる点は、ダミーバンプ(ダミーパッド)の配置構成にある。従って、上記第1の実施例と同一部分には同一符号を付して詳しい説明を省略し、以下、相違する点を中心に述べることとする。
図3は、本発明の第2の実施例を示すもので、センサチップ41の平面構成を概略的に示している。このセンサチップ41は、中央部の矩形領域に位置して、可動電極部16及び左右一対の固定電極部17,18からなる加速度検出部15を有しており、また、第1〜第4の電極パッド19〜22を備えている。さらに、このセンサチップ41の上面部には、合計12個のダミーパッド42が設けられる。この第2の実施例では、センサチップ41は、図示しない回路チップに対し、第1〜第4の4個のバンプ29により電気的及び機械的に接続されると共に、ダミーバンプ43により機械的に接続される。
このとき、ダミーバンプ43(ダミーパッド42)は、各仮想線L1〜L4により構成される仮想四角形の頂点部分に計4個が設けられ、それに加えて、第3の仮想線L3及び第4の仮想線L4に夫々沿って、各4個ずつが設けられる。この場合も、電極パッド19〜22(4個のバンプ29)及びダミーパッド42(12個のダミーバンプ43)は、Y軸に関して線対称であり、且つ、原点Oに関して点対称となるように配置される。また、各バンプ29及び各ダミーバンプ43の、原点OからのX軸方向の距離の総和ΣXと、原点OからのX軸方向の距離の総和ΣYとの関係が、ΣX>ΣYとなる。
図4は、本発明の第3の実施例に係るセンサチップ45の概略的な平面図である。この実施例では、センサチップ45の上面部に設けられるダミーパッド46(ダミーバンプ47)は、第1の仮想線L1と第2の仮想線L2との間の領域に位置して、第3の仮想線L3及び第4の仮想線L4に夫々沿って、各2個ずつが設けられる。この場合も、電極パッド19〜22(4個のバンプ29)及びダミーパッド46(4個のダミーバンプ47)は、Y軸に関して線対称であり、且つ、原点Oに関して点対称となるように配置される。また、各バンプ29及び各ダミーバンプ47の、原点OからのX軸方向の距離の総和ΣXと、原点OからのX軸方向の距離の総和ΣYとの関係が、ΣX>ΣYとなる。
図5は、本発明の第4の実施例に係るセンサチップ49の概略的な平面図である。この第4の実施例では、左側の固定電極部17の基部17aに、第3の仮想線L3に沿って前後に第3の電極パッド21とダミーパッド50(ダミーバンプ51)とが設けられている。これと共に、右側の固定電極部18の基部18aに、第4の仮想線L4に沿って前後にダミーパッド50(ダミーバンプ51)と第4の電極パッド22とが設けられている。
この場合も、電極パッド19〜22(4個のバンプ29)及びダミーパッド50(2個のダミーバンプ51)は、Y軸に関して線対称であり、且つ、原点Oに関して点対称となるように配置される。2個のダミーバンプ51は、第1の仮想線L1と第2の仮想線L2との間の領域に位置して設けられている。また、各バンプ29及び各ダミーバンプ51の、原点OからのX軸方向の距離の総和ΣXと、原点OからのX軸方向の距離の総和ΣYとの関係が、ΣX>ΣYとなる。
図6は、本発明の第5の実施例に係るセンサチップ53の概略的な平面図である。この第5の実施例では、第3の電極パッド21の外側(仮想四角形の外側であるセンサチップ53の左辺中央部)に、ダミーパッド54(ダミーバンプ55)が設けられていると共に、第4の電極パッド22の外側(センサチップ53の右辺中央部)に、ダミーパッド54(ダミーバンプ55)が設けられている。
この場合も、電極パッド19〜22(4個のバンプ29)及びダミーパッド54(2個のダミーバンプ55)は、Y軸に関して線対称であり、且つ、原点Oに関して点対称となるように配置される。2個のダミーバンプ55は、第1の仮想線L1と第2の仮想線L2との間の領域に位置して設けられている。また、各バンプ29及び各ダミーバンプ55の、原点OからのX軸方向の距離の総和ΣXと、原点OからのX軸方向の距離の総和ΣYとの関係が、ΣX>ΣYとなる。
図7は、本発明の第6の実施例に係るセンサチップ57の概略的な平面図である。この第6の実施例では、合計4個のダミーパッド58(ダミーバンプ59)が、第1の仮想線L1と第2の仮想線L2との間の領域であり、仮想四角形の外側である、センサチップ57の右辺の前後部と、左辺の前後部とに設けられている。
この場合も、電極パッド19〜22(4個のバンプ29)及びダミーパッド58(4個のダミーバンプ59)は、Y軸に関して線対称であり、且つ、原点Oに関して点対称となるように配置される。また、各バンプ29及び各ダミーバンプ59の、原点OからのX軸方向の距離の総和ΣXと、原点OからのX軸方向の距離の総和ΣYとの関係が、ΣX>ΣYとなる。
上記した第2〜第6の実施例によっても、上記第1の実施例と同様に、バンプ29に加えて複数個のダミーバンプ43,47,51,55,59を設けたことにより、センサチップ41,45,49,53,57と回路チップ13との接合強度を高めることができ、高衝撃に耐えるものとすることができる。しかも、バンプ29及びダミーバンプ43,47,51,55,59の配置の工夫により、センサチップ41,45,49,53,57の反り変形に起因する悪影響を少なく抑えることができる。
(3)第7、第8の実施例、その他の実施例
図8は、本発明の第7の実施例を示すものであり、以下、上記第1の実施例と異なる点について述べる。図8は、本実施例に係るセンサチップ61の平面構成を概略的に示しており、このセンサチップ61の中央部やや後方寄りの矩形領域(破線で囲む部分)には、力学量検出部としての加速度検出部62が設けられる。
前記加速度検出部62は、可動電極部16と、左右一対の固定電極部63,64とを有して構成される。そのうち可動電極部16は、やはり、錘部16a、梁部16b,16b、アンカ部16c、櫛歯状の可動電極16dを有して構成され、アンカ部16cの上面部、つまりセンサチップ61の前辺部の中央部に電極パッド19が設けられている。本実施例では、可動電極部16の後部側の1つの電極パッドを省略している。
これに対し、左側の固定電極部63は、矩形状の基部63aから右方に櫛歯状に延びる固定電極63bを有すると共に、基部63aから前方に延びる固定電極配線部63cを有して構成されている。右側の固定電極部64は、矩形状の基部64aから左方に櫛歯状に延びる固定電極64bを有すると共に、基部64aから前方に延びる固定電極配線部64cを有して構成されている。
このとき、前記固定電極配線部63cの前端部の上面に、電極パッド65が設けられていると共に、固定電極配線部64cの前端部の上面に、電極パッド66が設けられている。これにて、複数個この場合3個の電極パッド19,65,66が、センサチップ61の一辺部たる前辺部に並んで設けられている。これら電極パッド19,65,66は、バンプ67により、図示しない回路チップと接続されるようになっている。
そして、本実施例では、ダミーパッド68(ダミーバンプ69)がセンサチップ61の他の辺部に位置して設けられる。具体的には、センサチップ61の左辺部及び右辺部には、各3個のダミーパッド68(ダミーバンプ69)が前後に並んで設けられ、センサチップ61の後辺部には、左右に2個のダミーパッド68(ダミーバンプ69)が設けられている。
この場合も、電極パッド19,65,66(バンプ67)及びダミーパッド68(ダミーバンプ69)は、Y軸に関して線対称に配置される。また、各バンプ67及び各ダミーバンプ69の、原点OからのX軸方向の距離の総和ΣXと、原点OからのX軸方向の距離の総和ΣYとの関係が、ΣX>ΣYとなる。
この第7の実施例によっても、上記第1の実施例と同様に、バンプ67に加えて複数個のダミーバンプ69を設けたことにより、センサチップ61と回路チップとの接合強度を高めることができ、高衝撃に耐えるものとすることができ、しかも、バンプ67及びダミーバンプ69の配置の工夫により、センサチップ61の反り変形に起因する悪影響を少なく抑えることができるといった効果を得ることができる。
図9は、本発明の第8の実施例を示すものであり、上記第1の実施例と異なる点は、センサチップ12と回路チップ13との間の隙間に、両者を接着する軟質接着部材としての接着フィルム71を設けるようにした構成にある。更に本実施例では、センサチップ12の裏面側(図で下面側)にも、同材質の軟質接着部材である接着フィルム72を設けるようにしている。
前記接着フィルム71は、例えばポリイミド系樹脂などの、電気絶縁性及び接着性を有するフィルム(NCF)から構成され、前記バンプ29及びダミーバンプ31が配置される部分に貫通穴を有すると共に、下面側に位置して、加速度検出部15(可動電極16dと固定電極17b,18b)の上面部から離間するように凹部71aを有している。
このような第8の実施例によれば、上記第1の実施例と同様の作用・効果に加え、接着フィルム71による補強効果を併せて得ることができると共に、接着フィルム71による反り変形の抑制効果を得ることができる。しかも、センサチップ12の表裏両面が、同材質の接着フィルム71,72で覆われる構成としたので、反り変形防止効果をより高めることができる。
尚、上記各実施例では、本発明を半導体加速度センサに適用するようにしたが、例えばヨーレートセンサなど、一方向の検出軸を有する他の容量型の半導体センサ装置にも適用することができる。その他、本発明は上記し図面に示した各実施例に限定されるものではなく、例えば、1個の回路チップに複数個のセンサチップを実装したり、パッケージ内に複数個の回路チップを実装したりする構成とすることも可能であり、また、上記した複数の実施例を組合せた如き構成とすることもでき、更には、パッケージの形状や、バンプ(各電極)の位置や個数、各部の材質などについても種々の変形が可能である等、要旨を逸脱しない範囲内で、適宜変更して実施し得るものである。
本発明の第1の実施例を示すもので、センサチップの概略的な平面図(a)、縦断正面図(b),縦断側面図(c) 半導体加速度センサの縦断正面図 本発明の第2の実施例を示す図1(a)相当図 本発明の第3の実施例を示す図1(a)相当図 本発明の第4の実施例を示す図1(a)相当図 本発明の第5の実施例を示す図1(a)相当図 本発明の第6の実施例を示す図1(a)相当図 本発明の第7の実施例を示す図1(a)相当図 本発明の第8の実施例を示す図2相当図 従来例を示すもので、半導体加速度センサの縦断正面図(a)及び蓋を取除いた状態の平面図(b)
符号の説明
図面中、11は半導体加速度センサ(容量式半導体センサ装置)、12,41,45,49,53,57,61はセンサチップ、13は回路チップ、15,62は加速度検出部(力学量検出部)、19,20,21,22,65,66は電極パッド、23,42,46,50,54,58,68はダミーパッド、29,67はバンプ、31,43,47,51,55,59,69はダミーバンプ、71,72は接着フィルム(軟質接着部材)を示す。

Claims (10)

  1. 一方向の検出軸を有する力学量検出部を形成してなるセンサチップと、信号処理回路を有する回路チップとを備え、前記センサチップを回路チップに対してバンプを介してフリップチップ接続するようにした容量式半導体センサ装置であって、
    前記センサチップと回路チップとの間に、前記バンプに加えて、両者の機械的な接続を行うダミーバンプを設けたことを特徴とする容量式半導体センサ装置。
  2. 前記センサチップの力学量検出部の中心を原点Oとし、前記検出軸方向をY軸方向、それと直交する方向をX軸方向としたときに、前記各バンプ及び各ダミーバンプの、前記原点からのX軸方向の距離の総和ΣXと、前記原点からのX軸方向の距離の総和ΣYとの関係が、ΣX>ΣYとされていることを特徴とする請求項1記載の容量式半導体センサ装置。
  3. 前記バンプは、前記原点Oを挟んだY軸上の2箇所に位置する第1,第2バンプと、前記原点Oを挟んだX軸上の2箇所に位置する第3,第4バンプとの4個が設けられ、それら4個のバンプを各辺の中央とした四角形を仮想した際に、前記ダミーバンプは、少なくとも前記四角形の各頂点部分に位置して4個が設けられていることを特徴とする請求項2記載の容量式半導体センサ装置。
  4. 前記バンプは、前記原点Oを挟んだY軸上の2箇所に位置する第1,第2バンプと、前記原点Oを挟んだX軸上の2箇所に位置する第3,第4バンプとの4個が設けられ、前記第1、第2バンプを通りX軸方向に平行な第1,第2の仮想線を夫々仮想した際に、前記ダミーバンプは、前記第1,第2の仮想線の間の領域に位置して設けられていることを特徴とする請求項2記載の容量式半導体センサ装置。
  5. 前記バンプは、前記原点Oを挟んだY軸上の2箇所に位置する第1,第2バンプと、前記原点Oを挟んだX軸上の2箇所に位置する第3,第4バンプとの4個が設けられ、前記第3、第4バンプを通りY軸方向に平行な第3,第4の仮想線を夫々仮想した際に、前記ダミーバンプは、前記第3,第4の仮想線に沿って複数個ずつ設けられていることを特徴とする請求項2記載の容量式半導体センサ装置。
  6. 前記バンプ及びダミーバンプは、前記Y軸に関して線対称であり且つ、前記原点Oに関して点対称となるように配置されていることを特徴とする請求項2ないし5のいずれかに記載の容量式半導体センサ装置。
  7. 前記バンプは、前記センサチップの一辺部に並んで複数個が設けられており、前記ダミーバンプは、前記センサチップの他の辺部に位置して設けられていることを特徴とする請求項2記載の容量式半導体センサ装置。
  8. 前記センサチップと回路チップとの間の隙間には、両者を接着する軟質接着部材が設けられていることを特徴とする請求項1ないし7のいずれかに記載の容量式半導体センサ装置。
  9. 前記センサチップの裏面側にも、同材質の軟質接着部材が設けられていることを特徴とする請求項8記載の容量式半導体センサ装置。
  10. 前記回路チップには、複数のダミーバンプ間の電気特性を検査するための検査用回路が設けられていることを特徴とする請求項1ないし9のいずれかに記載の容量式半導体センサ装置。
JP2006283854A 2006-10-18 2006-10-18 容量式半導体センサ装置 Pending JP2008101980A (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006283854A JP2008101980A (ja) 2006-10-18 2006-10-18 容量式半導体センサ装置
US11/882,135 US8156804B2 (en) 2006-10-18 2007-07-31 Capacitive semiconductor sensor

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006283854A JP2008101980A (ja) 2006-10-18 2006-10-18 容量式半導体センサ装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2008101980A true JP2008101980A (ja) 2008-05-01

Family

ID=39317143

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2006283854A Pending JP2008101980A (ja) 2006-10-18 2006-10-18 容量式半導体センサ装置

Country Status (2)

Country Link
US (1) US8156804B2 (ja)
JP (1) JP2008101980A (ja)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010151445A (ja) * 2008-12-23 2010-07-08 Denso Corp 半導体装置およびその製造方法
JP2011247625A (ja) * 2010-05-24 2011-12-08 Denso Corp センサ装置
JP2013051256A (ja) * 2011-08-30 2013-03-14 Denso Corp センサ装置
JPWO2012124282A1 (ja) * 2011-03-11 2014-07-17 パナソニック株式会社 センサ
JP2017201835A (ja) * 2017-08-02 2017-11-09 京セラ株式会社 弾性波装置および回路基板
JP2020041887A (ja) * 2018-09-10 2020-03-19 Koa株式会社 傾斜センサ

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5123559B2 (ja) * 2007-05-11 2013-01-23 株式会社日立製作所 半導体装置およびその製造方法
EP2187168A4 (en) * 2007-09-03 2013-04-03 Panasonic Corp INERTIA FORCE SENSOR
JP5264585B2 (ja) * 2009-03-24 2013-08-14 パナソニック株式会社 電子部品接合方法および電子部品
CN102449489B (zh) * 2009-06-03 2014-04-02 阿尔卑斯电气株式会社 物理量传感器
US9923105B2 (en) 2013-10-09 2018-03-20 Skorpios Technologies, Inc. Processing of a direct-bandgap chip after bonding to a silicon photonic device
US11181688B2 (en) 2009-10-13 2021-11-23 Skorpios Technologies, Inc. Integration of an unprocessed, direct-bandgap chip into a silicon photonic device
JP2013002938A (ja) * 2011-06-16 2013-01-07 Seiko Epson Corp センサーデバイス、およびその製造方法
US9632105B2 (en) * 2011-09-30 2017-04-25 Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. Angular velocity sensor for suppressing fluctuation of detection sensitivity
WO2014002416A1 (ja) * 2012-06-25 2014-01-03 パナソニック株式会社 歪センサ
KR102547235B1 (ko) * 2018-04-20 2023-06-23 삼성디스플레이 주식회사 표시 장치
JP2020161520A (ja) * 2019-03-25 2020-10-01 ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 撮像装置

Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0894472A (ja) * 1994-09-26 1996-04-12 Omron Corp 圧力センサ及び圧力センサの製造方法並びに当該圧力センサを備えたガスメータ及び血圧計
JPH1062448A (ja) * 1996-08-14 1998-03-06 Murata Mfg Co Ltd 外力検出装置
JPH10209162A (ja) * 1997-01-16 1998-08-07 Murata Mfg Co Ltd 半田バンプ接続電子部品およびその製造方法
JP2004151052A (ja) * 2002-11-01 2004-05-27 Matsushita Electric Works Ltd 半導体加速度センサ
JP2004333133A (ja) * 2003-04-30 2004-11-25 Mitsubishi Electric Corp 慣性力センサ
JP2004356228A (ja) * 2003-05-27 2004-12-16 Alps Electric Co Ltd 評価用素子、及びその評価方法
JP2005083799A (ja) * 2003-09-05 2005-03-31 Denso Corp 容量式力学量センサ装置
JP2006029827A (ja) * 2004-07-12 2006-02-02 Fujitsu Media Device Kk 慣性センサ
JP2006189418A (ja) * 2004-12-06 2006-07-20 Denso Corp センサ装置
JP2006201158A (ja) * 2003-10-03 2006-08-03 Matsushita Electric Works Ltd センサ装置
US20060220260A1 (en) * 2005-03-31 2006-10-05 Norio Takahashi Semiconductor chip package and manufacturing method thereof

Family Cites Families (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2730201B2 (ja) 1989-08-07 1998-03-25 株式会社デンソー 半導体加速度センサ
US6140144A (en) * 1996-08-08 2000-10-31 Integrated Sensing Systems, Inc. Method for packaging microsensors
JP3644205B2 (ja) * 1997-08-08 2005-04-27 株式会社デンソー 半導体装置及びその製造方法
US6430999B2 (en) * 2000-03-30 2002-08-13 Denso Corporation Semiconductor physical quantity sensor including frame-shaped beam surrounded by groove
JP2002005955A (ja) * 2000-06-26 2002-01-09 Denso Corp 容量式力学量センサ
US6973829B2 (en) 2000-08-29 2005-12-13 Denso Corporation Semiconductor dynamic quantity sensor with movable electrode and fixed electrode supported by support substrate
JP4165360B2 (ja) 2002-11-07 2008-10-15 株式会社デンソー 力学量センサ
JP2004247534A (ja) 2003-02-14 2004-09-02 Renesas Technology Corp 半導体装置
JP2004271312A (ja) 2003-03-07 2004-09-30 Denso Corp 容量型半導体センサ装置
US7243545B2 (en) 2003-03-20 2007-07-17 Denso Corporation Physical quantity sensor having spring
US7205095B1 (en) * 2003-09-17 2007-04-17 National Semiconductor Corporation Apparatus and method for packaging image sensing semiconductor chips
KR100907514B1 (ko) 2004-04-22 2009-07-14 파나소닉 전공 주식회사 센서 장치, 센서 시스템 및 그것의 제조 방법
JP2005353757A (ja) 2004-06-09 2005-12-22 Toshiba Matsushita Display Technology Co Ltd 半導体装置及び接続抵抗測定方法
JP4471746B2 (ja) 2004-06-24 2010-06-02 パナソニック株式会社 半導体実装方法
JP2006047006A (ja) 2004-08-02 2006-02-16 Denso Corp 断線検出回路
JP4438579B2 (ja) * 2004-09-14 2010-03-24 株式会社デンソー センサ装置
JP2006114529A (ja) 2004-10-12 2006-04-27 Hitachi Chem Co Ltd バンプ付きチップ並びにその接続構造体及び接続方法
JP4380618B2 (ja) * 2005-10-21 2009-12-09 株式会社デンソー センサ装置
JP2008002837A (ja) * 2006-06-20 2008-01-10 Denso Corp 半導体容量式センサの製造方法
JP5070778B2 (ja) * 2006-09-20 2012-11-14 株式会社デンソー 力学量センサ

Patent Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0894472A (ja) * 1994-09-26 1996-04-12 Omron Corp 圧力センサ及び圧力センサの製造方法並びに当該圧力センサを備えたガスメータ及び血圧計
JPH1062448A (ja) * 1996-08-14 1998-03-06 Murata Mfg Co Ltd 外力検出装置
JPH10209162A (ja) * 1997-01-16 1998-08-07 Murata Mfg Co Ltd 半田バンプ接続電子部品およびその製造方法
JP2004151052A (ja) * 2002-11-01 2004-05-27 Matsushita Electric Works Ltd 半導体加速度センサ
JP2004333133A (ja) * 2003-04-30 2004-11-25 Mitsubishi Electric Corp 慣性力センサ
JP2004356228A (ja) * 2003-05-27 2004-12-16 Alps Electric Co Ltd 評価用素子、及びその評価方法
JP2005083799A (ja) * 2003-09-05 2005-03-31 Denso Corp 容量式力学量センサ装置
JP2006201158A (ja) * 2003-10-03 2006-08-03 Matsushita Electric Works Ltd センサ装置
JP2006029827A (ja) * 2004-07-12 2006-02-02 Fujitsu Media Device Kk 慣性センサ
JP2006189418A (ja) * 2004-12-06 2006-07-20 Denso Corp センサ装置
US20060220260A1 (en) * 2005-03-31 2006-10-05 Norio Takahashi Semiconductor chip package and manufacturing method thereof

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010151445A (ja) * 2008-12-23 2010-07-08 Denso Corp 半導体装置およびその製造方法
JP2011247625A (ja) * 2010-05-24 2011-12-08 Denso Corp センサ装置
JPWO2012124282A1 (ja) * 2011-03-11 2014-07-17 パナソニック株式会社 センサ
US9231119B2 (en) 2011-03-11 2016-01-05 Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. Sensor
JP2013051256A (ja) * 2011-08-30 2013-03-14 Denso Corp センサ装置
JP2017201835A (ja) * 2017-08-02 2017-11-09 京セラ株式会社 弾性波装置および回路基板
JP2020041887A (ja) * 2018-09-10 2020-03-19 Koa株式会社 傾斜センサ
JP7191601B2 (ja) 2018-09-10 2022-12-19 Koa株式会社 傾斜センサ

Also Published As

Publication number Publication date
US8156804B2 (en) 2012-04-17
US20080093740A1 (en) 2008-04-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2008101980A (ja) 容量式半導体センサ装置
US8080869B2 (en) Wafer level package structure and production method therefor
US7762134B2 (en) Dynamic quantity sensor
EP1953817B1 (en) Sensor device and method for manufacturing same
EP2434297A1 (en) Structure having chip mounted thereon and module provided with the structure
WO2010095205A1 (ja) 半導体センサデバイス,半導体センサデバイスの製造方法,パッケージ,パッケージの製造方法,モジュール,及びモジュールの製造方法,及び電子機器
JP2004271312A (ja) 容量型半導体センサ装置
CN111504540A (zh) 传感器装置
JP2015010906A (ja) トランスファーモールド型センサ装置
JP2007263766A (ja) センサ装置
JP2010085143A (ja) 加速度センサー
JP2007173641A (ja) センサモジュール
JP3938204B1 (ja) ウェハレベルパッケージ構造体およびセンサエレメント
JP5902305B2 (ja) 半導体装置
JP4674622B2 (ja) センサモジュール及びその製造方法
JP5395412B2 (ja) インタポーザ
JP5075979B2 (ja) 磁気センサパッケージ
JP5154275B2 (ja) 磁気センサパッケージ
JP3938202B1 (ja) センサパッケージの製造方法
JP2010008172A (ja) 半導体装置
JP4706634B2 (ja) 半導体センサおよびその製造方法
JP5656070B2 (ja) 振動式絶対圧トランスデューサ
JP2008209163A (ja) センサ装置
JP4816065B2 (ja) センサモジュールの製造方法
JP5757174B2 (ja) センサ装置およびその製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20081208

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20110114

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20110125

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110325

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20110726

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110926

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20120306