JP2008091072A - Electro-optical device and its manufacturing method - Google Patents

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JP2008091072A JP2006267863A JP2006267863A JP2008091072A JP 2008091072 A JP2008091072 A JP 2008091072A JP 2006267863 A JP2006267863 A JP 2006267863A JP 2006267863 A JP2006267863 A JP 2006267863A JP 2008091072 A JP2008091072 A JP 2008091072A
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optical device
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JP2006267863A
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Inventor
Shuichi Takei
周一 武井
Original Assignee
Seiko Epson Corp
セイコーエプソン株式会社
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To improve display characteristics by securing flatness of a functional layer of an electro-optical device such as an organic EL display device. <P>SOLUTION: The electro-optical device is equipped with a pixel electrode 200 regularly arranged on a substrate 20, a barrier rib 314 formed of two or more of material layers surrounding an opening face of the pixel electrode 200, and a functional layer 322 including at least a light-emitting layer 326 formed by solidifying a liquid material dropped in a region surrounded by the barrier rib 314. The barrier rib 314 has a step part 302 with the upper face of a first material layer 311 as the bottom part and with a face obtained by patterning a second material layer 312 as the side wall. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、例えば有機エレクトロルミネッセンス表示装置等の電気光学装置とその製造方法に関する。 The present invention is, for example, an organic electroluminescent display device the electro-optical device, such as a manufacturing method thereof.

有機エレクトロルミネッセンス(以下、「EL」と称する。)表示装置の製造工程では、基板上にマトリクス状に配置されている各々の画素電極上に、発光層等の機能層を複数回形成する必要がある。 Organic electroluminescence (hereinafter, referred to as. "EL") in the manufacturing process of the display device, on each pixel electrode are arranged in a matrix on a substrate, is necessary to form a plurality of times a functional layer such as a light emitting layer is there. そして当該工程に用いる手法として、上記機能層形成材料を溶質とする液体材料(以下、「液材」と称する。)の液滴を上記画像素電極上に滴下して、溶媒を乾燥除去して固化するインクジェット法が有力とされている。 And as a method used in this step, the functional layer forming material a liquid material as a solute (hereinafter, referred to as "liquid material".) Droplets was dropped onto the image-containing electrode, and the solvent removed by drying an ink-jet method of solidifying is a promising.
インクジェット法では、各々の画素電極を区画する隔壁を上記液滴が乗り越えないことと、上記隔壁と上記画素電極の境界近傍における上記液滴のつきまわりの確保と、の両立が必要となる。 In the inkjet method, comprising a the partition walls separating each of the pixel electrodes not get over is the droplet, and secured around per of the droplet in the vicinity of the boundary between the partition wall and the pixel electrode, required to achieve both. そこで隔壁を、有機材料からなる上部隔壁と無機材料からなる下部隔壁とを階段状に積層して、2層構造にする手法が提案されている(特許文献1)。 Therefore the partition wall, and a lower partition consisting of upper partition and the inorganic material made of an organic material are laminated stepwise, a technique for a two-layer structure has been proposed (Patent Document 1).

特開2000−334782号公報 JP 2000-334782 JP

しかし、上述する構造の隔壁では、滴下された液滴が乾燥する工程において、画素周辺部における液滴の保持力が不足するため、画素電極上に形成される乾燥後の機能層の平坦性が低下し得るという課題があった。 However, in the partition wall of the structure described above, in the process of droplet that is dripped is dried, due to the lack retention of droplets in the pixel peripheral portion, the flatness of the functional layer after drying which is formed on the pixel electrode there is a problem that may reduce. 本発明は上記問題点に鑑みてなされたものであり、機能層の平坦性を確保して、表示特性を向上させることを目的とする。 The present invention has been made in view of the above problems, to ensure flatness of the functional layer, and an object thereof is to improve the display characteristics.

上記課題を解決するために、本発明の電気光学装置は、基板上に規則的に配置された画素電極と、上記画素電極の開口面を囲む2以上の材料層からなる隔壁と、上記隔壁で囲まれた領域内に滴下した液体材料を固化して形成された少なくとも発光層を含む機能層と、を備える電気光学装置であって、上記隔壁が、第1の材料層の上面を底部とし、第2の材料層をパターニングして得られる面を側壁とする段差部を有することを特徴とする。 In order to solve the above problems, an electro-optical device of the present invention includes a pixel electrode which are regularly arranged on a substrate, a partition wall consisting of two or more layers of material surrounding the opening surface of the pixel electrode, in the partition a functional layer including at least a light emitting layer in a region surrounded by formed by solidifying the dropped liquid material, an electro-optical device including the above partition walls, the upper surface of the first material layer and the bottom, It characterized by having a step portion to the side wall surface which is obtained by patterning the second material layer.
隔壁に段差部を設けることで、滴下後の液体材料を隔壁の方向に吸引でき、中央部に凝集しようとする働きを緩和できる。 By providing the step portion on the partition wall, the liquid material after dropping can suction in the direction of the partition wall can be alleviated serve to be aggregated in the central portion. したがって、平坦な機能層が形成でき、表示性能、すなわち電気特性および寿命特性が向上した電気光学装置を得ることができる。 Thus, can be formed flat functional layers, it is possible to obtain display performance, i.e., an electro-optical device electrical characteristics and improved life characteristics.

好ましくは、上記第1の材料層および上記第2の材料層が無機材料からなることを特徴とする。 Preferably, the first material layer and the second material layer is characterized by comprising an inorganic material.
無機材料は親液性を有するため、滴下後の液滴を隔壁の方向に一層強く吸引できる。 Inorganic materials to have a lyophilic property, can be sucked more strongly droplets after dropping in the direction of the partition wall. したがって、表示性能が一層向上した電気光学装置を得ることができる。 Therefore, it is possible to obtain an electro-optical device display performance has been further improved.

また、好ましくは、上記隔壁が、上記第2の材料層の上層に、有機材料からなる第3の材料層をさらに有することを特徴とする。 Also, preferably, the partition walls, the upper layer of the second material layer, and further comprising a third material layer made of an organic material.
有機材料は撥液性を付与できるため、滴下した液滴が隣接する画素電極の開口面に移動することを抑制できる。 Organic materials because it can impart liquid repellency, it is possible to suppress the dropped droplet is moved to the open face of the adjacent pixel electrodes. したがって、表示性能が一層向上した電気光学装置を得ることができる。 Therefore, it is possible to obtain an electro-optical device display performance has been further improved.

また、好ましくは、上記段差部の外周の形状が、多角形であることを特徴とする。 Also, preferably, the shape of the outer periphery of the step portion, characterized in that it is a polygon.
かかる構成により、上記段差部の周辺長を増大でき、滴下後の液滴を隔壁の方向に一層強く吸引できる。 With this configuration, it is possible to increase the peripheral length of the step portion, can be sucked more strongly droplets after dropping in the direction of the partition wall. したがって、表示性能が一層向上した電気光学装置を得ることができる。 Therefore, it is possible to obtain an electro-optical device display performance has been further improved.

また、好ましくは、上記段差部の外周の形状に、内角が180度を超えている部分があることを特徴とする。 Also, preferably, the shape of the outer periphery of the step portion, the inner angle which is characterized in that there is a portion that exceeds 180 degrees.
かかる構成により、上記段差部の周辺長をより一層増大でき、滴下後の液滴を隔壁の方向により一層強く吸引できる。 With this configuration, can further increase the peripheral length of the step portion, the droplet after dropping can be sucked more strongly by the direction of the partition wall. したがって、表示性能がより一層向上した電気光学装置を得ることができる。 Therefore, it is possible to obtain an electro-optical device further has further improved display performance.

また、好ましくは、上記段差部の外周の形状が、不規則な直線および/または曲線を連続した部分を有することを特徴とする。 Also, preferably, the shape of the outer periphery of the step portion, and having successive portions irregular straight and / or curved.
かかる構成により、上記段差部の周辺長をより一層増大でき、滴下後の液滴を隔壁の方向により一層強く吸引できる。 With this configuration, can further increase the peripheral length of the step portion, the droplet after dropping can be sucked more strongly by the direction of the partition wall. したがって、表示性能がより一層向上した電気光学装置を得ることができる。 Therefore, it is possible to obtain an electro-optical device further has further improved display performance.

また、本発明にかかる電気光学装置は有機エレクトロルミネッセンス表示装置であることを特徴とする。 Further, the electro-optical device according to the present invention is characterized in that an organic electroluminescence display device.
有機エレクトロルミネッセンス表示装置は機能層膜厚の均一性により表示性能が左右されるので、上述する構成により表示性能を向上させることができる。 Since the organic electroluminescence display device display performance is governed by the uniformity of the functional layer thickness, thereby improving the display performance by construction to the aforementioned.

本発明にかかる電気光学装置の製造方法は、基板上に画素電極を規則的に配置する工程と、上記基板上に無機材料からなる第1の材料層を形成する工程と、上記第1の材料層の上層に無機材料からなる第2の材料層を形成する工程と、上記第1の材料層と上記第2の材料層を、双方の層の境界面に段差が生じるようにパターニングして、上記画素電極の周辺を囲む隔壁を形成する工程と、上記隔壁で囲まれた上記画素電極上に機能層形成材料を溶質とする液体材料の液滴を滴下する工程と、を含むことを特徴とする。 Method of manufacturing an electro-optical device according to the present invention includes the steps of forming a step of arranging the pixel electrode on a substrate regularly, the first material layer comprising an inorganic material on the substrate, said first material forming a second material layer comprising an inorganic material on the upper layer of the layer, the first material layer and the second material layer is patterned so a step is formed at the interface of both layers, and characterized in that it comprises a step of forming a barrier rib which surrounds the periphery of the pixel electrode, and a step of forming a functional layer material on the pixel electrode surrounded dropping droplets of the liquid material as a solute in the partition, the to.
かかる製造方法によれば、上記画像素電極上に滴下した液滴を上記段差部で保持できるので、平坦な機能層を形成でき、表示性能の優れた電気光学装置を得ることができる。 According to such a manufacturing method, a droplet was dropped onto the image-containing electrode can be held at the step portion, can form a flat functional layers, it is possible to obtain excellent electro-optical device display performance.

好ましくは、上記第1の材料層、および上記第2の材料層をパターニングした後に、上記基板上に有機材料からなる第3の材料層を形成する工程と、上記第3の材料層を、平面形状が上記第2の材料層と略同一となるようにパターニングする工程と、をさらに含むことを特徴とする。 Preferably, the first material layer, and after patterning the second material layer, and forming a third material layer made of an organic material on the substrate, the third material layer, the plane shape and further comprising a, a step of patterning so as substantially the same said second material layer.
かかる製造方法によれば、上記画像素電極上に滴下した液滴が隣接する画素電極上に流出することを抑制できるので、表示性能がより一層優れた電気光学装置を得ることができる。 According to such a manufacturing method, it is possible to suppress the droplet was dropped on the image pixel electrode flows out on the adjacent pixel electrodes, it is possible to display performance get even better electro-optical device.

以下、本発明を具体化した実施形態について図面に従って説明する。 It will be described below with reference to the drawings for the embodiment embodying the present invention. 本発明は隔壁内に液滴を滴下した後に溶媒を乾燥除去することで機能層を形成する工程を有する電気光学装置に対応するものであり、特に有機EL表示装置に対応するものである。 The present invention has been made to correspond to the electro-optical device having a step of forming a functional layer by drying and removing the solvent after dropping a droplet in the partition wall, which corresponds to a particular organic EL display device. そこで、まず図1および図2を用いて、後述する従来例および各実施形態において共通するアクティブマトリクス型の有機EL表示装置の構成について説明する。 Accordingly, first with reference to FIGS. 1 and 2 to describe the configuration of an active matrix type organic EL display device that is common in the conventional example and the embodiments to be described later.

図1は、アクティブマトリクス型の有機EL表示装置の全体構成を示す回路構成図である。 Figure 1 is a circuit diagram showing the overall configuration of an active matrix type organic EL display device. 画像表示領域10には、複数の走査線102と、走査線102と直交する複数の信号線104と、信号線104と平行に延びる複数の電源供給線106とが形成され、走査線102と信号線104との各々の交点近傍には、画素領域100が形成されている。 In the image display area 10, a plurality of scanning lines 102, a plurality of signal lines 104 perpendicular to the scanning lines 102, a plurality of power supply lines 106 extending in parallel to the signal line 104 is formed, the scanning lines 102 and the signal each of the intersection near the line 104, the pixel region 100 is formed.

さらに、各々の画素領域100には、走査線102を介して走査信号がゲート電極に供給されるスイッチング用TFT108と、スイッチング用TFT108を介して信号線104から供給される画素信号を保持する保持容量110と、保持容量110によって保持された画素信号がゲート電極に供給される駆動用TFT112と、駆動用TFT112を介して電源供給線106から駆動電流が流れ込む発光素子114が形成されている。 Further, each of the pixel regions 100, storage capacitor scanning signal through the scanning line 102 is a switching TFT TFT108 supplied to the gate electrode holds a pixel signal supplied from the signal line 104 through the switching TFT108 110, the pixel signal held by the storage capacitor 110 is a driving TFT112 supplied to the gate electrode, the light emitting element 114 into which a driving current flows from the power supply line 106 through the driving TFT112 is formed. 後述するように、発光素子114は画素電極である陽極と、画像表示領域10の全範囲にわたって共通電位となる陰極とでEL層を含む機能層を狭持しており、上記駆動電流は陽極に供給される。 As described later, the anode emitting element 114 is a pixel electrode, and sandwiched a functional layer including an EL layer between becomes cathode and the common potential over the entire range of the image display area 10, the drive current to the anode It is supplied.

画像表示領域10の周辺には、走査線駆動回路120、及び信号線駆動回路130が形成されている。 The periphery of the image display area 10, the scanning line driving circuit 120 and the signal line driver circuit 130, are formed. 走査線102には、走査線駆動回路120から、図示しない外部回路より供給される各種信号に応じて走査信号が順次供給される。 The scanning line 102, from the scanning line driving circuit 120, the scanning signals are sequentially supplied in response to various signals supplied from an external circuit (not shown). そして、信号線104には信号線駆動回路130から画像信号が供給され、電源供給線106には図示しない外部回路から画素駆動電流が供給される。 Then, the signal line 104 and an image signal from the signal line driver circuit 130 is supplied to the power supply line 106 pixel drive current is supplied from an external circuit (not shown). なお、走査線駆動回路120の動作と信号線駆動回路130の動作とは、同期信号線140を介して外部回路から供給される同期信号により相互に同期が図られている。 Note that the operations of the signal line driving circuit 130 of the scan line driver circuit 120, synchronized with each other is achieved by the synchronization signal supplied from an external circuit through a synchronization signal line 140.

走査線102が駆動されスイッチング用TFT108がオン状態になると、その時点の信号線104の電位が保持容量110に保持され、保持容量110の状態に応じて駆動用TFT112のレベルが決まる。 When switching TFT108 scanning line 102 is driven is turned on, the potential of the signal line 104 at that time is stored in the storage capacitor 110, the level of the drive TFT112 is determined in accordance with the state of the storage capacitor 110. そして、駆動用TFT112を介して電源供給線106から陽極に駆動電流が流れ、さらに機能層を介して陰極に駆動電流が流れる。 The anode drive current flows from the power supply line 106 through the driving TFT 112, a driving current flows to the cathode through the further functional layer. その結果、機能層は駆動電流の大きさに応じて発光する。 As a result, the functional layer emits light in response to the magnitude of the driving current.

次に、図2を用いて、画素領域100の構成について説明する。 Next, with reference to FIG. 2, the configuration of the pixel region 100. 図2は、基板上における、画素領域100を構成する各要素を示す平面構成図である。 2, on the substrate, which is a plan view showing the elements constituting the pixel region 100.
スイッチング用TFT108は、走査線102から突き出した第1のゲート電極202と、方形にパターニングされた第1の半導体層221と、からなる。 Switching TFT108 includes a first gate electrode 202 protruding from the scanning line 102, a first semiconductor layer 221 patterned into a square, made of. 第1の半導体層221は、第1のチャネル領域204と、その両側の第1のソース領域206および第1のドレイン領域208と、からなる。 The first semiconductor layer 221 includes a first channel region 204, the first source region 206 and the first drain region 208 on both sides, made of. そして第1のチャネル領域204は、第1のゲート電極202と対向している。 The first channel region 204 faces the first gate electrode 202.

駆動用TFT112は、容量電極から突き出した第2のゲート電極212と、方形にパターニングされた第2の半導体層222と、からなる。 Driving TFT112 includes a second gate electrode 212 protruding from the capacitor electrode, and the second semiconductor layer 222 which is patterned into a rectangular, made of. 第2の半導体層222は、第2のチャネル領域214と、その両側の第2のソース領域216および第2のドレイン領域218と、からなる。 The second semiconductor layer 222, a second channel region 214, the second source region 216 and the second drain region 218 on both sides, made of. そして第2のチャネル領域214は、第2のゲート電極212と対向している。 The second channel region 214 is opposed to the second gate electrode 212.

スイッチング用TFT108の、第1のドレイン領域208は第1のコンタクトホール21を介して信号線104と導通し、第1のソース領域206は第2のコンタクトホール22を介してソース電極232と導通している。 Of the switching TFT 108, the first drain region 208 is electrically connected to the signal line 104 through the first contact hole 21, the first source region 206 is electrically connected to the source electrode 232 through a second contact hole 22 ing. そして、ソース電極232は、第3のコンタクトホール23を介して第2のゲート電極212と導通するとともに、第4のコンタクトホール24を介して保持容量110の一方の電極層と導通している。 The source electrode 232 is configured to conduct the second gate electrode 212 through the third contact hole 23, it is electrically connected to the one electrode layer of the storage capacitor 110 through the fourth contact hole 24.

保持容量110のもう一方の電極層は、第1の半導体層221と同一の層をパターニングして形成され、第5のコンタクトホール25を介して電源供給線106と導通している。 The other electrode layer of the storage capacitor 110 is formed by patterning the same layer as the first semiconductor layer 221, is electrically connected to the power supply line 106 via the fifth contact hole 25.

第2のソース領域216は第6のコンタクトホール26を介して電源供給線106の突出部分と導通している。 The second source region 216 is electrically connected to the projecting portion of the power supply line 106 through a contact hole 26 of the sixth. 第2のドレイン領域218は第7のコンタクトホール27を介してドレイン電極234と導通し、ドレイン電極234と画素電極200は第8のコンタクトホール28を介して導通している。 The second drain region 218 is electrically connected to the drain electrode 234 through the contact hole 27 of the seventh, the drain electrode 234 and the pixel electrode 200 is electrically connected through a contact hole 28 of the eighth.

本実施形態の有機EL装置はボトムエミッション方式である。 The organic EL device of the present embodiment is a bottom emission type. 基板は透光性材料からなり、画素電極200はITO(酸化インジウム・スズ)等の導電性透光材料で形成される。 Substrate is made of translucent material, the pixel electrode 200 is formed of a conductive translucent material such as ITO (indium tin oxide). そして図3以降で示すように、後述する隔壁314で画素の開口部300が形成されている。 Then, as shown in Figure 3 and later, the opening 300 of the pixel partition wall 314 to be described later is formed. そして隔壁314で囲まれる凹部内には、発光層としての有機EL材料を含む機能層がインクジェット法により形成され、画素の開口部300を介して光を出射してる。 And in the recess surrounded by the partition wall 314, the functional layer containing an organic EL material as a light emitting layer is formed by an ink jet method, and emits light through the opening 300 of the pixel.

上述したように隔壁の断面形状は上記機能層の形成時に大きく影響する。 Sectional shape of the partition wall as described above greatly affects the formation of the functional layer. 本発明は隔壁の断面形状を工夫して機能層の均一化を目指すものである。 The present invention aims to homogenization of the functional layer by devising the sectional shape of the partition wall. 具体的には、隔壁314を2層以上の材料層で形成し、画素電極上に形成される第1の材料層と、その上層に形成される第2の材料層とを別個にパターニングすることで、段差部302を形成している。 Specifically, the partition wall 314 is formed of two layers or more layers of material, the first material layer formed on the pixel electrode, be separately patterned and a second material layer formed thereon in, to form a step portion 302. 以下、従来の有機EL表示装置の機能層の形成、及び本発明の実施形態における機能層の形成について、図2に示すA―A´線における断面図を用いて述べる。 Hereinafter, formation of the functional layer of a conventional organic EL display device, and the formation of a functional layer in an embodiment of the present invention will be described with reference to the sectional view along A-A'line shown in FIG.

図3は、従来の有機EL表示装置の隔壁の構成と機能層の形成手順等を示す模式断面図である。 Figure 3 is a schematic sectional view showing the formation procedure such as a conventional organic EL display device bulkhead structure as functional layer. まず図3(a)に示すように、基板20上に第1の層間膜315、および第2の層間膜316を介して画素電極200を形成し、当該画素電極の周囲を囲む隔壁314を形成する。 First, as shown in FIG. 3 (a), through the first interlayer film 315 and the second interlayer film 316, to form a pixel electrode 200 on the substrate 20, forming a partition wall 314 surrounding the corresponding pixel electrode to. 従来の有機EL表示装置の隔壁314は、下層の酸化シリコン等の無機材料層310と、上層のポリイミド層313の2層構造となっている。 Partition wall 314 of a conventional organic EL display device, an inorganic material layer 310, such as the underlying silicon oxide, has a two-layer structure of the upper polyimide layer 313. 隔壁形成後、CF 4等のフッ素原子を含んだガスによるプラズマでプラズマ処理を行い、上層のポリイミド層313に撥液性を付与する。 After the partition wall forming, by plasma treatment in a plasma using a gas containing fluorine atoms such as CF 4, to impart liquid repellency to the upper layer of the polyimide layer 313.

次に、図3(b)に示すように、隔壁314で囲まれている画素電極200上にインクジェット装置の液滴ノズル(以下、「ノズル」と称する。)320から機能層形成材料を溶質とする液滴321を滴下する。 Next, as shown in FIG. 3 (b), the droplet nozzle of the ink jet device on the pixel electrode 200 surrounded by the partition wall 314 (hereinafter, referred to as "nozzle".) Solute the functional layer forming material from the 320 dropping a droplet 321. 滴下された液滴321は、ポリイミド層313の側壁部に達する。 Dropping droplets 321 reach a side wall portion of the polyimide layer 313.

次に図3(c)に示すように、滴下された機能液321から溶媒を乾燥除去して機能層322を形成する。 Next, as shown in FIG. 3 (c), to form a functional layer 322 by drying the solvent removed from the dropped functional fluid 321. 当該機能層は膜厚が均一であることが好ましい。 The functional layer preferably has a thickness of uniform. しかし、隔壁314の上層であるポリイミド層313は撥液性が付与されているため、滴下された機能液321を保持する力が不足している。 However, the polyimide layer 313 is a layer of the partition wall 314 for liquid repellency is imparted, the force for holding the functional liquid 321 dropped is insufficient. その結果、画素電極200上に形成される機能層322は中央が盛り上がるような形状となり、膜厚の均一性が劣化し得る。 As a result, the functional layer 322 formed on the pixel electrode 200 has a shape like the center swells, uniformity of the film thickness may deteriorate. そこで本発明の実施形態にかかる有機EL表示装置およびその製造方法は、隔壁314に段差部302(図4等参照)を形成することで、機能層の膜厚の均一性を向上させている。 Therefore the organic EL display device and a manufacturing method thereof according to embodiments of the present invention, by forming the step portion 302 (see FIG. 4) to the partition wall 314, thereby improving the uniformity of the film thickness of the functional layer.
(第1の実施形態) (First Embodiment)

本発明の第1の実施形態にかかる有機EL表示装置の隔壁の構成、および機能層の形成過程を、図4〜7により説明する。 Partition wall structure of the organic EL display device according to a first embodiment of the present invention, and the formation process of the functional layers will be described with reference to FIG 4-7. 図4〜6は本実施形態の有機EL表示装置の製造方法を示す模式断面図であり、図2のA―A´線における断面を示すものである。 Figure 4-6 is a schematic cross-sectional views showing a manufacturing method of an organic EL display device of this embodiment, showing a cross section taken along A-A'line in FIG. そして図7は、隔壁314形成後の画素電極200およびその周辺の上面図である。 And Figure 7 is a top view of the pixel electrode 200 and its vicinity after the partition wall 314 is formed.

まず図4(a)に示すように、基板20上に、第1の層間膜315および第2の層間膜316を介して画素電極200を形成する。 First, as shown in FIG. 4 (a), on the substrate 20 to form a pixel electrode 200 through the first interlayer film 315 and the second interlayer film 316. そして、画素電極200を形成後の基板20上に、第1の無機材料層としての酸化シリコン層311および第2の無機材料層としての窒化シリコン層312を形成する。 Then, on the substrate 20 after forming the pixel electrode 200, a silicon oxide layer 311 and the second silicon nitride layer 312 as an inorganic material layer as the first inorganic material layer.

次に図4(b)に示すように、画素電極200を囲む領域に第1のレジスト層346を形成し、当該レジストで覆われていない領域の窒化シリコン層312を選択的にエッチングして除去する。 Next, as shown in FIG. 4 (b), the first resist layer 346 is formed in a region surrounding the pixel electrode 200, selectively etched and removed silicon nitride layer 312 in a region not covered with the resist to.

次に図4(c)に示すように、第1のレジスト層346をそのままの状態に保ちつつ窒化シリコン層312をエッチングした後、連続して酸化シリコン層311もエッチングする。 Next, as shown in FIG. 4 (c), after the silicon nitride layer 312 while maintaining the first resist layer 346 intact etched, also the silicon oxide layer 311 are continuously etched. 窒化シリコン層312の方がエッチングレートが速いため、エッチングが横方向にも進み、底部と側壁とが共に親液性の無機材料である段差部302が形成される。 For towards silicon nitride layer 312 is a fast etching rate, etching proceeds in the horizontal direction, the stepped portion 302 and a bottom and side walls is an inorganic material lyophilic together is formed.

次に図4(d)に示すように、第1のレジスト346を除去した後、基板20上全面に有機材料としてのポリイミド層313を形成し、当該ポリイミド層の画素電極200を囲む領域に第2のレジスト層348を形成する。 Next, as shown in FIG. 4 (d), after removing the first resist 346, the polyimide layer 313 as an organic material is formed on the substrate 20 on the entire surface of the in the region surrounding the pixel electrode 200 of the polyimide layer forming a second resist layer 348.

次に図5(a)に示すように、第2のレジスト層348で覆われていない領域のポリイミド層313をエッチングにより除去し、その後第2のレジスト層348も除去する。 Next, as shown in FIG. 5 (a), the polyimide layer 313 in the region not covered with the second resist layer 348 is removed by etching also removes subsequent second resist layer 348. 2層の無機材料層(311および312)とポリイミド層313との計3層からなり、双方の無機材料層の境界面に段差部302を有する隔壁314が形成される。 2-layer inorganic material layer with (311 and 312) a total of three layers of a polyimide layer 313, partition wall 314 having a stepped portion 302 on the boundary surface of both the inorganic material layer is formed.

図7は、本実施形態における第2のレジスト348を除去した後の画素電極200、および段差部302の平面形状を示すものである。 Figure 7 shows a planar shape of the second resist 348 pixel electrode 200 after removal of and the step portion 302, in this embodiment. 画素電極200の周囲を囲む環状の段差部302が形成されている。 Annular step portion 302 surrounding the pixel electrode 200 is formed. 酸化シリコン層311と窒化シリコン層312とを積層して連続的にエッチングすると、エッチングレートの差により窒化シリコン層312が水平方向にエッチングされ、上述の段差部302が形成される。 When continuously etched by laminating the silicon oxide layer 311 and silicon nitride layer 312, silicon nitride layer 312 is etched in the horizontal direction by the difference in the etching rate, the step portion 302 described above is formed.
当該段差部は底面および側壁部が親液性を有する無機材料で形成されている。 The step portion bottom and the side wall portion is formed of an inorganic material having lyophilic properties. したがって、従来の有機EL表示装置の形成過程における、底面が無機材料で側壁部が有機材料の隔壁とは異なり、側壁部に液材を引き付けて保持することができる。 Therefore, in the formation process of a conventional organic EL display device, the bottom Unlike sidewall portion in the inorganic material is a partition wall of an organic material, it is possible to attract and retain the liquid material on the side wall portion.

次に図5(b)に示すように、基板20全面に、CF 4プラズマ40でプラズマ処理する。 Next, as shown in FIG. 5 (b), the substrate 20 over the entire surface, a plasma treatment with CF 4 plasma 40. 隔壁314の最上部を形成するポリイミド層313の表面にフッ素原子が入り込み、ポリイミドに含有されている炭素原子と反応し、表面が撥液性となる。 Fluorine atom enters the surface of the polyimide layer 313 to form the top of the partition wall 314, reacts with the carbon atoms contained in the polyimide surface is liquid repellent. なお、上記CF 4によるプラズマ処理後、酸素プラズマによる処理を行なうことが好ましい。 Incidentally, after the plasma treatment by the CF 4, it is preferable to perform the treatment by oxygen plasma. 酸化シリコン層311、窒化シリコン層312、および画素電極200表面の有機系の残渣を除去することで親液性を向上できる。 It can be improved lyophilic by removing the residue of the organic silicon oxide layer 311, silicon nitride layer 312, and the pixel electrode 200 surface. ここで、ポリイミド層313は、上記CF 4プラズマ処理によりテフロン(登録商標)等の安定した物質となっているため、処理条件を最適化することにより上記酸素プラズマ処理を経ても撥液性を保つことができる。 Here, the polyimide layer 313, since that is a stable material Teflon (registered trademark) by the CF 4 plasma treatment, kept liquid repellency even after the oxygen plasma treatment by optimizing the process conditions be able to.

次に図5(c)に示すように、画素電極200上に、正孔輸送層形成材料を溶質とする液材323をノズル320から滴下する。 Next, as shown in FIG. 5 (c), on the pixel electrode 200, dropping the liquid material 323 to the hole transport layer formation material as a solute from the nozzle 320. 正孔輸送層形成材料は例えば、ポリチオフェン誘導体やポリアニリン誘導体を用いる。 Hole transport layer formation material, for example, use a polythiophene derivative or a polyaniline derivative. 段差部302は親液性のため、滴下後の液材323は周縁部すなわち隔壁314の方に引き付けられる態様となる。 Since the stepped portion 302 of the lyophilic, the liquid material 323 after dropping a manner attracted toward the peripheral portion or the partition wall 314.

次に図5(d)に示すように、液材323から溶媒を乾燥除去して正孔輸送層324を形成する。 Next, as shown in FIG. 5 (d), to form a hole transport layer 324 was dried and solvent removed from the liquid material 323. 滴下後の液材323は隔壁314の方に引き付けられた状態を保ちつつ乾燥するので、形成された正孔輸送層324は中央部が盛り上がることはない。 Because the liquid material 323 after dropping dries while maintaining a state of being attracted toward the partition wall 314, a hole transport layer 324 formed is not the central portion bulges. したがって図示するように、平坦な断面形状を有する正孔輸送層324が形成される。 Thus, as shown, a hole transport layer 324 having a flat sectional shape is formed.

次に図6(a)に示すように、正孔輸送層324上に、有機EL材料すなわち発光層形成材料を溶質とする液材325をノズル320より滴下する。 Next, as shown in FIG. 6 (a), on the hole transport layer 324, the liquid material 325 to the organic EL material or the light emitting layer formation material as a solute is dropped from the nozzle 320. 上述の液材323と同様に、滴下後の液材325は、段差部302の働きにより周縁部すなわち隔壁314の方に引き付けられる。 Similar to the above-described liquid material 323, the liquid material 325 after dropping is attracted toward the peripheral portion or the partition wall 314 by the action of the step portion 302.

次に図6(b)に示すように、液材325から溶媒を乾燥除去して発光層326を形成する。 Next, as shown in FIG. 6 (b), and dry off the solvent from the liquid material 325 to form the light-emitting layer 326. 上述の正孔輸送層324と同様に、平坦な断面形状を有する発光層326が形成される。 Like the hole-transporting layer 324 described above, the light emitting layer 326 is formed with a flat cross-sectional shape. その結果、正孔輸送層324と発光層326とからなる機能層322も平坦な断面形状を有することとなる。 As a result, the functional layer 322 composed of a hole transport layer 324 luminescent layer 326 Metropolitan also have a flat cross-sectional shape.

最後に図6(c)に示すように、基板20上全面にアルミニウム等の導電材料からなる陰極層328を形成する。 Finally, as shown in FIG. 6 (c), to form a cathode layer 328 made of a conductive material such as aluminum to the substrate 20 on the entire surface. そして、その後の若干の周知工程を経て、有機EL表示装置を形成する。 Then, through the subsequent some known processes, an organic EL display device. 上述したように、機能層322の形成過程において、画素電極200上に滴下された液材を隔壁314の方向に引き付けつつ乾燥させるため、中央部が盛り上がり凸状になる現象を抑制できる。 As described above, in the process of forming the functional layer 322, for drying while attracting the liquid material dropped onto the pixel electrode 200 in the direction of the partition wall 314, it is possible to suppress the phenomenon that the central portion becomes convex bulge. その結果、平坦な機能層322を形成でき、有機EL表示装置の表示特性を向上させることができる。 As a result, a flat functional layers 322, thereby improving the display characteristics of the organic EL display device.
(第2の実施形態) (Second Embodiment)

図8は、本発明の第2の実施形態にかかる有機EL表示装置の、段差部302の平面形状を示すものである。 8, the organic EL display device according to a second embodiment of the present invention, showing a planar shape of the step portion 302. 各構成要素の断面形状、および形成過程は上記第1の実施形態と同様である。 Sectional shape, and the formation process of each component is the same as in the first embodiment. 本実施形態の有機EL表示装置は、段差部302の平面形状(外周の形状)が多角形(本実施形態では8角形)であることが特徴である。 The organic EL display device of the present embodiment is characterized in planar shape of the step portion 302 (the shape of the outer periphery) is a polygon (octagon in this embodiment).

上述したように、画素電極200の開口部300に滴下された液材は段差部302に引き付けられるが、その際、特に側壁部に強く引き付けられ保持される。 As described above, the opening 300 in the dropped liquid material of the pixel electrode 200 is attracted to the stepped portion 302, where, in particular strongly attracted to the side wall hold. そのため、側壁部の面積を増大させることで、より一層強く保持できる。 Therefore, by increasing the area of ​​the side wall portion can be held more strongly. そして、上記側壁部の面積を広くするためには、第2の無機材料層を円形以外の形状にパターニングすることが好ましい。 Then, in order to widen the area of ​​the side wall portion, it is preferable to pattern the second inorganic material layer into a shape other than a circle. かかる態様により、第2の無機材料層としての窒化シリコン層の膜厚を増加させることなく側壁部の面積を増大できる。 Such aspects can increase the area of ​​the side wall portion without increasing the thickness of the silicon nitride layer as the second inorganic material layer. したがって本実施形態の有機EL表示装置は、窒化シリコン層312およびその上層のポリイミド層313とをエッチングする領域を多角形とすることで、開口部300に対する隔壁314の形成面積を増加させることなく、すなわち画素間のピッチを変化させることなしに、より一層平坦な機能層の形成を可能にし、より一層表示性能を向上させている。 Therefore the organic EL display device of this embodiment, a region for etching the silicon layer 312 and the polyimide layer 313 of the upper nitride by polygonal, without increasing the area for forming the partition wall 314 with respect to the opening 300, that without changing the pitch between the pixels, to enable more formation of flat functional layers, thereby improving the further display performance.

なお本実施形態のように、画素電極200の開口部300の形状、すなわち第1の無機材料層である酸化シリコン層311をパターニングする形状と、第2の無機材料層である窒化シリコン層312をパターニングする形状に差異がある場合は、エッチングレートの差を利用して同一のレジストパターンにより形成することは困難である。 Incidentally, as in the present embodiment, the shape of the opening 300 of the pixel electrode 200, i.e., the shape of patterning the silicon oxide layer 311 which is the first inorganic material layer, a second silicon nitride layer 312 is an inorganic material layer there are differences in the patterning shape, it is difficult to form by the same resist pattern by utilizing the difference in etching rate. したがって、酸化シリコン層311をパターニングした後に窒化シリコン層312を基板上全面に形成し、別のフォトマスクを用いて別途パターニングすることが好ましい。 Thus, the silicon nitride layer 312 after patterning the silicon oxide layer 311 is formed on the entire surface of the substrate, it is preferable to separately patterned using another photomask.
また、酸化シリコン層311および窒化シリコン層312を基板上全面に積層した後に、窒化シリコン層312を上記多角形にパターニングし、その後、再度フォトリソグラフィー工程により酸化シリコン層311をパターニングしてもよい。 Further, after laminating the silicon oxide layer 311 and silicon nitride layer 312 on the entire surface of the substrate, the silicon nitride layer 312 is patterned to the polygon, then, it may be patterned silicon oxide layer 311 by a photolithography process again.
(第3の実施形態) (Third Embodiment)

図9は、本発明の第3の実施形態にかかる有機EL表示装置の、段差部302の平面形状を示すものである。 9, the organic EL display device according to a third embodiment of the present invention, showing a planar shape of the step portion 302. 本実施形態の有機EL表示装置は、段差部302の平面形状(外周の形状)が星型となっていることが特徴である。 The organic EL display device of the present embodiment is characterized in that the planar shape of the stepped portion 302 (the shape of the outer periphery) is a star-shaped. 上記第2の実施形態と同様に段差部302を直線を組み合わせて構成し、さらに内角が180度を超える部分を設けることによって、段差部302の外周の長さ、そして当該長さに基づく側壁部の面積をより一層増加させることができる。 By the second step portion 302 similar to the embodiment constitutes a combination of straight lines, further inner angle provided portion exceeding 180 degrees, the length of the outer periphery of the stepped portion 302, and the sidewall portion based on the length area can be further increased for. その結果、段差部302の形状を多角形とする場合に比べてより一層平坦な機能層の形成を可能にし、より一層表示性能を向上させることができる。 As a result, allows a more formation of flat functional layers as compared with the case in which the shape of the step portion 302 and the polygon, can be improved further display performance.
なお、段差部302と開口部300は異なるフォトマスクを用いてパターニングすることが好ましい点は、上記第2の実施形態と同様である。 Incidentally, the stepped portion 302 and the opening 300 is preferably the point of patterning using a different photomask, the same as in the second embodiment.
(第4の実施形態) (Fourth Embodiment)

図10は、本発明の第4の実施形態にかかる有機EL表示装置の開口部300、および段差部302の平面形状(外周の形状)を示すものである。 Figure 10 shows a plane configuration of a fourth organic EL display device opening 300 of according to the embodiment of and the stepped portion 302, of the present invention (the shape of the outer periphery). 実施形態の有機EL表示装置は、開口部300、および段差部302の形状が方形であることが特徴である。 The organic EL display device of the embodiment, it is the feature shape of the opening 300 and the stepped portion 302, is a square.
画素電極200の形状に合せて開口部300も方形とし、当該開口部の周辺に段差部302を形成することで、開口部300の面積を増加させると共に、当該開口部内に形成される機能層の平坦性を向上させ、表示性能を向上させることができる。 Opening 300 is also a square according to the shape of the pixel electrode 200, by forming the step portion 302 on the periphery of the opening, along with increasing the area of ​​the opening 300, the functional layer formed in the opening to improve flatness, it is possible to improve the display performance.
(第5の実施形態) (Fifth Embodiment)

図11は、本発明の第5の実施形態にかかる有機EL表示装置の開口部300、および段差部302の平面形状を示すものである。 Figure 11 shows such openings 300 of the organic EL display device, and a planar shape of the step portion 302 to a fifth embodiment of the present invention. 本実施形態の有機EL表示装置は、方形の開口部300と、複数の直線を組み合わせた平面形状(外周の形状)を持つ段差部302を有することが特徴である。 The organic EL display device of this embodiment, the opening 300 of rectangular, is characterized with a stepped portion 302 having a planar shape by combining a plurality of straight lines (the shape of the outer periphery). 開口部300の面積を増加させると共にその周辺の段差部302の側壁部の面積も増加させることができるので、当該開口部内に形成される機能層の平坦性をより一層向上させ、表示性能をより一層向上させることができる。 Since the area of ​​the side wall of the step portion 302 of the periphery thereof with increasing the area of ​​the opening 300 can also be increased, the flatness of the functional layer is formed in the opening so more further improve, more display performance it can be further improved.
(変形例1) (Modification 1)

上述する各実施形態では段差部302の平面形状(外周の形状)を規則的なものとしている。 In the embodiments to be described are a regular ones planar shape of the stepped portion 302 (the shape of the outer periphery). しかし、本発明の電気光学装置における段差部302の形状は規則的なものに限定されるものではない。 However, the shape of the step portion 302 in the electro-optical device of the present invention is not limited to the regular ones. 直線および/または曲線を不規則に組み合わせた形状や、フラクタクル図形のような形状を用いることも可能である。 Linear and shape and in irregularly combining / or curves, it is also possible to use shaped like a fractal geometry.

アクティブマトリクス型の有機EL表示装置の全体構成を示す回路構成図。 Circuit diagram showing an overall configuration of an active matrix type organic EL display device. 画素領域100を構成する各要素を示す平面構成図。 Plan view illustrating the elements that constitute the pixel region 100. 従来の有機EL表示装置の、隔壁の構成と機能層の形成手順等を示す模式断面図。 Of a conventional organic EL display device, schematic cross-sectional view showing the formation procedure such as the configuration of the partition wall and the functional layer. 第1の実施形態の有機EL表示装置の製造方法を示す模式断面図。 Schematic cross-sectional views showing a manufacturing method of an organic EL display device of the first embodiment. 第1の実施形態の有機EL表示装置の製造方法を示す模式断面図。 Schematic cross-sectional views showing a manufacturing method of an organic EL display device of the first embodiment. 第1の実施形態の有機EL表示装置の製造方法を示す模式断面図。 Schematic cross-sectional views showing a manufacturing method of an organic EL display device of the first embodiment. 第1の実施形態にかかる有機EL表示装置の段差部の平面形状を示す図。 It shows a planar shape of the step portion of the organic EL display device according to the first embodiment. 第2の実施形態にかかる有機EL表示装置の段差部の平面形状を示す図。 It shows a planar shape of the step portion of the organic EL display device according to the second embodiment. 第3実施形態にかかる有機EL表示装置の段差部の平面形状を示す図。 It shows a planar shape of the step portion of the organic EL display device according to the third embodiment. 第4の実施形態にかかる有機EL表示装置の段差部の平面形状を示す図。 It shows a planar shape of the step portion of the organic EL display device according to the fourth embodiment. 第5の実施形態にかかる有機EL表示装置の段差部の平面形状を示す図。 It shows a planar shape of the step portion of the organic EL display device according to a fifth embodiment.

符号の説明 DESCRIPTION OF SYMBOLS

10…画像表示領域、20…基板、40…CF 4プラズマ、第1のコンタクトホール21…、第2のコンタクトホール22…、第3のコンタクトホール23…、第4のコンタクトホール24…、第5のコンタクトホール25…、第6のコンタクトホール26…、第7のコンタクトホール27…、第8のコンタクトホール28…、100…画素領域、102…走査線、104…信号線、106…電源供給線、108…スイッチング用TFT、110…保持容量、112…駆動用TFT、114…発光素子、120…走査線駆動回路、130…信号線駆動回路、140…同期信号線、200…画素電極、202…第1のゲート電極、204…第1のチャネル領域、206…第1のソース領域、208…第1のドレイン領域、212…第2のゲート 10 ... image display area, 20 ... substrate, 40 ... CF 4 plasma, the first contact hole 21 ..., the second contact hole 22 ..., a third contact hole 23 ..., a fourth contact hole 24 ..., 5 the contact hole 25 ..., a sixth contact hole 26 ..., a seventh contact hole 27 ..., the eighth contact holes 28 ..., 100 ... pixel region, 102 ... scan line, 104 ... signal line, 106 ... power supply line , 108 ... switching TFT, 110 ... holding capacitor, 112 ... driving TFT, 114 ... light emitting element, 120 ... scan line drive circuit, 130 ... signal line driver circuit, 140 ... sync signal line, 200 ... pixel electrode, 202 ... first gate electrode, 204 ... first channel region, 206 ... first source region, 208 ... first drain region, 212 ... second gate 極、214…第2のチャネル領域、216…第2のソース領域、218…第2のドレイン領域、221…第1の半導体層、222…第2の半導体層、232…ソース電極、234…ドレイン電極、300…開口部、302…段差部、310…無機材料層、311…第1の無機材料層としての酸化シリコン層、312…第2の無機材料層としての窒化シリコン層、313…有機材料層としてのポリイミド膜、314…隔壁、315…第1の層間膜、316…第2の層間膜、320…ノズル、321…機能層形成材料を溶質とする液材、322…機能層、323…正孔輸送層形成材料を溶質とする液材、324…正孔輸送層、325…発光層形成材料を溶質とする液材、326…発光層、328…陰極層、346…第1のレジスト層、348…第 Electrode, 214 ... second channel region, 216 ... second source region, 218 ... second drain region, 221 ... first semiconductor layer, 222 ... second semiconductor layer, 232 ... source electrode, 234 ... drain electrode, 300 ... opening, 302 ... stepped portion, 310 ... inorganic material layer, 311 ... silicon oxide layer as the first inorganic material layer, 312 ... silicon nitride layer as the second inorganic material layer, 313 ... organic material polyimide film as a layer, 314 ... partition wall, 315 ... first interlayer film, 316 ... second interlayer film, 320 ... nozzle, 321 ... functional layer forming material liquid material as a solute, 322 ... functional layer, 323 ... liquid material for the hole transport layer formation material as a solute, 324 ... hole transport layer, 325 ... liquid material for the light emitting layer formation material as a solute, 326 ... light-emitting layer, 328 ... cathode layer, 346 ... first resist layer , 348 ... first 2のレジスト層。 Resist layer of 2.

Claims (9)

  1. 基板上に規則的に配置された画素電極と、前記画素電極の開口面を囲む2以上の材料層からなる隔壁と、前記隔壁で囲まれた領域内に滴下した液体材料を固化して形成された少なくとも発光層を含む機能層と、を備える電気光学装置であって、 A pixel electrode which is regularly arranged on a substrate, a partition wall consisting of two or more layers of material surrounding the opening surface of the pixel electrode, is formed by solidifying the liquid material dropped in a region surrounded by the said partition a functional layer including at least a light emitting layer, an electro-optical device comprising a,
    前記隔壁が、第1の材料層の上面を底部とし、第2の材料層をパターニングして得られる面を側壁とする段差部を有することを特徴とする電気光学装置。 Said partition wall, the upper surface of the first material layer and the bottom, the electro-optical device characterized by having a step portion to the side wall surface which is obtained by patterning the second material layer.
  2. 前記第1の材料層および前記第2の材料層が無機材料からなることを特徴とする請求項1に記載の電気光学装置。 The electro-optical device according to claim 1, wherein the first material layer and the second material layer is characterized by comprising an inorganic material.
  3. 前記隔壁が、前記第2の材料層の上層に、有機材料からなる第3の材料層をさらに有することを特徴とする請求項1または2に記載の電気光学装置。 Said partition wall, the upper layer of the second material layer, the electro-optical device according to claim 1 or 2, further comprising a third material layer made of an organic material.
  4. 前記段差部の外周の形状が、多角形であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の電気光学装置。 Wherein the shape of the outer periphery of the step portion, an electro-optical device according to any one of claims 1 to 3, characterized in that it is a polygon.
  5. 前記段差部の外周の形状に、内角が180度を超えている部分があることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の電気光学装置。 The shape of the outer periphery of the stepped portion, an electro-optical device according to any one of claims 1 to 3, interior angle, characterized in that there is a portion that exceeds 180 degrees.
  6. 前記段差部の外周の形状が、不規則な直線および/または曲線を連続した部分を有することを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の電気光学装置。 Wherein the shape of the outer periphery of the step portion, an electro-optical device according to claim 1, characterized in that it comprises successive portions irregular straight and / or curved.
  7. 前記電気光学装置が有機エレクトロルミネッセンス表示装置であることを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載の電気光学装置。 The electro-optical device according to claim 1, wherein the electro-optical device is an organic electroluminescent display device.
  8. 基板上に画素電極を規則的に配置する工程と、 Disposing a pixel electrode regularly on a substrate,
    前記基板上に無機材料からなる第1の材料層を形成する工程と、 Forming a first material layer made of an inorganic material on the substrate,
    前記第1の材料層の上層に無機材料からなる第2の材料層を形成する工程と、 Forming a second material layer comprising an inorganic material on the upper layer of the first material layer,
    前記第1の材料層と前記第2の材料層を、双方の層の境界面に段差が生じるようにパターニングして、前記画素電極の周辺を囲む隔壁を形成する工程と、 Wherein the first material layer and the second material layer is patterned so a step is formed at the interface of both layers, forming a partition wall surrounding the periphery of the pixel electrode,
    前記隔壁で囲まれた前記画素電極上に機能層形成材料を溶質とする液体材料の液滴を滴下する工程と、 A step of dropping a droplet of a liquid material as a solute a functional layer-forming material on the pixel electrode surrounded by the partition wall,
    を含むことを特徴とする電気光学装置の製造方法。 Method of manufacturing an electro-optical device, which comprises a.
  9. 前記第1の材料層、および前記第2の材料層をパターニングした後に、前記基板上に有機材料からなる第3の材料層を形成する工程と、 Wherein the first material layer, and after patterning the second material layer, and forming a third material layer made of an organic material on the substrate,
    前記第3の材料層を、平面形状が前記第2の材料層と略同一となるようにパターニングする工程と、 The third material layer, a step of patterning so that the planar shape becomes substantially the same as the second material layer,
    をさらに含むことを特徴とする請求項8に記載の電気光学装置の製造方法。 The method of manufacturing an electro-optical device according to claim 8, further comprising a.
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