JP2008085282A - Wiring board for light emitting element and light emitting device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、例えば、発光ダイオード等の発光素子を搭載するための発光素子用配線基板ならびに発光装置に関する。 The present invention relates to a light emitting element wiring board and a light emitting device for mounting a light emitting element such as a light emitting diode.
従来、LEDを用いた発光装置は、非常に発光効率が高く、しかも、白熱電球などと比較すると発光に伴い発生する熱量が小さいために様々な用途に用いられてきた。しかしながら、白熱電球や蛍光灯などよりも発光量が小さいために、照明用ではなく、表示用の光源として用いられ、通電量も30mA程度と非常に小さいものであった(例えば特許文献1を参照。)。 Conventionally, light emitting devices using LEDs have been used for various applications because of their extremely high luminous efficiency and the small amount of heat generated by light emission compared to incandescent bulbs. However, since it emits less light than incandescent bulbs, fluorescent lamps, etc., it is not used for illumination but as a light source for display, and the energization amount is as very small as about 30 mA (see, for example, Patent Document 1). .)
そして、近年では、発光素子を用いた発光装置の高輝度、白色化に伴い、携帯電話や大型液晶TV等のバックライトに発光装置が多く用いられてきている。しかしながら、発光素子の輝度が向上するとともに、発光装置から発生する熱も増加している。発光素子の輝度の低下を防止するためには、このような熱を素子より速やかに放散する、高い熱放散性を有する発光素子用配線基板が必要となっている(例えば特許文献2、3を参照。)。 In recent years, with the increase in brightness and whiteness of light-emitting devices using light-emitting elements, light-emitting devices have been frequently used for backlights of mobile phones, large liquid crystal TVs, and the like. However, the luminance of the light emitting element is improved and the heat generated from the light emitting device is also increasing. In order to prevent the luminance of the light emitting element from being lowered, a wiring board for a light emitting element having a high heat dissipation property that dissipates such heat more quickly than the element is required (for example, Patent Documents 2 and 3). reference.).
そして、発光素子用配線基板の放熱性を改善する手段として、発光素子用配線基板に放熱穴を形成するとともに、発光素子が形成される側の放熱穴を覆う補助セラミックシートを設け、この補助セラミックシートに発光素子を搭載することが提案されている。また、この手法では、放熱穴に導体ペーストを充填することも提案されている(例えば特許文献4を参照)。 As a means for improving the heat dissipation of the light emitting element wiring board, a heat dissipation hole is formed in the light emitting element wiring board, and an auxiliary ceramic sheet is provided to cover the heat dissipation hole on the side where the light emitting element is formed. It has been proposed to mount a light emitting element on a sheet. In this method, it has also been proposed to fill a heat radiation hole with a conductive paste (see, for example, Patent Document 4).
また、発光素子用配線基板においては、発光素子からの光を有効に利用するために発光素子を取り囲むように反射部を設けることも行われている。この反射部は例えば金属により形成されるもので発光素子用配線基板とは別途作製され、発光素子用配線基板に接着剤などを用いて取り付けられている(例えば特許文献5を参照。)。
しかしながら、特許文献4に記載の方法では、放熱穴を形成した場合においても放熱穴の内部は熱伝導性の悪い空気が存在するのみで、放熱性を格段に向上させることは望めない。また、放熱穴に導体ペーストを充填したとしても、発光素子用配線基板と導体ペーストの固定、接続の信頼性に関する問題が依然解決されておらず、また、基板の設計制約などにより放熱穴の大きさや設置部位は限られたものとなり、放熱性には限界がある。 However, in the method described in Patent Document 4, even when the heat radiating hole is formed, only air with poor thermal conductivity exists in the heat radiating hole, and it is not possible to significantly improve the heat radiating performance. Moreover, even if conductor paste is filled in the heat dissipation holes, the problems related to the fixing and connection reliability of the wiring board for the light emitting element and the conductor paste have not been solved. Saddle installation sites are limited, and heat dissipation is limited.
また、引用文献5に記載された反射部を設けた場合でも、光の有効利用はできるものの、基体平面部に発光素子を搭載する搭載部を設けている為、発光素子からの光の取り出し効率が十分でなかった。また、別途作製した反射部を取り付ける工程が必要であることから、高価となり、しかも熱伝導性の高い金属性の反射部を用いているにもかかわらず、他の大部分が樹脂やセラミックにより形成されているため、熱が反射部にまで到達しにくく、放熱性の向上にはほとんど寄与していなかった。
In addition, even when the reflecting portion described in the cited
従って本発明は、安価で熱放散性に優れ光の取り出し効率を高くすることができる発光素子用配線基板ならびに発光装置を提供することを目的とする。 Accordingly, an object of the present invention is to provide a light-emitting element wiring board and a light-emitting device that are inexpensive, excellent in heat dissipation, and capable of increasing light extraction efficiency.
本発明の発光素子用配線基板は、焼結金属からなる平板状の金属基体と、該金属基体の一方の主面に形成された発光素子を搭載する搭載部と、前記金属基体を貫通するセラミックスからなる貫通絶縁体と、前記金属基体と電気的に絶縁されるとともに前記貫通絶縁体の内側を貫通する貫通導体と、前記貫通導体と電気的に接続されるとともに前記金属基体と絶縁され前記搭載部の周囲に設けられた配線と、前記搭載部と前記配線とを取り囲むように形成された焼結金属からなる反射部とを備えるとともに、前記金属基体と前記貫通絶縁体と前記貫通導体と前記配線と前記反射部とが同時焼成されてなることを特徴とする。 A wiring board for a light emitting device of the present invention includes a flat metal base made of sintered metal, a mounting portion for mounting a light emitting element formed on one main surface of the metal base, and a ceramic penetrating the metal base. A through-insulator comprising: a through-conductor that is electrically insulated from the metal substrate and penetrates the inside of the through-insulator; and that is electrically connected to the through-conductor and insulated from the metal substrate; And a reflective portion made of sintered metal formed so as to surround the mounting portion and the wiring, and the metal base, the through insulator, the through conductor, and the The wiring and the reflection portion are fired at the same time.
また、前記搭載部の周囲に、該搭載部に沿って凸部が設けられていることが望ましい。 In addition, it is desirable that a convex portion is provided around the mounting portion along the mounting portion.
また、前記搭載部の周囲に、該搭載部を取り囲むように絶縁体が設けられていることが望ましい。 It is desirable that an insulator is provided around the mounting portion so as to surround the mounting portion.
また、前記搭載部を備えた前記金属基体の一方の主面が突起状に形成され、突起状の突起部の上面に前記搭載部が形成されていることが望ましい。 Moreover, it is desirable that one main surface of the metal base provided with the mounting portion is formed in a protruding shape, and the mounting portion is formed on an upper surface of the protruding protrusion.
また、上方から見た前記突起部の断面積が上側で小さくなるように形成されていることが望ましい。 Further, it is desirable that the cross-sectional area of the protrusion as viewed from above is formed so as to be small on the upper side.
また、前記反射部の高さが前記突起部の高さよりも高いことが望ましい。 In addition, it is desirable that the height of the reflecting portion is higher than the height of the protruding portion.
また、本発明の発光素子用配線基板は、前記金属基体の前記搭載部が形成された側の主面にAgめっきが施されていることが望ましい。 In the light emitting element wiring board of the present invention, it is preferable that Ag plating is applied to a main surface of the metal base on which the mounting portion is formed.
また、本発明の発光素子用配線基板は、前記金属基体の熱伝導率が150W/(m・K)以上であることが望ましい。 In the light emitting device wiring board of the present invention, it is desirable that the metal substrate has a thermal conductivity of 150 W / (m · K) or more.
また、本発明の発光素子用配線基板は、前記金属基体がW、MoおよびCuのうち、少なくとも1種を主成分とすることが望ましい。 In the light-emitting element wiring board according to the present invention, it is preferable that the metal substrate has at least one of W, Mo and Cu as a main component.
また、本発明の発光素子用配線基板は、前記反射部が前記金属基体と同じ組成からなることが望ましい。 In the light-emitting element wiring board of the present invention, it is desirable that the reflecting portion has the same composition as the metal substrate.
本発明の発光装置は、以上説明した発光素子用配線基板の前記搭載部に発光素子を搭載してなることを特徴とする。 The light emitting device of the present invention is characterized in that a light emitting element is mounted on the mounting portion of the wiring board for a light emitting element described above.
本発明の発光素子用配線基板は、基体を焼結金属で形成することにより、樹脂モールド基板やセラミック基板などよりも高い熱伝導率を有し、発光素子から発生する熱を基体全体から効率良く、速やかに系外へ放散することができ、発光素子が過剰に加熱されることを防止できる。そのため輝度低下防止あるいは、さらなる高輝度化が可能となる。しかも金属基体に、絶縁体を介して電気的に絶縁された配線を表面に形成し、更に前記金属基体に貫通して設ける事で、多層化が可能となり複雑な配線設計への対応や基板の小型化が可能となる。また、発光素子搭載部と前記配線とを取り囲むように金属からなる反射部を形成することにより、金属基体からだけでなく反射部からも発光素子が生じる熱を放散することができる。そして反射部によって発光素子を保護できるとともに、発光素子の周辺に蛍光体などを容易に配置することができる。また、反射部により発光素子が発する光を反射させて光の取り出し効率を増加させ、高輝度化を実現することができる。さらに、金属基体および反射部が焼結金属から成ることにより、金属基体と貫通絶縁体と貫通導体と配線と反射部とを同時焼成にて作製することができ、これによりコストを低減することができる。 The wiring board for a light emitting device of the present invention has a higher thermal conductivity than that of a resin mold substrate, a ceramic substrate, or the like by forming the substrate from a sintered metal, and efficiently generates heat from the light emitting device from the entire substrate. It is possible to quickly dissipate out of the system and to prevent the light emitting element from being heated excessively. For this reason, it is possible to prevent a decrease in luminance or to further increase the luminance. In addition, by forming wiring electrically insulated through an insulator on the surface of the metal substrate and further penetrating through the metal substrate, it is possible to increase the number of layers and to cope with complicated wiring designs and the substrate. Miniaturization is possible. In addition, by forming a reflective portion made of metal so as to surround the light emitting element mounting portion and the wiring, heat generated by the light emitting element can be dissipated not only from the metal substrate but also from the reflective portion. The light emitting element can be protected by the reflecting portion, and a phosphor or the like can be easily disposed around the light emitting element. Further, the light emitted from the light emitting element can be reflected by the reflecting portion to increase the light extraction efficiency, and high luminance can be realized. Furthermore, since the metal substrate and the reflecting portion are made of sintered metal, the metal substrate, the penetrating insulator, the penetrating conductor, the wiring, and the reflecting portion can be manufactured by simultaneous firing, thereby reducing the cost. it can.
搭載部の周囲に、搭載部に沿って凸部を設けることで、容易に搭載される発光素子の位置決めをすることができる。 By providing a convex portion along the mounting portion around the mounting portion, the light emitting element to be mounted can be easily positioned.
また、搭載部の周囲に、搭載部を取り囲むように絶縁体を設けることで、搭載される発光素子と金属基体の搭載部とを半田や金―錫合金(Au−sn)などの金属で固定した場合であっても、容易に搭載される発光素子の位置決めをすることができる。 In addition, by providing an insulator around the mounting portion, the light emitting element to be mounted and the mounting portion of the metal substrate are fixed with a metal such as solder or gold-tin alloy (Au-sn). Even in this case, the light emitting element to be mounted can be easily positioned.
また、搭載面に搭載される発光素子は、基板側と反対側の光の取り出し方向に光を放射するだけでなく、発光素子の側面からも光を放射する。従って、突起部の上面に搭載部を設けることで発光素子の側面から出た光が直接反射部に反射する割合が増加し、反射による光の損失を抑制することができるため、光の取り出し効率の高い発光素子用配線基板が実現される。 The light emitting element mounted on the mounting surface not only emits light in the light extraction direction opposite to the substrate side but also emits light from the side surface of the light emitting element. Therefore, by providing the mounting portion on the upper surface of the protrusion, the ratio of the light emitted from the side surface of the light emitting element directly reflected by the reflecting portion is increased, and the loss of light due to reflection can be suppressed. A wiring board for a light emitting element having a high height is realized.
また、突起部の断面形状を上側で小さくなるようにすると突起部の側面が傾斜し、この突起部の側面が光を基板とは逆側に誘導することができるので、柱状に形成される素子搭載部に比べて光の取り出し効率の高い発光素子用配線基板が実現される。 In addition, when the cross-sectional shape of the protrusion is reduced on the upper side, the side surface of the protrusion is inclined, and the side surface of the protrusion can guide light to the side opposite to the substrate. A light-emitting element wiring board having higher light extraction efficiency than the mounting portion is realized.
また、発光素子用配線基板に、突起部よりも高い枠体を形成することで、封止樹脂で突起部を覆う際に、封止樹脂が流れ出すことを抑制できるために、発光装置の製造が容易となる。また、枠体によって突起部を保護することもできるため取り扱い性も向上する。 In addition, by forming a frame body higher than the protrusions on the wiring board for the light emitting element, it is possible to suppress the sealing resin from flowing out when the protrusions are covered with the sealing resin. It becomes easy. In addition, since the protrusion can be protected by the frame body, the handleability is improved.
また、前記金属基体の搭載部が形成された側の主面にAgめっきを施すことで発行素子からの光を効率よく反射し、高輝度とすることができる。また、本発明においては、基体が焼結金属により形成されているため、樹脂モールド基板やセラミック基板に比べめっきを施す部位へ、あらかじめ金属層の転写や印刷等を施す必要がなく工程を簡略化することもできる。 Further, by applying Ag plating to the main surface on the side where the mounting portion of the metal substrate is formed, the light from the issuing element can be efficiently reflected and the luminance can be increased. In the present invention, since the base is formed of sintered metal, it is not necessary to transfer or print the metal layer in advance on the portion to be plated compared to the resin mold substrate or ceramic substrate, thus simplifying the process. You can also
また、前記金属基体の熱伝導率を150W/(m・K)以上とすることにより良好な熱放散性が実現でき、発光素子から発生する熱を発光素子用配線基板全体より速やかに放散することができる。 In addition, by making the thermal conductivity of the metal substrate 150 W / (m · K) or more, good heat dissipation can be realized, and heat generated from the light emitting element can be quickly dissipated from the entire wiring board for the light emitting element. Can do.
また、W、MoおよびCuのうち少なくとも1種を主成分として前記金属基体を形成することで、容易に熱放散性に優れた発光素子用配線基板を得ることができ、なかでもCuを主成分とした場合、より高い熱放散性を実現できる。 In addition, by forming the metal substrate with at least one of W, Mo, and Cu as a main component, a light emitting element wiring board having excellent heat dissipation can be easily obtained, and Cu is the main component. In this case, higher heat dissipation can be realized.
また、反射部と金属基体とを同じ組成とすることで反射部からも効率よく放熱できるとともに、焼成時における反射部と金属基体との収縮挙動が一致するため、同時焼成による変形を抑制でき高い寸法精度の発光素子用配線基板を得る事ができる。 In addition, by making the reflective part and the metal base have the same composition, heat can be efficiently radiated from the reflective part, and the shrinkage behavior of the reflective part and the metal base coincides during firing, so that deformation due to simultaneous firing can be suppressed and high. A light-emitting element wiring board with dimensional accuracy can be obtained.
以上説明した本発明の発光素子用配線基板に発光素子を搭載した本発明の発光装置によれば、発光素子からの発熱を速やかに装置外に放出することができるため、発熱による輝度低下を抑制できる。 According to the light emitting device of the present invention in which the light emitting element is mounted on the wiring substrate for the light emitting element of the present invention described above, the heat generation from the light emitting element can be quickly discharged outside the device, so that the luminance reduction due to the heat generation is suppressed. it can.
本発明の発光素子用配線基板は、例えば、図1(a)に示すように、焼結金属により形成された金属基体1と、この金属基体1を貫通して設けられた貫通絶縁体3と、この貫通絶縁体3を貫通して金属基体1と絶縁されるように設けられた貫通導体5と、この貫通導体5の端面と電気的に接続され金属基体1と絶縁された配線7と、この配線7を取り囲むように設けられ、焼結金属により形成された反射部9とを備えている。
For example, as shown in FIG. 1A, a wiring board for a light-emitting element according to the present invention includes a
配線7は、配線7が形成された側の金属基体1の主面に搭載される発光素子の搭載部11の周囲に配置されている。言い換えると、反射部9は搭載部11と配線7とを取り囲むように配置されている。
The
そして、本発明の発光素子用配線基板13においては、これらの金属基体1と貫通絶縁体3と貫通導体5と配線7と反射部9とが同時焼成されている。
And in the
本発明の発光素子用配線基板13によれば、金属基体1ならびに反射部9の材料として焼結金属を用いるとともに、金属基体1を貫通するように貫通絶縁体3および貫通導体5を設けることが重要である。即ち、金属基体1ならびに反射部9の材料として焼結金属を用いることにより、樹脂モールド基板やセラミック基板よりも高い放熱性を確保し、発光素子から発生する熱を発光素子用配線基板13全体から効率よく放出することができる。
According to the light emitting
また、金属基体1に貫通絶縁体3および貫通導体5を設けることにより、発光素子用配線基板13の多層化、配線設計の多様化、小型化が可能となる。そして、金属基体1に焼結金属からなる反射部9を設けることで発光素子から生じる光を反射させて、光の取り出し効率を向上させるとともに、発光素子から発生した熱を放散し、発光素子用配線基板13の放熱性を向上させることができる。
Further, by providing the through
また、金属基体1および反射部9を焼結金属により形成することで、金属基体1と、貫通絶縁体3と貫通導体5と配線7および反射部9とを同時焼成にて作製することができるため、部材の数や工程数を削減することができ、コストを低減することができる。
Further, by forming the
また、図1(b)に示すように、金属基体1と貫通絶縁体3との境界は、クラックの発生や隙間の発生が起こりやすいことから、被覆絶縁層15で覆うことが望ましい。なお、この被覆絶縁層15は貫通導体5を露出させて配線7と接続させるため、例えばリング状に形成されている。この被覆絶縁層15は貫通絶縁体3との接合性を考慮すれば、貫通絶縁体3と同様の組成物で作製することが望ましい。
Further, as shown in FIG. 1B, the boundary between the
本発明の発光素子用配線基板13においては、図10(a)に示すように搭載部11の周囲に、搭載部に沿って凸部16aが設けられていることが望ましい。このように凸部16aを設けることで凸部16aによって、搭載部11に搭載される発光素子を容易に位置決めすることができる。この凸部16aは、金属基体1の表面に印刷によって金属基体1を形成する焼結金属と同じ組成物で形成してもよく、あるいは非金属の材質によって形成してもよい。
In the light emitting
この凸部16aは搭載部11の周囲を取り囲む必要はないが、例えば、凸部16aを搭載部11の周囲を取り囲む用に形成した場合には、搭載される発光素子と搭載部11との間に用いられる接着剤の種類によらず、凸部16aが、例えば、堤のような機能を発揮し、接着材が搭載部11の外にあふれることを抑制することができる。
The
この凸部16aの高さは10μm以上とすることが望ましく、搭載される発光素子の高さよりも低ければよい。
The height of the
また、本発明の発光素子用配線基板13においては、図10(b)に示すように搭載部11の周囲に、搭載部を取り囲むように絶縁体16bが設けられていることが望ましい。
In the light emitting
これにより、搭載される発光素子と搭載部11との間に用いられる接着剤として、金属を用いた場合には、絶縁体16bと接着剤との濡れ性が悪いために、接着材が搭載部11からはみ出すことを抑制することができる。
As a result, when a metal is used as the adhesive used between the light emitting element to be mounted and the mounting
このように搭載部を取り囲むように絶縁体16bを設ける場合には、絶縁体16bが露出していれば、金属基体1に埋め込まれていてもよい。この絶縁体16bは貫通絶縁体3と同じ材料を用いることが望ましく、金属基体1と同時焼成して形成することが望ましい。
When the
また、図2(a)、(b)に示すように、この金属基体1の一方の主面1aを突起状に形成して突起部30を設け、この突起部30の上面30aを搭載部11とすることで、搭載部11に搭載される発光素子から発せられる光のうち、発光素子の側面から出力される光の利用効率が向上するため発光効率を向上させることができる。
Further, as shown in FIGS. 2A and 2B, one main surface 1 a of the
また、上方からみた突起部30の断面積が上方で小さくなるように形成させて突起部30の側面30bの少なくとも一部を傾斜させることが望ましい。
In addition, it is desirable that the cross-sectional area of the protruding
すなわち、突起部30の側面30bにおいて裾状に広がっている部分があることが望ましい。
In other words, it is desirable that the
言い換えると、この突起部30は上方に突出するにつれて小さくなることが望ましい。上方に突出するとは、具体的には金属基体1の厚み方向の主面1aを含む仮想一平面から突出することを意味する。なお、突起部30は金属基体1と一体的に形成されていてもよく、金属基体1の表面に金属基体1とは異なる材質からなる突起部30が配置されていても良い。例えば、突起部30は四角錐台状に形成され、主面1aから突出するにつれて先細状に形成される。また、上面30aは正方形となるように形成され、各辺が反射部9の各辺とそれぞれ平行に形成される。このような形態とすることで、搭載部11に搭載される発光素子から発せられる光のうち、金属基体1側に入射する光を突起部30の側面30bから反射部9の内壁面9aに垂直に反射させることができ、またあるいは金属基体1と逆側、言い換えると発光素子用配線基板13の開口部側に光を誘導できるため、発光効率を向上させることができる。
In other words, it is desirable that the
なお、突起部30の上面にも凸部16aや絶縁体16bを設けてもよい。
In addition, you may provide the
また、突起部30の高さを反射部9の高さよりも低くすることで、突起部30を反射部9内に収められるので、発光素子用配線基板13の取り扱い性が向上する。また、発光素子用配線基板13に搭載される発光素子の上面よりも反射部9の高さを大きくした場合には発光素子を保護することもできる。
Moreover, since the
また、前記金属基体1の搭載部11が形成された側の主面1aに金属めっき(図示せず)が施されていることが望ましい。また、反射部11の内壁面9aにも金属めっき(図示せず)が施されていることが望ましい。これにより、発光素子から出た光が金属めっきによく反射され、発光装置の取り出し効率を向上させることができる。本発明では、金属めっきを施す面が焼結金属で形成されているため、樹脂モールド基板やセラミック基板のようにめっき形成部位への金属層の転写や印刷等を行う必要がなく、工程を簡略化することができる。
Further, it is desirable that metal plating (not shown) is applied to the main surface 1a on the side where the mounting
この金属めっきは、反射率の点からAgめっきとすることが望ましく、安価である点ではNiメッキが望ましい。 The metal plating is preferably Ag plating from the viewpoint of reflectance, and Ni plating is preferable from the viewpoint of low cost.
さらに、金属基体1の熱伝導率が、150W/(m・K)以上であることが望ましい。これにより、良好な放熱性を実現することができ、発光素子から生じる熱を速やかに放散することができる。
Furthermore, it is desirable that the thermal conductivity of the
そして、前記金属基体1が、W、MoおよびCuのうち、少なくとも1種を主成分とすることが望ましい。WおよびMoは高融点金属であるため1300〜1600℃程度の高温焼成セラミックスと同時焼成することができる。さらに、熱膨張率が絶縁層を形成するセラミックスに近いため信頼性の高い発光素子用配線基板を作製することができる。また、Cuは熱伝導率が高く、特に放熱性に優れている。また、例えば、貫通絶縁体3としていわゆるガラスセラミックスを用いて、Cuの含有率を高めた場合には、1000℃程度の低い温度で発光素子用配線基板13を焼成することもできる。
The
また、これらの金属を組み合わせることにより、所望の熱伝導率や熱膨張率をもつ金属基体1を形成することができる。
Further, by combining these metals, the
また、反射部9は、金属基体1と同じ主成分からなることが望ましい。これにより金属基体9と金属基体1との間で合金が形成されるなどして、緻密化の挙動が乱れたりするなどの不具合の発生を抑制することができる。
Further, it is desirable that the reflecting
また、反射部9が、金属基体1と同じ組成からなることが望ましい。これにより金属基体1と反射部9の同時焼成による変形を抑制することができ、高寸法精度の発光素子用配線基板13を容易に得ることができる。
Further, it is desirable that the reflecting
また、貫通導体5や配線7が、W、Mo、CuおよびAgのうち少なくとも1種を主成分とすることが望ましい。これにより電気抵抗の低い貫通導体5や配線7を形成できる為、優れた電気特性を有する発光素子用配線基板13を得ることができる。
Moreover, it is desirable that the through
また、他にも多少高価ではあるが、金属基体1や貫通導体5および配線7としてAl、Ag、AuおよびPtなどの金属を用いることができるのは言うまでもない。
In addition, it is needless to say that metals such as Al, Ag, Au, and Pt can be used as the
また、貫通絶縁体3ならびに被覆絶縁層15が、アルミナ、ムライト、ジルコニア、マグネシア、カルシア、窒化アルミニウム、窒化珪素、そしてガラスセラミックスのうち、少なくとも1種を主成分とすることが望ましい。絶縁性の優れたこれらの材料を用いることにより、貫通絶縁体3ならびに被覆絶縁層15が薄くても貫通導体5や配線7が金属基体1と充分に絶縁をとることが可能となり、貫通絶縁体3ならびに被覆絶縁層15を高密度で形成する事ができ、さらに金属基体1との同時焼成も容易となる。
Further, it is desirable that the penetrating
なお、本発明の発光素子用配線基板13においては、発光素子用配線基板13の搭載部11が設けられた側の主面1aと逆側の主面1bには、外部配線基板との接続端子17が設けられており、被覆絶縁層15が設けられていることが望ましい。
In the light emitting
また、例えば図3、図4に示すように、金属基体1は多層であってもよく、反射部9の内壁面9aには傾斜が設けられていてもよいことはいうまでもない。
Further, for example, as shown in FIGS. 3 and 4, the
そして、例えば図3、図4に示すように発光素子用配線基板13の内部で平面方向に回路が延設されていてもよい。この場合は発光素子用配線基板13の内部に平面方向に延設された内部配線19は金属基体1と絶縁する必要があるため、貫通導体1との接続部を除いた周囲を内部絶縁層20で取り囲むことが重要である。この内部絶縁層20は貫通絶縁体3と同様の組成とすることが望ましい。また、内部配線19は貫通金属体5や配線7と同様の組成とすることが望ましい。
For example, as shown in FIGS. 3 and 4, a circuit may be extended in the plane direction inside the light emitting
そして、例えば図3、図4に示すように、以上説明した本発明の発光素子用配線基板13の搭載部11に金属や樹脂からなる接続層21を介して発光素子23を搭載し、この発光素子23の端子(図示せず)と、配線7とをワイヤ25で接続し、発光素子23と配線7やワイヤ25をモールド材などの透光性の樹脂27等で覆うことで、本発明の発光装置29となる。
For example, as shown in FIGS. 3 and 4, a
この発光素子23に給電することにより、発光素子23の放射する光を金属基体1や反射部9に反射させ、光の取り出し効率を高めることができるため、高効率の発光装置29となる。また、金属基体1並びに反射部9の熱伝導率が高いため、発光素子23からの発熱を速やかに放出することができ、発熱による輝度低下を抑制でき、また、発光素子23を反射部9内に搭載することにより保護することもできる。
By supplying power to the
なお、図3、図4に示した例では、発光素子23は、接続層21により発光素子用配線基板13に固定され、電力の供給はワイヤ25によりなされているが、発光素子用配線基板13との接続形態は、フリップチップ接続であってもよいことはいうまでもない。
In the example shown in FIGS. 3 and 4, the
また、発光素子23は、モールド材27により被覆されているが、モールド材27を用いずに、蓋体(図示せず)を用いて封止してもよく、また、モールド材27と蓋体とを併用してもよい。蓋体を用いる場合であって、発光素子23を用いる場合には蓋体は、ガラスなどの透光性の素材を用いることが望ましい。
Further, although the
なお、発光素子23を搭載する場合には、必要に応じて、このモールド材27に発光素子23が放射する光を波長変換するための蛍光体(図示せず)を含有させてもよい。
In addition, when mounting the
また、発光素子23の熱を金属基体1に効率よく伝達するという観点から、接続層21として半田、インジウム、AuSn合金などの金属を用いることが望ましい。
Further, from the viewpoint of efficiently transferring the heat of the
なお、本発明においてもヒートシンクを設けることで、更に放熱性が向上することはもちろんであり、例えば、ヒートシンクのような冷却装置を設けることを排除するものではない。 In the present invention, the heat dissipation is further improved by providing the heat sink. For example, it is not excluded to provide a cooling device such as a heat sink.
以上説明した本発明の発光素子用配線基板13に発光素子23を搭載した本発明の発光装置によれば、発光素子23からの発熱を速やかに装置外に放出することができるため、発熱による輝度低下を抑制できる。
According to the light-emitting device of the present invention in which the light-emitting
次に、本発明における発光素子用配線基板13の製造方法について、図5を用いて具体的に説明する。
Next, the manufacturing method of the light emitting
まず、以下に説明するように焼成することによって金属基体1となる金属シート40と貫通絶縁体3となるセラミックグリーンシート43および貫通金属体5となる導体ペースト45を作製する。また、必要に応じセラミックペースト46を作製する。
First, as described below, by firing, a
金属シート40は、金属粉末と樹脂と溶剤とを所定の割合で混合して調整した金属スラリーから、従来周知のドクターブレード法などによりシート上に形成される。なお、金属スラリーには必要に応じてセラミック粉末を含有させてもよい。
The
また、セラミックグリーンシート43も、セラミック粉末、樹脂および溶剤などから形成されるセラミックスラリーからドクターブレード法などによりシート状に形成される。
The ceramic
金属シート40並びにセラミックグリーンシート43に用いるセラミック粉末、金属粉末の粒径は平均粒径で0.01〜10μm程度のものが好適に用いられ、特に、1〜5μmの範囲の粉末が取り扱いや焼結性に優れている。
The ceramic powder and metal powder used for the
また、望ましくはW、Mo、CuおよびAgのうち少なくとも1種を主成分とする導体ペースト45を作製する。金属粉末、樹脂および溶剤を所定の割合で混合し、溶剤を減圧過熱等によって除くことにより作製される。また、導体ペーストには必要に応じてセラミック粉末を含有させてもよい。 Desirably, a conductive paste 45 containing at least one of W, Mo, Cu, and Ag as a main component is prepared. The metal powder, resin and solvent are mixed at a predetermined ratio, and the solvent is removed by heating under reduced pressure or the like. Moreover, you may make a conductor paste contain a ceramic powder as needed.
そして、セラミックペーストはセラミック粉末、樹脂および溶剤を混合し、溶剤を除くことによって作製される。 The ceramic paste is prepared by mixing ceramic powder, resin and solvent and removing the solvent.
導体ペーストおよびセラミックペーストに用いる金属粉末、セラミック粉末の粒径は平均粒径で0.01〜10μm程度のものが好適に用いられ、特に、1〜5μmの範囲の粉末が取り扱いや焼結性に優れている。 The metal powder used for the conductor paste and the ceramic paste, and the ceramic powder having an average particle diameter of about 0.01 to 10 μm is preferably used. Particularly, powder in the range of 1 to 5 μm is used for handling and sintering. Are better.
まず、図5(a)に示すように、例えばセラミックグリーンシート43にマイクロドリル、レーザー等により直径50〜250μmのビアホール47を形成し、図5(b)に示すように、このビアホール47に導体ペースト45を印刷等により埋め込んで貫通導体成形体45aを形成し、導体埋め込みシート49を作製する。
First, as shown in FIG. 5A, a via
また、図5(c)に示すように、打ち抜き穴51を具備する金型53の上面に、金属シート40を配置し、図5(d)に示すように、押し金型55で金属シート40を打ち抜く。
Further, as shown in FIG. 5C, the
さらに図6(e)に示すように打ち抜いた金属シート40の上に、予めセラミックグリーンシート43に導体ペースト45を埋め込んでおいた導体埋め込みシート49を配置し、図6(f)に示すように、押し金型55で導体埋め込みシート49を打ち抜くと同時に、導体埋め込みシート49の一部を金属シート40に形成された穴に挿入する。そして、金属シート40と導体埋め込みシート49の不要な部分を除去することにより、図6(g)に示すような焼成後に貫通導体5や貫通絶縁体3および金属基体1となる複合成形体57を作製することができる。なお、金属シート40とセラミックグリーンシート43は略同一厚みであることが望ましい。
Further, on the
そして、例えば、図6(h)に示すように、この複合成形体57の表面に金属シート40と接触しないように、また、貫通導体成形体45aの端面を覆うように導体ペーストを印刷等により形成することで、焼成後に配線7となる配線成形体59を形成することができる。また、導体ペーストによって形成された配線成形体59は、例えば焼成後に接続端子17や内部配線19とすることもできることはいうまでもない。
Then, for example, as shown in FIG. 6 (h), a conductor paste is printed or the like so as not to contact the
この配線成形体59は貫通絶縁体3と貫通導体5との境界にクラックや隙間が発生することを抑制するために、セラミックグリーンシート43と貫通導体成形体45aとの境界を覆うように形成することが望ましい。
The wiring molded
また、例えば、配線成形体59を形成する前に、図7(a)に示すように図6(g)で作製した複合成形体57の表面にセラミックペーストを塗布して、焼成後に被覆絶縁層15となる被覆絶縁層成形体61を、貫通導体成形体45aを露出させるとともに金属シート40とセラミックグリーンシート43との境界を覆うように形成することが望ましい。これにより、金属基体1と貫通絶縁体3との境界にクラックや隙間が発生することを抑制することができる。なお、貫通導体成形体45aを露出させるためには、被覆絶縁層成形体61をリング状あるいはドーナツ状に形成すればよい。
Also, for example, before forming the wiring molded
そして、さらに図7(b)に示すように、貫通導体成形体45aと接続させ、金属シート40と接続しないように配線成形体59を形成することで、被覆絶縁層成形体61と配線成形体59とを備えた複合成形体57を作製することができる。
Further, as shown in FIG. 7 (b), by forming the wiring molded
なお、例えば配線成形体59や被覆絶縁層成形体61を備えた複数の複合成形体57を積層した場合には配線成形体59は焼成後に内層配線19となる場合があり、また、被覆絶縁層成形体61は焼成後に内部絶縁層20となる場合がある。
For example, when a plurality of composite molded
次に突起部30の形成方法について説明する。まず、金属シート40の所定の位置を所望の金型を用いて打ち抜き、焼成後に突起部30となる突起部成形体63を作製する。このときダイスの内径とピンの外形との比率を変化させることにより突起部30の角度を任意に設定でき、例えばピンの外径よりもダイスの内径が0.05〜1mm程度大きな打ち抜き金型を用いて金属シート40を打ち抜き加工して作製することができる。
Next, a method for forming the
そして、この突起部30となる突起部成形体63を金属シート40に積層することで、図8に示すような焼成後に突起部30となる突起部成形体63を備えた突起付複合成形体67を得ることができる。
Then, by projecting the protrusion molded
以下に反射部9の形成方法について説明する。まず、図9(a)に示すように、金属シート40に貫通孔71を形成し、焼成後に反射部11となる反射部成形体71を作製し、図9(b)に示すように、この反射部成形体73と図6(h)や図7(b)に示す複合成形体57とを積層し、焼成することで本発明の発光素子用配線基板13を容易に作製することができる。
Below, the formation method of the
また、あるいは反射部成形体73と図6(g)や図6(h)および図7(a)に示す複合成形体57とを積層した後で焼成することで所望の配線回路を備えた本発明の発光素子用配線基板13を容易に作製することができる。
Alternatively, the reflective part molded
なお、図5〜図7で示した図は貫通導体5を形成する部分の要部拡大図であり、図5〜図7で示した貫通導体成形体45aは金属シート40に複数形成してもよいことはいうまでもない。
5 to 7 are enlarged views of the main part of the portion where the through
なお、反射部9の表面9aは、図1(a)に示すように金属基体に対して垂直に配設されていてもよいし、図2のように傾斜を有するように配設されてもよい。反射部表面9aが垂直な反射部9は、通常の金型で打ち抜いて作製すればよく、また、反射部表面9aが傾斜を有する反射部9は、例えばパンチの外径よりもダイスの内径が0.05〜1mm程度大きな打ち抜き金型を用いて金属シート40を打ち抜き加工して作製することができる。
The
なお、貫通絶縁体3や貫通導体5の形状は、四角や角柱形状でも良いし、その他円形あるいは円柱形状など所望の形状にすることが可能である。
The shape of the through
また、配線成形体59は、薄膜法により形成したり、金属箔を成形体の表面に転写するなどして形成できることはいうまでもない。
Needless to say, the wiring molded
純度99%以上、平均粒径2.0μmのW、Mo、およびCuを表1に示す割合で混合し、さらに成形用有機樹脂(バインダ)としてアクリル系バインダと、トルエンを溶媒として添加し、金属シートとなるスラリーを調整した。しかる後に、ドクターブレード法にて金属シートを作製した。 W, Mo, and Cu having a purity of 99% or more and an average particle size of 2.0 μm are mixed at a ratio shown in Table 1, and an acrylic binder and toluene as a solvent are added as a molding organic resin (binder). A slurry to be a sheet was prepared. Thereafter, a metal sheet was produced by a doctor blade method.
また、純度99%以上、平均粒子径2μmのW粉末70質量%および純度99%以上、平均粒子径2μmのCu粉末30質量%にアクリル系バインダおよび溶媒としてアセトンを混合したのち、減圧過熱によりアセトンを取り除いて導体ペーストを作製した。 Further, after mixing acetone as an acrylic binder and a solvent with 70% by mass of W powder having a purity of 99% or more and an average particle size of 2 μm and 30% by mass of Cu powder having a purity of 99% or more and an average particle size of 2 μm, acetone is removed by overheating under reduced pressure. Was removed to produce a conductor paste.
また、原料粉末として純度99%以上、平均粒径が1.5μmのAl2O3粉末を90質量%と、純度99%以上、平均粒子径1.3μmのMn2O3粉末を5質量%と、純度99%以上、平均粒径1.0μmのSiO2粉末を5質量%の割合で混合して、金属シートと同様に、アクリル系バインダとトルエンを混合し、スラリーを調整した。しかる後に、ドクターブレード法にてAl2O3を主成分とし、金属シートと略同一厚みのセラミックグリーンシートを作製した。 Moreover, 90% by mass of Al 2 O 3 powder having a purity of 99% or more and an average particle diameter of 1.5 μm as raw material powder, and 5% by mass of Mn 2 O 3 powder having a purity of 99% or more and an average particle diameter of 1.3 μm. Then, an SiO 2 powder having a purity of 99% or more and an average particle diameter of 1.0 μm was mixed at a ratio of 5 mass%, and an acrylic binder and toluene were mixed in the same manner as the metal sheet to prepare a slurry. Thereafter, a ceramic green sheet having Al 2 O 3 as a main component and substantially the same thickness as the metal sheet was produced by a doctor blade method.
また、セラミックグリーンシートと同様の比率でAl2O3粉末とMn2O3粉末とSiO2粉末とを混合し、これにアクリル系バインダおよびアセトンを添加し、その後減圧過熱することにより溶剤を除き、セラミックペーストを作製した。 Also, Al 2 O 3 powder, Mn 2 O 3 powder and SiO 2 powder are mixed at the same ratio as the ceramic green sheet, and an acrylic binder and acetone are added thereto, and then the solvent is removed by heating under reduced pressure. A ceramic paste was prepared.
次に、上記のセラミックグリーンシートに対して、打ち抜き加工を施し、直径が200μmのビアホールを形成し、このビアホール内に、導体ペーストをスクリーン印刷法によって充填し、導体埋め込みシートを作製した。 Next, the ceramic green sheet was punched to form a via hole having a diameter of 200 μm, and a conductor paste was filled in the via hole by a screen printing method to produce a conductor embedded sheet.
そして、金属シートの所定箇所に貫通孔を形成し、金属シートにおける貫通孔形成部分を導体埋め込みシートから押圧することによって、導体埋め込みシートの一部を貫通孔内に嵌め込み、金属シートと導体埋め込みシートとを一体化し、複合成形体を形成した。 Then, a through hole is formed at a predetermined position of the metal sheet, and a part of the conductor embedded sheet is fitted into the through hole by pressing a through hole forming portion of the metal sheet from the conductor embedded sheet. And a composite molded body was formed.
そして、セラミックペーストを用いてスクリーン印刷により複合成形体の主面側、および対向面側に、金属シートとセラミックグリーンシートとの境界を覆うように被覆絶縁層成形体をリング状に形成した。なお、このとき複合成形体に設けられたビアホールに充填された貫通導体となる導体ペーストが露出するようにした。さらに、貫通導体成形体を覆うように、被覆絶縁層成形体上に、導体ペーストを印刷塗布し、焼成後に配線および接続端子となるように配線成形体を形成した。 Then, a covering insulating layer formed body was formed in a ring shape so as to cover the boundary between the metal sheet and the ceramic green sheet on the main surface side and the opposite surface side of the composite formed body by screen printing using ceramic paste. At this time, the conductor paste serving as a through conductor filled in the via hole provided in the composite molded body was exposed. Further, a conductor paste was printed and applied on the covering insulating layer molded body so as to cover the through conductor molded body, and a wiring molded body was formed so as to become a wiring and a connection terminal after firing.
このようにして被覆絶縁層成形体および配線成形体を備えた複合成形体を組み合わせ、位置合わせし、積層圧着して積層体を作製した。 Thus, the composite molded body provided with the covering insulating layer molded body and the wiring molded body was combined, aligned, and laminated and pressure-bonded to produce a laminated body.
さらに、パンチの外径よりもダイスの内径が大きな打ち抜き金型を用いて金属シートに傾斜を有する貫通孔を形成した。これを金属基体の主面上に位置するように積層体上に積層して焼成後に反射部となる金属シートを形成した。これにより、焼成後の寸法が5mm×5mm×1mmとなる発光素子用配線基板の成形体を得た。なお、発光素子用配線基板のうち、反射部は外形5mm×5mm×0.4mm、搭載部11側の内径φ3.0mm、逆側の内径3.2mmである。
Furthermore, a through-hole having an inclination was formed in the metal sheet using a punching die having an inner diameter of the die larger than the outer diameter of the punch. This was laminated | stacked on the laminated body so that it might be located on the main surface of a metal base | substrate, and the metal sheet used as a reflection part after baking was formed. Thereby, the molded object of the wiring board for light emitting elements whose dimension after baking becomes 5 mm x 5 mm x 1 mm was obtained. Of the light emitting element wiring board, the reflecting portion has an outer shape of 5 mm × 5 mm × 0.4 mm, an inner diameter φ3.0 mm on the mounting
そして、露点+25℃の窒素水素混合雰囲気にて脱脂を行った後、引き続き、露点+25℃の窒素水素混合雰囲気にて1300℃の最高温度で2時間焼成した。 Then, after degreasing in a nitrogen-hydrogen mixed atmosphere at a dew point of + 25 ° C., it was subsequently baked at a maximum temperature of 1300 ° C. for 2 hours in a nitrogen-hydrogen mixed atmosphere at a dew point of + 25 ° C.
こうして、図2に示すような発光素子用配線基板を作製した。なお、本実施例においては、いずれも3層の金属シートの積層体により、発光素子用配線基板を作製し、これらの金属シートのうち一層を反射部とした。 Thus, a wiring board for a light emitting element as shown in FIG. 2 was produced. Note that in this example, a light emitting element wiring board was prepared using a laminate of three metal sheets, and one of these metal sheets was used as a reflective portion.
また、比較例として基体がセラミックスからなる試料を以下のようにして作製した。上記のセラミックグリーンシートに対して、打ち抜き加工を施し、直径が200μmのビアホールを形成し、このビアホール内に、導体ペーストをスクリーン印刷法によって充填するとともに、配線パターン状に印刷塗布した。次いで、金属層となる導体ペーストを塗布されたセラミックシートを組み合わせ、位置合わせし、積層圧着し、焼成後に外形5mm×5mm×厚み0.6mmとなる積層体を作製した。 Further, as a comparative example, a sample whose base was made of ceramics was produced as follows. The ceramic green sheet was punched to form a via hole having a diameter of 200 μm. The via hole was filled with a conductive paste by a screen printing method and printed and applied in a wiring pattern. Next, a ceramic sheet coated with a conductive paste to be a metal layer was combined, aligned, laminated and pressure-bonded, and a laminate having an outer shape of 5 mm × 5 mm × thickness 0.6 mm after firing was produced.
そして、反射部をセラミックグリーンシートにより形成する試料については、絶縁基体と反射部とをセラミックシートにて一体物として形成した。その後、露点+25℃の窒素水素混合雰囲気にて脱脂を行った後、引き続き、露点+25℃の窒素水素混合雰囲気にて1300℃の最高温度で2時間焼成した。 And about the sample which forms a reflective part with a ceramic green sheet, the insulating base | substrate and the reflective part were formed as an integrated object with the ceramic sheet. Thereafter, degreasing was performed in a nitrogen-hydrogen mixed atmosphere having a dew point of + 25 ° C., followed by baking for 2 hours at a maximum temperature of 1300 ° C. in a nitrogen-hydrogen mixed atmosphere having a dew point of + 25 ° C.
また、金属製の反射部としては、Al製の金属枠体を用いた。接続端子並びに外部電極端子を形成する導体ペーストを用いて、絶縁基体の搭載部側の反射部が搭載される部分に金属層を形成したのち、共晶Ag−Cuのロウ材を用いて、850℃の条件で、反射部を絶縁基体に接合して作製した。 In addition, an Al metal frame was used as the metal reflecting portion. After forming a metal layer on the portion where the reflection portion on the mounting portion side of the insulating base is mounted using a conductive paste that forms the connection terminal and the external electrode terminal, using a eutectic Ag—Cu brazing material 850 The reflecting part was bonded to an insulating substrate under the condition of ° C.
その後、接続端子並びに外部電極端子の表面にNi、AuおよびAgめっきを順次施した。 Thereafter, Ni, Au and Ag plating were sequentially applied to the surfaces of the connection terminal and the external electrode terminal.
これらの発光素子用配線基板に接着剤として半田を用いて出力1.5Wの発光素子である□1mmのLED素子を搭載部に実装し、ボンディングワイヤによりLED素子と接続端子とを結線し、さらに、LED素子と接続端子とをエポキシ樹脂からなるモールド材で覆い、発光装置を得た。 A LED element of 1 mm, which is a light emitting element with an output of 1.5 W, is mounted on the mounting portion using solder as an adhesive on the wiring board for these light emitting elements, and the LED element and the connection terminal are connected by a bonding wire. The LED element and the connection terminal were covered with a molding material made of epoxy resin to obtain a light emitting device.
得られた発光装置に0.4Aの電流を通電し、全放射束測定を行った。 A current of 0.4 A was applied to the obtained light emitting device, and total radiant flux measurement was performed.
また、金属基体および絶縁基体の熱伝導率は、それぞれを個別に形成した試料を用いてレーザーフラッシュ法により測定した。 Further, the thermal conductivity of the metal substrate and the insulating substrate was measured by a laser flash method using samples formed individually.
以上の工程により作製した発光素子用配線基板の特性と、試験結果を表2に示す。
表2に示すように、本発明の範囲外である試料No.1は、基体、反射部ともに金属ではなく、セラミックスからなるために、放熱性が劣り、全放射束が150mwと低くなった。 As shown in Table 2, Sample No. which is outside the scope of the present invention. In No. 1, since both the base and the reflection part are made of ceramics instead of metal, heat dissipation is inferior and the total radiant flux is as low as 150 mw.
また、本発明の範囲外であるセラミックスからなる基体にAl製の反射部を設けた試料No.2は、試料No.1よりも放熱性が改善されたものの、全放射束は180mWであった。 Further, sample No. 1 in which an Al reflecting portion is provided on a base made of ceramics that is outside the scope of the present invention. 2 is Sample No. Although the heat dissipation was improved more than 1, the total radiant flux was 180 mW.
一方、本発明の試料No.3、4、5は基体、反射部ともに焼結金属から成り、熱伝導率が高いために高い全放射束を示した。基体および反射部にCu/W=30/70(質量%)を用いたNo.3は全放射側が250mWとNo.1、2と比べて大きく向上し、さらに反射部にCu/W=50/50(質量%)を用いたNo.4は280mWと全放射側が大きな値を示した。また、WではなくMoを用いたNo.5は、Wを用いたNo.3と比較してやや熱伝導率が低下するため、230mWの全放射束が得られた。 On the other hand, sample no. Nos. 3, 4, and 5 were made of sintered metal for both the base and the reflective part, and showed high total radiant flux due to high thermal conductivity. No. using Cu / W = 30/70 (mass%) for the substrate and the reflection part. No. 3 is 250 mW on the total radiation side. No. 1 and 2 using Cu / W = 50/50 (mass%) for the reflection part. No. 4 showed a large value of 280 mW on the entire radiation side. No. using Mo instead of W. No. 5 uses W. Since the thermal conductivity is slightly lower than that of 3, a total radiant flux of 230 mW was obtained.
1・・・金属基体
3・・・貫通絶縁体
5・・・貫通導体
7・・・配線
9・・・反射部
9a・・・反射部の内壁面
11・・・搭載部
13・・・発光素子用配線基板
15・・・被覆絶縁層
16a・・・凸部
16b・・・絶縁体
17・・・接続端子
19・・・内部配線
20・・・内部絶縁層
21・・・接続層
23・・・発光素子
25・・・ワイヤ
29・・・発光装置
30・・・突起部
30a・・・突起部の上面
30b・・・突起部の側面
DESCRIPTION OF
Claims (11)
A light emitting device comprising a light emitting element mounted on the mounting portion of the light emitting element wiring board according to claim 1.
Priority Applications (1)
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---|---|---|---|
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---|---|---|---|
JP2006019581 | 2006-01-27 | ||
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