JP2008010619A - エッチング方法及び記録媒体 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】シリコン酸化物をエッチングする工程において、シリコン酸化物に対してハロゲン元素を含むガス及び塩基性ガスを供給し、シリコン酸化物とハロゲン元素を含むガス及び塩基性ガスとを化学反応させ、シリコン酸化物を変質させて反応生成物を生成させる変質工程と、反応生成物を除去する除去工程とを行い、前記除去工程は、反応生成物の昇温を促進させる第一の工程S3bと、前記反応生成物の気化を促進させる第二の工程S3dとを有することとした。
【選択図】図10
Description
L2 絶縁膜
S1 エッチング工程
S2 COR処理工程
S3 PHT処理工程
S3a 昇圧工程
S3b 反応生成物昇温工程
S3c 第一の減圧工程
S3d 反応生成物気化工程
S3e 第二の減圧工程
W ウェハ
1 処理システム
5 COR処理装置
6 PHT処理装置
8 制御コンピュータ
8c 記録媒体
163 載置台
165 温度調節機構
166 ガス供給機構
167 排気機構
168 隙間
Claims (12)
- シリコン酸化物をエッチングする方法であって、
前記シリコン酸化物に対してハロゲン元素を含むガス及び塩基性ガスを供給し、前記シリコン酸化物と前記ハロゲン元素を含むガス及び前記塩基性ガスとを化学反応させ、前記シリコン酸化物を変質させて反応生成物を生成させる変質工程と、
前記反応生成物を除去する除去工程とを有し、
前記除去工程は、前記反応生成物の周囲の圧力を所定の圧力にして行う第一の工程と、前記反応生成物の周囲の圧力を前記第一の工程における前記反応生成物の周囲の圧力よりも低くして行う第二の工程とを有することを特徴とする、エッチング方法。 - 前記ハロゲン元素を含むガスはフッ化水素ガスであって、
前記塩基性ガスはアンモニアガスであることを特徴とする、請求項1に記載のエッチング方法。 - 前記シリコン酸化物は、基板の表面に存在するシリコン酸化膜であることを特徴とする、請求項1又は2に記載のエッチング方法。
- 前記第一の工程において、前記基板と載置台との間に隙間を形成した状態で、前記基板を支持し、
前記載置台の温度を調節することにより、前記基板の温度を調節することを特徴とする、請求項3に記載のエッチング方法。 - 前記載置台の温度を80℃〜200℃にすることを特徴とする、請求項4に記載のエッチング方法。
- 前記第一の工程において、前記反応生成物の周囲の圧力を500mTorr〜10Torrにすることを特徴とする、請求項1〜5のいずれかに記載のエッチング方法。
- 前記第二の工程において、前記反応生成物の周囲の圧力を100mTorr〜1Torrにすることを特徴とする、請求項1〜6のいずれかに記載のエッチング方法。
- 前記第二の工程において、前記反応生成物を処理室内に収納し、前記処理室内に不活性ガスを供給しながら、前記処理室内を排気することを特徴とする、請求項1〜7のいずれかに記載のエッチング方法。
- シリコン酸化物をエッチングする方法であって、
前記シリコン酸化物に対してハロゲン元素を含むガス及び塩基性ガスを供給し、前記シリコン酸化物と前記ハロゲン元素を含むガス及び前記塩基性ガスとを化学反応させ、前記シリコン酸化物を変質させて反応生成物を生成させる変質工程と、
前記反応生成物を除去する除去工程とを有し、
前記除去工程は、前記反応生成物の昇温を促進させる第一の工程と、前記反応生成物の気化を促進させる第二の工程とを有することを特徴とする、エッチング方法。 - 前記第二の工程における前記反応生成物の周囲の圧力を、前記第一の工程における前記反応生成物の周囲の圧力よりも低くすることを特徴とする、請求項9に記載のエッチング方法。
- 処理システムの制御コンピュータによって実行することが可能なプログラムが記録された記録媒体であって、
前記プログラムは、前記制御コンピュータによって実行されることにより、前記処理システムに、シリコン酸化物をエッチングするエッチング方法を実現させるものであって、
前記エッチング方法は、前記シリコン酸化物に対してハロゲン元素を含むガス及び塩基性ガスを供給し、前記シリコン酸化物と前記ハロゲン元素を含むガス及び前記塩基性ガスとを化学反応させ、前記シリコン酸化物を変質させて反応生成物を生成させる変質工程と、
前記反応生成物を除去する除去工程とを有し、
前記除去工程は、前記反応生成物の周囲の圧力を所定の圧力にして行う第一の工程と、前記反応生成物の周囲の圧力を前記第一の工程における前記反応生成物の周囲の圧力よりも低くして行う第二の工程とを有するものであることを特徴とする、記録媒体。 - 処理システムの制御コンピュータによって実行することが可能なプログラムが記録された記録媒体であって、
前記プログラムは、前記制御コンピュータによって実行されることにより、前記処理システムに、シリコン酸化物をエッチングするエッチング方法を実現させるものであって、
前記エッチング方法は、前記シリコン酸化物に対してハロゲン元素を含むガス及び塩基性ガスを供給し、前記シリコン酸化物と前記ハロゲン元素を含むガス及び前記塩基性ガスとを化学反応させ、前記シリコン酸化物を変質させて反応生成物を生成させる変質工程と、
前記反応生成物を除去する除去工程とを有し、
前記除去工程は、前記反応生成物の昇温を促進させる第一の工程と、前記反応生成物の気化を促進させる第二の工程とを有するものであることを特徴とする、記録媒体。
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